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KR20220000362A - Semiconductor package including antenna - Google Patents

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KR20220000362A
KR20220000362A KR1020210080372A KR20210080372A KR20220000362A KR 20220000362 A KR20220000362 A KR 20220000362A KR 1020210080372 A KR1020210080372 A KR 1020210080372A KR 20210080372 A KR20210080372 A KR 20210080372A KR 20220000362 A KR20220000362 A KR 20220000362A
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KR
South Korea
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molding layer
antenna structure
package substrate
semiconductor chip
layer
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Application number
KR1020210080372A
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Korean (ko)
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KR102609591B1 (en
Inventor
장수진
박상용
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주식회사 네패스
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Publication date
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Abstract

According to the present invention, provided is a semiconductor package, which comprises: a package substrate including a wiring pattern; a semiconductor chip on the package substrate; a molding layer disposed on the package substrate to cover the semiconductor chip; a connection conductor extending through the molding layer from a lower surface to an upper surface of the molding layer, and electrically connected to the wiring pattern of the package substrate; an antenna structure on the molding layer; a conductive connection terminal disposed between the connection conductor and a connection pad of the antenna structure to electrically connect the connection conductor and the connection pad of the antenna structure; and a conductive interface layer disposed between the connection conductor and the conductive connection terminal, and extending along a surface of the connection conductor facing the conductive connection terminal. Therefore, the signal transmission efficiency can be improved.

Description

안테나를 포함하는 반도체 패키지 {SEMICONDUCTOR PACKAGE INCLUDING ANTENNA}Semiconductor package including antenna {SEMICONDUCTOR PACKAGE INCLUDING ANTENNA}

본 발명의 기술적 사상은 반도체 패키지에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 무선 신호의 송수신을 위한 안테나 구조를 포함하는 반도체 패키지에 관한 것이다. The technical idea of the present invention relates to a semiconductor package, and more particularly, to a semiconductor package including an antenna structure for transmitting and receiving a radio signal.

전자 장치에서, 집적 회로는 소형, 경량, 높은 신뢰성 및 대량 생산이 용이한 장점으로 인해 널리 적용된다. 집적 회로 패키지 장치는 특정 기능을 갖는 회로에 의해 요구되는 모든 구성 요소를 하나의 칩으로 통합하고, 그 칩을 패키지 기판 상에 칩을 패키징할 수 있다. 구성 요소는 반도체, 저항기 및 캐패시터와 같은 소자와, 소자 사이의 연결 도선 등을 포함할 수 있다. 칩이 무선 신호를 수신 또는 송신할 필요가 있는 경우, 안테나가 집적 회로 패키지 장치에 배치될 수 있다.In electronic devices, integrated circuits are widely applied due to their advantages of small size, light weight, high reliability, and easy mass production. The integrated circuit package device may integrate all components required by a circuit having a specific function into one chip, and package the chip on a package substrate. The component may include devices such as semiconductors, resistors and capacitors, and connecting wires between the devices. When the chip needs to receive or transmit wireless signals, an antenna may be placed in the integrated circuit packaged device.

본 발명의 기술적 사상이 해결하고자 하는 과제는 안테나 구조를 포함하는 반도체 패키지를 제공하는데 있다. An object to be solved by the technical spirit of the present invention is to provide a semiconductor package including an antenna structure.

상술한 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 기술적 사상은 배선 패턴을 포함하는 패키지 기판; 상기 패키지 기판 상의 반도체 칩; 상기 반도체 칩을 덮도록 상기 패키지 기판 상에 배치된 몰딩층; 상기 몰딩층을 관통하여 상기 몰딩층의 하면으로부터 상면까지 연장되고, 상기 패키지 기판의 상기 배선 패턴에 전기적으로 연결되고, 제1 금속을 포함하는 연결 도전체; 상기 몰딩층 상의 안테나 구조물; 상기 연결 도전체와 상기 안테나 구조물의 연결 패드 사이에 배치되어 상기 연결 도전체와 상기 안테나 구조물의 상기 연결 패드 사이를 전기적으로 연결하고, 상기 제1 금속과 상이한 제2 금속을 포함하는 도전성 연결 단자; 및 상기 연결 도전체와 상기 도전성 연결 단자 사이에 배치되고, 상기 도전성 연결 단자와 마주하는 상기 연결 도전체의 표면을 따라 연장되고, 상기 제1 금속 및 상기 제2 금속을 포함하는 도전성 계면층;을 포함하고, 상기 안테나 구조물은 상기 몰딩층으로 이격되어, 상기 안테나 구조물과 상기 몰딩층 사이에는 갭이 형성된 반도체 패키지를 제공한다.예시적인 실시예들에서, 상기 제1 금속은 솔더이고, 상기 제2 금속은 구리이다. In order to solve the above problems, the technical idea of the present invention is a package substrate including a wiring pattern; a semiconductor chip on the package substrate; a molding layer disposed on the package substrate to cover the semiconductor chip; a connection conductor penetrating through the molding layer, extending from a lower surface to an upper surface of the molding layer, electrically connected to the wiring pattern of the package substrate, and including a first metal; an antenna structure on the molding layer; a conductive connection terminal disposed between the connection conductor and the connection pad of the antenna structure to electrically connect the connection conductor and the connection pad of the antenna structure, the conductive connection terminal including a second metal different from the first metal; and a conductive interface layer disposed between the connection conductor and the conductive connection terminal, the conductive interface layer extending along a surface of the connection conductor facing the conductive connection terminal, and including the first metal and the second metal; and wherein the antenna structure is spaced apart by the molding layer, and a gap is formed between the antenna structure and the molding layer. In exemplary embodiments, the first metal is solder, and the second metal is a solder. The metal is copper.

예시적인 실시예들에서, 상기 도전성 연결 단자의 하부는 연결 도전체에 매립되고, 상기 몰딩층의 상기 상면으로부터 상기 몰딩층의 상기 하면을 향해 연장된 다.In example embodiments, a lower portion of the conductive connection terminal is buried in a connection conductor, and extends from the top surface of the molding layer toward the bottom surface of the molding layer.

예시적인 실시예들에서, 상기 연결 도전체의 수직 높이 및 최대 수평 폭은 상기 반도체 칩의 수직 높이보다 크고, 상기 연결 도전체의 수직 높이는 300 마이크로미터 내지 1400 마이크로미터 사이이다.In example embodiments, a vertical height and a maximum horizontal width of the connecting conductor are greater than a vertical height of the semiconductor chip, and the vertical height of the connecting conductor is between 300 micrometers and 1400 micrometers.

예시적인 실시예들에서, 상기 몰딩층의 상기 상면과 상기 안테나 구조물 사이의 거리는 4 마이크로미터 내지 25 마이크로미터 사이이다.In exemplary embodiments, the distance between the top surface of the molding layer and the antenna structure is between 4 micrometers and 25 micrometers.

예시적인 실시예들에서, 상기 연결 도전체는 외측으로 볼록한 형태의 측벽을 가지고, 상기 연결 도전체의 하부의 수평 폭은 상기 패키지 기판에 인접할수록 작아지고, 상기 연결 도전체의 상부의 수평 폭은 상기 몰딩층의 상기 상면에 인접할수록 작아진다. In exemplary embodiments, the connecting conductor has an outwardly convex sidewall, the lower horizontal width of the connecting conductor becomes smaller as it approaches the package substrate, and the horizontal width of the upper portion of the connecting conductor is It becomes smaller as it is adjacent to the upper surface of the molding layer.

예시적인 실시예들에서, 상기 연결 도전체는 제1 도전 물질을 포함하는 코어부; 및 상기 제1 도전 물질과 상이한 제2 도전 물질을 포함하고, 상기 코어부를 감싸는 쉘부;를 포함한다.In example embodiments, the connecting conductor may include a core portion including a first conductive material; and a shell part including a second conductive material different from the first conductive material and surrounding the core part.

예시적인 실시예들에서, 상기 연결 도전체는 그 측벽이 직선 형태를 가지는 기둥 형태이고, 솔더를 포함한다.In exemplary embodiments, the connecting conductor has a columnar shape with a straight sidewall of the connecting conductor, and includes solder.

예시적인 실시예들에서, 상기 몰딩층의 상기 상면과 마주하는 상기 안테나 구조물의 하면은 서로 반대된 제1 가장자리와 제2 가장자리를 포함하고, 상기 안테나 구조물의 상기 하면의 상기 제1 가장자리와 상기 몰딩층의 상기 상면 사이의 거리와 상기 안테나 구조물의 상기 하면의 상기 제2 가장자리와 상기 몰딩층의 상기 상면 사이의 거리 사이의 비율은 80% 내지 110% 사이이다.In exemplary embodiments, a lower surface of the antenna structure facing the upper surface of the molding layer includes first and second edges opposite to each other, and the first edge and the molding of the lower surface of the antenna structure The ratio between the distance between the top surface of the layer and the distance between the second edge of the bottom surface of the antenna structure and the top surface of the molding layer is between 80% and 110%.

상술한 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 기술적 사상은 서로 분리된 제1 영역 및 제2 영역을 포함하는 반도체 패키지로서, 배선 패턴 및 상기 제1 영역 내에 있는 안테나 패턴을 포함하는 패키지 기판; 상기 패키지 기판 상의 반도체 칩; 상기 반도체 칩을 덮도록 상기 패키지 기판 상에 배치된 몰딩층; 및 상기 몰딩층을 부분적으로 덮는 외부 도전성 차폐층;을 포함하고, 상기 외부 도전성 차폐층은 상기 제2 영역 내에 제공되되, 상기 제1 영역으로부터 이격된 반도체 패키지를 제공한다. In order to solve the above problems, the technical idea of the present invention is to provide a semiconductor package including a first region and a second region separated from each other, the package substrate including a wiring pattern and an antenna pattern in the first region; a semiconductor chip on the package substrate; a molding layer disposed on the package substrate to cover the semiconductor chip; and an external conductive shielding layer partially covering the molding layer, wherein the external conductive shielding layer is provided in the second region and spaced apart from the first region.

예시적인 실시예들에서, 상기 몰딩층은 상기 패키지 기판의 상면을 전체적으로 덮고, 상기 외부 도전성 차폐층은, 상기 제2 영역 내에 있는 상기 몰딩층의 상면의 일부는 덮고, 상기 제1 영역 내에 있는 상기 몰딩층의 상기 상면의 다른 일부는 외부에 노출되도록 상기 몰딩층의 상기 상면의 상기 다른 일부는 덮지 않는다.In example embodiments, the molding layer entirely covers a top surface of the package substrate, and the external conductive shielding layer covers a portion of the top surface of the molding layer in the second region, and the molding layer in the first region. The other part of the top surface of the molding layer is not covered so that the other part of the top surface of the molding layer is exposed to the outside.

예시적인 실시예들에서, 상기 몰딩층은, 상기 제2 영역 내에 있는 상기 패키지 기판의 상면의 일부는 덮고, 상기 제1 영역 내에 있는 상기 패키지 기판의 상기 상면의 다른 일부는 외부에 노출되도록 상기 패키지 기판의 상기 상면의 상기 다른 일부는 덮지 않는다.In example embodiments, the molding layer may cover a portion of an upper surface of the package substrate in the second region, and expose another portion of the upper surface of the package substrate in the first region to the outside. The other portion of the top surface of the substrate is not covered.

예시적인 실시예들에서, 상기 몰딩층의 상면에 접촉되고, 상기 몰딩층의 상기 상면을 적어도 부분적으로 덮는 커버 절연층을 더 포함하고, 상기 커버 절연층은 폴리이미드를 포함한다. In exemplary embodiments, a cover insulating layer that is in contact with the upper surface of the molding layer and at least partially covers the upper surface of the molding layer, wherein the cover insulating layer includes polyimide.

상술한 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 기술적 사상은 배선 패턴을 포함하는 패키지 기판; 상기 패키지 기판 상의 반도체 칩; 상기 반도체 칩을 덮도록 상기 패키지 기판 상에 배치된 몰딩층; 상기 몰딩층 내에서 수직 방향으로 연장되고, 상기 반도체 칩의 측면을 둘러싸는 내부 도전성 차폐층; 및 상기 몰딩층 내에서 상기 수직 방향으로 연장되고, 상기 내부 도전성 차폐층과 상기 몰딩층의 외측면 사이에 배치되고, 상기 배선 패턴을 통해 상기 반도체 칩에 전기적으로 연결된 안테나 패턴;을 포함하는 반도체 패키지를 제공한다. In order to solve the above problems, the technical idea of the present invention is a package substrate including a wiring pattern; a semiconductor chip on the package substrate; a molding layer disposed on the package substrate to cover the semiconductor chip; an internal conductive shielding layer extending in a vertical direction in the molding layer and enclosing a side surface of the semiconductor chip; and an antenna pattern extending in the vertical direction within the molding layer, disposed between the inner conductive shielding layer and an outer surface of the molding layer, and electrically connected to the semiconductor chip through the wiring pattern; provides

예시적인 실시예들에서, 상기 내부 도전성 차폐층은, 상기 반도체 칩의 상면을 덮는 커버부; 및 상기 반도체 칩의 상기 측면을 둘러싸도록 연장되고, 상기 커버부의 가장자리로부터 상기 패키지 기판을 향해 연장된 측벽부;를 포함한다.In example embodiments, the internal conductive shielding layer may include a cover part covering an upper surface of the semiconductor chip; and a sidewall portion extending to surround the side surface of the semiconductor chip and extending from an edge of the cover portion toward the package substrate.

본 발명의 예시적인 실시예들에 의하면, 안테나 구조물은 반도체 칩과 근접 배치되므로, 안테나 구조물과 반도체 칩 사이의 신호 전송 경로가 짧아질 수 있고, 이에 따라 신호 전송 효율이 향상될 수 있다. According to exemplary embodiments of the present invention, since the antenna structure is disposed close to the semiconductor chip, a signal transmission path between the antenna structure and the semiconductor chip may be shortened, and thus signal transmission efficiency may be improved.

도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1의 몰딩층의 상면을 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 1의 "Ⅲ"로 표시된 영역을 확대하여 나타내는 확대도이다.
도 4는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지의 일부를 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지의 일부를 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지의 일부를 나타내는 단면도이다.
도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지의 일부를 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 9은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 10은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 11은 도 10의 반도체 패키지를 상방에서 바라본 평면도이다.
도 12은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 13은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 14a는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 14b는 도 14a의 B1-B1'선에 따른 단면도이다.
도 15a는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 15b는 도 15a의 B2-B2'선에 따른 단면도이다.
1 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing an upper surface of the molding layer of FIG. 1 .
3 is an enlarged view showing an enlarged area indicated by "III" in FIG.
4 is a cross-sectional view illustrating a part of a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
5 is a cross-sectional view illustrating a part of a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating a part of a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
7A to 7C are cross-sectional views illustrating a portion of a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
8 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
9 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
10 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
11 is a plan view of the semiconductor package of FIG. 10 as viewed from above.
12 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
13 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
14A is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
14B is a cross-sectional view taken along line B1-B1' of FIG. 14A.
15A is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention.
15B is a cross-sectional view taken along line B2-B2' of FIG. 15A.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 개시의 예시적인 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 개시의 예시적인 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 개시의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 개시의 예시적인 실시예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 개시의 개념을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것으로 해석되는 것이 바람직하다. 동일한 부호는 시종 동일한 요소를 의미한다. 나아가, 도면에서의 다양한 요소와 영역은 개략적으로 그려진 것이다. 따라서, 본 개시의 개념은 첨부한 도면에 그려진 상대적인 크기나 간격에 의해 제한되어지지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, exemplary embodiments of the present disclosure may be modified in various other forms, and the scope of the present disclosure should not be construed as being limited by the embodiments described below. It is preferred that the exemplary embodiments of the present disclosure are provided to more completely explain the concepts of the present disclosure to those of ordinary skill in the art. The same symbols refer to the same elements from beginning to end. Furthermore, various elements and regions in the drawings are schematically drawn. Accordingly, the concept of the present disclosure is not limited by the relative size or spacing drawn in the accompanying drawings.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는 데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 개시의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제 1 구성 요소는 제 2 구성 요소로 명명될 수 있고, 반대로 제 2 구성 요소는 제 1 구성 요소로 명명될 수 있다.Terms such as first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements are not limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present disclosure, a first component may be referred to as a second component, and conversely, the second component may be referred to as a first component.

본 개시에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예들을 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 개시의 개념을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함한다" 또는 "갖는다" 등의 표현은 명세서에 기재된 특징, 개수, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 개수, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used in the present disclosure is used only to describe specific embodiments, and is not intended to limit the concept of the present disclosure. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, expressions such as "comprises" or "have" are intended to designate that a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification is present, but one or more other features or It should be understood that the existence or addition of numbers, operations, components, parts or combinations thereof is not precluded in advance.

달리 정의되지 않는 한, 여기에 사용되는 모든 용어들은 기술 용어와 과학 용어를 포함하여 본 개시의 개념이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 공통적으로 이해하고 있는 바와 동일한 의미를 지닌다. 또한, 통상적으로 사용되는, 사전에 정의된 바와 같은 용어들은 관련되는 기술의 맥락에서 이들이 의미하는 바와 일관되는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 여기에 명시적으로 정의하지 않는 한 과도하게 형식적인 의미로 해석되어서는 아니 될 것임은 이해될 것이다.Unless defined otherwise, all terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the concepts of this disclosure belong, including technical and scientific terms. In addition, commonly used terms as defined in the dictionary should be construed as having a meaning consistent with their meaning in the context of the relevant technology, and unless explicitly defined herein, in an overly formal sense. It will be understood that they shall not be construed.

도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지(10)를 나타내는 단면도이다. 도 2는 도 1의 몰딩층(140)의 상면(149)을 보여주는 평면도이다. 도 3은 도 1의 "Ⅲ"로 표시된 영역을 확대하여 나타내는 확대도이다. 1 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package 10 according to exemplary embodiments of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing the upper surface 149 of the molding layer 140 of FIG. 1 . 3 is an enlarged view showing an enlarged area indicated by "III" in FIG.

도 1을 참조하면, 반도체 패키지(10)는 패키지 기판(101), 반도체 칩(130), 몰딩층(140), 연결 도전체(155), 및 안테나 구조물(210)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1 , a semiconductor package 10 may include a package substrate 101 , a semiconductor chip 130 , a molding layer 140 , a connection conductor 155 , and an antenna structure 210 .

패키지 기판(101)은 재배선(redistribution) 공정을 통해 형성된 재배선 기판, 인쇄회로 기판(Printed Circuit Board, PCB), MCPCB(Metal Core PCB), MPCB(Metal PCB), FPCB(Flexible PCB)를 포함할 수 있다. 패키지 기판(101)은 대략 평판 형태이며, 반도체 칩(130)이 실장되는 상면(109) 및 상면(109)에 반대된 하면을 포함할 수 있다. 이하에서, 수평 방향은 패키지 기판(101)의 상면(109)에 평행한 방향(예를 들어, X방향 및/또는 Y방향)으로 정의하고, 수직 방향은 패키지 기판(101)의 상면(109)에 수직한 방향(예를 들어, Z방향)으로 정의한다. 또한, 임의의 부재의 수평 폭은 상기 수평 방향(예를 들어, X방향 및/또는 Y방향)에 따른 길이로 정의하고, 임의의 부재의 수직 높이는 상기 수직 방향(예를 들어, Z방향)에 따른 길이로 정의한다.The package substrate 101 includes a redistribution board formed through a redistribution process, a printed circuit board (PCB), a metal core PCB (MCPCB), a metal PCB (MPCB), and a flexible PCB (FPCB). can do. The package substrate 101 has a substantially flat shape, and may include an upper surface 109 on which the semiconductor chip 130 is mounted and a lower surface opposite to the upper surface 109 . Hereinafter, the horizontal direction is defined as a direction parallel to the upper surface 109 of the package substrate 101 (eg, the X direction and/or the Y direction), and the vertical direction is the upper surface 109 of the package substrate 101 . It is defined as a direction perpendicular to (eg, Z direction). In addition, the horizontal width of an arbitrary member is defined as a length along the horizontal direction (eg, X-direction and/or Y-direction), and the vertical height of an arbitrary member is defined as a length in the vertical direction (eg, Z-direction). defined by the length

예시적인 실시예들에서, 패키지 기판(101)은 배선 절연층(110) 및 배선 패턴(120)을 포함하는 재배선 기판일 수 있다. 배선 절연층(110)은 수직 방향으로 적층된 복수의 절연층(111, 113, 115)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 배선 절연층(110)은 절연성 폴리머, 에폭시, 또는 이들의 조합으로 형성될 수 있다. 배선 패턴(120)은 배선 절연층(110)에 의해 피복될 수 있다. 배선 패턴(120)은 반도체 칩(130) 등 반도체 패키지(10)에 포함된 전자 부품에 전기적으로 연결될 수 있고, 반도체 패키지(10)에 포함된 전자 부품들 사이를 전기적으로 연결할 수 있다. 배선 패턴(120)은 서로 다른 층을 이루도록 배선 절연층(110) 내에 배치된 라인 패턴들과 상기 라인 패턴들 사이를 연결하는 비아 패턴들을 포함할 수 있다. 배선 패턴(120)은 패키지 기판(101)의 하면을 통해 노출되는 외부 패드를 포함할 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 배선 패턴(120)에 포함된 하부 패드들은 450 마이크로미터 내지 1400 마이크로미터 사이의 피치(pitch)로 배열될 수 있다. 배선 패턴(120)은 구리(Cu), 알루미늄(Al)과 같은 도전성 물질을 포함할 수 있다. In example embodiments, the package substrate 101 may be a redistribution substrate including the wiring insulating layer 110 and the wiring pattern 120 . The wiring insulating layer 110 may include a plurality of insulating layers 111 , 113 , and 115 stacked in a vertical direction. For example, the wiring insulating layer 110 may be formed of an insulating polymer, epoxy, or a combination thereof. The wiring pattern 120 may be covered by the wiring insulating layer 110 . The wiring pattern 120 may be electrically connected to electronic components included in the semiconductor package 10 , such as the semiconductor chip 130 , and electrically connect between electronic components included in the semiconductor package 10 . The wiring pattern 120 may include line patterns disposed in the wiring insulating layer 110 to form different layers and via patterns connecting between the line patterns. The wiring pattern 120 may include an external pad exposed through the lower surface of the package substrate 101 . In example embodiments, the lower pads included in the wiring pattern 120 may be arranged at a pitch between 450 micrometers and 1400 micrometers. The wiring pattern 120 may include a conductive material such as copper (Cu) or aluminum (Al).

반도체 칩(130)은 서로 반대된 제1 면 및 제2 면을 포함할 수 있다. 반도체 칩(130)의 제1 면은 칩 패드(131)가 마련된 패드면일 수 있다. 반도체 칩(130)의 칩 패드(131)는 반도체 칩(130)에 형성된 반도체 소자와 전기적으로 연결될 수 있다. 구체적으로 도시되지 않았으나, 반도체 칩(130)은 반도체 칩(130)의 상기 제1 면을 덮되 칩 패드(131)를 노출시키는 개구부를 포함하는 패시베이션막을 포함할 수 있다. The semiconductor chip 130 may include a first surface and a second surface opposite to each other. The first surface of the semiconductor chip 130 may be a pad surface on which the chip pad 131 is provided. The chip pad 131 of the semiconductor chip 130 may be electrically connected to a semiconductor device formed in the semiconductor chip 130 . Although not specifically illustrated, the semiconductor chip 130 may include a passivation layer covering the first surface of the semiconductor chip 130 and including an opening exposing the chip pad 131 .

반도체 칩(130)은 패키지 기판(101) 상에 플립 칩 방식으로 실장될 수 있다. 반도체 칩(130)은 칩 패드(131)가 마련된 상기 제1 면이 패키지 기판(101)을 향하도록 패키지 기판(101)의 상면(109) 상에 배치될 수 있다. 예를 들어, 반도체 칩(130)과 패키지 기판(101) 사이에는 마이크로 범프와 같은 칩 연결 단자(137)가 배치될 수 있다. 반도체 칩(130)은 칩 연결 단자(137)를 통해 배선 패턴(120)에 전기적으로 연결될 수 있다. 좀 더 구체적으로, 배선 패턴(120)은 칩 연결 단자(137)가 부착되는 상부 패드를 포함하며, 칩 연결 단자(137)는 배선 패턴(120)의 상기 상부 패드와 반도체 칩(130)의 칩 패드(131) 사이를 물질적 및 전기적으로 연결할 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 배선 패턴(120)에 포함된 상부 패드들은 60 마이크로미터 내지 230 마이크로미터 사이의 피치로 배열될 수 있다. The semiconductor chip 130 may be mounted on the package substrate 101 in a flip-chip method. The semiconductor chip 130 may be disposed on the top surface 109 of the package substrate 101 such that the first surface on which the chip pad 131 is provided faces the package substrate 101 . For example, a chip connection terminal 137 such as a micro bump may be disposed between the semiconductor chip 130 and the package substrate 101 . The semiconductor chip 130 may be electrically connected to the wiring pattern 120 through the chip connection terminal 137 . More specifically, the wiring pattern 120 includes an upper pad to which the chip connection terminal 137 is attached, and the chip connection terminal 137 includes the upper pad of the wiring pattern 120 and the chip of the semiconductor chip 130 . The pads 131 may be physically and electrically connected. In example embodiments, upper pads included in the wiring pattern 120 may be arranged at a pitch of between 60 micrometers and 230 micrometers.

반도체 칩(130)에는 다양한 종류의 복수의 개별 소자(individual devices)가 형성될 수 있다. 예컨대, 상기 복수의 개별 소자는 다양한 미세 전자 소자 (microelectronic devices), 예를 들면 CMOS 트랜지스터 (complementary metal-oxide-semiconductor transistor) 등과 같은 MOSFET (metal-oxide-semiconductor field effect transistor), 시스템 LSI (large scale integration), CIS (CMOS imaging sensor) 등과 같은 이미지 센서, MEMS (micro-electro-mechanical system), 능동 소자, 수동 소자 등을 포함할 수 있다. A plurality of individual devices of various types may be formed in the semiconductor chip 130 . For example, the plurality of individual devices may include various microelectronic devices, for example, a metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET) such as a complementary metal-oxide-semiconductor transistor (CMOS), and a system large scale LSI (LSI). integration), an image sensor such as a CMOS imaging sensor (CIS), a micro-electro-mechanical system (MEMS), an active device, a passive device, and the like.

예시적인 실시예들에서, 반도체 칩(130)은 안테나 구조물(210)과 전기적으로 또는 신호 전송 가능하게 연결된 통신용 반도체 칩으로서, 안테나 구조물(210)을 통해 송수신되는 무선 신호를 처리하기 위한 신호 처리 회로 등을 포함할 수 있다. 예를 들어, 반도체 칩(130)은 RFIC(Radio-Frequency Integrated Circuit)를 포함할 수 있다.In example embodiments, the semiconductor chip 130 is a communication semiconductor chip electrically or signal-transmittable connected to the antenna structure 210 , and a signal processing circuit for processing a radio signal transmitted and received through the antenna structure 210 . and the like. For example, the semiconductor chip 130 may include a radio-frequency integrated circuit (RFIC).

예시적인 실시예들에서, 반도체 칩(130)은 예를 들면, 메모리 칩일 수 있다. 상기 메모리 칩은 예를 들면, DRAM(Dynamic Random Access Memory) 또는 SRAM(Static Random Access Memory)과 같은 휘발성 메모리 반도체 칩(130)이거나, PRAM(Phase-change Random Access Memory), MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory), FeRAM(Ferroelectric Random Access Memory) 또는 RRAM(Resistive Random Access Memory)과 같은 비휘발성 메모리 칩일 수 있다. In example embodiments, the semiconductor chip 130 may be, for example, a memory chip. The memory chip is, for example, a volatile memory semiconductor chip 130 such as dynamic random access memory (DRAM) or static random access memory (SRAM), phase-change random access memory (PRAM), magnetic random access memory (MRAM), etc. ), a ferroelectric random access memory (FeRAM), or a non-volatile memory chip such as a resistive random access memory (RRAM).

또는, 예시적인 실시예들에서, 반도체 칩(130)은 로직 칩일 수 있다. 예를 들어, 반도체 칩(130)은 CPU(Central Processor Unit), MPU(Micro Processor Unit), GPU(Graphic Processor Unit) 또는 AP(Application Processor)일 수 있다.Alternatively, in example embodiments, the semiconductor chip 130 may be a logic chip. For example, the semiconductor chip 130 may be a central processor unit (CPU), a micro processor unit (MPU), a graphic processor unit (GPU), or an application processor (AP).

반도체 패키지(10)는 하나의 반도체 칩(130)을 포함할 수도 있고, 2개 이상의 반도체 칩(130)을 포함할 수도 있다. 반도체 패키지(10)에 포함된 2개 이상의 반도체 칩(130)은 동종의 반도체 칩일 수도 있고, 이종의 반도체 칩일 수도 있다. 예시적인 실시예들에서, 반도체 패키지(10)는 서로 다른 종류의 반도체 칩들(130) 및 각종 전자 부품들이 서로 전기적으로 연결되어 하나의 시스템으로 동작하는 시스템 인 패키지(system in package)일 수 있다.The semiconductor package 10 may include one semiconductor chip 130 or two or more semiconductor chips 130 . The two or more semiconductor chips 130 included in the semiconductor package 10 may be semiconductor chips of the same type or different types of semiconductor chips. In example embodiments, the semiconductor package 10 may be a system in package in which different types of semiconductor chips 130 and various electronic components are electrically connected to each other to operate as one system.

몰딩층(140)은 패키지 기판(101)의 상면(109) 상에 배치되며 반도체 칩(130)의 적어도 일부를 덮을 수 있다. 예를 들어, 몰딩층(140)은 반도체 칩(130)의 측면을 덮고, 반도체 칩(130)의 상면을 덮을 수 있다. 일부 예시적인 실시예들에서, 몰딩층(140)은 반도체 칩(130)의 측면을 덮되, 반도체 칩(130)의 상면은 덮지 않을 수도 있다. 또한, 몰딩층(140)은 반도체 칩(130)과 패키지 기판(101) 사이에 채워지며, 반도체 칩(130) 아래에 있는 칩 연결 단자(137)를 둘러쌀 수 있다. 몰딩층(140)은 예를 들어 에폭시 몰딩 컴파운드로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The molding layer 140 is disposed on the upper surface 109 of the package substrate 101 and may cover at least a portion of the semiconductor chip 130 . For example, the molding layer 140 may cover the side surface of the semiconductor chip 130 and cover the top surface of the semiconductor chip 130 . In some example embodiments, the molding layer 140 may cover the side surface of the semiconductor chip 130 , but may not cover the top surface of the semiconductor chip 130 . Also, the molding layer 140 may be filled between the semiconductor chip 130 and the package substrate 101 and surround the chip connection terminal 137 under the semiconductor chip 130 . The molding layer 140 may be formed of, for example, an epoxy molding compound, but is not limited thereto.

연결 도전체(155)는 몰딩층(140)을 관통할 수 있다. 연결 도전체(155)는 패키지 기판(101)의 상면(109)에 접하는 몰딩층(140)의 하면으로부터 몰딩층(140)의 상면(149)까지 연장될 수 있다. 연결 도전체(155)의 하단부는 패키지 기판(101)의 배선 패턴(120)에 연결되고, 연결 도전체(155)의 상단부는 도전성 연결 단자(193)에 연결될 수 있다. The connecting conductor 155 may penetrate the molding layer 140 . The connecting conductor 155 may extend from the lower surface of the molding layer 140 in contact with the upper surface 109 of the package substrate 101 to the upper surface 149 of the molding layer 140 . The lower end of the connecting conductor 155 may be connected to the wiring pattern 120 of the package substrate 101 , and the upper end of the connecting conductor 155 may be connected to the conductive connecting terminal 193 .

예시적인 실시예들에서, 연결 도전체(155)의 수직 높이는 반도체 칩(130)의 수직 높이보다 클 수 있다. 예를 들어, 연결 도전체(155)의 수직 높이는 반도체 칩(130)의 수직 높이의 150% 내지 400% 사이, 또는 200% 내지 350% 사이일 수 있다. 연결 도전체(155)의 수직 높이는 몰딩층(140)의 수직 높이와 대략 동일할 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 연결 도전체(155)의 수직 높이는 300 마이크로미터 내지 1400 마이크로미터 사이, 400 마이크로미터 내지 1200 마이크로미터 사이, 500 마이크로미터 내지 900 마이크로미터 사이, 또는 600 마이크로미터 내지 700 마이크로미터 사이일 수 있다. In example embodiments, a vertical height of the connection conductor 155 may be greater than a vertical height of the semiconductor chip 130 . For example, the vertical height of the connecting conductor 155 may be between 150% and 400%, or between 200% and 350% of the vertical height of the semiconductor chip 130 . A vertical height of the connecting conductor 155 may be approximately equal to a vertical height of the molding layer 140 . In exemplary embodiments, the vertical height of the connecting conductor 155 is between 300 micrometers and 1400 micrometers, between 400 micrometers and 1200 micrometers, between 500 micrometers and 900 micrometers, or between 600 micrometers and 700 micrometers. It can be between meters.

연결 도전체(155)의 수평 폭은 연결 도전체(155)의 하단과 상단 사이에 있는 중간 부분에서 최대일 수 있다. 예를 들어, 연결 도전체(155)는 하단에서 상기 중간 부분으로 갈수록 점차 증가하고, 상기 중간 부분으로부터 상단으로 갈수록 점차 감소할 수 있다. 바꿔 말해서, 연결 도전체(155)의 하부는 패키지 기판(101)의 상면(109)에 인접할수록 수평 폭이 작아지고, 연결 도전체(155)의 상부는 몰딩층(140)의 상면(149)에 인접할수록 수평 폭이 작아질 수 있다. The horizontal width of the connecting conductor 155 may be maximum in the middle portion between the bottom and the top of the connecting conductor 155 . For example, the connecting conductor 155 may gradually increase from the lower end to the middle portion, and may gradually decrease from the middle portion to the upper end. In other words, the horizontal width of the lower portion of the connecting conductor 155 becomes smaller as it approaches the upper surface 109 of the package substrate 101 , and the upper portion of the connecting conductor 155 is the upper surface 149 of the molding layer 140 . The horizontal width may become smaller as it is adjacent to .

예시적인 실시예들에서, 연결 도전체(155)의 상기 중간 부분의 수평 폭은 반도체 칩(130)의 수직 높이보다 클 수 있다. 예를 들어, 연결 도전체(155)의 상기 중간 부분의 수평 폭은 반도체 칩(130)의 높이의 1.5배 내지 3배 사이일 수 있다. In example embodiments, a horizontal width of the middle portion of the connection conductor 155 may be greater than a vertical height of the semiconductor chip 130 . For example, the horizontal width of the middle portion of the connecting conductor 155 may be between 1.5 and 3 times the height of the semiconductor chip 130 .

예시적인 실시예들에서, 연결 도전체(155)와 반도체 칩(130) 사이의 수평 방향(예를 들어, X방향 및/또는 Y방향)에 따른 이격 거리는 50 마이크로미터 내지 250 마이크로미터 사이, 70 마이크로미터 내지 200 마이크로미터 사이, 또는 80 마이크로미터 내지 150 마이크로미터 사이일 수 있다. In example embodiments, a separation distance in a horizontal direction (eg, X-direction and/or Y-direction) between the connection conductor 155 and the semiconductor chip 130 is between 50 micrometers and 250 micrometers, 70 It may be between micrometers and 200 micrometers, or between 80 micrometers and 150 micrometers.

연결 도전체(155)는 솔더, 주석(Sn), 은(Ag), 인듐(In), 비스무트(Bi), 안티모니(Sb), 구리(Cu), 아연(Zn), 납(Pb) 및/또는 이들의 합금을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 연결 도전체(155)는 솔더 볼을 이용하여 제조되어, 솔더를 포함할 수 있다. The connecting conductor 155 includes solder, tin (Sn), silver (Ag), indium (In), bismuth (Bi), antimony (Sb), copper (Cu), zinc (Zn), lead (Pb), and / or alloys thereof. In example embodiments, the connecting conductor 155 may be manufactured using a solder ball and may include solder.

예시적인 실시예들에서, 상기 연결 도전체(155)를 형성하기 위해, 패키지 기판(101) 상에 솔더볼을 위치시키고 리플로우 공정을 수행하는 단계, 상기 반도체 칩(130) 및 솔더볼을 덮는 몰딩 물질을 형성하는 단계, 상기 몰딩 물질에 대한 연마 공정(예를 들어, 백 그라인딩 또는 화학적 기계적 연마)를 수행하여 상기 솔더볼을 노출시키는 단계를 차례로 수행할 수 있다. 상기 연마 공정 시, 상기 솔더볼의 일부가 상기 몰딩 물질과 함께 제거될 수 있으며, 연결 도전체(155)의 상면 및 몰딩층(140)의 상면(149)은 평탄하게 연마되어 동일 평면 상에 있을 수 있다. In example embodiments, in order to form the connection conductor 155 , a solder ball is placed on the package substrate 101 and a reflow process is performed, and a molding material covering the semiconductor chip 130 and the solder ball is performed. The steps of forming a , exposing the solder balls by performing a polishing process (eg, back grinding or chemical mechanical polishing) on the molding material may be sequentially performed. During the polishing process, a portion of the solder ball may be removed together with the molding material, and the upper surface of the connecting conductor 155 and the upper surface 149 of the molding layer 140 may be flatly polished to be on the same plane. have.

안테나 구조물(210)은 몰딩층(140) 상에 실장될 수 있다. 안테나 구조물(210)은 외부 기기와의 무선 통신을 위한 안테나 구조물이 내장된 안테나 모듈(antenna module) 또는 칩 안테나(chip antenna)일 수 있다. 예를 들어, 안테나 구조물(210)의 안테나 구조물은 밀리미터 파장 대역의 무선 신호를 방사하거나 수신하도록 구성될 수 있다. The antenna structure 210 may be mounted on the molding layer 140 . The antenna structure 210 may be an antenna module or a chip antenna in which an antenna structure for wireless communication with an external device is embedded. For example, the antenna structure of the antenna structure 210 may be configured to radiate or receive a radio signal in a millimeter wavelength band.

안테나 구조물(210)은 몰딩층(140)과 마주하는 하면에 마련된 연결 패드(211)를 포함할 수 있다. 안테나 구조물(210)의 연결 패드(211)와 연결 도전체(155)의 상면 사이에는 도전성 연결 단자(193)가 배치될 수 있다. 안테나 구조물(210)은 도전성 연결 단자(193)를 통해 몰딩층(140) 및 연결 도전체(155) 상에 실장될 수 있다. 안테나 구조물(210)의 연결 패드(211)와 연결 도전체(155)는 도전성 연결 단자(193)를 통해 전기적 및 물리적으로 연결될 수 있다. 안테나 구조물(210)의 안테나 구조물은 안테나 구조물(210)의 연결 패드(211), 도전성 연결 단자(193), 연결 도전체(155), 및 배선 패턴(120)을 경유하는 전기적 경로를 통해, 반도체 칩(130)에 신호 전송 가능하게 연결될 수 있다. The antenna structure 210 may include a connection pad 211 provided on a lower surface facing the molding layer 140 . A conductive connection terminal 193 may be disposed between the connection pad 211 of the antenna structure 210 and the upper surface of the connection conductor 155 . The antenna structure 210 may be mounted on the molding layer 140 and the connection conductor 155 through the conductive connection terminal 193 . The connection pad 211 of the antenna structure 210 and the connection conductor 155 may be electrically and physically connected through the conductive connection terminal 193 . The antenna structure of the antenna structure 210 is formed through an electrical path passing through the connection pad 211 , the conductive connection terminal 193 , the connection conductor 155 , and the wiring pattern 120 of the antenna structure 210 , the semiconductor It may be connected to the chip 130 for signal transmission.

예시적인 실시예들에서, 연결 도전체(155)와 도전성 연결 단자(193) 사이에는 도전성 계면층(conductive interface layer, 194)가 제공될 수 있다. 도전성 계면층(194)은 도전성 연결 단자(193)와 마주하는 연결 도전체(155)의 상면을 따라 연장될 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 도전성 계면층(194)은 평면적 관점에서 연결 도전체(155)의 상면을 덮을 수 있다. In example embodiments, a conductive interface layer 194 may be provided between the connection conductor 155 and the conductive connection terminal 193 . The conductive interface layer 194 may extend along a top surface of the connection conductor 155 facing the conductive connection terminal 193 . In example embodiments, the conductive interface layer 194 may cover a top surface of the connecting conductor 155 in a plan view.

도전성 계면층(194)은 연결 도전체(155)를 구성하는 제1 금속 물질과, 도전성 연결 단자(193)를 구성하는 제2 금속 물질을 포함할 수 있다. 도전성 계면층(194)은 서로 다른 금속을 포함하는 연결 도전체(155)와 도전성 연결 단자(193)가 결합할 때 형성되는 금속간 화합물층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 연결 도전체(155)는 솔더를 포함하고 도전성 연결 단자(193)는 구리(Cu)를 포함할 때, 도전성 계면층(194)은 솔더 및 구리를 포함할 수 있다. The conductive interface layer 194 may include a first metal material constituting the connection conductor 155 and a second metal material constituting the conductive connection terminal 193 . The conductive interface layer 194 may include an intermetallic compound layer formed when the connection conductor 155 including different metals and the conductive connection terminal 193 are combined. For example, when the connecting conductor 155 includes solder and the conductive connection terminal 193 includes copper (Cu), the conductive interface layer 194 may include solder and copper.

예시적인 실시예들에서, 안테나 구조물(210)은 몰딩층(140)의 상면(149)으로부터 이격되며, 안테나 구조물(210)과 몰딩층(140)의 상면(149) 사이에는 갭(195)이 형성될 수 있다. 상기 갭(195)의 수직 높이는 도전성 연결 단자(193)의 수직 높이와 유사한 수준일 수 있다. 예를 들어, 상기 갭(195)은 반도체 칩(130) 등 전자 부품에서 발생된 열이 방출되는 공간으로 활용될 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 도전성 연결 단자(193)는 기둥 또는 범프 형태이며, 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 도전성 연결 단자(193)를 구리(Cu)를 이용하여 형성하는 경우, 솔더와 같은 물질을 이용하는 경우 보다, 상기 갭(195)의 높이의 균일성이 향상될 수 있다. 실시예들에서, 안테나 구조물(210)과 몰딩층(140)의 상면(149) 사이의 거리는 전체적으로 균일할 수 있다. In exemplary embodiments, the antenna structure 210 is spaced apart from the top surface 149 of the molding layer 140 , and a gap 195 is formed between the antenna structure 210 and the top surface 149 of the molding layer 140 . can be formed. The vertical height of the gap 195 may be similar to the vertical height of the conductive connection terminal 193 . For example, the gap 195 may be used as a space in which heat generated in an electronic component such as the semiconductor chip 130 is emitted. In example embodiments, the conductive connection terminal 193 has a pillar or bump shape and may include copper (Cu). When the conductive connection terminal 193 is formed using copper (Cu), the uniformity of the height of the gap 195 may be improved compared to the case where a material such as solder is used. In embodiments, the distance between the antenna structure 210 and the top surface 149 of the molding layer 140 may be uniform throughout.

예시적인 실시예들에서, 안테나 구조물(210)의 하면이 서로 반대된 제1 가장자리(예를 들어, 안테나 구조물(210)의 하면의 좌측 가장자리)와 제2 가장자리(예를 들어, 안테나 구조물(210)의 하면의 우측 가장자리)를 포함할 때, 안테나 구조물(210)의 하면의 상기 제1 가장자리와 몰딩층(140)의 상면 사이의 거리와 안테나 구조물(210)의 하면의 상기 제2 가장자리와 몰딩층(140)의 상면 사이의 거리 사이의 비율은 80% 내지 110% 사이일 수 있다. In example embodiments, the lower surface of the antenna structure 210 has opposite first edges (eg, the left edge of the lower surface of the antenna structure 210 ) and a second edge (eg, the antenna structure 210 ). ) when including the right edge of the lower surface), the distance between the first edge of the lower surface of the antenna structure 210 and the upper surface of the molding layer 140 and the second edge of the lower surface of the antenna structure 210 and molding The ratio between the distances between the top surfaces of the layers 140 may be between 80% and 110%.

예시적인 실시예들에서, 도전성 연결 단자(193)의 수직 높이를 조절함으로써, 갭(195)의 높이를 조절할 수 있다. 일부 예시적인 실시예들에서, 도전성 연결 단자(193)의 수직 높이를 조절함으로써, 안테나 구조물(210)에 포함된 안테나 패턴과 RFIC에 해당하는 반도체 칩(130)과의 거리를 안테나 패턴의 특성에 부합하게 조절할 수 있다. In example embodiments, the height of the gap 195 may be adjusted by adjusting the vertical height of the conductive connection terminal 193 . In some exemplary embodiments, by adjusting the vertical height of the conductive connection terminal 193 , the distance between the antenna pattern included in the antenna structure 210 and the semiconductor chip 130 corresponding to the RFIC is adjusted to the characteristics of the antenna pattern. can be adjusted accordingly.

예시적인 실시예들에서, 도전성 연결 단자(193)의 수직 높이는 4 마이크로미터 내지 25 마이크로미터 사이, 6 마이크로미터 내지 18 마이크로미터 사이, 또는 8 마이크로미터 내지 11 마이크로미터 사이일 수 있다. 상기 갭(195)의 수직 높이, 즉 몰딩층(140)의 상면(149)과 안테나 구조물(210) 사이의 수직 방향(예를 들어, Z방향)에 따른 거리는 도전성 연결 단자(193)의 수직 높이와 유사할 수 있다. 예를 들어, 몰딩층(140)의 상면(149)과 안테나 구조물(210) 사이의 수직 방향(예를 들어, Z방향)에 따른 거리는 4 마이크로미터 내지 25 마이크로미터 사이, 6 마이크로미터 내지 18 마이크로미터 사이, 또는 8 마이크로미터 내지 11 마이크로미터 사이일 수 있다. 만일, 몰딩층(140)의 상면(149)과 안테나 구조물(210) 사이의 이격 거리가 너무 작은 경우, 갭(195)을 통한 방열 효율이 저하될 염려가 있다. 만일, 몰딩층(140)의 상면(149)과 안테나 구조물(210) 사이의 이격 거리가 너무 큰 경우, 반도체 칩(130)과 안테나 구조물(210) 사이의 신호 전송 경로가 길어져, 신호 전송 효율이 저하될 염려가 있다. In example embodiments, the vertical height of the conductive connection terminal 193 may be between 4 micrometers and 25 micrometers, between 6 micrometers and 18 micrometers, or between 8 micrometers and 11 micrometers. The vertical height of the gap 195 , that is, the distance in the vertical direction (eg, Z direction) between the upper surface 149 of the molding layer 140 and the antenna structure 210 is the vertical height of the conductive connection terminal 193 . may be similar to For example, a distance in a vertical direction (eg, Z direction) between the upper surface 149 of the molding layer 140 and the antenna structure 210 is between 4 micrometers and 25 micrometers, and between 6 micrometers and 18 micrometers. meters, or between 8 micrometers and 11 micrometers. If the separation distance between the upper surface 149 of the molding layer 140 and the antenna structure 210 is too small, there is a fear that heat dissipation efficiency through the gap 195 may be reduced. If the separation distance between the upper surface 149 of the molding layer 140 and the antenna structure 210 is too large, the signal transmission path between the semiconductor chip 130 and the antenna structure 210 becomes long, so that the signal transmission efficiency is reduced. There is a risk of deterioration.

예시적인 실시예들에서, 도전성 연결 단자(193)의 수평 폭은 연결 도전체(155)의 상면의 수평 폭보다 클 수 있다. 도전성 연결 단자(193)의 중심부는 연결 도전체(155)의 상면을 덮고, 도전성 연결 단자(193)의 가장자리부는 연결 도전체(155)의 주변에 있는 몰딩층(140)의 상면(149)에 접촉될 수 있다. 상기 도전성 연결 단자(193)가 연결 도전체(155)의 상면보다 큰 수평 폭을 가지도록 형성됨에 따라, 도전성 연결 단자(193)를 통한 안테나 구조물(210)의 지지가 보다 더 견고해질 수 있다. In example embodiments, the horizontal width of the conductive connection terminal 193 may be greater than the horizontal width of the upper surface of the connection conductor 155 . The central portion of the conductive connection terminal 193 covers the top surface of the connection conductor 155 , and the edge of the conductive connection terminal 193 is on the top surface 149 of the molding layer 140 around the connection conductor 155 . can be contacted. As the conductive connection terminal 193 is formed to have a greater horizontal width than the upper surface of the connection conductor 155 , the support of the antenna structure 210 through the conductive connection terminal 193 may be more robust.

본 발명의 예시적인 실시예들에 의하면, 상기 연결 도전체(155)는 솔더볼을 이용하여 낮은 비용으로 제조할 수 있으므로, 반도체 패키지(10f)의 제조 비용을 크게 절감할 수 있다. According to exemplary embodiments of the present invention, since the connecting conductor 155 can be manufactured at low cost using a solder ball, the manufacturing cost of the semiconductor package 10f can be greatly reduced.

또한, 본 발명의 예시적인 실시예들에 의하면, 상기 연결 도전체(155)는 일반적인 수직 연결 구조에 비하여 큰 부피를 가지므로 공정 오차에 기인한 오정렬 이슈가 줄어들다. 또한, 연결 도전체(155)와 도전성 연결 단자(193) 사이의 접촉 면적이 증가되어 접촉 저항을 줄일 수 있고, 궁극적으로 연결 도전체(155)를 포함하는 신호 전송 경로를 통한 신호 전송 효율이 향상될 수 있다. 나아가, 안테나 구조물(210)은 반도체 칩(130)과 근접 배치되므로, 안테나 구조물(210)과 반도체 칩(130) 사이의 신호 전송 경로가 짧아질 수 있고, 이에 따라 신호 전송 효율이 향상될 수 있다. In addition, according to exemplary embodiments of the present invention, since the connecting conductor 155 has a larger volume than a general vertical connection structure, misalignment issues due to process errors are reduced. In addition, the contact area between the connection conductor 155 and the conductive connection terminal 193 is increased to reduce contact resistance, and ultimately, signal transmission efficiency through the signal transmission path including the connection conductor 155 is improved. can be Furthermore, since the antenna structure 210 is disposed close to the semiconductor chip 130 , a signal transmission path between the antenna structure 210 and the semiconductor chip 130 may be shortened, and thus signal transmission efficiency may be improved. .

도 4 내지 도 6은 각각 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지의 일부를 나타내는 단면도이다. 도 4 내지 도 6에서는 각각 도 1의 "Ⅲ"로 표시된 영역에 대응된 반도체 패키지의 일부 영역이 도시된다. 이하에서, 앞서 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 반도체 패키지(10)와의 차이점을 중심으로 설명한다.4 to 6 are cross-sectional views each showing a portion of a semiconductor package according to exemplary embodiments of the present invention. 4 to 6 , a partial region of the semiconductor package corresponding to the region indicated by “III” in FIG. 1 is shown, respectively. Hereinafter, differences from the semiconductor package 10 described above with reference to FIGS. 1 to 3 will be mainly described.

도 4를 도 1과 함께 참조하면, 연결 도전체(155a)는 코어부(1551) 및 쉘부(1553)를 포함하는 코어-쉘(core-shell) 구조를 가질 수 있다. 쉘부(1553)는 코어부(1551)의 적어도 일부를 감쌀 수 있다. 예를 들어, 코어부(1551)는 대체로 볼 형태이며, 쉘부(1553)는 코어부(1551)의 외면 전체를 덮을 수 있다. Referring to FIG. 4 together with FIG. 1 , the connecting conductor 155a may have a core-shell structure including a core part 1551 and a shell part 1553 . The shell part 1553 may surround at least a portion of the core part 1551 . For example, the core part 1551 may have a substantially ball shape, and the shell part 1553 may cover the entire outer surface of the core part 1551 .

상기 코어부(1551) 및 쉘부(1553)는 서로 다른 도전 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 코어부(1551)는 쉘부(1553)를 구성하는 물질보다 전기 전도도가 높은 물질로 구성될 수 있다. 예를 들어, 쉘부(1553)는 다른 물질과의 접착성이 우수한 물질로 구성될 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 코어부(1551)는 구리(Cu)를 포함하고, 쉘부(1553)는 솔더를 포함할 수 있다. The core part 1551 and the shell part 1553 may include different conductive materials. For example, the core part 1551 may be made of a material having higher electrical conductivity than a material constituting the shell part 1553 . For example, the shell part 1553 may be made of a material having excellent adhesion to other materials. In example embodiments, the core part 1551 may include copper (Cu), and the shell part 1553 may include solder.

도 5를 도 1과 함께 참조하면, 연결 도전체(155b)는 코어부(1551a) 및 코어부(1551a)의 측면을 둘러싸는 쉘부(1553a)를 포함할 수 있다. 코어부(1551a)의 상부는 쉘부(1553a)에 덮이지 않을 수 있다. 상기 코어부(1551a)는 연마 공정을 통해 평탄화된 상면을 가질 수 있으며, 상기 코어부(1551a)의 상면은 도전성 연결 단자(193)에 직접 접촉될 수 있다. 또한, 코어부(1551a)의 하부는 쉘부(1553a)에 덮이지 않으며, 코어부(1551a)의 하부는 배선 패턴(120)에 직접 연결될 수 있다. Referring to FIG. 5 together with FIG. 1 , the connecting conductor 155b may include a core part 1551a and a shell part 1553a surrounding the side surfaces of the core part 1551a. The upper portion of the core portion 1551a may not be covered by the shell portion 1553a. The core part 1551a may have an upper surface planarized through a polishing process, and the upper surface of the core part 1551a may be in direct contact with the conductive connection terminal 193 . Also, a lower portion of the core portion 1551a may not be covered by the shell portion 1553a , and a lower portion of the core portion 1551a may be directly connected to the wiring pattern 120 .

예시적인 실시예들에서, 도전성 계면층(194)은 쉘부(1553a)의 상면과 도전성 연결 단자(193) 사이에 배치되되, 코어부(1551a)의 상면과 도전성 연결 단자(193) 사이에는 배치되지 않을 수 있다. In exemplary embodiments, the conductive interface layer 194 is disposed between the top surface of the shell part 1553a and the conductive connection terminal 193 , but is not disposed between the top surface of the core part 1551a and the conductive connection terminal 193 . it may not be

도 6을 참조하면, 도전성 연결 단자(193)의 일부는 연결 도전체(155)의 내부로 연장되며, 연결 도전체(155)에 매립될 수 있다. 좀 더 구체적으로, 도전성 연결 단자(193)는 연결 도전체(155)에 매립되며, 몰딩층(140)의 상면(149)으로부터 하방으로 연장된 하부(1931)를 포함할 수 있다. 즉, 도전성 연결 단자(193)의 하부(1931)는 몰딩층(140)의 상면(149)으로부터 하방으로 연장되며, 몰딩층(140)의 상면(149)과 하면 사이에 있을 수 있다. 도전성 연결 단자(193)의 하부(1931)의 측벽 및 바닥면이 연결 도전체(155)에 의해 덮이므로, 도전성 연결 단자(193)와 연결 도전체(155) 간의 접촉 면적이 증대되며, 도전성 연결 단자(193)와 연결 도전체(155) 간의 접속 신뢰성이 향상될 수 있다. Referring to FIG. 6 , a portion of the conductive connection terminal 193 may extend into the connection conductor 155 and be buried in the connection conductor 155 . More specifically, the conductive connection terminal 193 is buried in the connection conductor 155 and may include a lower portion 1931 extending downward from the top surface 149 of the molding layer 140 . That is, the lower portion 1931 of the conductive connection terminal 193 extends downward from the upper surface 149 of the molding layer 140 , and may be between the upper surface 149 and the lower surface of the molding layer 140 . Since the sidewall and bottom surface of the lower portion 1931 of the conductive connection terminal 193 are covered by the connection conductor 155 , the contact area between the conductive connection terminal 193 and the connection conductor 155 is increased, and the conductive connection Connection reliability between the terminal 193 and the connection conductor 155 may be improved.

예시적인 실시예들에서, 도전성 계면층(194)은 도전성 연결 단자(193)의 하부(1931)와 연결 도전체(155) 간의 계면을 따라 연장될 수 있다. In example embodiments, the conductive interface layer 194 may extend along an interface between the lower portion 1931 of the conductive connection terminal 193 and the connection conductor 155 .

예시적인 실시예들에서, 도전성 연결 단자(193)의 하부(1931)의 수직 높이는 연결 도전체(155)의 수직 높이의 5% 내지 40% 사이일 수 있다. 일부 예시적인 실시예들에서, 도전성 연결 단자(193)의 하부(1931)의 수직 높이는, 연결 도전체(155)와 도전성 연결 단자(193) 간의 접합 공정 동안, 도전성 연결 단자(193)가 연결 도전체(155) 내부로 확산되는 정도에 의해 조절될 수 있다. 일부 예시적인 실시예들에서, 도전성 연결 단자(193)의 하부(1931)의 수직 높이를 조절하기 위해, 연결 도전체(155)와 도전성 연결 단자(193) 간의 접합 공정을 수행하기 전에 연결 도전체(155)에 홈을 형성하고, 연결 도전체(155)의 홈에 도전성 연결 단자(193)의 일부분을 삽입한 상태에서 연결 도전체(155)와 도전성 연결 단자(193) 간의 접합 공정을 수행할 수 있다. In example embodiments, the vertical height of the lower portion 1931 of the conductive connection terminal 193 may be between 5% and 40% of the vertical height of the connection conductor 155 . In some exemplary embodiments, the vertical height of the lower portion 1931 of the conductive connection terminal 193 is determined such that, during the bonding process between the connection conductor 155 and the conductive connection terminal 193 , the conductive connection terminal 193 is conductively connected. The degree of diffusion into the sieve 155 may be controlled. In some exemplary embodiments, in order to adjust the vertical height of the lower portion 1931 of the conductive connection terminal 193 , before performing a bonding process between the connection conductor 155 and the conductive connection terminal 193 , the connection conductor A bonding process between the connecting conductor 155 and the conductive connecting terminal 193 is performed in a state where a groove is formed in the 155 and a part of the conductive connecting terminal 193 is inserted into the groove of the connecting conductor 155 . can

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지를 나타내는 단면도들이다. 이하에서, 앞서 설명된 것과 중복된 설명은 생략한다.7A to 7C are cross-sectional views illustrating semiconductor packages according to exemplary embodiments of the present invention. Hereinafter, descriptions overlapping those described above will be omitted.

도 7a를 참조하면, 몰딩층(140)의 상면(149)과 안테나 구조물(210) 사이에는 갭퍼(gapper)(199)가 더 배치될 수 있다. 상기 갭퍼(199)는 도전성 연결 단자(193)와 유사하게, 안테나 구조물(210)의 하면과 몰딩층(140)의 상면(149) 사이에서 연장된 기둥 또는 범프 형태일 수 있다. 상기 갭퍼(199)는 도전성 연결 단자(193)와 함께, 안테나 구조물(210)을 지지하며, 안테나 구조물(210)과 몰딩층(140)의 상면(149) 사이의 거리를 유지하도록 기능할 수 있다. 상기 갭퍼(199)는 연결 도전체(155)와는 연결되지 않은 더미 패턴일 수 있다.Referring to FIG. 7A , a gapper 199 may be further disposed between the upper surface 149 of the molding layer 140 and the antenna structure 210 . Similar to the conductive connection terminal 193 , the gapper 199 may be in the form of a pillar or bump extending between the lower surface of the antenna structure 210 and the upper surface 149 of the molding layer 140 . The gapper 199 may support the antenna structure 210 together with the conductive connection terminal 193 , and may function to maintain a distance between the antenna structure 210 and the upper surface 149 of the molding layer 140 . . The gapper 199 may be a dummy pattern not connected to the connecting conductor 155 .

예시적인 실시예들에서, 상기 갭퍼(199)는 도전성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 도전성 연결 단자(193)와 동일한 물질을 포함할 수 있다. 다른 예시적인 실시예들에서, 상기 갭퍼(199)는 절연성 물질을 포함할 수 있다. In example embodiments, the gapper 199 may include a conductive material. For example, it may include the same material as the conductive connection terminal 193 . In other exemplary embodiments, the gapper 199 may include an insulating material.

예시적인 실시예들에서, 상기 갭퍼(199)는 도전성 연결 단자(193)와 몰딩층(140)의 상면의 가장자리 사이에 배치될 수 있다. In example embodiments, the gapper 199 may be disposed between the conductive connection terminal 193 and the edge of the upper surface of the molding layer 140 .

도 7b를 참조하면, 상기 갭퍼(199a)는 도전성 연결 단자들(193) 사이에 배치될 수 있다. Referring to FIG. 7B , the gapper 199a may be disposed between the conductive connection terminals 193 .

도 7c를 참조하면, 상기 갭퍼(199b)는 평면적 관점에서 몰딩층(140)에 덮여 있는 반도체 칩(130) 등의 전자 부품에 비중첩되도록 배치될 수 있다. Referring to FIG. 7C , the gapper 199b may be disposed so as not to overlap the electronic component such as the semiconductor chip 130 covered with the molding layer 140 in a plan view.

도 8은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지(10a)를 나타내는 단면도이다. 이하에서, 앞서 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 반도체 패키지(10)와의 차이점을 중심으로, 도 8에 도시된 반도체 패키지(10a)에 대해 설명한다.8 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package 10a according to exemplary embodiments of the present invention. Hereinafter, the semiconductor package 10a shown in FIG. 8 will be described, focusing on differences from the semiconductor package 10 described with reference to FIGS. 1 to 3 .

도 8을 참조하면, 반도체 패키지(10a)는 몰딩층(140)을 관통하되 대체로 기둥 형태를 가지는 연결 도전체(155c)를 포함할 수 있다. 연결 도전체(155c)의 측벽은 대체로 직선 형태의 프로파일을 가질 수 있다.Referring to FIG. 8 , the semiconductor package 10a may include a connection conductor 155c passing through the molding layer 140 and having a substantially pillar shape. The sidewall of the connecting conductor 155c may have a generally straight profile.

예시적인 실시예들에서, 상기 연결 도전체(155c)를 형성하기 위해, 패키지 기판(101) 상에 연결 도전체(155c)를 구성하는 도전체를 위치시키고 리플로우 공정을 수행하는 단계, 상기 반도체 칩(130) 및 도전체를 덮는 몰딩 물질을 형성하는 단계, 상기 몰딩 물질에 대한 연마 공정(예를 들어, 백 그라인딩 또는 화학적 기계적 연마)를 수행하여 상기 도전체를 노출시키는 단계를 차례로 수행할 수 있다. 상기 연마 공정 시, 상기 도전체의 일부가 상기 몰딩 물질과 함께 제거될 수 있으며, 연결 도전체(155c)의 상면 및 몰딩층(140)의 상면(149)은 평탄하게 연마되어 동일 평면 상에 있을 수 있다. In example embodiments, in order to form the connecting conductor 155c, placing a conductor constituting the connecting conductor 155c on a package substrate 101 and performing a reflow process, the semiconductor Forming a molding material covering the chip 130 and the conductor, performing a polishing process (eg, back grinding or chemical mechanical polishing) on the molding material to expose the conductor may be sequentially performed. have. During the polishing process, a portion of the conductor may be removed together with the molding material, and the upper surface of the connecting conductor 155c and the upper surface 149 of the molding layer 140 are polished to be flat and on the same plane. can

예시적인 실시예들에서, 연결 도전체(155c)의 수평 폭은 반도체 칩(130)의 수직 높이보다 클 수 있다. 예를 들어, 연결 도전체(155c)의 수평 폭은 반도체 칩(130)의 높이의 1.5배 내지 3배 사이일 수 있다.In example embodiments, a horizontal width of the connection conductor 155c may be greater than a vertical height of the semiconductor chip 130 . For example, the horizontal width of the connecting conductor 155c may be between 1.5 and 3 times the height of the semiconductor chip 130 .

도 9은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지(10b)를 나타내는 단면도이다. 이하에서, 앞서 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 반도체 패키지(10)와의 차이점을 중심으로, 도 9에 도시된 반도체 패키지(10b)에 대해 설명한다.9 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package 10b according to exemplary embodiments of the present invention. Hereinafter, the semiconductor package 10b shown in FIG. 9 will be described with a focus on differences from the semiconductor package 10 described with reference to FIGS. 1 to 3 .

도 9을 참조하면, 안테나 구조물(210a)은 몰딩층(140) 상에 부착된 캔 안테나(can antenna)로 구현될 수 있다. 상기 캔 안테나는 무선 통신을 수행하기에 적합한 형상을 가지는 도전체로 구성될 수 있다. 안테나 구조물(210a)은 도전성 연결 단자(193)를 통해 연결 도전체(155)의 상면 상에 부착될 수 있다. Referring to FIG. 9 , the antenna structure 210a may be implemented as a can antenna attached to the molding layer 140 . The can antenna may be formed of a conductor having a shape suitable for performing wireless communication. The antenna structure 210a may be attached on the upper surface of the connection conductor 155 through the conductive connection terminal 193 .

도 9에서는, 상기 연결 도전체(155)가 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명된 연결 도전체(155)인 것으로 예시되었으나, 다른 예시적인 실시예들에서 상기 연결 도전체(155)는 도 4 내지 도 6을 참조하여 설명된 연결 도전체들(155a, 155b, 155c)로 대체될 수도 있다. In FIG. 9 , the connecting conductor 155 is illustrated as the connecting conductor 155 described with reference to FIGS. 1 to 3 , but in other exemplary embodiments, the connecting conductor 155 is shown in FIG. 4 . The connection conductors 155a, 155b, and 155c described with reference to FIGS. to 6 may be substituted.

도 10은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지(10c)를 나타내는 단면도이다. 도 11은 도 10의 반도체 패키지(10c)를 상방에서 바라본 평면도이다. 앞서 설명된 내용과 중복된 것은 생략하거나 간단히 한다. 10 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package 10c according to exemplary embodiments of the present invention. 11 is a plan view of the semiconductor package 10c of FIG. 10 as viewed from above. Duplicates of the above-described contents are omitted or simplified.

도 10 및 도 11를 참조하면, 반도체 패키지(10)는 패키지 기판(101), 반도체 칩(130), 몰딩층(140), 안테나 구조물(150), 및 외부 도전성 차폐층(161)을 포함할 수 있다. 10 and 11 , the semiconductor package 10 may include a package substrate 101 , a semiconductor chip 130 , a molding layer 140 , an antenna structure 150 , and an external conductive shielding layer 161 . can

안테나 구조물(150)은 패키지 기판(101)의 배선 절연층(110) 내에 형성될 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 안테나 구조물(150)은 배선 패턴(120)의 형성을 위한 재배선 공정 시 함께 형성된 도전성 물질 패턴으로 구성될 수 있다. 본 개시에서 안테나 구조물(150)은 안테나 패턴으로 지칭될 수도 있다. 이 경우, 안테나 구조물(150)은 배선 패턴(120)과 동일한 물질을 포함할 수 있다. 안테나 구조물(150)은 패키지 기판(101)의 배선 패턴(120)을 통해 반도체 칩(130)과 전기적으로 연결될 수 있다.The antenna structure 150 may be formed in the wiring insulating layer 110 of the package substrate 101 . In example embodiments, the antenna structure 150 may be formed of a conductive material pattern formed together during a redistribution process for forming the wiring pattern 120 . In this disclosure, the antenna structure 150 may be referred to as an antenna pattern. In this case, the antenna structure 150 may include the same material as the wiring pattern 120 . The antenna structure 150 may be electrically connected to the semiconductor chip 130 through the wiring pattern 120 of the package substrate 101 .

외부 도전성 차폐층(161)은 반도체 패키지(10c)의 최외곽 부분에 형성될 수 있다. 외부 도전성 차폐층(161)은 외부 환경과 반도체 패키지(10c)에 포함된 반도체 칩(130) 등의 전자 부품 사이의 전자파 간섭을 차폐하는 역할을 수행할 수 있다. 예를 들어, 외부 도전성 차폐층(161)의 일부는 몰딩층(140)의 측면 및 상면을 따라 연장되고, 외부 도전성 차폐층(161)의 다른 일부는 패키지 기판(101)의 측면을 따라 연장될 수 있다.The external conductive shielding layer 161 may be formed on the outermost portion of the semiconductor package 10c. The external conductive shielding layer 161 may serve to shield electromagnetic interference between the external environment and electronic components such as the semiconductor chip 130 included in the semiconductor package 10c. For example, a portion of the external conductive shielding layer 161 may extend along the side and top surfaces of the molding layer 140 , and another part of the external conductive shielding layer 161 may extend along the side surface of the package substrate 101 . can

예시적인 실시예들에서, 반도체 패키지(10c)는 평면적 관점에서, 안테나 구조물(150)이 배치되는 제1 영역(R1)과 상기 제1 영역(R1)과 분리된 제2 영역(R2)을 포함할 수 있다. 외부 도전성 차폐층(161)은 제2 영역(R2)에 배치되되, 안테나 구조물(150)을 이용한 무선 신호의 전송이 차단되지 않도록 제1 영역(R1)에는 배치되지 않을 수 있다. In example embodiments, the semiconductor package 10c includes a first region R1 in which the antenna structure 150 is disposed and a second region R2 separated from the first region R1 in a plan view. can do. The external conductive shielding layer 161 may be disposed in the second region R2 , but may not be disposed in the first region R1 so that transmission of a wireless signal using the antenna structure 150 is not blocked.

예시적인 실시예들에서, 안테나 구조물(150)은 제1 영역(R1) 내에 있는 패키지 기판(101)의 일부분 내에 배치되고, 반도체 칩(130) 등의 전자 부품과 외부 도전성 차폐층(161)은 제2 영역(R2) 내에 배치될 수 있다. In example embodiments, the antenna structure 150 is disposed in a portion of the package substrate 101 in the first region R1 , and electronic components such as the semiconductor chip 130 and the external conductive shielding layer 161 are It may be disposed in the second region R2 .

예시적인 실시예들에서, 외부 도전성 차폐층(161)은 제2 영역(R2) 내에 있는 몰딩층(140)의 일부분의 측면 및 상면을 덮고, 제2 영역(R2) 내에 있는 패키지 기판(101)의 측면의 적어도 일부를 덮을 수 있다. In example embodiments, the external conductive shielding layer 161 covers the side and top surfaces of a portion of the molding layer 140 in the second region R2 , and the package substrate 101 in the second region R2 . may cover at least a portion of the side of the

예시적인 실시예들에서, 외부 도전성 차폐층(161)은 상기 제1 영역(R1) 내에 있는 몰딩층(140)의 상면(149)의 제1 부분이 외부에 노출되도록 몰딩층(140)의 상면(149)의 상기 제2 부분은 덮지 않을 수 있다. 외부 도전성 차폐층(161)은 제2 영역(R2) 내에 있는 몰딩층(140)의 상면(149)의 제2 부분은 덮을 수 있다. In example embodiments, the external conductive shielding layer 161 is a top surface of the molding layer 140 such that a first portion of the top surface 149 of the molding layer 140 in the first region R1 is exposed to the outside. The second portion of (149) may be uncovered. The external conductive shielding layer 161 may cover the second portion of the upper surface 149 of the molding layer 140 in the second region R2 .

예시적인 실시예들에서, 외부 도전성 차폐층(161)은 배선 패턴(120)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 외부 도전성 차폐층(161)은 패키지 기판(101)의 측면을 통해 노출된 배선 패턴(120)의 일 부분에 접하도록 형성될 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 외부 도전성 차폐층(161)은 배선 패턴(120)을 통해 전기적으로 접지될 수 있다. In example embodiments, the external conductive shielding layer 161 may be electrically connected to the wiring pattern 120 . For example, the external conductive shielding layer 161 may be formed to contact a portion of the wiring pattern 120 exposed through the side surface of the package substrate 101 . In example embodiments, the external conductive shielding layer 161 may be electrically grounded through the wiring pattern 120 .

예를 들어, 외부 도전성 차폐층(161)은 구리(Cu), 은(Ag), 백금(Pt) 등의 도전성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 외부 도전성 차폐층(161)은 물리 기상 증착, 화학 기상 증착, 무전해 도금, 전해 도금, 스프레잉 등의 공정을 통해 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. For example, the external conductive shielding layer 161 may include a conductive material such as copper (Cu), silver (Ag), or platinum (Pt). For example, the external conductive shielding layer 161 may be formed through processes such as physical vapor deposition, chemical vapor deposition, electroless plating, electrolytic plating, spraying, etc., but is not limited thereto.

본 발명의 예시적인 실시예들에 의하면, 안테나 구조물(150)이 패키지 기판(101) 내에 형성되므로, 반도체 패키지(10c)를 소형화할 수 있다. According to exemplary embodiments of the present invention, since the antenna structure 150 is formed in the package substrate 101 , the semiconductor package 10c can be miniaturized.

도 12은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지(10d)를 나타내는 단면도이다. 이하에서, 앞서 도 10 및 도 11를 참조하여 설명된 반도체 패키지(10c)와의 차이점을 중심으로, 도 12에 도시된 반도체 패키지(10d)에 대해 설명한다.12 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package 10d according to exemplary embodiments of the present invention. Hereinafter, the semiconductor package 10d shown in FIG. 12 will be described with a focus on differences from the semiconductor package 10c previously described with reference to FIGS. 10 and 11 .

도 12을 참조하면, 반도체 패키지(10d)가 안테나 구조물(150)이 배치된 제1 영역(R1)과 상기 제1 영역(R1)에서 이격된 제2 영역(R2)을 포함할 때, 몰딩층(140)은 반도체 패키지(10d)의 제2 영역(R2)에는 배치되되 반도체 패키지(10d)의 제1 영역(R1)에는 배치되지 않을 수 있다. 몰딩층(140)은 반도체 패키지(10d)의 제2 영역(R2) 내에 있는 패키지 기판(101)의 상면(109)의 일부는 덮도록 형성되되, 반도체 패키지(10c)의 제1 영역(R1) 내에 있는 패키지 기판(101)의 상면(109)의 다른 일부는 덮지 않을 수 있다. 반도체 패키지(10d)의 제1 영역(R1) 내에 있는 패키지 기판(101)의 상면(109)의 상기 다른 일부는 외부에 노출될 수 있다. Referring to FIG. 12 , when the semiconductor package 10d includes a first region R1 in which the antenna structure 150 is disposed and a second region R2 spaced apart from the first region R1, the molding layer Reference numeral 140 may be disposed in the second region R2 of the semiconductor package 10d, but may not be disposed in the first region R1 of the semiconductor package 10d. The molding layer 140 is formed to partially cover the upper surface 109 of the package substrate 101 in the second region R2 of the semiconductor package 10d, and the first region R1 of the semiconductor package 10c. The other portion of the top surface 109 of the package substrate 101 in the interior may not be covered. The other portion of the top surface 109 of the package substrate 101 in the first region R1 of the semiconductor package 10d may be exposed to the outside.

본 발명의 예시적인 실시예들에 의하면, 안테나 구조물(150)이 제공된 반도체 패키지(10d)의 제1 영역(R1)에는 몰딩층(140)이 형성되지 않으므로, 안테나 구조물(150)을 이용한 신호 전송 효율이 향상되고 반도체 패키지(10d)의 사이즈가 감소될 수 있다. According to exemplary embodiments of the present invention, since the molding layer 140 is not formed in the first region R1 of the semiconductor package 10d provided with the antenna structure 150 , signal transmission using the antenna structure 150 . Efficiency may be improved and the size of the semiconductor package 10d may be reduced.

도 13은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지(10e)를 나타내는 단면도이다. 이하에서, 앞서 도 10 및 도 11를 참조하여 설명된 반도체 패키지(10c)와의 차이점을 중심으로, 도 13에 도시된 반도체 패키지(10e)에 대해 설명한다.13 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package 10e according to exemplary embodiments of the present invention. Hereinafter, the semiconductor package 10e shown in FIG. 13 will be described with a focus on differences from the semiconductor package 10c described with reference to FIGS. 10 and 11 .

도 13을 참조하면, 반도체 패키지(10e)는 몰딩층(140)의 상면(149) 상에 제공된 워피지 조절용 커버 절연층(166)을 포함할 수 있다. 커버 절연층(166)은 몰딩층(140)의 상면(149)에 접촉하고, 몰딩층(140)의 상면(149)을 따라 연장될 수 있다. 외부 도전성 차폐층(161)은 커버 절연층(166) 상에 제공되며, 커버 절연층(166)의 표면을 따라 연장될 수 있다. 상기 커버 절연층(166)은 반도체 패키지(10e)를 구성하는 부재들 간의 열팽창 계수의 불일치에 기인하여 발생하는 워피지를 줄일 수 있다. Referring to FIG. 13 , the semiconductor package 10e may include a cover insulating layer 166 for adjusting warpage provided on the upper surface 149 of the molding layer 140 . The cover insulating layer 166 may contact the upper surface 149 of the molding layer 140 and extend along the upper surface 149 of the molding layer 140 . The external conductive shielding layer 161 is provided on the cover insulating layer 166 and may extend along the surface of the cover insulating layer 166 . The cover insulating layer 166 may reduce warpage generated due to mismatch of thermal expansion coefficients between members constituting the semiconductor package 10e.

예시적인 실시예들에서, 커버 절연층(166)은 폴리이미드를 포함할 수 있다. In example embodiments, the cover insulating layer 166 may include polyimide.

예시적인 실시예들에서, 커버 절연층(166)의 두께는 10 마이크로미터 내지 15 마이크로미터 사이일 수 있다.In example embodiments, the thickness of the cover insulating layer 166 may be between 10 micrometers and 15 micrometers.

커버 절연층(166)은 몰딩층(140)의 상면(149)의 적어도 일부를 덮을 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 커버 절연층(166)은 몰딩층(140)의 상면(149)을 전체적으로 덮을 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 커버 절연층(166)은 몰딩층(140)의 상면(149)을 부분적으로 덮을 수도 있다.The cover insulating layer 166 may cover at least a portion of the upper surface 149 of the molding layer 140 . In example embodiments, the cover insulating layer 166 may entirely cover the upper surface 149 of the molding layer 140 . In example embodiments, the cover insulating layer 166 may partially cover the upper surface 149 of the molding layer 140 .

도 14a는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지(10f)를 나타내는 단면도이다. 도 14b는 도 14a의 B1-B1'선에 따른 단면도이다. 이하에서, 앞서 설명된 내용과 중복된 것은 생략하거나 간단히 한다. 14A is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package 10f according to exemplary embodiments of the present invention. 14B is a cross-sectional view taken along line B1-B1' of FIG. 14A. In the following, duplicates of those described above will be omitted or simplified.

도 14a 및 도 14b를 참조하면, 안테나 구조물(150a)은 패키지 기판(101)의 상면(109) 상에 배치되며 몰딩층(140) 내에서 수직 방향(Z방향)으로 연장될 수 있다. 예를 들어, 안테나 구조물(150a)은 반도체 칩(130)의 측면과 반도체 패키지(10f)의 측면을 구성하는 몰딩층(140)의 측면 사이에 배치되며, 주로 반도체 패키지(10f)의 측면을 통해 무선 신호를 송수신하도록 구성될 수 있다. 안테나 구조물(150a)은 배선 패턴(120)을 통해 각각 반도체 칩(130)에 전기적으로 연결될 수 있다.14A and 14B , the antenna structure 150a is disposed on the upper surface 109 of the package substrate 101 and may extend in the vertical direction (Z direction) within the molding layer 140 . For example, the antenna structure 150a is disposed between the side surface of the semiconductor chip 130 and the side surface of the molding layer 140 constituting the side surface of the semiconductor package 10f, and mainly through the side surface of the semiconductor package 10f. It may be configured to transmit and receive wireless signals. Each of the antenna structures 150a may be electrically connected to the semiconductor chip 130 through the wiring pattern 120 .

안테나 구조물(150a)은 몰딩층(140) 내에서 연장된 도전성 물질 패턴으로 구성될 수 있다. 본 개시에서 안테나 구조물(150a)은 안테나 패턴으로 지칭될 수도 있다. 안테나 구조물(150a)은 몰딩층(140)을 수직 방향(Z방향)으로 완전히 관통하는 형태이거나, 몰딩층(140)을 수직 방향(Z방향)으로 부분적으로 관통하는 형태일 수도 있다. 예를 들어, 안테나 구조물(150a) 패키지 기판(101)의 상면(109)으로부터 몰딩층(140)의 상면(149)으로부터 일정 거리 이격된 지점까지만 수직 방향(Z방향)으로 연장될 수 있다. 안테나 구조물(150a)은 배선 패턴(120)에 연결될 수 있고, 배선 패턴(120)을 통해 반도체 칩(130)에 전기적으로 연결될 수 있다. The antenna structure 150a may be formed of a conductive material pattern extending in the molding layer 140 . In this disclosure, the antenna structure 150a may be referred to as an antenna pattern. The antenna structure 150a may have a form that completely penetrates the molding layer 140 in the vertical direction (Z direction) or partially penetrates the molding layer 140 in the vertical direction (Z direction). For example, the antenna structure 150a may extend from the top surface 109 of the package substrate 101 to a point spaced apart from the top surface 149 of the molding layer 140 by a predetermined distance in the vertical direction (Z direction). The antenna structure 150a may be connected to the wiring pattern 120 , and may be electrically connected to the semiconductor chip 130 through the wiring pattern 120 .

예시적인 실시예들에서, 안테나 구조물(150a)의 수직 높이는 반도체 칩(130)의 수직 높이보다 클 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 안테나 구조물(150a)의 수직 높이는 몰딩층(140)의 수직 높이의 50% 내지 100% 사이일 수 있다. In example embodiments, a vertical height of the antenna structure 150a may be greater than a vertical height of the semiconductor chip 130 . In example embodiments, the vertical height of the antenna structure 150a may be between 50% and 100% of the vertical height of the molding layer 140 .

예시적인 실시예들에서, 안테나 구조물(150a)은 몰딩층(140)의 측면들을 따라 연장될 수 있다. 안테나 구조물(150a)은 내부 도전성 차폐층(165)과 몰딩층(140)의 외측면 사이에 배치될 수 있다. 평면적 관점에서, 안테나 구조물(150a)은 몰딩층(140)의 외측면을 따라 연장될 수 있다. In example embodiments, the antenna structure 150a may extend along sides of the molding layer 140 . The antenna structure 150a may be disposed between the inner conductive shielding layer 165 and the outer surface of the molding layer 140 . In a plan view, the antenna structure 150a may extend along the outer surface of the molding layer 140 .

예시적인 실시예들에서, 안테나 구조물(150a)은 평면적 관점에서 불연속적으로 연장된 사각형 링 형태일 수 있다. 예를 들어, 안테나 구조물(150a)은 4개의 측벽을 포함하며, 안테나 구조물(150a)의 4개의 측벽부를 각각 인접한 몰딩층(140)의 외측면과 대체로 평행할 수 있다. 예를 들어, 몰딩층(140)이 4개의 외측면을 가질 때, 안테나 구조물(150a)은 몰딩층(140)의 제1 외측면과 평행하게 연장된 제1 측벽부, 몰딩층(140)의 제2 외측면과 평행하게 연장된 제2 측벽부, 몰딩층(140)의 제3 외측면과 평행하게 연장된 제3 측벽부, 몰딩층(140)의 제4 외측면과 평행하게 연장된 제4 측벽부을 포함할 수 있다. In example embodiments, the antenna structure 150a may be in the form of a rectangular ring extending discontinuously in a plan view. For example, the antenna structure 150a may include four sidewalls, and each of the four sidewalls of the antenna structure 150a may be substantially parallel to an outer surface of the adjacent molding layer 140 . For example, when the molding layer 140 has four outer surfaces, the antenna structure 150a includes a first sidewall portion extending parallel to the first outer surface of the molding layer 140 and the molding layer 140 . The second sidewall portion extending parallel to the second outer surface, the third sidewall portion extending parallel to the third outer surface of the molding layer 140 , and the third sidewall portion extending parallel to the fourth outer surface of the molding layer 140 . 4 may include a sidewall portion.

반도체 패키지(10f)는 몰딩층(140) 내에서 수직 방향(Z방향)으로 연장된 내부 도전성 차폐층(165)을 포함할 수 있다. 내부 도전성 차폐층(165)은 평면적 관점에서 반도체 칩(130) 등의 전자 부품과 안테나 구조물(150a) 사이에 배치되며, 반도체 칩(130) 등의 전자 부품을 둘러싸도록 연장된 링 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 내부 도전성 차폐층(165)은 평면적 관점에서 반도체 칩(130)의 측면을 둘러싸는 링 형태를 가질 수 있고, 안테나 구조물(150a)은 평면적 관점에서 내부 도전성 차폐층(165)을 둘러싸는 링 형태를 가질 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 내부 도전성 차폐층(165)은 평면적 관점에서 사각형 링 형태를 가질 수 있다. The semiconductor package 10f may include an internal conductive shielding layer 165 extending in the vertical direction (Z direction) within the molding layer 140 . The internal conductive shielding layer 165 is disposed between the electronic component such as the semiconductor chip 130 and the antenna structure 150a in a plan view, and may have a ring shape extending to surround the electronic component such as the semiconductor chip 130 . have. For example, the inner conductive shielding layer 165 may have a ring shape surrounding the side surface of the semiconductor chip 130 in a plan view, and the antenna structure 150a surrounds the inner conductive shielding layer 165 in a plan view. may have a ring shape. In example embodiments, the inner conductive shielding layer 165 may have a rectangular ring shape in a plan view.

내부 도전성 차폐층(165)은 패키지 기판(101)의 상면(109) 상에 배치되며 몰딩층(140) 내에서 수직 방향(Z방향)으로 연장될 수 있다. 내부 도전성 차폐층(165)은 몰딩층(140)을 수직 방향(Z방향)으로 완전히 관통하는 형태이거나, 몰딩층(140)을 부분적으로 관통하는 형태일 수도 있다. The internal conductive shielding layer 165 is disposed on the upper surface 109 of the package substrate 101 and may extend in the vertical direction (Z direction) within the molding layer 140 . The internal conductive shielding layer 165 may completely penetrate the molding layer 140 in the vertical direction (Z direction) or may partially penetrate the molding layer 140 .

예를 들어, 내부 도전성 차폐층(165)은 구리(Cu), 알루미늄(Al)과 같은 도전성 물질을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 내부 도전성 차폐층(165)의 소재 및 안테나 구조물(150a)의 소재는 동일할 수 있다. For example, the internal conductive shielding layer 165 may include a conductive material such as copper (Cu) or aluminum (Al). In example embodiments, the material of the internal conductive shielding layer 165 and the material of the antenna structure 150a may be the same.

예시적인 실시예들에서, 내부 도전성 차폐층(165)의 수직 높이는 반도체 칩(130)의 수직 높이보다 클 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 내부 도전성 차폐층(165)의 수직 높이는 몰딩층(140)의 높이의 50% 내지 100% 사이일 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 내부 도전성 차폐층(165)의 수직 높이는 안테나 구조물(150a)의 수직 높이와 같거나 보다 클 수 있다. In example embodiments, a vertical height of the internal conductive shielding layer 165 may be greater than a vertical height of the semiconductor chip 130 . In example embodiments, the vertical height of the inner conductive shielding layer 165 may be between 50% and 100% of the height of the molding layer 140 . In example embodiments, the vertical height of the inner conductive shielding layer 165 may be greater than or equal to the vertical height of the antenna structure 150a.

예시적인 실시예들에서, 내부 도전성 차폐층(165)은 전기적으로 접지될 수 있다. 예를 들어, 내부 도전성 차폐층(165)은 전기적으로 접지된 배선 패턴(120)의 일부에 연결되어 전기적으로 접지될 수 있다. In example embodiments, the inner conductive shielding layer 165 may be electrically grounded. For example, the internal conductive shielding layer 165 may be electrically grounded by being connected to a portion of the electrically grounded wiring pattern 120 .

내부 도전성 차폐층(165)은 반도체 패키지(10f)에 포함된 전자 부품과 안테나 구조물(150a) 사이의 전자파 간섭을 방지할 수 있다. 또한, 내부 도전성 차폐층(165)은 안테나 구조물(150a)에서 방사된 무선 신호 또는 안테나 구조물(150a)로 수신될 무선 신호를 반사함으로써, 안테나 구조물(150a)의 이득(gain)을 향상시킬 수 있다.The internal conductive shielding layer 165 may prevent electromagnetic interference between the electronic component included in the semiconductor package 10f and the antenna structure 150a. In addition, the internal conductive shielding layer 165 may improve the gain of the antenna structure 150a by reflecting a radio signal radiated from the antenna structure 150a or a radio signal to be received by the antenna structure 150a. .

도 15a는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지(10g)를 나타내는 단면도이다. 도 15b는 도 15a의 B2-B2'선에 따른 단면도이다. 이하에서, 앞서 설명된 내용과 중복된 것은 생략하거나 간단히 한다. 15A is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package 10g according to exemplary embodiments of the present invention. 15B is a cross-sectional view taken along line B2-B2' of FIG. 15A. In the following, duplicates of those described above will be omitted or simplified.

도 15a 및 도 15b에 도시된 반도체 패키지(10g)는 내부 도전성 차폐층(165)의 구조를 제외하고는 도 14a 및 도 14b를 참조하여 설명된 반도체 패키지(10f)와 실질적으로 동일하거나 유사할 수 있다. 이하에서, 도 14a 및 도 14b을 참조하여 설명된 반도체 패키지(10f)와의 차이점을 중심으로 도 15a 및 도 15b에 도시된 반도체 패키지(10g)를 설명한다.The semiconductor package 10g shown in FIGS. 15A and 15B may be substantially the same as or similar to the semiconductor package 10f described with reference to FIGS. 14A and 14B except for the structure of the internal conductive shielding layer 165 . have. Hereinafter, the semiconductor package 10g shown in FIGS. 15A and 15B will be described with a focus on differences from the semiconductor package 10f described with reference to FIGS. 14A and 14B .

도 15a 및 도 15b를 참조하면, 내부 도전성 차폐층(165a)은 커버부(1651)와 측벽부(1653)를 포함할 수 있다. 커버부(1651)는 반도체 칩(130)의 상면을 덮을 수 있으며, 대체로 수평 방향(예들 들어, X방향 및/또는 Y방향)으로 연장될 수 있다. 커버부(1651)는 반도체 칩(130) 등의 전자 부품을 덮는 평면적을 가지는 플레이트 형태를 가질 수 있다. 측벽부(1653)는 평면적 관점에서 반도체 칩(130)의 측면을 포위하는 링 형태일 수 있다. 측벽부(1653)는 평면적 관점에서 반도체 칩(130)의 측면을 포위하는 링 형태이고, 안테나 구조물(150a)은 평면적 관점에서 측벽부(1653)를 포위하는 링 형태일 수 있다. 측벽부(1653)는 평면적 관점에서 커버부(1651)의 가장자리를 따라 연속적으로 연장될 수 있다. 측벽부(1653)는 커버부(1651)의 가장자리로부터 패키지 기판(101)의 상면(109)까지 수직 방향(Z방향)으로 연장될 수 있다. 15A and 15B , the internal conductive shielding layer 165a may include a cover part 1651 and a sidewall part 1653 . The cover part 1651 may cover the upper surface of the semiconductor chip 130 and may extend in a generally horizontal direction (eg, an X-direction and/or a Y-direction). The cover part 1651 may have a plate shape having a planar area covering electronic components such as the semiconductor chip 130 . The sidewall portion 1653 may have a ring shape surrounding the side surface of the semiconductor chip 130 in a plan view. The sidewall part 1653 may have a ring shape surrounding the side surface of the semiconductor chip 130 in a plan view, and the antenna structure 150a may have a ring shape surrounding the sidewall part 1653 in a plan view. The side wall portion 1653 may continuously extend along the edge of the cover portion 1651 in a plan view. The sidewall part 1653 may extend from the edge of the cover part 1651 to the upper surface 109 of the package substrate 101 in the vertical direction (Z direction).

예시적인 실시예들에서, 몰딩층(140a)은 내부 도전성 차폐층(165a)의 안쪽에 있는 내부 몰딩층(141)과, 내부 도전성 차폐층(165a)의 바깥쪽에 있는 외부 몰딩층(143)을 포함할 수 있다. 내부 몰딩층(141)과 외부 몰딩층(143)은 내부 도전성 차폐층(165a)에 의해 구획되고 분리될 수 있다. 일부 예시적인 실시예들에서, 몰딩층(140a)은 내부 몰딩층(141) 형성을 위한 제1 몰딩 공정과, 외부 몰딩층(143) 형성을 위한 제2 몰딩 공정을 통해 형성될 수 있다. 좀 더 구체적으로, 반도체 패키지(10g)를 형성하기 위해, 패키지 기판(101) 상에 반도체 칩(130) 등의 전자 부품을 실장하는 단계, 내부 몰딩층(141) 형성을 위한 제1 몰딩 공정 단계, 안테나 구조물(150a)을 형성하는 단계, 내부 몰딩층(141) 및 안테나 구조물(150a)을 덮는 외부 몰딩층(143)을 형성하는 단계가 차례로 수행될 수 있다. In exemplary embodiments, the molding layer 140a is formed by forming the inner molding layer 141 on the inside of the inner conductive shielding layer 165a and the outer molding layer 143 on the outside of the inner conductive shielding layer 165a. may include The inner molding layer 141 and the outer molding layer 143 may be partitioned and separated by the inner conductive shielding layer 165a. In some example embodiments, the molding layer 140a may be formed through a first molding process for forming the inner molding layer 141 and a second molding process for forming the outer molding layer 143 . More specifically, to form the semiconductor package 10g, a step of mounting an electronic component such as a semiconductor chip 130 on the package substrate 101, a first molding process step for forming the inner molding layer 141 , forming the antenna structure 150a, forming the inner molding layer 141 and the outer molding layer 143 covering the antenna structure 150a may be sequentially performed.

이상에서와 같이 도면과 명세서에서 예시적인 실시예들이 개시되었다. 본 명세서에서 특정한 용어를 사용하여 실시예들을 설명되었으나, 이는 단지 본 개시의 기술적 사상을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 청구범위에 기재된 본 개시의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 개시의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Exemplary embodiments have been disclosed in the drawings and specification as described above. Although the embodiments have been described using specific terms in the present specification, these are used only for the purpose of explaining the technical spirit of the present disclosure, and not used to limit the meaning or the scope of the present disclosure described in the claims. Therefore, it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Accordingly, the true technical protection scope of the present disclosure should be defined by the technical spirit of the appended claims.

10: 반도체 패키지 101: 패키지 기판
130: 반도체 칩 140: 몰딩층
210: 안테나 구조물
10: semiconductor package 101: package substrate
130: semiconductor chip 140: molding layer
210: antenna structure

Claims (15)

배선 패턴을 포함하는 패키지 기판;
상기 패키지 기판 상의 반도체 칩;
상기 반도체 칩을 덮도록 상기 패키지 기판 상에 배치된 몰딩층;
상기 몰딩층을 관통하여 상기 몰딩층의 하면으로부터 상면까지 연장되고, 상기 패키지 기판의 상기 배선 패턴에 전기적으로 연결되고, 제1 금속을 포함하는 연결 도전체;
상기 몰딩층 상의 안테나 구조물;
상기 연결 도전체와 상기 안테나 구조물의 연결 패드 사이에 배치되어 상기 연결 도전체와 상기 안테나 구조물의 상기 연결 패드 사이를 전기적으로 연결하고, 상기 제1 금속과 상이한 제2 금속을 포함하는 도전성 연결 단자; 및
상기 연결 도전체와 상기 도전성 연결 단자 사이에 배치되고, 상기 도전성 연결 단자와 마주하는 상기 연결 도전체의 표면을 따라 연장되고, 상기 제1 금속 및 상기 제2 금속을 포함하는 도전성 계면층;
을 포함하고,
상기 안테나 구조물은 상기 몰딩층으로 이격되어, 상기 안테나 구조물과 상기 몰딩층 사이에는 갭이 형성된 반도체 패키지.
a package substrate including a wiring pattern;
a semiconductor chip on the package substrate;
a molding layer disposed on the package substrate to cover the semiconductor chip;
a connection conductor penetrating the molding layer, extending from a lower surface to an upper surface of the molding layer, electrically connected to the wiring pattern of the package substrate, and including a first metal;
an antenna structure on the molding layer;
a conductive connection terminal disposed between the connection conductor and the connection pad of the antenna structure to electrically connect the connection conductor and the connection pad of the antenna structure, the conductive connection terminal including a second metal different from the first metal; and
a conductive interface layer disposed between the connection conductor and the conductive connection terminal, the conductive interface layer extending along a surface of the connection conductor facing the conductive connection terminal, and including the first metal and the second metal;
including,
The antenna structure is spaced apart by the molding layer, and a gap is formed between the antenna structure and the molding layer.
제 1 항에 있어서,
상기 제1 금속은 솔더이고, 상기 제2 금속은 구리인 반도체 패키지.
The method of claim 1,
The first metal is solder and the second metal is copper.
제 1 항에 있어서,
상기 도전성 연결 단자의 하부는 연결 도전체에 매립되고, 상기 몰딩층의 상기 상면으로부터 상기 몰딩층의 상기 하면을 향해 연장된 반도체 패키지.
The method of claim 1,
A lower portion of the conductive connection terminal is buried in a connection conductor, and the semiconductor package extends from the top surface of the molding layer toward the bottom surface of the molding layer.
제 1 항에 있어서,
상기 연결 도전체의 수직 높이 및 최대 수평 폭은 상기 반도체 칩의 수직 높이보다 크고,
상기 연결 도전체의 수직 높이는 300 마이크로미터 내지 1400 마이크로미터 사이인 반도체 패키지.
The method of claim 1,
A vertical height and a maximum horizontal width of the connecting conductor are greater than a vertical height of the semiconductor chip,
The vertical height of the connecting conductor is between 300 micrometers and 1400 micrometers.
제 1 항에 있어서,
상기 몰딩층의 상기 상면과 상기 안테나 구조물 사이의 거리는 4 마이크로미터 내지 25 마이크로미터 사이인 반도체 패키지.
The method of claim 1,
A distance between the upper surface of the molding layer and the antenna structure is between 4 micrometers and 25 micrometers.
제 1 항에 있어서,
상기 연결 도전체는 외측으로 볼록한 형태의 측벽을 가지고,
상기 연결 도전체의 하부의 수평 폭은 상기 패키지 기판에 인접할수록 작아지고,
상기 연결 도전체의 상부의 수평 폭은 상기 몰딩층의 상기 상면에 인접할수록 작아지는 반도체 패키지.
The method of claim 1,
The connecting conductor has an outwardly convex sidewall,
The horizontal width of the lower portion of the connecting conductor becomes smaller as it approaches the package substrate,
The horizontal width of the upper portion of the connecting conductor becomes smaller as it approaches the upper surface of the molding layer.
제 1 항에 있어서,
상기 연결 도전체는
제1 도전 물질을 포함하는 코어부; 및
상기 제1 도전 물질과 상이한 제2 도전 물질을 포함하고, 상기 코어부를 감싸는 쉘부;
를 포함하는 반도체 패키지.
The method of claim 1,
The connecting conductor is
a core portion including a first conductive material; and
a shell part including a second conductive material different from the first conductive material and surrounding the core part;
A semiconductor package comprising a.
제 1 항에 있어서,
상기 연결 도전체는 그 측벽이 직선 형태를 가지는 기둥 형태이고, 솔더를 포함하는 반도체 패키지.
The method of claim 1,
The connecting conductor has a pillar shape having a straight sidewall, and a semiconductor package including solder.
제 1 항에 있어서,
상기 몰딩층의 상기 상면과 마주하는 상기 안테나 구조물의 하면은 서로 반대된 제1 가장자리와 제2 가장자리를 포함하고,
상기 안테나 구조물의 상기 하면의 상기 제1 가장자리와 상기 몰딩층의 상기 상면 사이의 거리와 상기 안테나 구조물의 상기 하면의 상기 제2 가장자리와 상기 몰딩층의 상기 상면 사이의 거리 사이의 비율은 80% 내지 110% 사이인 반도체 패키지.
The method of claim 1,
A lower surface of the antenna structure facing the upper surface of the molding layer includes a first edge and a second edge opposite to each other,
The ratio between the distance between the first edge of the lower surface of the antenna structure and the upper surface of the molding layer and the distance between the second edge of the lower surface of the antenna structure and the upper surface of the molding layer is 80% to A semiconductor package that is between 110%.
서로 분리된 제1 영역 및 제2 영역을 포함하는 반도체 패키지로서,
배선 패턴 및 상기 제1 영역 내에 있는 안테나 패턴을 포함하는 패키지 기판;
상기 패키지 기판 상의 반도체 칩;
상기 반도체 칩을 덮도록 상기 패키지 기판 상에 배치된 몰딩층; 및
상기 몰딩층을 부분적으로 덮는 외부 도전성 차폐층;
을 포함하고,
상기 외부 도전성 차폐층은 상기 제2 영역 내에 제공되되, 상기 제1 영역으로부터 이격된 반도체 패키지.
A semiconductor package comprising a first region and a second region separated from each other, the semiconductor package comprising:
a package substrate including a wiring pattern and an antenna pattern in the first region;
a semiconductor chip on the package substrate;
a molding layer disposed on the package substrate to cover the semiconductor chip; and
an external conductive shielding layer partially covering the molding layer;
including,
The external conductive shielding layer is provided in the second region, the semiconductor package spaced apart from the first region.
제 10 항에 있어서,
상기 몰딩층은 상기 패키지 기판의 상면을 전체적으로 덮고,
상기 외부 도전성 차폐층은,
상기 제2 영역 내에 있는 상기 몰딩층의 상면의 일부는 덮고,
상기 제1 영역 내에 있는 상기 몰딩층의 상기 상면의 다른 일부는 외부에 노출되도록 상기 몰딩층의 상기 상면의 상기 다른 일부는 덮지 않는 반도체 패키지.
11. The method of claim 10,
The molding layer entirely covers the upper surface of the package substrate,
The external conductive shielding layer,
a portion of the upper surface of the molding layer in the second region is covered;
The semiconductor package does not cover the other portion of the upper surface of the molding layer so that another portion of the upper surface of the molding layer in the first region is exposed to the outside.
제 10 항에 있어서,
상기 몰딩층은,
상기 제2 영역 내에 있는 상기 패키지 기판의 상면의 일부는 덮고,
상기 제1 영역 내에 있는 상기 패키지 기판의 상기 상면의 다른 일부는 외부에 노출되도록 상기 패키지 기판의 상기 상면의 상기 다른 일부는 덮지 않는 반도체 패키지.
11. The method of claim 10,
The molding layer is
a portion of the upper surface of the package substrate in the second region is covered;
The semiconductor package does not cover the other portion of the upper surface of the package substrate so that another portion of the upper surface of the package substrate in the first region is exposed to the outside.
제 10 항에 있어서,
상기 몰딩층의 상면에 접촉되고, 상기 몰딩층의 상기 상면을 적어도 부분적으로 덮는 커버 절연층을 더 포함하고,
상기 커버 절연층은 폴리이미드를 포함하는 반도체 패키지.
11. The method of claim 10,
Further comprising a cover insulating layer in contact with the upper surface of the molding layer and at least partially covering the upper surface of the molding layer,
The cover insulating layer is a semiconductor package including polyimide.
배선 패턴을 포함하는 패키지 기판;
상기 패키지 기판 상의 반도체 칩;
상기 반도체 칩을 덮도록 상기 패키지 기판 상에 배치된 몰딩층;
상기 몰딩층 내에서 수직 방향으로 연장되고, 상기 반도체 칩의 측면을 둘러싸는 내부 도전성 차폐층; 및
상기 몰딩층 내에서 상기 수직 방향으로 연장되고, 상기 내부 도전성 차폐층과 상기 몰딩층의 외측면 사이에 배치되고, 상기 배선 패턴을 통해 상기 반도체 칩에 전기적으로 연결된 안테나 패턴;
을 포함하는 반도체 패키지.
a package substrate including a wiring pattern;
a semiconductor chip on the package substrate;
a molding layer disposed on the package substrate to cover the semiconductor chip;
an internal conductive shielding layer extending in a vertical direction in the molding layer and enclosing a side surface of the semiconductor chip; and
an antenna pattern extending in the vertical direction within the molding layer, disposed between the inner conductive shielding layer and an outer surface of the molding layer, and electrically connected to the semiconductor chip through the wiring pattern;
A semiconductor package comprising a.
제 14 항에 있어서,
상기 내부 도전성 차폐층은,
상기 반도체 칩의 상면을 덮는 커버부; 및
상기 반도체 칩의 상기 측면을 둘러싸도록 연장되고, 상기 커버부의 가장자리로부터 상기 패키지 기판을 향해 연장된 측벽부;
를 포함하는 반도체 패키지.
15. The method of claim 14,
The internal conductive shielding layer,
a cover part covering an upper surface of the semiconductor chip; and
a sidewall portion extending to surround the side surface of the semiconductor chip and extending from an edge of the cover portion toward the package substrate;
A semiconductor package comprising a.
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