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KR20200145812A - Electromagnetic shielding sheet, printed circuit board having electromagnetic shielding structure - Google Patents

Electromagnetic shielding sheet, printed circuit board having electromagnetic shielding structure Download PDF

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Publication number
KR20200145812A
KR20200145812A KR1020200181887A KR20200181887A KR20200145812A KR 20200145812 A KR20200145812 A KR 20200145812A KR 1020200181887 A KR1020200181887 A KR 1020200181887A KR 20200181887 A KR20200181887 A KR 20200181887A KR 20200145812 A KR20200145812 A KR 20200145812A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electromagnetic wave
wave shielding
layer
conductive adhesive
shielding sheet
Prior art date
Application number
KR1020200181887A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
다이스케 키시
쇼타 모리
Original Assignee
토요잉크Sc홀딩스주식회사
토요켐주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 토요잉크Sc홀딩스주식회사, 토요켐주식회사 filed Critical 토요잉크Sc홀딩스주식회사
Publication of KR20200145812A publication Critical patent/KR20200145812A/en

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Abstract

The present invention provides an electromagnetic wave shielding sheet which has reflow soldering resistance, reduces transmission loss even when used in a high-frequency transmission circuit to exhibit excellent high-frequency shielding properties, and has high connection reliability after exposure to a cold/heat cycle, and an electromagnetic wave shielding wiring circuit board. The problem is solved through the electromagnetic wave shielding sheet. The electromagnetic wave shielding sheet includes a conductive adhesive layer, a metal layer, and a protective layer, a root-mean-square slope (Sdq) of a surface of the metal layer in contact with the conductive adhesive layer as determined in accordance with ISO 25178-2:2012 is 0.0001-0.5, and the metal layer has a plurality of openings and an aperture ratio of 0.10%-20%.

Description

전자파 차폐 시트, 및 전자파 차폐성 배선 회로 기판{ELECTROMAGNETIC SHIELDING SHEET, PRINTED CIRCUIT BOARD HAVING ELECTROMAGNETIC SHIELDING STRUCTURE}Electromagnetic shielding sheet, and electromagnetic shielding wiring circuit board {ELECTROMAGNETIC SHIELDING SHEET, PRINTED CIRCUIT BOARD HAVING ELECTROMAGNETIC SHIELDING STRUCTURE}

본 발명은, 전자파 차폐(SHIELD) 시트, 및 전자파 차폐성 배선 회로 기판에 관한 것으로, 예를 들면, 전자파를 방출하는 부품의 일부에 접합해서 이용하는 데 적합한 전자파 차폐 시트, 및 전자파 차폐 시트를 이용한 전자파 차폐성 배선 회로 기판에 관한 것이다.The present invention relates to an electromagnetic wave shielding (SHIELD) sheet, and an electromagnetic wave shielding wiring circuit board, for example, an electromagnetic wave shielding sheet suitable for bonding to a part of a component emitting electromagnetic waves, and an electromagnetic wave shielding property using an electromagnetic wave shielding sheet It relates to a wiring circuit board.

휴대폰, PC, 서버 등을 비롯한 각종 전자 기기에는, 프린트 배선판 등의 배선 회로 기판이 내장되어 있다. 이러한 배선 회로 기판에는, 외부로부터의 자장(磁場)이나 전파에 의한 오동작을 방지하기 위해서, 또 전기 신호로부터의 불필요한 복사(輻射)를 줄이기 위해서, 전자파 차폐 구조가 설치되어 있다.In various electronic devices such as mobile phones, PCs, servers, etc., wiring circuit boards such as printed wiring boards are incorporated. Such a wiring circuit board is provided with an electromagnetic wave shielding structure to prevent malfunction due to external magnetic fields or radio waves, and to reduce unnecessary radiation from electric signals.

전송 신호의 고속 전송화에 따라서, 전자파 차폐 시트도 고주파 노이즈에 대응하는 전자파 차폐성(이하, 고주파 차폐성이라 할 수 있다), 및 고주파 영역에서의 전송 손실의 저감(이하, 전송 특성의 향상이라 할 수 있다)이 요구되고 있다. 특허문헌 1에서는, 두께가 0.5~12μm의 금속층과 이방 도전 접착제층을 적층 상태로 갖춘 구성이 개시되어 있다. 그리고, 해당 구성에 의해 전자파 차폐 시트의 한쪽 면 측에서 다른 쪽 면 측으로 진행하는 전계파, 자계파, 및 전자파를 양호하게 차폐하면서 동시에 전송 손실을 줄이는 것이 기재되어 있다.In accordance with the high-speed transmission of the transmission signal, the electromagnetic wave shielding sheet also has electromagnetic wave shielding properties corresponding to high-frequency noise (hereinafter, referred to as high-frequency shielding properties), and reduction of transmission loss in the high-frequency region (hereinafter, improved transmission characteristics). There is) is required. In Patent Document 1, a configuration comprising a metal layer having a thickness of 0.5 to 12 μm and an anisotropic conductive adhesive layer in a laminated state is disclosed. Further, it is described that, by the configuration, electric field waves, magnetic field waves, and electromagnetic waves traveling from one side of the electromagnetic wave shielding sheet to the other side are satisfactorily shielded while reducing transmission loss at the same time.

국제공개공보 제2013/077108호International Publication No. 2013/077108 일본 특허공개공보 제2013-168643호Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2013-168643

최근, 휴대 전화로 대표되는 전자 기기에 있어서는, 전송 신호의 고속 전송 화에 따라 그것들에 내장된 배선 회로 기판 상의 전자파 차폐 시트도 고주파 차폐성, 및 전송 특성이 요구되고 있다. 이 때문에 전자파 차폐 시트의 도전층에는 특허문헌 1에서 기재되는 바와 같이 두께가 0.5~12μm인 금속층을 이용하는 것이 바람직한 것으로 되어 왔다.BACKGROUND ART In recent years, in electronic devices typified by mobile phones, high-frequency shielding properties and transmission characteristics are also required for electromagnetic wave shielding sheets on wiring circuit boards incorporated therein in accordance with high speed transmission of transmission signals. For this reason, it has become preferable to use a metal layer having a thickness of 0.5 to 12 μm as described in Patent Document 1 for the conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet.

그러나, 단순히 두께가 0.5~12μm인 금속층을 이용하는 것만으로는, 고주파 대역에서 전자파 차폐 시트는 충분한 전송 특성을 발현할 수 없고, 보다 우수한 전송 특성을 전자파 차폐 시트가 갖게 하기 위해서는 금속층에 대해서 한층 더한 연구를 할 것이 요구되어 왔다.However, by simply using a metal layer with a thickness of 0.5 to 12 μm, the electromagnetic wave shielding sheet cannot express sufficient transmission characteristics in the high frequency band, and further research on the metal layer to give the electromagnetic wave shielding sheet more excellent transmission characteristics. Has been required to do.

또한, 금속층을 이용한 전자파 차폐 시트를 배선 회로 기판에 첩부(貼付)한 전자파 차폐성 배선 회로 기판은, 납땜 리플로우 등의 가열 처리를 행했을 때에, 배선 회로 기판의 내부에서 발생하는 휘발성 성분에 의해 층간에서 들뜸이 발생하여, 발포 등에 의해 외관 불량 및 접속 불량이 되는 문제가 있었다. 이 납땜 리플로우에 대한 내성(이하, 납땜 리플로우 내성이라 할 수 있다)의 문제에 대해서, 예를 들면 특허문헌 2에서는, 금속 박막층에 핀홀을 복수 갖는 금속박을 이용하여 휘발 성분을 금속 박막층의 핀 홀에서 투과시킴으로써 층간에서의 들뜸이나 발포를 억제한다. In addition, the electromagnetic wave shielding wiring circuit board in which the electromagnetic wave shielding sheet using a metal layer is affixed to the wiring circuit board is interlayered by volatile components generated inside the wiring circuit board when heat treatment such as solder reflow is performed. There is a problem in that lift occurs in the device, resulting in poor appearance and poor connection due to foaming or the like. Regarding this problem of resistance to solder reflow (hereinafter referred to as solder reflow resistance), for example, in Patent Document 2, a volatile component is pinned to the metal thin film layer by using a metal foil having a plurality of pinholes in the metal thin film layer. By permeating through the hole, lifting or foaming between layers is suppressed.

한편, 최근의 스마트 폰, 태블릿 단말 등의 전자 기기의 세계적인 보급에 따라 모든 온도 조건에서의 신뢰성이 요구되고 있다. 특허문헌 1, 및 특허문헌 2의 전자파 차폐 시트 갖춘 배선 회로 기판은 극단적인 온도 변화에 노출되면, 배선 회로 기판으로부터의 박리나, 그랜드 회로와의 접속이 끊기는 등의 문제를 발생시키고 있었다. 전자파 차폐 시트는, 이러한 온도 변화에 대한 신뢰성(이하, 냉열 사이클 신뢰성이라 할 수 있다)의 향상이 요구되고 있다.On the other hand, with the worldwide spread of electronic devices such as smart phones and tablet terminals, reliability in all temperature conditions is required. When the wiring circuit board provided with the electromagnetic wave shielding sheet of Patent Document 1 and Patent Document 2 is exposed to extreme temperature changes, problems such as peeling from the wiring circuit board and disconnection of the connection to the ground circuit have occurred. The electromagnetic wave shielding sheet is required to improve reliability against such temperature changes (hereinafter, referred to as cooling and heating cycle reliability).

본 발명은, 상기 배경을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적하는 바는, 납땜 리플로우 내성 및 우수한 냉열 사이클 신뢰성을 가지며, 또한 우수한 고주파 차폐성과, 고주파 신호에 적합한 전송 특성을 갖는 전자파 차폐 시트, 및 그 전자파 차폐 시트를 이용한 배선 회로 기판을 제공하는 것이다.The present invention has been made in view of the above background, and an object thereof is an electromagnetic wave shielding sheet having solder reflow resistance and excellent cooling and heating cycle reliability, excellent high-frequency shielding property, and transmission properties suitable for high-frequency signals, and the It is to provide a wiring circuit board using an electromagnetic wave shielding sheet.

본 발명자가 예의 검토를 실시한 결과, 다음의 양태에서, 본 발명의 과제를 해결할 수 있음을 알아내고 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of intensive examination of the present inventor, it was found that the subject of the present invention can be solved in the following aspects, and the present invention was completed.

즉, 본 발명에 관련한 전자파 차폐 시트는, 도전 접착제층, 금속층, 보호층을 이 순서에 구비한 적층체를 가지며, 도전 접착제층과 접하는 상기 금속층의 계면(界面)은 ISO 25178-2:2012에 준거하여 구한 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가 0.0001~ 0.5이며, 상기 금속층은 복수의 개구부를 가지며, 또한 개구율이 0.10~20%인 것을 특징으로 한다.That is, the electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention has a laminate having a conductive adhesive layer, a metal layer, and a protective layer in this order, and the interface of the metal layer in contact with the conductive adhesive layer is ISO 25178-2:2012. Based on the root mean square slope (Sdq) of 0.0001 to 0.5, the metal layer is characterized in that it has a plurality of openings, and the opening ratio is 0.10 to 20%.

본 발명에 따르면, 납땜 리플로우 내성이 우수하고, 고주파 전송 회로에 이용한 경우에도 전송 손실을 감소시켜 우수한 고주파 차폐성을 보이며, 냉열 사이클 노출 후에도 높은 접속 신뢰성을 갖는 전자파 차폐 시트, 및 전자파 차폐성 배선 회로 기판을 제공할 수 있는 우수한 효과를 발휘한다.According to the present invention, an electromagnetic wave shielding sheet having excellent solder reflow resistance, excellent high frequency shielding property by reducing transmission loss even when used in a high frequency transmission circuit, and having high connection reliability even after exposure to a cold heat cycle, and an electromagnetic wave shielding wiring circuit board Exhibits an excellent effect that can provide.

도 1은, 본 실시형태에 관련한 전자파 차폐 시트를 예시한 단면도이고,
도 2는, 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가 다른 2개의 표면의 예를 비교하는 도면이고,
도 3은, 본 실시형태에 관련한 전자파 차폐성 배선 회로 기판의 일례를 나타내는 모식적인 절단부 단면도이고,
도 4는, 실시 예 및 비교 예에 관련한 코플래너(coplanar) 회로를 갖는 배선판의 주면측의 모식적 평면도이고,
도 5는, 실시 예 및 비교 예에 관련한 코플래너 회로를 갖는 배선판의 이면측의 모식적 평면도이고,
도 6은, 실시 예 및 비교 예에 관련한 전자파 차폐 시트가 구비된 코플래너 회로를 갖는 배선판의 주면측의 모식적 평면도이고,
도 7은, 냉열 사이클 신뢰성 평가의 모식적 평면도, 및 절단부 단면도이고,
도 8은, 전자파 차폐 시트(실시 예 5)의 동적 점탄성 곡선이다.
1 is a cross-sectional view illustrating an electromagnetic wave shielding sheet according to the present embodiment,
FIG. 2 is a diagram for comparing examples of two surfaces having different root mean square slopes (Sdq),
3 is a schematic cutaway cross-sectional view showing an example of the electromagnetic wave shielding wiring circuit board according to the present embodiment,
4 is a schematic plan view of a main surface side of a wiring board having a coplanar circuit according to an embodiment and a comparative example,
5 is a schematic plan view of a rear side of a wiring board having a coplanar circuit according to an example and a comparative example;
6 is a schematic plan view of a main surface side of a wiring board having a coplanar circuit provided with an electromagnetic wave shielding sheet according to an embodiment and a comparative example,
7 is a schematic plan view of the reliability evaluation of a cooling/heating cycle and a cross-sectional view of a cut portion,
8 is a dynamic viscoelastic curve of an electromagnetic wave shielding sheet (Example 5).

이하, 본 발명을 적용한 실시 형태의 일례에 대해서 설명한다. 또한, 아래 도면에서의 각 부재의 크기나 비율은, 설명의 편의상의 것으로 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 있어서 「임의의 수 A ~ 임의의 수 B」의 기재는, 해당 범위에 숫자 A가 하한값으로서, 숫자 B가 상한값으로서 포함된다. 또한, 본 명세서에서의 「시트」란, JIS에서 정의되는 「시트」뿐만 아니라, 「필름」도 포함하는 것으로 한다. 또한, 본 명세서에서 특정하는 수치는, 실시 형태 또는 실시 예에 개시한 방법에 의해 구해지는 값이다.Hereinafter, an example of an embodiment to which the present invention is applied will be described. In addition, the size or ratio of each member in the drawings below is for convenience of description and is not limited thereto. In addition, in the description of "arbitrary number A-arbitrary number B" in this specification, the number A is included as a lower limit in the range, and the number B is included as an upper limit. In addition, "sheet" in this specification shall include not only "sheet" defined by JIS, but also "film". In addition, the numerical value specified in this specification is a value calculated|required by an embodiment or the method disclosed in an Example.

<전자파 차폐 시트><Electromagnetic shielding sheet>

본 발명의 전자파 차폐 시트는, 적어도 도전 접착제층, 금속층, 보호층을 이 순서로 구비한 적층체를 갖는다. 도 1은, 본 발명의 실시형태에 관련한 전자파 차폐 시트(10)를 예시한 단면도이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 전자파 차폐 시트(10)는, 도전 접착제층(1), 금속층(2) 및 보호층(3)을 이 순서에 구비한 적층체를 가지며, 금속층(2)은, 도전 접착제층(1) 및 보호층(3) 사이에 배치되어 있다.The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention has a laminate comprising at least a conductive adhesive layer, a metal layer, and a protective layer in this order. 1 is a cross-sectional view illustrating an electromagnetic wave shielding sheet 10 according to an embodiment of the present invention. As shown in Fig. 1, the electromagnetic wave shielding sheet 10 has a laminated body comprising a conductive adhesive layer 1, a metal layer 2, and a protective layer 3 in this order, and the metal layer 2 is conductive. It is disposed between the adhesive layer 1 and the protective layer 3.

본 발명의 전자파 차폐 시트는, 복수의 개구부(4)를 가지며, 또 개구율이 0.10~20%이며, 그리고 또한 도전 접착제층과 접하는 면의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가, 0.0001~0.5의 범위인 금속층을 구비하고 있기 때문에, 특히 고주파(예를 들면, 100MHz~50GHz)의 신호를 전송하는 배선 회로 기판에서, 우수한 전송 특성 등을 발현할 수 있다.The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention has a plurality of openings 4, has an opening ratio of 0.10 to 20%, and has a root mean square slope (Sdq) of the surface in contact with the conductive adhesive layer in the range of 0.0001 to 0.5. Since the metal layer is provided, excellent transmission characteristics and the like can be exhibited particularly in a wiring circuit board that transmits a signal of high frequency (eg, 100 MHz to 50 GHz).

전자파 차폐 시트(10)는, 예를 들면, 피착체인 배선판과, 도전 접착제층(1)측의 면을 붙여 맞추고, 필요에 따라서 한층 더 경화해서 전자파 차폐성 배선 회로 기판의 전자파 차폐층을 구성한다. 이 경우, 전자파 차폐 시트의 도전 접착제층과 접하는 금속층의 계면은 신호 배선 측에 배치된다.The electromagnetic wave shielding sheet 10 comprises, for example, a wiring board as an adherend and a surface on the side of the conductive adhesive layer 1, and further cured as necessary to form an electromagnetic wave shielding layer of the electromagnetic wave shielding wiring circuit board. In this case, the interface of the metal layer in contact with the conductive adhesive layer of the electromagnetic wave shielding sheet is disposed on the signal wiring side.

[적층 경화물의 손실 정접(損失正接)][Loss tangent of laminated cured product]

또한, 본 발명의 전자파 차폐 시트는, 적어도 도전 접착제층, 금속층, 보호 층을 이 순서로 구비한 적층체를, 170℃ 30분간 열 프레스해서 이루어진 적층 경화물의, 125℃에서의 손실 정접이 0.10이상인 것이 바람직하다.In addition, the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention is a laminated cured product obtained by hot pressing a laminate having at least a conductive adhesive layer, a metal layer, and a protective layer in this order at 170° C. for 30 minutes, and a loss tangent at 125° C. of 0.10 or more. It is desirable.

이에 따라, 냉열 사이클 신뢰성을 더 향상시킬 수 있다.Accordingly, it is possible to further improve the reliability of the cooling and heating cycle.

적층 경화물은, 전자파 차폐 시트를 170℃ 30분간 열 프레스에 의해 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 즉, 적층 경화물이란, 전자파 차폐 시트를 구성하는 도전 접착제층, 금속층, 보호층, 및 기타 기능층 중, 경화 성분을 갖는 층이, 경화 된 적층체를 말한다.The laminated cured product can be formed by curing the electromagnetic wave shielding sheet by hot pressing at 170° C. for 30 minutes. That is, the laminated cured product refers to a laminate in which a layer having a cured component among the conductive adhesive layer, metal layer, protective layer, and other functional layers constituting the electromagnetic wave shielding sheet is cured.

적층 경화물은, 열 프레스 전, 혹은 열 프레스 후에 전자파 차폐 시트에서, 박리성 시트를 제거하여 전자파 차폐 시트 한 장만 열 프레스를 행한다; 또는 여러 장의 전자파 차폐 시트를 라미네이터 등에 의해 적층하여 열 프레스를 행한다; 등 어떤 방법으로도 얻을 수 있다.In the laminated cured product, the peelable sheet is removed from the electromagnetic wave shielding sheet before or after hot pressing, and only one electromagnetic wave shielding sheet is hot pressed; Alternatively, several electromagnetic wave shielding sheets are laminated by a laminator or the like to perform hot pressing; Etc. can be obtained in any way.

구체적으로는, 예를 들면, 전자파 차폐 시트를 2장 준비하고, 각각의 도전 접착제층 측의 박리성 시트를 벗겨 노출된 도전 접착제 층끼리를 붙여 맞춰서 170℃ 30분의 조건에서 열 프레스하고, 적어도 도전 접착제층, 금속층, 보호층을 이 순서로 구비한 적층체를 열 경화시켜서 적층 경화물로 할 수 있다.Specifically, for example, two electromagnetic wave shielding sheets were prepared, the peelable sheet on the respective conductive adhesive layer side was peeled off, the exposed conductive adhesive layers were bonded together, and hot pressed under conditions of 170°C for 30 minutes, at least The laminate provided with the conductive adhesive layer, the metal layer, and the protective layer in this order can be thermally cured to obtain a laminated cured product.

적층 경화물의 손실 정접은, 하기 수학 식(3)에 의해 구해지는 수치이며, 전자파 차폐 시트를 변형시켰을 때에 발생하는 응력의 완화 능력의 지표가 된다.The loss tangent of the laminated cured product is a numerical value determined by the following equation (3), and serves as an index of the stress relaxation ability generated when the electromagnetic wave shielding sheet is deformed.

수학 식(3)Equation (3)

(적층 경화물의 손실 정접) =(Loss tangent of laminated cured product) =

(적층 경화물의 손실 탄성률(E'')) / (적층 경화물의 저장 탄성률(E'))(Loss modulus of cured laminate (E')) / (Storage modulus of cured laminate (E'))

적층 경화물은, 170℃ 30분간 열 프레스 후의 125℃에서의 손실 정접이 0.1이상인 것이, 냉열 사이클 신뢰성의 관점에서 바람직하다. 적층 경화물의 170℃ 30분간 열 프레스 후의 125℃에서의 손실 정접이 0.1이상이면, 고온 노출시의 팽창에 의해 발생하는 응력을 충분히 완화시키는 것이 가능해진다. 적층 경화물은, 170℃ 30분간 열 프레스 후의 125℃에서의 손실 정접이 0.13이상인 것이 더 바람직하고, 0.15이상인 것이 한층 더 바람직하다.The laminated cured product preferably has a loss tangent of 0.1 or more at 125°C after hot pressing at 170°C for 30 minutes from the viewpoint of reliability of the cooling and heating cycle. When the loss tangent at 125°C after hot pressing at 170°C for 30 minutes is 0.1 or more, it becomes possible to sufficiently alleviate the stress caused by expansion during high temperature exposure. In the laminated cured product, the loss tangent at 125°C after hot pressing at 170°C for 30 minutes is more preferably 0.13 or more, and even more preferably 0.15 or more.

적층 경화물의 손실 정접은, 적층 경화물을 구성하는 각 층 중의 어느 것, 혹은 2층 이상의 층의 손실 탄성률(E'') 및 저장 탄성률(E')을 변화시킴으로써 제어할 수 있다. 적층 경화물을 구성하는 1층, 혹은 2층 이상의 층의 손실 탄성률(E''), 및 저장 탄성률(E')을 변화시킴으로써 적층 경화물의 손실 탄성률(E''), 및 저장 탄성률(E')이 변화하고, 적층 경화물의 손실 정접이 변화하기 때문이다.The loss tangent of the laminated cured product can be controlled by changing any of the layers constituting the laminated cured product, or the loss modulus (E") and storage modulus (E') of two or more layers. The loss modulus of the laminated cured product (E''), and the storage modulus (E') of the laminated cured product by varying the loss modulus (E'') and storage modulus (E') of one layer or two or more layers constituting the laminated cured product ) Changes, and the loss tangent of the laminated cured product changes.

손실 탄성률(E'') 및 저장 탄성률(E')을 변화시키는 방법의 일례로서, 보호층 중의 경화제량 제어를 들 수 있다. 즉, 보호층 중의 경화제량을 증가, 혹은 감소시킴으로써, 보호층의 저장 탄성률(E')이 상승, 혹은 저하된다. 그 결과, 적층 경화물의 저장 탄성률(E')이 상승, 혹은 저하하여, 적층 경화물의 손실 정접이 저하, 혹은 상승한다.As an example of a method of changing the loss modulus (E") and storage modulus (E'), the amount of the curing agent in the protective layer is controlled. That is, by increasing or decreasing the amount of the curing agent in the protective layer, the storage elastic modulus (E') of the protective layer increases or decreases. As a result, the storage modulus (E') of the laminated cured product increases or decreases, and the loss tangent of the laminated cured product decreases or increases.

적층 경화물의 손실 정접을 제어하는 방법으로서는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 열가소성 수지, 혹은 열경화성 수지 및 경화제의 종류나 배합비를 바꾸거나, 각 층의 두께를 바꾸거나, 금속층의 종류를 바꾸는 등 종래 공지의 방법을 적용할 수 있다.The method of controlling the loss tangent of the laminated cured product is not particularly limited, and conventionally known methods such as changing the type or blending ratio of the thermoplastic resin or thermosetting resin and the curing agent, changing the thickness of each layer, or changing the type of metal layer. The method can be applied.

<<금속층>><<metal layer>>

금속층은, 전자파 차폐 시트에 고주파 차폐성을 부여하는 기능을 갖는다. 도전 접착제층과 접하는 쪽의 금속층의 계면은, ISO 25178-2:2012에 규정된 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가 0.0001~0.5이다. 제곱평균제곱근 경사(Sdq)를 0.0001~0.5의 범위가 되도록 제어함으로써, 전송 특성과 냉열 사이클 신뢰성을 양립할 수 있다. 제곱평균제곱근 경사(Sdq)에 대한 상세, 및 제곱평균제곱근 경사(Sdq)의 제어에 의해 얻어지는 상세한 효과에 관해서는 후술한다.The metal layer has a function of imparting high frequency shielding properties to the electromagnetic wave shielding sheet. The interface of the metal layer on the side in contact with the conductive adhesive layer has a root mean square slope (Sdq) of 0.0001 to 0.5 specified in ISO 25178-2:2012. By controlling the root mean square slope (Sdq) to be in the range of 0.0001 to 0.5, it is possible to achieve both transmission characteristics and cooling/heat cycle reliability. Details of the root mean square slope Sdq and detailed effects obtained by controlling the root mean square slope Sdq will be described later.

그리고 또한, 금속층은 복수의 개구부를 가지며, 또한 개구율이 0.10~20%이다. 이로 인해 납땜 리플로우 내성이 향상되고, 외관 불량의 발생, 및 접속 신뢰성의 저하를 억제할 수 있다.Further, the metal layer has a plurality of openings, and the opening ratio is 0.10 to 20%. For this reason, solder reflow resistance is improved, and occurrence of appearance defects and a decrease in connection reliability can be suppressed.

[제곱평균제곱근 경사(Sdq)][Square Mean Square Root Slope (Sdq)]

제곱평균제곱근 경사(Sdq)는 ISO 25178-2:2012에 있어서, 하기 수학 식(1)로서 규정되는 표면 성상 파라미터이다. A는 정의(定義) 표면의 면적, ∂x는 x축 방향, ∂y는 y축 방향, ∂z(x, y)는 z축 방향의 미소(微小) 변위를 나타낸다.The root mean square slope (Sdq) is a surface property parameter defined by the following equation (1) in ISO 25178-2:2012. A is the area of the defined surface, ∂x is the x-axis direction, ∂y is the y-axis direction, and ∂z(x, y) is the small displacement in the z-axis direction.

[수학 식 1][Equation 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

제곱평균제곱근 경사(Sdq)는, 광학 현미경, 레이저 현미경, 및 전자 현미경의 어느 것으로 얻어지는 표면 형상의 좌표 데이터를, 해석 소프트웨어에 의해 처리함으로써 산출할 수 있다. 제곱평균제곱근 경사(Sdq)는, 정의 표면의 전점(全点)에서의 경사의 제곱평균제곱근을 나타내며, 정의 표면에서의 요철의 험함을 표현하는 파라미터이다. 표면의 성상을 표현하는 파라미터로서는, 산술 평균 높이(Sa)나 최대 높이(Sz)가 일반적으로 이용되는데, 이들은 요철의 높이만을 나타낸 파라미터이며, 표면의 상태를 정확하게 나타내는데는 적당하지 않다.The root mean square slope (Sdq) can be calculated by processing coordinate data of a surface shape obtained by any one of an optical microscope, a laser microscope, and an electron microscope by an analysis software. The root mean square slope Sdq represents the root mean square of the slope at all points of the positive surface, and is a parameter expressing the roughness of irregularities on the positive surface. As parameters for expressing the properties of the surface, arithmetic mean height (Sa) and maximum height (Sz) are generally used, but these are parameters representing only the height of the unevenness, and are not suitable for accurately representing the state of the surface.

도 2에 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가 다른 2개의 표면을 예시한다. 제곱평균제곱근 경사(Sdq)의 수치가 클수록 표면 요철은 더 험해지게 된다. 즉, 제곱평균제곱근 경사(Sdq)의 수치에 의해 표면 요철의 험함 정도를 판단할 수 있다.2 illustrates two surfaces having different slopes of the root mean square (Sdq). The larger the value of the root mean square slope (Sdq), the more rough the surface irregularities become. That is, the degree of roughness of the surface irregularities can be determined by the value of the root mean square slope Sdq.

또한, 이 금속층의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)의 값은, 가열 프레스 등의 전자파 차폐층의 형성 공정에 의해 변화하지 않는다. 따라서, 전자파 차폐층에서의 도전 접착제층과 접하는 상기 금속층의 계면의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)도 0.0001~0.5이다.In addition, the value of the root mean square slope (Sdq) of this metal layer does not change by a forming process of an electromagnetic wave shielding layer such as a hot press. Therefore, the root mean square slope (Sdq) of the interface of the metal layer in contact with the conductive adhesive layer in the electromagnetic wave shielding layer is also 0.0001 to 0.5.

또한, 전자파 차폐 시트의 금속층에 있어서, 전류의 성질상, 전류는, 고주파가 되면, 금속층의 표면을 흐르게 된다. 배선 회로 기판 중의 신호 배선에서의 전송 특성은, 근방의 도전체에 흐르는 전류의 영향을 받기 때문에, 신호 배선과 근접한 금속층의 표면의 요철이 험하면, 금속 표면을 흐르는 전류와의 거리가 변동하여 전송 특성이 불안정해진다. 따라서, 전송 특성의 관점에서는, 금속층의 도전 접착제층과 접하는 면의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가, 0.5이하인 것이 바람직하고, 0.4이하인 것이 더 바람직하고, 0.3이하인 것이 한층 더 바람직하다.In addition, in the metal layer of the electromagnetic wave shielding sheet, due to the nature of the current, the current flows through the surface of the metal layer when it becomes a high frequency. Since the transmission characteristics of the signal wiring in the wiring circuit board are affected by the current flowing through the conductor in the vicinity, if the surface of the metal layer adjacent to the signal wiring is rough, the distance to the current flowing through the metal surface fluctuates and transmits. The characteristics become unstable. Therefore, from the viewpoint of transmission characteristics, the root mean square slope (Sdq) of the surface of the metal layer in contact with the conductive adhesive layer is preferably 0.5 or less, more preferably 0.4 or less, and even more preferably 0.3 or less.

한편, 예의 검토의 결과 금속층의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)를 0.0001~0.5의 범위로 함으로써 냉열 사이클 신뢰성이 향상하는 결과를 발견했다. 이것은 냉열 사이클에서 도전 접착제층의 신축에 의한 형상 변화가 발생했을 경우에도, 금속층 표면에 형성된 요철의 각도를 적당히 예각으로 함으로써 도전 접착제층 중의 도전성 필러와 금속층과의 접촉이 유지되고, 접속 저항값의 악화가 억제되고 있기 때문으로 생각된다. 검토 결과, 금속층의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가 0.001~0.4의 범위로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.01~0.3의 범위로 하는 것이 더욱 바람직하다.On the other hand, as a result of intensive examination, it was found that the reliability of the cooling and heating cycle is improved by setting the root mean square slope (Sdq) of the metal layer in the range of 0.0001 to 0.5. This is because even when the shape change occurs due to the expansion and contraction of the conductive adhesive layer in the cooling and heating cycle, contact between the conductive filler in the conductive adhesive layer and the metal layer is maintained by making the angle of the irregularities formed on the surface of the metal layer appropriately acute. It is thought that it is because deterioration is being suppressed. As a result of the examination, it is more preferable that the root mean square slope (Sdq) of the metal layer is in the range of 0.001 to 0.4, and still more preferably in the range of 0.01 to 0.3.

[제곱평균제곱근 경사(Sdq)의 제어 방법][Control method of root mean square slope (Sdq)]

금속층 표면의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)를 제어하는 방법은, 예를 들면, 동박(銅箔) 표면 상에 조화(粗化) 입자를 부착시켜 조화 처리면을 형성하는 방법; 일본 특허공개공보 제2017-13473호에 기재되어 있는 버프를 이용하여 금속 표면을 연마하는 방법; 연마포지를 이용하여 금속 표면을 연마하는 방법; 압축 공기에 의해 연마재를 금속 표면에 내뿜는 쇼트 블라스트법; 소정의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)를 갖는 캐리어재의 위에 금속층을 형성하고; 캐리어재 표면의 요철을 금속층에 전사하는 방법; 소정의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)를 갖는 필름과 금속층을 압착하여 필름 표면의 요철을 금속층에 전사 방법; 등을 들 수 있다. 금속층 표면의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)의 제어 방법으로서는, 예시한 방법에 한정되는 것이 아니며, 종래 공지의 방법을 적용할 수 있다.The method of controlling the root-mean-square slope (Sdq) of the surface of the metal layer includes, for example, a method of forming a roughened surface by attaching roughened particles on the surface of a copper foil; A method of polishing a metal surface using a buff described in Japanese Patent Laid-Open No. 2017-13473; A method of polishing a metal surface using a polishing cloth; A shot blast method in which an abrasive is blown onto a metal surface with compressed air; Forming a metal layer on the carrier material having a predetermined root mean square slope (Sdq); A method of transferring irregularities on the surface of a carrier material to a metal layer; A method of transferring the unevenness of the film surface to the metal layer by compressing the film and the metal layer having a predetermined root mean square slope (Sdq); And the like. The method for controlling the root mean square slope Sdq of the surface of the metal layer is not limited to the illustrated method, and a conventionally known method can be applied.

[금속층의 두께][Thickness of metal layer]

금속층의 두께는, 0.3~5.0μm인 것이 바람직하다. 금속층의 두께를 0.3μm 이상으로 함으로써 배선 회로 기판에서 발생하는 전자파 노이즈의 파장에 대하여 투과를 억제 할 수 있어 충분한 고주파 차폐성을 발현할 수 있다. 금속층의 두께 하한은 0.5μm이 더 바람직하다. 금속층의 두께를 5.0μm이하로 함으로써, 적층 경화물의 손실 정접을 높일 수 있어 냉열 사이클 신뢰성이 향상된다. 금속층의 두께 상한은 3.5μm가 더 바람직하다.It is preferable that the thickness of the metal layer is 0.3 to 5.0 μm. When the thickness of the metal layer is 0.3 μm or more, transmission of electromagnetic wave noise generated from the wiring circuit board can be suppressed, and sufficient high-frequency shielding properties can be expressed. The lower limit of the thickness of the metal layer is more preferably 0.5 μm. When the thickness of the metal layer is 5.0 μm or less, the loss tangent of the laminated cured product can be increased, and the reliability of the cooling and heating cycle is improved. The upper limit of the thickness of the metal layer is more preferably 3.5 μm.

[금속층의 성분][Component of metal layer]

금속층은, 예를 들면, 금속박, 금속 증착막, 금속 도금막을 사용할 수 있다.As the metal layer, for example, a metal foil, a metal vapor deposition film, or a metal plating film can be used.

금속박(箔)에 사용하는 금속은, 예를 들면 알루미늄, 구리, 은, 금 등의 도전성 금속이 바람직하며, 한 종류의 금속, 혹은 복수 금속의 합금 모두 사용할 수 있다. 고주파 차폐성 및 비용의 면에서 구리, 은, 알루미늄이 더 바람직하고, 구리가 더욱 바람직하다. 구리는, 예를 들면, 압연 동박 또는 전해 동박을 사용하는 것이 바람직하다.The metal used for the metal foil is preferably a conductive metal such as aluminum, copper, silver, and gold, and one type of metal or an alloy of a plurality of metals can be used. Copper, silver, and aluminum are more preferable, and copper is more preferable from the viewpoint of high frequency shielding property and cost. As for copper, it is preferable to use a rolled copper foil or an electrolytic copper foil, for example.

금속 증착막 및 금속 도금막에 사용하는 금속은, 예를 들면 알루미늄, 구리,은, 금 등의 도전성 금속의 한 종류, 혹은 여러 금속의 합금을 사용하는 것이 바람직하고, 구리, 은이 더 바람직하다. 금속박, 금속 증착막, 금속 도금막은 한쪽 표면, 또는 양쪽 표면을 금속 혹은 방청제 등의 유기물로 피복해도 좋다.As the metal used for the metal vapor deposition film and the metal plating film, it is preferable to use one kind of conductive metal such as aluminum, copper, silver, gold, or an alloy of several metals, and more preferably copper and silver. The metal foil, metal vapor deposition film, and metal plating film may be coated on one or both surfaces with an organic substance such as a metal or a rust inhibitor.

[개구부][Opening]

금속층은, 복수의 개구부를 가지고, 그 개구율은 0.10~20%이다. 개구부를 갖는 것으로 납땜 리플로우 내성이 향상된다. 개구부를 갖는 것으로, 전자파 차폐성 배선 회로 기판을 납땜 리플로우 처리했을 때에, 배선 회로 기판의 폴리이미드 필름이나 커버레이 접착제에 포함된 휘발성 성분을 외부로 빼내어 커버레이 접착제 및 전자파 차폐 시트의 계면 박리에 의한 외관 불량의 발생을 억제할 수 있다.The metal layer has a plurality of openings, and the opening ratio is 0.10 to 20%. By having an opening, solder reflow resistance is improved. It has an opening, and when the electromagnetic wave shielding wiring circuit board is subjected to solder reflow treatment, volatile components contained in the polyimide film or coverlay adhesive of the wiring circuit board are removed to the outside, and the coverlay adhesive and the electromagnetic wave shielding sheet are separated from the interface. It is possible to suppress the occurrence of appearance defects.

금속층 표면에서 본 개구부의 형상은, 예를 들면 진원(眞圓), 타원, 사각형, 다각형, 별 형상, 사다리꼴 형상, 나뭇가지 형상 등을 들 수 있다. 제조 비용 및 금속층의 강인성(强靭性) 확보의 관점에서, 개구부의 형상은 진원 또는 타원이 바람직하다.The shape of the opening viewed from the surface of the metal layer includes, for example, a round circle, an ellipse, a square, a polygon, a star shape, a trapezoid shape, and a tree branch shape. From the viewpoint of manufacturing cost and securing the toughness of the metal layer, the shape of the opening is preferably a round circle or an ellipse.

또한, 제곱평균제곱근 경사(Sdq)는, 금속층의 개구부를 제외하고 산출한다.Further, the root mean square slope Sdq is calculated excluding the opening of the metal layer.

[금속층의 개구율][Aperture ratio of metal layer]

금속층의 개구율은, 0.10~20%의 범위이며, 하기 수학 식(2)로 구할 수 있다.The aperture ratio of the metal layer is in the range of 0.10 to 20%, and can be obtained by the following equation (2).

수학 식 (2)Equation (2)

(개구율[%]) = (단위 면적당의 개구부의 면적) / (단위 면적당의 개구부의 면적 + 단위 면적당의 비개구부의 면적) × 100(Opening rate [%]) = (Area of opening per unit area) / (Area of opening per unit area + Area of non-opening per unit area) × 100

개구율이 0.10%이상인 것으로, 납땜 리플로우 처리시의 휘발 성분을 충분히 빼낼 수 있어, 커버레이 접착제 및 전자파 차폐 시트의 계면 박리에 의한 외관 불량의 발생, 및 접속 신뢰성의 저하를 억제할 수 있다.When the aperture ratio is 0.10% or more, volatile components during the solder reflow treatment can be sufficiently removed, and occurrence of appearance defects due to interfacial peeling between the coverlay adhesive and the electromagnetic wave shielding sheet, and a decrease in connection reliability can be suppressed.

한편, 개구율이 20%이하인 것으로, 개구부분을 통과하는 전자파 노이즈의 양을 감소시켜 차폐성을 향상시킬 수 있다. 납땜 리플로우 내성과 고주파 차폐성을 높은 수준에서 양립하는 점에서 개구율의 범위는 0.30~15%가 바람직하고, 0.50~6.5%가 더 바람직하다.On the other hand, since the aperture ratio is less than 20%, shielding properties can be improved by reducing the amount of electromagnetic wave noise passing through the opening portion. The range of the aperture ratio is preferably 0.30 to 15%, and more preferably 0.50 to 6.5%, from the viewpoint of achieving both solder reflow resistance and high frequency shielding at a high level.

특히, 금속층의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가 0.001이하의 범위의, 계면이 비교적 평활한 전자파 차폐 시트에서는, 금속층과 도전 접착제층과의 밀착이 약하고, 납땜 리플로우 내성이 저하될 우려가 있다. 이러한 전자파 차폐 시트라 해도 금속층의 개구율을 0.10%이상, 바람직하게는 0.50%이상으로 함으로써, 휘발 성분을 충분히 빼낼 수 있어, 보다 층간 박리나 들뜸의 발생을 억제하고, 납땜 리플로우 내성의 저하가 억제된다.In particular, in the electromagnetic wave shielding sheet having a relatively smooth interface with a root mean square slope (Sdq) of 0.001 or less of the metal layer, the adhesion between the metal layer and the conductive adhesive layer is weak, and solder reflow resistance may decrease. Even with such an electromagnetic shielding sheet, by setting the aperture ratio of the metal layer to 0.10% or more, preferably 0.50% or more, volatile components can be sufficiently removed, further suppressing the occurrence of delamination or lifting, and suppressing the decrease in solder reflow resistance. do.

개구율의 측정은, 예를 들면, 금속층의 면 방향에서 수직으로 레이저 현미경 및 주사형 전자 현미경(SEM)으로 500~2000배로 확대한 화상을 사용하여, 개구부와 비개구부를 이진화하고 단위 면적당 이진화한 픽셀 수를 각각의 면적으로 함으로써 구할 수 있다.The measurement of the aperture ratio is, for example, using an image magnified 500 to 2000 times vertically in the plane direction of the metal layer with a laser microscope and a scanning electron microscope (SEM), and binarizing the opening and the non-opening portion and binarizing the pixels per unit area. It can be calculated by taking the number as each area.

[개구부를 갖는 금속층의 제조 방법][Method of manufacturing a metal layer having an opening]

개구부를 갖는 금속층의 제조 방법은, 종래 공지의 방법을 적용할 수 있고, 금속박 상에 패턴 레지스트 층을 형성하여 금속박을 에칭해서 개구부를 형성하는 방법(i); 스크린 인쇄에 의해 소정의 패턴에 도전성 페이스트를 인쇄하는 방법 (ii); 소정의 패턴으로 앵커제를 스크린 인쇄하여 앵커제 인쇄면에만 금속 도금하는 방법(iii); 일본 특허공개공보 제2015-63730호에 기재되어 있는 제조 방법 (iv), 즉 지지체에 수용성, 또는 용제 가용성 잉크를 패턴 인쇄하여 그 표면에 금속 증착막을 형성하여 패턴을 제거한다. 그 표면에 이형층을 형성하여 전해 도금함으로써 캐리어재가 구비된 개구부를 갖는 금속층을 얻는 방법; 등이 적용될 수 있다.A method for producing a metal layer having an opening may be applied to a conventionally known method, comprising: a method (i) of forming a pattern resist layer on the metal foil and etching the metal foil to form the opening; (Ii) a method of printing a conductive paste on a predetermined pattern by screen printing; A method (iii) of metal plating only on the printing surface of the anchor agent by screen printing the anchor agent in a predetermined pattern; The manufacturing method (iv) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-63730, that is, pattern printing a water-soluble or solvent-soluble ink on a support to form a metal vapor deposition film on the surface thereof to remove the pattern. A method of obtaining a metal layer having an opening provided with a carrier material by forming a release layer on the surface and electrolytic plating; Etc. may be applied.

이 중에서도 상기 방법(i)이, 개구부의 형상을 정밀하게 제어할 수 있어서 바람직하다. 단, 다른 방법으로도 개구부의 형상을 제어하면 되고, 금속층의 제조 방법은 방법(i)에 제한되는 것은 아니다.Among these, the method (i) is preferable because the shape of the opening can be precisely controlled. However, the shape of the opening may be controlled by other methods, and the method of manufacturing the metal layer is not limited to the method (i).

<<도전 접착제층>><<Conductive adhesive layer>>

도전 접착제층은 도전성 수지 조성물을 사용해서 형성할 수 있다. 도전성 수지 조성물은, 바인더 수지, 및 도전성 필러를 포함한다. 바인더 수지는, 열가소성 수지, 혹은 열경화성 수지 및 경화제 중 어느 것을 사용할 수 있다. 도전 접착제층은 등방성 도전 접착제층 또는 이방 도전 접착제층 중 어느 것을 사용할 수 있다. 등방 도전 접착제층은, 전자파 차폐 시트를 수평으로 놓은 상태에서 상하방향 및 수평방향으로 도전성을 갖는다. 또한, 이방 도전 접착제층은, 전자파 차폐 시트를 수평으로 놓은 상태에서 상하방향으로만 도전성을 갖는다.The conductive adhesive layer can be formed using a conductive resin composition. The conductive resin composition contains a binder resin and a conductive filler. As the binder resin, any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin and a curing agent can be used. As the conductive adhesive layer, either an isotropic conductive adhesive layer or an anisotropic conductive adhesive layer can be used. The isotropically conductive adhesive layer has conductivity in the vertical and horizontal directions in a state where the electromagnetic wave shielding sheet is placed horizontally. Further, the anisotropically conductive adhesive layer has conductivity only in the vertical direction in a state where the electromagnetic wave shielding sheet is placed horizontally.

도전 접착제층은, 등방 도전성 혹은 이방 도전성 중 어느 것이면 되고, 이방 도전성의 경우, 비용 절감이 가능해지기 때문에 바람직하다.The conductive adhesive layer may be any of isotropic conductivity or anisotropic conductivity, and in the case of anisotropic conductivity, cost can be reduced, so it is preferable.

[열가소성 수지][Thermoplastic resin]

열가소성 수지로서는, 폴리올레핀계 수지, 비닐계 수지, 스틸렌·아크릴계 수지, 디엔계 수지, 테르펜 수지, 석유 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리아미드 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리이미드 수지, 액정 폴리머, 불소 수지 등을 들 수 있다. 특별히 한정하는 것은 아니지만, 전송 손실의 관점에서, 저 유전율, 저 유전 정접의 재료가 특성 임피던스의 관점에서 저 유전율 재료가 바람직하고, 액정 폴리머나 불소계 수지 등을 들 수 있다.As thermoplastic resins, polyolefin resins, vinyl resins, styrene/acrylic resins, diene resins, terpene resins, petroleum resins, cellulose resins, polyamide resins, polyurethane resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyimide resins , A liquid crystal polymer, a fluororesin, and the like. Although not particularly limited, from the viewpoint of transmission loss, a material having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent is preferably a material having a low dielectric constant from the viewpoint of a characteristic impedance, and a liquid crystal polymer or a fluorine-based resin may be mentioned.

열가소성 수지는, 단독 또는 2종류 이상 병용할 수 있다.Thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more.

[열경화성 수지][Thermosetting resin]

열경화성 수지는, 경화제와 반응 가능한 관능기를 복수 갖는 수지이다. 관능기는, 예를 들면, 수산기, 페놀성 수산기, 메톡시 메틸기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기, 옥세타닐기, 옥사졸린기, 옥사딘기, 아지리딘기, 티올기, 이소시아네이트기, 블록화 이소시아네이트기, 블록화 카르복실기, 실라놀기 등을 들 수 있다. 열경화성 수지는, 예를 들면, 아크릴 수지, 말레산 수지, 폴리부타디엔계 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리우레탄우레아 수지, 에폭시 수지, 옥세탄 수지, 페녹시 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 페놀계 수지, 알키드 수지, 아미노 수지, 폴리유산 수지, 옥사졸린 수지, 벤조옥사딘 수지, 실리콘 수지, 불소 수지 등의 공지의 수지를 들 수 있다.The thermosetting resin is a resin having a plurality of functional groups capable of reacting with a curing agent. Functional groups are, for example, hydroxyl group, phenolic hydroxyl group, methoxy methyl group, carboxyl group, amino group, epoxy group, oxetanyl group, oxazoline group, oxadine group, aziridine group, thiol group, isocyanate group, blocked isocyanate group, blocked carboxyl group, Silanol group, etc. are mentioned. Thermosetting resins are, for example, acrylic resin, maleic acid resin, polybutadiene resin, polyester resin, polyurethane resin, polyurethaneurea resin, epoxy resin, oxetane resin, phenoxy resin, polyimide resin, polyamide Known resins such as resin, polyamideimide resin, phenolic resin, alkyd resin, amino resin, polylactic acid resin, oxazoline resin, benzooxadine resin, silicone resin, and fluorine resin are mentioned.

열경화성 수지는, 단독으로 또는 2종류 이상 병용할 수 있다.Thermosetting resins can be used alone or in combination of two or more.

이들 중에서도 납땜 리플로우 내성의 면에서, 폴리우레탄 수지, 폴리우레탄우레아 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 페녹시 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 폴리아미드이미드 수지가 바람직하다.Among these, polyurethane resins, polyurethaneurea resins, polyester resins, epoxy resins, phenoxy resins, polyimide resins, polyamide resins, and polyamideimide resins are preferable from the viewpoint of solder reflow resistance.

[경화제][Hardener]

경화제는, 열경화성 수지의 관능기와 반응 가능한 관능기를 복수 가지고 있다. 경화제는, 예를 들면 에폭시 화합물, 산무수물기 함유 화합물, 이소시아네이트 화합물, 아지리딘 화합물, 아민 화합물, 페놀 화합물, 유기 금속 화합물 등의 공지의 화합물을 들 수 있다.The curing agent has a plurality of functional groups capable of reacting with the functional group of the thermosetting resin. Examples of the curing agent include known compounds such as an epoxy compound, an acid anhydride group-containing compound, an isocyanate compound, an aziridine compound, an amine compound, a phenol compound, and an organometallic compound.

경화제는, 단독 또는 2종류 이상 병용할 수 있다.The curing agent can be used alone or in combination of two or more.

경화제는, 열경화성 수지 100중량부에 대하여 1~50중량부를 포함하는 것이 바람직하고, 3~40중량부가 더 바람직하고, 3~30중량부가 한층 더 바람직하다.The curing agent preferably contains 1 to 50 parts by weight, more preferably 3 to 40 parts by weight, and even more preferably 3 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermosetting resin.

열가소성 수지, 및 열경화성 수지는 어느 단독 또는 양자를 혼합하여 병용할 수 있다.The thermoplastic resin and the thermosetting resin can be used alone or in combination of both.

[도전성 필러][Conductive filler]

도전성 필러는, 도전 접착제층에 도전성을 부여한다. 도전성 필러는, 소재로서는 예를 들면 금, 백금, 은, 구리 및 니켈 등의 도전성 금속 및 그 합금, 그리고 도전성 폴리머의 미립자가 바람직하고, 가격과 도전성의 측면에서 은이 더 바람직하다.The conductive filler imparts conductivity to the conductive adhesive layer. The conductive filler is preferably made of a conductive metal such as gold, platinum, silver, copper and nickel, and alloys thereof, and fine particles of a conductive polymer, and more preferably silver from the viewpoint of cost and conductivity.

또한 단일 소재의 미립자가 아니고 금속이나 수지를 핵체(核體)로 하여, 핵체의 표면을 피복한 피복층을 갖는 복합 미립자도 비용 절감의 관점에서 바람직하다. 이때 핵체는 가격이 싼 니켈, 실리카, 구리 및 그 합금, 그리고 수지에서 적절히 선택하는 것이 바람직하다. 피복층은 도전성 금속 또는 도전성 폴리머가 바람직하다. 도전성 금속은, 예를 들면, 금, 백금, 은, 니켈, 망간, 및 인듐 등, 그리고 그 합금을 들 수 있다. 또한 도전성 폴리머는, 폴리아닐린, 폴리아세틸렌 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 가격과 도전성의 면에서 은이 바람직하다.In addition, composite fine particles having a coating layer covering the surface of the nucleus body by using metal or resin as the nucleus, not the fine particles of a single material, are also preferable from the viewpoint of cost reduction. At this time, the nucleus is preferably appropriately selected from inexpensive nickel, silica, copper, and alloys thereof, and resin. The coating layer is preferably a conductive metal or a conductive polymer. Examples of the conductive metal include gold, platinum, silver, nickel, manganese, and indium, and alloys thereof. Further, examples of the conductive polymer include polyaniline and polyacetylene. Among these, silver is preferable in terms of cost and conductivity.

도전성 필러의 형상은, 원하는 도전성을 얻을 수 있으면 별로 한정되지 않는다. 구체적으로는, 예를 들면, 구상, 플레이크 형상, 잎 형상, 나뭇가지 형상, 플레이트 형상, 바늘 형상, 막대 형상, 포도 형상이 바람직하다. 또한, 이러한 다른형상의 도전성 필러를 2종류 혼합해도 좋다.The shape of the conductive filler is not particularly limited as long as desired conductivity can be obtained. Specifically, for example, a spherical shape, a flake shape, a leaf shape, a branch shape, a plate shape, a needle shape, a rod shape, and a grape shape are preferable. Further, you may mix two types of conductive fillers of such different shapes.

도전성 필러는, 단독 또는 2종류 이상 병용할 수 있다.Conductive fillers can be used alone or in combination of two or more.

도전성 필러의 평균 입자 지름은, D50 평균 입자 지름이며, 도전성을 충분히 확보하는 관점에서 2μm이상이 바람직하고, 5μm이상이 더 바람직하고, 7μm이상으로 하는 것이 한층 더 바람직하다. 한편, 도전 접착제층의 얇기와 양립시키는 관점에서는 30μm 이하가 바람직하며, 20μm 이하가 더 바람직하며, 15μm 이하로 하는 것이 한층 더 바람직하다. D50 평균 입자 지름은, 레이저 회절·산란법 입도 분포 측정 장치 등에 의해 구할 수 있다.The average particle diameter of the conductive filler is a D50 average particle diameter, and from the viewpoint of sufficiently securing conductivity, 2 μm or more is preferable, 5 μm or more is more preferable, and 7 μm or more is even more preferable. On the other hand, from the viewpoint of making it compatible with the thinness of the conductive adhesive layer, 30 μm or less is preferable, 20 μm or less is more preferable, and 15 μm or less is even more preferable. The D50 average particle diameter can be determined by a laser diffraction/scattering method particle size distribution measuring device or the like.

도전성 필러는, 도전 접착제층 중에서의 함유율이 35~90중량%인 것이 바람직하고, 39~70중량%가 더 바람직하고, 40~65중량%가 한층 더 바람직하다. 35중량% 이상으로 함으로써 도전 접착제층과 그랜드 배선의 접속이 양호해져 고주파 차폐성, 냉열 사이클 신뢰성이 향상된다. 한편, 90중량%이하로 함으로써 납땜 리플로우 내성, 전송 특성이 더 향상된다.The content of the conductive filler in the conductive adhesive layer is preferably 35 to 90% by weight, more preferably 39 to 70% by weight, and still more preferably 40 to 65% by weight. By setting it as 35% by weight or more, the connection between the conductive adhesive layer and the ground wiring is improved, and the high-frequency shielding property and the reliability of the cooling and heating cycle are improved. On the other hand, by setting it to 90% by weight or less, solder reflow resistance and transmission characteristics are further improved.

도전성 수지 조성물은, 다른 임의의 성분으로서 실란 커플링제, 방청제, 환원제, 산화 방지제, 안료, 점착 부여 수지, 가소제, 자외선 흡수제, 소포제, 레벨링 조정제, 충전제, 난연제 등을 배합해도 좋다. The conductive resin composition may contain a silane coupling agent, a rust inhibitor, a reducing agent, an antioxidant, a pigment, a tackifier resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a defoaming agent, a leveling adjuster, a filler, a flame retardant, and the like as other optional components.

도전성 수지 조성물은, 지금까지 설명한 재료를 혼합하여 교반해서 얻을 수있다. 교반은, 예를 들면 디스퍼매트(DISPERMAT), 호모게나이저 등, 공지의 교반 장치를 사용할 수있다.The conductive resin composition can be obtained by mixing and stirring the materials described so far. As for stirring, a known stirring device such as a DISPERMAT or a homogenizer can be used.

도전 접착제층의 제작은 공지의 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 도전성 수지 조성물을 박리성 시트 상에 도공해서 건조함으로써 도전 접착제층을 형성하는 방법; T다이 같은 압출 성형기를 사용하여 도전성 수지 조성물을 시트 형태로 밀어내는 방법; 등을 들 수 있다.A known method can be used for producing the conductive adhesive layer. For example, a method of forming a conductive adhesive layer by coating and drying a conductive resin composition on a peelable sheet; A method of extruding the conductive resin composition into a sheet using an extrusion molding machine such as a T-die; And the like.

도공 방법은, 예를 들면, 그라비아 코트 방식, 키스코트 방식, 다이 코트 방식, 립 코트 방식, 콤마 코트 방식, 블레이드 방식, 롤 코트 방식, 나이프 코트 방식, 스프레이 코트 방식, 바 코트 방식, 스핀 코트 방식, 딥 코트 방식 등의 공지의 도공 방법을 사용할 수 있다. 도공 후에 건조 공정을 수행하는 것이 바람직하다. 건조 공정은, 예를 들면, 열풍 건조기, 적외선 히터 등의 공지의 건조 장치를 사용할 수 있다.Coating methods include, for example, gravure coat method, kiss coat method, die coat method, lip coat method, comma coat method, blade method, roll coat method, knife coat method, spray coat method, bar coat method, spin coat method. And a known coating method such as a dip coating method can be used. It is preferable to perform a drying process after coating. For the drying step, for example, a known drying device such as a hot air dryer and an infrared heater can be used.

도전 접착제층의 두께는 2~30μm가 바람직하고, 3~15μm가 더 바람직하고, 4~9μm가 한층 더 바람직하다. 두께가 2~30μm의 범위에 있는 것으로 냉열 사이클 신뢰성과 납땜 리플로우 내성을 향상시킬 수 있다.The thickness of the conductive adhesive layer is preferably 2 to 30 μm, more preferably 3 to 15 μm, and even more preferably 4 to 9 μm. As the thickness is in the range of 2 to 30 μm, it can improve the reliability of the cooling cycle and solder reflow resistance.

<<보호층>><<protective layer>>

보호층은, 종래 공지의 수지 조성물을 사용하여 형성할 수 있다.The protective layer can be formed using a conventionally known resin composition.

수지 조성물은, 도전성 수지 조성물에서 설명된 열가소성 수지나 열경화성 수지, 및 경화제를 필요에 따라서 상기 임의 성분을 포함할 수 있다. 또한, 보호층 및 도전 접착제층에 사용하는 열경화성 수지, 경화제는, 동일하거나 또는 달라도 좋다.The resin composition may contain the thermoplastic resin or thermosetting resin described in the conductive resin composition, and the above-described optional component as needed, and a curing agent. In addition, the thermosetting resin and curing agent used for the protective layer and the conductive adhesive layer may be the same or different.

수지 조성물은, 도전성 수지 조성물과 같은 방법으로 얻을 수 있다.The resin composition can be obtained by the same method as the conductive resin composition.

또한, 보호층은, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리아미드이 미드, 폴리아미드, 폴리페닐렌설파이드, 폴리에테르에테르케톤 등의 절연성 수지를 성형한 필름을 사용할 수도 있다.Further, as the protective layer, a film formed of an insulating resin such as polyester, polycarbonate, polyimide, polyamideimide, polyamide, polyphenylene sulfide, and polyetheretherketone may be used.

보호층의 두께는, 통상 2~10μm 정도이다.The thickness of the protective layer is usually about 2 to 10 μm.

<<전자파 차폐 시트의 제조 방법>><<Manufacturing method of electromagnetic wave shielding sheet>>

전자파 차폐 시트의 제작에 있어서, 도전 접착제층과 금속층을 적층하는 방법은 공지의 방법을 사용할 수 있다.In the manufacture of the electromagnetic wave shielding sheet, a known method can be used as a method of laminating the conductive adhesive layer and the metal layer.

예를 들면, (i)박리성 시트 상에 도전 접착제층을 형성하고, 캐리어재가 구비된 개구부를 갖는 전해 동박의 전해 동박면 측에 도전 접착제층을 겹쳐서 라미네이트한 후에, 캐리어재를 벗긴다. 그리고, 캐리어재를 벗긴 면과, 별도 박리성 시트 상에 형성한 보호층을 겹쳐서 라미네이트하는 방법;For example, (i) a conductive adhesive layer is formed on a peelable sheet, and a conductive adhesive layer is laminated on the electrolytic copper foil side of an electrolytic copper foil having an opening provided with a carrier material, and then the carrier material is peeled off. And, the method of laminating by overlapping the surface from which the carrier material was peeled off and the protective layer separately formed on the peelable sheet;

(ii)박리성 시트 상에 보호층을 형성하고, 캐리어재가 구비된 개구부를 갖는 전해 동박의 전해 동박면 측에 보호층을 겹쳐서 라미네이트한 후에, 캐리어재를 벗긴다. 그리고 캐리어재를 벗긴 면과, 별도 박리성 시트 상에 형성한 도전 접착제층을 겹쳐 라미네이트하는 방법;(ii) A protective layer is formed on the peelable sheet, and a protective layer is laminated on the electrolytic copper foil surface side of the electrolytic copper foil having an opening provided with the carrier material, and then the carrier material is peeled off. And a method of laminating the surface from which the carrier material is peeled off and a conductive adhesive layer separately formed on the releasable sheet.

(iii)캐리어재가 구비된 개구부를 갖는 전해 동박의 전해 동박면 측에 수지 조성물을 도공해서 보호층을 형성하여 박리성 시트를 붙여 맞춘다. 그 후 캐리어재를 벗기고, 별도 박리성 시트 상에 형성한 도전 접착제층을 겹쳐서 라미네이트하는 방법;(iii) A resin composition is applied to the electrolytic copper foil surface side of the electrolytic copper foil having an opening provided with a carrier material to form a protective layer, and a peelable sheet is attached thereto. Thereafter, the carrier material is peeled off, and the conductive adhesive layer separately formed on the releasable sheet is stacked and laminated;

(iv)박리성 시트 상에 도전 접착제층을 형성하고, 캐리어재가 구비된 전해 동박의 전해 동박면 측에 도전 접착제 층을 겹쳐서 라미네이트한 후에 캐리어재를 벗긴다. 그리고, 캐리어재를 벗긴 면과, 별도 박리성 시트 상에 형성한 보호층을 겹쳐 라미네이트한 후, 바늘 형상의 지그로 전자파 차폐 시트에 개구부를 형성하는 방법;(iv) A conductive adhesive layer is formed on the peelable sheet, and the conductive adhesive layer is laminated on the side of the electrolytic copper foil side of the electrolytic copper foil provided with the carrier material, and then the carrier material is peeled off. And, a method of forming an opening in the electromagnetic wave shielding sheet with a needle-shaped jig after laminating the surface from which the carrier material is peeled off and the protective layer separately formed on the peelable sheet;

(v)박리성 시트 상에 형성한 보호층을, 캐리어재가 구비된 개구부를 갖는 전해 동박의 전해 동박면 측에 겹쳐서 라미네이트한 후에 캐리어재를 벗긴다. 그리고, 캐리어재를 벗긴 면에 도전 접착제층을 형성하는 방법;(v) After laminating the protective layer formed on the peelable sheet on the side of the electrolytic copper foil surface of the electrolytic copper foil having an opening provided with the carrier material, the carrier material is peeled off. And, a method of forming a conductive adhesive layer on the surface of the carrier material peeled off;

(vi)박리성 시트 상에 도전 접착제층을 형성하고, 개구부를 갖는 압연 동박의 표면 중, 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가 0.0001~0.5인 면과, 도전 접착제층을 겹쳐 라미네이트한 후에, 도전 접착제층과 라미네이트한 또 다른 면과, 별도 박리성 시트 상에 형성한 보호층을 겹쳐서 라미네이트하는 방법;(vi) After forming a conductive adhesive layer on a peelable sheet and laminating a surface of a rolled copper foil having an opening with a surface having a root mean square slope (Sdq) of 0.0001 to 0.5 and a conductive adhesive layer, the conductive adhesive layer A method of laminating by overlapping another side laminated with the layer and a protective layer formed on a separate peelable sheet;

(vii)박리성 시트 상에 보호층을 형성하고, 개구부를 갖는 압연 동박의 표면 중, 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가 0.0001~0.5인 면의 또 다른 면과, 도전 접착제층을 겹쳐 라미네이트한 후에, 보호층과 라미네이트한 또 다른 면과, 별도 박리성 시트 상에 형성한 도전 접착제 층을 겹쳐서 라미네이트하는 방법;(vii) After forming a protective layer on the peelable sheet and laminating the other surface of the surface of the rolled copper foil having openings with a root mean square slope (Sdq) of 0.0001 to 0.5 and a conductive adhesive layer, , A method of laminating by overlapping another surface laminated with a protective layer and a conductive adhesive layer formed on a separate peelable sheet;

(viii)개구부를 갖는 압연 동박의 표면 중, 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가 0.0001~0.5인 면의 또 다른 면에 수지 조성물을 도공해서 보호층을 형성하여 박리성 시트를 붙여 맞춘다. 그 후, 또 다른 쪽 면과 별도 박리성 시트 상에 형성한 도전 접착제층을 겹쳐서 라미네이트하는 방법;(viii) Of the surfaces of the rolled copper foil having an opening, a resin composition is applied to another surface of a surface having a root mean square slope (Sdq) of 0.0001 to 0.5 to form a protective layer, and a peelable sheet is attached. Thereafter, a method of laminating by overlapping another surface and a conductive adhesive layer formed on a separate peelable sheet;

(ix)개구부를 갖는 압연 동박의 표면 중, 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가 0.0001~0.5인 면에 도전성 수지 조성물을 도공해서 도전 접착제 층을 형성하여 박리성 시트를 붙여 맞춘다. 그 후, 또 다른 쪽 면과 별도 박리성 시트 상에 형성한 보호층을 겹쳐서 라미네이트 하는 방법; 등을 들 수 있다.(ix) Of the surface of the rolled copper foil having an opening, a conductive resin composition is applied to a surface having a root mean square slope (Sdq) of 0.0001 to 0.5 to form a conductive adhesive layer, and a peelable sheet is attached. Thereafter, a method of laminating by overlapping another surface and a protective layer formed on a separate peelable sheet; And the like.

전자파 차폐 시트는, 도전 접착제층, 금속층, 및 보호층 외에 다른 기능층을 구비해도 좋다. 다른 기능층이란, 하드 코트성, 수증기 배리어성, 산소 배리어성, 열전도성, 저유전율, 고유전율성, 내열성의 기능을 갖는 층이다. The electromagnetic wave shielding sheet may include a functional layer other than a conductive adhesive layer, a metal layer, and a protective layer. The other functional layer is a layer having functions of hard coatability, water vapor barrier property, oxygen barrier property, thermal conductivity, low dielectric constant, high dielectric constant, and heat resistance.

본 발명의 전자파 차폐 시트는, 전자파를 차폐할 필요가 있는 다양한 용도로 사용할 수 있다. 예를 들면, 플렉시블 프린트 배선판은 물론, 리지드 프린트 배선판, COF, TAB, 플렉시블 커넥터, 액정 디스플레이, 터치 패널 등에 사용할 수 있다. 또한, PC의 케이스, 건축재의 벽과 창유리 등의 건축재, 차량, 선박, 항공기 등의 전자파를 차단하는 부재로서도 사용할 수 있다.The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention can be used for various purposes in which it is necessary to shield electromagnetic waves. For example, it can be used not only for flexible printed wiring boards but also for rigid printed wiring boards, COFs, TABs, flexible connectors, liquid crystal displays, and touch panels. Further, it can be used as a member for blocking electromagnetic waves such as a case of a PC, a building material such as a wall and a window glass of a building material, and a vehicle, a ship, and an aircraft.

또한, 본 발명의 전자파 차폐 시트는, 코플래너 회로의 신호 배선에 15GHz의 사인파를 흘렸을 때의 전송 손실이, 8dB미만이라는 우수한 전송 특성을 가질 수 있다.In addition, the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention can have excellent transmission characteristics such that a transmission loss when a 15 GHz sine wave is passed through a signal line of a coplanar circuit is less than 8 dB.

구체적으로는, 예를 들면 다음과 같이 해서 전송 특성을 평가할 수 있다.Specifically, the transmission characteristics can be evaluated in the following manner, for example.

우선, 코플래너 회로를 준비한다.First, prepare a coplanar circuit.

코플래너 회로란 폴리이미드 필름 등의 절연성 기재의 한쪽면 측에 신호 배선이 프린트된 평면 전송 회로 중 하나이다. 본 평가 방법에서는, 코플래너 회로는 폴리이미드 필름 상에 2개의 신호 배선을 사이엔 끼운 형태로 그랜드 배선이 나란히 형성된 회로를 사용한다. 또한, 코플래너 회로는, 대향하는 면에 그랜드 접지용의 그랜트 패턴이, 스루홀을 통해서 설치되어 있다.The coplanar circuit is one of flat transmission circuits in which signal wirings are printed on one side of an insulating substrate such as a polyimide film. In this evaluation method, the coplanar circuit uses a circuit in which ground wirings are formed side by side in the form of sandwiching two signal wirings on a polyimide film. In addition, in the coplanar circuit, a grant pattern for ground grounding is provided on an opposite surface through a through hole.

코플래너 회로의 신호 배선과 반대측의 절연성 기재면에 전자파 차폐 시트의 도전 접착제층을 붙여 맞춰서, 열 프레스에 의해 전자파 차폐 시트를 적층한다. 이때 전자파 차폐 시트는 일부 노출되어 있는 그랜드 패턴과 도통한다. 이 방법에 의해, 전송 특성 평가용의 테스트 피스를 얻을 수 있다.An electromagnetic wave shielding sheet is laminated by hot pressing by attaching a conductive adhesive layer of an electromagnetic wave shielding sheet to the insulating substrate surface opposite to the signal wiring of the coplanar circuit. At this time, the electromagnetic shielding sheet conducts with the partially exposed ground pattern. By this method, a test piece for evaluation of transmission characteristics can be obtained.

이 테스트 피스의 코플래너 회로에 네트워크 애널라이저를 접속하여, 코플래너 회로의 신호 배선에 100MHz에서 20GHz의 사인파를 흘렸을 때의 입력 전력, 출력 전력의 비(比)를 구해 전송 손실을 산출하여 평가할 수 있다. 또한, 전력 대신에 전압비, 전류비를 사용할 수 있다.By connecting a network analyzer to the coplanar circuit of this test piece, the ratio of the input power and output power when a sine wave of 100 MHz to 20 GHz is passed through the signal wiring of the co-planar circuit can be calculated and evaluated. . In addition, a voltage ratio and a current ratio can be used instead of power.

본 발명에 있어서, 코플래너 회로의 신호 배선에 15GHz의 사인파를 흘렸을 때의 전송 손실은 8dB미만이 바람직하고, 7.5dB미만이 더 바람직하고, 7dB미만이 한층 더 바람직하다. 전송 손실이 8dB미만이 됨으로써, 높은 수준에서의 전송 손실의 저감을 실현할 수 있다.In the present invention, the transmission loss when a 15 GHz sine wave is passed through the signal wiring of the coplanar circuit is preferably less than 8 dB, more preferably less than 7.5 dB, and even more preferably less than 7 dB. Since the transmission loss is less than 8 dB, it is possible to realize a reduction in transmission loss at a high level.

본 발명의 전자파 차폐 시트는, 도전 접착제층 중의 바인더 수지에 열가소성 수지를 사용하는 경우, 포함된 열경화성 수지가 고체 상태로 존재하여 배선판과 열 프레스에 의해 열가소성 수지를 용융하고, 냉각 후에 다시 고체화함으로써 원하는 접착 강도를 얻을 수 있다.In the case of using a thermoplastic resin for the binder resin in the conductive adhesive layer, the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention melts the thermoplastic resin by hot pressing with a wiring board and solidifies again after cooling, so that the thermosetting resin contained therein exists in a solid state. Adhesive strength can be obtained.

본 발명의 전자파 차폐 시트는, 도전 접착제층 중의 바인더 수지에 열경화성 수지를 사용하는 경우, 포함된 열경화성 수지와 경화제가 미경화 상태로 존재하고 (B스테이지), 배선판과 열 프레스에 의해 경화함으로써(C스테이지), 원하는 접착 강도를 얻을 수 있다. 또한, 상기 미경화 상태는, 경화제의 일부가 경화한 반경화 상태를 포함한다.In the case of using a thermosetting resin for the binder resin in the conductive adhesive layer, the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention is present in an uncured state (Stage B) and cured by heat press with a wiring board (C Stage), the desired adhesive strength can be obtained. Further, the uncured state includes a semi-cured state in which a part of the curing agent is cured.

또한, 전자파 차폐 시트는, 이물질의 부착을 방지하므로, 도전 접착제층 및 보호층에 박리성 시트를 붙인 상태에서 보존하는 것이 일반적이다.In addition, since the electromagnetic wave shielding sheet prevents adhesion of foreign substances, it is common to store the conductive adhesive layer and the protective layer in a state where the releasable sheet is attached.

박리성 시트는, 종이나 플라스틱 등의 기재에 공지의 박리 처리를 한 시트이다.The peelable sheet is a sheet obtained by subjecting a substrate such as paper or plastic to a known peeling treatment.

<전자파 차폐성 배선 회로 기판><Electromagnetic wave shielding wiring circuit board>

전자파 차폐성 배선 회로 기판은, 본 발명의 전자파 차폐 시트로 형성하여 이루어지는 전자파 차폐층, 커버 코트층, 및 신호 배선과 그랜드 배선을 갖는 회로 패턴 및 절연성 기재를 갖는 배선판을 구비한다.The electromagnetic wave shielding wiring circuit board includes an electromagnetic wave shielding layer formed from the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, a cover coat layer, and a circuit pattern having signal wiring and ground wiring, and a wiring board having an insulating substrate.

배선 회로 기판은, 상기 배선판 상에 그랜드 배선 상의 적어도 일부에 비아를 갖는 커버 코트층을 형성하여, 전자파 차폐 시트의 도전 접착제층 면을, 상기 커버 코트층 상에 배치시킨 후, 상기 전자파 차폐 시트를 열 프레스하여, 비아 내부에 도전 접착제층을 유입시켜 그랜드 배선과 접착시킴으로써 제조할 수 있다.In the wiring circuit board, after forming a cover coat layer having a via on at least a part of the ground wiring on the wiring board, placing the conductive adhesive layer side of the electromagnetic wave shielding sheet on the cover coat layer, the electromagnetic wave shielding sheet is By hot pressing, a conductive adhesive layer is introduced into the via to be bonded to the ground wiring.

본 발명의 전자파 차폐성 배선 회로 기판의 일례에 관해서, 도 3을 참조하여 설명한다.An example of the electromagnetic wave shielding wiring circuit board of the present invention will be described with reference to FIG. 3.

전자파 차폐층(12)은, 상기 전자파 차폐 시트로 형성하여 이루어진 층이며, 도전 접착제층(1), 금속층(2), 보호층(3) 또는 이들의 적층 경화물을 포함한다.The electromagnetic shielding layer 12 is a layer formed of the electromagnetic shielding sheet, and includes a conductive adhesive layer 1, a metal layer 2, a protective layer 3, or a laminated cured product thereof.

커버 코트층(8)은, 배선판의 신호 배선을 덮어 외부 환경으로부터 보호하는 절연 재료이다. 커버 코트층은, 열경화성 접착제가 구비된 폴리이미드 필름, 열경화형 혹은 자외선 경화형의 솔더레지스트, 또는 감광성 커버레이 필름이 바람직하고, 미세 가공을 하기 위해서는 감광성 커버레이 필름이 더 바람직하다. 또한, 커버 코트층은, 폴리이미드 등의 내열성과 유연성을 갖춘 공지의 수지를 사용하는 것이 일반적이다. 커버 코트층의 두께는, 통상 10~100μm 정도이다.The cover coat layer 8 is an insulating material that covers the signal wiring of the wiring board and protects it from the external environment. The cover coat layer is preferably a polyimide film provided with a thermosetting adhesive, a thermosetting or ultraviolet curable solder resist, or a photosensitive coverlay film, and a photosensitive coverlay film is more preferred for fine processing. In addition, for the cover coat layer, it is common to use a known resin having heat resistance and flexibility such as polyimide. The thickness of the cover coat layer is usually about 10 to 100 μm.

회로 패턴은, 어스를 취하는 그랜드 배선(5), 전자 부품에 전기 신호를 보내는 신호 배선(6)을 포함한다. 양자는 동박을 에칭 처리함으로써 형성하는 것이 일반적이다. 회로 패턴의 두께는, 통상 1~50μm 정도이다.The circuit pattern includes a ground wiring 5 for taking a ground and a signal wiring 6 for sending an electric signal to an electronic component. It is common to form both by etching a copper foil. The thickness of the circuit pattern is usually about 1 to 50 μm.

절연성 기재(9)는, 회로 패턴의 지지체로서, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리페닐렌설파이드, 액정 폴리머 등의 굴곡 가능한 플라스틱이 바람직하고, 액정 폴리머 또는 폴리이미드가 더 바람직하다. 이들 중에서도 고주파의 신호를 전송하는 배선 회로 기판의 용도를 고려하면, 비유전율 및 유전 정접이 낮은 액정 폴리머가 한층 더 바람직하다.The insulating substrate 9 is preferably a flexible plastic such as polyester, polycarbonate, polyimide, polyphenylene sulfide, or liquid crystal polymer, and more preferably a liquid crystal polymer or polyimide as a support for a circuit pattern. Among these, considering the use of a wiring circuit board for transmitting high-frequency signals, a liquid crystal polymer having a low relative permittivity and a dielectric loss tangent is still more preferable.

배선판이 리지드 배선판의 경우, 절연성 기재의 구성 재료는 유리 에폭시가 바람직하다. 이들과 같은 절연성 기판을 구비함으로써 배선 회로 기판은 높은 내열성이 얻어진다.In the case where the wiring board is a rigid wiring board, the constituent material of the insulating substrate is preferably glass epoxy. By providing such an insulating substrate, the wiring circuit board can obtain high heat resistance.

전자파 차폐 시트(10)와, 배선판과의 열 프레스는, 온도 150~190℃ 정도, 압력 1~3MPa 정도, 시간 1~60분 정도의 조건으로 수행하는 것이 일반적이다. 열 프레스에 의해 도전 접착제층(1)과 커버 코트층(8)이 밀착하면서 동시에 도전 접착제층(1)이 유동해서 커버 코트층(7)에 형성된 비아(11)를 메움으로써 그랜드 배선(5)과의 사이에서 도통이 취해진다. 열 프레스에 의해 열경화성 수지가 반응해서 경화하여, 전자파 차폐층(12)이 된다.The heat pressing between the electromagnetic shielding sheet 10 and the wiring board is generally performed under conditions of a temperature of about 150 to 190°C, a pressure of about 1 to 3 MPa, and a time of about 1 to 60 minutes. The conductive adhesive layer 1 and the cover coat layer 8 are in close contact with each other by hot pressing, and at the same time, the conductive adhesive layer 1 flows to fill the via 11 formed in the cover coat layer 7 to fill the ground wiring 5 Conductivity is taken between and. The thermosetting resin reacts and cures by hot pressing to form the electromagnetic wave shielding layer 12.

또한, 경화를 촉진시키기 위해, 열 프레스 후에 150~190℃에서 30~90분간 후경화(post cure)를 행하는 경우도 있다.In addition, in order to accelerate the curing, post cure may be performed at 150 to 190°C for 30 to 90 minutes after hot pressing.

상기 비아(11)의 개구 면적은 0.8㎟ 이하가 바람직하고, 0.008㎟ 이상이 바람직하다. 상기 범위로 함으로써 그랜드 배선의 영역을 좁힐 수 있어, 프린트 배선판의 소형화를 실현할 수 있다.The opening area of the via 11 is preferably 0.8 mm 2 or less, and preferably 0.008 mm 2 or more. By setting it as the said range, the area|region of a ground wiring can be narrowed, and the size reduction of a printed wiring board can be realized.

비아의 형상은 특별히 한정되지 않고, 원, 정사각형, 직사각형, 삼각형 및 부정형 등 용도에 따라 어느 것이나 사용할 수 있다.The shape of the via is not particularly limited, and any shape such as circle, square, rectangle, triangle, and irregular shape may be used depending on the application.

전자파 차폐층은 배선판의 양면에 적층하는 것이, 전자파의 누설을 더 효과적으로 억제할 수 있는 점에서 바람직하다. 게다가, 본 발명의 전자파 차폐성 배선 회로 기판에서의 전자파 차폐층은 전자파를 차폐하는 것 외에 그랜드 회로로서 이용할 수 있으며, 그에 의해 그랜드 회로의 일부를 생략하여 배선 회로 기판의 면적을 축소함으로써 비용 절감이 가능해져 케이스체 내의 좁은 영역에 조립할 수 있다.It is preferable to laminate the electromagnetic wave shielding layer on both sides of the wiring board from the viewpoint of more effective suppression of leakage of electromagnetic waves. In addition, the electromagnetic wave shielding layer in the electromagnetic wave shielding wiring circuit board of the present invention can be used as a ground circuit in addition to shielding electromagnetic waves, thereby reducing the area of the wiring circuit board by omitting a part of the ground circuit. And can be assembled in a narrow area within the case body.

또한, 신호 배선에 관해서, 특별히 한정하는 것이 아니라, 하나의 신호 배선으로 이루어진 싱글엔드, 두 개의 신호 배선으로 구성된 차동 회로의 두 회로에도 사용할 수 있지만, 차동 회로가 더 바람직하다. 한편, 배선판의 회로 패턴 면적에제약이 있으며, 그랜드 회로를 병렬로 형성하는 것이 어려운 경우에는, 신호 회로의 옆에는 그랜드 회로를 설치하지 않고 전자파 차폐층을 그랜드 회로로서 이용하여 두께 방향으로 그랜드를 갖는 프린트 배선판 구조로 할 수도 있다.Further, the signal wiring is not particularly limited, and can be used for two circuits of a single-ended circuit consisting of one signal wiring and a differential circuit consisting of two signal wirings, but a differential circuit is more preferable. On the other hand, if there is a limitation in the circuit pattern area of the wiring board and it is difficult to form the ground circuit in parallel, the ground circuit is not installed next to the signal circuit, and the electromagnetic wave shielding layer is used as the ground circuit to have a gland in the thickness direction. It can also be made into a printed wiring board structure.

본 발명의 전자파 차폐성 배선 회로 기판은, 액정디스플레이, 터치 패널 등 외에도 노트북 PC, 휴대 전화, 스마트 폰, 태블릿 단말 등의 전자 기기에 구비하는(탑재하는) 것이 바람직하다.The electromagnetic wave shielding wiring circuit board of the present invention is preferably provided (mounted) in electronic devices such as notebook PCs, mobile phones, smart phones, and tablet terminals in addition to liquid crystal displays and touch panels.

[실시 예][Example]

이하, 본 발명을 실시 예에 의해 더욱 상세하게 설명하겠는데, 본 발명은 다음의 실시 예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시 예 중의 「부(部)」는 「중량부」를, 「%」는 「중량%」를 각각 나타내는 것으로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples, but the present invention is not limited to the following examples. In addition, "parts" in the examples represent "parts by weight", and "%" represents "% by weight".

또한, 수지의 산가와 중량 평균 분자량(Mw)과 유리 전이 온도(Tg), 및 도전성 필러의 평균 입자 지름의 측정은 다음의 방법으로 행했다.In addition, the acid value, the weight average molecular weight (Mw) of the resin, the glass transition temperature (Tg), and the measurement of the average particle diameter of a conductive filler were performed by the following method.

<<바인더 수지의 산가의 측정>><<Measurement of acid value of binder resin>>

산가(酸價)는, JIS K0070에 준하여 측정하였다. 공전 삼각 플라스크 중에 시료 약 1g을 정밀하게 달아 테트라히드로푸란/에탄올(용량비:테트라히드로푸란/에탄올 = 2/1) 혼합액 100ml를 더하여 용해한다. 여기에, 페놀프탈레인 시액을 지시약으로서 더하여 0.1N 알코올성 수산화 칼륨 용액으로 적정(滴定)하여, 지시약이 담홍색을 30초간 유지했을 때를 종점으로 하였다. 산가는, 다음 식에 의해 구하였다(단위:mgKOH/g).The acid value was measured according to JIS K0070. About 1 g of a sample is precisely weighed in an orbital Erlenmeyer flask, and 100 ml of a tetrahydrofuran/ethanol (volume ratio: tetrahydrofuran/ethanol = 2/1) mixture is added and dissolved. Here, a phenolphthalein test solution was added as an indicator, and titrated with a 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution, and the end point was when the indicator kept a pink color for 30 seconds. The acid value was calculated|required by the following formula (unit: mgKOH/g).

산가(mgKOH/g) = (5.611×a×F) / SAcid value (mgKOH/g) = (5.611×a×F) / S

다만, but,

S : 시료의 채취량(g)S: Sample collection amount (g)

a : 0.1N 알코올성 수산화칼륨 용액의 소비량(ml)a: Consumption amount of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution (ml)

F : 0.1N 알코올성 수산화칼륨 용액의 역가(力價)F: titer of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution

<<바인더 수지의 중량 평균 분자량(Mw)의 측정>><<Measurement of weight average molecular weight (Mw) of binder resin>>

중량 평균 분자량(Mw)의 측정은 토소주식회사 제품 GPC(겔 투과 크로마토그래피)「HPC-8020」을 이용하였다. GPC는 용매(THF; 테트라히드로푸란)에 용해된 물질을 그 분자 사이즈의 차이에 의해 분리 정량하는 액체 크로마토 그래프이다. 본 발명에서의 측정은, 칼럼에 「LF-604」(쇼와덴코 주식회사 제품 :급속분석용 GPC 칼럼:6mmID × 150mm 사이즈)를 직렬로 2개 접속하여 사용하고, 유량 0.6ml/min, 칼럼 온도 40℃의 조건에서 행하여 중량 평균 분자량(Mw)의 결정은 폴리스티렌 환산으로 행하였다.The weight average molecular weight (Mw) was measured using Toso Corporation GPC (gel permeation chromatography) "HPC-8020". GPC is a liquid chromatograph in which a substance dissolved in a solvent (THF; tetrahydrofuran) is separated and quantified by the difference in molecular size. In the measurement in the present invention, two ``LF-604'' (Showa Denko Co., Ltd. product: GPC column for rapid analysis: 6mmID × 150mm size) were connected in series to be used, and the flow rate was 0.6 ml/min, and the column temperature. It carried out under the conditions of 40 degreeC, and the weight average molecular weight (Mw) was determined in terms of polystyrene.

<<바인더 수지의 유리 전이 온도(Tg)>><< glass transition temperature of binder resin (Tg) >>

Tg의 측정은, 시차 주사 열량 측정(메틀러 토레도사 제품 「DSC-1」)에 의해 측정했다.The measurement of Tg was measured by differential scanning calorimetry ("DSC-1" manufactured by METTLER TOLEDO).

<<도전성 필러의 평균 입자 지름 측정>><<Measurement of average particle diameter of conductive filler>>

D50 평균 입자 지름은, 레이저 회절·산란법 입도 분포 측정 장치 LS13320 (벡크만 쿨터사 제품)을 사용하여, 토네이도 드라이 파우더 샘플 모듈로 도전성 필러를 측정하여 얻은 수치이며, 입자 지름 누적 분포에서의 누적 값이 50%인 입자 지름이다. 또한, 굴절률의 설정은 1.6로 하였다.The D50 average particle diameter is a value obtained by measuring a conductive filler with a tornado dry powder sample module using a laser diffraction/scattering particle size distribution measuring device LS13320 (manufactured by Beckman Coulter), and is a cumulative value in the cumulative particle diameter distribution. This is the particle diameter of 50%. In addition, the setting of the refractive index was set to 1.6.

이어서, 실시 예에서 사용한 원료를 아래에 나타낸다.Next, the raw materials used in the examples are shown below.

<<원료>><<Material>>

도전성 필러 : 복합 미립자(핵체의 구리 100중량부에 대하여 은이 10중량부 피복된 덴드라이트 형상의 미립자) 평균 입자 지름 D50:11.0μm 후쿠다 금속박분 공업사 제품Conductive filler: Composite fine particles (dendritic fine particles coated with 10 parts by weight of silver per 100 parts by weight of copper in the core) Average particle diameter D50: 11.0 μm manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industrial Co., Ltd.

바인더 수지 : 산가 5mgKOH/g, 중량 평균 분자량은 54,000, Tg는 -7℃의 폴리 우레탄우레아 수지(토요켐사 제품)Binder resin: Polyurethane urea resin with acid value of 5mgKOH/g, weight average molecular weight of 54,000, Tg of -7℃ (manufactured by Toyochem)

에폭시 화합물 : 「JER828」(비스페놀A형 에폭시 수지 에폭시 당량=189g/eq) 미츠비시케미컬사 제품Epoxy compound: "JER828" (bisphenol A type epoxy resin epoxy equivalent = 189g/eq) manufactured by Mitsubishi Chemical

아지리딘 화합물 : 「케미타이토 PZ-33」니혼쇼쿠바이사 제품Aziridine compound: "Chemite PZ-33" manufactured by Nihonshokubai

안료 : 카본 블랙「MA100」미츠비시케미컬사 제품Pigment: Carbon black "MA100" manufactured by Mitsubishi Chemical

캐리어재 : 「EMBLETS25」(Sdq = 0.02) 유니티카사 제품Carrier material: 「EMBLETS25」 (Sdq = 0.02) manufactured by Unityca

<도전 접착제층(1)의 제조><Production of conductive adhesive layer (1)>

고형분 환산으로 바인더 수지를 100부, 도전성 필러를 47부, 에폭시 화합물을 10부, 아지리딘 화합물을 0.5부 용기에 준비하여, 불휘발분 농도가 40%가 되도록 혼합 용제(톨루엔 : 이소프로필알코올 = 2:1(중량비))를 더하여 디스퍼로 10분 동안 교반해서 도전성 수지 조성물을 얻었다.In terms of solid content, 100 parts of a binder resin, 47 parts of a conductive filler, 10 parts of an epoxy compound, and 0.5 parts of an aziridine compound were prepared in a container, and a mixed solvent (toluene: isopropyl alcohol = 2) so that the non-volatile content concentration was 40%. :1 (weight ratio)) was added, and it stirred with a disper for 10 minutes, and obtained the conductive resin composition.

도전성 수지 조성물을 바 코터로 건조 두께가 10μm가 되도록 박리성 시트 상에 도공하여 100℃의 전기 오븐에서 2분간 건조함으로써 도전 접착제층(1)을 얻었다.The conductive resin composition was coated on a peelable sheet with a bar coater to a dry thickness of 10 μm, and dried in an electric oven at 100° C. for 2 minutes to obtain a conductive adhesive layer (1).

<도전 접착제층 2~8의 제조><Production of conductive adhesive layers 2 to 8>

도전성 필러의 첨가량을 바꾼 이외는 도전 접착제층(1)과 같은 방법으로 표 1-3에 나타내는 도전 접착제층 2-8를 제작했다.A conductive adhesive layer 2-8 shown in Table 1-3 was produced in the same manner as the conductive adhesive layer 1 except for changing the amount of the conductive filler added.

[실시 예 1][Example 1]

고형분 환산으로 바인더 수지를 100부, 에폭시 화합물 30부 및 아지리딘 화합물 7.5부를 더하여 디스퍼로 10분 교반함으로써 수지 조성물을 얻었다. 얻어진 수지 조성물을 바 코터를 사용해서 건조 두께가 5μm가 되도록, 동박에 도공하여 100℃의 전기 오븐으로 2분간 건조하여 보호층(1)을 형성하고, 보호층(1)에 미점착 박리성 시트를 붙혀 맞췄다.A resin composition was obtained by adding 100 parts of a binder resin, 30 parts of an epoxy compound, and 7.5 parts of an aziridine compound in terms of solid content, and stirring with a disper for 10 minutes. The obtained resin composition was coated on copper foil to a dry thickness of 5 μm using a bar coater, dried in an electric oven at 100° C. for 2 minutes to form a protective layer (1), and a non-adhesive peelable sheet on the protective layer (1) I hit it.

이어서, 동박의 캐리어재를 떼어, 동박면을 버프 연마하고, 동박면의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)를 표 1에 나타내는 값이 되도록 조정했다. 연마 후의, 동박면에 도전 접착제층(4)을 붙여 맞춤으로써, 「박리성 시트/보호층(1)/동박(2)/도전 접착제층(4)/박리성 시트」로 이루어지는 전자파 차폐 시트를 얻었다. 동박(2)과 도전 접착제층(4)의 붙임은, 온도는 90℃, 압력은 3kgf/㎠로 열 라미네이터에 의해 붙여 맞췄다.Subsequently, the carrier material of the copper foil was removed, the copper foil surface was buff-polished, and the root mean square slope (Sdq) of the copper foil surface was adjusted to a value shown in Table 1. After polishing, by attaching the conductive adhesive layer 4 to the copper foil surface, an electromagnetic wave shielding sheet made of ``releasable sheet/protective layer (1)/copper foil (2)/conductive adhesive layer (4)/releasable sheet)” Got it. The copper foil 2 and the conductive adhesive layer 4 were pasted together by a thermal laminator at a temperature of 90°C and a pressure of 3 kgf/cm 2.

또한, 동박(2)은, 캐리어재 상에 형성된 동박 상에 패턴 레지스트층을 형성하여 동박을 에칭해서 개구부를 형성하는 방법에 의해, 표 1에 나타낸 두께, 및 개구율 등을 가지는 동박이다.In addition, the copper foil 2 is a copper foil having a thickness shown in Table 1, an aperture ratio, etc. by a method of forming a pattern resist layer on a copper foil formed on a carrier material and etching the copper foil to form an opening.

[실시 예 2~29, 비교 예 1~4 ][Examples 2 to 29, Comparative Examples 1 to 4]

표 1~3에 나타내는 바와 같이, 도전 접착제층, 보호층, 및 동박의 종류를 변경한 것 이외에는 실시 예 1과 동일하게 수행하여, 실시 예 2~29, 비교 예 1~4의 전자파 차폐 시트를 각각 얻었다. 동박 표면의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)의 목표값이, 캐리어재의 값과 다른 경우에는, 적절히 버프 연마에 의해 표면을 연마하거나 거칠게 하는 등에 의해, 제급평균제곱근 경사(Sdq)를 조정했다.As shown in Tables 1 to 3, except for changing the types of the conductive adhesive layer, the protective layer, and the copper foil, the same was performed as in Example 1, and the electromagnetic wave shielding sheets of Examples 2 to 29 and Comparative Examples 1 to 4 were prepared. Respectively obtained. When the target value of the root mean square slope (Sdq) of the copper foil surface was different from the value of the carrier material, the graded root mean square slope (Sdq) was adjusted by appropriately grinding or roughening the surface by buffing.

얻어진 전자파 차폐 시트에 관해서, 각층의 두께, 금속층의 제곱평균제곱근 경사(Sdq), 및 전자파 차폐 시트의 손실 정접의 측정은 다음의 방법으로 수행하였다.Regarding the obtained electromagnetic wave shielding sheet, the thickness of each layer, the root mean square slope (Sdq) of the metal layer, and the loss tangent of the electromagnetic wave shielding sheet were measured by the following method.

<<각층 두께의 측정>><<Measurement of each layer thickness>>

전자파 차폐 시트의 도전 접착제층, 금속층, 및 보호층의 두께는, 다음의 방법에 의해 측정했다.The thickness of the conductive adhesive layer, the metal layer, and the protective layer of the electromagnetic wave shielding sheet were measured by the following method.

전자파 차폐 시트의 도전 접착제층 측의 박리성 시트를 벗겨, 노출된 도전 접착제층과 폴리이미드 필름(토레이·듀폰사 제품 「카프톤 200EN」)를 붙여서, 2MPa, 170℃의 조건에서 30분 열프레스하였다. 이것을 폭 5mm, 길이 5mm 정도의 크기로 절단한 후, 에폭시 수지(페트로폭시154, 마루토사 제품)를 슬라이드 글라스 형태로 0.05g 적하하여, 전자파 차폐 시트를 접착시켜, 슬라이드 글라스/전자파 차폐 시트/폴리이미드 필름의 구성의 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체를 크로스 섹션 폴리셔(니혼덴시사 제품, SM-09010)를 이용하여 폴리이미드 필름측에서 이온 빔 조사에 의해 절단 가공하여 열 프레스 후의 전자파 차폐 시트의 측정 시료를 얻었다.Peel off the peelable sheet on the side of the conductive adhesive layer of the electromagnetic shielding sheet, attach the exposed conductive adhesive layer and polyimide film ("Kafton 200EN" manufactured by Toray DuPont), and heat press for 30 minutes at 2 MPa at 170°C. I did. After cutting this into a size of about 5 mm in width and 5 mm in length, 0.05 g of epoxy resin (Petropoxy 154, manufactured by Maruto Corporation) was added dropwise in the form of a slide glass, and the electromagnetic shielding sheet was adhered to the slide glass/electromagnetic shielding sheet/polyee. A laminate of the configuration of a mid film was obtained. The obtained laminate was cut from the polyimide film side by ion beam irradiation using a cross section polisher (SM-09010, manufactured by Nippon Denshi Corporation) to obtain a measurement sample of the electromagnetic wave shielding sheet after hot pressing.

얻어진 측정 시료의 단면을 레이저 마이크로스코프(키엔스사 제품, VK-X100)를 사용하여, 관찰한 확대 화상에서 각층의 두께를 측정했다. 배율은 500~2000배로했다.The cross section of the obtained measurement sample was measured using a laser microscope (VK-X100, manufactured by Keyence Corporation) in the observed enlarged image to measure the thickness of each layer. The magnification was 500 to 2000 times.

<<금속층의 제급평균제곱근 경사(Sdq)의 측정>><<Measurement of the slope of the class average square (Sdq) of the metal layer>>

전자파 차폐 시트의 금속층의 제곱평균제곱근 경사(Sdq)는, 다음의 방법으로 측정했다.The root mean square slope (Sdq) of the metal layer of the electromagnetic wave shielding sheet was measured by the following method.

전자파 차폐 시트의 도전 접착제층 측의 박리성 시트를 벗겨, 노출된 도전 접착제 층에 점착테이프(니치반사 제품 「CT1835」)를, 점착 테이프의 단부를 남기고 붙여서, 점착 테이프의 단부에서 박리를 행하여, 도전 접착제층/점착 테이프를 박리한다. 도전 접착제층이 제거되어, 노출된 금속층의 표면을 레이저 마이크로스코프(키엔스사 제품 VK-X100)를 사용하여, 측정 데이터 취득을 하였다.Peel off the peelable sheet on the side of the conductive adhesive layer of the electromagnetic wave shielding sheet, attach an adhesive tape (Nichi Reflective product ``CT1835'') to the exposed conductive adhesive layer, leaving the end of the adhesive tape, and peel off at the end of the adhesive tape, The conductive adhesive layer/adhesive tape is peeled off. The conductive adhesive layer was removed and the surface of the exposed metal layer was subjected to measurement data acquisition using a laser microscope (VK-X100 manufactured by Keyence Corporation).

취득한 측정 데이터를 해석 소프트웨어(ISO 25178 표면성상 계측 모듈 「VK-H1XR」을 갖춘, 해석 어플리케이션「VK-H1XA」, 모두 키엔스사 제품)로 가져와, ISO 25178 표면 성상 계측을 실행하였다(조건은 S-필터;1μm, L-필터;0.2mm). 또한, 표면에 개구부를 갖는 금속층에 관해서는, ISO 25178 표면 성상 계측을 실행할 때에는 개구부는 계측 범위에서 제외했다.The obtained measurement data was imported into analysis software (an analysis application “VK-H1XA” equipped with ISO 25178 surface property measurement module “VK-H1XR”, all manufactured by Keyence Corporation), and ISO 25178 surface property measurement was performed (condition is S- Filter; 1 μm, L-filter; 0.2 mm). In addition, regarding the metal layer having openings on the surface, the openings were excluded from the measurement range when ISO 25178 surface property measurement was performed.

<<적층 경화물의 손실 정접의 측정>><<Measurement of loss tangent of laminated cured product>>

적층 경화물의 손실 정접은, 다음의 방법으로 측정했다.The loss tangent of the laminated cured product was measured by the following method.

우선, 폭 50mm·길이 50mm의 전자파 차폐 시트를 2장 준비하여, 각각의 도전 접착제층 측의 박리성 시트를 벗겨, 노출된 도전 접착제층끼리 붙여 맞춰서, 170℃, 2.0MPa, 30분의 조건으로 압착하여, 열 경화시켜서 적층 경화물을 얻었다. 그 후, 적층 경화물의 중심 부분을 폭 5mm·길이 30mm로 잘라내서 시료로 하였다. 이 시료를 동적(動的) 점탄성 측정 장치(동적 점탄성 측정 장치 DVA-200, 아이티계측 제어사 제품)에 셋팅하여, 승온 속도:10℃/분, 측정 주파수:1Hz, 왜곡:0.08%의 조건으로 동적 점탄성 측정을 행하여, 얻어진 동적 점탄성 곡선에서, 125℃에서의 손실 탄성율(E''), 저장 탄성률(E')을 읽어, 적층 경화물의 손실 정접을 산출하였다. 도 8에 동적 점탄성 곡선의 일례(실시 예 5)를 나타낸다.First, two electromagnetic wave shielding sheets having a width of 50 mm and a length of 50 mm were prepared, the peelable sheet on the side of each conductive adhesive layer was peeled off, and the exposed conductive adhesive layers were pasted together, under conditions of 170°C, 2.0 MPa, and 30 minutes. It pressed and heat-cured to obtain a laminated cured product. Thereafter, the central portion of the laminated cured product was cut into a width of 5 mm and a length of 30 mm to obtain a sample. This sample is set in a dynamic viscoelasticity measurement device (dynamic viscoelasticity measurement device DVA-200, manufactured by Haiti Measurement and Control Co., Ltd.), and the temperature rise rate: 10°C/min, measurement frequency: 1 Hz, distortion: 0.08%. The dynamic viscoelasticity was measured, and from the obtained dynamic viscoelastic curve, the loss modulus (E") and storage modulus (E') at 125°C were read, and the loss tangent of the laminated cured product was calculated. 8 shows an example of a dynamic viscoelastic curve (Example 5).

얻어진 전자파 차폐 시트를 사용하여 다음 평가를 실시했다. 결과를 표 1~3에 나타낸다.The following evaluation was performed using the obtained electromagnetic wave shielding sheet. The results are shown in Tables 1-3.

<납땜 리플로우 내성><Soldering reflow resistance>

납땜 리플로우 내성은, 전자파 차폐 시트와 용융 땜납을 접촉시킨 후의, 외관 변화의 여부에 따라서 평가했다. 납땜 리플로우 내성이 높은 전자파 차폐 시트는, 외관이 변화하지 않지만, 납땜 리플로우 내성이 낮은 전자파 차폐 시트는 발포나 벗겨짐이 발생한다.The solder reflow resistance was evaluated according to the appearance change after the electromagnetic wave shielding sheet and the molten solder were brought into contact with each other. The electromagnetic wave shielding sheet having high solder reflow resistance does not change its appearance, but the electromagnetic wave shielding sheet having low solder reflow resistance causes foaming and peeling.

우선, 폭 25mm·길이 70mm의 전자파 차폐 시트의 도전 접착제층의 박리성 시트를 벗겨, 노출된 도전 접착제층과, 총 두께 64μm의 금도금 처리된 동장(銅張) 적층판(금도금 0.3μm/니켈도금 1μm/동박 18μm/접착제 20μm/ 폴리이미드 필름 25μm)의 금 도금면을 170℃, 2.0MPa, 30분의 조건으로 압착하여 열 경화시켜서 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체를 폭 10mm·세로 65mm의 크기로 잘라 시료를 제작하였다. 얻어진 시료를 40℃, 90%RH의 분위기 하에서 72시간 방치하였다. 그 후, 시료의 폴리이미드 필름 면을 아래로 해서 250℃의 용융 납땜 상에 1분간 띄우고, 이어서 시료를 꺼내 그 외관을 육안으로 관찰하여, 발포, 들뜸, 벗겨짐 등의 이상 유무를 다음의 기준으로 평가했다.First, peel off the peelable sheet of the conductive adhesive layer of the electromagnetic wave shielding sheet having a width of 25 mm and a length of 70 mm, and the exposed conductive adhesive layer and a copper clad laminate (gold plated 0.3 μm/nickel plated 1 μm) with a total thickness of 64 μm. /Copper foil 18 µm/adhesive 20 µm/polyimide film 25 µm) was subjected to pressure bonding under conditions of 170°C, 2.0 MPa, 30 minutes, and heat cured to obtain a laminate. The obtained laminate was cut into a size of 10 mm in width and 65 mm in length to prepare a sample. The obtained sample was allowed to stand for 72 hours in an atmosphere of 40°C and 90%RH. Thereafter, the polyimide film side of the sample was brought down and floated on a melt soldering at 250° C. for 1 minute, and then the sample was taken out and its appearance was visually observed, and the presence or absence of abnormalities such as foaming, lifting, peeling, etc. Evaluated.

(평가 기준)(Evaluation standard)

◎ : 외관 변화 전혀 없음. 매우 양호함.◎: No change in appearance. Very good.

○ : 작은 발포가 약간 관찰됨. 양호함.○: Small foaming was observed slightly. Good.

△ : 작은 발포가 다수 관찰됨. 실용 가능.△: A large number of small foams were observed. Practical.

× : 심한 발포나 벗겨짐이 관찰됨. 실용 불가.X: Severe foaming or peeling was observed. Impractical.

<전송 특성><transmission characteristics>

전송 특성은, 도 4에 나타내는 전자파 차폐 시트가 구비된 코플래너 회로를 갖는 배선판(20)을 이용하여 평가하였다.The transmission characteristics were evaluated using the wiring board 20 having a coplanar circuit provided with the electromagnetic wave shielding sheet shown in FIG. 4.

측정에 이용한 코플래너 회로를 갖는 플렉서블 프린트 배선판(이하, 코플래너 회로를 갖는 배선판이라고도 함)(20)의 주면(主面) 측의 모식적 평면도를 도 4에, 도 5에, 이면(裏面) 측의 모식적 평면도를 나타낸다. 우선, 두께 50μm의 폴리이미드 필름(50)의 양면에, 두께 12μm의 압연 동박을 적층한 양면CCL「R-F775」(파나소닉사 제품)을 준비하였다. 그리고, 직사각형의 4개의 코너부 근방에, 각각 6개소의 스루 홀(51)(직경 0.1mm)을 설치하였다. 또한, 도면 중에 있어서는, 도시의 편의상, 각 코너부에 스루 홀(51)을 2개만 나타낸다. 이어서, 무전해 도금 처리를 행한 후에, 전해 도금 처리를 하여 10μm의 구리 도금막(52)을 형성하고, 스루 홀(51) 내에 형성된 구리 도금 막을 통해서 주면-이면간의 도통을 확보했다. 그 후, 폴리이미드 필름(50)의 주면에 길이가 10cm인 2개의 신호선(53), 및 그 외측에 신호 배선(53)과 나란한 그랜드 배선(54), 및 그랜드 배선(54)에서 연장되어, 폴리이미드 필름(50)의 짧은 쪽 방향의 스루 홀(51)을 포함하는 영역에 그랜드 패턴(i)(55)을 형성했다.A schematic plan view of the main surface side of the flexible printed wiring board (hereinafter, also referred to as a wiring board having a coplanar circuit) 20 having a coplanar circuit used for measurement is shown in Figs. 4, 5, and the back side. It shows a schematic plan view of the side. First, a double-sided CCL "R-F775" (manufactured by Panasonic) was prepared in which a rolled copper foil having a thickness of 12 μm was laminated on both sides of a polyimide film 50 having a thickness of 50 μm. Then, six through holes 51 (0.1 mm in diameter) were provided in the vicinity of the four rectangular corners. In addition, in the figure, for convenience of illustration, only two through holes 51 are shown in each corner part. Subsequently, after performing the electroless plating treatment, electrolytic plating treatment was performed to form a copper plating film 52 of 10 μm, and conduction between the main surface and the back surface was ensured through the copper plating film formed in the through hole 51. Thereafter, it extends from two signal lines 53 having a length of 10 cm on the main surface of the polyimide film 50, and a ground wiring 54 parallel to the signal wiring 53, and a ground wiring 54 on the outside thereof, A ground pattern (i) 55 was formed in a region of the polyimide film 50 including the through hole 51 in the shorter direction.

그 후, 폴리이미드 필름(50)의 이면에 형성된 동박을 에칭해서, 그랜드 패턴 (i)(55)에 대응하는 위치에, 도 5에 나타내는 바와 같은 이면측 그랜드 패턴 (ii)(56)을 얻었다. 회로의 외관, 공차의 검사 사양은 JPCA 규격(JPCA-DG02)으로 하였다. 이어서, 폴리이미드 필름(50)의 주면 측에, 폴리이미드 필름(두께 12.5μm)과 절연성 접착제층(두께 15μm)으로 구성되는 커버 코트층(7)「CISV1215(닛칸 코교사 제품)」을 첩부하였다. 또한, 도 4에 있어서는, 신호 배선(53) 등의 구조를 알 수 있도록, 커버 코트층(8)을 투시도로 나타내었다. 그 후, 커버 코트층(8)에서 노출된 동박 패턴에 니켈 도금(미도시)을 하고, 이어서 금도금(미도시) 처리를 실시했다.Thereafter, the copper foil formed on the back surface of the polyimide film 50 was etched to obtain a back surface side ground pattern (ii) (56) as shown in FIG. 5 at a position corresponding to the ground pattern (i) (55). . The circuit appearance and tolerance inspection specifications were made in the JPCA standard (JPCA-DG02). Next, on the main surface side of the polyimide film 50, a cover coat layer 7 consisting of a polyimide film (thickness 12.5 μm) and an insulating adhesive layer (thickness 15 μm) ``CISV1215 (manufactured by Nikkan Kogyo)'' was affixed. . In addition, in Fig. 4, the cover coat layer 8 is shown in a perspective view so that the structure of the signal wiring 53 and the like can be understood. Thereafter, nickel plating (not shown) was applied to the copper foil pattern exposed by the cover coat layer 8, followed by gold plating (not shown) treatment.

이어서, 도 6에 나타내는 바와 같이, 상기 각 예의 전자파 차폐 시트(10)의 박리성 시트를 떼어 도전 접착제층(1)을 내측으로서 코플래너 회로를 갖는 배선판(20)의 이면 전체면 측에 170℃, 2.0MPa, 30분의 조건으로 압착함으로써 전자파 차폐층이 있는 코플래너 회로를 갖는 배선판(21)을 얻었다. 도 6에 있어서는, 이면측 그랜드 패턴(ii)(56)을 투시도로 나타내었다. Subsequently, as shown in Fig. 6, the peelable sheet of the electromagnetic wave shielding sheet 10 of each of the above examples is removed, and the conductive adhesive layer 1 is placed on the entire rear side of the wiring board 20 having a coplanar circuit as the inner side at 170°C. , 2.0 MPa and 30 minutes of compression to obtain a wiring board 21 having a coplanar circuit with an electromagnetic wave shielding layer. In Fig. 6, the rear ground pattern (ii) 56 is shown in a perspective view.

또한, 신호 배선(53)의 L/S(라인/스페이스)는 특성 임피던스가 ±10Ω에 들어가도록 적절히 조정했다. 그랜드 배선(54)의 폭은 100μm, 그랜드 배선(54)과 신호 배선(53) 사이의 거리는 1mm로 했다.In addition, the L/S (line/space) of the signal wiring 53 was appropriately adjusted so that the characteristic impedance falls within ±10 Ω. The width of the ground wiring 54 was 100 μm, and the distance between the ground wiring 54 and the signal wiring 53 was 1 mm.

전자파 차폐 시트가 구비된 코플래너 회로를 갖는 배선판(20)의 노출된 신호 배선(53)에 네트워크 애널라이저 E5071C(애질런트 재팬사 제품)를 접속하여 15GHz의 사인파를 입력하고 전송 손실을 측정함으로써 전송 특성을 평가했다. 측정한 전송 특성을 하기의 기준으로 평가했다.Transmission characteristics are measured by connecting a network analyzer E5071C (manufactured by Agilent Japan) to the exposed signal wiring 53 of the wiring board 20 having a coplanar circuit equipped with an electromagnetic shielding sheet, inputting a 15 GHz sine wave and measuring the transmission loss. Evaluated. The measured transmission characteristics were evaluated according to the following criteria.

(평가 기준)(Evaluation standard)

◎ : 15GHz에서의 전송 손실이 7.0dB미만, 매우 양호함.◎: Transmission loss at 15GHz is less than 7.0dB, very good.

○ : 15GHz에서의 전송 손실이 7.0dB이상, 7.5dB미만, 양호함.○: Transmission loss at 15GHz is more than 7.0dB, less than 7.5dB, good.

△ : 15GHz에서의 전송 손실이 7.5dB이상 8.0dB미만, 실용 가능.△: Transmission loss at 15GHz is 7.5dB or more and less than 8.0dB, practical.

× : 15GHz에서의 전송 손실이 8.0dB이상, 실용 불가.×: Transmission loss at 15GHz is 8.0dB or more, not practical.

<고주파 차폐성><High frequency shielding property>

고주파 차폐성은, ASTM D4935에 준거하여 키콤사 제품의 동축(同軸) 관(管)타입의 차폐 효과 측정 시스템을 이용하여, 100MHz~15GHz 조건으로 전자파의 조사를 행하여 전자파가 전자파 차폐 시트로 감쇠하는 감쇠량을 측정하고, 다음 기준에 따라서 표기한다. 또한, 감쇠량의 측정 값은, 데시벨(단위; dB)이다.In accordance with ASTM D4935, the amount of attenuation by which electromagnetic waves are attenuated by the electromagnetic wave shielding sheet by irradiating electromagnetic waves under conditions of 100 MHz to 15 GHz using a coaxial tube-type shielding effect measurement system manufactured by Keycom Corporation in accordance with ASTM D4935. Measure and mark according to the following criteria. In addition, the measured value of the attenuation amount is decibel (unit; dB).

(평가 기준)(Evaluation standard)

◎ : 15GHz의 전자파 조사시의 감쇠량이, -55dB미만 매우 양호함.◎: The attenuation at the time of 15GHz electromagnetic wave irradiation is very good, less than -55dB.

○ : 15GHz의 전자파 조사시의 감쇠량이, -55dB이상, -50dB미만, 양호.○: The attenuation at the time of 15GHz electromagnetic wave irradiation, -55dB or more, less than -50dB, good.

△ : 15GHz의 전자파 조사시의 감쇠량이, -50dB이상, -45dB미만, 실용 가능.△: Attenuation when irradiated with electromagnetic waves of 15GHz, more than -50dB, less than -45dB, practical.

× : 15GHz의 전자파 조사시의 감쇠량이 -45dB이상, 실용 불가.×: Attenuation of -45 dB or more when irradiating electromagnetic waves at 15 GHz is not practical.

<냉열 사이클 신뢰성><Cooling cycle reliability>

냉열 사이클 신뢰성은, 냉열 사이클 전후의 소개구 비아를 통한 접속 저항 값을 측정함으로써 평가하였다. 아래에 평가의 구체적인 방법을 나타낸다.The reliability of the cooling and heating cycle was evaluated by measuring the connection resistance value through the introduction port via before and after the cooling and heating cycle. A specific method of evaluation is shown below.

전자파 차폐 시트를 폭 20mm, 길이 50mm의 크기로 준비하여 시료(25)로 하였다. 도 7(1), (4)의 평면도를 나타내서 설명하면 시료(25)에서 박리성 시트를 벗겨, 노출된 도전 접착제층(25b)을, 별도로 제작한 플렉시블 프린트 배선판(두께 25μm의 폴리이미드 필름(21) 상에 서로 전기적으로 접속되어 있지 않은 두께 18μm의 동박 회로(22A), 및 동박 회로(22B)이 형성되어 있으며, 동박 회로(22A) 상에 두께 37.5μm의 직경 1.1mm (비아 면적이 1.0㎟)의 원형 비아(24)를 갖는 접착제가 있는 폴리이미드 커버레이(23)가 적층된 배선판)에 170℃, 2MPa, 30분의 조건으로 압착하여, 전자파 차폐 시트의 도전 접착제층(25b) 및 보호층(25a)을 경화시킴으로써 시료를 얻었다. 이어서, 시료의 보호층(25a) 측의 박리성 시트를 제거하고, 도 7(4)의 평면도에 나타내는 22A-22B간의 초기 접속 저항값을, 미츠비시카가쿠 애널리텍사 제품「LORESTA-GP」의 BSP의 프로브를 이용하여 측정하였다. 또한, 도 7(2)는, 도 7(1)의 D-D' 단면도, 도 7(3)은 도 7(1)의 C-C' 단면도이다. 마찬가지로 도 7(5)는, 도 7(4)의 D-D' 단면도, 도 7(6)은 도 7(4)의 C-C'단면도이다. 시료를 냉열 충격 장치(「TSE-11-A」, 에스펙사 제품)에 투입하여, 고온 노출:125℃, 15분, 저온 노출:-50℃, 15분의 노출 조건으로 번갈아 노출을 200회 실시했다. 그 후, 시료의 접속 저항 값을, 초기와 마찬가지로 측정했다.An electromagnetic wave shielding sheet was prepared in a size of 20 mm in width and 50 mm in length to obtain a sample 25. 7 (1) and (4) will be described by showing the plan view of the sample 25 by peeling the peelable sheet, the exposed conductive adhesive layer 25b, a separately produced flexible printed wiring board (polyimide film (25 μm thick) ( A copper foil circuit 22A having a thickness of 18 μm and a copper foil circuit 22B that are not electrically connected to each other on the 21) are formed, and on the copper foil circuit 22A, a diameter of 37.5 μm and a diameter of 1.1 mm (via area is 1.0 Mm2) by pressing the wiring board on which the polyimide coverlay 23 is laminated with an adhesive having a circular via 24) under conditions of 170°C, 2 MPa, 30 minutes, and the conductive adhesive layer 25b of the electromagnetic wave shielding sheet and A sample was obtained by curing the protective layer 25a. Subsequently, the peelable sheet on the protective layer 25a side of the sample was removed, and the initial connection resistance value between 22A and 22B shown in the plan view of Fig. 7 (4) was obtained from ``LORESTA-GP'' manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. It was measured using a probe of BSP. 7(2) is a cross-sectional view taken along line D-D' of FIG. 7(1), and FIG. 7(3) is a cross-sectional view taken along line C-C' of FIG. 7(1). Similarly, FIG. 7(5) is a cross-sectional view taken along line D-D' of FIG. 7(4), and FIG. 7(6) is a cross-sectional view taken along line C-C' of FIG. 7(4). The sample was put into a cold shock device ("TSE-11-A", manufactured by SPEC), and 200 exposures were performed alternately under high temperature exposure: 125℃, 15 minutes, low temperature exposure: -50℃, 15 minutes. did. Then, the connection resistance value of the sample was measured similarly to the initial stage.

냉열 사이클 신뢰성의 평가 기준은 다음과 같다.The criteria for evaluating the reliability of the cooling and heating cycle are as follows.

(평가 기준)(Evaluation standard)

◎ :(번갈아 노출후의 접속 저항값)/(초기 접속 저항값)이 1.5미만, 매우 양호함.◎: (connection resistance value after exposure alternately)/(initial connection resistance value) is less than 1.5, very good.

○ :(번갈아 노출후의 접속 저항값)/(초기 접속 저항값)이 1.5이상, 3.0미만, 양호함.○: (Connection resistance value after exposure alternately)/(Initial connection resistance value) is 1.5 or more, less than 3.0, good.

△ :(번갈아 노출후의 접속 저항값)/(초기 접속 저항값)이 3.0이상, 5.0미만, 실용가능.△: (connection resistance value after exposure alternately)/(initial connection resistance value) is 3.0 or more and less than 5.0, practical.

× :(번갈아 노출후의 접속 저항값)/(초기 접속 저항값)이 5.0이상, 실용 불가.X: (connection resistance value after exposure alternately)/(initial connection resistance value) is 5.0 or more, not practical.

[표 1][Table 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

[표 2][Table 2]

Figure pat00003
Figure pat00003

[표 3][Table 3]

Figure pat00004
Figure pat00004

본 출원은, 2019년 6월 18일에 출원된 일본 특허출원 제2019-112479호를 기초로 하는 우선권을 주장하고, 그 개시의 전부를 여기에 포함한다.This application claims the priority based on Japanese Patent Application No. 2019-112479 for which it applied on June 18, 2019, and includes all of the indication here.

1; 도전 접착제층
2; 금속층
3; 보호층
4; 개구부
5; 그랜드 배선
6; 신호 배선
7; 전자파 차폐성 배선 회로 기판
8; 커버 코트층
9; 절연성 기재
10; 전자파 차폐 시트
11; 비아
12; 전자파 차폐층
20; 코플래너 회로를 갖는 배선판
21; 전자파 차폐 시트가 구비된 코플래너 회로를 갖는 배선판
22A,22B; 동박 회로
23; 폴리이미드 커버레이
24; 원형 비아
25; 시료(전자파 차폐 시트)
25a; 보호층
25b; 도전 접착제층
50; 폴리이미드 필름
51; 스루 홀
52; 구리 도금막
53; 신호 배선
54; 그랜드 배선
55; 그랜드 패턴(i)
56; 이면측 그랜드 패턴(ii)
One; Conductive adhesive layer
2; Metal layer
3; Protective layer
4; Opening
5; Grand wiring
6; Signal wiring
7; Electromagnetic shielding wiring circuit board
8; Cover coat layer
9; Insulating substrate
10; Electromagnetic shielding sheet
11; Via
12; Electromagnetic shielding layer
20; Wiring board with coplanar circuit
21; Wiring board with coplanar circuit with electromagnetic shielding sheet
22A, 22B; Copper foil circuit
23; Polyimide coverlay
24; Circular via
25; Sample (electromagnetic shielding sheet)
25a; Protective layer
25b; Conductive adhesive layer
50; Polyimide film
51; Through hole
52; Copper plated film
53; Signal wiring
54; Grand wiring
55; Grand pattern (i)
56; Back side ground pattern (ii)

Claims (5)

도전 접착제층, 금속층, 보호층을 이 순서로 구비한 적층체를 가지며,
도전 접착제층과 접하는 상기 금속층의 계면(界面)은, ISO 25178-2:2012에 준거하여 구한 제곱평균제곱근 경사(Sdq)가 0.0001~0.5이며,
상기 금속층은, 복수의 개구부를 가지며, 또 개구율이 0.10~20%인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 시트.
It has a laminate comprising a conductive adhesive layer, a metal layer, and a protective layer in this order,
The interface of the metal layer in contact with the conductive adhesive layer has a root mean square slope (Sdq) of 0.0001 to 0.5 determined in accordance with ISO 25178-2:2012,
The metal layer has a plurality of openings, and an electromagnetic wave shielding sheet having an opening ratio of 0.10 to 20%.
제1항에 있어서,
상기 적층체를, 170℃ 30분간 열 프레스해서 이루어진 적층 경화물은, 125℃에서의 손실 정접(損失正接)이 0.10이상인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 시트.
The method of claim 1,
An electromagnetic wave shielding sheet, wherein the laminated cured product obtained by hot pressing the laminate at 170° C. for 30 minutes has a loss tangent at 125° C. of 0.10 or more.
제1항에 있어서,
상기 금속층의 두께는, 0.3~5.0μm인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 시트.
The method of claim 1,
The thickness of the metal layer, electromagnetic wave shielding sheet, characterized in that the 0.3 ~ 5.0μm.
제1항에 있어서,
상기 도전 접착제층은, 바인더 수지 및 도전성 필러를 함유하고,
상기 도전 접착제층 중의 상기 도전성 필러의 함유율은, 35~90중량%인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐 시트.
The method of claim 1,
The conductive adhesive layer contains a binder resin and a conductive filler,
The electromagnetic wave shielding sheet, wherein the content of the conductive filler in the conductive adhesive layer is 35 to 90% by weight.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 전자파 차폐 시트로 형성하여 이루어진 전자파 차폐층, 커버 코트층, 및 신호 배선 및 절연성 기재를 가지는 배선판을 구비하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐성 배선 회로 기판.An electromagnetic wave shielding wiring circuit board comprising: an electromagnetic wave shielding layer formed from the electromagnetic wave shielding sheet according to any one of claims 1 to 4, a cover coat layer, and a wiring board having signal wiring and an insulating substrate.
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