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KR20200112830A - Winding body of long laminated sheet - Google Patents

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KR20200112830A
KR20200112830A KR1020207019934A KR20207019934A KR20200112830A KR 20200112830 A KR20200112830 A KR 20200112830A KR 1020207019934 A KR1020207019934 A KR 1020207019934A KR 20207019934 A KR20207019934 A KR 20207019934A KR 20200112830 A KR20200112830 A KR 20200112830A
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sheet
resin film
film forming
forming layer
release
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KR1020207019934A
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아츠시 우에미치
나오야 오카모토
야스노부 나카이시
Original Assignee
린텍 가부시키가이샤
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Publication date
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Abstract

(과제) 대략 사각형의 지지 시트와, 그 지지 시트 상에 형성되어 있는 대략 사각형의 수지막 형성층을 갖고, 평면에서 보아 수지막 형성층을 둘러싸는 영역에 링 프레임을 유지하기 위한 대략 사각형의 링 프레임 유지 수단을 갖는 수지막 형성층 부착 지지 시트와, 장척의 박리 시트를 포함하고, 그 박리 시트의 박리 처리면 상의 폭 방향 양단에는, 장척의 보조 시트가 연속해서 적층되어 이루어지고, 그 박리 시트의 박리 처리면 상의 폭 방향 내측에는, 박리 시트의 길이 방향을 따라 복수의 수지막 형성층 부착 지지 시트가 박리 가능하게 독립적으로 가착되어 이루어지는 장척 적층 시트가 롤상으로 권취되어 이루어지는 권수체에 있어서의, 수지막 형성층에서의 권흔 발생 방지.
(해결 수단) 상기 장척 적층 시트에 있어서, 박리 시트 제거 후의 수지막 형성층측으로부터의 평면에서 본, 수지막 형성층과 보조 시트의 외측단과의 거리를 W1, 그 평면에서 본, 보조 시트가 가장 폭넓은 부분에 있어서의 보조 시트의 폭을 W2 로 한 경우에, W2/W1 ≤ 1.6 으로 한다.
(Task) Having an approximately rectangular support sheet and an approximately rectangular resin film forming layer formed on the support sheet, and maintaining an approximately rectangular ring frame to hold the ring frame in the area surrounding the resin film forming layer in plan view A support sheet with a resin film forming layer having a means and a long release sheet are included, and long auxiliary sheets are successively stacked on both ends of the release sheet in the width direction on the release treatment surface, and the release sheet is peeled off On the inner side of the surface in the width direction, in the resin film forming layer in the winding body formed by winding up in a roll form a long laminated sheet formed by independently attaching a plurality of support sheets with a resin film forming layer along the longitudinal direction of the release sheet to be peelable Prevention of winding.
(Solution means) In the above-described long laminated sheet, the distance between the resin film forming layer and the outer end of the auxiliary sheet as viewed from the side of the resin film forming layer after removal of the release sheet is W1, and the auxiliary sheet is the widest. When the width of the auxiliary sheet in the portion is set to W2, W2/W1≦1.6.

Description

장척 적층 시트의 권수체Winding body of long laminated sheet

본 발명은, 복수의 반도체 칩이 수지 봉지되어 이루어지는 반도체 패키지에, 접착제층 혹은 보호막 등의 수지층을 형성하며, 또한 반도체 패키지를 다이싱하기 위해 사용되는 수지막 형성층 부착 지지 시트를, 롤상으로 권취한 권수체 (卷收體) 에 관한 것이다. 특히 본 발명은, 권수체의 권압 (卷壓) 에 의해 수지막 형성층에 발생하는 경우가 있는 권흔 (卷痕) 을 저감시키는 기술에 관한 것이다.In the present invention, a resin layer such as an adhesive layer or a protective film is formed on a semiconductor package in which a plurality of semiconductor chips are resin-sealed, and a support sheet with a resin film forming layer used for dicing a semiconductor package is wound in a roll shape. It is about one volume body (卷收体). In particular, the present invention relates to a technique for reducing winding marks that may occur in a resin film forming layer due to winding pressure of a winding body.

최근, 전자 기기의 소형화, 경량화 및 고기능화가 진행되고 있고, 이에 수반하여, 전자 기기에 탑재되는 반도체 장치에도, 소형화, 박형화 및 고밀도화가 요구되고 있다. 반도체 칩은, 그 사이즈에 가까운 패키지에 실장되는 경우가 있다. 이와 같은 패키지는, CSP (Chip Scale Package) 라고 하는 경우도 있다. CSP 로는, 웨이퍼 사이즈로 패키지 최종 공정까지 처리하여 완성시키는 WLP (Wafer Level Package), 웨이퍼 사이즈보다 큰 패널 사이즈로 패키지 최종 공정까지 처리하여 완성시키는 PLP (Panel Level Package) 등을 들 수 있다.2. Description of the Related Art In recent years, miniaturization, weight reduction, and higher functionality of electronic devices are in progress, and with this, miniaturization, thickness reduction, and higher density are required for semiconductor devices mounted in electronic devices. The semiconductor chip may be mounted in a package close to its size. Such a package may be referred to as a CSP (Chip Scale Package). Examples of the CSP include a wafer level package (WLP) that processes and completes a package final process with a wafer size, and a panel level package (PLP) that processes and completes a final package process with a panel size larger than the wafer size.

WLP 및 PLP 는, 팬 인 (Fan-In) 형과 팬 아웃 (Fan-Out) 형으로 분류된다. 팬 아웃형의 WLP 및 PLP 에 있어서는, 반도체 칩을, 칩 사이즈보다 큰 영역이 되도록 봉지재로 덮어 반도체 칩의 봉지체를 형성하고, 재배선층 및 외부 전극을, 반도체 칩의 회로면뿐만 아니라 봉지재의 표면 영역에 있어서도 형성한다.WLP and PLP are classified into a fan-in type and a fan-out type. In the fan-out type WLP and PLP, the semiconductor chip is covered with an encapsulant so as to have a larger area than the chip size to form an encapsulant of the semiconductor chip, and the rewiring layer and the external electrode are formed of the encapsulant as well as the circuit surface of the semiconductor chip. It is also formed in the surface area.

예를 들어, 특허문헌 1 에는, 반도체 웨이퍼로부터 개편화된 복수의 반도체 칩을, 그 회로 형성면을 남기고, 몰드 부재를 사용하여 주위를 둘러싸 확장 웨이퍼를 형성하고, 반도체 칩 외의 영역에 재배선 패턴을 연장시켜 형성하는 반도체 패키지의 제조 방법이 기재되어 있다. 특허문헌 1 에 기재된 제조 방법에 있어서, 반도체 웨이퍼는 다이싱용의 점착 테이프 (이하, 「다이싱 시트」라고도 한다) 에 첩착된 상태에서 개편화되는 다이싱 공정이 실시된다. 이와 같은 복수의 반도체 칩을 포함하는 수지 봉지체를 이하에서는 「칩군 패키지」라고 하는 경우가 있다. 또, 이것을 다이싱하여 개개의 CSP 를 얻는 공정을, 「패키지 다이싱」이라고 하는 경우가 있다.For example, in Patent Literature 1, a plurality of semiconductor chips separated from a semiconductor wafer are left with their circuit formation surfaces, and an expansion wafer is formed around the periphery using a mold member, and a rewiring pattern is formed in a region other than the semiconductor chip. A method of manufacturing a semiconductor package formed by extending the pattern is described. In the manufacturing method described in Patent Literature 1, a dicing step in which a semiconductor wafer is separated into pieces is performed while a semiconductor wafer is adhered to an adhesive tape for dicing (hereinafter, also referred to as "dicing sheet"). The resin encapsulation body including such a plurality of semiconductor chips may be referred to as "chip group package" below. Further, the process of dicing this to obtain individual CSPs is sometimes referred to as "package dicing".

일반적으로 패키지 다이싱법에서는, 사각형의 기판 상에 복수의 반도체 칩을 재치하고, 일괄적으로 수지 봉지를 실시하고, 외부 단자를 형성하여, 수지에 의해 봉지된 칩군으로 이루어지는 사각형의 패키지 (칩군 패키지) 를 얻는다. 이것은, 칩을 배열할 때의 효율이나, 그 후의 패키지의 이송이나 보관 등의 관점에서 사각형인 것이 바람직하기 때문이다.In general, in the package dicing method, a plurality of semiconductor chips are placed on a rectangular substrate, resin-sealed collectively, external terminals are formed, and a rectangular package consisting of a group of chips sealed with resin (chip group package). Get This is because it is preferable to have a square shape from the viewpoint of efficiency in arranging chips, and subsequent transport and storage of the package.

이어서, 이 칩군 패키지를, 다이싱하여 CSP 등의 반도체 장치를 얻는다. 칩군 패키지를 다이싱하는 공정에서는, 패키지의 형상에 대응하는 사각형상의 다이싱 시트를 다이싱용의 프레임에 장설 (張設) 하고, 다이싱 시트에 칩군 패키지를 첩부하고, 그 패키지를 다이싱한다 (특허문헌 2, 특허문헌 3).Subsequently, this chip group package is diced to obtain a semiconductor device such as CSP. In the process of dicing the chip group package, a rectangular dicing sheet corresponding to the shape of the package is elongated on a frame for dicing, the chip group package is affixed to the dicing sheet, and the package is diced ( Patent Document 2, Patent Document 3).

칩군 패키지의 제조법은 여러 가지 제안되어 있다. 예를 들어, 수지 테이프와 같은 유지구 상에 반도체 칩을 가착한다. 이 때, 반도체 칩의 회로면이나 범프면이 상방향을 향하고, 칩의 이면측이 수지 테이프 상에 가착된다. 이어서, 회로면이나 범프면에 외부 접속을 위해 리드를 부착하고, 일괄적으로 수지 봉지를 실시한다. 그 후, 수지 테이프를 박리함으로써, 칩군 패키지가 얻어진다. 이와 같은 공정을 거쳐 얻어지는 칩군 패키지는, 칩의 이면이 노출된 구조로 얻어진다. 그 후, 상기와 같은 다이싱 시트를 사용하여 다이싱하고, 분할된 반도체 장치가 얻어진다.Various methods of manufacturing a chip group package have been proposed. For example, a semiconductor chip is temporarily attached onto a holding tool such as a resin tape. At this time, the circuit surface or bump surface of the semiconductor chip faces upward, and the back surface side of the chip is fixed on the resin tape. Next, a lead is attached to the circuit surface or the bump surface for external connection, and resin sealing is performed collectively. Thereafter, by peeling the resin tape, a chip group package is obtained. The chip group package obtained through such a process is obtained in a structure in which the back surface of the chip is exposed. After that, dicing is performed using the above dicing sheet, and a divided semiconductor device is obtained.

칩의 이면이 노출되어 있는 경우, 반도체 장치의 내구성이나 신뢰성이 저해되는 경우가 있다. 따라서, 통상은 칩의 노출면에는, 보호막이 형성된다. 이 보호막은, 항절 강도를 높이고, 또한 반도체 장치에 제품 번호 등을 인자할 때에도 유효하게 기능한다. 또, 절단하여 얻어지는 반도체 장치를, 다른 부재 상에 탑재할 때에는, 반도체 장치의 칩의 노출면에 접착제층을 부착하여, 다른 부재에 접착한다.When the back surface of the chip is exposed, the durability and reliability of the semiconductor device may be impaired. Therefore, normally, a protective film is formed on the exposed surface of the chip. This protective film increases the transverse strength and also functions effectively when printing a product number or the like on a semiconductor device. In addition, when the semiconductor device obtained by cutting is mounted on another member, an adhesive layer is attached to the exposed surface of the chip of the semiconductor device and adhered to the other member.

보호막의 형성이나, 접착제층의 부착을, 분할된 반도체 장치에 개별적으로 실시하는 것은 번잡하다. 또, 개별적으로 실시하면 보호막이나 접착제층의 두께 등이 일정하지 않기 때문에, 제품의 품질에 편차가 생기는 경우가 있다. 따라서, 칩의 이면이 노출된 구조의 칩군 패키지에 대하여, 일괄적으로 보호막이나 접착제층을 형성하고, 그 후에 다이싱하는 프로세스가 공정상 유리하다고 생각된다. 이하, 보호막이나 접착제층 등의 수지막을 형성하기 위한 층을 「수지막 형성층」이라고 기재하는 경우가 있다.It is cumbersome to separately form a protective film or attach an adhesive layer to a divided semiconductor device. In addition, when implemented individually, the thickness of the protective film or the adhesive layer is not constant, so there may be variations in product quality. Therefore, for a chip group package having a structure in which the back surface of the chip is exposed, it is considered that the process of forming a protective film or an adhesive layer collectively and dicing thereafter is advantageous in the process. Hereinafter, a layer for forming a resin film, such as a protective film or an adhesive layer, may be described as a "resin film forming layer".

반도체 칩에 수지막 형성층을 형성하는 수법은 여러 가지 알려져 있다. 즉, 반도체 웨이퍼의 편면에, 보호막의 전구체층이나 접착제층 등의 수지막 형성층을 첩부하고, 그 후에 반도체 웨이퍼와 수지막 형성층을 동시에 다이싱함으로써, 편면에 수지막 형성층을 갖는 반도체 칩이 얻어진다. 이 공정을 연속해서 실시하기 위해, 다이싱·다이 본드 시트나, 보호막 형성층 부착 다이싱 시트 (특허문헌 4) 등의 웨이퍼 가공용 시트가 알려져 있다. 이들 웨이퍼 가공용 시트는, 대략 원형의 실리콘 웨이퍼에 첩부되는 것을 전제로 하고 있기 때문에, 원형의 다이싱 시트 상에, 원형의 수지막 형성층이 박리 가능하게 적층되어 있다.Various methods are known for forming a resin film forming layer on a semiconductor chip. That is, a semiconductor chip having a resin film forming layer on one surface is obtained by attaching a resin film forming layer such as a precursor layer of a protective film or an adhesive layer on one surface of the semiconductor wafer, and then dicing the semiconductor wafer and the resin film forming layer at the same time. . In order to carry out this process continuously, sheets for wafer processing, such as a dicing die-bonding sheet and a dicing sheet with a protective film forming layer (Patent Document 4), are known. Since these wafer processing sheets are premised on being affixed to a substantially circular silicon wafer, a circular resin film-forming layer is laminated on a circular dicing sheet so that peeling is possible.

그러나, 칩군 패키지는, 상기와 같이 사각형으로 형성된다. 이것은, 칩을 배열할 때의 효율이나, 그 후의 패키지의 이송이나 보관 등의 관점에서 사각형인 것이 바람직하기 때문이다.However, the chip group package is formed in a square shape as described above. This is because it is preferable to have a square shape from the viewpoint of efficiency in arranging chips, and subsequent transport and storage of the package.

이와 같은 사각형의 칩군 패키지에, 종래의 원형의 수지막 형성층 부착 다이싱 시트를 적용하면, 원형의 수지막 형성층의 최대 정방형 부분밖에 사용할 수 없고, 주위의 부분은 미사용인 채로 폐기된다. 구체적으로 말하면, 가령 수지막 형성층이 반경 10 ㎝ 의 원형 (면적 약 314 ㎠) 인 경우, 그 중에서의 정방형의 최대 면적은 200 ㎠ (21/2 × 10 ㎝ 사방) 이고 수지막 형성층의 유효 면적률은 63.7 % 밖에 되지 않는다.When a conventional dicing sheet with a circular resin film forming layer is applied to such a rectangular chip group package, only the largest square portion of the circular resin film forming layer can be used, and the surrounding portions are discarded unused. Specifically, for example, when the resin film forming layer is a circular shape with a radius of 10 cm (area about 314 cm2), the maximum area of the square is 200 cm2 (2 1/2 × 10 cm square) and the effective area of the resin film forming layer The rate is only 63.7%.

따라서, 상기한 사각형상의 다이싱 시트 등의 지지 시트 상에 사각형상의 수지막 형성층을 형성한 사각형의 수지막 형성층 부착 지지 시트를 사용함으로써, 수지막 형성층의 유효 면적률을 증대시키는 것이 검토된다.Therefore, it is considered to increase the effective area ratio of the resin film forming layer by using a support sheet with a square resin film forming layer in which a square resin film forming layer is formed on a support sheet such as the square dicing sheet described above.

수지막 형성층 부착 지지 시트에서는, 비교적 대면적의 지지 시트 상에, 이것보다 약간 면적이 작은 수지막 형성층이 적층되는 경우가 있다. 수지막 형성층의 사용 영역을 둘러싸도록, 링 프레임에 가착하기 위한 점착성의 링 프레임 유지 수단이 형성된다. 이 수지막 형성층 부착 지지 시트는, 장척의 박리 시트 상에 적층된다. 이 장척 적층 시트는, 롤상으로 권취된 권수체로서 출시된다. 장척 적층 시트에는, 수지막 형성층 부착 지지 시트가 적층된 부분과, 적층되어 있지 않은 부분이 있어, 두께가 상이한 부분이 필연적으로 생긴다. 두께가 불균일한 장척 적층 시트를 롤상으로 권취하면, 권취 붕괴가 일어나는 경우가 있다. 또, 두께차에서 기인하여 롤의 측부에 간극이 발생하고, 이 간극으로부터 진개 등이 침입하여, 수지막 형성층을 오염시키는 경우가 있다.In a support sheet with a resin film forming layer, a resin film forming layer slightly smaller than this may be laminated on a support sheet having a relatively large area. A viscous ring frame holding means for adhering to the ring frame is provided so as to surround the use area of the resin film forming layer. This supporting sheet with a resin film forming layer is laminated on a long release sheet. This long laminated sheet is released as a winding body wound up in a roll shape. In the long laminated sheet, there are a portion in which the supporting sheet with a resin film forming layer is laminated and a portion not laminated, and a portion having a different thickness is inevitably generated. When a long laminated sheet having an uneven thickness is wound up in a roll shape, winding collapse may occur. Further, due to the difference in thickness, a gap is generated on the side of the roll, and dust or the like enters from the gap, thereby contaminating the resin film forming layer.

이와 같은 문제를 해소하기 위해, 장척 적층 시트의 폭 방향 양단에, 길이 방향을 따라 보조 시트를 잔류시키는 것이 검토된다. 보조 시트를 형성함으로써, 장척 적층 시트의 두께가 균일해져, 권수체의 권취 붕괴가 방지되고, 또한 권출시의 주행 안정성도 향상된다. 또한, 롤 측부의 간극에 보조 시트가 존재하기 때문에, 진개의 침입도 방지할 수 있다.In order to solve such a problem, it is considered to remain at both ends of the elongate laminated sheet in the width direction along the length direction. By forming the auxiliary sheet, the thickness of the long laminated sheet becomes uniform, the winding collapse of the winding body is prevented, and the running stability at the time of unwinding is also improved. In addition, since the auxiliary sheet is present in the gap on the side of the roll, it is possible to prevent penetration of the dust.

그러나, 보조 시트의 폭이 일정하면, 수지막 형성층 부착 지지 시트와 인접하는 다른 수지막 형성층 부착 지지 시트 사이에서, 두께의 차가 발생한다. 즉, 수지막 형성층 부착 지지 시트가 형성된 부분에서는, 그 측부에 존재하는 보조 시트에 의해 두께가 균일해진다. 그러나, 수지막 형성층 부착 지지 시트와 인접하는 다른 수지막 형성층 부착 지지 시트 사이에는, 보조 시트가 존재하지 않고, 박리 시트가 존재할 뿐이어서, 두께차는 해소되지 않는다.However, if the width of the auxiliary sheet is constant, a difference in thickness occurs between the supporting sheet with the resin film forming layer and the supporting sheet with another adjacent resin film forming layer. That is, in the portion where the supporting sheet with the resin film forming layer is formed, the thickness becomes uniform by the auxiliary sheet present on the side thereof. However, there is no auxiliary sheet between the supporting sheet with the resin film forming layer and the supporting sheet with the other adjacent resin film forming layer, and there is only a release sheet, so that the difference in thickness is not resolved.

또, 수지막 형성층 부착 지지 시트와 보조 시트는, 거의 동일한 소재로 이루어지고, 수지막 형성층 부착 지지 시트를 사각형상으로 절단할 때에, 수지막 형성층 부착 지지 시트의 측변 근방에 보조 시트를 잔류시킨다. 즉, 수지막 형성층 부착 지지 시트와 보조 시트를 소정 형상으로 형발 (型拔) 하고, 수지막 형성층 부착 지지 시트와 보조 시트 사이의 잉여 부분 (찌꺼기부) 을 제거함으로써, 박리 시트 상에, 소정 형상의 수지막 형성층 부착 지지 시트가 얻어지고, 박리 시트 (14) 의 폭 방향 양단에 보조 시트가 잔류한다. 이 때의 절단은 롤상의 절삭날에 의해 연속적으로 실시되고, 잉여 부분의 제거는, 잉여 부분을 연속해서 끌어올림으로써 실시한다 (찌꺼기 제거).Moreover, the supporting sheet with the resin film forming layer and the auxiliary sheet are made of substantially the same material, and when the supporting sheet with the resin film forming layer is cut into a square shape, the auxiliary sheet is left in the vicinity of the side of the supporting sheet with the resin film forming layer. That is, the support sheet with the resin film-forming layer and the auxiliary sheet are molded into a predetermined shape, and the excess portion (debris portion) between the support sheet with the resin film-forming layer and the auxiliary sheet is removed, thereby forming a predetermined shape on the release sheet. A supporting sheet with a resin film forming layer is obtained, and auxiliary sheets remain at both ends of the release sheet 14 in the width direction. Cutting at this time is carried out continuously with a roll-shaped cutting edge, and removal of the excess portion is carried out by continuously pulling up the excess portion (debris removal).

보조 시트의 폭이 일정하면, 수지막 형성층 부착 지지 시트가 존재하는 부분으로부터, 그 시트가 존재하지 않는 부분으로 이행하는 지점에서, 잉여 부분의 면적이 급격하게 변화하고, 이 결과, 잉여 부분의 박리력도 변화한다. 잉여 부분의 박리력이 급격하게 증대되면, 찌꺼기 제거시에 잉여 부분이 끊어지고, 연속적인 찌꺼기 제거를 할 수 없다.If the width of the auxiliary sheet is constant, the area of the surplus portion changes sharply at the point where the support sheet with the resin film formation layer is transferred to the portion where the sheet does not exist, and as a result, the excess portion is peeled off. Power also changes. If the peeling force of the excess portion is rapidly increased, the excess portion is cut off during the removal of the residue, and continuous removal of the residue cannot be performed.

두께차에서 기인하는 문제를 해소하고, 잉여 부분의 박리력을 서서히 변화시키기 위해, 수지막 형성층 부착 지지 시트와 인접하는 다른 수지막 형성층 부착 지지 시트 사이의 시트가 존재하지 않는 부분에는, 보조 시트를 내부 방향으로 연장시켜, 비교적 폭이 넓은 부분을 형성한다. 이로써, 수지막 형성층 부착 지지 시트가 존재하는 부분과, 그 시트가 존재하지 않는 부분 사이에서의 두께차도 완화되고, 또한 잉여 부분의 면적이 서서히 변화하기 때문에, 찌꺼기 제거시의 잉여 부분의 박리력의 급격한 변화도 없어져, 찌꺼기 제거를 안정적으로 실시할 수 있다.In order to solve the problem caused by the difference in thickness and to gradually change the peeling force of the excess part, an auxiliary sheet is provided in a portion where there is no sheet between the supporting sheet with the resin film forming layer and the supporting sheet with another adjacent resin film forming layer. It extends in the inner direction to form a relatively wide part. Thereby, the difference in thickness between the portion where the supporting sheet with the resin film formation layer exists and the portion where the sheet does not exist is also alleviated, and the area of the excess portion gradually changes, so that the peeling force of the excess portion at the time of debris removal The abrupt change also disappears, and the debris removal can be performed stably.

따라서, 도 5 에 나타내는 바와 같이, 사각형상의 지지 시트 상에 사각형상의 수지막 형성층을 갖는 수지막 형성층 부착 지지 시트에 있어서도, 수지막 형성층 부착 지지 시트의 측변 근방에는 보조 시트가 형성되고, 또한 수지막 형성층 부착 지지 시트와 인접하는 다른 수지막 형성층 부착 지지 시트 사이에는, 보조 시트를 내부 방향으로 연장시킨 폭광부를 형성한다.Therefore, as shown in Fig. 5, also in the supporting sheet with a resin film forming layer having a rectangular resin film forming layer on the rectangular supporting sheet, an auxiliary sheet is formed in the vicinity of the side of the supporting sheet with the resin film forming layer. Between the supporting sheet with the forming layer and the supporting sheet with the other adjacent resin film forming layer, a light width portion having an auxiliary sheet extending in the inner direction is formed.

수지막 형성층 부착 지지 시트와 그 시트가 존재하지 않는 부분 사이에서의 두께차를 완화하고, 또한 잉여 부분의 면적의 급격한 변화를 방지하기 위해서는, 보조 시트의 폭광부는, 클수록 바람직하다고 생각된다.In order to mitigate the difference in thickness between the supporting sheet with the resin film forming layer and the portion where the sheet does not exist, and to prevent a sudden change in the area of the excess portion, it is considered that the larger the width of the auxiliary sheet is, the more preferable.

국제 공개 WO2010/058646International publication WO2010/058646 일본 공개특허공보 2002-3798호Japanese Patent Application Publication No. 2002-3798 일본 공개특허공보 2010-83921호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-83921 국제 공개 WO2013/047674International publication WO2013/047674

수지막 형성층 부착 지지 시트는, 장척의 박리 시트의 길이 방향을 따라 복수의 수지막 형성층 부착 지지 시트가 박리 가능하게 독립적으로 가착되어 이루어지고, 또한 박리 시트의 폭 방향 양단에는, 장척의 보조 시트가 연속해서 적층된 장척 적층 시트를, 롤상으로 권취한 권수체로서 출시된다.In the supporting sheet with a resin film forming layer, a plurality of supporting sheets with a resin film forming layer are independently adhered so as to be peelable along the longitudinal direction of a long release sheet, and a long auxiliary sheet is provided at both ends of the release sheet in the width direction. It is released as a winding body wound up in a roll shape and the elongate laminated sheet laminated|stacked continuously.

그러나, 보조 시트의 폭광부가 지나치게 크면, 수지막 형성층에 권흔이 발생하는 경우가 있다. 장척 적층 시트를 롤상으로 권취하면, 권취의 진행에 수반하여, 반경이 증가하기 때문에, 수지막 형성층의 상면측 또는 하면측에 폭광부가 겹치는 경우가 있다. 이 상태에서 권취를 계속하면, 권압에 의해 폭광부가 수지막 형성층에 가압되어, 수지막 형성층에 폭광부의 형상에 대응한 볼록부나 오목부가 발생한다 (도 5 참조). 이와 같은 볼록부나 오목부를 권흔이라고 한다.However, when the width|variety part of an auxiliary sheet|seat is too large, winding may generate|occur|produce in the resin film formation layer. When the long laminated sheet is wound in a roll shape, the radius increases with the progress of the winding, and thus the width portion may overlap on the upper surface side or the lower surface side of the resin film forming layer. When winding is continued in this state, the width light portion is pressed against the resin film forming layer by the winding pressure, and a convex portion or a concave portion corresponding to the shape of the light width portion is generated in the resin film forming layer (see Fig. 5). Such a convex or concave portion is called a winding.

수지막 형성층에 권흔이 발생하면, 수지막 형성층의 두께 정밀도가 저하되고, 수지막 형성층을 칩군 패키지에 첩부할 때의 에어 혼입을 발생하고, 패키지의 밀착성이 불충분해진다. 또, 반도체 장치의 제조 방법에 있어서, 분할된 패키지를, 수지막 형성층을 개재하여 패키지의 탑재부에 접착할 때의 접착성의 저하나, 보이드의 발생의 원인이 된다. 그 결과, 우수한 신뢰성을 갖는 반도체 장치를 얻는 것이 곤란해진다. 또, 수지막을 보호막으로서 사용하는 경우에는, 수지막 형성층의 권흔은 외관 불량의 원인이 된다.When windings occur in the resin film forming layer, the thickness accuracy of the resin film forming layer decreases, air mixing occurs when the resin film forming layer is affixed to the chip group package, and the adhesion of the package becomes insufficient. Further, in a method of manufacturing a semiconductor device, when a divided package is adhered to a mounting portion of the package via a resin film forming layer, it causes a decrease in adhesion and generation of voids. As a result, it becomes difficult to obtain a semiconductor device having excellent reliability. In addition, when a resin film is used as a protective film, the wound on the resin film forming layer causes appearance defects.

따라서, 본 발명의 목적은, 상기 구조의 장척 적층 시트에 있어서, 권수체로 했을 때에도, 수지막 형성층, 특히 칩군 패키지가 첩부되는 지점에 있어서의 권흔의 발생을 방지하는 것에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to prevent the occurrence of winding marks at a point where a resin film forming layer, particularly a chip group package, is affixed even when a winding body is formed in a long laminated sheet having the above structure.

상기 과제를 해결하는 본 발명은, 이하의 장척 적층 시트의 권수체를 제공한다.The present invention to solve the above problems provides a winding body of the following long laminated sheet.

대략 사각형의 지지 시트와, 그 지지 시트 상에 형성되어 있는 대략 사각형의 수지막 형성층을 갖고, 평면에서 보아 수지막 형성층을 둘러싸는 영역에 링 프레임을 유지하기 위한 대략 사각형의 링 프레임 유지 수단을 갖는 수지막 형성층 부착 지지 시트와,It has a substantially rectangular support sheet, a substantially rectangular resin film forming layer formed on the support sheet, and has a substantially rectangular ring frame holding means for holding the ring frame in a region surrounding the resin film forming layer in plan view. A supporting sheet with a resin film forming layer,

장척의 박리 시트를 포함하고,Including a long release sheet,

그 박리 시트의 박리 처리면 상의 폭 방향 양단에는, 장척의 보조 시트가 연속해서 적층되어 이루어지고,Long auxiliary sheets are successively stacked on both ends of the release sheet in the width direction on the release treatment surface,

그 박리 시트의 박리 처리면 상의 폭 방향 내측에는, 박리 시트의 길이 방향을 따라 복수의 수지막 형성층 부착 지지 시트가 박리 가능하게 독립적으로 가착되어 이루어지는 장척 적층 시트가 롤상으로 권취되어 이루어지는 권수체로서,A winding body formed by winding up a long laminated sheet formed by independently adhering a plurality of support sheets with a resin film forming layer along the longitudinal direction of the release sheet so as to be peelable, inside the width direction on the release treatment surface of the release sheet,

박리 시트 제거 후의 수지막 형성층측으로부터의 평면에서 본, 수지막 형성층과 보조 시트의 외측단과의 거리를 W1,The distance between the resin film forming layer and the outer end of the auxiliary sheet as viewed in plan from the resin film forming layer side after removal of the release sheet is W1,

그 평면에서 본, 보조 시트가 가장 폭넓은 부분에 있어서의 보조 시트의 폭을 W2 로 한 경우에, W2/W1 ≤ 1.6 인 장척 적층 시트의 권수체.A winding body of a long laminated sheet of W2/W1≦1.6 when the width of the auxiliary sheet in the widest portion of the auxiliary sheet as viewed from the plane is W2.

본 발명의 장척 적층 시트의 권수체에 의하면, 보조 시트의 폭광부가, 수지막 형성층의 칩군 패키지가 첩부되는 지점 (사용 영역) 에는 겹치지 않기 때문에, 수지막 형성층의 사용 영역에는 권흔이 발생하지 않는다. 이 때문에, 칩군 패키지를 안정적으로 첩부할 수 있고, 또한 얻어지는 수지막의 두께도 균일해진다.According to the winding body of the long laminated sheet of the present invention, since the width portion of the auxiliary sheet does not overlap at the point (area of use) where the chip group package of the resin film forming layer is affixed, windings do not occur in the use region of the resin film forming layer. . For this reason, the chip group package can be stably affixed, and the thickness of the obtained resin film also becomes uniform.

도 1a 는, 제 1 형태의 장척 적층 시트의 권수체로부터 일부를 송출한 상태를 나타낸다.
도 1b 는, 도 1a 의 A-A 선 단면도를 나타낸다.
도 1c 는, 도 1a 의 B-B 선 단면도를 나타낸다.
도 2a 는, 제 2 형태의 장척 적층 시트의 권수체로부터 일부를 송출한 상태를 나타낸다.
도 2b 는, 도 2a 의 A-A 선 단면도를 나타낸다.
도 2c 는, 도 2a 의 B-B 선 단면도를 나타낸다.
도 3a 는, 제 3 형태의 장척 적층 시트의 권수체로부터 일부를 송출한 상태를 나타낸다.
도 3b 는, 도 3a 의 A-A 선 단면도를 나타낸다.
도 3c 는, 도 3a 의 B-B 선 단면도를 나타낸다.
도 4 는, W1, W2 의 설명도를 나타낸다.
도 5 는, 권흔의 발생 상태를 나타낸다.
도 6a 는, 장척 적층 시트로부터 수지막 형성층 부착 지지 시트를 피착체에 전사하고 있는 상태를 나타낸다.
도 6b 는, 도 6a 의 사시도를 나타낸다.
Fig. 1A shows a state in which a part of the long laminated sheet of the first embodiment is sent out from the winding body.
1B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1A.
1C is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 1A.
Fig. 2A shows a state in which a part of the long laminated sheet of the second embodiment is sent out from the winding body.
Fig. 2B is a cross-sectional view taken along line AA in Fig. 2A.
Fig. 2C is a cross-sectional view taken along line BB in Fig. 2A.
Fig. 3A shows a state in which a part of the elongated laminated sheet of the third embodiment is sent out from the winding body.
3B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 3A.
3C is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 3A.
4 shows explanatory diagrams of W1 and W2.
5 shows a state of occurrence of a wound.
6A shows a state in which a supporting sheet with a resin film forming layer is transferred from a long laminated sheet to an adherend.
6B shows a perspective view of FIG. 6A.

이하, 본 발명의 장척 적층 시트의 권수체에 대하여 상세를 설명한다.Hereinafter, the winding body of the long laminated sheet of the present invention will be described in detail.

본 발명에 있어서 「대략 사각형」이란, 엄밀한 정방형, 장방형만이 아니고, 이것에 유사한 약간 변형된 형상도 포함한다. 예를 들어, 정방형 혹은 장방형의 각 변은 만곡, 굴곡되어 있어도 되고, 모서리부는 둥그스름한 곡선이어도 되고, 방향이 연속적으로 변화하는 짧은 직선으로 둥그스름하게 구성되어 있어도 된다.In the present invention, "approximately square" includes not only a strictly square or rectangular shape, but also a slightly deformed shape similar to this. For example, each side of a square shape or a rectangle shape may be curved or bent, and the corner portion may be a rounded curve, or may be formed to be rounded by a short straight line whose direction continuously changes.

또, 「지지 시트」란, 수지막 형성층을 박리 가능하게 지지할 수 있는 시트상 부재이고, 박리 시트여도 되고, 이른바 다이싱 시트와 같은 점착 시트여도 된다.In addition, the "support sheet" is a sheet-like member capable of supporting the resin film forming layer so that it can be peeled off, and may be a release sheet, or an adhesive sheet such as a so-called dicing sheet.

「수지막 형성층」이란, 보호막을 형성하기 위한 전구체층 및 접착제층의 양자를 포함하는 의미로 사용한다. 보호막을 형성하기 위한 전구체층은, 소정의 조작에 의해 경화되어, 보호막을 형성한다.The "resin film forming layer" is used in a sense including both a precursor layer and an adhesive layer for forming a protective film. The precursor layer for forming the protective film is cured by a predetermined operation to form a protective film.

「수지막 형성층 부착 지지 시트」란, 지지 시트와 수지막 형성층의 적층체를 의미한다. 또한 링 프레임을 유지하기 위한 대략 사각형의 링 프레임 유지 수단을 포함한다.The "support sheet with a resin film forming layer" means a laminate of a support sheet and a resin film forming layer. It also includes an approximately square ring frame holding means for holding the ring frame.

「박리 시트」란, 표면의 박리력이 제어된 시트이고, 수지제여도 되고, 종이제나 포제여도 된다. 표면의 박리력은 박리제 등에 의해 제어되지만 이것에 한정은 되지 않는다.The "release sheet" is a sheet in which the peeling force of the surface is controlled, and may be made of resin, or may be made of paper or fabric. The peeling force of the surface is controlled by a release agent or the like, but is not limited thereto.

「장척」이란, 사각형이고, 길이 방향이 폭 방향보다 충분히 긴 형상을 의미한다."Long" means a shape having a square shape and a length direction sufficiently longer than a width direction.

「보조 시트」는, 장척의 박리 시트의 폭 방향 양단에 형성된 층상체를 의미한다."Auxiliary sheet" means a layered body formed on both ends of a long release sheet in the width direction.

「장척 적층 시트」는, 장척의 박리 시트와, 그 박리 시트의 폭 방향 양단에 연속해서 적층된 장척의 보조 시트와, 박리 시트의 폭 방향 내측에 박리 가능하게 가착된 수지막 형성층 부착 지지 시트를 포함한다.The ``long laminated sheet'' includes a long release sheet, a long auxiliary sheet successively laminated on both ends of the release sheet in the width direction, and a support sheet with a resin film formation layer that is detachably attached to the inside of the release sheet in the width direction. Include.

「권수체」란, 상기 장척 적층 시트를 권취하여, 롤상으로 한 것을 말한다.The "winding body" refers to the thing which wound up the said long laminated sheet and made it into a roll shape.

이하, 수지막 형성층 부착 지지 시트, 이것을 포함하는 장척 적층 시트, 그 권수체에 대하여, 도면을 참조하면서 설명한다.Hereinafter, a supporting sheet with a resin film forming layer, a long laminated sheet including the same, and a winding body thereof will be described with reference to the drawings.

수지막 형성층 부착 지지 시트는, 대략 사각형의 지지 시트와, 그 지지 시트 상에 박리 가능하게 형성되어 있는 대략 사각형의 수지막 형성층을 갖고, 수지막 형성층측으로부터의 평면에서 보아, 수지막 형성층을 둘러싸는 영역에 링 프레임을 유지하기 위한 대략 사각형의 링 프레임 유지 수단을 갖는다.The support sheet with a resin film formation layer has a substantially square support sheet and a substantially square resin film formation layer formed on the support sheet so as to be peelable, and surrounds the resin film formation layer in a plan view from the side of the resin film formation layer. Has an approximately square ring frame holding means for holding the ring frame in the area.

이 수지막 형성층 부착 지지 시트는, 장척의 박리 시트의 박리 처리면 상의 폭 방향 내측에, 박리 시트의 길이 방향을 따라, 박리 가능하게 가착된다. 또, 장척의 박리 시트의 박리 처리면 상의 폭 방향 양단에는, 장척의 보조 시트가 연속해서 적층되고, 장척 적층 시트를 구성한다.This supporting sheet with a resin film forming layer is attached to the inside in the width direction on the peeling treatment surface of the long release sheet along the lengthwise direction of the release sheet so as to be peelable. Moreover, a long auxiliary sheet is continuously laminated|stacked on both ends of the width direction on the peeling-processed surface of a long release sheet, and a long laminated sheet is comprised.

이하에서는, 장척 적층 시트의 구체적인 형태에 대하여 설명하지만, 이들에 한정은 되지 않는다.Hereinafter, although the specific form of a long laminated sheet is demonstrated, it is not limited to these.

[장척 적층 시트 : 제 1 형태][Long-Lamination Sheet: First Form]

도 1 에는, 장척 적층 시트의 제 1 형태를 나타낸다. 도 1a 는, 권수체 (1) 로부터 장척 적층 시트 (2) 를 송출한 상태를 나타내고, 도 1b 는 도 1a 의 A-A 선 단면도이고, 도 1c 는 도 1a 의 B-B 선 단면도이다.1 shows a first aspect of a long laminated sheet. Fig. 1A shows a state in which the long laminated sheet 2 is delivered from the winding body 1, Fig. 1B is a sectional view taken along line A-A in Fig. 1A, and Fig. 1C is a sectional view taken along line B-B in Fig. 1A.

도 1b 에 나타내는 바와 같이, 수지막 형성층 부착 지지 시트 (10) 는, 지지 시트 (11) 와, 그 편면의 전면에 적층된 수지막 형성층 (12) 과, 수지막 형성층 (12) 의 편면의 외주부에 형성된 링 프레임 유지 수단 (13) 을 갖는다. 지지 시트 (11) 와 수지막 형성층 (12) 은 박리 가능하게 적층되어 있다. 지지 시트 (11) 가 박리 시트인 경우, 수지막 형성층 (12) 은 박리 처리면 상에 형성된다. 지지 시트 (11) 가 다이싱 시트와 같은 점착 시트인 경우에는, 수지막 형성층 (12) 은, 점착제층 상에 형성된다. 지지 시트 (11) 가 점착 시트인 경우에는, 점착 시트의 구체적 양태는 후술하는 제 2 형태의 점착 시트와 동일하다.As shown in FIG. 1B, the support sheet 10 with a resin film forming layer includes a support sheet 11, a resin film forming layer 12 laminated on the entire surface of the support sheet 11, and an outer peripheral portion of one surface of the resin film forming layer 12. It has a ring frame holding means 13 formed in. The support sheet 11 and the resin film forming layer 12 are laminated so as to be peelable. When the support sheet 11 is a release sheet, the resin film forming layer 12 is formed on the release treatment surface. When the support sheet 11 is an adhesive sheet such as a dicing sheet, the resin film forming layer 12 is formed on the adhesive layer. When the support sheet 11 is an adhesive sheet, the specific aspect of the adhesive sheet is the same as the adhesive sheet of the second aspect described later.

장척의 박리 시트 (14) 의 길이 방향을 따라, 폭 방향의 내측에, 복수의 수지막 형성층 부착 지지 시트 (10) 가, 각각이 독립적으로, 박리 가능하게 가착되어 있다.Along the lengthwise direction of the elongated release sheet 14, a plurality of supporting sheets 10 with a resin film forming layer are independently attached to each other so as to be peelable inside the width direction.

장척의 박리 시트 (14) 의 길이 방향을 따라, 폭 방향의 양단에, 장척의 보조 시트 (15) 가 적층되어 있다. 보조 시트 (15) 는, 수지막 형성층 부착 지지 시트 (10) 의 외주부와 동일한 적층 구조를 갖는다. 즉, 보조 시트 (15) 는, 지지 시트 (11), 수지막 형성층 (12) 및 링 프레임 유지 수단 (13) 과 동일한 소재로 이루어진다.Along the length direction of the elongate release sheet 14, the elongate auxiliary sheet 15 is laminated|stacked on both ends of the width direction. The auxiliary sheet 15 has the same lamination structure as the outer peripheral portion of the supporting sheet 10 with a resin film forming layer. That is, the auxiliary sheet 15 is made of the same material as the support sheet 11, the resin film forming layer 12, and the ring frame holding means 13.

수지막 형성층 부착 지지 시트의 사이에는, 박리 시트 (14) 가 노출되어 있는데, 이 사이에는, 보조 시트 (15) 가, 폭 방향의 내측을 향하여 연장된다. 즉, 보조 시트의 폭은 고르지 않고, 수지막 형성층 부착 지지 시트의 사이의 부분에서는, 보조 시트는 폭이 넓어지도록 형성된다 (이하, 「폭광부」라고 하는 경우가 있다). 폭광부의 단면도는 도 1c 에 나타낸다.The release sheet 14 is exposed between the support sheets with the resin film forming layer, and the auxiliary sheet 15 extends toward the inside in the width direction between them. That is, the width of the auxiliary sheet is uneven, and the auxiliary sheet is formed so as to widen the width in the portion between the supporting sheets with the resin film forming layer (hereinafter, referred to as "a widening portion" in some cases). A cross-sectional view of the light width portion is shown in Fig. 1C.

이와 같은 장척 적층 시트 (2) 는, 예를 들어 이하와 같이 제조할 수 있다.Such a long laminated sheet 2 can be manufactured as follows, for example.

장척의 박리 시트 (14) 상에, 링 프레임 유지 수단 (13) 이 되는 점착제층 (양면 점착 테이프여도 된다) 을 첩부한다. 점착제층을, 사각형상으로 형발한다. 이 때, 점착제층을 완전하게 절단하고, 박리 시트에는 얕은 절입 (切入) 이 생기는 정도로 절삭날을 절입한다. 이어서, 형발된 점착제층을 제거하고, 사각형 개구부를 갖는 점착제층을 박리 시트 (14) 에 잔류시킨다.On the long release sheet 14, an adhesive layer (a double-sided adhesive tape may be used) serving as the ring frame holding means 13 is affixed. The pressure-sensitive adhesive layer is molded into a square shape. At this time, the pressure-sensitive adhesive layer is completely cut, and the cutting edge is cut in the release sheet to such an extent that a shallow cut is generated. Subsequently, the molded pressure-sensitive adhesive layer is removed, and the pressure-sensitive adhesive layer having a rectangular opening is left on the release sheet 14.

별도로 지지 시트와 수지막 형성층의 적층체를 준비해 두고, 이것을 박리 시트 (14) 의 점착제층을 갖는 면 상에 적층한다.Separately, a laminate of the support sheet and the resin film forming layer is prepared, and this is laminated on the side of the release sheet 14 having the pressure-sensitive adhesive layer.

이어서, 적층체를, 링 프레임의 형상에 맞추어 절입한다. 이 때, 점착제층의 사각형 개구부가 형발 형상의 거의 중앙에 위치하도록 절입을 형성한다. 동시에, 예정한 보조 시트 (15) 의 형상에 맞추어 절입을 작성한다. 이 때도 상기와 동일하게, 적층체를 완전하게 절단하고, 박리 시트에는 얕은 절입이 생기는 정도로 절삭날을 절입한다. 그 후, 수지막 형성층 부착 지지 시트와 보조 시트 사이의 잉여 부분 (찌꺼기부) 을 제거함으로써, 박리 시트 (14) 상에, 소정 형상의 수지막 형성층 부착 지지 시트 (10) 가 얻어지고, 박리 시트 (14) 의 폭 방향 양단에 보조 시트 (15) 가 잔류하여, 상기 구조의 장척 적층 시트 (2) 가 얻어진다.Next, the laminate is cut in accordance with the shape of the ring frame. At this time, the cutout is formed so that the square opening of the pressure-sensitive adhesive layer is located at approximately the center of the mold shape. At the same time, incisions are made according to the predetermined shape of the auxiliary sheet 15. Also in this case, the laminate is completely cut in the same manner as above, and the cutting edge is cut in the release sheet to such an extent that a shallow cut occurs. Thereafter, by removing the excess portion (debris portion) between the supporting sheet with the resin film forming layer and the auxiliary sheet, on the release sheet 14, the supporting sheet 10 with a resin film forming layer having a predetermined shape is obtained, and the release sheet The auxiliary sheet 15 remains at both ends in the width direction of (14), and the elongated laminated sheet 2 of the above structure is obtained.

[장척 적층 시트 : 제 2 형태][Long-Lamination Sheet: Second Form]

도 2 에는, 장척 적층 시트의 제 2 형태를 나타낸다. 도 2a 는, 권수체 (3) 로부터 장척 적층 시트 (4) 를 송출한 상태를 나타내고, 도 2b 는 도 2a 의 A-A 선 단면도이고, 도 2c 는 도 2a 의 B-B 선 단면도이다.In FIG. 2, the 2nd form of a long laminated sheet is shown. Fig. 2A shows a state in which the long laminated sheet 4 is delivered from the winding body 3, Fig. 2B is a sectional view taken along line A-A in Fig. 2A, and Fig. 2C is a sectional view taken along line B-B in Fig. 2A.

도 2b 에 나타내는 바와 같이, 수지막 형성층 부착 지지 시트 (20) 는, 지지 시트 (21) 와, 그 편면의 내주부에 적층된 수지막 형성층 (22) 을 갖는다. 지지 시트 (21) 와 수지막 형성층 (22) 은 박리 가능하게 적층되어 있다. 또, 제 2 형태에 있어서의 지지 시트 (21) 는, 다이싱 시트 등의 점착 시트이다. 점착 시트는, 기재 (21A) 와 점착제층 (21B) 을 갖는다. 박리 시트 (24) 를 제거하면, 수지막 형성층 (22) 의 외주에는, 점착제층 (21B) 이 노출되고, 링 프레임 유지 수단 (23) 으로서 기능한다.As shown in FIG. 2B, the support sheet 20 with a resin film forming layer has a support sheet 21 and a resin film forming layer 22 laminated on an inner circumferential portion of one side thereof. The support sheet 21 and the resin film forming layer 22 are laminated so as to be peelable. Moreover, the support sheet 21 in 2nd aspect is an adhesive sheet, such as a dicing sheet. The adhesive sheet has a base material 21A and an adhesive layer 21B. When the release sheet 24 is removed, the pressure-sensitive adhesive layer 21B is exposed on the outer periphery of the resin film forming layer 22 and functions as the ring frame holding means 23.

장척의 박리 시트 (24) 의 길이 방향을 따라, 폭 방향의 내측에, 복수의 수지막 형성층 부착 지지 시트 (20) 가, 각각이 독립적으로, 박리 가능하게 가착되어 있다.Along the lengthwise direction of the elongate release sheet 24, a plurality of support sheets 20 with a resin film forming layer are attached to each of the support sheets 20 with a plurality of resin film forming layers independently of each other in the width direction.

장척의 박리 시트 (24) 의 길이 방향을 따라, 폭 방향의 양단에, 장척의 보조 시트 (25) 가 적층되어 있다. 보조 시트 (25) 는, 수지막 형성층 부착 지지 시트 (20) 의 외주부와 동일한 적층 구조를 갖는다. 즉, 보조 시트 (25) 는, 기재 (21A) 및 점착제층 (22B) 과 동일한 소재로 이루어진다.Along the length direction of the elongate release sheet 24, the elongate auxiliary sheet 25 is laminated|stacked on both ends of the width direction. The auxiliary sheet 25 has the same lamination structure as the outer peripheral portion of the support sheet 20 with a resin film forming layer. That is, the auxiliary sheet 25 is made of the same material as the base 21A and the pressure-sensitive adhesive layer 22B.

수지막 형성층 부착 지지 시트의 사이에는, 박리 시트 (24) 가 노출되어 있는데, 이 사이에는, 보조 시트 (25) 가, 폭 방향의 내측을 향하여 연장된다. 즉, 보조 시트의 폭은 고르지 않고, 수지막 형성층 부착 지지 시트의 사이의 부분에서는, 보조 시트는 폭이 넓어지도록 형성된다 (이하, 「폭광부」라고 하는 경우가 있다). 폭광부의 단면도는 도 2c 에 나타낸다.The release sheet 24 is exposed between the support sheets with the resin film forming layer, and the auxiliary sheet 25 extends toward the inside in the width direction between them. That is, the width of the auxiliary sheet is uneven, and the auxiliary sheet is formed so as to widen the width in the portion between the supporting sheets with the resin film forming layer (hereinafter, referred to as "a widening portion" in some cases). A cross-sectional view of the light width portion is shown in Fig. 2C.

이와 같은 장척 적층 시트 (4) 는, 예를 들어 이하와 같이 제조할 수 있다.Such a long laminated sheet 4 can be manufactured as follows, for example.

장척의 박리 시트 (24) 상에, 수지막 형성층을 구성하는 수지층을 전면에 형성하고, 이 수지층을, 사각형상으로 형발한다. 이 때, 수지막 형성층을 완전하게 절단하고, 박리 시트에는 얕은 절입이 생기는 정도로 절삭날을 절입한다. 이어서, 형발된 수지막 형성층의 외주를 제거하고, 사각형상의 수지막 형성층 (22) 을 박리 시트 (24) 에 잔류시킨다.On the long release sheet 24, a resin layer constituting the resin film forming layer is formed on the entire surface, and this resin layer is molded into a square shape. At this time, the resin film forming layer is completely cut, and a cutting edge is cut in the release sheet to such an extent that a shallow cut is generated. Subsequently, the outer periphery of the molded resin film forming layer is removed, and the rectangular resin film forming layer 22 remains on the release sheet 24.

별도로 기재 (21A) 와 점착제층 (21B) 을 갖는 점착 시트를 준비해 두고, 이것을 박리 시트 (24) 의 수지막 형성층 (22) 을 갖는 면 상에 적층한다.Separately, a pressure-sensitive adhesive sheet having the base material 21A and the pressure-sensitive adhesive layer 21B is prepared, and this is laminated on the side of the release sheet 24 having the resin film forming layer 22.

이어서, 점착 시트를 링 프레임의 형상에 맞추어 절입한다. 이 때, 수지막 형성층 (22) 이, 절입 형상의 거의 중앙에 위치하도록 위치 맞춤한 후에 절입한다. 동시에, 예정한 보조 시트 (25) 의 형상에 맞추어 점착 시트에 절입을 작성한다. 이 때, 점착 시트를 완전하게 절단하고, 박리 시트에는 얕은 절입이 생기는 정도로 절삭날을 절입한다. 그 후, 수지막 형성층 부착 지지 시트와 보조 시트 사이의 잉여 부분 (찌꺼기부) 을 제거함으로써, 박리 시트 (24) 상에, 소정 형상의 수지막 형성층 부착 지지 시트 (20) 가 얻어지고, 박리 시트 (24) 의 폭 방향 양단에 보조 시트 (25) 가 잔류하여, 상기 구조의 장척 적층 시트 (4) 가 얻어진다.Next, the pressure-sensitive adhesive sheet is cut in accordance with the shape of the ring frame. At this time, the resin film forming layer 22 is cut after being positioned so that it may be positioned substantially at the center of the cut shape. At the same time, incisions are made in the pressure-sensitive adhesive sheet according to the predetermined shape of the auxiliary sheet 25. At this time, the pressure-sensitive adhesive sheet is completely cut, and a cutting edge is cut in the release sheet to such an extent that a shallow cut is formed. Thereafter, by removing the excess portion (debris portion) between the supporting sheet with the resin film forming layer and the auxiliary sheet, on the release sheet 24, a supporting sheet 20 with a resin film forming layer having a predetermined shape is obtained, and the release sheet The auxiliary sheet 25 remains at both ends of (24) in the width direction, and the elongate laminated sheet 4 having the above structure is obtained.

[장척 적층 시트 : 제 3 형태][Long-Lamination Sheet: 3rd Form]

도 3 에는, 장척 적층 시트의 제 3 형태를 나타낸다. 도 3a 는, 권수체 (5) 로부터 장척 적층 시트 (6) 를 송출한 상태를 나타내고, 도 3b 는 도 3a 의 A-A 선 단면도이고, 도 3c 는 도 3a 의 B-B 선 단면도이다.In FIG. 3, a 3rd form of a long laminated sheet is shown. Fig. 3A shows a state in which the long laminated sheet 6 is delivered from the winding body 5, Fig. 3B is a sectional view taken along line A-A in Fig. 3A, and Fig. 3C is a sectional view taken along line B-B in Fig. 3A.

도 3b 에 나타내는 바와 같이, 수지막 형성층 부착 지지 시트 (30) 는, 지지 시트 (31) 와, 그 편면의 내주부에 적층된 수지막 형성층 (32) 과, 수지막 형성층 (32) 의 외주부에 형성된 링 프레임 유지 수단 (33) 을 갖는다. 지지 시트 (31) 와 수지막 형성층 (32) 은 박리 가능하게 적층되어 있다. 지지 시트 (31) 가 박리 시트인 경우, 수지막 형성층 (32) 은 박리 처리면 상에 형성된다. 지지 시트 (31) 가 다이싱 시트와 같은 점착 시트인 경우에는, 수지막 형성층 (32) 은, 점착제층 상에 형성된다. 지지 시트 (31) 가 점착 시트인 경우에는, 점착 시트의 구체적 양태는 전술한 제 2 형태의 점착 시트와 동일하다.As shown in FIG. 3B, the support sheet 30 with a resin film forming layer is formed on the support sheet 31, the resin film forming layer 32 laminated on the inner circumferential portion of one side thereof, and the outer circumferential portion of the resin film forming layer 32. It has a ring frame holding means (33) formed. The support sheet 31 and the resin film forming layer 32 are laminated so as to be peelable. When the support sheet 31 is a release sheet, the resin film forming layer 32 is formed on the release treatment surface. When the support sheet 31 is an adhesive sheet such as a dicing sheet, the resin film forming layer 32 is formed on the adhesive layer. When the support sheet 31 is an adhesive sheet, the specific aspect of the adhesive sheet is the same as the adhesive sheet of the second aspect described above.

장척의 박리 시트 (34) 의 길이 방향을 따라, 폭 방향의 내측에, 복수의 수지막 형성층 부착 지지 시트 (30) 가, 각각이 독립적으로, 박리 가능하게 가착되어 있다.Along the lengthwise direction of the elongated release sheet 34, a plurality of support sheets 30 with a resin film forming layer are each independently attached to each other so as to be peelable.

장척의 박리 시트 (34) 의 길이 방향을 따라, 폭 방향의 양단에, 장척의 보조 시트 (35) 가 적층되어 있다. 보조 시트 (35) 는, 수지막 형성층 부착 지지 시트 (30) 의 외주부와 동일한 적층 구조를 갖는다. 즉, 보조 시트 (35) 는 지지 시트 (31) 와 링 프레임 유지 수단 (33) 과 동일한 소재로 이루어진다.Along the longitudinal direction of the elongate release sheet 34, the elongate auxiliary sheet 35 is laminated at both ends in the width direction. The auxiliary sheet 35 has the same lamination structure as the outer peripheral portion of the supporting sheet 30 with a resin film forming layer. That is, the auxiliary sheet 35 is made of the same material as the support sheet 31 and the ring frame holding means 33.

수지막 형성층 부착 지지 시트의 사이에는, 박리 시트 (34) 가 노출되어 있는데, 이 사이에는, 보조 시트 (35) 가, 폭 방향의 내측을 향하여 연장된다. 즉, 보조 시트의 폭은 고르지 않고, 수지막 형성층 부착 지지 시트의 사이의 부분에서는, 보조 시트는 폭이 넓어지도록 형성된다 (이하, 「폭광부」라고 하는 경우가 있다). 폭광부의 단면도는 도 3c 에 나타낸다.The release sheet 34 is exposed between the support sheets with the resin film forming layer, and the auxiliary sheet 35 extends toward the inside in the width direction between them. That is, the width of the auxiliary sheet is uneven, and the auxiliary sheet is formed so as to widen the width in the portion between the supporting sheets with the resin film forming layer (hereinafter, referred to as "a widening portion" in some cases). A cross-sectional view of the light width portion is shown in Fig. 3C.

이와 같은 장척 적층 시트 (6) 는, 예를 들어 이하와 같이 제조할 수 있다.Such a long laminated sheet 6 can be manufactured as follows, for example.

장척의 박리 시트 (34) 상에, 수지막 형성층을 구성하는 수지층을 전면에 형성하고, 이 수지층을, 사각형상으로 형발한다. 이 때, 수지막 형성층을 완전하게 절단하고, 박리 시트에는 얕은 절입이 생기는 정도로 절삭날을 절입한다. 이어서, 형발된 수지막 형성층의 외주를 제거하고, 사각형상의 수지막 형성층 (32) 을 박리 시트 (34) 에 잔류시킨다.On the long release sheet 34, a resin layer constituting the resin film forming layer is formed on the entire surface, and this resin layer is molded into a square shape. At this time, the resin film forming layer is completely cut, and a cutting edge is cut in the release sheet to such an extent that a shallow cut is generated. Subsequently, the outer periphery of the molded resin film forming layer is removed, and the rectangular resin film forming layer 32 is left on the release sheet 34.

별도로 장척의 지지 시트 상에, 링 프레임 유지 수단 (33) 이 되는 점착제층 (양면 점착 테이프여도 된다) 을 첩부한다. 점착제층을, 사각형상으로 형발한다. 이 때, 점착제층을 완전하게 절단하고, 지지 시트에는 얕은 절입이 생기는 정도로 절삭날을 절입한다. 이어서, 형발된 점착제층을 제거하고, 사각형 개구부를 갖는 점착제층을 장척 지지 시트에 잔류시킨다.Separately, an adhesive layer (a double-sided adhesive tape may be used) serving as the ring frame holding means 33 is affixed on the long support sheet. The pressure-sensitive adhesive layer is molded into a square shape. At this time, the pressure-sensitive adhesive layer is completely cut, and the cutting edge is cut into the support sheet to such an extent that a shallow cut is made. Subsequently, the molded pressure-sensitive adhesive layer is removed, and the pressure-sensitive adhesive layer having a rectangular opening is left on the long support sheet.

다음으로, 수지막 형성층 (32) 을 갖는 장척의 박리 시트 (34) 와, 사각형 개구부를 갖는 점착제층이 적층되어 있는 장척 지지 시트를, 그 사각형 개구부에 수지막 형성층 (32) 이 일치하도록 위치 맞춤하고, 양자를 첩부한다.Next, the long release sheet 34 having the resin film forming layer 32 and the long support sheet in which the adhesive layer having a rectangular opening is laminated are positioned so that the resin film forming layer 32 coincides with the square opening. And attach both.

이어서, 이 적층체를, 지지 시트측으로부터, 링 프레임의 형상에 맞추어 절입한다. 이 때, 수지막 형성층 (32) 이, 절입 형상의 거의 중앙에 위치하도록 위치 맞춤한 후에 절입한다. 동시에, 예정한 보조 시트 (35) 의 형상에 맞추어 적층체에 절입을 작성한다. 이 때, 적층체를 완전하게 절단하고, 박리 시트에는 얕은 절입이 생기는 정도로 절삭날을 절입한다. 그 후, 수지막 형성층 부착 지지 시트와 보조 시트 사이의 잉여 부분 (찌꺼기부) 을 제거함으로써, 박리 시트 (34) 상에, 소정 형상의 수지막 형성층 부착 지지 시트 (30) 가 얻어지고, 박리 시트 (34) 의 폭 방향 양단에 보조 시트 (35) 가 잔류하여, 상기 구조의 장척 적층 시트 (6) 가 얻어진다.Next, this laminated body is cut out according to the shape of the ring frame from the support sheet side. At this time, the resin film forming layer 32 is cut after being positioned so that it may be positioned substantially at the center of the cut shape. At the same time, incisions are made in the laminate according to the predetermined shape of the auxiliary sheet 35. At this time, the laminate is completely cut, and a cutting edge is cut in the release sheet to such an extent that shallow cuts occur. Thereafter, by removing the excess portion (debris portion) between the supporting sheet with the resin film forming layer and the auxiliary sheet, on the release sheet 34, a supporting sheet 30 with a resin film forming layer having a predetermined shape is obtained, and the release sheet The auxiliary sheet 35 remains at both ends in the width direction of (34), and the elongate laminated sheet 6 of the above structure is obtained.

[폭광부][Explosive part]

본 발명에서는, 보조 시트 (15, 25, 35) 를 형성할 때에, 수지막 형성층 부착 지지 시트와 인접하는 다른 수지막 형성층 부착 지지 시트 사이에는, 보조 시트를 내부 방향으로 연장시켜, 비교적 폭이 넓은 부분 (폭광부) 을 형성한다 (도 4 참조). 이로써, 수지막 형성층 부착 지지 시트와 인접하는 다른 수지막 형성층 부착 지지 시트 사이에서의 두께차도 완화되고, 또한 잉여 부분의 면적이 서서히 변화하기 때문에, 찌꺼기 제거시의 잉여 부분의 박리력의 급격한 변화도 없어져, 찌꺼기 제거를 안정적으로 실시할 수 있다.In the present invention, when forming the auxiliary sheets 15, 25, 35, the auxiliary sheet is extended in the inward direction between the supporting sheet with the resin film forming layer and the supporting sheet with the adjacent resin film forming layer, A part (a wide light part) is formed (see Fig. 4). Thereby, the difference in thickness between the supporting sheet with the resin film forming layer and the supporting sheet with the other adjacent resin film forming layer is also alleviated, and since the area of the surplus portion gradually changes, there is also a sudden change in the peeling force of the excess portion at the time of debris removal. It disappears, and the debris removal can be performed stably.

권수체로 했을 때에, 수지막 형성층의 사용 영역과 겹치지 않도록 폭광부를 형성한다. 수지막 형성층은, 전면이 사용되는 경우는 없고, 주변부에 약간 여유를 가지고 형성된다. 수지막 형성층의 크기는, 칩군 패키지보다 약간 크게 설정되고, 칩군 패키지를 접착해도, 수지막 형성층의 주변부에는 접착에 사용되지 않는 지점이 있다. 이 사용되지 않는 지점에서는, 수지막 형성층과 폭광부는 겹쳐도 된다. 또, 수지막 형성층의 사용 영역의 일부에 폭광부가 겹쳐 권흔이 생기더라도, 권흔이 작고, 밀착성에 영향을 미치지 않는 경우에는, 본 발명에서는 허용된다.When it is set as a winding body, the light width part is formed so that it may not overlap with the use area|region of a resin film formation layer. The resin film forming layer is not used in a case where the entire surface is used, and is formed on the periphery with some margin. The size of the resin film forming layer is set slightly larger than that of the chip group package, and even if the chip group package is adhered, there are spots that are not used for adhesion at the periphery of the resin film forming layer. At this point where it is not used, the resin film forming layer and the light width portion may overlap. In addition, even if a wound is formed by overlapping a portion of the area where the resin film forming layer is used, the wound is allowed to be in the present invention when the wound is small and does not affect adhesion.

제 1 ∼ 제 3 형태에 있어서, 적층 시트로부터 박리 시트를 제거한 후의, 수지막 형성층측으로부터의 평면시를 도 4 에 나타낸다. 도 4 에 있어서, 점선으로 위요된 부분은, 수지막 형성층의 사용 영역을 나타낸다. 또한, 도 4 에는, 제 1 양태를 예로 들어 나타내지만, 박리 시트를 제거한 후의, 수지막 형성층측으로부터의 평면시는 제 1 ∼ 제 3 형태에서 동일해진다. 따라서, 제 1 형태에서 사용한 부호에 따라 설명한다.In the first to third embodiments, a plan view from the side of the resin film forming layer after removing the release sheet from the laminated sheet is shown in FIG. 4. In Fig. 4, a portion enclosed by a dotted line indicates a use area of the resin film forming layer. In addition, although the 1st embodiment is shown as an example in FIG. 4, the planar view from the side of a resin film formation layer after removing a release sheet becomes the same in 1st-3rd modes. Therefore, description is made according to the reference numerals used in the first aspect.

어느 경우에도, 노출된 수지막 형성층 (12) 을 위요하는 링 프레임 유지 수단 (13) 이 있고, 그 폭 방향 양단에는 보조 시트 (15) 가 있다.In either case, there are ring frame holding means 13 for the exposed resin film forming layer 12, and auxiliary sheets 15 are provided at both ends of the width direction.

여기서, 도 4 에 나타내는 평면시에 있어서, 수지막 형성층 (12) 과 보조 시트 (14) 의 외측단과의 거리를 W1 로 하고, 그 평면에서 본, 보조 시트가 가장 폭넓은 부분에 있어서의 보조 시트의 폭을 W2 로 한 경우에, W1 과 W2 는, W2/W1 ≤ 1.6 을 만족하도록, 보조 시트를 형성한다. 바람직하게는 W2/W1 ≤ 1.4, W2/W1 ≤ 1.2 를 만족한다. 또, W2/W1 의 하한은 0.2 이고, 바람직하게는 0.4 ≤ W2/W1 을 만족한다.Here, in the plan view shown in Fig. 4, the distance between the resin film forming layer 12 and the outer end of the auxiliary sheet 14 is W1, and the auxiliary sheet in the widest portion of the auxiliary sheet as viewed from the plane. When the width of is W2, the auxiliary sheet is formed so that W1 and W2 satisfy W2/W1≦1.6. Preferably, W2/W1≦1.4 and W2/W1≦1.2 are satisfied. Further, the lower limit of W2/W1 is 0.2, and preferably 0.4≦W2/W1 is satisfied.

또한, 제 1 형태에 있어서의 W1 을 도 1b 에 나타내고, W2 를 도 1c 에 나타냈다. 제 2 형태에 있어서의 W1 을 도 2b 에 나타내고, W2 를 도 2c 에 나타냈다. 제 3 형태에 있어서의 W1 을 도 3b 에 나타내고, W2 를 도 3c 에 나타냈다.Moreover, W1 in 1st aspect was shown to FIG. 1B, and W2 was shown to FIG. 1C. W1 in the second aspect is shown in Fig. 2B, and W2 is shown in Fig. 2C. W1 in the third aspect was shown in FIG. 3B, and W2 was shown in FIG. 3C.

본 발명의 장척 적층 시트의 권수체에 의하면, 보조 시트의 폭광부가, 수지막 형성층의 칩군 패키지가 첩부되는 지점 (사용 영역) 에는 겹치지 않기 때문에, 수지막 형성층의 사용 영역에는 권흔이 발생하지 않는다. 또, 폭광부와 수지막 형성층이 겹쳤다고 해도, 수지막 형성층에 발생하는 권흔이 작고, 밀착성에 영향을 미치지 않는다. 이 때문에, 칩군 패키지를 안정적으로 첩부할 수 있고, 또한 얻어지는 수지막의 두께도 균일해진다.According to the winding body of the long laminated sheet of the present invention, since the width portion of the auxiliary sheet does not overlap at the point (area of use) where the chip group package of the resin film forming layer is affixed, windings do not occur in the use region of the resin film forming layer. . Moreover, even if the width|variety part and the resin film formation layer are overlapped, the wound generated in the resin film formation layer is small, and adhesiveness is not affected. For this reason, the chip group package can be stably affixed, and the thickness of the obtained resin film also becomes uniform.

다음으로, 지지 시트, 수지막 형성층, 링 프레임 유지 수단 및 장척 박리 시트에 대하여 설명하지만, 모두 비한정적인 예시이다.Next, although a support sheet, a resin film forming layer, a ring frame holding means, and a long release sheet are demonstrated, all are non-limiting examples.

[지지 시트][Support sheet]

지지 시트 (11, 31) 로는, 박리 시트를 들 수 있고, 또, 후술하는 다이싱 시트 등의 점착 시트를 사용할 수도 있다. 또, 제 2 형태에 있어서의 지지 시트 (21) 로는 점착 시트가 사용된다.As the support sheets 11 and 31, a release sheet may be mentioned, and an adhesive sheet such as a dicing sheet described later may be used. Moreover, an adhesive sheet is used as the support sheet 21 in 2nd aspect.

박리 시트로는, 예를 들어, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌아세트산비닐 공중합체 필름, 아이오노머 수지 필름, 에틸렌·(메트)아크릴산 공중합체 필름, 에틸렌·(메트)아크릴산에스테르 공중합체 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리이미드 필름, 불소 수지 필름 등이 사용된다. 또 이들의 가교 필름도 사용된다. 또한 이들의 적층 필름이어도 된다.As a release sheet, for example, a polyethylene film, a polypropylene film, a polybutene film, a polybutadiene film, a polymethylpentene film, a polyvinyl chloride film, a vinyl chloride copolymer film, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, Polybutylene terephthalate film, polyurethane film, ethylene vinyl acetate copolymer film, ionomer resin film, ethylene/(meth)acrylic acid copolymer film, ethylene/(meth)acrylic acid ester copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film , A polyimide film, a fluororesin film, and the like are used. Moreover, these crosslinked films are also used. Moreover, these laminated films may be sufficient.

박리 시트의 수지막 형성층에 접하는 면의 표면 장력은, 바람직하게는 40 mN/m 이하, 더욱 바람직하게는 37 mN/m 이하, 특히 바람직하게는 35 mN/m 이하이다. 하한치는 통상 25 mN/m 정도이다. 단, 후술하는 「장척 박리 시트」보다 중박리 타입으로 하는 것이 바람직하다. 이와 같은 표면 장력이 비교적 낮은 박리 시트는, 재질을 적절히 선택하여 얻는 것이 가능하고, 또한 박리 시트의 표면에 박리제를 도포하여 박리 처리를 실시함으로써 얻을 수도 있다.The surface tension of the surface of the release sheet in contact with the resin film forming layer is preferably 40 mN/m or less, more preferably 37 mN/m or less, and particularly preferably 35 mN/m or less. The lower limit is usually about 25 mN/m. However, it is preferable to set it as a medium peeling type rather than the "long peeling sheet" mentioned later. Such a release sheet having a relatively low surface tension can be obtained by appropriately selecting a material, and can also be obtained by applying a release agent to the surface of the release sheet to perform a release treatment.

박리 처리에 사용되는 박리제로는, 알키드계, 실리콘계, 불소계, 불포화 폴리에스테르계, 폴리올레핀계, 왁스계 등이 사용되지만, 특히 알키드계, 실리콘계, 불소계의 박리제가 내열성을 가지기 때문에 바람직하다.As the release agent used for the peeling treatment, alkyd-based, silicone-based, fluorine-based, unsaturated polyester-based, polyolefin-based, wax-based, and the like are used, but particularly, alkyd-based, silicone-based, and fluorine-based release agents are preferred because they have heat resistance.

상기의 박리제를 사용하여 박리 시트의 기체가 되는 필름 등의 표면을 박리 처리하기 위해서는, 박리제를 그대로 무용제로, 또는 용제 희석이나 에멀션화하여, 그라비아 코터, 메이어 바 코터, 에어 나이프 코터, 롤 코터 등에 의해 도포하고, 박리제가 도포된 박리 시트를 상온하 또는 가열하에 제공하거나, 또는 전자선에 의해 경화시켜 박리제층을 형성시키면 된다.In order to peel the surface of the film, etc., which is the base of the release sheet using the above release agent, the release agent is used as it is as a solvent-free agent, or by diluting or emulsifying a solvent, and the like, The release sheet coated with the release agent and applied thereto is provided under room temperature or under heating, or cured by an electron beam to form a release agent layer.

또, 웨트 라미네이션이나 드라이 라미네이션, 열 용융 라미네이션, 용융 압출 라미네이션, 공압출 가공 등에 의해 필름의 적층을 실시함으로써 박리 시트의 표면 장력을 조정해도 된다. 즉, 적어도 일방의 면의 표면 장력이, 상기 서술한 박리 시트의 수지막 형성층과 접하는 면의 것으로서 바람직한 범위 내에 있는 필름을, 당해 면이 수지막 형성층과 접하는 면이 되도록, 다른 필름과 적층한 적층체를 제조하고, 박리 시트로 해도 된다.Further, the surface tension of the release sheet may be adjusted by laminating the films by wet lamination, dry lamination, hot melt lamination, melt extrusion lamination, coextrusion, or the like. That is, a film in which the surface tension of at least one surface is within a preferable range as the surface in contact with the resin film forming layer of the above-described release sheet is laminated with another film so that the surface is in contact with the resin film forming layer. A sieve may be produced and a release sheet may be used.

지지 시트로는, 기재 필름 상에 점착제층을 형성한, 다이싱 시트 등의 점착 시트를 사용해도 된다. 이 양태에 있어서는, 수지막 형성층은, 점착 시트의 점착제층 상에 적층된다. 점착 시트의 기재로는, 박리 시트로서 예시한 상기의 필름을 들 수 있다. 점착제층은, 수지막 형성층을 박리할 수 있는 정도의 점착력을 갖는 약점착성의 것을 사용해도 되고, 에너지선 조사에 의해 점착력이 저하되는 에너지선 경화성의 것을 사용해도 된다. 점착제층은, 공지된 여러 가지 점착제 (예를 들어, 고무계, 아크릴계, 실리콘계, 우레탄계, 비닐에테르계 등의 범용 점착제, 표면에 요철이 있는 점착제, 에너지선 경화형 점착제, 열 팽창 성분 함유 점착제 등) 에 의해 형성할 수 있다.As the supporting sheet, an adhesive sheet such as a dicing sheet in which an adhesive layer is formed on a base film may be used. In this aspect, the resin film forming layer is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet. As a base material of an adhesive sheet, the said film illustrated as a release sheet is mentioned. As the pressure-sensitive adhesive layer, a weakly-adhesive one having an adhesive force capable of peeling the resin film forming layer may be used, or an energy-ray-curable one whose adhesive strength is lowered by irradiation with energy rays may be used. The pressure-sensitive adhesive layer is applied to various known pressure-sensitive adhesives (for example, general-purpose pressure-sensitive adhesives such as rubber-based, acrylic-based, silicone-based, urethane-based, and vinyl ether-based, pressure-sensitive adhesives with irregularities on the surface, energy ray-curable pressure-sensitive adhesives, adhesives containing thermal expansion components, etc. Can be formed by

지지 시트의 두께는, 통상은 10 ∼ 500 ㎛, 바람직하게는 15 ∼ 300 ㎛, 특히 바람직하게는 20 ∼ 250 ㎛ 이다. 지지 시트가 기재 상에 점착제층을 형성한 점착 시트인 경우에는, 지지 시트 중 3 ∼ 50 ㎛ 가 점착제층의 두께이다.The thickness of the support sheet is usually 10 to 500 µm, preferably 15 to 300 µm, and particularly preferably 20 to 250 µm. When the support sheet is an adhesive sheet having an adhesive layer formed on a substrate, 3 to 50 µm in the support sheet is the thickness of the adhesive layer.

[수지막 형성층][Resin film formation layer]

수지막 형성층 (12, 22, 32) 은, 보호막을 형성하기 위한 전구체층이거나, 또는 접착제층으로 이루어진다. 수지막 형성층에 적어도 요구되는 기능은, (1) 시트 형상 유지성, (2) 초기 접착성 및 (3) 경화성이다.The resin film forming layers 12, 22, 32 are precursor layers for forming a protective film, or consist of an adhesive layer. The functions required at least for the resin film forming layer are (1) sheet shape retention, (2) initial adhesiveness, and (3) curability.

수지막 형성층에는, 바인더 성분의 첨가에 의해 (1) 시트 형상 유지성 및 (3) 경화성을 부여할 수 있고, 바인더 성분으로는, 중합체 성분 (A) 및 경화성 성분 (B) 을 함유하는 제 1 바인더 성분, 또는 (A) 성분 및 (B) 성분의 성질을 겸비한 경화성 중합체 성분 (AB) 을 함유하는 제 2 바인더 성분을 사용할 수 있다.(1) sheet shape retention and (3) curability can be imparted to the resin film forming layer by addition of a binder component, and as a binder component, a first binder containing a polymer component (A) and a curable component (B) A second binder component containing a component or a curable polymer component (AB) having both the properties of the component (A) and the component (B) can be used.

또한, 수지막 형성층을 경화시킬 때까지, 패키지에 가착시켜 두기 위한 기능인 (2) 초기 접착성은, 감압 접착성이어도 되고, 열에 의해 연화되어 접착하는 성질이어도 된다. (2) 초기 접착성은, 통상 바인더 성분의 제특성이나, 후술하는 무기 필러 (C) 의 배합량의 조정 등에 의해 제어된다.In addition, the (2) initial adhesiveness, which is a function for temporarily adhering to the package until the resin film forming layer is cured, may be a pressure-sensitive adhesive property or a property of softening by heat and bonding. (2) Initial adhesion is usually controlled by various properties of the binder component, adjustment of the blending amount of the inorganic filler (C) described later, or the like.

(제 1 바인더 성분)(First binder component)

제 1 바인더 성분은, 중합체 성분 (A) 과 경화성 성분 (B) 을 함유함으로써, 수지막 형성층에 시트 형상 유지성과 경화성을 부여한다. 또한, 제 1 바인더 성분은, 제 2 바인더 성분과 구별하는 편의상, 경화성 중합체 성분 (AB) 을 함유하지 않는다.By containing the polymer component (A) and the curable component (B), the first binder component imparts sheet shape retention and curability to the resin film forming layer. In addition, the first binder component does not contain a curable polymer component (AB) for convenience of distinguishing from the second binder component.

(A) 중합체 성분(A) polymer component

중합체 성분 (A) 은, 수지막 형성층에 시트 형상 유지성을 부여하는 것을 주목적으로 하여 수지막 형성층에 첨가된다.The polymer component (A) is added to the resin film forming layer for the purpose of imparting sheet shape retention to the resin film forming layer.

상기의 목적을 달성하기 위해, 중합체 성분 (A) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 통상 20,000 이상이고, 20,000 ∼ 3,000,000 인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량 (Mw) 의 값은, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피법 (GPC) 법 (폴리스티렌 표준) 에 의해 측정되는 경우의 값이다. 이와 같은 방법에 의한 측정은, 예를 들어, 토소사 제조의 고속 GPC 장치 「HLC-8120GPC」에, 고속 칼럼 「TSK gurd column HXL-H」, 「TSK Gel GMHXL」, 「TSK Gel G2000 HXL」 (이상, 모두 토소사 제조) 을 이 순서로 연결한 것을 사용하고, 칼럼 온도 : 40 ℃, 송액 속도 : 1.0 mL/분의 조건에서, 검출기를 시차 굴절률계로 하여 실시된다.In order to achieve the above object, the weight average molecular weight (Mw) of the polymer component (A) is usually 20,000 or more, and is preferably 20,000 to 3,000,000. The value of the weight average molecular weight (Mw) is a value in the case of measuring by a gel permeation chromatography (GPC) method (polystyrene standard). Measurement by such a method is performed, for example, in a high-speed GPC device "HLC-8120GPC" manufactured by Tosoh Corporation, and a high-speed column "TSK gurd column H XL -H", "TSK Gel GMH XL ", and "TSK Gel G2000 H. XL " (above, all manufactured by Tosoh Corporation) in this order was used, and the detector was performed as a differential refractometer under conditions of a column temperature: 40°C and a liquid feed rate: 1.0 mL/min.

또한, 후술하는 경화성 중합체 (AB) 와 구별하는 편의상, 중합체 성분 (A) 은 후술하는 경화 기능 관능기를 가지지 않는다.In addition, for the convenience of distinguishing from the curable polymer (AB) described later, the polymer component (A) does not have a curing function functional group described later.

중합체 성분 (A) 으로는, 아크릴계 중합체, 폴리에스테르, 페녹시 수지 (후술하는 경화성 중합체 (AB) 와 구별하는 편의상, 에폭시기를 가지지 않는 것에 한정한다.), 폴리카보네이트, 폴리에테르, 폴리우레탄, 폴리실록산, 고무계 중합체 등을 사용할 수 있다. 또, 이들의 2 종 이상이 결합한 것, 예를 들어, 수산기를 갖는 아크릴계 중합체인 아크릴 폴리올에, 분자 말단에 이소시아네이트기를 갖는 우레탄 프리폴리머를 반응시킴으로써 얻어지는 아크릴우레탄 수지 등이어도 된다. 또한, 2 종 이상이 결합한 중합체를 포함하여, 이들의 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.As the polymer component (A), an acrylic polymer, a polyester, a phenoxy resin (for convenience to distinguish from the curable polymer (AB) described later, limited to those having no epoxy group), polycarbonate, polyether, polyurethane, polysiloxane , Rubber-based polymers, etc. can be used. In addition, two or more of these may be bonded, for example, an acrylic urethane resin obtained by reacting an acrylic polyol which is an acrylic polymer having a hydroxyl group with a urethane prepolymer having an isocyanate group at the molecular terminal. Moreover, you may use in combination of 2 or more types of these, including a polymer in which 2 or more types are bonded.

(A1) 아크릴계 중합체(A1) acrylic polymer

중합체 성분 (A) 으로는, 아크릴계 중합체 (A1) 가 바람직하게 사용된다. 아크릴계 중합체 (A1) 의 유리 전이 온도 (Tg) 는, 바람직하게는 -60 ∼ 50 ℃, 보다 바람직하게는 -50 ∼ 40 ℃, 더욱 바람직하게는 -40 ∼ 30 ℃ 의 범위에 있다. 아크릴계 중합체 (A1) 의 유리 전이 온도가 높으면 수지막 형성층의 접착성이 저하되어, 워크에 전사할 수 없게 되는 것이나, 전사 후에 워크로부터 수지막 형성층 또는 수지막 형성층을 경화시켜 얻어지는 수지막이 박리되는 등의 문제를 발생하는 경우가 있다. 또, 아크릴계 중합체 (A1) 의 유리 전이 온도가 낮으면 수지막 형성층과 지지 시트의 박리력이 커져 수지막 형성층의 전사 불량이 일어나는 경우가 있다.As the polymer component (A), an acrylic polymer (A1) is preferably used. The glass transition temperature (Tg) of the acrylic polymer (A1) is preferably in the range of -60 to 50°C, more preferably -50 to 40°C, still more preferably -40 to 30°C. When the glass transition temperature of the acrylic polymer (A1) is high, the adhesiveness of the resin film forming layer decreases, making it impossible to transfer to the work, or the resin film obtained by curing the resin film forming layer or the resin film forming layer from the work after transfer, etc. There are cases that cause problems. In addition, when the glass transition temperature of the acrylic polymer (A1) is low, the peeling force between the resin film forming layer and the supporting sheet increases, and a defective transfer of the resin film forming layer may occur.

아크릴계 중합체 (A1) 의 중량 평균 분자량은, 100,000 ∼ 1,500,000 인 것이 바람직하다. 아크릴계 중합체 (A1) 의 중량 평균 분자량이 높으면 수지막 형성층의 접착성이 저하되어, 워크에 전사할 수 없게 되는 것이나, 전사 후에 워크로부터 수지막 형성층 또는 수지막이 박리되는 등의 문제를 발생하는 경우가 있다. 또, 아크릴계 중합체 (A1) 의 중량 평균 분자량이 낮으면 수지막 형성층과 지지 시트의 접착성이 높아져, 수지막 형성층의 전사 불량이 일어나는 경우가 있다.It is preferable that the weight average molecular weight of the acrylic polymer (A1) is 100,000 to 1,500,000. When the weight average molecular weight of the acrylic polymer (A1) is high, the adhesiveness of the resin film forming layer decreases, making it impossible to transfer to the work, or problems such as peeling of the resin film forming layer or the resin film from the work after transfer may occur. have. In addition, when the weight average molecular weight of the acrylic polymer (A1) is low, the adhesiveness between the resin film forming layer and the supporting sheet is increased, and poor transfer of the resin film forming layer may occur.

아크릴계 중합체 (A1) 는, 적어도 구성하는 단량체에, (메트)아크릴산에스테르를 포함한다.The acrylic polymer (A1) contains a (meth)acrylic acid ester in at least a constituting monomer.

(메트)아크릴산에스테르로는, 알킬기의 탄소수가 1 ∼ 18 인 알킬(메트)아크릴레이트, 구체적으로는 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트 등 ; 고리형 골격을 갖는 (메트)아크릴레이트, 구체적으로는 시클로알킬(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 이미드(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또, 후술하는 수산기를 갖는 단량체, 카르복실기를 갖는 단량체, 아미노기를 갖는 단량체로서 예시하는 것 중, (메트)아크릴산에스테르인 것을 예시할 수 있다.Examples of (meth)acrylic acid esters include alkyl (meth)acrylates having 1 to 18 carbon atoms in the alkyl group, specifically methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, and butyl (meth)acrylate. ) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, etc.; (Meth)acrylate having a cyclic skeleton, specifically cycloalkyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclophene Tenyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, imide (meth)acrylate, etc. are mentioned. In addition, among those exemplified as a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group, and a monomer having an amino group described later, a (meth)acrylic acid ester can be illustrated.

또한, 본 명세서에서 (메트)아크릴은, 아크릴 및 메타크릴의 양자를 포함하는 의미로 사용하는 경우가 있다.In addition, in this specification, (meth)acrylic may be used in a meaning including both acrylic and methacrylic.

아크릴계 중합체 (A1) 를 구성하는 단량체로서, 수산기를 갖는 단량체를 사용해도 된다. 이와 같은 단량체를 사용함으로써, 아크릴계 중합체 (A1) 에 수산기가 도입되고, 수지막 형성층이 별도로 에너지선 경화성 성분 (B2) 을 함유하는 경우에, 이것과 아크릴계 중합체 (A1) 의 상용성이 향상된다. 수산기를 갖는 단량체로는, 2-하이드록실에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 ; N-메틸올(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다.As the monomer constituting the acrylic polymer (A1), a monomer having a hydroxyl group may be used. By using such a monomer, when a hydroxyl group is introduced into the acrylic polymer (A1) and the resin film forming layer separately contains the energy ray-curable component (B2), the compatibility between this and the acrylic polymer (A1) is improved. Examples of the monomer having a hydroxyl group include (meth)acrylic acid ester having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 2-hydroxypropyl (meth)acrylate; N-methylol (meth)acrylamide, etc. are mentioned.

아크릴계 중합체 (A1) 를 구성하는 단량체로서, 카르복실기를 갖는 단량체를 사용해도 된다. 이와 같은 단량체를 사용함으로써, 아크릴계 중합체 (A1) 에 카르복실기가 도입되고, 수지막 형성층이 별도로 에너지선 경화성 성분 (B2) 을 함유하는 경우에, 이것과 아크릴계 중합체 (A1) 의 상용성이 향상된다. 카르복실기를 갖는 단량체로는, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필프탈레이트 등의 카르복실기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 ; (메트)아크릴산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산 등을 들 수 있다. 후술하는 경화성 성분 (B) 으로서 에폭시계 열 경화성 성분을 사용하는 경우에는, 카르복실기와 에폭시계 열 경화성 성분 중의 에폭시기가 반응하기 때문에, 카르복실기를 갖는 단량체의 사용량은 적은 것이 바람직하다.As the monomer constituting the acrylic polymer (A1), a monomer having a carboxyl group may be used. By using such a monomer, when a carboxyl group is introduced into the acrylic polymer (A1) and the resin film forming layer separately contains the energy ray-curable component (B2), the compatibility between this and the acrylic polymer (A1) is improved. Examples of the monomer having a carboxyl group include (meth)acrylic acid esters having a carboxyl group such as 2-(meth)acryloyloxyethylphthalate and 2-(meth)acryloyloxypropylphthalate; (Meth)acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, etc. are mentioned. When an epoxy-based thermosetting component is used as the curable component (B) described later, since the carboxyl group and the epoxy group in the epoxy-based thermosetting component react, the amount of the monomer having a carboxyl group is preferably small.

아크릴계 중합체 (A1) 를 구성하는 단량체로서, 아미노기를 갖는 단량체를 사용해도 된다. 이와 같은 단량체로는, 모노에틸아미노(메트)아크릴레이트 등의 아미노기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 등을 들 수 있다.As the monomer constituting the acrylic polymer (A1), a monomer having an amino group may be used. Examples of such a monomer include (meth)acrylic acid esters having an amino group such as monoethylamino (meth)acrylate.

아크릴계 중합체 (A1) 를 구성하는 단량체로서, 이 밖에 아세트산비닐, 스티렌, 에틸렌, α-올레핀 등을 사용해도 된다.As a monomer constituting the acrylic polymer (A1), vinyl acetate, styrene, ethylene, α-olefin, etc. may be used in addition.

아크릴계 중합체 (A1) 는 가교되어 있어도 된다. 가교는, 가교되기 전의 아크릴계 중합체 (A1) 가 수산기 등의 가교성 관능기를 가지고 있고, 수지막 형성층을 형성하기 위한 조성물 중에 가교제를 첨가함으로써 가교성 관능기와 가교제가 갖는 관능기가 반응함으로써 실시된다. 아크릴계 중합체 (A1) 를 가교함으로써, 수지막 형성층의 응집력을 조절하는 것이 가능해진다.The acrylic polymer (A1) may be crosslinked. Crosslinking is carried out by the acrylic polymer (A1) before crosslinking has a crosslinkable functional group such as a hydroxyl group, and by adding a crosslinking agent to the composition for forming the resin film forming layer, the crosslinkable functional group and the functional group possessed by the crosslinking agent react. By crosslinking the acrylic polymer (A1), it becomes possible to adjust the cohesive force of the resin film forming layer.

가교제로는 유기 다가 이소시아네이트 화합물, 유기 다가 이민 화합물 등을 들 수 있다.As a crosslinking agent, an organic polyvalent isocyanate compound, an organic polyvalent imine compound, etc. are mentioned.

유기 다가 이소시아네이트 화합물로는, 방향족 다가 이소시아네이트 화합물, 지방족 다가 이소시아네이트 화합물, 지환족 다가 이소시아네이트 화합물 및 이들 유기 다가 이소시아네이트 화합물의 3 량체, 그리고 이들 유기 다가 이소시아네이트 화합물과 폴리올 화합물을 반응시켜 얻어지는 말단 이소시아네이트우레탄 프리폴리머 등을 들 수 있다.As the organic polyvalent isocyanate compound, an aromatic polyvalent isocyanate compound, an aliphatic polyvalent isocyanate compound, an alicyclic polyvalent isocyanate compound, and a trimer of these organic polyvalent isocyanate compounds, and a terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting these organic polyvalent isocyanate compounds with polyol compounds, Can be mentioned.

유기 다가 이소시아네이트 화합물로서 구체적으로는, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 1,3-자일릴렌디이소시아네이트, 1,4-자일렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐메탄-2,4'-디이소시아네이트, 3-메틸디페닐메탄디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-2,4'-디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 및 이들의 다가 알코올 어덕트체를 들 수 있다.Specifically as an organic polyvalent isocyanate compound, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4' -Diisocyanate, diphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 3-methyldiphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, dicyclo And hexylmethane-2,4'-diisocyanate, lysine diisocyanate, and polyhydric alcohol adducts thereof.

유기 다가 이민 화합물로서 구체적으로는, N,N'-디페닐메탄-4,4'-비스(1-아지리딘카르복시아미드), 트리메틸올프로판-트리-β-아지리디닐프로피오네이트, 테트라메틸올메탄-트리-β-아지리디닐프로피오네이트 및 N,N'-톨루엔-2,4-비스(1-아지리딘카르복시아미드)트리에틸렌멜라민 등을 들 수 있다.Specific examples of the organic polyimine compound include N,N'-diphenylmethane-4,4'-bis(1-aziridinecarboxyamide), trimethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate, tetramethyl Olmethane-tri-β-aziridinylpropionate and N,N'-toluene-2,4-bis(1-aziridinecarboxyamide)triethylene melamine.

가교제는 가교하기 전의 아크릴계 중합체 (A1) 100 질량부에 대하여 통상 0.01 ∼ 20 질량부, 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량부, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 5 질량부의 비율로 사용된다.The crosslinking agent is used in a ratio of usually 0.01 to 20 parts by mass, preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.5 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the acrylic polymer (A1) before crosslinking.

수지막 형성층을 구성하는 성분의 함유량에 대하여, 중합체 성분 (A) 의 함유량을 기준으로 하여 정하는 경우, 중합체 성분 (A) 이 가교된 아크릴계 중합체일 때는, 그 기준으로 하는 함유량은, 가교되기 전의 아크릴계 중합체의 함유량이다.When the content of the component constituting the resin film forming layer is determined based on the content of the polymer component (A), and when the polymer component (A) is a crosslinked acrylic polymer, the content as the reference is the acrylic polymer before crosslinking. It is the content of the polymer.

(A2) 비아크릴계 수지(A2) Non-acrylic resin

또, 중합체 성분 (A) 으로서, 폴리에스테르, 페녹시 수지 (후술하는 경화성 중합체 (AB) 와 구별하는 편의상, 에폭시기를 가지지 않는 것에 한정한다.), 폴리카보네이트, 폴리에테르, 폴리우레탄, 폴리실록산, 고무계 중합체 또는 이들의 2 종 이상이 결합한 것으로부터 선택되는 비아크릴계 수지 (A2) 의 1 종 단독 또는 2 종 이상의 조합을 사용해도 된다. 이와 같은 수지로는, 중량 평균 분자량이 20,000 ∼ 100,000 인 것이 바람직하고, 20,000 ∼ 80,000 인 것이 더욱 바람직하다.In addition, as the polymer component (A), polyester, phenoxy resin (limited to those having no epoxy group for convenience of distinguishing from the curable polymer (AB) described later), polycarbonate, polyether, polyurethane, polysiloxane, rubber-based One type alone or a combination of two or more types of non-acrylic resins (A2) selected from polymers or two or more of them bonded may be used. As such a resin, it is preferable that the weight average molecular weight is 20,000 to 100,000, and it is more preferable that it is 20,000 to 80,000.

비아크릴계 수지 (A2) 의 유리 전이 온도는, 바람직하게는 -30 ∼ 150 ℃, 더욱 바람직하게는 -20 ∼ 120 ℃ 의 범위에 있다.The glass transition temperature of the non-acrylic resin (A2) is preferably -30 to 150°C, more preferably -20 to 120°C.

비아크릴계 수지 (A2) 를, 상기 서술한 아크릴계 중합체 (A1) 와 병용한 경우에는, 패키지에 수지막 형성층을 전사할 때에, 지지 시트와 수지막 형성층의 층간 박리를 용이하게 실시할 수 있고, 또한 전사면에 수지막 형성층이 추종하여 보이드 등의 발생을 억제할 수 있다.When the non-acrylic resin (A2) is used in combination with the above-described acrylic polymer (A1), when transferring the resin film forming layer to the package, delamination between the supporting sheet and the resin film forming layer can be easily performed, and further The resin film-forming layer follows the transfer surface, and the generation of voids and the like can be suppressed.

비아크릴계 수지 (A2) 를, 상기 서술한 아크릴계 중합체 (A1) 와 병용하는 경우에는, 비아크릴계 수지 (A2) 의 함유량은, 비아크릴계 수지 (A2) 와 아크릴계 중합체 (A1) 의 질량비 (A2 : A1) 에 있어서, 통상 1 : 99 ∼ 60 : 40, 바람직하게는 1 : 99 ∼ 30 : 70 의 범위에 있다. 비아크릴계 수지 (A2) 의 함유량이 이 범위에 있음으로써, 상기의 효과를 얻을 수 있다.When using the non-acrylic resin (A2) in combination with the above-described acrylic polymer (A1), the content of the non-acrylic resin (A2) is the mass ratio of the non-acrylic resin (A2) and the acrylic polymer (A1) (A2:A1) ), it is usually in the range of 1:99 to 60:40, and preferably 1:99 to 30:70. When the content of the non-acrylic resin (A2) is in this range, the above effect can be obtained.

(B) 경화성 성분(B) curable component

경화성 성분 (B) 은, 수지막 형성층에 경화성을 부여하는 것을 주목적으로 하여 첨가된다. 경화성 성분 (B) 은, 열 경화성 성분 (B1), 또는 에너지선 경화성 성분 (B2) 을 사용할 수 있다. 또, 이들을 조합하여 사용해도 된다. 열 경화성 성분 (B1) 은, 적어도 가열에 의해 반응하는 관능기를 갖는 화합물을 함유한다. 또, 에너지선 경화성 성분 (B2) 은, 에너지선 조사에 의해 반응하는 관능기를 갖는 화합물 (B21) 을 함유하고, 자외선, 전자선 등의 에너지선의 조사를 받으면 중합 경화된다. 이들 경화성 성분이 갖는 관능기끼리가 반응하고, 삼차원 망목 구조가 형성됨으로써 경화가 실현된다. 경화성 성분 (B) 은, 중합체 성분 (A) 과 조합하여 사용하기 때문에, 수지막 형성층을 형성하기 위한 도공용 조성물의 점도를 억제하고, 취급성을 향상시키는 등의 관점에서, 통상 그 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 10,000 이하이고, 100 ∼ 10,000 인 것이 바람직하다.The curable component (B) is added for the purpose of imparting curability to the resin film forming layer. As the curable component (B), a thermosetting component (B1) or an energy ray curable component (B2) can be used. Moreover, you may use them in combination. The thermosetting component (B1) contains at least a compound having a functional group reacting by heating. Moreover, the energy ray-curable component (B2) contains a compound (B21) having a functional group reacting by irradiation with energy rays, and is polymerized and cured when irradiated with energy rays such as ultraviolet rays and electron rays. The functional groups of these curable components react with each other to form a three-dimensional network structure, whereby curing is realized. Since the curable component (B) is used in combination with the polymer component (A), it is usually its weight average molecular weight from the viewpoint of suppressing the viscosity of the coating composition for forming the resin film forming layer and improving handling properties. (Mw) is 10,000 or less, and it is preferable that it is 100 to 10,000.

(B1) 열 경화성 성분(B1) thermosetting component

열 경화성 성분으로는, 예를 들어, 에폭시계 열 경화성 성분이 바람직하다.As the thermosetting component, for example, an epoxy thermosetting component is preferred.

에폭시계 열 경화성 성분은, 에폭시기를 갖는 화합물 (B11) 을 함유하고, 에폭시기를 갖는 화합물 (B11) 과 열 경화제 (B12) 를 조합한 것을 사용하는 것이 바람직하다.The epoxy-based thermosetting component contains a compound (B11) having an epoxy group, and a combination of the compound (B11) having an epoxy group and a thermal curing agent (B12) is preferably used.

(B11) 에폭시기를 갖는 화합물(B11) compound having an epoxy group

에폭시기를 갖는 화합물 (B11) (이하, 「에폭시 화합물 (B11)」이라고 하는 경우가 있다.) 로는, 종래 공지된 것을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 다관능계 에폭시 수지나, 비스페놀 A 디글리시딜에테르나 그 수소 첨가물, 오르토크레졸노볼락 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 페닐렌 골격형 에폭시 수지 등, 분자 중에 2 관능 이상 갖는 에폭시 화합물을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the compound (B11) having an epoxy group (hereinafter, it may be referred to as "epoxy compound (B11)"), a conventionally known compound can be used. Specifically, polyfunctional epoxy resin, bisphenol A diglycidyl ether or hydrogenated product thereof, orthocresol novolac epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, Epoxy compounds having two or more functionalities in a molecule, such as a bisphenol F type epoxy resin and a phenylene skeleton type epoxy resin, are mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

에폭시 화합물 (B11) 을 사용하는 경우에는, 수지막 형성층에는, 중합체 성분 (A) 100 질량부에 대하여, 에폭시 화합물 (B11) 이, 바람직하게는 1 ∼ 1500 질량부 포함되고, 보다 바람직하게는 3 ∼ 1200 질량부 포함된다. 에폭시 화합물 (B11) 이 적으면, 수지막 형성층의 경화 후에 있어서의 접착성이 저하되는 경향이 있다. 또, 에폭시 화합물 (B11) 이 많으면, 수지막 형성층과 지지 시트의 박리력이 높아져, 수지막 형성층의 전사 불량이 일어나는 경우가 있다.In the case of using the epoxy compound (B11), the epoxy compound (B11) is preferably contained in an amount of 1 to 1500 parts by mass, and more preferably 3 parts by mass per 100 parts by mass of the polymer component (A) in the resin film forming layer. It contains-1200 parts by mass. When there are few epoxy compounds (B11), there exists a tendency for the adhesiveness after hardening of a resin film forming layer to fall. Moreover, when there is a large amount of the epoxy compound (B11), the peeling force between the resin film forming layer and the supporting sheet is increased, and a defective transfer of the resin film forming layer may occur.

(B12) 열 경화제(B12) thermal curing agent

열 경화제 (B12) 는, 에폭시 화합물 (B11) 에 대한 경화제로서 기능한다. 바람직한 열 경화제로는, 1 분자 중에 에폭시기와 반응할 수 있는 관능기를 2 개 이상 갖는 화합물을 들 수 있다. 그 관능기로는 페놀성 수산기, 알코올성 수산기, 아미노기, 카르복실기 및 산 무수물 등을 들 수 있다. 이들 중 바람직하게는 페놀성 수산기, 아미노기, 산 무수물 등을 들 수 있고, 더욱 바람직하게는 페놀성 수산기, 아미노기를 들 수 있다.The thermal curing agent (B12) functions as a curing agent for the epoxy compound (B11). Preferred thermal curing agents include compounds having two or more functional groups capable of reacting with an epoxy group per molecule. Examples of the functional group include a phenolic hydroxyl group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an acid anhydride. Among these, a phenolic hydroxyl group, an amino group, an acid anhydride, etc. are preferable, and a phenolic hydroxyl group and an amino group are more preferable.

페놀계 경화제의 구체적인 예로는, 다관능계 페놀 수지, 비페놀, 노볼락형 페놀 수지, 디시클로펜타디엔계 페놀 수지, 자일록형 페놀 수지, 아르알킬페놀 수지를 들 수 있다.Specific examples of the phenolic curing agent include polyfunctional phenolic resins, biphenols, novolac phenolic resins, dicyclopentadiene phenolic resins, xyloxy phenolic resins, and aralkylphenolic resins.

아민계 경화제의 구체적인 예로는, DICY (디시안디아미드) 를 들 수 있다.DICY (dicyandiamide) is mentioned as a specific example of an amine type hardening agent.

이들은, 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.These can be used alone or in combination of two or more.

열 경화제 (B12) 의 함유량은, 에폭시 화합물 (B11) 100 질량부에 대하여, 0.1 ∼ 500 질량부인 것이 바람직하고, 1 ∼ 200 질량부인 것이 보다 바람직하다. 열 경화제의 함유량이 적으면, 경화 후에 있어서의 접착성이 저하되는 경향이 있다.The content of the thermal curing agent (B12) is preferably 0.1 to 500 parts by mass, more preferably 1 to 200 parts by mass, based on 100 parts by mass of the epoxy compound (B11). When the content of the thermal curing agent is small, the adhesiveness after curing tends to decrease.

(B13) 경화 촉진제(B13) hardening accelerator

경화 촉진제 (B13) 를, 수지막 형성층의 열 경화의 속도를 조정하기 위해 사용해도 된다. 경화 촉진제 (B13) 는, 특히, 열 경화성 성분 (B1) 으로서 에폭시계 열 경화성 성분을 사용할 때에 바람직하게 사용된다.A curing accelerator (B13) may be used in order to adjust the speed of thermal curing of the resin film forming layer. The curing accelerator (B13) is particularly preferably used when an epoxy-based thermosetting component is used as the thermosetting component (B1).

바람직한 경화 촉진제로는, 트리에틸렌디아민, 벤질디메틸아민, 트리에탄올아민, 디메틸아미노에탄올, 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등의 3 급 아민류 ; 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4,5-디하이드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-하이드록시메틸이미다졸 등의 이미다졸류 ; 트리부틸포스핀, 디페닐포스핀, 트리페닐포스핀 등의 유기 포스핀류 ; 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트, 트리페닐포스핀테트라페닐보레이트 등의 테트라페닐붕소염 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Preferred curing accelerators include tertiary amines such as triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, and tris(dimethylaminomethyl)phenol; 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5 -Imidazoles such as hydroxymethylimidazole; Organic phosphines such as tributylphosphine, diphenylphosphine, and triphenylphosphine; And tetraphenyl boron salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and triphenylphosphine tetraphenylborate. These may be used alone or in combination of two or more.

경화 촉진제 (B13) 는, 에폭시 화합물 (B11) 및 열 경화제 (B12) 의 합계량 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 10 질량부, 더욱 바람직하게는 0.1 ∼ 1 질량부의 양으로 포함된다. 경화 촉진제 (B13) 를 상기 범위의 양으로 함유함으로써, 고온도 고습도하에 노출되어도 우수한 접착성을 갖고, 엄격한 리플로 조건에 노출된 경우에도 높은 신뢰성을 달성할 수 있다. 경화 촉진제 (B13) 를 첨가함으로써, 수지막 형성층의 경화 후의 접착성을 향상시킬 수 있다. 이와 같은 작용은 경화 촉진제 (B13) 의 함유량이 많을수록 강해진다.The curing accelerator (B13) is contained in an amount of preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 1 part by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the epoxy compound (B11) and the thermal curing agent (B12). By containing the curing accelerator (B13) in an amount within the above range, it has excellent adhesion even when exposed to high temperature and high humidity, and high reliability can be achieved even when exposed to severe reflow conditions. By adding the curing accelerator (B13), the adhesiveness of the resin film forming layer after curing can be improved. Such an action becomes stronger as the content of the curing accelerator (B13) increases.

(B2) 에너지선 경화성 성분(B2) Energy ray-curable component

수지막 형성층이 에너지선 경화성 성분을 함유함으로써, 다량의 에너지와 긴 시간을 필요로 하는 열 경화 공정을 실시하지 않고 수지막 형성층의 경화를 실시할 수 있다. 이로써, 제조 비용의 저감을 도모할 수 있다.When the resin film forming layer contains an energy ray-curable component, it is possible to cure the resin film forming layer without performing a thermal curing step that requires a large amount of energy and a long time. Thereby, reduction in manufacturing cost can be achieved.

에너지선 경화성 성분은, 에너지선 조사에 의해 반응하는 관능기를 갖는 화합물 (B21) 을 단독으로 사용해도 되지만, 에너지선 조사에 의해 반응하는 관능기를 갖는 화합물 (B21) 과 광 중합 개시제 (B22) 를 조합한 것을 사용하는 것이 바람직하다.As the energy ray-curable component, a compound (B21) having a functional group reacting by irradiation with energy rays may be used alone, but a compound (B21) having a functional group reacting by irradiation with an energy ray and a photopolymerization initiator (B22) are combined It is desirable to use one.

(B21) 에너지선 조사에 의해 반응하는 관능기를 갖는 화합물(B21) Compound having a functional group reacting by irradiation with energy rays

에너지선 조사에 의해 반응하는 관능기를 갖는 화합물 (B21) (이하 「에너지선 반응성 화합물 (B21)」이라고 하는 경우가 있다.) 로는, 구체적으로는, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨모노하이드록시펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 혹은 1,4-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트 등의 아크릴레이트계 화합물을 들 수 있고, 또, 올리고에스테르아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트계 올리고머, 에폭시아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트 및 이타콘산 올리고머 등의 아크릴레이트계 화합물 등의 중합 구조를 갖는 아크릴레이트 화합물로서, 비교적 저분자량의 것을 들 수 있다. 이와 같은 화합물은, 분자 내에 적어도 1 개의 중합성 이중 결합을 갖는다.Specific examples of the compound (B21) having a functional group reacting by irradiation with energy rays (hereinafter, referred to as "energy ray reactive compound (B21)") are specifically trimethylolpropane triacrylate and pentaerythritol triacrylate. Rate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate or 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, etc. Acrylate compounds, and as acrylate compounds having a polymerization structure such as acrylate compounds such as oligoester acrylate, urethane acrylate oligomer, epoxy acrylate, polyether acrylate and itaconic acid oligomer. , And relatively low molecular weight ones. Such a compound has at least one polymerizable double bond in the molecule.

에너지선 반응성 화합물 (B21) 을 사용하는 경우, 수지막 형성층에는, 중합체 성분 (A) 100 질량부에 대하여, 에너지선 반응성 화합물 (B21) 이, 바람직하게는 1 ∼ 1500 질량부 포함되고, 보다 바람직하게는 3 ∼ 1200 질량부 포함된다.In the case of using the energy ray-reactive compound (B21), the resin film-forming layer contains the energy ray-reactive compound (B21), preferably 1 to 1500 parts by mass, more preferably with respect to 100 parts by mass of the polymer component (A). It contains 3 to 1200 parts by mass.

(B22) 광 중합 개시제(B22) photoinitiator

에너지선 반응성 화합물 (B21) 에 광 중합 개시제 (B22) 를 조합함으로써, 중합 경화 시간을 짧게 하고, 그리고 광선 조사량을 적게 할 수 있다.By combining the photopolymerization initiator (B22) with the energy ray-reactive compound (B21), the polymerization and curing time can be shortened and the amount of light irradiation can be reduced.

이와 같은 광 중합 개시제 (B22) 로서 구체적으로는, 벤조페논, 아세토페논, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인벤조산, 벤조인벤조산메틸, 벤조인디메틸케탈, 2,4-디에틸티옥산톤, α-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 벤질디페닐술파이드, 테트라메틸티우람모노술파이드, 아조비스이소부티로니트릴, 벤질, 디벤질, 디아세틸, 1,2-디페닐메탄, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로파논, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 및 β-클로르안트라퀴논 등을 들 수 있다. 광 중합 개시제 (B22) 는 1 종류 단독으로, 또는 2 종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As such a photoinitiator (B22), specifically, benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, benzoin Methyl benzoate, benzoin dimethyl ketal, 2,4-diethyl thioxanthone, α-hydroxycyclohexylphenyl ketone, benzyl diphenyl sulfide, tetramethyl thiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, benzyl, Dibenzyl, diacetyl, 1,2-diphenylmethane, 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphos And pin oxide and β-chloranthraquinone. Photoinitiator (B22) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

광 중합 개시제 (B22) 의 배합 비율은, 에너지선 반응성 화합물 (B21) 100 질량부에 대하여 0.1 ∼ 10 질량부 포함되는 것이 바람직하고, 1 ∼ 5 질량부 포함되는 것이 보다 바람직하다.The blending ratio of the photoinitiator (B22) is preferably 0.1 to 10 parts by mass, and more preferably 1 to 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the energy ray-reactive compound (B21).

광 중합 개시제 (B22) 의 배합 비율이 0.1 질량부 미만이면 광 중합의 부족으로 만족스러운 경화성이 얻어지지 않는 경우가 있고, 10 질량부를 초과하면 광 중합에 기여하지 않는 잔류물이 생성되어, 문제의 원인이 되는 경우가 있다.If the blending ratio of the photopolymerization initiator (B22) is less than 0.1 parts by mass, satisfactory curability may not be obtained due to insufficient photopolymerization, and if it exceeds 10 parts by mass, a residue that does not contribute to photopolymerization is generated, causing a problem. There may be a cause.

(제 2 바인더 성분)(Second binder component)

제 2 바인더 성분은, 경화성 중합체 성분 (AB) 을 함유함으로써, 수지막 형성층에 시트 형상 유지성과 경화성을 부여한다.By containing the curable polymer component (AB), the second binder component imparts sheet shape retention and curability to the resin film forming layer.

(AB) 경화성 중합체 성분(AB) Curable polymer component

경화성 중합체 성분은, 경화 기능 관능기를 갖는 중합체이다. 경화 기능 관능기는, 서로 반응하여 삼차원 망목 구조를 구성할 수 있는 관능기이고, 가열에 의해 반응하는 관능기나, 에너지선에 의해 반응하는 관능기를 들 수 있다.The curable polymer component is a polymer having a curable functional group. The curing functional functional group is a functional group that can react with each other to form a three-dimensional network structure, and includes a functional group that reacts by heating and a functional group that reacts with energy rays.

경화 기능 관능기는, 경화성 중합체 (AB) 의 골격이 되는 연속 구조의 단위 중에 부가되어 있어도 되고, 말단에 부가되어 있어도 된다. 경화 기능 관능기가 경화성 중합체 성분 (AB) 의 골격이 되는 연속 구조의 단위 중에 부가되어 있는 경우, 경화 기능 관능기는 측사슬에 부가되어 있어도 되고, 주사슬에 직접 부가되어 있어도 된다. 경화성 중합체 성분 (AB) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 수지막 형성층에 시트 형상 유지성을 부여하는 목적을 달성하는 관점에서, 통상 20,000 이상이다.The curable functional group may be added to the unit of the continuous structure serving as the skeleton of the curable polymer (AB), or may be added to the terminal. When the curable functional group is added to the unit of the continuous structure serving as the skeleton of the curable polymer component (AB), the curable functional group may be added to the side chain or may be added directly to the main chain. The weight average molecular weight (Mw) of the curable polymer component (AB) is usually 20,000 or more from the viewpoint of achieving the purpose of imparting sheet shape retention to the resin film forming layer.

가열에 의해 반응하는 관능기로는 에폭시기를 들 수 있다. 에폭시기를 갖는 경화성 중합체 성분 (AB) 으로는, 고분자량의 에폭시기 함유 화합물이나, 에폭시기를 갖는 페녹시 수지를 들 수 있다. 고분자량의 에폭시기 함유 화합물은, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2001-261789 에 개시되어 있다.An epoxy group is mentioned as a functional group which reacts by heating. Examples of the curable polymer component (AB) having an epoxy group include a high molecular weight epoxy group-containing compound and a phenoxy resin having an epoxy group. A high molecular weight epoxy group-containing compound is disclosed in, for example, Japanese Laid-Open Patent Publication 2001-261789.

또, 상기 서술한 아크릴계 중합체 (A1) 와 동일한 중합체로서, 단량체로서 에폭시기를 갖는 단량체를 사용하여 중합한 것 (에폭시기 함유 아크릴계 중합체) 이어도 된다. 에폭시기를 갖는 단량체로는, 예를 들어 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 글리시딜기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다.Moreover, as a polymer similar to the above-mentioned acrylic polymer (A1), what was superposed|polymerized using a monomer which has an epoxy group as a monomer (epoxy group-containing acrylic polymer) may be sufficient. As a monomer which has an epoxy group, (meth)acrylic acid ester which has a glycidyl group, such as glycidyl (meth)acrylate, is mentioned, for example.

에폭시기 함유 아크릴계 중합체를 사용하는 경우, 그 바람직한 양태는 에폭시기 이외에 대하여 아크릴계 중합체 (A1) 와 동일하다.In the case of using an epoxy group-containing acrylic polymer, its preferable aspect is the same as that of the acrylic polymer (A1) other than the epoxy group.

에폭시기를 갖는 경화성 중합체 성분 (AB) 을 사용하는 경우에는, 경화성 성분 (B) 으로서 에폭시계 열 경화성 성분을 사용하는 경우와 동일하게, 열 경화제 (B12) 나, 경화 촉진제 (B13) 를 병용해도 된다.When using the curable polymer component (AB) having an epoxy group, a thermal curing agent (B12) or a curing accelerator (B13) may be used in combination as in the case of using an epoxy-based thermal curing component as the curable component (B). .

에너지선에 의해 반응하는 관능기로는, (메트)아크릴로일기를 들 수 있다. 에너지선에 의해 반응하는 관능기를 갖는 경화성 중합체 성분 (AB) 으로는, 폴리에테르아크릴레이트 등의 중합 구조를 갖는 아크릴레이트계 화합물 등으로서, 고분자량의 것을 사용할 수 있다.As a functional group reacting by an energy ray, a (meth)acryloyl group is mentioned. As the curable polymer component (AB) having a functional group reacting with energy rays, a high molecular weight one can be used as an acrylate compound having a polymerized structure such as polyether acrylate.

또, 예를 들어 측사슬에 수산기 등의 관능기 X 를 갖는 원료 중합체에, 관능기 X 와 반응할 수 있는 관능기 Y (예를 들어, 관능기 X 가 수산기인 경우에는 이소시아네이트기 등) 및 에너지선 조사에 의해 반응하는 관능기를 갖는 저분자 화합물을 반응시켜 조제한 중합체를 사용해도 된다.In addition, for example, in a raw material polymer having a functional group X such as a hydroxyl group in the side chain, a functional group Y capable of reacting with the functional group X (for example, when the functional group X is a hydroxyl group, an isocyanate group, etc.) and energy ray irradiation You may use a polymer prepared by reacting a low molecular compound having a reactive functional group.

이 경우에 있어서, 원료 중합체가 상기 서술한 아크릴계 중합체 (A1) 에 해당할 때는, 그 원료 중합체의 바람직한 양태는, 아크릴계 중합체 (A1) 와 동일하다.In this case, when the raw material polymer corresponds to the above-described acrylic polymer (A1), a preferred aspect of the raw material polymer is the same as that of the acrylic polymer (A1).

에너지선에 의해 반응하는 관능기를 갖는 경화성 중합체 성분 (AB) 을 사용하는 경우에는, 에너지선 경화성 성분 (B2) 을 사용하는 경우와 동일하게, 광 중합 개시제 (B22) 를 병용해도 된다.In the case of using the curable polymer component (AB) having a functional group reacting with energy rays, a photoinitiator (B22) may be used in combination as in the case of using the energy ray curable component (B2).

제 2 바인더 성분은, 경화성 중합체 성분 (AB) 과 아울러, 상기 서술한 중합체 성분 (A) 이나 경화성 성분 (B) 을 함유하고 있어도 된다.The second binder component may contain the polymer component (A) or the curable component (B) described above in addition to the curable polymer component (AB).

수지막 형성층에는, 바인더 성분 외에, 이하의 성분을 함유시켜도 된다.In addition to the binder component, the following components may be contained in the resin film forming layer.

(C) 무기 필러(C) inorganic filler

수지막 형성층은, 무기 필러 (C) 를 함유하고 있어도 된다. 무기 필러 (C) 를 수지막 형성층에 배합함으로써, 경화 후의 수지막에 있어서의 열 팽창 계수를 조정하는 것이 가능해지고, 패키지에 대하여 경화 후의 수지막의 열 팽창 계수를 최적화함으로써 반도체 장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또, 경화 후의 수지막의 흡습성을 저감시키는 것도 가능해진다.The resin film formation layer may contain an inorganic filler (C). By blending the inorganic filler (C) in the resin film forming layer, it becomes possible to adjust the coefficient of thermal expansion in the resin film after curing, and improve the reliability of the semiconductor device by optimizing the coefficient of thermal expansion of the resin film after curing for the package. I can. Moreover, it becomes possible to reduce the hygroscopicity of the resin film after curing.

또, 본 발명에 있어서의 수지막 형성층을 경화시켜 얻어지는 수지막을, 보호막으로서 기능시키는 경우에는, 보호막에 레이저 마킹을 실시함으로써, 레이저광에 의해 깎인 부분에 무기 필러 (C) 가 노출되고, 반사광이 확산되기 때문에 백색에 가까운 색을 나타낸다. 그 때문에, 수지막 형성층이 후술하는 착색제 (D) 를 함유하면, 레이저 마킹 부분과 다른 부분에 콘트라스트차가 얻어져, 인자가 명료해진다는 효과가 있다.In addition, when the resin film obtained by curing the resin film forming layer in the present invention functions as a protective film, the inorganic filler (C) is exposed to the portion cut by the laser light by performing laser marking on the protective film, and the reflected light is Because it diffuses, it shows a color close to white. Therefore, when the resin film forming layer contains the colorant (D) described later, there is an effect that a difference in contrast is obtained in a portion different from that of the laser marking portion, and printing becomes clear.

바람직한 무기 필러로는, 실리카, 알루미나, 탤크, 탄산칼슘, 산화티탄, 산화철, 탄화규소, 질화붕소 등의 분말, 이들을 구형화한 비즈, 단결정 섬유 및 유리 섬유 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 실리카 필러 및 알루미나 필러가 바람직하다. 상기 무기 필러 (C) 는 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Preferred inorganic fillers include powders such as silica, alumina, talc, calcium carbonate, titanium oxide, iron oxide, silicon carbide and boron nitride, beads obtained by spheroidizing them, single crystal fibers and glass fibers. Among these, a silica filler and an alumina filler are preferable. The inorganic filler (C) can be used alone or in combination of two or more.

상기 서술한 효과를 보다 확실하게 얻기 위한, 무기 필러 (C) 의 함유량의 범위로는, 수지막 형성층을 구성하는 전체 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 ∼ 80 질량부, 보다 바람직하게는 20 ∼ 75 질량부, 특히 바람직하게는 40 ∼ 70 질량부이다.In order to obtain the above-described effect more reliably, in the range of the content of the inorganic filler (C), with respect to 100 parts by mass of the total solids constituting the resin film forming layer, preferably 1 to 80 parts by mass, more preferably It is 20 to 75 parts by mass, particularly preferably 40 to 70 parts by mass.

(D) 착색제(D) colorant

수지막 형성층은, 투명해도 된다. 또한 수지막 형성층에는, 착색제 (D) 를 배합하여 착색해도 된다. 착색제를 배합함으로써, 레이저 마킹 등의 수단에 의해 수지막에 각인을 실시한 경우에, 문자, 기호 등의 마크가 인식하기 쉽게 된다는 효과가 있다. 즉, 수지막이 형성된 패키지에서는, 수지막의 표면에 품번 등이 통상 레이저 마킹법 (레이저광에 의해 보호막 표면을 깎고 인자를 실시하는 방법) 에 의해 인자되는데, 수지막이 착색제 (D) 를 함유함으로써, 수지막의 레이저광에 의해 깎인 부분과 그렇지 않은 부분의 콘트라스트차가 충분히 얻어져, 시인성이 향상된다.The resin film forming layer may be transparent. Moreover, you may mix|blend and color the coloring agent (D) in the resin film formation layer. By blending the colorant, there is an effect that marks such as letters and symbols are easily recognized when the resin film is imprinted by means such as laser marking. That is, in the package in which the resin film is formed, an article number or the like is usually printed on the surface of the resin film by a laser marking method (a method of cutting the surface of the protective film with laser light and performing printing), but the resin film contains the colorant (D), By the laser light of the film, a difference in contrast between the cut-off portion and the non-cut portion is sufficiently obtained, and visibility is improved.

착색제로는, 유기 또는 무기의 안료 및 염료가 사용된다. 이들 중에서도 전자파나 적외선 차폐성의 면에서 흑색 안료가 바람직하다. 흑색 안료로는, 카본 블랙, 산화철, 이산화망간, 아닐린 블랙, 활성탄 등이 사용되지만, 이들에 한정되는 경우는 없다. 반도체 장치의 신뢰성을 높이는 관점에서는, 카본 블랙이 특히 바람직하다. 착색제 (D) 는 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 또, 반도체 장치의 검사를 적외선에 의해 실시하는 경우에는, 적외선 투과성의 착색제를 사용해도 된다.As the colorant, organic or inorganic pigments and dyes are used. Among these, a black pigment is preferable from the viewpoint of shielding electromagnetic waves and infrared rays. As the black pigment, carbon black, iron oxide, manganese dioxide, aniline black, activated carbon and the like are used, but are not limited thereto. From the viewpoint of enhancing the reliability of the semiconductor device, carbon black is particularly preferred. The coloring agent (D) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types. In addition, when the inspection of the semiconductor device is performed by infrared rays, an infrared transmissive colorant may be used.

착색제 (D) 의 배합량은, 수지막 형성층을 구성하는 전체 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 35 질량부, 더욱 바람직하게는 0.5 ∼ 25 질량부, 특히 바람직하게는 1 ∼ 15 질량부이다.The blending amount of the coloring agent (D) is preferably 0.1 to 35 parts by mass, more preferably 0.5 to 25 parts by mass, particularly preferably 1 to 15 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total solids constituting the resin film forming layer. to be.

(E) 커플링제(E) coupling agent

무기물과 반응하는 관능기 및 유기 관능기와 반응하는 관능기를 갖는 커플링제 (E) 를, 수지막 형성층의 패키지에 대한 접착성, 밀착성 및/또는 수지막의 응집성을 향상시키기 위해 사용해도 된다. 또, 커플링제 (E) 를 사용함으로써, 수지막 형성층을 경화시켜 얻어지는 수지막의 내열성을 저해하지 않고, 그 내수성을 향상시킬 수 있다. 이와 같은 커플링제로는, 티타네이트계 커플링제, 알루미네이트계 커플링제, 실란 커플링제 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 실란 커플링제가 바람직하다.A coupling agent (E) having a functional group reacting with an inorganic substance and a functional group reacting with an organic functional group may be used in order to improve the adhesion of the resin film forming layer to the package, adhesion, and/or cohesiveness of the resin film. Further, by using the coupling agent (E), the water resistance can be improved without impairing the heat resistance of the resin film obtained by curing the resin film forming layer. Examples of such a coupling agent include a titanate coupling agent, an aluminate coupling agent, and a silane coupling agent. Among these, a silane coupling agent is preferable.

실란 커플링제로는, 그 유기 관능기와 반응하는 관능기가, 중합체 성분 (A), 경화성 성분 (B) 이나 경화성 중합체 성분 (AB) 등이 갖는 관능기와 반응하는 기인 실란 커플링제가 바람직하게 사용된다.As the silane coupling agent, a functional group that reacts with the organic functional group is a group that reacts with a functional group possessed by the polymer component (A), the curable component (B) or the curable polymer component (AB), and a silane coupling agent is preferably used.

이와 같은 실란 커플링제로는 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-(메타크릴록시프로필)트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-6-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-6-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디에톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-우레이도프로필트리에톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)테트라술판, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 이미다졸실란 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Such silane coupling agents include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and γ-(metha Acryloxypropyl)trimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-6-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-6-(aminoethyl)-γ-aminopropylmethyl Diethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis(3 -Triethoxysilylpropyl)tetrasulfane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, imidazolesilane, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

실란 커플링제는, 중합체 성분 (A), 경화성 성분 (B) 및 경화성 중합체 성분 (AB) 의 합계 100 질량부에 대하여, 통상 0.1 ∼ 20 질량부, 바람직하게는 0.2 ∼ 10 질량부, 보다 바람직하게는 0.3 ∼ 5 질량부의 비율로 포함된다. 실란 커플링제의 함유량이 0.1 질량부 미만이면 상기의 효과가 얻어지지 않을 가능성이 있고, 20 질량부를 초과하면 아웃 가스의 원인이 될 가능성이 있다.The silane coupling agent is usually 0.1 to 20 parts by mass, preferably 0.2 to 10 parts by mass, more preferably based on 100 parts by mass of the total of the polymer component (A), the curable component (B) and the curable polymer component (AB). Is contained in a ratio of 0.3 to 5 parts by mass. If the content of the silane coupling agent is less than 0.1 parts by mass, the above effect may not be obtained, and if the content of the silane coupling agent exceeds 20 parts by mass, it may cause outgassing.

(F) 범용 첨가제(F) general purpose additive

수지막 형성층에는, 상기 외에, 필요에 따라 각종 첨가제가 배합되어도 된다. 각종 첨가제로는, 레벨링제, 가소제, 대전 방지제, 산화 방지제, 이온 포착제, 게터링제, 연쇄 이동제나 박리제 등을 들 수 있다.In addition to the above, various additives may be blended in the resin film forming layer as necessary. As various additives, a leveling agent, a plasticizer, an antistatic agent, an antioxidant, an ion scavenger, a gettering agent, a chain transfer agent, a peeling agent, etc. are mentioned.

수지막 형성층은, 예를 들어 상기 각 성분을 적절한 비율로 혼합하여 얻어지는 조성물 (수지막 형성용 조성물) 을 사용하여 얻어진다. 수지막 형성용 조성물은 미리 용매로 희석해 두어도 되고, 또한 혼합시에 용매에 첨가해도 된다. 또, 수지막 형성용 조성물의 사용시에, 용매로 희석해도 된다.The resin film forming layer is obtained using, for example, a composition obtained by mixing each of the components in an appropriate ratio (resin film forming composition). The composition for forming a resin film may be diluted in advance with a solvent, or may be added to the solvent at the time of mixing. Moreover, when using the composition for resin film formation, you may dilute with a solvent.

이러한 용매로는, 아세트산에틸, 아세트산메틸, 디에틸에테르, 디메틸에테르, 아세톤, 메틸에틸케톤, 아세토니트릴, 헥산, 시클로헥산, 톨루엔, 헵탄 등을 들 수 있다.Examples of such a solvent include ethyl acetate, methyl acetate, diethyl ether, dimethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, acetonitrile, hexane, cyclohexane, toluene, heptane, and the like.

수지막 형성층은, 초기 접착성과 경화성을 갖고, 미경화 상태에서는 상온 또는 가열하에서 칩군 패키지에 가압함으로써 용이하게 접착한다. 또한 가압할 때에 수지막 형성층을 가열해도 된다. 그리고 경화를 거쳐 최종적으로는 내충격성이 높은 수지막을 부여할 수 있고, 접착 강도도 우수하고, 엄격한 고온도 고습도 조건하에 있어서도 충분한 신뢰성을 유지할 수 있다. 또한, 수지막 형성층은 단층 구조여도 되고, 또한 다층 구조여도 된다.The resin film forming layer has initial adhesiveness and curability, and in an uncured state, it is easily adhered by pressing the chip group package at room temperature or under heating. Moreover, you may heat the resin film formation layer when pressing. And finally, after curing, a resin film having high impact resistance can be provided, the adhesive strength is excellent, and sufficient reliability can be maintained even under severe high temperature and high humidity conditions. In addition, the resin film forming layer may have a single layer structure or a multilayer structure.

수지막 형성층의 두께는, 바람직하게는 1 ∼ 100 ㎛, 보다 바람직하게는 2 ∼ 90 ㎛, 특히 바람직하게는 3 ∼ 80 ㎛ 이다. 수지막 형성층의 두께를 상기 범위로 함으로써, 수지막 형성층이 신뢰성이 높은 보호막 또는 접착제로서 기능한다.The thickness of the resin film forming layer is preferably 1 to 100 µm, more preferably 2 to 90 µm, and particularly preferably 3 to 80 µm. By setting the thickness of the resin film forming layer in the above range, the resin film forming layer functions as a highly reliable protective film or adhesive.

[링 프레임 유지 수단][Ring frame holding means]

제 2 형태의 수지막 형성층 부착 지지 시트에서는, 지지 시트 (21) 가 점착 시트로 이루어지고, 수지막 형성층 (22) 의 외주부에 노출되어 있는 점착제층 (21B) 이 링 프레임 유지 수단으로서 기능한다.In the support sheet with a resin film forming layer of the second aspect, the support sheet 21 is made of an adhesive sheet, and the adhesive layer 21B exposed to the outer peripheral portion of the resin film forming layer 22 functions as a ring frame holding means.

제 1 형태에서는, 수지막 형성층의 표면의 외주부에 링 프레임 유지 수단 (13) 이 형성되고, 제 3 형태에서는, 수지막 형성층을 환위하도록 링 프레임 유지 수단 (33) 이 형성된다. 링 프레임 유지 수단으로는, 점착제층 단체로 이루어지는 점착 부재, 기재와 점착제층으로 구성되는 점착 부재나, 심재를 갖는 양면 점착 부재를 채용할 수 있다.In the first aspect, the ring frame holding means 13 is formed on the outer periphery of the surface of the resin film forming layer, and in the third aspect, the ring frame holding means 33 is formed so as to rotate the resin film forming layer. As the ring frame holding means, an adhesive member composed of an adhesive layer alone, an adhesive member composed of a base material and an adhesive layer, or a double-sided adhesive member having a core material can be used.

링 프레임 유지 수단 (13, 33) 은, 외주 형상이 대략 사각형이고, 내주부에는 사각형의 공동부 (내부 개구) 를 갖는다. 외형적으로는, 링 프레임에 고정 가능한 크기를 갖는다. 내부 개구는, 칩군 패키지보다 크게 한다. 또한, 링 프레임은, 통상 금속 또는 플라스틱의 성형체이다.The ring frame holding means 13 and 33 have a substantially rectangular outer circumferential shape, and have a rectangular cavity (inner opening) in the inner circumferential portion. Outwardly, it has a size that can be fixed to the ring frame. The inner opening is made larger than that of the chip group package. In addition, the ring frame is usually a metal or plastic molded body.

점착제층 단체로 이루어지는 점착 부재를 링 프레임 유지 수단으로 하는 경우, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 아크릴 점착제, 고무계 점착제, 또는 실리콘 점착제로 이루어지는 것이 바람직하다. 이들 중에서, 링 프레임으로부터의 재박리성을 고려하면 아크릴 점착제가 바람직하다. 또, 상기 점착제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상 혼합하여 사용해도 된다.When the pressure-sensitive adhesive member composed of the pressure-sensitive adhesive layer alone is used as the ring frame holding means, it is not particularly limited, but is preferably made of an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, or a silicone pressure-sensitive adhesive. Among these, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferred in consideration of re-peelability from the ring frame. Moreover, the said adhesive may be used individually, and 2 or more types may be mixed and used for it.

링 프레임 유지 수단을 구성하는 점착제층의 두께는, 바람직하게는 2 ∼ 20 ㎛, 보다 바람직하게는 3 ∼ 15 ㎛, 더욱 바람직하게는 4 ∼ 10 ㎛ 이다. 점착제층의 두께가 2 ㎛ 미만일 때는, 충분한 접착성이 발현되지 않는 경우가 있다. 점착제층의 두께가 20 ㎛ 를 초과할 때는, 링 프레임으로부터 박리할 때에, 링 프레임에 점착제의 잔류물이 남아, 링 프레임을 오염시키는 경우가 있다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer constituting the ring frame holding means is preferably 2 to 20 µm, more preferably 3 to 15 µm, and still more preferably 4 to 10 µm. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 2 µm, sufficient adhesiveness may not be expressed. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer exceeds 20 µm, when peeling from the ring frame, residues of the pressure-sensitive adhesive remain on the ring frame and contaminate the ring frame.

기재와 점착제층으로 구성되는 점착 부재를 링 프레임 유지 수단으로 하는 경우에는, 점착 부재를 구성하는 점착제층에 링 프레임을 첩착한다.When the pressure-sensitive adhesive member composed of the base material and the pressure-sensitive adhesive layer is used as the ring frame holding means, the ring frame is attached to the pressure-sensitive adhesive layer constituting the pressure-sensitive adhesive member.

점착제층을 형성하는 점착제로는, 상기의 점착제층 단체로 이루어지는 점착 부재에 있어서의 점착제층을 형성하는 점착제와 동일하다. 또, 점착제층의 두께도 동일하다.The pressure-sensitive adhesive for forming the pressure-sensitive adhesive layer is the same as the pressure-sensitive adhesive for forming the pressure-sensitive adhesive layer in the pressure-sensitive adhesive member composed of the pressure-sensitive adhesive layer alone. Moreover, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is also the same.

링 프레임 유지 수단을 구성하는 기재로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름, 에틸렌-(메트)아크릴산 공중합체 필름, 에틸렌-(메트)아크릴산에스테르 공중합체 필름, 아이오노머 수지 필름 등의 폴리올레핀 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 익스팬드성을 고려하면 폴리에틸렌 필름 및 폴리염화비닐 필름이 바람직하고, 폴리염화비닐 필름이 보다 바람직하다.The base material constituting the ring frame holding means is not particularly limited, but for example, a polyethylene film, a polypropylene film, an ethylene-vinyl acetate copolymer film, an ethylene-(meth)acrylic acid copolymer film, and an ethylene-(meth)acrylic acid And polyolefin films such as ester copolymer films and ionomer resin films, polyvinyl chloride films, and polyethylene terephthalate films. Among these, in consideration of expandability, a polyethylene film and a polyvinyl chloride film are preferable, and a polyvinyl chloride film is more preferable.

링 프레임 유지 수단을 구성하는 기재의 두께는, 바람직하게는 5 ∼ 200 ㎛, 보다 바람직하게는 10 ∼ 150 ㎛, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 100 ㎛ 이다.The thickness of the substrate constituting the ring frame holding means is preferably 5 to 200 µm, more preferably 10 to 150 µm, and still more preferably 20 to 100 µm.

또, 심재를 갖는 양면 점착 부재를 링 프레임 유지 수단으로 하는 경우에는, 양면 점착 부재는, 심재와, 그 일방의 면에 형성되는 적층용 점착제층과, 그 타방의 면에 형성되는 고정용 점착제층으로 이루어진다. 적층용 점착제층은, 수지막 형성층에 첩부되는 측의 점착제층이고, 고정용 점착제층은, 링 프레임에 첩부 되는 측의 점착제층이다.In addition, when the double-sided adhesive member having a core material is used as the ring frame holding means, the double-sided adhesive member includes a core material, a laminating adhesive layer formed on one side of the core material, and a fixing adhesive layer formed on the other surface. Consists of The pressure-sensitive adhesive layer for lamination is the pressure-sensitive adhesive layer on the side to be affixed to the resin film forming layer, and the pressure-sensitive adhesive layer for fixing is the pressure-sensitive adhesive layer on the side to be affixed to the ring frame.

양면 점착 부재의 심재로는, 상기 점착 부재의 기재와 동일한 것을 들 수 있다. 이들 중에서, 익스팬드성을 고려하면 폴리올레핀 필름 및 가소화한 폴리염화비닐 필름이 바람직하다.As the core material of the double-sided adhesive member, the same as the base material of the adhesive member can be mentioned. Among these, a polyolefin film and a plasticized polyvinyl chloride film are preferable in consideration of expandability.

심재의 두께는, 통상 5 ∼ 200 ㎛, 바람직하게는 10 ∼ 150 ㎛, 보다 바람직하게는 20 ∼ 100 ㎛ 이다.The thickness of the core material is usually 5 to 200 µm, preferably 10 to 150 µm, and more preferably 20 to 100 µm.

양면 점착 부재의 적층용 점착제층 및 고정용 점착제층은, 동일한 점착제로 이루어지는 층이어도 되고 상이한 점착제로 이루어지는 층이어도 된다. 고정용 점착제층과 링 프레임의 접착력이, 수지막 형성층과 적층용 점착제층의 접착력보다 작아지도록 적절히 선택된다. 이와 같은 점착제로는, 예를 들어 아크릴 점착제, 고무계 점착제, 실리콘 점착제를 들 수 있다. 이들 중에서, 링 프레임으로부터의 재박리성을 고려하면 아크릴 점착제가 바람직하다. 고정용 점착제층을 형성하는 점착제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상 혼합하여 사용해도 된다. 적층용 점착제층에 대해서도 동일하다.The pressure-sensitive adhesive layer for lamination and the pressure-sensitive adhesive layer for fixing of the double-sided adhesive member may be a layer made of the same pressure-sensitive adhesive or a layer made of different pressure-sensitive adhesives. It is appropriately selected so that the adhesive force between the fixed pressure-sensitive adhesive layer and the ring frame is smaller than that of the resin film forming layer and the laminating pressure-sensitive adhesive layer. As such an adhesive, an acrylic adhesive, a rubber adhesive, and a silicone adhesive are mentioned, for example. Among these, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferred in consideration of re-peelability from the ring frame. The pressure-sensitive adhesive that forms the pressure-sensitive adhesive layer for fixing may be used alone or in combination of two or more. The same applies to the laminated pressure-sensitive adhesive layer.

적층용 점착제층 및 고정용 점착제층의 두께는, 상기 점착 부재의 점착제층의 두께와 동일하다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer for lamination and the pressure-sensitive adhesive layer for fixing is the same as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive member.

링 프레임 유지 수단을 형성함으로써, 수지막 형성층 부착 지지 시트를 링 프레임 등의 지그에 접착하는 것이 용이해진다.By providing the ring frame holding means, it becomes easy to adhere the supporting sheet with the resin film forming layer to a jig such as a ring frame.

[장척 박리 시트][Long peeling sheet]

장척 박리 시트 (14, 24, 34) 는, 수지막 형성용 시트의 사용시에 캐리어 필름으로서의 역할을 수행하는 것이고, 상기 서술한 지지 시트로서 예시한 박리 시트를 사용할 수 있다.The elongate release sheets 14, 24, and 34 serve as a carrier film at the time of use of the sheet for forming a resin film, and a release sheet exemplified as the support sheet described above can be used.

장척 박리 시트의 수지막 형성층에 접하는 면의 표면 장력은, 바람직하게는 40 mN/m 이하, 더욱 바람직하게는 37 mN/m 이하, 특히 바람직하게는 35 mN/m 이하이다. 하한치는 통상 25 mN/m 정도이다. 단, 지지 시트로서 박리 시트를 사용하는 경우에는, 장척 박리 시트 쪽을 경박리 타입으로 하는 것이 바람직하다.The surface tension of the surface of the elongate release sheet in contact with the resin film forming layer is preferably 40 mN/m or less, more preferably 37 mN/m or less, and particularly preferably 35 mN/m or less. The lower limit is usually about 25 mN/m. However, in the case of using a release sheet as a support sheet, it is preferable to use the long release sheet side as a light release type.

장척 박리 시트의 구체예나, 박리제, 박리 처리 방법 등은, 전술한 지지 시트의 일례로서 설명한 박리 시트와 동일하다.The specific examples of the long release sheet, the release agent, the release treatment method, and the like are the same as the release sheet described as an example of the support sheet described above.

장척 박리 시트의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 30 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 50 ∼ 200 ㎛ 이다. 박리 필름이 30 ㎛ 미만이면, 수지막 형성용 시트를 롤상으로 감았을 때에, 수지막 형성층에 권흔이 발생하는 경우가 있다.The thickness of the elongate release sheet is not particularly limited, but is preferably 30 µm or more, and more preferably 50 to 200 µm. When the release film is less than 30 µm, when the sheet for forming a resin film is wound in a roll shape, a wound may occur in the resin film forming layer.

상기와 같은 장척 적층 시트의 권수체의 사용 양태에 대하여, 제 1 형태에 관련된 장척 적층 시트를 예로 들고, 도 6a 및 도 6b 를 참조하여, 간단하게 설명한다.The use of the winding body of such a long laminated sheet will be briefly described with reference to Figs. 6A and 6B, taking the long laminated sheet according to the first embodiment as an example.

먼저, 권수체 (1) 로부터 장척 적층 시트 (2) 를 송출하고, 필 플레이트 (40) 에 의해 급각도로 절곡하면서, 수지막 형성층 부착 지지 시트 (10) 를, 장척 박리 시트 (14) 로부터 박리하고, 수지막 형성층 부착 지지 시트 (10) 를 칩군 패키지 (44) 에 첩부한다. 동시에 링 프레임 유지 수단 (13) 에 링 프레임 (45) 을 고정시킨다. 잉여의 시트 (박리 시트 (14) 및 보조 시트 (15)) 는, 가이드 롤러 (42, 43) 를 거쳐 권취되어, 폐기 테이프 (46) 로서 회수된다. 또한, 도 6a 에서는 보조 시트 (15) 는 생략되어 있다. 이어서, 수지막 형성층 (12) 과 칩군 패키지 (44) 를 완전하게 절단하고, 지지 시트 (11) 를 완전하게는 절단하지 않도록 다이싱한다. 다이싱 후에 분할된 패키지를, 수지막 형성층 (12) 과 함께 지지 시트 (11) 로부터 박리하여, 수지막 형성층이 전사된 패키지가 얻어진다. 수지막 형성층을 보호막으로서 사용하는 경우에는, 다이싱에 앞서 수지막 형성층을 경화시켜 보호막으로 해도 되고, 또한 다이싱 후에 경화시켜도 된다. 또, 수지막 형성층을 접착제층으로서 사용하는 경우에는, 소정의 피착체 상에, 수지막 형성층을 개재하여 패키지를 첩부하고, 필요에 따라 수지막 형성층을 경화시킨다.First, the elongate laminated sheet 2 is sent out from the winding body 1, and the supporting sheet 10 with the resin film forming layer is peeled from the elongated release sheet 14 while being bent at a sharp angle by the fill plate 40. , The support sheet 10 with a resin film forming layer is affixed to the chip group package 44. At the same time, the ring frame 45 is fixed to the ring frame holding means 13. The excess sheets (the peeling sheet 14 and the auxiliary sheet 15) are wound up via guide rollers 42 and 43, and are recovered as the waste tape 46. In addition, in Fig. 6A, the auxiliary sheet 15 is omitted. Subsequently, the resin film forming layer 12 and the chip group package 44 are completely cut, and the support sheet 11 is diced so as not to cut completely. After dicing, the divided package is peeled off from the support sheet 11 together with the resin film forming layer 12 to obtain a package to which the resin film forming layer has been transferred. When using the resin film forming layer as a protective film, the resin film forming layer may be cured prior to dicing to form a protective film, or may be cured after dicing. In addition, when the resin film forming layer is used as the adhesive layer, the package is affixed on a predetermined adherend through the resin film forming layer, and the resin film forming layer is cured if necessary.

이와 같은 프로세스는, 반도체 웨이퍼, 칩에 대한 보호막의 형성 혹은 접착제층의 전사에 관한 WO2015/146254 에 기재된 방법에 준하여 실시된다.Such a process is carried out according to the method described in WO2015/146254 relating to the formation of a protective film on a semiconductor wafer or chip or transfer of an adhesive layer.

본 발명의 장척 적층 시트의 권수체에 의하면, 보조 시트의 폭광부가, 수지막 형성층의 칩군 패키지가 첩부되는 지점 (사용 영역) 에는 겹치지 않기 때문에, 수지막 형성층의 사용 영역에는 권흔이 발생하지 않는다. 또, 폭광부와 수지막 형성층이 겹쳤다고 해도, 수지막 형성층에 발생하는 권흔이 작고, 밀착성에 영향을 미치지 않는다. 이 때문에, 칩군 패키지를 안정적으로 첩부할 수 있고, 또한 얻어지는 수지막의 두께도 균일해진다.According to the winding body of the long laminated sheet of the present invention, since the width portion of the auxiliary sheet does not overlap at the point (area of use) where the chip group package of the resin film forming layer is affixed, windings do not occur in the use region of the resin film forming layer. . Moreover, even if the width|variety part and the resin film formation layer are overlapped, the wound generated in the resin film formation layer is small, and adhesiveness is not affected. For this reason, the chip group package can be stably affixed, and the thickness of the obtained resin film also becomes uniform.

1, 3, 5 : 권수체
2, 4, 6 : 장척 적층 시트
10 : 제 1 형태에 관련된 수지막 형성층 부착 지지 시트
11 : 지지 시트
12 : 수지막 형성층
13 : 링 프레임 유지 수단
14 : 장척 박리 시트
15 : 보조 시트
20 : 제 2 형태에 관련된 수지막 형성층 부착 지지 시트
21 : 지지 시트
21A : 기재
21B : 점착제층
22 : 수지막 형성층
23 : 링 프레임 유지 수단
24 : 장척 박리 시트
25 : 보조 시트
30 : 제 3 형태에 관련된 수지막 형성층 부착 지지 시트
31 : 지지 시트
32 : 수지막 형성층
33 : 링 프레임 유지 수단
34 : 장척 박리 시트
35 : 보조 시트
40 : 필 플레이트
41, 42, 43 : 가이드 롤러
44 : 칩군 패키지
45 : 링 프레임
46 : 폐기 테이프
1, 3, 5: winding body
2, 4, 6: long laminated sheet
10: Support sheet with resin film forming layer according to the first aspect
11: support sheet
12: resin film forming layer
13: ring frame holding means
14: long peeling sheet
15: auxiliary sheet
20: Support sheet with resin film forming layer according to the second aspect
21: support sheet
21A: description
21B: adhesive layer
22: resin film forming layer
23: ring frame holding means
24: long peeling sheet
25: auxiliary sheet
30: Support sheet with resin film forming layer according to the third aspect
31: support sheet
32: resin film forming layer
33: ring frame holding means
34: long peeling sheet
35: auxiliary sheet
40: fill plate
41, 42, 43: guide roller
44: chip group package
45: ring frame
46: waste tape

Claims (1)

대략 사각형의 지지 시트와, 상기 지지 시트 상에 형성되어 있는 대략 사각형의 수지막 형성층을 갖고, 평면에서 보아 수지막 형성층을 둘러싸는 영역에 링 프레임을 유지하기 위한 대략 사각형의 링 프레임 유지 수단을 갖는 수지막 형성층 부착 지지 시트와,
장척의 박리 시트를 포함하고,
상기 박리 시트의 박리 처리면 상의 폭 방향 양단에는, 장척의 보조 시트가 연속해서 적층되어 이루어지고,
상기 박리 시트의 박리 처리면 상의 폭 방향 내측에는, 박리 시트의 길이 방향을 따라 복수의 수지막 형성층 부착 지지 시트가 박리 가능하게 독립적으로 가착되어 이루어지는 장척 적층 시트가 롤상으로 권취되어 이루어지는 권수체로서,
박리 시트 제거 후의 수지막 형성층측으로부터의 평면에서 본, 수지막 형성층과 보조 시트의 외측단과의 거리를 W1,
상기 평면에서 본, 보조 시트가 가장 폭넓은 부분에 있어서의 보조 시트의 폭을 W2 로 한 경우에, W2/W1 ≤ 1.6 인 장척 적층 시트의 권수체.
Having a substantially rectangular support sheet, a substantially rectangular resin film forming layer formed on the support sheet, and having a substantially rectangular ring frame holding means for holding the ring frame in a region surrounding the resin film forming layer in plan view. A supporting sheet with a resin film forming layer,
Including a long release sheet,
Long auxiliary sheets are successively stacked at both ends of the release sheet in the width direction on the release treatment surface,
A winding body formed by winding up a long laminated sheet formed by independently attaching a plurality of support sheets with a resin film forming layer along the longitudinal direction of the release sheet so as to be peelable, inside the width direction on the release treatment surface of the release sheet,
The distance between the resin film forming layer and the outer end of the auxiliary sheet as viewed in plan from the resin film forming layer side after removal of the release sheet is W1,
When the width of the auxiliary sheet in the widest portion of the auxiliary sheet viewed from the above plane is set to W2, the winding body of the long laminated sheet is W2/W1≦1.6.
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