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KR20200106022A - 조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법 - Google Patents

조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법 Download PDF

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KR20200106022A
KR20200106022A KR1020207011475A KR20207011475A KR20200106022A KR 20200106022 A KR20200106022 A KR 20200106022A KR 1020207011475 A KR1020207011475 A KR 1020207011475A KR 20207011475 A KR20207011475 A KR 20207011475A KR 20200106022 A KR20200106022 A KR 20200106022A
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요스케 마에다
토모미 사이토우
Original Assignee
가부시키가이샤 아데카
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Publication date
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Abstract

색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제를 포함하는 조성물. 상기 색소는 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소를 포함하는 것이 바람직하고, 상기 색소는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 것이 바람직하며 , 상기 양이온 중합성 화합물은 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하고, 상기 산 발생제는 광산 발생제 및 열산 발생제에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.

Description

조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법
본 발명은 특정 색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제를 포함하는 조성물에 관한 것이다.
특정 광에 대하여 강도가 큰 흡수를 가지는 화합물은 CD-R, DVD-R, DVD+R, BD-R 등의 광학 기록 매체의 기록층이나, 액정 표시 장치(LCD), 플라스마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD), 음극관 표시 장치(CRT), 형광 표시관, 전계 방사형 디스플레이 등의 화상 표시 장치의 광학요소로 이용되고 있다.
특허문헌 1에는 플라스마 디스플레이에서의 리모콘 오동작 방지 및 플라스마 디스플레이에서 발생하는 네온 오렌지광 흡수를 목적으로 하는 광학 필터용 조성물로서, 특정 아크릴계 수지 및 380~780㎚에 극대 흡수를 가지는 색소를 함유하는 수지 조성물이 개시되어 있다.
특허문헌 2에는 단파 반도체 레이저의 발신 파장에 대하여 고감도인 화상 기록 재료로서, 350~850㎚에 흡수 극대를 가지는 증감색소를 함유하는 라디칼 중합성의 감광성 조성물이 개시되어 있다.
특허문헌 3에는 고체 촬상 소자 등의 광학 필터의 형성에 사용되는 조성물로서, 700~1100㎚에 흡수 극대를 가지는 레이크 색소를 함유하는 경화성 조성물이 개시되어 있다.
US7241404 일본 공개특허공보 특개2006-259558호 US7820254
화상 표시 장치의 색 재현성 향상의 방법으로서, 각 색의 발광 광의 색 순도를 향상시키는 방법이 알려져 있다.
예를 들면, 녹색광 및 적색광의 겹침 영역의 파장의 광을 흡수하는 광학 필터를 사용함으로써, 화상 표시 장치는 녹색광 및 적색광의 색 순도 향상을 도모할 수 있다.
그러나 예를 들면, 화상 표시 장치의 녹색광 및 적색광의 색 순도 향상을 목표로 하여, 상기 특허문헌 1~3에 기재된 조성물을 사용하여 광학 필터를 형성한 경우, 녹색광 및 적색광의 발광 강도가 저하되고, 색 재현성이 저하되는 문제 등이 생기는 경우가 있다.
본 발명은 상기 문제점에 비추어 보아 이루어진 것이며, 원하는 파장범위에 급준(急峻)한 흡수 피크를 가지는 광학 필터의 제조가 가능한 조성물을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 한 결과, 특정 색소와, 양이온 중합성 화합물로서 에폭시 수지 등을 사용함으로써, 상술의 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고 본 발명에 이르렀다.
즉, 본 발명은 색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제를 포함하는 조성물이다.
본 발명에서는 상기 색소로서, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 원하는 파장범위, 예를 들면, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻을 수 있다.
본 발명에서는 상기 조성물을 경화물로 했을 때, 상기 경화물의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭과, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭의 차의 절대값이 50㎚ 이하인 것이 바람직하다. 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻는 것이 가능해지기 때문이다.
본 발명에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하이며, 상기 양이온 중합성 화합물의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50질량부 이상이고, 상기 산 발생제의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻는 것이 가능해지기 때문이다.
본 발명에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소가 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소를 포함하는 것이 바람직하다. 상술의 색소를 사용함으로써, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻는 것이 가능해지기 때문이다.
본 발명에서는 상기 아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소의 함유량이 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소 100질량부 중에 50질량부 이상인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻는 것이 가능해지기 때문이다.
본 발명은 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제를 포함하는 조성물을 제공한다.
본 발명에서는 상기 조성물이 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제를 가짐으로써, 원하는 파장범위, 예를 들면, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻을 수 있다.
본 발명에서는 상기 테트라아자포르피린계 색소가 하기 일반식(1)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다. 상술의 색소를 사용함으로써, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
Figure pct00001
(식(1) 중 R1~R8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 아미노기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기, 또는 이들 기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기를 나타내고, R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 및 R7과 R8은 서로 연결되어 피롤환의 탄소 원자를 포함하는 지환 구조를 형성하고 있어도 된다. 단, R1~R8 모두가 수소 원자인 것은 아니다. M은 2개의 수소 원자, 2개의 1가의 금속 원자, 2가의 금속 원자, 또는 3가 혹은 4가의 금속 화합물을 나타낸다.)
본 발명에서는 상기 일반식(1) 중의 R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 및 R7과 R8의 조합이 각각 독립적으로, (i) 수소 원자와, 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 상기 알킬기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기의 조합, (ii) 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 상기 알킬기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기와, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기 또는 상기 알콕시기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기의 조합, (iii) 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 상기 알킬기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기와, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 상기 아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기의 조합 중 어느 하나인 것이 바람직하다. 상술의 색소를 사용함으로써, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
본 발명에서는 상기 테트라아자포르피린계 색소가 2종류의 상기 일반식(1)로 나타내는 화합물을 포함하고, 상기 2종류의 화합물의 조합이 (a) 일반식(1) 중의 R1~R8 중 적어도 하나가 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 상기 아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기인 화합물과, 일반식(1) 중의 R1~R8이 탄소 원자수 6~30의 아릴기 및 상기 아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기 이외의 기인 화합물의 조합, (b) 일반식(1) 중의 M이 2가의 금속 원자인 화합물과, 일반식(1) 중의 M이 3가 혹은 4가의 금속 화합물인 화합물의 조합 중 어느 하나인 것이 바람직하다. 상술의 색소를 사용함으로써, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
본 발명에서는 상기 트리아릴메탄계 색소가 하기 일반식(301)로 나타내는 색소인 것이 바람직하다. 상술의 색소를 사용함으로써, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
Figure pct00002
(식 중 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309 및 R310은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기 또는 수산기를 나타내거나, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 혹은 상기 알콕시기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내고,
R311, R312, R313, R314, R315 및 R316은 각각 독립적으로, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 니트로기를 나타내거나, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 시아노기, 니트로기, 수산기 혹은 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 페닐기 혹은 상기 페닐기 중의 수소 원자가 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 비닐기로 치환되어 있는 기, 또는 벤질기 혹은 상기 벤질기 중의 수소 원자가 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 비닐기로 치환되어 있는 기를 나타내며,
R301과 R311, R302와 R312, R305와 R313, R306과 R314, R309와 R315 및 R310과 R316은 서로 연결되어 6원환을 형성하고 있어도 되고,
R311과 R312, R313과 R314, 및 R315와 R316은 서로 연결되어 3~6원환의 복소환을 형성하고 있어도 되며,
R303과 R304 및 R307과 R308은 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR317R318, CO, NR319, PR320 또는 SO2를 개재하여 서로 연결되어 환을 형성하고 있어도 되고,
R304와 R305, R306과 R307은 서로 연결되어 6원환을 형성하고 있어도 되며,
X는 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR317R318, CO, NR319, PR320 또는 SO2를 나타내고,
R317 및 R318은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 혹은 상기 알콕시기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내며,
R319 및 R320은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내고,
Anq1-는 q1가의 음이온을 나타내고, q1은 1 또는 2를 나타내며, p1은 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)
본 발명에서는 상기 조성물을 경화물로 했을 때, 상기 조성물의 경화물의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭이 150㎚ 이하인 것이 바람직하다. 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻는 것이 가능해지기 때문이다.
본 발명에서는 상기 산 발생제가 하기 일반식(2)로 나타내는 광산 발생제를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 광산 발생제를 사용함으로써, 상기 조성물은 감도(이하, 경화 감도라고 칭하는 경우가 있음.)가 뛰어난 것이 되기 때문이다.
Figure pct00003
(식 중 R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29 및 R30은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고, R31, R32, R33 및 R34는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내며, R35는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 하기 화학식(A)~(C)에서 선택되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, Anq-는 q가의 음이온을 나타내며, p는 전하를 중성으로 하는 계수를 나타낸다.)
Figure pct00004
(식 중 R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R145, R146, R147, R148 및 R149는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고, R140, R141, R142, R143 및 R144는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내며, *는 식(2) 중의 S와의 결합 위치를 나타낸다.)
본 발명에서는 상기 양이온 중합성 화합물이 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조하는 것이 가능해지기 때문이다.
본 발명에서는 상기 조성물이 광학 필터용인 것이 바람직하다. 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻을 수 있다는 효과를 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.
본 발명은 상기 조성물의 경화물을 제공한다.
상기 조성물의 경화물은 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터 등으로 사용할 수 있다.
본 발명은 상기 조성물의 경화물을 포함하는 광학 필터를 제공한다.
광학 필터가 상기 조성물의 경화물을 포함함으로써, 상기 광학 필터를 사용한 화상 표시 장치는 색 재현성이 뛰어난 것이 된다.
본 발명은 상기 조성물을 경화하는 공정을 포함하는 경화물의 제조 방법을 제공한다.
상기 경화물의 제조 방법은 상기 조성물을 경화시키는 것이기 때문에, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터 등으로 사용 가능한 경화물을 용이하게 얻을 수 있다.
본 발명은 조성물, 그 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법에 관한 것이다.
이하, 본 발명에 대해 상세하게 설명한다.
A. 조성물
우선, 본 발명의 조성물에 대해 설명한다.
본 발명의 조성물은 색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제를 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명에서는 상기 조성물이 소정의 색소, 양이온 중합성 화합물 및 산 발생제를 포함함으로써, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻을 수 있다.
여기서, 상기 성분을 포함하는 조성물을 사용함으로써, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻을 수 있는 이유에 대해서는 이하와 같이 추측된다.
상기 조성물에서, 상기 양이온 중합성 화합물 및 산 발생제를 사용함으로써, 색소를 안정적으로 분산시킨 상황을 유지하는 것이 가능해진다.
보다 구체적으로는 에폭시 화합물 등의 양이온 중합성 화합물은 예를 들면, 아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 화합물 등과 비교하여, 경화 시의 경화 수축이 적고, 경화 시에 색소가 응집되는 등의 문제가 적다. 그 결과, 상기 조성물의 경화물은 색소의 흡수 피크의 브로드(broad)화가 억제되고, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지게 된다.
본 발명에서는 색소로서 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용함으로써, 550㎚ 부근에 스펙트럼 피크를 가지는 녹색광 및 610㎚ 부근에 스펙트럼 피크를 가지는 적색광의 겹침 영역의 파장의 광을 안정적으로 흡수할 수 있다. 이로써, 녹색광 및 적색광의 겹침 영역의 파장의 광만 선택적으로 흡수 가능한 광학 필터를 얻을 수 있다.
이와 같이, 상기 조성물을 사용하고, 용도에 따라 소정의 파장범위에 흡수 극대를 가지는 색소를 선택함으로써, 그 색소의 흡수 극대를 나타내는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻는 것이 가능해진다.
에폭시 화합물 등의 양이온 중합성 화합물은 상술과 같이, 아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 화합물 등과 비교하여, 중합 시의 경화 수축이 적다.
이 때문에, 상기 조성물은 기재 등의 부재에 도포한 후, 경화물로 한 경우에 컬의 발생, 나아가서는 박리의 발생이 적은 것이 된다.
또한, 상기 양이온 중합성 화합물은 예를 들면, 아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 화합물 등과 비교하여 내수성이 높고, 예를 들면 고습환경하에서의 밀착력의 저하도 적다.
이와 같은 점에서, 상기 조성물은 밀착성이 뛰어난 것이 된다.
이상으로부터, 소정의 색소, 양이온 중합성 화합물 및 산 발생제를 동시에 포함하는 것으로 함으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가짐과 함께, 밀착성도 뛰어난 광학 필터를 제조하는 것이 가능해진다.
또한, 상기 조성물은 양이온 중합에 의해 경화가 가능하기 때문에 얻어질 경화물은 3차원 가교한 것이 된다. 그 결과, 상기 경화물은 예를 들면, 열가소성 수지 등에 색소를 분산시킨 조성물 등과 비교하여, 색소의 유지 성능 등의 내구성, 강도 등이 뛰어난 것이 된다.
더욱이, 상기 조성물은 에폭시 화합물 등의 양이온 중합성 화합물을 포함하는 것이기 때문에 얻어질 경화물은 예를 들면, 아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 화합물 등과 비교하여, 유연성이 뛰어난 것이 된다. 그 때문에, 상기 조성물을 사용하여 제조된 광학 필터는 예를 들면, 플렉시블성이 요구되는 화상 표시 장치 등에 특히 바람직하게 사용할 수 있다.
이하, 본 발명의 조성물의 각 성분에 대해 상세하게 설명한다.
1. 색소
상기 색소는 원하는 파장범위의 광을 흡수 가능한 것이면 되고, 상기 조성물의 종류, 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.
상기 색소로서, 예를 들면, 2종류의 발색의 가시광 사이의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 2색의 발광 스펙트럼이 겹치는 파장 범위의 광을 흡수 가능한 것을 사용할 수 있다.
상기 색소로서, 예를 들면, 녹색광 및 적색광의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용할 수 있다.
즉, 본 발명의 조성물은 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제를 포함하는 것으로 할 수 있다.
또한, 청색광 및 녹색광의 겹침을 저감하고, 색 순도를 향상시키는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 450㎚ 이상 550㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용할 수 있다.
상기 색소로서 예를 들면, 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 가시광 사이의 겹침에 한정되지 않고, 380㎚보다 단파장의 자외광 사이, 780㎚보다 장파장의 적외선 사이 등의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 이들 광의 파장범위에 최대 흡수 파장을 가지는 것을 사용할 수도 있다.
(1) 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소
상기 색소가 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소임으로써, 상기 조성물은 녹색광 및 적색광의 겹참을 저감하는 광학 필터의 제조에 적합한 것이 된다.
본 발명에서, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가진다는 것은 450㎚ 이상 700㎚ 이하의 파장범위에서의 최대 흡수 파장이 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 포함되는 것을 말한다.
본 발명에서는 상기 색소의 최대 흡수 파장이 570㎚ 이상 605㎚ 이하인 것이 바람직하고, 580㎚ 이상 600㎚ 이하인 것이 보다 바람직하다. 녹색광 및 적색광의 색 순도가 뛰어난 것으로 하는 것이 용이하고, 또한 색 강도의 저하가 적은 것이 되기 때문이다.
또한, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소의 반값폭(이하, 색소 단체(單體) 반값폭이라고 칭하는 경우가 있음.)은 색 재현성이 뛰어난 광학 필터를 얻을 수 있는 것이면 되는데, 150㎚ 이하인 것이 바람직하고, 100㎚ 이하인 것이 보다 바람직하며, 10㎚ 이상 80㎚ 이하인 것이 더 바람직하고, 특히, 15㎚ 이상 60㎚ 이하인 것이 바람직하다.
색소 단체 반값폭이 상술의 범위임으로써, 녹색광 및 적색광의 색 순도가 뛰어나게 하는 것이 용이하고, 더욱이 색 강도의 저하가 적어지기 때문이다.
상기 최대 흡수 파장 및 반값폭의 측정 방법은 최대 흡수 파장을 정밀도 높게 측정할 수 있는 방법이면 되고, 예를 들면, 하기의 방법을 이용할 수 있다.
(1) 용제에 색소를 용해하고, 색소 용액을 조제한다.
(2) 색소 용액을 석영 셀(광로 길이 10㎜, 두께 1.25㎜)에 충전하고, 분광 광도계(예를 들면, 니혼분코 제품 가시 자외 흡광도계 V-670 등)를 이용하여 투과율을 측정한다.
한편, 색소 용액의 농도는 최대 흡수 파장을 정확하게 확인할 수 있는 농도이면 되고, 예를 들면, 최대 흡수 파장이 되는 파장에서의 투과율이 5% 정도(예를 들면, 3% 이상 7% 이하)가 되도록 조정할 수 있다.
상기 용제로는 색소를 용해 가능하고, 최대 흡수 파장의 시프트가 적은 등, 각 색소의 투과 스펙트럼을 정밀도 높게 측정 가능한 것이면 되고, 예를 들면, 클로로포름을 사용할 수 있다. 또한, 클로로포름에 용해되지 않는 색소에 대해서는 다른 용제를 사용할 수 있다.
색소 용액의 투과 스펙트럼은 미리 용제 단체에서의 투과 스펙트럼을 측정하고, 색소 용액의 투과 스펙트럼으로부터 용제의 투과 스펙트럼을 빼서 보정한 것을 사용한다.
또한, 반값폭은 피크 톱의 양측에 위치하는 2점 사이의 거리((100-λmax에서의 투과율)/2로 나타내는 반값이 관찰되는 파장간의 거리)를 말한다.
구체적으로는 최대 흡수 파장이 되는 파장 λmax에서의 투과율이 4%인 경우에는 투과율이 48%가 되는 파장간 거리를 반값폭으로 한다.
550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소가 2종류 이상의 화합물을 포함하는 경우에는 이들 화합물을 상기 조성물에 포함되는 질량 비율로 혼합한 색소를 사용하여 색소 용액을 조제하고, 측정을 실시한다.
550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소로는 시아닌계 색소, 메로시아닌계 색소, 피로메텐계 색소, 아조계 색소, 테트라아자포르피린계 색소, 크산텐계 색소, 트리아릴메탄계 색소 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 범위에 급준한 흡수 피크를 가지고, 흡수 피크의 반값폭이 좁은 등의 관점에서, 상기 색소가 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소를 포함하는 것이 바람직하고, 테트라아자포르피린계 색소 또는 트리아릴메탄계 색소를 포함하는 것이 보다 바람직하다.
(1-1) 테트라아자포르피린계 색소
본 발명에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소가 테트라아자포르피린계 색소를 포함하는 것이 바람직하고, 테트라아자포르피린계 색소가 하기 일반식(1)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다. 하기 일반식(1)로 나타내는 화합물은 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 범위에 급준한 흡수 피크를 가지고, 흡수 피크의 반값폭이 좁기 때문이다.
이 때문에, 상기 색소로서 하기 일반식(1)로 나타내는 화합물로 이루어지는 테트라아자포르피린계 색소를 사용함으로써 녹색광 및 적색광 사이의 겹침 영역을 선택적으로 흡수하고, 녹색광 및 적색광 각각의 발광 강도의 저하를 억제할 수 있다. 그 결과, 상기 조성물로부터 색 재현성이 뛰어난 광학 필터를 얻을 수 있는 것이다.
또한, 상기 테트라아자포르피린계 색소는 고온환경하에서도 분해되기 어려운 내열성을 가지고, 휘산되기 어려운 내(耐)휘산성도 가지기 때문에, 상기 조성물을 사용하여 제조된 광학 필터는 색 재현성의 향상 효과를 안정적으로 발휘하는 것이 가능해진다.
이와 같이, 상기 테트라아자포르피린계 색소를 사용함으로써, 상기 조성물은 색 재현성이 뛰어나고, 또한 색 재현성 향상 효과를 안정적으로 발휘 가능한 광학 필터를 얻는 것이 가능해지는 것이다.
Figure pct00005
(식(1) 중 R1~R8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기, 또는 탄소 원자수 0~30의 아미노기를 나타내고, R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 및 R7과 R8은 서로 결합하여, 치환되어 있는 탄소 원자와 함께, 지환 구조를 형성해도 상관없다. 단, R1~R8 모두가 수소 원자인 것은 아니다. M은 2개의 수소 원자, 2개의 1가의 금속 원자, 2가의 금속 원자, 또는 3가 혹은 4가의 금속 화합물을 나타낸다.
즉, 식(1) 중 R1~R8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 아미노기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기, 또는 이들 기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기를 나타내고, R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 및 R7과 R8은 서로 연결되어 피롤환의 탄소 원자를 포함하는 지환 구조를 형성하고 있어도 된다. 단, R1~R8 모두가 수소 원자인 것은 아니다. M은 2개의 수소 원자, 2개의 1가의 금속 원자, 2가의 금속 원자, 또는 3가 혹은 4가의 금속 화합물을 나타낸다.)
상기 R1~R8은 동일해도 되고 달라도 된다.
예를 들면, R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 및 R7과 R8은 각각 동일한 기여도 되고, 각각 다른 종류의 기여도 된다.
상기 R1~R8로 나타내는 할로겐 원자로는 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 아미노기는 제1급 아미노기, 제2급 아미노기 및 제3급 아미노기 중 어느 것이어도 된다.
제2급 아미노기 및 제3급 아미노기로는 각각 아미노기의 수소 원자의 하나 또는 2개가 탄소 원자수 1~30의 알킬기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 제2급 아미노기로는 예를 들면, N-메틸아미노기, N-에틸아미노기, N-n-부틸아미노기, N-시클로헥실아미노기, N-n-옥틸아미노기, N-n-데실아미노기, N-벤질아미노기, N-페닐아미노기, N-(3-메틸페닐)아미노기, N-(4-메틸페닐)아미노기, N-(4-n-부틸페닐)아미노기, N-(4-메톡시페닐)아미노기, N-(3-플루오로페닐)아미노기, N-(4-클로로페닐)아미노기, N-(1-나프틸)아미노기, N-(2-나프틸)아미노기를 들 수 있다.
상기 제3급 아미노기로는 N,N-디메틸아미노기, N,N-디에틸아미노기, N,N-디-n-부틸아미노기, N,N-디-n-헥실아미노기, N,N-디-n-옥틸아미노기, N,N-디-n-데실아미노기, N,N-디-n-도데실아미노기, N-메틸-N-에틸아미노기, N-에틸-N-n-부틸아미노기, N-메틸-N-페닐아미노기, N-에틸-N-페닐아미노기, N-n-부틸-N-페닐아미노기, N-벤질-N-페닐아미노기, N,N-디페닐아미노기, N,N-디(3-메틸페닐)아미노기, N,N-디(4-메틸페닐)아미노기, N,N-디(4-에틸페닐)아미노기, N,N-디(4-tert-부틸페닐)아미노기, N,N-디(4-n-헥실페닐)아미노기, N,N-디(4-메톡시페닐)아미노기, N,N-디(4-에톡시페닐)아미노기, N,N-디(4-n-부톡시페닐)아미노기, N,N-디(4-n-헥실옥시페닐)아미노기, N,N-디(1-나프틸)아미노기, N,N-디(2-나프틸)아미노기, N-페닐-N-(3-메틸페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-메틸페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-옥틸페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-메톡시페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-에톡시페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-n-헥실옥시페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-플루오로페닐)아미노기, N-페닐-N-(1-나프틸)아미노기, N-페닐-N-(2-나프틸)아미노기, N-페닐-N-(3-페닐페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-페닐페닐)아미노기, N-카르바졸릴기, N-페녹사디일기, N-페노티아디일기 등도 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기는 탄소 원자수 1~12의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 1~8의 알킬기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
또한, 상기 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는 치환 혹은 무치환의 탄소 원자수 1~30의 알킬기를 사용할 수 있다. 바꿔 말하면, 상기 R1~R8은 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉, 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기여도 된다.
상기 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 즉 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기, n-헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 3,3-디메틸부틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, n-헵틸기, 1-메틸헥실기, 3-메틸헥실기, 5-메틸헥실기, 2,4-디메틸펜틸기, 시클로헥실메틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, 1-메틸헵틸기, 2-에틸헥실기, 2-프로필펜틸기, 2,5-디메틸헥실기, 2,5,5-트리메틸헥실기, n-노닐기, 2,2-디메틸헵틸기, 2,6-디메틸-4-헵틸기, 3,5,5-트리메틸헥실기, n-데실기, 4-에틸옥틸기, n-운데실기, 1-메틸데실기, n-도데실기, 1,3,5,7-테트라메틸옥틸기, n-트리데실기, 1-헥실헵틸기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기, n-에이코실기, n-트리코실기, n-테트라코실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 4-tert-부틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등의 직쇄, 분기 또는 환상의 알킬기를 들 수 있다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는 알킬기 중의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 예를 들면, 비닐, 알릴, 아크릴, 메타크릴 등의 에틸렌성 불포화기; 불소, 염소, 브롬, 요오드 등의 할로겐 원자; 아세틸, 2-클로로아세틸, 프로피오닐, 옥타노일, 아크릴로일, 메타크릴로일, 페닐카르보닐(벤조일), 프탈로일, 4-트리플루오로메틸벤조일, 피발로일, 살리실로일, 옥살로일, 스테아로일, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, t-부톡시카르보닐, n-옥타데실옥시카르보닐, 카르바모일 등의 아실기; 아세틸옥시, 벤조일옥시 등의 아실옥시기; 아미노, 에틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 부틸아미노, 시클로펜틸아미노, 2-에틸헥실아미노, 도데실아미노, 아닐리노, 클로로페닐아미노, 톨루이디노, 아니시디노, N-메틸-아닐리노, 디페닐아미노, 나프틸아미노, 2-피리딜아미노, 메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 아세틸아미노, 벤조일아미노, 포르밀아미노, 피발로일아미노, 라우로일아미노, 카르바모일아미노, N,N-디메틸아미노카르보닐아미노, N,N-디에틸아미노카르보닐아미노, 모르폴리노카르보닐아미노, 메톡시카르보닐아미노, 에톡시카르보닐아미노, t-부톡시카르보닐아미노, n-옥타데실옥시카르보닐아미노, N-메틸-메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 설파모일아미노, N,N-디메틸아미노설포닐아미노, 메틸설포닐아미노, 부틸설포닐아미노, 페닐설포닐아미노 등의 아미노기 함유기; 설폰아미드기, 설포닐기, 시아노기, 설포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 설폰아미드기, 포스폰산기, 인산기, 그리고 설포기, 포스폰산기 및 인산기의 염 등을 들 수 있다.
또한, 상기 수소 원자를 치환하는 치환기는 상술의 알킬기, 후술할 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 헤테로 아릴기 등이어도 된다.
이와 같은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는 예를 들면, 아르알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알콕시알킬기, 아릴옥시알킬기, 아르알킬옥시알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시알킬기 등을 들 수 있다.
상기의 아르알킬기로는 벤질기, α-메틸벤질기, α-에틸벤질기, α,α-디메틸벤질기, α-페닐벤질기, α,α-디페닐벤질기, 페네틸기, α-메틸페네틸기, β-메틸페네틸기, α,α-디메틸페네틸기, 4-메틸페네틸기, 4-메틸벤질기, 3-메틸벤질기, 2-메틸벤질기, 4-에틸벤질기, 2-에틸벤질기, 4-이소프로필벤질기, 4-tert-부틸벤질기, 2-tert-부틸벤질기, 4-tert-펜틸벤질기, 4-시클로헥실벤질기, 4-n-옥틸벤질기, 4-tert-옥틸벤질기, 4-페닐벤질기, 4-(4'-메틸페닐)벤질기, 4-(4'-tert-부틸페닐)벤질기, 4-(4'-메톡시페닐)벤질기, 4-메톡시벤질기, 3-메톡시벤질기, 2-에톡시벤질기, 4-n-부톡시벤질기, 4-n-헵틸옥시벤질기, 3,4-디메톡시벤질기, 4-플루오로벤질기, 2-플루오로벤질기, 4-클로로벤질기, 3-클로로벤질기, 2-클로로벤질기, 3,4-디클로로벤질기, 2-푸르푸릴기, 1-나프틸메틸기, 2-나프틸메틸기 등을 들 수 있다.
상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알킬기로는 플루오로메틸기, 3-플루오로프로필기, 6-플루오로헥실기, 8-플루오로옥틸기, 트리플루오로메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-프로필기, 1,1,3-트리하이드로-퍼플루오로-n-프로필기, 2-하이드로-퍼플루오로-2-프로필기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-부틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-펜틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-헥실기, 6-플루오로헥실기, 4-플루오로시클로헥실기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-옥틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-데실기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-도데실기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-테트라데실기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-헥사데실기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로-n-프로필기, 퍼플루오로-n-펜틸기, 퍼플루오로-n-헥실기, 2,2-비스(트리플루오로메틸)프로필기, 디클로로메틸기, 2-클로로에틸기, 3-클로로프로필기, 4-클로로시클로헥실기, 7-클로로헵틸기, 8-클로로옥틸기, 2,2,2-트리클로로에틸기 등을 들 수 있다.
상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알킬기로는 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, n-부톡시메틸기, n-펜틸옥시메틸기, n-헥실옥시메틸기, (2-에틸부틸옥시)메틸기, n-헵틸옥시메틸기, n-옥틸옥시메틸기, n-데실옥시메틸기, n-도데실옥시메틸기, 2-메톡시에틸기, 2-에톡시에틸기, 2-n-프로폭시에틸기, 2-이소프로폭시에틸기, 2-n-부톡시에틸기, 2-n-펜틸옥시에틸기, 2-n-헥실옥시에틸기, 2-(2'-에틸부틸옥시)에틸기, 2-n-헵틸옥시에틸기, 2-n-옥틸옥시에틸기, 2-(2'-에틸헥실옥시)에틸기, 2-n-데실옥시에틸기, 2-n-도데실옥시에틸기, 2-n-테트라데실옥시에틸기, 2-시클로헥실옥시에틸기, 2-메톡시프로필기, 3-메톡시프로필기, 3-에톡시프로필기, 3-n-프로폭시프로필기, 3-이소프로폭시프로필기, 3-n-부톡시프로필기, 3-n-펜틸옥시프로필기, 3-n-헥실옥시프로필기, 3-(2'-에틸부톡시)프로필기, 3-n-옥틸옥시프로필기, 3-(2'-에틸헥실옥시)프로필기, 3-n-데실옥시프로필기, 3-n-도데실옥시프로필기, 3-n-테트라데실옥시프로필기, 3-시클로헥실옥시프로필기, 4-메톡시부틸기, 4-에톡시부틸기, 4-n-프로폭시부틸기, 4-이소프로폭시부틸기, 4-n-부톡시부틸기, 4-n-헥실옥시부틸기, 4-n-옥틸옥시부틸기, 4-n-데실옥시부틸기, 4-n-도데실옥시부틸기, 5-메톡시펜틸기, 5-에톡시펜틸기, 5-n-프로폭시펜틸기, 5-n-펜틸옥시펜틸기, 6-메톡시헥실기, 6-에톡시헥실기, 6-이소프로폭시헥실기, 6-n-부톡시헥실기, 6-n-헥실옥시헥실기, 6-n-데실옥시헥실기, 4-메톡시시클로헥실기, 7-메톡시헵틸기, 7-에톡시헵틸기, 7-이소프로폭시헵틸기, 8-메톡시옥틸기, 8-에톡시옥틸기, 9-메톡시노닐기, 9-에톡시노닐기, 10-메톡시데실기, 10-에톡시데실기, 10-n-부톡시데실기, 11-메톡시운데실기, 11-에톡시운데실기, 12-메톡시도데실기, 12-에톡시도데실기, 12-이소프로폭시도데실기, 14-메톡시테트라데실기, 테트라하이드로푸르푸릴기 등을 들 수 있다.
상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알콕시알킬기로는 (2-메톡시에톡시)메틸기, (2-에톡시에톡시)메틸기, (2-n-부틸옥시에톡시)메틸기, (2-n-헥실옥시에톡시)메틸기, (3-메톡시프로필옥시)메틸기, (3-에톡시프로필옥시)메틸기, (3-n-부틸옥시프로필옥시)메틸기, (3-n-펜틸옥시프로필옥시)메틸기, (4-메톡시부틸옥시)메틸기, (6-메톡시헥실옥시)메틸기, (10-에톡시데실옥시)메틸기, 2-(2'-메톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-에톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-부톡시에톡시)에틸기, 3-(2'-에톡시에톡시)프로필기, 3-(2'-메톡시프로필옥시)프로필기, 3-(2'-이소프로필옥시프로필옥시)프로필기, 3-(3'-메톡시프로필옥시)프로필기, 3-(3'-에톡시프로필옥시)프로필기 등을 들 수 있다.
상기 아릴옥시알킬기로는 페닐옥시메틸기, 4-메틸페닐옥시메틸기, 3-메틸페닐옥시메틸기, 2-메틸페닐옥시메틸기, 4-에틸페닐옥시메틸기, 4-n-프로필페닐옥시메틸기, 4-n-부틸페닐옥시메틸기, 4-tert-부틸페닐옥시메틸기, 4-n-헥실페닐옥시메틸기, 4-n-옥틸페닐옥시메틸기, 4-n-데실페닐옥시메틸기, 4-메톡시페닐옥시메틸기, 4-에톡시페닐옥시메틸기, 4-부톡시페닐옥시메틸기, 4-n-펜틸옥시페닐옥시메틸기, 4-플루오로페닐옥시메틸기, 3-플루오로페닐옥시메틸기, 2-플루오로페닐옥시메틸기, 3,4-디플루오로페닐옥시메틸기, 4-클로로페닐옥시메틸기, 2-클로로페닐옥시메틸기, 4-페닐페닐옥시메틸기, 1-나프틸옥시메틸기, 2-나프틸옥시메틸기, 2-푸릴옥시메틸기, 1-페닐옥시에틸기, 2-페닐옥시에틸기, 2-(4'-메틸페닐옥시)에틸기, 2-(4'-에틸페닐옥시)에틸기, 2-(4'-n-헥실페닐옥시)에틸기, 2-(4'-메톡시페닐옥시)에틸기, 2-(4'-n-부톡시페닐옥시)에틸기, 2-(4'-플루오로페닐옥시)에틸기, 2-(4'-클로로페닐옥시)에틸기, 2-(4'-브로모페닐옥시)에틸기, 2-(1'-나프틸옥시)에틸기, 2-(2'-나프틸옥시)에틸기, 2-페닐옥시프로필기, 3-페닐옥시프로필기, 3-(4'-메틸페닐옥시)프로필기, 3-(2'-나프틸옥시)프로필기, 4-페닐옥시부틸기, 4-(2'-에틸페닐옥시)부틸기, 4-페닐옥시펜틸기, 5-페닐옥시펜틸기, 5-(4'-tert-부틸페닐옥시)펜틸기, 6-페닐옥시헥실기, 6-(2'-클로로페닐옥시)헥실기, 8-페닐옥시옥틸기, 10-페닐옥시데실기, 10-(3'-메틸페닐옥시)데실기 등을 들 수 있다.
상기 아르알킬옥시알킬기로는 벤질옥시메틸기, 페네틸옥시메틸기, 4-메틸벤질옥시메틸기, 3-메틸벤질옥시메틸기, 4-n-프로필벤질옥시메틸기, 4-n-옥틸벤질옥시메틸기, 4-메톡시벤질옥시메틸기, 4-에톡시벤질옥시메틸기, 4-n-부톡시벤질옥시메틸기, 4-플루오로벤질옥시메틸기, 3-플루오로벤질옥시메틸기, 2-플루오로벤질옥시메틸기, 4-클로로벤질옥시메틸기, 4-페닐벤질옥시메틸기, 2-벤질옥시에틸기, 2-페네틸옥시에틸기, 2-(4'-메틸벤질옥시)에틸기, 2-(2'-메틸벤질옥시)에틸기, 2-(4'-플루오로벤질옥시)에틸기, 2-(4'-클로로벤질옥시)에틸기, 3-벤질옥시프로필기, 3-(4'-메톡시벤질옥시)프로필기, 4-벤질옥시부틸기, 4-(4'-페닐벤질옥시)부틸기, 5-(4'-메틸벤질옥시)펜틸기, 6-벤질옥시헥실기, 8-벤질옥시옥틸기 등을 들 수 있다.
상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시알킬기로는 플루오로메틸옥시메틸기, 3-플루오로-n-프로필옥시메틸기, 6-플루오로-n-헥실옥시메틸기, 트리플루오로메틸옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-프로필옥시메틸기, 2-하이드로-퍼플루오로-2-프로필옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-부틸옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-펜틸옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-헥실옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-옥틸옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-데실옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-테트라데실옥시메틸기, 2,2-비스(트리플루오로메틸)프로필옥시메틸기, 3-클로로-n-프로필옥시메틸기, 2-(8-플루오로-n-옥틸옥시)에틸기, 2-(1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시)에틸기, 2-(1,1,3-트리하이드로-퍼플루오로-n-프로필옥시)에틸기, 2-(1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-펜틸옥시)에틸기, 2-(6-플루오로-n-헥실옥시)에틸기, 2-(1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-옥틸옥시)에틸기, 3-(4-플루오로시클로헥실옥시)프로필기, 3-(1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시)프로필기, 3-(1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-도데실옥시)프로필기, 4-(퍼플루오로-n-헥실옥시)부틸기, 4-(1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시)부틸기, 6-(2-클로로에틸옥시)헥실기, 6-(1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시)헥실기 등의 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시알킬기 등을 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는 탄소 원자수 1~12의 알콕시기인 것이 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
또한, 상기 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는 치환 혹은 무치환의 탄소 원자수 1~30의 알콕시기를 사용할 수 있다. 바꿔 말하면, 상기 R1~R8은 탄소 원자수 1~30의 알콕시기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기여도 된다.
상기 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 즉 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, n-펜틸옥시기, 네오펜틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, n-헥실옥시기, 3,3-디메틸부틸옥시기, 2-에틸부틸옥시기, 시클로헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기, n-노닐옥시기, n-데실옥시기, n-운데실옥시기, n-도데실옥시기, n-트리데실옥시기, n-테트라데실옥시기, n-펜타데실옥시기, n-헥사데실옥시기, n-헵타데실옥시기, n-옥타데실옥시기, n-에이코실옥시기, n-트리코실옥시기, n-테트라코실옥시기 등을 들 수 있다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는 알콕시기 중의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 상기 알킬기 중의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는 보다 구체적으로는 아르알킬옥시기, 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시기 등을 들 수 있다.
상기 아르알킬옥시기로는 벤질옥시기, α-메틸벤질옥시기, α-에틸벤질옥시기, α,α-디메틸벤질옥시기, α-페닐벤질옥시기, α,α-디페닐벤질옥시기, 페네틸옥시기, α-메틸페네틸옥시기, β-메틸페네틸옥시기, α,α-디메틸페네틸옥시기, 4-메틸페네틸옥시기, 4-메틸벤질옥시기, 3-메틸벤질옥시기, 2-메틸벤질옥시기, 4-에틸벤질옥시기, 2-에틸벤질옥시기, 4-이소프로필벤질옥시기, 4-tert-부틸벤질옥시기, 2-tert-부틸벤질옥시기, 4-tert-펜틸벤질옥시기, 4-시클로헥실벤질옥시기, 4-n-옥틸벤질옥시기, 4-tert-옥틸벤질옥시기, 4-페닐벤질옥시기, 4-(4'-메틸페닐)벤질옥시기, 4-(4'-tert-부틸페닐)벤질옥시기, 4-(4'-메톡시페닐)벤질옥시기, 4-메톡시벤질옥시기, 3-메톡시벤질옥시기, 2-에톡시벤질옥시기, 4-n-부톡시벤질옥시기, 4-n-헵틸옥시벤질옥시기, 3,4-디메톡시벤질옥시기, 4-플루오로벤질옥시기, 2-플루오로벤질옥시기, 4-클로로벤질옥시기, 3-클로로벤질옥시기, 2-클로로벤질옥시기, 3,4-디클로로벤질옥시기, 2-푸르푸릴옥시기, 1-나프틸메틸옥시기, 2-나프틸메틸옥시기 등을 들 수 있다.
상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시기로는, 플루오로메틸옥시기, 3-플루오로프로필옥시기, 6-플루오로헥실옥시기, 8-플루오로옥틸옥시기, 트리플루오로메틸옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시기, 2,2,2-트리플루오로에틸옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-프로필옥시기, 1,1,3-트리하이드로-퍼플루오로-n-프로필옥시기, 2-하이드로-퍼플루오로-2-프로필옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-부틸옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-펜틸옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-헥실옥시기, 6-플루오로헥실옥시기, 4-플루오로시클로헥실옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-옥틸옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-데실옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-도데실옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-테트라데실옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-헥사데실옥시기, 퍼플루오로에틸옥시기, 퍼플루오로-n-프로필옥시기, 퍼플루오로-n-펜틸옥시기, 퍼플루오로-n-헥실옥시기, 2,2-비스(트리플루오로메틸)프로필옥시기, 디클로로메틸옥시기, 2-클로로에틸옥시기, 3-클로로프로필옥시기, 4-클로로시클로헥실옥시기, 7-클로로헵틸옥시기, 8-클로로옥틸옥시기, 2,2,2-트리클로로에틸옥시기 등을 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는 탄소 원자수 6~20의 아릴기인 것이 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 6~16의 아릴기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
또한, 상기 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는 치환 혹은 무치환의 탄소 원자수 6~30의 아릴기를 사용할 수 있다. 바꿔 말하면, 상기 R1~R8은 탄소 원자수 6~30의 아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기여도 된다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는 아릴기 중의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 상기 알킬기의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.
상기 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 즉 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 및 상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는 예를 들면, 페닐기, 2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 3-에틸페닐기, 4-에틸페닐기, 4-n-프로필페닐기, 4-이소프로필페닐기, 4-n-부틸페닐기, 4-이소부틸페닐기, 4-tert-부틸페닐기, 4-n-펜틸페닐기, 4-이소펜틸페닐기, 4-tert-펜틸페닐기, 4-n-헥실페닐기, 4-시클로헥실페닐기, 4-n-헵틸페닐기, 4-n-옥틸페닐기, 4-n-노닐페닐기, 4-n-데실페닐기, 4-n-운데실페닐기, 4-n-도데실페닐기, 4-n-테트라데실페닐기, 4-n-헥사데실페닐기, 4-n-옥타데실페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기, 2,3,5,6-테트라메틸페닐기, 5-인다닐기, 1,2,3,4-테트라하이드로-5-나프틸기, 1,2,3,4-테트라하이드로-6-나프틸기, 2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 3-에톡시페닐기, 4-에톡시페닐기, 4-n-프로폭시페닐기, 4-이소프로폭시페닐기, 4-n-부톡시페닐기, 4-이소부톡시페닐기, 4-n-펜틸옥시페닐기, 4-n-헥실옥시페닐기, 4-시클로헥실옥시페닐기, 4-n-헵틸옥시페닐기, 4-n-옥틸옥시페닐기, 4-n-노닐옥시페닐기, 4-n-데실옥시페닐기, 4-n-운데실옥시페닐기, 4-n-도데실옥시페닐기, 4-n-테트라데실옥시페닐기, 4-n-헥사데실옥시페닐기, 4-n-옥타데실옥시페닐기, 2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,5-디에톡시페닐기, 2-메톡시-4-메틸페닐기, 2-메톡시-5-메틸페닐기, 3-메톡시-4-메틸페닐기, 2-메틸-4-메톡시페닐기, 3-메틸-4-메톡시페닐기, 3-메틸-5-메톡시페닐기, 2-플루오로페닐기, 3-플루오로페닐기, 4-플루오로페닐기, 2-클로로페닐기, 3-클로로페닐기, 4-클로로페닐기, 4-브로모페닐기, 4-트리플루오로메틸페닐기, 3-트리플루오로메틸페닐기, 2,4-디플루오로페닐기, 3,5-디플루오로페닐기, 2,4-디클로로페닐기, 3,4-디클로로페닐기, 3,5-디클로로페닐기, 2-메틸-4-클로로페닐기, 2-클로로-4-메틸페닐기, 3-클로로-4-메틸페닐기, 2-클로로-4-메톡시페닐기, 3-메톡시-4-플루오로페닐기, 3-메톡시-4-클로로페닐기, 3-플루오로-4-메톡시페닐기, 4-페닐페닐기, 3-페닐페닐기, 2-페닐페닐기, 4-(4'-메틸페닐)페닐기, 4-(4'-메톡시페닐)페닐기, 3,5-디페닐페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 4-메틸-1-나프틸기, 4-에톡시-1-나프틸기, 6-n-부틸-2-나프틸기, 6-메톡시-2-나프틸기, 7-에톡시-2-나프틸기, 2-푸릴기, 2-티에닐기, 3-티에닐기, 2-피리딜기, 3-피리딜기, 4-피리딜기, 4-아미노페닐기, 3-아미노페닐기, 2-아미노페닐기, 4-(N-메틸아미노)페닐기, 3-(N-메틸아미노)페닐기, 4-(N-에틸아미노)페닐기, 2-(N-이소프로필아미노)페닐기, 4-(N-n-부틸아미노)페닐기, 2-(N-n-부틸아미노)페닐기, 4-(N-n-옥틸아미노)페닐기, 4-(N-n-도데실아미노)페닐기, 4-N-벤질아미노페닐기, 4-N-페닐아미노페닐기, 2-N-페닐아미노페닐기, 4-(N,N-디메틸아미노)페닐기, 3-(N,N-디메틸아미노)페닐기, 2-(N,N-디메틸아미노)페닐기, 4-(N,N-디에틸아미노)페닐기, 2-(N,N-디에틸아미노)페닐기, 4-(N,N-디-n-부틸아미노)페닐기, 4-(N,N-디-n-헥실아미노)페닐기, 4-(N-시클로헥실-N-메틸아미노)페닐기, 4-(N,N-디에틸아미노)-1-나프틸기, 4-피롤리디노페닐기, 4-피페리디노페닐기, 4-모르폴리노페닐기, 4-피롤리디노-1-나프틸기, 4-(N-벤질-N-메틸아미노)페닐기, 4-(N-벤질-N-페닐아미노)페닐기, 4-(N-메틸-N-페닐아미노)페닐기, 4-(N-에틸-N-페닐아미노)페닐기, 4-(N-n-부틸-N-페닐아미노)페닐기, 4-(N,N-디페닐아미노)페닐기, 2-(N,N-디페닐아미노)페닐기, 4-〔N,N-디(4'-메틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(3'-메틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-에틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-tert-부틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-n-헥실페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-메톡시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-에톡시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-n-부톡시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-n-헥실옥시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(1'-나프틸)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(2'-나프틸)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(3'-메틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-메틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-옥틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-메톡시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-에톡시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-n-헥실옥시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-플루오로페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(1'-나프틸)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(2'-나프틸)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-페닐페닐)아미노〕페닐기, 4-(N,N-디페닐아미노)-1-나프틸기, 6-(N,N-디페닐아미노)-2-나프틸기, 4-(N-카르바졸릴)페닐기, 4-(N-페녹사디일)페닐기 등을 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는 탄소 원자수 6~20의 아릴옥시기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 6~16의 아릴옥시기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
또한, 상기 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는 치환 혹은 무치환의 탄소 원자수 1~30의 아릴옥시기를 사용할 수 있다. 바꿔 말하면, 상기 R1~R8은 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기여도 된다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는 아릴옥시기 중의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 상기 알킬기의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.
상기 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 즉 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 및 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는 예를 들면, 페녹시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 3-에틸페닐옥시기, 4-에틸페닐옥시기, 4-n-프로필페닐옥시기, 4-이소프로필페닐옥시기, 4-n-부틸페닐옥시기, 4-이소부틸페닐옥시기, 4-tert-부틸페닐옥시기, 4-n-펜틸페닐옥시기, 4-이소펜틸페닐옥시기, 4-tert-펜틸페닐옥시기, 4-n-헥실페닐옥시기, 4-시클로헥실페닐옥시기, 4-n-헵틸페닐옥시기, 4-n-옥틸페닐옥시기, 4-n-노닐페닐옥시기, 4-n-데실페닐옥시기, 4-n-운데실페닐옥시기, 4-n-도데실페닐옥시기, 4-n-테트라데실페닐옥시기, 4-n-헥사데실페닐옥시기, 4-n-옥타데실페닐옥시기, 2,3-디메틸페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5,6-테트라메틸페닐옥시기, 5-인다닐옥시기, 1,2,3,4-테트라하이드로-5-나프틸옥시기, 1,2,3,4-테트라하이드로-6-나프틸옥시기 등을 들 수 있다.
치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는 2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 3-에톡시페닐옥시기, 4-에톡시페닐옥시기, 4-n-프로폭시페닐옥시기, 4-이소프로폭시페닐옥시기, 4-n-부톡시페닐옥시기, 4-이소부톡시페닐옥시기, 4-n-펜틸옥시페닐옥시기, 4-n-헥실옥시페닐옥시기, 4-시클로헥실옥시페닐옥시기, 4-n-헵틸옥시페닐옥시기, 4-n-옥틸옥시페닐옥시기, 4-n-노닐옥시페닐옥시기, 4-n-데실옥시페닐옥시기, 4-n-운데실옥시페닐옥시기, 4-n-도데실옥시페닐옥시기, 4-n-테트라데실옥시페닐옥시기, 4-n-헥사데실옥시페닐옥시기, 4-n-옥타데실옥시페닐옥시기, 2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디에톡시페닐옥시기, 2-메톡시-4-메틸페닐옥시기, 2-메톡시-5-메틸페닐옥시기, 3-메톡시-4-메틸페닐옥시기, 2-메틸-4-메톡시페닐옥시기, 3-메틸-4-메톡시페닐옥시기, 3-메틸-5-메톡시페닐옥시기 등도 들 수 있다.
또한, 2-플루오로페닐옥시기, 3-플루오로페닐옥시기, 4-플루오로페닐옥시기, 2-클로로페닐옥시기, 3-클로로페닐옥시기, 4-클로로페닐옥시기, 4-브로모페닐옥시기, 4-트리플루오로메틸페닐옥시기, 3-트리플루오로메틸페닐옥시기, 2,4-디플루오로페닐옥시기, 3,5-디플루오로페닐옥시기, 2,4-디클로로페닐옥시기, 3,4-디클로로페닐옥시기, 3,5-디클로로페닐옥시기, 2-메틸-4-클로로페닐옥시기, 2-클로로-4-메틸페닐옥시기 등도 들 수 있다.
더욱이, 3-클로로-4-메틸페닐옥시기, 2-클로로-4-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시-4-플루오로페닐옥시기, 3-메톡시-4-클로로페닐옥시기, 3-플루오로-4-메톡시페닐옥시기, 4-페닐페닐옥시기, 3-페닐페닐옥시기, 2-페닐페닐옥시기, 4-(4'-메틸페닐)페닐옥시기, 4-(4'-메톡시페닐)페닐옥시기, 3,5-디페닐페닐옥시기, 1-나프틸옥시기, 2-나프틸옥시기, 4-메틸-1-나프틸옥시기, 4-에톡시-1-나프틸옥시기, 6-n-부틸-2-나프틸옥시기, 6-메톡시-2-나프틸옥시기, 7-에톡시-2-나프틸옥시기 등도 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기로는 예를 들면, 헤테로 원자로서, 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 적어도 하나 이상 포함하는 방향족 헤테로환을 들 수 있다.
또한, 상기 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기로는 치환 혹은 무치환의 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기를 사용할 수 있다. 바꿔 말하면, 상기 R1~R8은 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉 치환기를 가지는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기여도 된다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기로는 헤테로아릴기 중의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 상기 알킬기의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.
상기 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기, 즉 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 6~30의 헤테로아릴기, 및 치환기를 가지는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기로는 예를 들면, 푸라닐기, 피롤일기, 3-피롤리노기, 피라졸릴기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 티아졸릴기, 1,2,3-옥사디아졸릴기, 1,2,3-트리아졸릴기, 1,2,4-트리아졸릴기, 1,3,4-티아디아졸릴기, 피리디닐기, 피리다지닐기, 피리미디닐기, 피라지닐기, 피페라지닐기, 트리아지닐기, 벤조푸라닐기, 인돌릴기, 티오나프세닐기, 벤즈이미다졸릴기, 벤조티아졸릴기, 벤조트리아졸-2-일기, 벤조트리아졸-1-일기, 푸리닐기, 퀴놀리닐기, 이소퀴놀리닐기, 쿠마리닐기, 신놀리닐기, 퀴녹살리닐기, 디벤조푸라닐기, 카르바졸릴기, 페난트롤리닐기, 페노티아지닐기, 플라보닐기, 프탈이미드기, 나프틸이미드기 등을 들 수 있다.
상기 R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 또는 R7과 R8이 서로 연결되어 형성하는 지환 구조로는, R1 등이 결합되어 있는 피롤환의 탄소 원자를 포함하여 형성된, 탄소 원자수 3~20의 지환식 탄화수소기를 들 수 있고, 예를 들면, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 디메틸시클로헥산, t-부틸시클로헥산, 시아노시클로헥산, 디클로로시클로헥산 등의 지환 구조를 들 수 있다.
본 발명에서는 상기 R1~R8은 수소 원자, 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 또는 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기인 것이 바람직하다.
R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 및 R7과 R8의 조합으로는 원하는 파장의 광을 흡수 가능한 것이면 어떤 조합이어도 되는데, 구체적으로는 (i) 수소 원자와 알킬기의 조합, (ii) 알킬기와 알콕시기의 조합, (iii) 알킬기와 아릴기의 조합 등인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
또한, R1, R3, R5 및 R7은 다른 기여도 되는데, 동일한 기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
더욱이, R2, R4, R6 및 R8은 다른 기여도 되는데, 동일한 기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
상기 (i)의 조합으로는 수소 원자와, 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기의 조합이 바람직하고, 수소 원자와, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 1~10의 알킬기의 조합이 보다 바람직하며, 특히, 수소 원자와, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 2~5의 알킬기의 조합이 바람직하다.
본 발명에서는 R1, R3, R5 및 R7이 수소 원자이고, 또한 R2, R4, R6 및 R8이 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기 등의 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 3~5의 분기의 알킬기인 것이 가장 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
상기 (iii)의 조합으로는 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기와, 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기의 조합이 바람직하고, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 1~10의 알킬기와, 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~12의 아릴기의 조합이 보다 바람직하며, 특히, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 2~5의 알킬기와, 치환기를 가지는 탄소 원자수 6의 아릴기의 조합이 보다 바람직하다.
아릴기의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상을 치환하는 치환기로는 할로겐 원자인 것이 바람직하고, 그 중에서도 불소 원자인 것이 바람직하다. 또한, 아릴기의 수소 원자의 하나가 치환기로 치환되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에서는 R1, R3, R5 및 R7이 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 할로겐 원자로 치환된 페닐기이고, 또한 R2, R4, R6 및 R8이 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기 등의 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 3~5의 분기의 알킬기인 것이 특히 바람직하고, R1, R3, R5 및 R7이 2-플루오로페닐기, 3-플루오로페닐기, 4-플루오로페닐기 등의 불소 원자로 수소 원자의 하나가 치환된 페닐기이며, 또한 R2, R4, R6 및 R8이 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기 등의 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 3~5의 분기의 알킬기인 것이 가장 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
상기 M으로 나타내는 2가의 금속 원자로는 예를 들면, 주기율표 제3족~제15족에 속하는 금속 원자를 들 수 있다. 구체적으로는 Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Ru, Pb, Rh, Pd, Pt, Mn, Sn, Pb 등을 들 수 있다.
M으로 나타내는 1가의 금속 원자로는 예를 들면, Na, K, Li 등을 들 수 있다.
또한, M으로 나타내는 3가 혹은 4가의 금속 화합물로는 예를 들면, 주기율표 제3족~제15족에 속하는 3가 또는 4가의 금속의, 할로겐화물, 수산화물 및 산화물 등을 들 수 있다. 상기 금속 화합물로는 구체적으로는, AlCl, AlOH, InCl, FeCl, MnOH, SiCl2, SnCl2, GeCl2, Si(OH)2, Si(OCH3)2, Si(OPh)2, Si(OSiCH3)2, Sn(OH)2, Ge(OH)2, VO, TiO 등을 들 수 있다.
상기 M은 Cu, Zn, Co, Ni, Pb, Pd, Pt, Mn, VO, TiO인 것이 바람직하고, 특히, Cu, Co, Ni, Pd, VO인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
상기 일반식(1)로 나타내는 테트라아자포르피린계 색소 화합물로는 보다 구체적으로는, 일본 공개특허공보 특개2017-68221호에 기재된 일반식(1)의 구체예와 동일한 것을 들 수 있다.
상기 테트라아자포르피린계 색소 화합물의 제조 방법으로는 공지의 방법을 이용할 수 있고, 예를 들면, J. Gen. Chem. USSR vol.47, 1954-1958(1977), 일본 공개특허공보 특개2012-121821호 등에 기재되어 있는 방법에 준한 제조 방법을 들 수 있다.
상기 테트라아자포르피린계 색소 화합물의 시판품으로는 예를 들면, PD-311S, PD-320, NC-35, SNC-8(이상, 야마모토 카세이 가부시키가이샤), FDG-004, FDG-007(이상, 야마다 가가쿠 고교 가부시키가이샤) 등을 들 수 있다.
본 발명에서 사용하는 테트라아자포르피린계 색소는 1종류의 화합물만으로 이루어지는 것이어도 되지만, 구조 또는 M으로 나타내는 금속 원자 혹은 금속 화합물(이하, 중심 금속 등이라고 칭하는 경우가 있음.)의 종류가 다른 2종류 이상의 화합물을 포함하는 것이어도 된다.
본 발명에서는 습열 내구성 등의 내구성 향상의 관점에서는 상기 테트라아자포르피린계 색소로서, 상기 일반식(1)로 나타내는 화합물을 2종류 이상 포함하는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 테트라아자포르피린계 색소가 2종류 이상의 화합물을 포함함으로써, 보다 내구성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
조합할 화합물의 종류는 2종류 이상인 것이 바람직한데, 2종류 이상 5종류 이하인 것이 보다 바람직하고, 2종류 이상 3종류 이하인 것이 더 바람직하며, 특히, 2종류인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
구조가 다른 2종류 이상의 화합물의 조합으로는 예를 들면, R1~R8이 서로 다른 화합물의 조합을 들 수 있고, 바람직한 조합으로서, R1~R8 중 적어도 하나가 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기인 화합물과, R1~R8이 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기 이외의 기인 화합물의 조합을 들 수 있다.
또한, R1~R8 중 적어도 하나가 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기인 화합물과, R1~R8이 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기 이외의 기이고, 또한 R1~R8 중 적어도 하나가 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 화합물의 조합, 그리고 R1~R8 중 적어도 하나가 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기이며, 또한 R1~R8 중 적어도 하나가 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 화합물과, R1~R8이 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기 이외의 기이며, R1~R8 중 적어도 하나가 수소 원자이고, 또한 R1~R8 중 적어도 하나가 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 화합물의 조합을 들 수 있다.
바람직한 조합으로서, R1~R8 중 적어도 하나가 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~20의 아릴기이며, 또한 R1~R8 중 적어도 하나가, 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 화합물과, R1~R8이 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기 이외의 기이며, R1~R8 중 적어도 하나가 수소 원자이고, 또한 R1~R8 중 적어도 하나가 치환기를 가지지 않거나 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 화합물의 조합을 들 수 있다.
특히 바람직한 조합으로서, R1~R8 중 적어도 하나가 할로겐 원자로 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 치환된 탄소 원자수 6~12의 아릴기이며, 또한 R1~R8 중 적어도 하나가 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 2~5의 알킬기인 화합물과, R1~R8이 수소 원자 및 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 2~5의 알킬기인 화합물의 조합을 들 수 있다.
특히 바람직한 조합은 R1, R3, R5 및 R7이 2-플루오로페닐기, 3-플루오로페닐기, 4-플루오로페닐기 등의 불소 원자로 수소 원자의 하나가 치환된 페닐기이며, 또한 R2, R4, R6 및 R8이 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기 등의 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 3~5의 분기의 알킬기인 화합물과, R1, R3, R5 및 R7이 수소 원자이며, 또한 R2, R4, R6 및 R8이 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기 등의 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 3~5의 분기의 알킬기인 화합물의 조합이다.
이와 같은 화합물의 조합임으로써, 습열 내구성 등의 내구성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
중심금속 등이 다른 2종류의 화합물의 조합으로는 예를 들면, M으로서 Cu를 포함하는 화합물과 Pd를 포함하는 화합물의 조합과 같이, 2가의 금속 원자인, Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Ru, Pb, Rh, Pd, Pt, Mn, Sn, Pb에서 선택되는 2종류의 금속 원자를 각각 포함하는 화합물의 조합, 및 M으로서 VO를 포함하는 화합물과 TiO를 포함하는 화합물의 조합과 같이, 3가 혹은 4가의 금속 화합물인, AlCl, AlOH, InCl, FeCl, MnOH, SiCl2, SnCl2, GeCl2, Si(OH)2, Si(OCH3)2, Si(OPh)2, Si(OSiCH3)2, Sn(OH)2, Ge(OH)2, VO, TiO에서 선택되는 2종류의 금속 화합물을 각각 포함하는 화합물의 조합을 들 수 있다.
또한, M으로서 Cu를 포함하는 화합물과 VO를 포함하는 화합물의 조합과 같이, 2가의 금속 원자에서 선택되는 금속 원자를 포함하는 화합물과, 3가 혹은 4가의 금속 화합물에서 선택되는 금속 화합물을 포함하는 화합물의 조합을 들 수 있다.
바람직한 조합으로는 M으로서 2가의 금속 원자에서 선택되는 금속 원자를 포함하는 화합물과, 3가 혹은 4가의 금속 화합물에서 선택되는 금속 화합물을 포함하는 화합물의 조합을 들 수 있다.
보다 바람직한 조합으로는 M으로서, Cu, Zn, Co, Ni, Pb, Pd, Pt, Mn에서 선택되는 금속 원자를 포함하는 화합물과, VO, TiO에서 선택되는 금속 화합물을 포함하는 화합물의 조합을 들 수 있고, M으로서 Cu를 포함하는 화합물과, VO를 포함하는 화합물을 포함하는 화합물의 조합이 특히 바람직하다.
상기 테트라아자포르피린계 색소가 2종류의 화합물을 포함하는 경우, 그들의 함유 비율은 원하는 내구성이 얻어지는 것이면 되고, 예를 들면, 한쪽의 함유량이 화합물의 합계 100질량부 중에 1질량부 이상 99질량부 이하인 것이 바람직하고, 10질량부 이상 90질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 30질량부 이상 70질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 40질량부 이상 60질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 45질량부 이상 55질량부 이하인 것이 가장 바람직하다. 이들 중심 금속을 포함하는 화합물의 조합임으로써, 습열 내구성 등의 내구성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
테트라아자포르피린계 색소의 함유량으로는 원하는 색 재현성을 얻을 수 있는 것이면 되고, 예를 들면, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소 100질량부 중에 50질량부 이상으로 할 수 있고, 그 중에서도 80질량부 이상인 것이 바람직하며, 특히, 95질량부 이상인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 상기 조성물은 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조할 수 있게 되기 때문이다.
(1-2) 트리아릴메탄계 색소
본 발명에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소가 트리아릴메탄계 색소를 포함하는 것이 바람직하고, 특히, 하기 일반식(301)로 나타내는 색소를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 트리아릴메탄계 색소는 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 범위에 급준한 흡수 피크를 가지고, 흡수 피크의 반값폭이 좁다.
이 때문에, 상기 색소로서 상기 트리아릴메탄계 색소를 사용함으로써, 녹색광 및 적색광 사이의 겹침 영역을 선택적으로 흡수하고, 녹색광 및 적색광 각각의 발광 강도의 저하를 억제할 수 있다. 그 결과, 상기 조성물로부터 색 재현성이 보다 뛰어난 광학 필터를 얻을 수 있는 것이다.
또한, 상기 트리아릴메탄계 색소는 고온환경하에서도 분해되기 어려운 내열성을 가지고, 휘산되기 어려운 내휘산성도 가지기 때문에, 상기 조성물을 사용하여 제조된 광학 필터는 색 재현성 향상 효과를 안정적으로 발휘할 수 있다.
이와 같이, 상기 트리아릴메탄계 색소를 사용함으로써, 상기 조성물은 색 재현성이 뛰어나고, 또한 색 재현성 향상 효과를 안정적으로 발휘할 수 있는 광학 필터를 얻는 것이 가능해진다.
Figure pct00006
(식 중 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309 및 R310은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기 또는 수산기를 나타내거나, 할로겐 원자로 치환되어 있거나 혹은 무치환의 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있거나 혹은 무치환의 탄소 원자수 1~8의 알콕시기를 나타내고,
R311, R312, R313, R314, R315 및 R316은 각각 독립적으로, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 니트로기를 나타내거나, 시아노기, 니트로기, 수산기 혹은 할로겐 원자로 치환되어 있거나 혹은 무치환의 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 비닐기로 치환되어 있거나 혹은 무치환의 페닐기, 또는 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 비닐기로 치환되어 있거나 혹은 무치환의 벤질기를 나타내고,
R301과 R311, R302와 R312, R305와 R313, R306과 R314, R309와 R315 및 R310과 R316은 연결되어 6원환을 형성하고 있는 경우가 있으며,
R311과 R312, R313과 R314, 및 R315와 R316은 연결되어 3~6원환의 복소환을 형성하고 있는 경우가 있고,
R303과 R304 및 R307과 R308은 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR317R318, CO, NR319, PR320 또는 SO2를 개재하여 연결되어 환을 형성하고 있는 경우가 있으며,
R304와 R305, R306과 R307은 연결되어 6원환을 형성하고 있는 경우가 있고,
X는 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR317R318, CO, NR319, PR320 또는 SO2을 나타내고,
R317 및 R318은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있거나 혹은 무치환의 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 또는 할로겐 원자로 치환되어 있거나 혹은 무치환의 탄소 원자수 1~8의 알콕시기를 나타내고,
R319 및 R320은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 할로겐 원자로 치환되어 있거나 혹은 무치환의 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내며,
Anq1-는 q1가의 음이온을 나타내고, q1은 1 또는 2를 나타내며, p1은 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.
즉, 식 중 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309 및 R310은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기 또는 수산기를 나타내거나, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 혹은 상기 알콕시기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내고,
R311, R312, R313, R314, R315 및 R316은 각각 독립적으로, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 니트로기를 나타내거나, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 시아노기, 니트로기, 수산기 혹은 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 페닐기 혹은 상기 페닐기 중의 수소 원자가 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 비닐기로 치환되어 있는 기, 또는 벤질기 혹은 상기 벤질기 중의 수소 원자가 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 비닐기로 치환되어 있는 기를 나타내고,
R301과 R311, R302와 R312, R305와 R313, R306과 R314, R309와 R315 및 R310과 R316은 연결되어 6원환을 형성하고 있어도 되며,
R311과 R312, R313과 R314, 및 R315와 R316은 연결되어 3~6원환의 복소환을 형성하고 있어도 되고,
R303과 R304 및 R307과 R308은 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR317R318, CO, NR319, PR320 또는 SO2를 개재하여 연결되어 환을 형성하고 있어도 되며,
R304와 R305, R306과 R307은 연결되어 6원환을 형성하고 있어도 되고,
X는 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR317R318, CO, NR319, PR320 또는 SO2를 나타내며,
R317 및 R318은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 혹은 상기 알콕시기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내고,
R319 및 R320은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내며,
Anq1-는 q1가의 음이온을 나타내고, q1은 1 또는 2를 나타내며, p1은 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)
상기 일반식(301)에서의 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309, R310, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316 그리고 X가 CR317R318로 나타내질 때의 R317 및 R318, X가 NR319로 나타내질 때의 R319, X가 PR320으로 나타내질 때의 R320으로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로는 상기 R1~R8로 나타내는 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309, R310, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316 그리고 X가 CR317R318로 나타내질 때의 R317 및 R318, X가 NR319로 나타내질 때의 R319, X가 PR320으로 나타내질 때의 R320으로 나타내는, 기 중의 수소 원자가 시아노기, 니트로기, 수산기, 할로겐 원자로 치환되어 있는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로는 상기 탄소 원자수 1~8의 알킬기 중의 수소 원자의 일부 또는 전부가 시아노기, 니트로기, 수산기, 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 들 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309, R310, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316 그리고 X가 CR317R318로 나타내질 때의 R317 및 R318, X가 NR319로 나타내질 때의 R319, X가 PR320으로 나타내질 때의 R320으로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기로는 상기 R1~R8로 나타내는 알콕시기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309, R310, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316 그리고 X가 CR317R318로 나타내질 때의 R317 및 R318, X가 NR319로 나타내질 때의 R319, X가 PR320으로 나타내질 때의 R320으로 나타내는, 기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기로는 상기 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 중의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 들 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309, R310, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316으로 나타내는 할로겐 원자로는 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R311, R312, R313, R314, R315 및 R316으로 나타내는 탄소 원자수 1~4의 알킬기로는 상기 R1~R8로 나타내는 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 들 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R301과 R311, R302와 R312, R305와 R313, R306과 R314, R309와 R315 및 R310과 R316이 연결되어 형성할 수 있는 6원환으로는 피페리딘환, 피리딘환, 피리미딘환, 퀴놀린환, 이소퀴놀린환 등을 들 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R311과 R312, R313과 R314, 및 R315와 R316이 연결되어 형성할 수 있는 3~6원환의 복소환으로는 피페리딘환, 피페라진환, 피롤리딘환, 모르폴린환, 티오모르폴린환, 피리딘환, 피라진환, 피리미딘환, 퀴놀린환, 이소퀴놀린환, 이미다졸환, 옥사졸환, 이미다졸리딘환, 피라졸리딘환, 이소옥사졸리딘환, 이소티아졸리딘환 등을 들 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R304와 R305, R306과 R307이 연결되어 형성할 수 있는 6원환으로는 벤젠환을 들 수 있고, 이들 환은 다른 환과 축합되어 있거나, 치환되어 있어도 된다.
상기 일반식(301) 중의 Anq1-로 나타내는 음이온으로는 예를 들면, 1가의 음이온 또는 2가의 음이온을 들 수 있다.
예를 들면 1가의 음이온으로는 염화물 이온, 브롬화물 이온, 요오드화물 이온, 불화물 이온 등의 할로겐화물 이온; 과염소산 이온, 염소산 이온, 티오시안산 이온, 헥사플루오로인산 이온, 헥사플루오로안티몬산 이온, 테트라플루오로붕산 이온 등의 무기계 음이온; 메탄설폰산 이온, 도데실설폰산 이온, 벤젠설폰산 이온, 톨루엔설폰산 이온, 트리플루오로메탄설폰산 이온, 나프탈렌설폰산 이온, 디페닐아민-4-설폰산 이온, 2-아미노-4-메틸-5-클로로벤젠설폰산 이온, 2-아미노-5-니트로벤젠설폰산 이온, 프탈로시아닌설폰산 이온, 중합성 치환기를 가지는 설폰산 이온, 일본 공개특허공보 특개평10-235999호, 일본 공개특허공보 특개평10-337959호, 일본 공개특허공보 특개평11-102088호, 일본 공개특허공보 특개2000-108510호, 일본 공개특허공보 특개2000-168223호, 일본 공개특허공보 특개2001-209969호, 일본 공개특허공보 특개2001-322354호, 일본 공개특허공보 특개2006-248180호, 일본 공개특허공보 특개2006-297907호, 일본 공개특허공보 특개평8-253705호, 일본 공표특허공보 특표2004-503379호, 일본 공개특허공보 특개2005-336150호, 국제공개공보 WO2006/28006 등에 기재된 설폰산 이온 등의 유기 설폰산계 음이온; 옥틸인산 이온, 도데실인산 이온, 옥타데실인산 이온, 페닐인산 이온, 노닐페닐인산 이온, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)포스폰산 이온 등의 유기 인산계 음이온, 비스트리플루오로메틸설포닐이미드 이온, 비스퍼플루오로부탄설포닐이미드 이온, 퍼플루오로-4-에틸시클로헥산설폰산 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕산 이온, 트리스(플루오로알킬설포닐)카르보 음이온 등을 들 수 있다.
2가의 음이온으로는 예를 들면, 벤젠디설폰산 이온, 나프탈렌디설폰산 이온 등을 들 수 있다. 또한, 여기(勵起) 상태에 있는 활성 분자를 탈(脫)여기시키는 (??칭(quenching)시키는) 기능을 가지는 ??쳐(quencher) 음이온이나 시클로펜타디에닐환에 카르복실기나 포스폰산기, 설폰산기 등의 음이온성 기를 가지는 페로센, 루테오센 등의 메탈로센 화합물 음이온 등도 필요에 따라 사용할 수 있다.
또한, p1은 분자 전체에서 전하가 중성이 되도록 선택된다.
상기의 ??쳐 음이온으로는 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개소60-234892호, 일본 공개특허공보 특개평5-43814호, 일본 공개특허공보 특개평5-305770호, 일본 공개특허공보 특개평6-239028호, 일본 공개특허공보 특개평9-309886호, 일본 공개특허공보 특개평9-323478호, 일본 공개특허공보 특개평10-45767호, 일본 공개특허공보 특개평11-208118호, 일본 공개특허공보 특개2000-168237호, 일본 공개특허공보 특개2002-201373호, 일본 공개특허공보 특개2002-206061호, 일본 공개특허공보 특개2005-297407호, 일본 공고특허공보 특공평7-96334호, 국제공개공보 WO98/29257 등에 기재된 바와 같은 음이온을 들 수 있다.
상기 일반식(301) 중의 Anq1-로 나타내는 음이온으로는 1가의 유기 설폰산계 음이온, 비스트리플루오로메틸설포닐이미드 이온, 비스퍼플루오로부탄설포닐이미드 이온, 퍼플루오로-4-에틸시클로헥산설폰산 이온, 벤젠디설폰산 이온 또는 나프탈렌디설폰산 이온이 내열성의 점에서 바람직하고, 비스트리플루오로메틸설포닐이미드 이온이 더 바람직하다.
상기 음이온으로는 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있다는 관점에서는 상기 무기계 음이온인 것이 바람직하다.
상기 일반식(301)로 나타내는 화합물의 양이온 부분의 구체예로는 국제공개공보 WO2014/196464호에 기재된 화합물 No.1~No.62를 들 수 있다.
본 발명에서는 용매에 대한 용해성의 점에서, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316이 탄소 원자수 1~8의 알킬기 또는 상기 알킬기 중의 수소 원자가 극성 기, 특히 수산기로 치환되어 있는 기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 1~8의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 특히, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기, n-헥실기 등의 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 탄소 원자수 1~5의 직쇄의 알킬기인 것이 바람직하다. 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 범위에 급준한 흡수 피크를 가지고, 흡수 피크의 반값폭이 좁은 것으로 할 수 있기 때문이다.
본 발명에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 범위에 급준한 흡수 피크를 가지고, 흡수 피크의 반값폭이 좁은 것으로 할 수 있는 관점에서, R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309 및 R310이 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 수산기 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자 또는 할로겐 원자인 것이 바람직하다.
본 발명에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 범위에 급준한 흡수 피크를 가지고, 흡수 피크의 반값폭이 좁은 것으로 할 수 있는 관점에서, R304, R307이 할로겐 원자이며, R301, R302, R303, R305, R306, R308, R309 및 R310이 수소 원자인 것이 바람직하다.
또한, X는 입수 용이성의 점에서, 산소 원자 또는 황 원자인 것이 바람직하다.
상기 일반식(301)로 나타내는 화합물의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는데, 예를 들면 국제공개공보 WO2014/196464에 기재된 방법과 동일한 방법을 이용할 수 있다.
상기 트리아릴메탄계 색소의 함유량으로는 원하는 색 재현성을 얻을 수 있는 것이면 되고, 예를 들면, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소 100질량부 중에 50질량부 이상으로 할 수 있고, 그 중에서도 80질량부 이상인 것이 바람직하며, 특히 95질량부 이상인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 상기 조성물은 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조할 수 있게 되기 때문이다.
(1-3) 시아닌계 색소
본 발명에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소가, 시아닌계 색소를 포함하는 것이 바람직하고, 특히, 하기 일반식(401)로 나타내는 색소를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 시아닌계 색소는 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 범위에 급준한 흡수 피크를 가지고, 흡수 피크의 반값폭이 좁다.
이 때문에, 상기 색소로서 상기 시아닌계 색소를 사용함으로써, 녹색광 및 적색광 사이의 겹침 영역을 선택적으로 흡수하고, 녹색광 및 적색광 각각의 발광 강도의 저하를 억제할 수 있다. 그 결과, 상기 조성물로부터 색 재현성이 보다 뛰어난 광학 필터를 얻을 수 있는 것이다.
Figure pct00007
(식 중 환A 및 A'는 각각 독립적으로, 벤젠환, 나프탈렌환, 페난트렌환 또는 피리딘환을 나타내고,
R411 및 R411'는 각각 독립적으로, 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -SO3H, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 메탈로세닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내며,
X411 및 X411'는 각각 독립적으로, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, -CR423R424-, 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기 또는 -NR425-를 나타내고,
R423, R424 및 R425는 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -SO3H, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 메탈로세닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내며,
Y411 및 Y411'는 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -SO3H, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 혹은 메탈로세닐기로 치환되어 있는 경우가 있는 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기 혹은 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
Q는 탄소 원자수 1~9의 메틴 사슬을 구성하고, 사슬 중에 환 구조를 포함하고 있는 경우가 있는 연결기를 나타내며,
r2 및 r2'는 0 또는 환A 및 환A'에서 치환 가능한 수를 나타내고,
Anq2-는 q2가의 음이온을 나타내고, q2는 1 또는 2를 나타내며, p2는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411', X411, X411', R423, R424, R425, Q, RR'로 나타내는 기로는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 것으로 할 수 있는 것이면 제한은 없고, 각각, 일본 공개특허공보 특개2017-095558호에 기재된 R11, R11', Y11, Y11', X11, X11', R23, R24 및 R25, Q, RR'로 나타내는 기와 동일한 기를 들 수 있다.
예를 들면, 상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 할로겐 원자로는 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 아미노기로는 상기 R1~R8로 나타내는 아미노기를 들 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 아미드기로는 포름아미드, 아세트아미드, 에틸아미드, 이소프로필아미드, 부틸아미드, 옥틸아미드, 노닐아미드, 데실아미드, 운데실아미드, 도데실아미드, 헥사데실아미드, 옥타데실아미드, (2-에틸헥실)아미드, 벤즈아미드, 트리플루오로아세트아미드, 펜타플루오로벤즈아미드, 디포름아미드, 디아세트아미드, 디에틸아미드, 디이소프로필아미드, 디부틸아미드, 디옥틸아미드, 디노닐아미드, 디데실아미드, 디운데실아미드, 디도데실아미드, 디(2-에틸헥실)아미드, 디벤즈아미드, 디트리플루오로아세트아미드, 디펜타플루오로벤즈아미드 등을 들 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 메탈로세닐기로는 페로세닐, 니켈로세닐, 지르코노세닐, 티타노세닐, 하프노세닐 등을 들 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는 상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴기와 동일한 기를 사용할 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기로는, 벤질, 페네틸, 2-페닐프로판-2-일, 디페닐메틸, 트리페닐메틸, 스티릴, 신나밀, 페로세닐메틸, 페로세닐프로필 등을 들 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로는 상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
상기 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기 등의 기는 상기 기 중의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -SO3H기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 또는 메탈로세닐기로 치환되어 있는 경우가 있다.
R411, R411', Y411, Y411', R423, R424 및 R425로 나타내는 아릴기, 아릴알킬기, 알킬기의 수소 원자를 치환해도 되는 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기 및 메탈로세닐기로는 R411 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있다.
또한, 상기 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425에서의 아릴알킬기 및 알킬기 등의 기는 상기 기 중의 메틸렌기의 하나 또는 2개 이상이, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO2-, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N=CH- 또는 이중 결합으로 치환되어 있는 경우가 있다.
상기 일반식(401)에서, X411 및 X411'로 나타내는 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기로는 시클로프로판-1,1-디일, 시클로부탄-1,1-디일, 2,4-디메틸시클로부탄-1,1-디일, 3,3-디메틸시클로부탄-1,1-디일, 시클로펜탄-1,1-디일, 시클로헥산-1,1-디일 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 상기 R411, R411'가 니트로기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에, 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 합성이 용이하기 때문이다.
본 발명에서는 상기 Y411, Y411'가 탄소 원자수 1~8의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수 2~7의 알킬기인 것이 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 4~6의 알킬기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 합성이 용이하기 때문이다.
또한, 상기 Y411, Y411'가 알킬기인 경우, 직쇄의 알킬기여도 되는데, 분기의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 3,3-디메틸부틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기 등의 탄소 원자수 4~6의 분기의 알킬기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 합성이 용이하기 때문이다.
본 발명에서는 상기 X411 및 X411'가 -CR423R424-인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 합성이 용이하기 때문이다.
본 발명에서는 상기 R423, R424 및 R425가 탄소 원자수 1~8의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하며, 특히, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기 등의 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 합성이 용이하기 때문이다.
본 발명에서는 상기 환A 및 환A'가 벤젠환 또는 나프탈렌환인 것이 바람직하고, 그 중에서도 벤젠환인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 합성이 용이하기 때문이다.
상기 일반식(401)에서의 Q로 나타내는, 탄소 원자수 1~9의 메틴 사슬을 구성하고, 사슬 중에 환 구조를 포함하는 경우가 있는 연결기로는 하기 (Q-1)~(Q-11)로 나타내는 기가 제조가 용이하기 때문에 바람직하다. 탄소 원자수 1~9의 메틴 사슬에서의 탄소 원자수에는 메틴 사슬 및 메틴 사슬 중에 포함되는 환 구조를 더 치환하는 기의 탄소 원자(예를 들면, 연결기(Q-1)~(Q-11)에서의 양 말단의 탄소 원자, Z' 또는 R14~R19가 탄소 원자를 포함하는 경우에는 그 탄소 원자)를 포함하지 않는다.
Figure pct00008
(식 중 R14, R15, R16, R17, R18, R19 및 Z'는 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기, -NRR', 아릴기, 아릴알킬기 또는 알킬기를 나타내고, -NRR', 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기의 수소 원자는 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 -NRR'로 치환되어 있어도 되며, -NRR', 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기 중의 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO2-, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N=CH- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있어도 되고,
R 및 R'는 아릴기, 아릴알킬기 또는 알킬기를 나타내며,
*는 결합 부분을 나타낸다.)
상기 R14, R15, R16, R17, R18, R19 및 Z'로 나타내는 할로겐 원자, 아릴기, 아릴알킬 또는 알킬기로는 R411 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있고, R 및 R'로 나타내는 아릴기, 아릴알킬기 또는 알킬기로는 R411 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있다.
Q로 나타내는 탄소 원자수 1~9의 메틴 사슬의 수소 원자를 치환하고 있어도 되는 아릴기, 아릴알킬기, 알킬기, 및 할로겐 원자로는 R411 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있고, 이들 아릴기, 아릴알킬기, 알킬기의 수소 원자를 치환해도 되는 할로겐 원자로는 R11 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있다.
본 발명에서는 상기 Q로 나타내는, 탄소 원자수 1~9의 메틴 사슬이 상기 일반식(Q-1)로 나타내는 기인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 합성이 용이하기 때문이다.
본 발명에서는 상기 Z'가 수소 원자, 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 합성이 용이하기 때문이다.
상기 일반식(401) 중의 Anq2-로 나타내는 q2가의 음이온으로는 상기 Anq1-의 설명에서 예시한 음이온을 들 수 있다.
본 발명에서 사용되는 시아닌계 색소의 구체예로는 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개2017-095558호에 기재된 화합물 No.1~104를 들 수 있다.
상기 시아닌계 색소의 함유량으로는 원하는 색 재현성을 얻을 수 있는 것이면 제한은 없고, 예를 들면, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소 100질량부 중에 50질량부 이상으로 할 수 있고, 그 중에서도 80질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 95질량부 이상인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 상기 조성물은 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조할 수 있게 되기 때문이다.
(1-4) 기타
550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소에 사용되는 상기 시아닌계 색소, 메로시아닌계 색소, 피로메텐계 색소, 아조계 색소, 크산텐계 색소, 트리아릴메탄계 색소 등에 대해서는 공지의 색소를 사용할 수 있고, 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개2017-68221호에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소에 포함되는 색소의 종류로는 종류가 다른 2종류 이상이어도 되는데, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 범위에 급준한 흡수 피크를 가지고, 흡수 피크의 반값폭을 좁은 것으로 하는 관점에서는 1종류인 것이 바람직하다. 여기서, 종류가 다르다는 것은 최대 흡수 파장 및 반값폭 중 적어도 한쪽이 다른 것을 말하는 것이다.
550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소는 테트라아자포르피린계 색소만 포함하는 경우 등, 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소에서 선택되는 1종류의 색소를 포함하는 것이어도 되고, 테트라아자포르피린계 색소 및 트리아릴메탄계 색소를 포함하는 경우 등, 2종류 이상의 색소를 포함하는 것이어도 되지만, 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소에서 선택되는 1종류의 색소를 포함하는 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소의 함유량으로는 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조 가능한 것이라면 문제는 없고, 상기 조성물의 용도 등에 따라 적절히 설정되는 것인데, 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 0.1질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 상기 조성물을 사용하여 얻어지는 광학 필터는 원하는 파장범위에서 충분한 흡수능을 발휘하고, 박막화가 용이해진다. 또한, 상기 조성물은 색소를 조성물 중에 균일하게 용해·분산시키는 것이 용이해지기 때문이다.
한편, 고형분이란, 용제 이외의 모든 성분을 포함하는 것이다.
또한, 본 명세서에서 특별히 언급이 없는 경우에는 함유량은 질량기준이다.
상기 용제로는 유기 용제(이하, 용매라고 칭하는 경우가 있음.) 및 물을 들 수 있다.
550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소의 함유량으로는 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는, 광학 필터 등에 사용되는 경화물을 제조 가능한 것이라면 문제는 없고, 상기 조성물의 용도 등에 따라 적절히 설정되는 것인데, 조성물 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 0.2질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소의 함유량으로는 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있는 것이라면 문제는 없고, 상기 조성물의 용도 등에 따라 적절히 설정되는 것인데, 양이온 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.02질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 0.05질량부 이상 4질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.05질량부 이상 3.5질량부 이하인 것이 더 바람직하며, 0.1질량부 이상 3.5질량부 이하인 것이 특히 바람직하고, 0.3질량부 이상 3.5질량부 이하인 것이 가장 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소의 함유량으로는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 포함하는 전체 색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제의 합계 100질량부 중에 0.1질량부 이상 15질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 0.2질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히, 0.3질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소는 다른 파장역에 최대 흡수 파장을 가지는 색소와 조합하여 사용할 수도 있다.
즉, 본 발명의 조성물은 색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제를 포함하고, 상기 색소가 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소 및 다른 파장역에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 포함하는 것으로 할 수 있다.
이 경우, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소 및 다른 파장역에 최대 흡수 파장을 가지는 색소의 합계의 함유량, 즉 상기 조성물에 포함되는 색소 전체의 함유량에 대해서는 상기 조성물의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있는데, 예를 들면, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소의 함유량 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
구체적으로는 상기 색소 전체의 함유량은 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 0.1질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다.
또한, 색소 전체의 함유량은 조성물 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 0.2질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다.
색소 전체의 함유량은 양이온 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.02질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.05질량부 이상 4질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.05질량부 이상 3.5질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 0.1질량부 이상 3.5질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 0.3질량부 이상 3.5질량부 이하인 것이 가장 바람직하다.
색소 전체의 함유량은 색소 전체와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제의 합계 100질량부 중에 0.1질량부 이상 15질량부 이하로 할 수 있고, 0.2질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 0.3질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하다.
상기 색소 전체의 함유량이 상술의 범위임으로써 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
본 발명에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조할 수 있는 관점에서, 다른 파장역에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 포함하지 않는 것이 바람직하고, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소의 함유량이 조성물에 포함되는 색소 전체 합계량 100질량부 중에 50질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 80질량부 이상인 것이 바람직하며, 90질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 95질량부 이상인 것이 더 바람직하며, 특히, 100질량부인 것, 즉 상기 조성물이 색소로서, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소만을 포함하는 것이 바람직하다.
(2) 기타 색소
상기 색소는 원하는 흡수 파장 범위에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들면, 시아닌계 색소, 메로시아닌계 색소, 피로메텐계 색소, 아조계 색소, 테트라아자포르피린계 색소, 크산텐계 색소, 트리아릴메탄계 색소 등의 공지의 색소를 사용할 수 있다.
또한, 상기 기타 색소에 포함되는 색소의 종류는 1종류여도 되고 2종류 이상이어도 지장이 없다.
한편, 상기 기타 색소의 함유량 등의 기타 사항에 대해서는 상기 "(1) 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
2. 양이온 중합성 화합물
상기 양이온 중합성 화합물은 산 발생제에 의해 중합 반응 또는 가교 반응을 일으키는 화합물이면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니다.
이와 같은 양이온 중합성 화합물로는 예를 들면, 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물 등의 환상 에테르 화합물, 환상 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물 및 비닐에테르 화합물 등을 들 수 있다. 양이온 중합성 화합물로서, 이들에서 선택되는 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
본 발명에서는 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지게 되는 것 및 기재와의 밀착성이 양호해지는 관점에서, 상기 양이온 중합성 화합물이 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물 중 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 양이온 중합성 화합물은 1종류의 화합물만이어도 되지만, 2종류 이상의 화합물을 포함하는 것이어도 된다.
상기 조성물이 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조할 수 있게 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물이 기재와의 밀착성이 뛰어난 광학 필터를 용이하게 제조할 수 있게 되기 때문이다.
한편, 2종류 이상의 화합물을 포함하는 예로는 구조, 분자량 등이 다른 양이온 중합성 화합물에 2종류 이상 포함하는 것을 들 수 있다.
상기 구조가 다른 조합으로는 예를 들면, 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물 양자를 포함하는 것과 같이, 상술의 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 환상 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물, 비닐 화합물 등의 다른 분류로부터 2종류 이상을 조합한 것을 들 수 있다.
상기 구조가 다른 조합으로는 예를 들면, 에폭시 화합물로서 지방족 에폭시 화합물 및 지환족 에폭시 화합물을 포함하는 것, 에폭시 화합물로서 지방족 에폭시 화합물 및 방향족 에폭시 화합물을 포함하는 것, 방향족 에폭시 화합물 및 지환족 에폭시 화합물을 포함하는 것 등과 같이, 방향족 에폭시 화합물, 지환족 에폭시 화합물 및 지방족 에폭시 화합물에서 선택되는 2종류 이상을 조합한 것을 들 수 있다.
상기 분자량 등이 다른 조합으로는 예를 들면, 에폭시 화합물로서, 분자량이 다른 2종류의 지방족 에폭시 화합물을 조합한 것 등을 들 수 있다.
상기 에폭시 화합물은 에폭시 구조를 포함하는 것 모두가 해당하는 것으로 할 수 있다. 예를 들면, 에폭시 구조 및 옥세탄 구조 양자를 포함하는 화합물은 에폭시 화합물에 해당하는 것으로 할 수 있다.
이와 같은 에폭시 화합물로는 예를 들면, 방향족 에폭시 화합물, 지환족 에폭시 화합물, 지방족 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.
상기 지환족 에폭시 화합물의 구체예로는 적어도 1개의 지환족 환(지방족 환이라고도 함.)을 가지는 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르 또는 시클로헥센이나 시클로펜텐환 함유 화합물을 산화제로 에폭시화함으로써 얻어지는 시클로헥센옥사이드나 시클로펜텐옥사이드 함유 화합물을 들 수 있다.
상기 지환족 에폭시 화합물 중에서도 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 에폭시 수지는 경화가 빨라서 바람직하다.
상기 지환족 에폭시 화합물로는 하기 일반식(5-1)로 나타내는 화합물과 같은, 2개 이상의 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다.
이와 같은 화합물을 포함함으로써, 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
Figure pct00009
(식 중 X5는 직접 결합 또는 연결기(1개 이상의 원자를 가지는 2가의 기)를 나타낸다.)
X5로 나타내는 연결기로는 예를 들면, 2가의 탄화수소기, 탄소-탄소 이중 결합의 일부 또는 전부가 에폭시화된 알케닐렌기, 카르보닐기, 에테르 결합, 에스테르 결합, 카보네이트기, 아미드기, 및 이들이 복수 연결된 기 등을 들 수 있다.
상기 2가의 탄화수소기로는 직쇄 혹은 분기의, 또는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 1~20의 알킬렌기를 들 수 있다.
상기 직쇄 또는 분기의 알킬렌기로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 아밀기, 이소아밀기, t-아밀기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 이소옥틸기, 2-에틸헥실기, t-옥틸기, 노닐기, 이소노닐기, 데실기, 이소데실기, 운데실기, 도데실기, 테트라데실기, 헥사데실기, 옥타데실기, 이코실기 등의, 탄소 원자수 1~20의 직쇄 또는 분기의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제외한 기를 들 수 있다.
상기 2가의 탄화수소기로서의, 탄소 원자수 1~20의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기로는 메틸렌기, 메틸메틸렌기, 디메틸메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기 등을 들 수 있다.
상기 시클로알킬환으로는 단환식 탄화수소기, 가교 탄화수소환기 등을 들 수 있다.
상기 단환식 탄화수소기로는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 메틸시클로펜틸기, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 트리메틸시클로헥실기, 테트라메틸시클로헥실기, 펜타메틸시클로헥실기, 에틸시클로헥실기, 메틸시클로헵틸기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기를 들 수 있다.
상기 가교 탄화수소환기로는 비시클로[2.1.1]헥실기, 비시클로[2.2.1]헵틸기, 비시클로[2.2.2]옥틸기, 비시클로[4.3.1]데실기, 비시클로[3.3.1]노닐기, 보닐기, 보네닐기, 노보닐기, 노보네닐기, 6,6-디메틸비시클로[3.1.1]헵틸기, 트리시클로부틸기, 아다만틸기를 들 수 있다.
X5로 나타내는 시클로알킬환을 가지는 알킬기로는 상기 시클로알킬기와 상기 직쇄 또는 분기의 알킬기를 조합한 기를 들 수 있다. 예를 들면, 직쇄 또는 분기의 알킬기 중의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 상기 시클로알킬기로 치환된 기, 직쇄 또는 분기의 알킬기 중의 메틸렌기의 하나 또는 2개 이상이 상기 시클로알킬기로부터 수소 원자를 하나 제외한 기로 치환된 기, 상기 시클로알킬기의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 상기 직쇄 또는 분기의 알킬기로 치환된 기 등을 들 수 있다.
구체적으로는, 예를 들면, 1,2-시클로펜틸렌기, 1,3-시클로펜틸렌기, 시클로펜틸리덴기, 1,2-시클로헥실렌기, 1,3-시클로헥실렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 시클로헥실리덴기 등의 시클로알킬렌기(시클로알킬리덴기를 포함함) 등을 들 수 있다.
상기 탄소-탄소 이중 결합의 일부 또는 전부가 에폭시화된 알케닐렌기(이하, "에폭시화알케닐렌기"라고 칭하는 경우가 있음.)에서의 알케닐렌기로는 예를 들면, 비닐렌기, 프로페닐렌기, 1-부테닐렌기, 2-부테닐렌기, 부타디에닐렌기, 펜테닐렌기, 헥세닐렌기, 헵테닐렌기, 옥테닐렌기 등의 탄소 원자수 2~8의 직쇄 또는 분기쇄상의 알케닐렌기 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 X5가 연결기인 것이 바람직하고, 2가의 탄화수소기, 에스테르 결합, 또는 이들이 복수 연결된 기인 것이 바람직하며, 특히, 2가의 탄화수소기와 에스테르 결합이 연결된 기인 것이 바람직하다. 이와 같은 화합물을 사용함으로써, 본 발명의 효과를 보다 효과적으로 얻을 수 있기 때문이다.
또한, 본 발명에서는 X5로 나타내는 2가의 탄화수소기가, 탄소 원자수 1~18의 직쇄 또는 분기의 알킬기로부터 수소 원자를 하나 제외한 알킬렌기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 1~8의 직쇄 또는 분기의 알킬기로부터 수소 원자를 하나 제외한 알킬렌기인 것이 보다 바람직하며, 탄소 원자수 1~5의 직쇄의 알킬기로부터 수소 원자를 하나 제외한 알킬렌기인 것이 더 바람직하고, 특히 탄소 원자수 1~3의 직쇄의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제외한 알킬렌기인 것이 바람직하다. 상기 탄소 원자수가 상술의 범위 내임으로써 본 발명의 효과를 보다 양호하게 발휘할 수 있기 때문이다.
상기 지환족 에폭시 화합물로는 하기 일반식(5-2)로 나타내는 화합물도 바람직하게 사용할 수 있다. 상기 화합물을 사용함으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
Figure pct00010
(식 중 Y5는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 6~30의 알킬렌기를 나타낸다.)
Y5로 나타내는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기로는 상기 X5로 나타내는 시클로알킬환을 가지는 알킬렌기와 동일한 기를 사용할 수 있다.
본 발명에서는 Y5가 시클로알킬환을 2개 가지는 탄소 원자수가 13~20의 알킬렌기인 것이 바람직하고, 하기 일반식(5-3)으로 나타내는 기인 것이 보다 바람직하다. Y5가 상술의 구조를 가짐으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
Figure pct00011
(식 중 R5a 및 R5b는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, *는 결합 부분을 나타낸다.)
상기 일반식(5-2)로 나타내는 지환족 에폭시 화합물로는 구체적으로는, 수소첨가 비스페놀의 디올의 디글리시딜에테르화물, 수소첨가 비스페놀A디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀AF디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀B디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀C디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀E디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀F디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀G디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀M디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀S디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀P디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀TMC디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀Z디글리시딜에테르, 비스[4-(글리시딜옥시)시클로헥실]에테르, 4,4'-비시클로헥산올디글리시딜에테르 등도 들 수 있다.
상기 지환족 에폭시 화합물로는 예를 들면, 수소첨가 비스페놀A디글리시딜에테르, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-1-메틸시클로헥실-3,4-에폭시-1-메틸헥산카르복실레이트, 6-메틸-3,4-에폭시시클로헥실메틸-6-메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-3-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-3-메틸시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-5-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-5-메틸시클로헥산카르복실레이트, 2-(3,4-에폭시시클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)시클로헥산-메타디옥산, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실카르복실레이트, 메틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산), 디시클로펜타디엔디에폭사이드, 에틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트), 에폭시헥사하이드로프탈산디옥틸, 에폭시헥사하이드로프탈산디-2-에틸헥실, 1-에폭시에틸-3,4-에폭시시클로헥산, 1,2-에폭시-2-에폭시에틸시클로헥산, 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
한편, 지환족환 및 방향족환 양자를 포함하는 것은 지환족 에폭시 화합물에 해당하는 것으로 할 수 있다.
지환족 에폭시 화합물로는 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-1-메틸시클로헥실-3,4-에폭시-1-메틸헥산카르복실레이트 등이 바람직하다. 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 지환족 에폭시 화합물로서, 2,2-비스(하이드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물 등의 에폭시시클로알킬환에서 유래하는 시클로알킬환에 옥시라닐기가 직접 단결합으로 결합한 구조를 구성 단위로서 가지고, 에폭시시클로알킬환의 에폭시기끼리가 중합한 구조를 메인 사슬 구조로 가지는 화합물도 사용할 수 있다.
상기 지환족 에폭시 화합물로 알맞게 사용할 수 있는 시판품으로는 예를 들면, 일본 특허공보 특허 제6103653호 등에 기재되는 것을 들 수 있다.
상기 지환족 에폭시 화합물의 함유량으로는 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있는 것이라면 제한은 없는데, 예를 들면, 상기 양이온 중합성 화합물 100질량부 중에 40질량부 이상인 것이 바람직하고, 50질량부 이상인 것이 바람직하다.
상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻는 것이 가능해지는 관점에서 바람직하다.
상기 방향족 에폭시 화합물의 구체예로는 적어도 1개의 방향족 환을 가지는 다가 페놀 또는, 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르, 예를 들면 비스페놀A, 비스페놀F, 또는 이들에 추가로 알킬렌옥사이드를 부가한 화합물의 글리시딜에테르나 에폭시노볼락 수지 등을 들 수 있다.
또한, 상기 방향족 에폭시 화합물의 구체예로는 레조르시놀이나 하이드로퀴논, 카테콜 등의 2개 이상의 페놀성 수산기를 가지는 방향족 화합물의 글리시딜에테르; 벤젠디메탄올이나 벤젠디에탄올, 벤젠디부탄올 등의 알코올성 수산기를 2개 이상 가지는 방향족 화합물의 폴리글리시딜에테르화물; 프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산 등의 2개 이상의 카르복실산을 가지는 다염기산 방향족 화합물의 폴리글리시딜에스테르, 안식향산이나 톨루일산, 나프토에산 등의 안식향산류의 폴리글리시딜에스테르, 안식향산의 글리시딜에스테르, 스티렌옥사이드 또는 디비닐벤젠의 에폭시화물 등을 들 수 있다.
그 중에서도 페놀류의 폴리글리시딜에테르, 알코올성 수산기를 2개 이상 가지는 방향족 화합물의 폴리글리시딜에테르화물, 다가 페놀류의 폴리글리시딜에테르화물, 안식향산류의 폴리글리시딜에스테르, 다염기산류의 폴리글리시딜에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하고, 특히, 알코올성 수산기를 2개 이상 가지는 방향족 화합물의 폴리글리시딜에테르화물인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 방향족 에폭시 화합물의 함유량으로는 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있는 것이면 되는데, 예를 들면, 상기 양이온 중합성 화합물 100질량부 중에 0질량부 이상 60질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 10질량부 이상 50질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
또한, 상기 지방족 에폭시 화합물의 구체예로는 지방족 다가 알코올 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르, 지방족 장쇄 다염기산의 폴리글리시딜에스테르, 글리시딜아크릴레이트 또는 글리시딜메타크릴레이트의 비닐 중합에 의해 합성한 호모 폴리머, 글리시딜아크릴레이트 또는 글리시딜메타크릴레이트와 기타 비닐 모노머의 비닐 중합에 의해 합성한 코폴리머 등을 들 수 있다.
상기 지방족 에폭시 화합물로서의 다관능 에폭시 화합물에 사용되는, 디올의 디글리시딜에테르로는 하기 일반식(5-4)로 나타내는 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다. 상기 화합물을 사용함으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
Figure pct00012
(식 중 Y6은 탄소 원자수 1~30의 직쇄 또는 분기의 2가의 알킬렌기를 나타낸다.)
Y6으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기로는 상기 X5에 사용되는 탄소 원자수 1~30의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기와 동일한 기를 사용할 수 있다. 또한, 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기의 메틸렌기의 하나 또는 2개 이상은 -O-로 치환되어 있어도 된다.
본 발명에서는 Y6이 분기를 가지는 기인 것이 바람직하다. 상기 구조를 가짐으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
본 발명에서는 Y6이 탄소 원자수 2~30의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 3~28의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기인 것이 보다 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 4~26의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기인 것이 바람직하다. 또한, Y6이, 메틸렌기가 -O-로 치환되지 않은 알킬렌기인 경우, 그 탄소 원자수는 4~10인 것이 바람직하다. 상기 Y6이 메틸렌기가 -O-로 치환되어 있는 알킬렌기인 경우, Y6은 탄소 원자수가 10~26이며, 폴리알킬렌글리콜로부터 양 말단의 수산기를 제외한 구조를 가지는 알킬렌기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수가 10~26이며, 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리프로필렌글리콜로부터 양 말단의 수산기를 제외한 구조를 가지는 알킬렌기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
상기 일반식(5-4)로 나타내는 지방족 디올 화합물의 디글리시딜에테르화물로는 구체적으로는 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 디프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르 등의 폴리알킬렌글리콜의 디글리시딜에테르화물, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 시클로헥산디메틸올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 1,9-노난디올디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.
상기 지방족 에폭시 화합물은 대표적인 화합물로서, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린의 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판의 트리글리시딜에테르, 소르비톨의 테트라글리시딜에테르, 디펜타에리트리톨의 헥사글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜의 디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜의 디글리시딜에테르 등의 다가 알코올의 글리시딜에테르, 또한 프로필렌글리콜, 트리메틸올프로판, 글리세린 등의 지방족 다가 알코올에 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 폴리에테르폴리올의 폴리글리시딜에테르, 지방족 장쇄 이염기산의 디글리시딜에스테르를 들 수 있다. 더욱이, 지방족 고급 알코올의 모노글리시딜에테르나 페놀, 크레졸, 부틸페놀, 또한 이들에 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 폴리에테르알코올의 모노글리시딜에테르, 고급지방산의 글리시딜에스테르, 에폭시화 대두유, 에폭시스테아르산옥틸, 에폭시스테아르산부틸, 에폭시화폴리부타디엔 등을 들 수 있다.
한편, 지방족 에폭시 수지는 지환족 환 및 방향족 환을 포함하지 않는 것으로 할 수 있다.
상기 지방족 에폭시 화합물의 함유량으로는 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있는 것이라면 제한은 없는데, 예를 들면, 상기 양이온 중합성 화합물 100질량부 중에 0질량부 이상 50질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 0질량부 이상 40질량부 이하인 것이 바람직하고, 10질량부 이상 35질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 방향족 및 지방족 에폭시 화합물로서 알맞게 사용할 수 있는 시판품으로는 예를 들면, 일본 특허공보 특허 제6103653호 등에 기재되는 것을 들 수 있다.
상기 옥세탄 화합물로는 옥세탄 구조를 가지고, 에폭시 구조를 포함하지 않는 것으로 할 수 있다.
이와 같은 옥세탄 화합물의 구체예로는 예를 들면, 3-에틸-3-하이드록시메틸옥세탄, 3-(메타)알릴옥시메틸-3-에틸옥세탄, (3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸벤젠, 4-플루오로-[1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 4-메톡시-[1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, [1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)에틸]페닐에테르, 이소부톡시메틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 이소보닐옥시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 이소보닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-에틸헥실(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 에틸디에틸렌글리콜(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜타디엔(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜테닐옥시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜테닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라하이드로푸르푸릴(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라브로모페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-테트라브로모페녹시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리브로모페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-트리브로모페녹시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-하이드록시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-하이드록시프로필(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 부톡시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타클로로페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타브로모페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 보닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 3,7-비스(3-옥세타닐)-5-옥사-노난, 3,3'-(1,3-(2-메틸레닐)프로판디일비스(옥시메틸렌))비스-(3-에틸옥세탄), 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 1,2-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에탄, 1,3-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]프로판, 에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜테닐비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리시클로데칸디일디메틸렌(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리메틸올프로판트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 1,4-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)부탄, 1,6-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)헥산, 펜타에리트리톨트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타에리트리톨테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 폴리에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨헥사키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨펜타키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디트리메틸올프로판테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, PO 변성 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 수소첨가 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, PO 변성 수소첨가 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 비스페놀F(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르 등을 예시할 수 있다.
상기 옥세탄 화합물의 함유량으로는 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있는 것이라면 제한은 없는데, 예를 들면, 상기 양이온 중합성 화합물 100질량부 중에 0질량부 이상 60질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 10질량부 이상 50질량부 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 10질량부 이상 40질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 양이온 중합성 화합물로는 티이란 화합물, 티에탄 화합물 등의 기타 화합물을 사용할 수 있다.
이와 같은 양이온 중합성 화합물로 사용할 수 있는, 기타 화합물, 환상 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물, 그리고 비닐에테르 화합물 및 에틸렌성 불포화 화합물 등의 비닐 화합물 등에 대해서는 일본 특허공보 특허제6103653호 등에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 양이온 중합성 화합물은 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있는 것이라면 문제는 없고, 예를 들면, 저분자량 화합물, 고분자량 화합물 모두 사용할 수 있다.
상기 양이온 중합성 화합물은 조성물의 코팅 용이성 등의 관점에서는 저분자량 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 저분자량 화합물은 조성물 중에 대한 분산성 또는 용해성 등이 뛰어나서, 투명성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
상기 양이온 중합성 화합물은 경화물의 밀착성 등의 관점에서는 고분자량 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.
본 개시에서는 상기 양이온 중합성 화합물이 코팅성 등의 관점에서, 적어도 저분자량 화합물을 포함하는 것이 바람직한데, 조성물의 코팅 용이성, 경화물의 밀착성 등의 밸런스의 관점에서는 상기 저분자량 화합물 및 상기 고분자량 화합물 양자를 포함하는 것으로 해도 지장이 없다.
상기 저분자량 화합물의 분자량으로는 원하는 코팅성 등이 얻어지는 것이라면 제한은 없고, 예를 들면, 1000 이하로 할 수 있고, 50 이상 500 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 50 이상 300 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물의 코팅성, 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
상기 고분자량 화합물의 분자량은 원하는 접착 용이성 등이 얻어지는 것이라면 제한은 없고, 예를 들면, 1000보다 큰 것으로 할 수 있고, 1000 이상 50000 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 1000 이상 10000 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물의 코팅성, 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
한편, 이하, 분자량은 화합물이 중합체인 경우에는 중량 평균 분자량(Mw)을 나타내는 것이다.
또한, 중량 평균 분자량은 겔투과 크로마토그래피(GPC)에 의해, 표준 폴리스티렌 환산값으로서 구할 수 있다.
상기 중량 평균 분자량 Mw는 예를 들면, 니혼분코(주) 제품의 GPC(LC-2000 plus 시리즈)를 이용하고, 용출 용제를 테트라하이드로푸란으로 하며, 교정 곡선용 폴리스티렌 스탠다드를 Mw1110000, 707000, 397000, 189000, 98900, 37200, 13700, 9490, 5430, 3120, 1010, 589(도소(주) 제품 TSK gel 표준 폴리스티렌)로 하고, 측정 칼럼을 KF-804, KF-803, KF-802(쇼와 덴코(주) 제품)로 하여 측정하여 얻을 수 있다.
또한, 측정 온도는 40℃로 할 수 있고, 유속은 1.0㎖/분으로 할 수 있다.
상기 저분자량 화합물의 함유량은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 것이라면 제한은 없고, 예를 들면, 양이온 중합성 화합물 100질량부 중에 10질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 30질량부 이상인 것이 바람직하며, 특히, 50질량부 이상인 것이 바람직하고, 60질량부 이상인 것이 바람직하며, 65질량부 이상인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 형성할 수 있기 때문이다.
상기 양이온 중합성 화합물의 함유량으로는 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터 등이 얻어지는 것이라면 문제는 없고, 예를 들면, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50질량부 이상으로 할 수 있고, 50질량부 이상 99질량부 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 70질량부 이상 95질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 85질량부 이상 95질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조할 수 있게 되기 때문이다.
상기 양이온 중합성 화합물의 함유량으로는 상기 조성물 중의 수지 성분 100질량부 중에 50질량부 이상으로 할 수 있고, 80질량부 이상인 것이 바람직하고, 그 중에서도 90질량부 이상인 것이 바람직하며, 특히 95질량부 이상인 것이 바람직하다. 또한, 100질량부인 것, 즉 수지 성분으로서 상기 양이온 중합성 화합물만 포함하는 것이어도 된다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻을 수 있다. 또한, 상기 조성물은 색소의 유지 성능 등의 내구성, 강도 등이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
한편, 상기 양이온 중합성 화합물 이외의 상기 수지 성분으로는 중축합 가능한 화합물 및 그 중축합물 등을 들 수 있다.
상기 중축합 가능한 화합물로는 양이온 중합성 화합물 이외의 라디칼 중합성 화합물 등을 포함할 수 있다. 또한, 후술할 중축합물을 구성하는 모노머 성분도 들 수 있다.
상기 라디칼 중합성 화합물은 라디칼 중합성 기를 가지는 것이다.
상기 라디칼 중합성 기로는 라디칼에 의해 중합 가능한 것이라면 제한은 없고, 예를 들면, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기 등의 에틸렌성 불포화기 등을 들 수 있다.
상기 라디칼 중합성 화합물은 라디칼 중합성 기를 1개 이상 가지는 것으로 할 수 있고, 라디칼 중합성 기를 1개 가지는 단관능 화합물, 라디칼 중합성 기를 2개 이상 가지는 다관능 화합물을 사용할 수 있다.
상기 라디칼 중합성 화합물로는 산가를 가지는 화합물, 산가를 가지지 않는 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 산가를 가지는 화합물로는 예를 들면, 메타크릴산, 아크릴산 등의 카르복실기 등을 가지는 아크릴레이트 화합물, 메타크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다.
상기 산가를 가지지 않는 화합물로는 우레탄아크릴레이트 수지, 우레탄메타크릴레이트 수지, 에폭시아크릴레이트 수지, 에폭시메타크릴레이트 수지, 아크릴산-2-하이드록시에틸, 메타크릴산-2-하이드록시에틸 등의 카르복실기 등을 가지지 않는 아크릴레이트 화합물, 메타크릴레이트 화합물을 들 수 있다.
상기 라디칼 중합성 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 예를 들면, 라디칼 중합성 화합물은 에틸렌성 불포화기를 가지며 산가를 가지는 화합물 및 에틸렌성 불포화기를 가지며 산가를 가지지 않는 화합물을 조합하여 사용할 수 있다.
라디칼 중합성 화합물은 2종 이상을 혼합하여 사용하는 경우에는 그것들을 미리 공중합하여 공중합체로 사용할 수 있다.
이와 같은 라디칼 중합성 화합물 등으로는 보다 구체적으로는 일본 공개특허공보 특개2016-176009호에 기재된 라디칼 중합성 화합물 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 원하는 파장영역의 광 흡수성이 뛰어난 경화물을 형성할 수 있게 되는 관점에서 상기 라디칼 중합성 화합물의 함유량이 적은 것이 바람직하다.
상기 라디칼 중합성 화합물의 함유량으로는 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 1질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.5질량부 이하인 것이 더 바람직하며, 특히, 0질량부, 즉, 라디칼 중합성 화합물을 포함하지 않는 것이 바람직하다.
상기 중축합물로는 2개 이상의 반복 단위를 포함하는 올리고머 및 폴리머로 할 수 있다. 상기 중축합물로는 예를 들면, 폴리올레핀계 수지, 스티렌계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 할로겐 함유 수지 등의 열가소성 수지를 들 수 있다.
이와 같은 중축합물로는 예를 들면, 국제공개공보 WO2017/150662에 열가소성 수지로서 기재되어 있는 것과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 양이온 중합성 화합물 및 상기 색소의 합계 함유량으로는 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50질량부 이상으로 할 수 있고, 그 중에서도 70질량부 이상 99.5질량부 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 80질량부 이상 98질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 85질량부 이상 96질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 색소의 유지 성능 등의 내구성, 강도 등이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
3. 산 발생제
상기 산 발생제로는 소정의 조건에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 화합물이라면 어떤 것이어도 문제는 없고, 특별히 한정되는 것은 아니다.
이와 같은 산 발생제로는 예를 들면, 자외선 조사 등의 광 조사에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 광산 발생제, 열에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 열산 발생제를 사용할 수 있다.
상기 산 발생제는 경화가 용이하다는 관점, 조성물의 경화 시에 조성물에 인접하여 사용되는 주변 부재에 대한 열에 의한 데미지를 저감할 수 있고, 주변 부재 선택의 자유도가 높아진다는 관점 등에서는 광산 발생제를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 광산 발생제는 경화 속도가 빠르다는 이점도 있다.
또한, 상기 산 발생제는 광이 도달하기 어려운 장소에서도 경화물의 형성이 용이해지는 관점에서는 열산 발생제를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 열산 발생제는 경화 속도가 비교적 느리기 때문에, 이것을 이용하여 경화 처리(가열 처리) 후에, 다른 부재와의 맞붙임을 용이하게 할 수 있다.
상기 산 발생제의 함유량은 단독 또는 복수종의 합계로, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터로 사용 가능한 경화물을 용이하게 얻는 것이 가능해지기 때문이다.
상기 양이온 중합성 화합물에 대한 산 발생제의 사용 비율은 특별히 한정되지 않고, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위 내에서 대체로 통상의 사용 비율로 사용하면 되는데, 예를 들면, 양이온 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 산 발생제 0.05질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.5질량부 이상 8질량부 이하인 것이 바람직하며, 1질량부 이상 7질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 사용 비율이 상술의 범위임으로써, 양이온 중합성 화합물을 충분히 경화시킴과 함께, 조성물의 경화물의 내열성이 양호한 점에서 알맞다.
또한, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터로 사용 가능한 경화물을 용이하게 얻는 것이 가능해지기 때문이다.
(1) 광산 발생제
상기 광산 발생제로는 자외선 조사 등의 광 조사에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 화합물이라면 어떤 것이어도 문제는 없는데, 바람직하게는 자외선의 조사에 의해 루이스산을 방출하는 오늄염인 복염, 또는 그 유도체이다. 이러한 화합물의 대표적인 것으로는 일반식 [A]m+[B]m-로 나타내는 양이온과 음이온의 염을 들 수 있다.
여기서 양이온 [A]m+는 오늄인 것이 바람직하고, 그 구조는 예를 들면, [(R20)aQ]m+로 나타낼 수 있다.
여기서, R20은 탄소 원자수가 1~60이며, 탄소 원자 이외의 원자를 몇 개 포함하고 있어도 되는 유기 기이다. a는 1~5의 정수이다. a개의 R20은 각각 독립적으로, 동일해도 되고 달라도 된다. 또한, 적어도 하나는 방향환을 가지는 상기 유기 기인 것이 바람직하다. 경화 감도가 뛰어난 것이 되기 때문이다. Q는 S, N, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, F, N=N로 이루어지는 군에서 선택되는 원자 혹은 원자단이다. 또한, 양이온 [A]m+ 중의 Q의 원자가를 q로 했을 때, m=a-q라는 관계가 성립되는 것이 필요하다(단, N=N은 원자가 0으로 취급함).
또한, 음이온 [B]m-는 할로겐화물 착체인 것이 경화 감도가 뛰어난 것으로 할 수 있기 때문에 바람직하고, 그 구조는 예를 들면, [LXb]m-로 나타낼 수 있다.
여기서, L은 할로겐화물 착체의 중심 원자인 금속 또는 반금속(Metalloid)이며, B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co 등이다. X는 할로겐 원자이다. b는 3~7의 정수이다. 또한, 음이온 [B]m- 중의 L의 원자가를 p로 했을 때, m=b-p라는 관계가 성립되는 것이 필요하다.
상기 음이온 [LXb]m-의 구체예로는 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트[(C6F5)4B]-, 테트라플루오로보레이트(BF4)-, 헥사플루오로포스페이트(PF6)-, 헥사플루오로안티모네이트(SbF6)-, 헥사플루오로아르세네이트(AsF6)-, 헥사클로로안티모네이트(SbCl6)-, 트리스(펜타플루오로메틸)트리플루오로인산 이온(FAP 음이온) 등을 들 수 있다.
또한, 음이온 [B]m-는 일반식 [LXb-1(OH)]m-로 나타내는 구조의 것도 바람직하게 사용할 수 있다. 경화 감도가 뛰어나기 때문이다. L, X, b는 상기와 마찬가지이다. 또한, 그 밖에 사용할 수 있는 음이온으로는 과염소산 이온(ClO4)-, 트리플루오로메틸아황산 이온(CF3SO3)-, 플루오로설폰산 이온(FSO3)-, 톨루엔설폰산 음이온, 트리니트로벤젠설폰산 음이온, 캄퍼 설포네이트, 노나플로로부탄설포네이트, 헥사데카플로로옥탄설포네이트, 테트라아릴보레이트, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 이와 같은 오늄염 중에서도 하기의 (가)~(다)의 방향족 오늄염을 사용하는 것이 특히 유효하다. 이들 중에서 그 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
(가) 페닐디아조늄헥사플루오로포스페이트, 4-메톡시페닐디아조늄헥사플루오로안티모네이트, 4-메틸페닐디아조늄헥사플루오로포스페이트 등의 아릴디아조늄염
(나) 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트, 디(4-메틸페닐)요오도늄헥사플루오로포스페이트, 디(4-tert-부틸페닐)요오도늄헥사플루오로포스페이트, 톨릴쿠밀요오도늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등의 디아릴요오도늄염
(다) 하기 군 I 또는 군 II로 나타내는 설포늄 양이온과 헥사플루오로안티몬 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 이온 등의 설포늄염
Figure pct00013
Figure pct00014
또한, 그 밖에 바람직한 것으로는 (η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)〔(1,2,3,4,5,6-η)-(1-메틸에틸)벤젠〕-아이언-헥사플루오로포스페이트 등의 철-아렌 착체나, 트리스(아세틸아세토나토)알루미늄, 트리스(에틸아세토나토아세타토)알루미늄, 트리스(살리실알데히다토)알루미늄 등의 알루미늄 착체와 트리페닐실라놀 등의 실라놀류의 혼합물 등도 들 수 있다.
이들 중에서도 실용면과 광 감도의 관점에서, 방향족 요오도늄염, 방향족 설포늄염, 철-아렌 착체를 사용하는 것이 바람직하고, 하기 일반식(2)로 나타내는 방향족 설포늄염이 경화 감도의 점에서 더 바람직하다. 또한, 상기 광산 발생제가 상기 방향족 설포늄염임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조할 수 있게 되기 때문이다.
또한, 상기 조성물은 경화 시에 기재 등의 주변 부재에 대한 열에 의한 데미지를 저감할 수 있고, 주변 부재 선택의 자유도가 높아지기 때문이다.
Figure pct00015
(식 중 R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29 및 R30은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고, R31, R32, R33 및 R34는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내며, R35는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 하기 화학식(A)~(C)에서 선택되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, Anq-는 q가의 음이온을 나타내며, p는 전하를 중성으로 하는 계수를 나타낸다.)
Figure pct00016
(식 중 R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R145, R146, R147, R148 및 R149는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고, R140, R141, R142, R143 및 R144는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내며, *는 식(2) 중의 S와의 결합 위치를 나타낸다.)
상기 일반식(2)로 나타내는 화합물에서, R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29, R30, R31, R32, R33, R34, R35, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R140, R141, R142, R143, R144, R145, R146, R147, R148 및 R149로 나타내는 할로겐 원자로는 불소, 염소, 브롬, 요오드 등을 들 수 있다.
R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29, R30, R31, R32, R33, R34, R35, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R140, R141, R142, R143, R144, R145, R146, R147, R148 및 R149로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, s-부틸, t-부틸, 이소부틸, 아밀, 이소아밀, t-아밀, 헥실, 시클로헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 에틸옥틸, 2-메톡시에틸, 3-메톡시프로필, 4-메톡시부틸, 2-부톡시에틸, 메톡시에톡시에틸, 메톡시에톡시에톡시에틸, 3-메톡시부틸, 2-메틸티오에틸, 플루오로메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 클로로메틸, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 브로모메틸, 디브로모메틸, 트리브로모메틸, 디플루오로에틸, 트리클로로에틸, 디클로로디플루오로에틸, 펜타플루오로에틸, 헵타플루오로프로필, 노나플루오로부틸, 데카플루오로펜틸, 트리데카플루오로헥실, 펜타데카플루오로헵틸, 헵타데카플루오로옥틸, 메톡시메틸, 1,2-에폭시에틸, 메톡시에틸, 메톡시에톡시메틸, 메틸티오메틸, 에톡시에틸, 부톡시메틸, t-부틸티오메틸, 4-펜테닐옥시메틸, 트리클로로에톡시메틸, 비스(2-클로로에톡시)메틸, 메톡시시클로헥실, 1-(2-클로로에톡시)에틸, 1-메틸-1-메톡시에틸, 에틸디티오에틸, 트리메틸실릴에틸, t-부틸디메틸실릴옥시메틸, 2-(트리메틸실릴)에톡시메틸, t-부톡시카르보닐메틸, 에틸옥시카르보닐메틸, 에틸카르보닐메틸, t-부톡시카르보닐메틸, 아크릴로일옥시에틸, 메타크릴로일옥시에틸, 2-메틸-2-아다만틸옥시카르보닐메틸, 아세틸에틸, 2-메톡시-1-프로페닐, 하이드록시메틸, 2-하이드록시에틸, 1-하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 3-하이드록시프로필, 3-하이드록시부틸, 4-하이드록시부틸, 1,2-디하이드록시에틸 등을 들 수 있다.
R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29, R30, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R145, R146, R147, R148 및 R149로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기로는, 메톡시, 에톡시, 프로필옥시, 이소프로필옥시, 부틸옥시, s-부틸옥시, t-부틸옥시, 이소부틸옥시, 펜틸옥시, 이소아밀옥시, t-아밀옥시, 헥실옥시, 시클로헥실옥시, 시클로헥실메틸옥시, 테트라하이드로푸라닐옥시, 테트라하이드로피라닐옥시, 2-메톡시에틸옥시, 3-메톡시프로필옥시, 4-메톡시부틸옥시, 2-부톡시에틸옥시, 메톡시에톡시에틸옥시, 메톡시에톡시에톡시에틸옥시, 3-메톡시부틸옥시, 2-메틸티오에틸옥시, 트리플루오로메틸옥시 등을 들 수 있다.
R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29, R30, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R145, R146, R147, R148 및 R149로 나타내는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기로는 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 이소프로필옥시카르보닐, 페녹시카르보닐, 아세톡시, 프로피오닐옥시, 부티릴옥시, 클로로아세틸옥시, 디클로로아세틸옥시, 트리클로로아세틸옥시, 트리플루오로아세틸옥시, t-부틸카르보닐옥시, 메톡시아세틸옥시, 벤조일옥시 등을 들 수 있다.
상기 일반식(2) 중의 pAnq-로 나타내는 q가의 음이온으로는 상술의 음이온 [B]m-로서 든 것과 마찬가지로 할 수 있다.
(2) 열산 발생제
상기 열산 발생제는 열에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 화합물이라면 어떤 것이어도 문제는 없고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는 열에 의해 루이스산을 방출하는 오늄염인 복염, 또는 그 유도체가 수지 조성물을 경화한 경화물의 내열성이 좋고, 알맞다.
이러한 화합물의 대표적인 것으로는 상기 "(1) 광산 발생제"의 항목에 기재된 [A]m+[B]m-로 나타내는 양이온과 음이온의 염을 사용할 수 있다.
상기 열산 발생제는 그 중에서도 수지의 경화성이 좋고, 경화물의 내열성이 높기 때문에 하기 일반식(12)로 나타내는 설포늄염, 또는 (13)으로 나타내는 설포늄염인 것이 바람직하다.
Figure pct00017
(식 중 R151 및 R152는 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, 상기 알킬기, 방향족기, 아릴알킬기의 수소 원자는 각각 독립적으로, 수산기, 할로겐기, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 니트로기, 설폰기, 시아노기로 치환되는 경우가 있다. 또한, R151과 R152는 탄소 원자수 2~7의 알킬 사슬로 환 구조를 구성해도 된다. R153 및 R154는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기, 니트로기, 시아노기, 설폰기를 나타내고, 상기 알킬기, 방향족기, 아릴알킬기의 수소 원자는 각각 독립적으로, 수산기, 할로겐기, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기, 니트로기, 설폰기, 시아노기로 치환되는 경우가 있다. Anq'-는 q'가의 음이온을 나타내고, q'는 1 또는 2를 나타내며, p'는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)
Figure pct00018
(식 중 R155는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기, 수산기, 니트로기, 설폰기, 시아노기를 나타내고, 상기 알킬기, 방향족기, 아릴알킬기의 수소 원자는 각각 독립적으로, 수산기, 할로겐기, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기, 니트로기, 설폰기, 시아노기로 치환되는 경우가 있다. R156은 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, 상기 알킬기, 방향족기, 아릴알킬기의 수소 원자는 각각 독립적으로, 수산기, 할로겐기, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 방향족기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기, 니트로기, 설폰기, 시아노기로 치환되는 경우가 있다. R157은 구성하는 메틸렌기가 할로겐기, -O- 또는 S-로 나타내는 기로 치환되는 경우가 있는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타낸다. Anq''-는 q''가의 음이온을 나타내고, q''는 1 또는 2를 나타내며, p''는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)
상기 일반식(12) 및 (13)으로 나타내는 화합물에서, R153, R154 및 R155로 나타내는 할로겐 원자 그리고 R151, R152, R153, R154, R155, R156 및 R157로 나타내는 기의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 치환되는 경우가 있는 할로겐 원자와, R151, R152, R153, R154, R155, R156 및 R157로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알킬기 및 R151, R152, R153, R154, R155, R156 및 R157로 나타내는 기의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 치환되는 경우가 있는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는 상기 "(1) 광산 발생제"의 항목에 기재된 일반식(2) 중의 R21 등으로서 사용되는 할로겐 원자, 알킬기와 마찬가지로 할 수 있다.
R151, R152, R153, R154, R155, R156으로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 방향족기 및 R151, R152, R153, R154, R155, R156으로 나타내는 기의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 치환되는 경우가 있는 탄소 원자수 6~20의 방향족기로는 페닐, 나프틸, 안트라닐 등을 들 수 있다.
R151, R152, R153, R154, R155, R156으로 나타내는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기 및 R151, R152, R153, R154, R155, R156으로 나타내는 기의 수소 원자의 하나 또는 2개 이상이 치환되는 경우가 있는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기로는 상기에서 설명한 탄소 원자수 1~10의 알킬기와 탄소 원자수 6~20의 방향족기를 조합한 것을 사용할 수 있다.
상기 일반식(12) 및 (13) 중의 p'Anq'- 및 p''Anq''-로 나타내는 q' 또는 q''가의 음이온으로는, 메탄설폰산 음이온, 도데실설폰산 음이온, 벤젠설폰산 음이온, 톨루엔설폰산 음이온, 트리플루오로메탄설폰산 음이온, 나프탈렌설폰산 음이온, 디페닐아민-4-설폰산 음이온, 2-아미노-4-메틸-5-클로로벤젠설폰산 음이온, 2-아미노-5-니트로벤젠설폰산 음이온, 일본 공개특허공보 특개평10-235999호, 일본 공개특허공보 특개평10-337959호, 일본 공개특허공보 특개평11-102088호, 일본 공개특허공보 특개2000-108510호, 일본 공개특허공보 특개2000-168233호, 일본 공개특허공보 특개2001-209969호, 일본 공개특허공보 특개2001-322354호, 일본 공개특허공보 특개2006-248180호, 일본 공개특허공보 특개2006-297907호, 일본 공개특허공보 특개평8-253705호, 일본 공표특허공보 특표2004-503379호, 일본 공개특허공보 특개2005-336150호, 국제공개공보 WO2006/28006 등에 기재된 설폰산 음이온 등의 유기 설폰산 음이온 외에, 염화물 이온, 브롬화물 이온, 요오드화물 이온, 불화물 이온, 염소산 이온, 티오시안산 이온, 과염소산 이온, 헥사플루오로인산 이온, 헥사플루오로안티몬산 이온, 테트라플루오로붕산 이온, 옥틸인산 이온, 도데실인산 이온, 옥타데실인산 이온, 페닐인산 이온, 노닐페닐인산 이온, 트리스(펜타플루오로메틸)트리플루오로인산 이온(FAP 음이온) 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)포스폰산 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕산 이온, 여기 상태에 있는 활성 분자를 탈여기시키는(??칭시키는) 기능을 가지는 ??쳐 음이온이나 시클로펜타디에닐환에 카르복실기나 포스폰산기, 설폰산기 등의 음이온성 기를 가지는 펠로센, 루테오센 등의 메탈로센 화합물 음이온 등을 들 수 있다. 그 중에서도 내열성이 높은 점에서, 헥사플루오로인산 이온, 헥사플루오로안티몬산 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕산 이온이 바람직하다.
상기 열산 발생제가 열에 의해 산을 발생시키고, 조성물을 경화시킬 수 있는 온도의 범위는 특별히 한정되지 않지만, 알맞은 내열성을 가지는 경화물이 얻어지는 점이나, 프로세스 중의 열 안정성이 양호한 점에서, 50℃ 이상 250℃ 이하가 바람직하고, 100℃ 이상 220℃ 이하가 보다 바람직하며, 130℃ 이상 200℃ 이하가 한층 바람직하고, 150℃ 이상 180℃ 이하가 더 바람직하다. 상기 조성물의 경화물의 형성이 용이하기 때문이다.
또한, 본 발명의 조성물에 사용되는 열산 발생제로서 알맞게 사용할 수 있는 시판품으로는 예를 들면, 선에이드 SI-B2A, 선에이드 SI-B3A, 선에이드 SI-B3, 선에이드 SI-B4, 선에이드 SI-60, 선에이드 SI-80, 선에이드 SI-100, 선에이드 SI-110, 선에이드 SI-150(이상 산신 가가쿠 고교(주) 제품), 아데카옵톤 CP-66, 아데카옵톤 CP-77(이상 (주)ADEKA 제품) 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독 혹은 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
(3) 산 발생제의 함유량
상기 산 발생제의 함유량은 원하는 경화 감도 및 분산 안정성이 얻어지는 것이면 되고, 상기 조성물 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.3질량부 이상 4질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 0.5질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 산 발생제의 함유량은 원하는 경화 감도 및 분산 안정성이 얻어지는 것이면 되고, 상기 양이온 중합성 화합물 100질량부에 대하여 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.5질량부 이상 4질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 1질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
4. 기타 성분
상기 조성물은 색소, 양이온 중합성 화합물 및 산 발생제를 포함하는 것인데, 필요에 따라 용매를 포함할 수 있다.
또한, 상기 기타 성분으로는 각종 첨가제를 들 수 있다.
이와 같은 용매 및 각종 첨가제로는 국제공개공보 WO2017/098996 등에 기재된 것과 동일하게 할 수 있다.
상기 용매로는 통상 25℃에서 액상이며, 상기 조성물을 사용하여 경화물을 형성할 때에 건조 제거할 수 있는 것이 사용된다.
(1) 증감제
상기 조성물은 상기 첨가제로서 증감제를 포함하고 있어도 된다.
상기 조성물은 색소를 필수적인 구성으로 가진다. 이 때문에, 산 발생제로서 광산 발생제를 사용하고, 광 조사에 의해 경화하는 경우, 조사한 광이 색소에 의해 흡수되는 결과, 경화가 불충분해지는 경우가 있다. 이에 반하여, 상기 증감제를 사용함으로써, 폭넓은 파장역의 광을 효율적으로 흡수하고, 경화성이 뛰어난 것이 된다.
그 결과, 광산 발생제, 양이온 중합성 화합물 등의 선택의 자유도, 노광 광원 선택의 자유도가 향상되고, 원하는 특성의 경화물을 얻는 것이 용이하다. 또한, 경화 속도의 상승 및 경화성의 향상에 의해, 색소의 블리드 아웃(bleed out)을 효과적으로 억제할 수 있고, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다. 더욱이, 상기 조성물은 내투습성 등도 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 증감제로는 산 발생제와 함께 사용함으로써, 산 발생제로부터의 산의 발생 효율을 향상시킬 수 있는 것이다.
상기 증감제로는 보다 구체적으로는 안트라센계 화합물, 나프탈렌계 화합물, 벤조인 유도체, 벤조페논 유도체, 티오크산톤 유도체, α,α-디에톡시아세토페논, 벤질, 플루오레논, 크산톤, 우라닐 화합물, 할로겐 화합물, 종래 공지의 라디칼 중합 개시제, 전이금속 화합물, 아민 화합물, 인 화합물, 복소환 화합물, 축합환 함유 화합물 외에 알콕시기로 치환된 벤젠 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 그 중에서도 상기 증감제가 안트라센계 화합물, 나프탈렌계 화합물, 벤조인 유도체, 벤조페논 유도체, 티오크산톤 유도체, 복소환 화합물인 것이 바람직하고, 특히, 안트라센계 화합물, 나프탈렌계 화합물 또는 복소환 화합물인 것이 바람직하다.
상기 증감제가 상술의 화합물임으로써, 산 발생제의 산 발생 효율을 효율적으로 향상시킬 수 있는 결과, 색소를 포함하는 조성물의 경화가 용이해지기 때문이다.
또한, 복소환 화합물은 산 발생제에 배위하여, 효율적으로 에너지의 이동을 실시할 수 있어서, 산 발생제의 산 발생 효율을 효과적으로 향상시킬 수 있기 때문이다.
더욱이, 상기 안트라센계 화합물, 나프탈렌계 화합물은 폭넓은 파장의 광을 흡수하고 에너지를 산 발생제의 산 발생에 이용할 수 있어서, 조사되는 활성 에너지 선을 효과적으로 이용할 수 있기 때문이다. 또한, 극대 흡수 파장이 짧아서, 투명성이 보다 뛰어난 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
한편, 상기 증감제로서 든 화합물들은 명확하게 분리할 수 없는 경우가 있다. 예를 들면, 벤조페논 유도체 등은 라디칼 중합 개시제에 해당하는 것이 포함되는 경우가 있다. 또한, 복소환 화합물 중에는 축합환 함유 화합물에 해당하는 것이 포함되는 경우가 있다.
상기 안트라센계 화합물로는 안트라센 구조를 가지는 화합물이면 되고, 예를 들면 아래 식(IIIa)로 나타내는 것을 들 수 있다.
Figure pct00019
(식 중 R201 및 R202는 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1~6의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~12의 알콕시알킬기를 나타내고, R203은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 나타낸다.)
R201, R202 및 R203으로 나타내는 탄소 원자수 1~6의 알킬기로는 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
R201 및 R202로 나타내는 탄소 원자수 2~12의 알콕시알킬기로는, 메톡시메틸, 메톡시에틸, 메톡시프로필, 에톡시에틸, 메톡시부틸, 에톡시프로필, 프로폭시에틸, 메톡시펜틸, 에톡시부틸, 프로폭시프로필, 부톡시에틸, 펜톡시에틸, 부톡시프로필, 헥속시에틸, 펜톡시프로필 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 R201 및 R202가 탄소 원자수 2~5의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 기임으로써, 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 내투습성 등도 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 R203이 수소 원자인 것이 바람직하다.
상기 식(IIIa)로 나타내는 안트라센계 화합물의 구체예로는, 9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 9,10-디프로폭시안트라센, 9,10-디이소프로폭시안트라센, 9,10-디부톡시안트라센, 9,10-디펜틸옥시안트라센, 9,10-디헥실옥시안트라센, 9,10-비스(2-메톡시에톡시)안트라센, 9,10-비스(2-에톡시에톡시)안트라센, 9,10-비스(2-부톡시에톡시)안트라센, 9,10-비스(3-부톡시프로폭시)안트라센, 2-메틸-9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 2-메틸-9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 2-메틸-9,10-디프로폭시안트라센, 2-에틸-9,10-디프로폭시안트라센, 2-메틸-9,10-디이소프로폭시안트라센, 2-에틸-9,10-디이소프로폭시안트라센, 2-메틸-9,10-디부톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디부톡시안트라센, 2-메틸-9,10-디펜틸옥시안트라센, 2-에틸-9,10-디펜틸옥시안트라센, 2-메틸-9,10-디헥실옥시안트라센, 2-에틸-9,10-디헥실옥시안트라센 등을 들 수 있다.
상기 나프탈렌계 화합물로는 나프탈렌 구조를 가지는 화합물이면 되고, 예를 들면, 아래 식(IIIb)로 나타내는 것을 들 수 있다.
Figure pct00020
(식 중 R204 및 R205는 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 나타낸다.)
R204 및 R205로 나타내는 탄소 원자수 1~6의 알킬기로는 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
본 발명에서는 그 중에서도 R204 및 R205가 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 기임으로써, 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 내투습성 등도 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 식(IIIb)로 나타내는 나프탈렌계 화합물의 구체예로는 4-메톡시-1-나프톨, 4-에톡시-1-나프톨, 4-프로폭시-1-나프톨4-부톡시-1-나프톨, 4-헥실옥시-1-나프톨, 1,4-디메톡시나프탈렌, 1-에톡시-4-메톡시나프탈렌, 1,4-디에톡시나프탈렌, 1,4-디프로폭시나프탈렌, 1,4-디부톡시나프탈렌 등을 들 수 있다.
상기 벤조인 유도체로는 벤조인메틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, α,α-디메톡시-α-페닐아세토페논 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논 유도체로는 벤조페논, 2,4-디클로로벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤 유도체로는 2-클로로티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤 등을 들 수 있다.
상기 라디칼 중합 개시제로는 광 라디칼 중합 개시제 및 열 라디칼 중합 개시제를 들 수 있다.
상기 광 라디칼 중합 개시제로는 아세토페논계 화합물, 벤질계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 비스이미다졸계 화합물, 아크리딘계 화합물, 아실포스핀계 화합물, 옥심에스테르 화합물 등을 바람직한 것으로 예시할 수 있다.
상기 아세토페논계 화합물로는 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 4'-이소프로필-2-하이드록시-2-메틸프로피오페논, 2-하이드록시메틸-2-메틸프로피오페논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, p-디메틸아미노아세토페논, p-터셔리부틸디클로로아세토페논, p-터셔리부틸트리클로로아세토페논, p-아지드벤잘아세토페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1,2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤질계 화합물로는 벤질 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물로는 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 미힐러케톤, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤계 화합물로는 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2-에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤 등을 들 수 있다.
상기 비스이미다졸계 화합물로는, 헥사아릴비스이미다졸(HABI, 트리아릴-이미다졸의 이중체)을 들 수 있고, 구체적으로는, 예를 들면, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,4,5,2',4',5'-헥사페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라키스(3-메톡시페닐)비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라키스(3,4,5-트리메톡시페닐)-비스이미다졸, 2,5,2',5'-테트라키스(2-클로로페닐)-4,4'-비스(3,4-디메톡시페닐)비스이미다졸, 2,2'-비스(2,6-디클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-니트로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-디-o-톨릴-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-에톡시페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸 및 2,2'-비스(2,6-디플루오로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 5'-테트라(p-요오드페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐-4,4',5,5'-테트라(m-메톡시페닐)비이미다졸), 2,2'-비스(p-메틸티오페닐)-4,5,4',5'-디페닐-1,1'-비이미다졸, 비스(2,4,5-트리페닐)-1,1'-비이미다졸, 5,5'-테트라(p-클로르나프틸)비이미다졸 등이나 일본 공고특허공보 특공소45-37377호에 개시되는 1,2'-, 1,4'-, 2,4'-로 공유 결합되어 있는 호변 이성체, WO00/52529호 팸플릿에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.
상기 아크리딘계 화합물로는 아크리딘, 9-페닐아크리딘, 9-(p-메틸페닐)아크리딘, 9-(p-에틸페닐)아크리딘, 9-(p-iso-프로필페닐)아크리딘, 9-(p-n-부틸페닐)아크리딘, 9-(p-tert-부틸페닐)아크리딘, 9-(p-메톡시페닐)아크리딘, 9-(p-에톡시페닐)아크리딘, 9-(p-아세틸페닐)아크리딘, 9-(p-디메틸아미노페닐)아크리딘, 9-(p-시아노페닐페닐)아크리딘, 9-(p-클로로디페닐)아크리딘, 9-(p-브로모페닐)아크리딘, 9-(m-메틸페닐)아크리딘, 9-(m-n-프로필페닐)아크리딘, 9-(m-iso-프로필페닐)아크리딘, 9-(m-n-부틸페닐)아크리딘, 9-(m-tert-부틸페닐)아크리딘, 9-(m-메톡시페닐)아크리딘, 9-(m-에톡시페닐)아크리딘, 9-(m-아세틸페닐)아크리딘, 9-(m-디메틸아미노페닐)아크리딘, 9-(m-디에틸아미노페닐)아크리딘, 9-(시아노페닐)아크리딘, 9-(m-클로르페닐)아크리딘, 9-(m-브로모페닐)아크리딘, 9-메틸아크리딘, 9-에틸아크리딘, 9-n-프로필아크리딘, 9-iso-프로필아크리딘, 9-시아노에틸아크리딘, 9-하이드록시에틸아크리딘, 9-클로로에틸아크리딘, 9-브로모아크리딘, 9-하이드록시아크리딘, 9-니트로아크리딘, 9-아미노아크리딘, 9-메톡시아크리딘, 9-에톡시아크리딘, 9-n-프로폭시아크리딘, 9-iso-프로폭시아크리딘, 9-클로로에톡시아크리딘, 4,6-비스(디메틸아미노)아크리딘, 10-아세트산아크리딘, 10-메틸아세테이트아크리딘, 3,6-디메틸아크리딘, 7,13-디메틸아크리딘, 7,13-비스(디메틸아미노)아크리딘, 3,6-디메틸-10-아세트산아크리딘, 3,5-디메틸-10-메틸아세테이트아크리딘, 7,13-디메틸-10-아세트산아크리딘, 7,13-디메틸-10-메틸아세테이트아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판, 2,7-디벤조일-9-페닐아크리딘, 2,7-비스(α-하이드록시벤질)-9-페닐아크리딘, 2,7-비스(α-아세톡시벤질)-9-페닐아크리딘, 2,7-디메틸-9-(4-메틸페닐)아크리딘, 2,7-디메틸-9-페닐아크리딘, 2,7-비스(3,4-디메틸-벤조일)-9-(3,4-디메틸페닐)아크리딘, 2,7-비스(α-아세톡시-4-tert-부틸벤질)-9-(4-tert-부틸페닐)아크리딘, 2,7-디메틸-9-(3,4-디클로로페닐)아크리딘, 2,7-디메틸-9-(4-벤조일페닐)아크리딘, 2,7-비스(2-클로로벤조일)-9-(2-클로로페닐)아크리딘, 2-(α-하이드록시-3-브로모벤질)-6-메틸-9-(3-브로모페닐)아크리딘, 2,5-비스(4-tert-부틸벤조일)-9-(4-tert-부틸페닐)아크리딘, 1,4-비스(2,7-디메틸-9-아크리디닐)벤젠, 2,7-비스(α-페닐아미노카르보닐옥시-3,4-디메틸벤질)-9-(3,4-디메틸페닐)아크리딘 및 2,7-비스(3,5-디메틸-4-하이드록시-4'-플루오로디페닐메틸)-9-(4-플루오로페닐)아크리딘, 9,10-디하이드로아크리딘, 1-메틸아크리딘, 4-메틸아크리딘, 2,3-디메틸아크리딘, 1-페닐아크리딘, 4-페닐아크리딘, 1-벤질아크리딘, 4-벤질아크리딘, 1-클로로아크리딘, 2,3-디클로로아크리딘, 10-부틸-2-클로로아크리딘-9(10H)-온, 10-프로필-2-클로로아크리딘-9(10H)-온, 10-부틸-2-클로로아크리딘-9(10H)-온1,2-비스(9-아크리디닐)에탄, 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판, 1,4-비스(9-아크리디닐)부탄, 1,6-비스(9-아크리디닐)헥산, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,8-비스(9-아크리디닐)옥탄, 1,9-비스(9-아크리디닐)노난, 1,10-비스(9-아크리디닐)데칸, 1,11-비스(9-아크리디닐)운데칸, 1,12-비스(9-아크리디닐)도데칸, 1,14-비스(9-아크리디닐)테트라데칸, 1,16-비스(9-아크리디닐)헥사데칸, 1,18-비스(9-아크리디닐)옥타데칸, 1,20-비스(9-아크리디닐)에이코산, 1,3-비스(9-아크리디닐)-2-티아프로판, 1,5-비스(9-아크리디닐)-3-티아펜탄7-메틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-에틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-프로필-벤조〔c〕아크리딘, 7-부틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-펜틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-헥실-벤조〔c〕아크리딘, 7-헵틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-옥틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-노닐-벤조〔c〕아크리딘, 7-데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-운데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-도데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-트리데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-테트라데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-펜타데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-헥사데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-헵타데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-옥타데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-노나데실-벤조〔c〕아크리딘, 1,1-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)메탄, 1,2-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에탄, 1,3-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)프로판, 1,4-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)부탄, 1,5-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)펜탄, 1,6-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헥산, 1,7-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헵탄, 1,8-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)옥탄, 1,9-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)노난, 1,10-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)데칸, 1,11-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)운데칸, 1,12-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)도데칸, 1,13-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)트리데칸, 1,14-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)테트라데칸, 1,15-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)펜타데칸, 1,16-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헥사데칸, 1,17-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헵타데칸, 1,18-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)옥타데칸, 1,19-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)노나데칸, 1,20-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에이코산, 7-페닐벤조〔c〕아크리딘, 7-(2-클로르페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 7-(4-메틸페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 7-(4-니트로페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 1,3-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)벤젠, 1,4-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)벤젠, 7-〔1-프로펜-3-일(벤조〔c〕아크리딘)〕, 7-〔1-에틸펜틸-(벤조〔c〕아크리딘)〕, 7-〔8-헵타데세닐(벤조〔c〕아크리딘)〕, 7,8-디페닐-1,14-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)테트라데칸, 1,2-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에틸렌, 1-메틸-1,2-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에틸렌, 7-스티릴-벤조〔c〕아크리딘, 7-(1-프로페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 7-(1-펜테닐)-벤조〔c〕아크리딘, 9-(2-피리딜)아크리딘, 9-(3-피리딜)아크리딘, 9-(4-피리딜)아크리딘, 9-(4-피리미디닐)아크리딘, 9-(2-피라디닐)아크리딘, 9(5-메틸-2-피라디닐)아크리딘, 9-(2-퀴놀리닐)아크리딘, 9-(2-피리딜)-2-메틸-아크리딘, 9-(2-피리딜)-2-에틸아크리딘, 9-(3-피리딜)-2-메틸-아크리딘, 9-(3-피리딜)-2,4-디에틸-아크리딘, 3,6-디아미노-아크리딘설폰산염, 3,6-비스-(디메틸아미노)-아크리딘설폰산염, 3,6-디아미노-10-메틸-아크리디늄클로라이드, 9-아크리딘카르복실산 등을 들 수 있다.
상기 아실포스핀계 화합물로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드(LucirinTPO; BASF사 제품), 이소부티릴-메틸포스핀산메틸에스테르, 이소부티릴-페닐포스핀산메틸에스테르, 피발로일-페닐포스핀산메틸에스테르, 2-에틸헥사노일-페닐포스핀산메틸에스테르, 피발로일-페닐포스핀산이소프로필에스테르, p-톨루일-페닐포스핀산메틸에스테르, o-톨루일-페닐포스핀산메틸에스테르, 2,4-디메틸벤조일-페닐포스핀산메틸에스테르, p-3급 부틸벤조일-페닐포스핀산이소프로필에스테르, 아크릴로일-페닐포스핀산메틸에스테르, 이소부티릴-디페닐포스핀옥사이드, 2-에틸헥사노일-디페닐포스핀옥사이드, o-톨루일-디페닐포스핀옥사이드, p-3급 부틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 3-피리딜카르보닐-디페닐포스핀옥사이드, 아크릴로일-디페닐포스핀옥사이드, 벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 피발로일-페닐포스핀산비닐에스테르, 아디포일-비스-디페닐포스핀옥사이드, 피발로일-디페닐포스핀옥사이드, p-톨루일-디페닐포스핀옥사이드, 4-(3급 부틸)-벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2-메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2-메틸-2-에틸헥사노일-디페닐포스핀옥사이드, 1-메틸-시클로헥사노일-디페닐포스핀옥사이드, 피바로일-페닐포스핀산메틸에스테르 및 피발로일-페닐포스핀산이소프로필에스테르, 4-옥틸페닐포스핀옥사이드, 테레프탈로일-비스-디페닐포스핀옥사이드, 1-메틸-시클로헥실카르보닐디페닐포스핀옥사이드, 버사토일(versatoyl)-디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디이소부톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드(Irgacure819; BASF사 제품), 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로르-3,4,5-트리메톡시벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로르-3,4,5-트리메톡시벤조일)-4-에톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-4-에톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-2-나프틸포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-4-프로필페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메톡시-1-나프토일)-4-에톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2-클로르-1-나프토일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디옥틸옥시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디이소프로폭시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디헥실옥시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2-프로폭시-4-메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디이소펜틸옥시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로르벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-4-비페닐릴포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-4-프로필페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-2-나프틸포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-1-나프틸포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드(CGI403), 6-트리메틸벤조일-에틸-페닐-포스피네이트(SPEEDCURETPO-L; Lambson사 제품) 등을 들 수 있다.
상기 옥심에스테르 화합물로는 예를 들면, 에타논-1-〔9-에틸-6-(2-메틸벤조일-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 1-〔9-에틸-6-벤조일-9H-카르바졸-3-일-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-〔9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-에탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-〔9-n-부틸-6-(2-에틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-에탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 에타논-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라하이드로푸라닐벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에타논-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라하이드로피라닐벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에타논-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라하이드로푸라닐벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에타논-1-〔9-에틸-6-{2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥소라닐)메톡시벤조일}-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에타논-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라하이드로푸라닐메톡시벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심) 등을 들 수 있다.
상기 열라디칼 중합 개시제로는, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(메틸이소부티레이트), 2,2'-아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 1,1'-아조비스(1-아세톡시-1-페닐에탄) 등의 아조계 개시제; 벤조일퍼옥사이드, 디-t-부틸벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트 등의 과산화물계 개시제, 과황산암모늄, 과황산나트륨, 과황산칼륨 등의 과황산염 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
상기 전이금속 화합물은 전이금속을 함유하는 화합물이며, 전이금속으로는 Fe, Co, Ni, Cu, Cr, Ag 등을 들 수 있다.
상기 아민 화합물로는 지방족 아민, 지환식 아민, 방향족 아민 등의 1급 아민, ２급 아민, 3급 아민을 사용할 수 있다.
상기 1급 아민으로는, 에틸아민, 프로필아민, 이소프로필아민, 부틸아민, 이소부틸아민, 펜틸아민, 네오펜틸아민, 헥실아민, 옥틸아민, 노닐아민, 2-에틸헥실아민, 시클로헥실아민, 에탄올아민, 아닐린, p-메틸아닐린 등을 들 수 있다.
상기 ２급 아민으로는 예를 들면 디에틸아민, 디프로필아민, 디부틸아민, 디펜틸아민, 디헥실아민, 메틸아닐린, 에틸아닐린, 디하이드록시에틸아민 등을 들 수 있다.
상기 3급 아민으로는, 트리메틸아민, 트리에틸아민, N,N-디메틸벤질아민, 트리페닐아민, 트리부틸아민, 트리옥틸아민, 트리도데실아민, 디부틸벤질아민, 트리나프틸아민, N-에틸-N-메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, N-페닐-N-메틸아닐린, N,N-디메틸-p-톨루이딘, N,N-디메틸-4-브로모아닐린, N,N-디메틸-4-메톡시아닐린, N-페닐피페리딘, N-(4-메톡시페닐)피페리딘, N-페닐-1,2,3,4-테트라하이드로이소퀴놀린, 6-벤질옥시-N-페닐-7-메톡시-1,2,3,4-테트라하이드로이소퀴놀린, N,N'-디메틸피페라진, N,N-디메틸시클로헥실아민, 2-디메틸아미노메틸페놀, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 트리스(2-메톡시메톡시에틸)아민, 트리스{2-(2-메톡시에톡시)에틸}아민, 트리스{2-(2-메톡시에톡시메톡시)에틸}아민, 트리스{2-(1-메톡시에톡시)에틸}아민, 트리스{2-(1-에톡시에톡시)에틸}아민, 트리스{2-(1-에톡시프로폭시)에틸}아민, 트리스[2-{2-(2-하이드록시에톡시)에톡시}에틸]아민, 트리에탄올아민트리아세테이트 등을 들 수 있고, 그 중에서도 트리페닐아민 유도체가 바람직하다.
트리페닐아민 유도체로는 이하의 일반식(V)로 나타내는 것을 들 수 있다.
Figure pct00021
(식 중 R211, R212, R213, R214, R215, R216, R217, R218, R219, R220, R221, R222, R223, R224 및 R225는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
R211, R212, R213, R214, R215, R216, R217, R218, R219, R220, R221, R222, R223, R224 및 R225로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
R211, R212, R213, R214, R215, R216, R217, R218, R219, R220, R221, R222, R223, R224 및 R225로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로는, 페닐기, 톨릴기, 3,4,5-트리메톡시페닐기, 4-제3부틸페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 안트라세닐기, 페난트릴기 등을 들 수 있다.
경화성의 점에서, 식(V) 중의 3개의 벤젠환 중 어느 하나가 할로겐 원자를 가지고 있는 것이 바람직하고, 3개의 벤젠환이 모두 할로겐 원자를 가지고 있는 것이 특히 바람직하며, R213, R218 및 R223이 할로겐 원자인 것이 가장 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 인 화합물로는 포스핀옥사이드, 포스핀, 인산, 아인산, 포스폰산, 아포스폰산, 포스핀산, 아포스핀산, 인산에스테르, 아인산에스테르 등을 들 수 있다.
상기 복소환 화합물에서의 복소환은 단환 및 축합환 중 어느 것이어도 된다. 복소환 화합물로는 카르바졸 유도체, 벤조카르바졸 유도체, 인돌 유도체, 피롤리돈 유도체, 피롤 유도체, 페난트리딘 유도체, 페녹사진 유도체, 페나진 유도체, 티아졸 유도체, 벤조티아졸 유도체, 옥사졸 유도체, 벤조옥사졸 유도체, 이소옥사졸 유도체, 벤조이소옥사졸 유도체, 푸란 유도체, 벤조푸란 유도체, 티오펜 유도체, 페노티아진 유도체, 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체, 피리다진 유도체, 피페리딘 유도체, 피란 유도체, 피라졸린 유도체, 트리아진 유도체, 퀴놀린 유도체, 이소퀴놀린 유도체, 이미다졸 유도체, 인돌 유도체, 피롤리딘 유도체, 피페리돈 유도체, 디옥산 유도체, 디벤조디옥신 유도체 등을 들 수 있다.
상기의 복소환 화합물 중에서도 질소 원자 또는 산소 원자를 함유하는 축합환 함유 화합물이 바람직하고, 특히 입수 용이성의 점 등에서 카르바졸 유도체, 벤조카르바졸 유도체, 디벤조디옥신 유도체가 바람직하고, 특히 경화성의 점에서, 벤조카르바졸 유도체가 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
예를 들면, 카르바졸 유도체로는 카르바졸 구조를 가지는 화합물이면 되고, 예를 들면, 이하의 일반식(VI)로 나타내는 것을 들 수 있다.
Figure pct00022
(식 중 R226은 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기를 나타내고, R227, R228, R229, R230, R231, R232, R233 및 R234는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 시아노기, 수산기, 카르복실기를 나타낸다.)
R226, R227, R228, R229, R230, R231, R232, R233 및 R234로 나타내는 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 및 탄소 원자수 6~20의 아릴기의 예로는 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기 및 탄소 원자수 6~30의 아릴기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
본 발명에서는 R226이 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 개시에서는 R227, R228, R229, R230, R231, R232, R233 및 R234가 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 벤조카르바졸 유도체로는 벤조카르바졸 구조를 가지는 것이면 되고, 예를 들면, 이하의 일반식(VII-1)~(VII-3)으로 나타내는 것을 들 수 있다.
본 개시에서는 그 중에서도 상기 벤조카르바졸 유도체가 상기 일반식(VII-1)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
Figure pct00023
(식 중 R235는 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~20의 아릴기를 나타내고, R236, R237, R238, R239, R240, R241, R242, R243, R244 및 R245는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 시아노기, 수산기, 카르복실기를 나타낸다.)
Figure pct00024
(식 중 R246은 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~20의 아릴기를 나타내고, R247, R248, R249, R250, R251, R252, R253, R254, R255 및 R256은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
Figure pct00025
(식 중 R257은 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 비닐기 또는 탄소 원자수 6~20의 아릴기를 나타내고, R258, R259, R260, R261, R262, R263, R264, R265, R266 및 R267은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 시아노기, 수산기, 카르복실기를 나타낸다.)
R235, R236, R237, R238, R239, R240, R241, R242, R243, R244, R245, R246, R247, R248, R249, R250, R251, R252, R253, R254, R255, R256, R257, R258, R259, R260, R261, R262, R263, R264, R265, R266 및 R267로 나타내는, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기로는 상기 일반식 (1) 중의 R1 등으로 나타내는 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기 및 탄소 원자수 6~30의 아릴기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
본 개시에서는 식(VII-1)~(VII-3)으로 나타내는 벤조카르바졸 유도체 중에서도 벤조카르바졸환의 질소 원자에 결합하는 기인 R235, R246 및 R257이 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수 3~10의 분기 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 R236, R237, R238, R239, R240, R241, R242, R243, R244, R245, R247, R248, R249, R250, R251, R252, R253, R254, R255, R256, R258, R259, R260, R261, R262, R263, R264, R265, R266 및 R267이 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자인 것이 바람직하다. 상술의 기가 상술의 기 또는 원자임으로써, 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
예를 들면, 디벤조디옥신 유도체로는 디벤조디옥신 구조를 가지는 것이면 되고, 이하의 일반식(VIII)로 나타내는 것을 들 수 있다.
Figure pct00026
(식 중 R268, R269, R270, R271, R272, R273, R274 및 R275는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타낸다.)
R268, R269, R270, R271, R272, R273, R274 및 R275로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
상기 축합환 함유 화합물로는 상기의 복소환 화합물로서 예시한 축합환 함유 화합물 외에, 플루오렌 유도체, 크리센 유도체, 페난트렌 유도체, 피렌 유도체, 안트라퀴논 유도체, 페릴렌 유도체, 벤조안트라센 유도체, 나프타센 유도체, 트리페닐렌 유도체, 쿠마린 유도체 등을 들 수 있다. 축합환 함유 화합물로는 질소 원자 또는 산소 원자를 가지는 축합환 함유 화합물이 바람직하고, 또한 페릴렌 유도체가 흡수 파장역의 점에서 바람직하다.
페릴렌 유도체로는 이하의 일반식(IX)로 나타내는 것을 들 수 있다.
Figure pct00027
(식 중 R276, R277, R278, R279, R280, R281, R282, R283, R284, R285, R286 및 R287은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타낸다.)
R276, R277, R278, R279, R280, R281, R282, R283, R284, R285, R286 및 R287로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
상기 증감제의 함유량으로는 양이온 중합성 화합물끼리의 중합을 촉진할 수 있는 것이면 되고, 예를 들면, 단독 또는 복수종의 합계로, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 0.1질량부 이상 8질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히, 1질량부 이상 4.5질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 증감제의 양이온 중합성 화합물에 대한 사용 비율은 특별히 한정되지 않고, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위 내에서 대체로 통상의 사용 비율로 사용하면 된다.
상기 증감제의 함유량은 예를 들면, 산 발생제 100질량부에 대하여, 1질량부 이상 200질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이상 150질량부 이하인 것이 바람직하며, 10질량부 이상 100질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 사용 비율이 상술의 범위임으로써, 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
(2) 기타
상기 첨가제의 합계 함유량으로는 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있는 것이면 되는데, 예를 들면, 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 30질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 용이하게 얻을 수 있기 때문이다.
5. 조성물
상기 조성물은 각 발색의 발광 강도의 저하를 억제한다는 관점에서, 그 경화물에서 원하는 파장범위에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭이 좁은 것이 바람직하다.
따라서, 상기 경화물은 2종류의 발색의 가시광 사이의 겹침 영역만 선택적으로 흡수하고, 2종류의 발색의 가시광 각각의 발광 강도의 저하를 억제하면서, 각각의 발색의 색 순도를 향상시킬 수 있다. 그 결과, 상기 조성물은 색 재현성이 뛰어난 광학 필터를 얻을 수 있기 때문이다.
상기 조성물은 예를 들면, 색소가 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소인 경우에는 상기 조성물을 경화물로 했을 때, 상기 경화물의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭이 150㎚ 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 120㎚ 이하인 것이 바람직하며, 특히 10㎚ 이상 100㎚ 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 15㎚ 이상 80㎚ 이하인 것이 바람직하며, 특히 20㎚ 이상 50㎚ 이하인 것이 바람직하다. 상기 반값폭이 상술의 범위임으로써, 녹색광 및 적색광의 겹침을 억제하고, 각 색의 색 순도를 향상시킬 수 있으며, 더욱이, 각 색의 발광 강도의 저하를 억제할 수 있어서, 색 재현성이 뛰어난 광학 필터를 얻을 수 있기 때문이다.
상기 경화물의 반값폭의 측정 방법은 하기의 방법을 이용할 수 있다.
(1) 상기 조성물을 기재(도요보 제품 PET 필름 A9300(100㎛)에 바 코트법으로 도포하여 경화하고, 평가용 샘플(기재+경화막)을 얻는다.
도막의 두께는 경화 후에 원하는 파장범위에서 관찰되는 최대 흡수 파장에서의 투과율이 5% 정도(3% 이상 7% 이하)가 되도록 조정한다.
(2) 얻어진 평가용 샘플을 분광 광도계(예를 들면, 니혼 분코 제품 가시 자외 흡광도계 V-670 등)를 이용하여, 투과율을 측정한다.
한편, 투과율을 측정하는 파장범위는 색소에서 유래하는 최대 흡수 파장 및 반값이 관찰되는 파장범위를 포함하는 것이라면 문제는 없고, 예를 들면, 색소의 최대 흡수 파장이 550㎚ 이상 610㎚ 이하인 경우에는 450㎚ 이상 700㎚ 이하의 범위로 할 수 있다.
또한, 반값폭에 대해서는 상기 색소 단체 반값폭의 계산 방법과 동일한 방법을 이용할 수 있다.
상기 평가용 샘플 제작에서의 조성물의 경화 방법으로는 예를 들면, 이하의 방법을 이용할 수 있다.
(1) 기재 상에 도포한 후, 도막을 80℃ 5분간의 조건으로 건조 처리하여 용제를 제거한다.
(2) 산 발생제가 광산 발생제인 경우, 건조 처리 후의 도막에 대하여 고압 수은램프를 이용하여 자외선을 700mJ/㎠ 조사하여 경화 처리를 실시하고, 평가용 샘플을 얻는다.
(3) 산 발생제가 열산 발생제인 경우, 건조 처리 후의 도막에 대하여 100℃ 20분의 가열 처리를 하여 경화 처리를 실시하고, 평가용 샘플을 얻는다.
상기 조성물은 상기 조성물을 경화물로 했을 때, 상기 경화물의 원하는 파장범위에서 관찰되는 흡수 피크의 반값폭(경화물 반값폭)과, 상기 색소 단체의 원하는 파장범위에서 관찰되는 흡수 피크의 반값폭(색소 단체 반값폭)의 차(경화물 반값폭-색소 단체 반값폭)의 절대값이 작을수록 바람직하다. 구체적으로는, 50㎚ 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 30㎚ 이하인 것이 바람직하며, 특히, 10㎚ 이하인 것이 바람직하다.
상기 차가 상술의 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다. 따라서, 상기 조성물은 색 재현성이 뛰어난 광학 필터를 용이하게 제조 가능해지기 때문이다.
예를 들면, 색소로서, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용한 경우에는 상기 조성물의, 경화물의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에서 관찰되는 흡수 피크의 반값폭(경화물 반값폭)과, 상기 색소 단체의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭(색소 단체 반값폭)의 차(경화물 반값폭-색소 단체 반값폭)의 절대값이 50㎚ 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 30㎚ 이하인 것이 바람직하며, 특히 10㎚ 이하인 것이 바람직하다.
상기 차가 상술의 범위임으로써, 상기 조성물은 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다. 따라서, 상기 조성물은 색 재현성이 뛰어난 광학 필터를 용이하게 제조 가능해진다.
상기 색소, 양이온 중합성 화합물 및 산 발생제의 함유량은 각각 상기 "1. 색소", "2. 양이온 중합성 화합물" 및 "3. 산 발생제"의 항목에 기재된 함유량을 조합할 수 있다.
상기 조성물은 예를 들면, 상기 색소의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하이며, 상기 양이온 중합성 화합물의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50질량부 이상이며, 상기 산 발생제의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하인 것으로 할 수 있다. 상기 각 성분의 함유량이 상술의 조합임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 용이하게 얻을 수 있다.
상기 조성물의 제조 방법으로는 상기 각 성분을 소망량 포함하는 조성물을 형성 가능한 방법이라면 문제는 없고, 공지의 혼합 수단을 이용하는 방법을 들 수 있다.
상기 제조 방법은 경화물의 550㎚ 이상 610㎚ 이하 등의 소정의 파장범위에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭과, 색소의 550㎚ 이상 610㎚ 이하 등의 원하는 파장범위에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭의 차의 절대값이 작아지도록, 각 성분을 선택하여, 조성물을 조제하는 공정 등을 가지는 것이어도 된다.
상기 조성물의 경화 방법으로는 산 발생제의 종류에 따라 적절히 설정되는 것이다.
상기 경화 방법으로는 산 발생제가 광산 발생제인 경우에는 조성물에 대하여 자외선 등의 에너지 선을 조사하는 에너지 선 조사 처리를 실시하는 방법을 이용할 수 있다.
상기 조성물은 산 발생제가 광산 발생제인 경우에는 에너지 선 조사에 의해 통상은 0.1초~수 분 후에 지촉 건조 상태 혹은 용매 불용성의 상태로 경화될 수 있다.
상기 에너지 선 및 에너지 선에 대한 폭로 시간으로는 국제공개공보 WO2013/172145 등에 기재된 내용과 동일하게 할 수 있다.
상기 경화 방법은 산 발생제가 열산 발생제인 경우에는 조성물에 대하여, 가열 처리를 실시하는 방법을 이용할 수 있다.
상기 조성물에 대한 가열 방법, 가열 조건, 경화 시간 등에 대해서는 국제공개공보 WO2015/240123 등에 기재된 내용과 동일하게 할 수 있다.
본 발명의 조성물의 구체적인 용도로는 광학 필터, 도료, 코팅제, 라이닝제, 접착제, 인쇄판, 절연 바니시, 절연 시트, 적층판, 프린트 기판, 반도체 장치용·LED 패키지용·액정 주입구용·유기 일렉트로 루미네선스(EL)용·광소자용·전기절연용·전자부품용·분리막용 등의 밀봉제, 성형 재료, 퍼티, 유리섬유 함침제, 필러, 반도체용·태양전지용 등의 패시베이션(passivation)막, 층간 절연막, 보호막, 프린트 기판, 혹은 컬러TV, PC모니터, 휴대정보단말, CCD 이미지 센서의 컬러 필터, 플라스마 표시 패널용 전극재료, 인쇄 잉크, 치과용 조성물, 광조형용 수지, 액상 및 건조막 쌍방, 미소기계 부품, 유리섬유 케이블 코팅, 홀로그래피 기록용 재료의 각종 용도를 들 수 있다.
상기 광학 필터로는 광학 필터를 투과하는 광의 스펙트럼 형상의 변화가 요구되는 것으로 할 수 있고, 예를 들면, 액정 표시 장치(LCD), 플라스마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD), 음극관 표시 장치(CRT), CCD 이미지 센서, CMOS 센서, 형광 표시관, 전계 방사형 디스플레이 등의 화상 표시 장치용, 분석 장치용, 반도체 장치 제조용, 천문 관측용, 광 통신용, 안경 렌즈, 창문 등의 용도에 사용할 수 있다.
본 발명에서는 상기 조성물이 광학 필터용인 것이 바람직하고, 그 중에서도 화상 표시 장치용인 것이 바람직하며, 특히, 화상 표시 장치의 색 조정 필터용인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히, 2종류의 발색의 가시광 사이의 겹침을 저감하는 화상 표시 장치의 색 조정 필터용인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 평면에서 봤을 때 2종류의 발색의 발광 광 양자가 투과하도록 배치되는 화상 표시 장치의 색 조정 필터용인 것이 바람직하다.
상기 용도는 녹색 화소 또는 적색 화소와 겹치도록 배치되는 화상 표시 장치의 색 조제용 필터용인 것도 바람직하다.
상기 용도임으로써, 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조 가능하다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.
상기 용도는 그 중에서도 상기 색소가 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소인 경우에는, 녹색광 및 적색광의 발광 광을 가지는 화상 표시 장치의 색 조정 필터용인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 평면에서 봤을 때 녹색 화소 및 적색 화소와 겹치고, 녹색광 및 적색광의 발광 광 양자가 투과하도록 배치되는 화상 표시 장치의 색 조정 필터용인 것이 바람직하다.
상기 용도임으로써, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조 가능하다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.
또한, 상기 조성물의 용도로는 플렉시블성이 요구되는 용도도 들 수 있다.
구체적으로는, 상기 조성물은 플렉시블성을 가지는 화상 표시 장치용의 광학 필터 등에 바람직하게 사용할 수 있다.
B. 조성물 2
다음으로, 본 발명의 조성물 2에 대해 설명한다.
본 발명의 조성물 2는 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제를 가지는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명에 따르면, 상기 조성물이 소정의 색소, 양이온 중합성 화합물 및 산 발생제를 포함함으로써, 예를 들면, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위 등의 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻을 수 있다.
한편, 이와 같은 조성물을 사용함으로써, 이와 같은 효과를 얻을 수 있는 이유에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
본 발명의 조성물은 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소, 양이온 중합성 화합물 및 산 발생제를 가지는 것이다.
또한, 상기 조성물은 기타 성분을 포함할 수 있다.
한편, 이와 같은 각 성분의 내용, 경화물 반값폭과 색소 단체 반값폭의 차의 절대값, 조성물의 제조 방법, 경화 방법, 조성물의 용도 등의 기타 사항에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 조성물 2는 색소로서, 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소를 가지는 것이다.
본 발명에서는 예를 들면, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위 등의 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻을 수 있다는 관점에서, 상기 색소가 테트라아자포르피린계 색소 또는 트리아릴메탄계 색소인 것이 바람직하다.
상기 테트라아자포르피린계 색소로는 원하는 파장범위의 광을 흡수 가능한 것이라면 문제는 없고, 상기 조성물의 종류, 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.
상기 테트라아자포르피린계 색소로는 예를 들면, 2종류의 발색의 가시광 사이의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는, 2색의 발광 스펙트럼이 겹치는 파장의 범위의 광을 흡수 가능한 것을 사용할 수 있다.
상기 테트라아자포르피린계 색소로는 예를 들면, 녹색광 및 적색광의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용할 수 있다. 또한, 청색광 및 녹색광의 겹침을 저감하고, 색 순도를 향상시키는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 450㎚ 이상 550㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용할 수 있다.
상기 테트라아자포르피린계 색소로는 예를 들면, 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 가시광 사이의 겹침에 한정되지 않고, 380㎚보다 단파장의 자외광 사이, 780㎚보다 장파장의 적외선 사이 등의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서, 이들 광의 파장범위에 최대 흡수 파장을 가지는 것을 사용할 수도 있다.
상기 테트라아자포르피린계 색소로는 상기 일반식(1)로 나타내는 색소를 바람직하게 사용할 수 있다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
한편, 상기 테트라아자포르피린계 색소로는 1종류만 사용해도 되는데, 구조, 중심금속의 종류가 다른 2종류 이상의 화합물을 포함하는 것이어도 된다.
본 발명에서는, 습열 내구성 등의 내구성 향상의 관점에서는 상기 테트라아자포르피린계 색소가 2종류 이상의 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 한편, 이와 같은 2종류 이상의 테트라아자포르피린계 색소의 화합물의 조합, 2종류의 화합물을 포함하는 경우의 비율 등에 대해서도 상기 "A. 조성물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 트리아릴메탄계 색소로는 원하는 파장범위의 광을 흡수 가능한 것이라면 문제는 없고, 상기 조성물의 종류, 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.
상기 트리아릴메탄계 색소로는 예를 들면, 2종류의 발색의 가시광 사이의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 2색의 발광 스펙트럼이 겹치는 파장의 범위의 광을 흡수 가능한 것을 사용할 수 있다.
상기 트리아릴메탄계 색소로는 예를 들면, 녹색광 및 적색광의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용할 수 있다. 또한, 청색광 및 녹색광의 겹침을 저감하고, 색 순도를 향상시키는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 450㎚ 이상 550㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용할 수 있다.
상기 트리아릴메탄계 색소로는 예를 들면, 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 가시광 사이의 겹침에 한정되지 않고, 380㎚보다 단파장의 자외광 사이, 780㎚보다 장파장의 적외선 사이 등의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서, 이들 광의 파장범위에 최대 흡수 파장을 가지는 것을 사용할 수도 있다.
상기 트리아릴메탄계 색소로는 상기 일반식(301)로 나타내는 색소를 바람직하게 사용할 수 있다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
상기 시아닌계 색소로는 원하는 파장범위의 광을 흡수 가능한 것이라면 문제는 없고, 상기 조성물의 종류, 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.
상기 시아닌계 색소로는 예를 들면, 2종류의 발색의 가시광 사이의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 2색의 발광 스펙트럼이 겹치는 파장의 범위의 광을 흡수 가능한 것을 사용할 수 있다.
상기 시아닌계 색소로는 예를 들면, 녹색광 및 적색광의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용할 수 있다. 또한, 청색광 및 녹색광의 겹침을 저감하고, 색 순도를 향상시키는 광학 필터에 사용한다는 관점에서는 450㎚ 이상 550㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 사용할 수 있다.
상기 시아닌계 색소로는 예를 들면, 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 가시광 사이의 겹침에 한정되지 않고, 380㎚보다 단파장의 자외광 사이, 780㎚보다 장파장의 적외선 사이 등의 겹침을 저감하는 광학 필터에 사용한다는 관점에서, 이들 광의 파장범위에 최대 흡수 파장을 가지는 것을 사용할 수도 있다.
상기 시아닌계 색소로는 상기 일반식(401)로 나타내는 색소를 바람직하게 사용할 수 있다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
상기 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소의 함유량으로는 각각 상기 "A. 조성물"의 "1. 색소"의 "(1) 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소"의 항목에 기재된 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소의 함유량과 마찬가지로 할 수 있다. 구체적으로는, 상기 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소의 함유량은 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 0.1질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다. 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
또한, 상기 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소의 함유량은 양이온 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 0.02질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 0.05질량부 이상 4질량부 이하인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 0.05질량부 이상 3.5질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
또한, 상기 색소는 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소를 포함하는 것이며, 이들 색소 중 적어도 1종을 포함하는 것이라면 제한은 없다. 상기 색소가 이들 색소를 혼합하여 사용하는 경우, 색소 전체의 함유량은 상기 "A. 조성물"의 "1. 색소"의 "(1) 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소"의 항목에 기재된 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소의 함유량과 마찬가지로 할 수 있다.
더욱이, 상기 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소의 합계 100질량부 중의, 상기 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소 각각에 대한 함유량으로는 상기 "A. 조성물"의 "1. 색소"의 "(1) 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소"의 항목에 기재된 각 색소의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소 100질량부 중의 함유량과 마찬가지로 할 수 있다. 구체적으로는, 상기 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소의 함유량은 각각 상기 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소의 합계 100질량부 중에 50질량부 이상으로 할 수 있고, 그 중에서도 80질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 95질량부 이상인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 상기 조성물은 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조 가능해지기 때문이다.
상기 조성물 2는 색소로서 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소를 포함하는 것인데, 필요에 따라 기타 색소를 포함할 수도 있다.
즉, 상기 조성물 2는 색소, 양이온 중합성 화합물 및 산 발생제를 포함하고, 상기 색소가 적어도 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소를 포함하는 것으로 할 수 있다.
상기 기타 색소에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 "1. 색소"의 "(1-4) 기타"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
또한, 상기 기타 색소 및 상기 테트라아자포르피린계 색소의 합계 함유량 등, 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소와 필요에 따라 포함되는 기타 색소의 합계 함유량으로는 상기 "A. 조성물"의 "1. 색소"의 "(1) 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소"의 항목에 기재된 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소 및 기타 파장역에 최대 흡수 파장을 가지는 색소의 합계 함유량과 마찬가지로 할 수 있다.
예를 들면, 상기 조성물 2에 포함되는 색소 전체의 함유량으로는 조성물 2의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 0.1질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다.
또한, 색소 전체의 함유량은 조성물 2의 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 0.2질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다.
색소 전체의 함유량은 양이온 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.02질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.05질량부 이상 4질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.05질량부 이상 3.5질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 0.1질량부 이상 3.5질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 0.3질량부 이상 3.5질량부 이하인 것이 가장 바람직하다.
색소 전체의 함유량은 색소 전체와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제의 합계 100질량부 중에 0.1질량부 이상 15질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.2질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 0.3질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 색소 전체의 함유량이 상술의 범위임으로써, 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
상기 조성물에 포함되는 색소 전체 합계량 100질량부 중에 포함되는, 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소의 합계 함유량은 상기 "A. 조성물"의 "1. 색소"의 "(1) 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소"의 항목에 기재된, 조성물에 포함되는 색소 전체 합계량 100질량부 중에 포함되는 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소의 함유량과 마찬가지로 할 수 있다.
즉, 상기 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소의 합계 함유량은 조성물에 포함되는 색소 전체 합계량 100질량부 중에, 50질량부 이상으로 할 수 있고, 80질량부 이상인 것이 바람직하며, 90질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 95질량부 이상인 것이 더 바람직하며, 특히 100질량부인 것, 즉, 상기 조성물이 색소로서, 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소에서 선택되는 1종류 이상의 색소만 포함하는 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술의 범위임으로써, 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물을 얻을 수 있기 때문이다.
C. 조성물 3
다음으로, 본 발명의 조성물 3에 대해 설명한다.
본 발명의 조성물 3은 색소와 중합성 화합물을 가지고, 경화물의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭과, 상기 색소 단체의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭의 차의 절대값이 소정의 범위 이하인 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명에 따르면, 경화물의 반값폭과 색소 단체의 반값폭의 차의 절대값이 소정의 범위 이하임으로써, 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 얻을 수 있다.
한편, 이와 같은 조성물을 사용함으로써, 이와 같은 효과를 얻을 수 있는 이유에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
본 발명의 조성물은 색소 및 중합성 화합물을 가지는 것이다.
이하, 이와 같은 조성물의 각 성분에 대해 설명한다.
한편, 상기 색소에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다. 보다 구체적으로는 상기 "A. 조성물"의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소로서 든 것과 마찬가지로 할 수 있다.
1. 중합성 화합물
상기 중합성 화합물로는 중합성 기를 가지는 중축합 가능한 화합물이면 된다.
본 발명에서는 그 중에서도 중합성 화합물이 양이온 중합성 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.
이와 같은 중축합 가능한 화합물 및 양이온 중합성 화합물의 내용에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
2. 반값폭의 차의 절대값
상기 경화물의 원하는 범위에서 관찰되는 흡수 피크의 반값폭과, 상기 색소 단체의 원하는 범위에서 관찰되는 흡수 피크의 반값폭의 차의 절대값으로는 소정의 범위 이하라면 문제는 없고, 상기 조성물의 종류, 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.
상기 반값폭의 차의 절대값으로는 상기 "A. 조성물"의 "5. 조성물"의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소를 포함하는 경우의 반값폭의 차의 절대값으로서 기재한 내용과 마찬가지로 할 수 있고, 보다 구체적으로는 50㎚ 이하로 할 수 있다.
3. 조성물
상기 조성물은 상기 중합성 화합물을 중합하기 위한 개시제를 포함할 수 있다.
이와 같은 개시제로는 예를 들면, 중합성 화합물로서 라디칼 중합성 화합물을 포함하는 경우에는 광 또는 열라디칼 중합 개시제를 들 수 있다.
또한, 상기 개시제로는 중합성 화합물로서 양이온 중합성 화합물을 포함하는 경우에는 산 발생제를 들 수 있다.
상기 광 또는 열라디칼 중합 개시제에 대해서는 공지의 화합물을 사용할 수 있다.
산 발생제, 상기 조성물의 용도 등의 기타 사항에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
D. 경화물
다음으로, 본 발명의 경화물에 대해 설명한다.
본 발명의 경화물은 상술의 조성물의 경화물인 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명에 따르면, 상기 경화물은 상술의 조성물을 경화시킨 것임으로써, 예를 들면, 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터 등으로서 사용할 수 있다.
본 발명의 경화물은 상술의 조성물을 사용하는 것이다.
이하, 본 발명의 경화물에 대해 상세하게 설명한다.
한편, 상기 조성물에 대해서는 상기 "A. 조성물", "B. 조성물 2" 및 "C. 조성물 3"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 경화물은 통상 양이온 중합성 화합물 등의 중합성 화합물의 중합물을 포함하는 것이다.
상기 중합성 화합물의 중합물의 함유량은 상기 "A. 조성물"의 항목에 기재된 양이온 중합성 화합물의 함유량과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 경화물에 포함되는 양이온 중합성 화합물 등의 중합성 화합물의 잔존량으로는 경화물의 용도 등에 따라 적절히 설정되는 것인데, 예를 들면, 경화물에 포함되는 양이온 중합성 화합물 등의 중합성 화합물과 이들 중합물의 합계 100질량부 중에 10질량부 이하로 할 수 있고, 그 중에서도 1질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 경화물은 밀착성 등이 뛰어나고, 또한 강도 등도 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 경화물의 평면에서 본 형상, 두께 등에 대해서는 상기 경화물의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.
상기 두께로는 예를 들면, 0.05㎛ 이상 300㎛ 이하 등으로 할 수 있다.
상기 경화물의 제조 방법으로는 상기 조성물의 경화물을 원하는 형상이 되도록 형성할 수 있는 방법이라면 특별히 한정되는 것은 아니다.
이와 같은 제조 방법으로는 예를 들면, 후술할 "F. 경화물의 제조 방법"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
상기 경화물의 용도 등에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
E. 광학 필터
다음으로, 본 발명의 광학 필터에 대해 설명한다.
본 발명의 광학 필터는 상술의 조성물의 경화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명에 따르면, 상술의 경화물을 포함함으로써, 화상 표시 장치의 색 재현성이 뛰어난 것이 된다.
본 발명의 광학 필터는 상술의 경화물을 포함하는 것이다.
상기 경화물에 대해서는 상기 "D. 경화물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 광학 필터는 상술의 경화물을 포함하는 것인데, 통상 광학 필터에 포함되는 상기 경화물의 함유량은 광학 필터 100질량부 중에 100질량부이다. 즉, 상기 광학 필터는 상기 경화물로 이루어지는 것으로 할 수 있다.
상기 광학 필터는 다른 층에 적층되고, 적층 광학 필터 중의 1개 이상의 층으로서 포함되는 것이어도 된다.
상기 적층 광학 필터로는 예를 들면, 투명 지지체 및 광학 필터가 이 순서로 적층된 것을 들 수 있다.
상기 적층 광학 필터는 초벌층, 반사 방지층, 하드 코팅층, 윤활층, 점착제층 등의 각 층을 포함하는 것이어도 된다.
상기 광학 필터는 예를 들면, 상기 투명 지지체 및 임의의 각 층 사이를 접착하는 접착층 등으로 사용되는 것이어도 된다.
또한, 그 때는 상기 적층 광학 필터는 접착층으로서의 광학 필터의 표면에 이밀착(易密着)한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등의 공지의 세퍼레이터 필름을 마련할 수도 있다.
상기 광학 필터는 화상 표시 장치용으로 사용하는 경우, 통상 디스플레이의 앞면에 배치할 수 있다. 예를 들면, 광학 필터를 디스플레이의 표면에 직접 붙여도 문제는 없고, 디스플레이 앞에 전면판이나 전자파 쉴드가 마련되어 있는 경우는 전면판 또는 전자파 쉴드의 겉쪽(외측) 또는 안쪽(디스플레이 측)에 광학 필터를 붙여도 된다.
상기 광학 필터는 예를 들면, 화상 표시 장치에 포함되는 각 부재, 예를 들면, 컬러 필터, 편광판 등의 광학 부재로 사용되는 것이어도 된다.
또한, 상기 광학 필터는 상기 화상 표시 장치에 포함되는 각 부재에 직접 적층되는 것이어도 된다.
상기 광학 필터의 평면에서 본 형상, 두께 등에 대해서는 상기 광학 필터의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있는데, 예를 들면, 상기 "D. 경화물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 광학 필터의 제조 방법으로는 원하는 형상의 광학 필터를 정밀도 높게 형성할 수 있는 방법이라면 문제는 없고, 후술할 "F. 경화물의 제조 방법"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
F. 경화물의 제조 방법
다음으로, 본 발명의 경화물의 제조 방법에 대해 설명한다.
본 발명의 경화물의 제조 방법은 상술의 조성물을 경화하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명에 따르면, 상술의 조성물을 경화시키는 것이기 때문에, 예를 들면, 원하는 파장범위에 보다 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터 등으로 사용 가능한 경화물을 얻을 수 있다.
본 발명의 경화물의 제조 방법은 상기 경화하는 공정을 포함하는 것이다.
이하, 본 발명의 경화물의 제조 방법의 각 공정에 대해 상세하게 설명한다.
한편, 상기 조성물은 상기 "A. 조성물", "B. 조성물 2" 및 "C. 조성물 3"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있으므로, 여기서의 설명은 생략한다.
1. 경화하는 공정
상기 경화하는 공정은 상술의 조성물을 경화하는 공정이다.
상기 조성물의 경화 방법으로는 조성물에 포함되는 산 발생제 등의 개시제의 종류 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.
이와 같은 경화 방법으로는 예를 들면, 조성물이 개시제로서, 광산 발생제, 광 라디칼 개시제 등과 같이 광 조사에 의해 중합성 화합물의 중합물을 얻을 수 있는 것인 경우에는 상기 조성물에 대하여 자외선 등의 에너지 선을 조사하는 에너지 선 조사 처리를 실시하는 방법을 이용할 수 있다.
또한, 상기 경화 방법은 조성물이 개시제로서, 열산 발생제, 열라디칼 개시제 등과 같이 가열 처리에 의해 중합성 화합물의 중합물을 얻을 수 있는 것인 경우에는 조성물에 대하여 가열 처리를 실시하는 방법을 이용할 수 있다.
한편, 이와 같은 에너지 선 조사, 가열 처리 등에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
2. 기타 공정
상기 제조 방법은 필요에 따라 기타 공정을 가지는 것이어도 된다.
이와 같은 공정으로는 조성물을 경화하는 공정 전에 상기 조성물을 도포하는 공정 등을 들 수 있다.
조성물을 도포하는 방법으로는 스핀 코터, 롤 코터, 바 코터, 다이 코터, 커튼 코터, 각종 인쇄, 침지 등의 공지의 방법을 이용할 수 있다.
상기 기재로는 경화물의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있고, 소다 유리, 석영 유리, 반도체 기판, 금속, 종이, 플라스틱 등을 포함하는 것을 들 수 있다.
또한, 상기 경화물은 기재 상에서 형성된 후, 기재로부터 박리하여 사용해도 되고, 기재로부터 다른 피착체(被着體)에 전사하여 사용해도 된다.
상기 기타 공정으로는 경화물의 550㎚ 이상 610㎚ 이하 등의 소정의 파장범위에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭과, 색소의 550㎚ 이상 610㎚ 이하 등의 소정의 파장범위에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭의 차의 절대값이 작아지도록, 각 성분을 선택하여, 조성물을 조제하는 공정 등을 가지는 것이어도 된다. 한편, 반값폭의 차의 절대값으로는 상기 "A. 조성물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
3. 경화물
본 발명의 제조 방법에 의해 제조되는 경화물 및 용도 등에 대해서는 상기 "D. 경화물"의 항목에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
G. 기타
1. 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제를 포함하는 조성물.
2. 1.에 있어서, 상기 조성물을 경화물로 했을 때, 상기 경화물의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭과, 상기 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭의 차의 절대값이 50㎚ 이하인, 조성물.
3. 1. 또는 2.에 있어서, 상기 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하이고, 상기 양이온 중합성 화합물의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50질량부 이상이며, 상기 산 발생제의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하인, 조성물.
4. 1. 내지 3. 중 어느 한 항에 있어서, 상기 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소가 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소를 포함하는 조성물.
5. 4.에 있어서, 상기 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소의 함유량이 상기 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소 100질량부 중에 50질량부 이상인 조성물.
6. 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소와 양이온 중합성 화합물과 산 발생제를 포함하는 조성물.
7. 4. 내지 6. 중 어느 한 항에 있어서, 상기 테트라아자포르피린계 색소가 상기 일반식(1)로 나타내는 색소이며, 상기 트리아릴메탄계 색소가 상기 일반식(301)로 나타내는 색소인 조성물.
8. 1. 내지 7. 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물을 경화물로 했을 때, 상기 경화물의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭이 150㎚ 이하인 조성물.
9. 1. 내지 8. 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산 발생제가 상기 일반식(2)로 나타내는 광산 발생제를 포함하는 조성물.
10. 1. 내지 9. 중 어느 한 항에 있어서, 상기 양이온 중합성 화합물이 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 조성물.
11. 1. 내지 10. 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물이 광학 필터용인 조성물.
12. 1. 내지 11. 중 어느 한 항에 기재된 조성물의 경화물.
13. 12.에 기재된 경화물을 포함하는 광학 필터.
14. 1. 내지 11. 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 경화하는 공정을 포함하는 경화물의 제조 방법.
본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것이 아니다. 상기 실시형태는 예시이며, 본 발명의 특허청구범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 가지고, 동일한 작용 효과를 발휘하는 것은 어떠한 것이어도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.
실시예
이하, 실시예 등을 들어 본 발명을 더 상세하게 설명하겠지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[제조예 1]
화합물 C-1의 제조 방법
2,7,12,17-테트라-tert-부틸-5,10,15,20-테트라아자-21H,23H-포르피린(알드리치 시약) 0.538g(1m㏖)과 아세트산구리(II) 0.2g(1.1m㏖)과 DBU 0.52g(3.3m㏖)을 노르말펜탄올 10g과 혼합하고, 140℃에서 8시간 반응시켰다. 그 후, 잔차를 액체 크로마토그래피(클로로포름)로 정제하고, 감압 건조시켜서 목적물 C-1을 얻었다. 질량 분석으로 목적물의 분자량인 것을 확인했다.
Figure pct00028
[제조예 2]
국제공개공보 WO2014/196464에 기재된 방법에 의해, 하기 식(C-5)로 나타내는 화합물을 얻었다.
Figure pct00029
[제조예 3]
일본 공개특허공보 특개2012-121821호에 기재된 방법에 의해, 하기 식(C-6)으로 나타내는 화합물을 얻었다.
Figure pct00030
[실시예 1~36 및 비교예 1~4]
하기 표 1~표 4에 기재된 배합에 따라, 양이온 중합성 화합물, 산 발생제, 색소, 라디칼 중합성 화합물, 광 라디칼 개시제, 용제 및 첨가제를 배합하여 조성물을 얻었다.
또한, 각 성분은 이하의 재료를 사용했다.
한편, 표 중의 배합량은 각 성분의 질량부를 나타내는 것이다.
(양이온 중합성 화합물)
A1-1: 지방족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 ED-523T)
A1-2: 지방족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 ED-506)
A1-3: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4100E)
A1-4: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4901)
A1-5: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4000)
A1-6: 지환족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4080E)
A1-7: 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 지환족 에폭시 화합물, 저분자량 화합물(다이셀사 제품 셀록사이드 2021P)
A1-8: 지환족 에폭시 화합물, 2,2-비스(하이드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물, 고분자량 화합물(다이셀사 제품 EHPE-3150)
A1-9: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 고분자량 화합물(니혼카야쿠사 제품 NC-3000)
A1-10: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 고분자량 화합물(미쓰비시 가가쿠 가부시키가이샤 제품 JER1001)
A1-11: 옥세탄 화합물, 저분자량 화합물(도아고세이사 제품 OXT-101)
A1-12: 옥세탄 화합물, 저분자량 화합물(도아고세이사 제품 OXT-211)
A1-13: 지환족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(하기 식(A1-13)으로 나타내는 화합물)
Figure pct00031
(라디칼 중합성 화합물)
A2-1: 라디칼 중합성 화합물(니혼카야쿠사 제품 카야라드 DPHA(디펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트의 혼합물))
(열가소성 수지)
A3-1: 열가소성 수지(메타크릴 수지, 스미또모 가가꾸사 제품 스미펙스 LG)
(산 발생제)
B1-1: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-1)로 나타내는 화합물)
B1-2: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-2)로 나타내는 화합물)
B1-3: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-3)으로 나타내는 화합물)
B1-4: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-4)로 나타내는 화합물)
B1-5: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(산아프로사 제품 CPI-150)
B1-6: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(산아프로사 제품 CPI-100P)
B1-7: 광산 발생제, 방향족 설포늄염(산아프로사 제품 CPI-210S)
B1-8: 열산 발생제, 방향족 설포늄염(산신 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제품 SI-110)
Figure pct00032
(라디칼 개시제)
B2-1: 열라디칼 개시제(1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤(IRGACURE184))
(색소)
C-1: 테트라아자포르피린, 일반식(1)로 나타내는 화합물(M=Cu)(제조예 1에서 제조된 상기 식(C-1)로 나타내는 화합물)
C-2: 테트라아자포르피린, 일반식(1)로 나타내는 화합물(야마다 가가쿠 고교사 제품 FDG-006)
C-3: 테트라아자포르피린, 일반식(1)로 나타내는 화합물(M=바나듐)(야마모토 카세이사 제품 PD-320)
C-4: 시아닌(하기 식(C-4)로 나타내는 화합물)
C-5: 트리아릴메탄계 색소, 일반식(301)로 나타내는 화합물(제조예 2에서 제조된 상기 식(C-5)로 나타내는 화합물)
C-6: 테트라아자포르피린, 일반식(1)로 나타내는 화합물(M=Cu)(제조예 3에서 제조된 상기 식(C-6)으로 나타내는 화합물)
Figure pct00033
(첨가제)
D-1: 레벨링제(도레이 다우코닝사 제품 SH-29P Paint aditive)
D-2: 계면활성제(빅케미사 제품 BYK-333)
D-3: 산화 방지제(ADEKA사 제품 AO-60)
D-4: 산화 방지제(ADEKA사 제품 AO-20)
D-5: 증감제(하기 식(D-5)로 나타내는 화합물)
D-6: 증감제(하기 식(D-6)으로 나타내는 화합물)
D-7: 증감제(하기 식(D-7)로 나타내는 화합물)
D-8: 증감제(하기 식(D-8)로 나타내는 화합물)
Figure pct00034
(용제)
E-1: 메틸에틸케톤(MEK)
E-2: 톨루엔
E-3: 디아세톤알코올
E-4: 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGM)
[평가]
각종 측정에 대해서는 이하의 방법에 따라 실시했다.
평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장
이하의 방법에 의해 평가용 샘플을 준비하고, 니혼 분코 제품 가시 자외 흡광도계 V-670을 이용하여, 투과 스펙트럼을 측정하고, 450㎚~700㎚의 범위에서의 투과율의 최소값(투과율)과 그 때의 파장(최대 흡수 파장: λmax)을 얻었다. 결과를 하기 표 1~4에 나타낸다.
(평가용 샘플의 제작 방법)
(1) 상기 조성물을 기재(도요보 제품 PET 필름 A9300, 100㎛)에, 바 코트법으로 도포했다.
도막의 두께는 경화 후의 최대 흡수 파장에서의 투과율이 5% 정도(3% 이상 7% 이하)가 되도록 조정했다.
(2) 이어서, 오븐으로 도막을 80℃, 5분간의 조건으로 건조 처리하여 용제를 제거했다.
(3) 이어서, 각 실시예 및 비교예마다 이하의 경화 처리를 실시했다.
(3-1) 실시예 1~16 및 실시예 18~36에서는 건조 처리 후의 도막에 대하여 고압 수은램프를 이용하여 자외선을 700mJ/㎠ 조사하여 경화 처리를 실시하고, 평가용 샘플을 얻었다.
(3-2) 실시예 17에서는 오븐으로 건조 처리 후의 도막에 대하여 100℃, 20분의 가열 처리를 하여 경화 처리를 실시하고, 평가용 샘플을 얻었다.
(3-3) 비교예 1 및 비교예 3에서는 오븐으로 건조 처리 후의 도막에 대하여 120℃, 20분의 가열 처리를 하여 경화 처리를 실시하고, 평가용 샘플을 얻었다.
(3-4) 비교예 2 및 비교예 4에서는 건조 처리 후의 도막(기재 있음)을 평가용 샘플로 했다.
평가 2. 경화물의 반값폭
상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"에서 얻어진 투과 스펙트럼으로부터 반값((100%-최대 흡수 파장에서의 투과율(%))/2)을 산출했다.
이어서, 얻어진 투과 스펙트럼과 반값의 산출 결과로부터 반값이 되는 파장을 최대 흡수 파장보다 장파장 측과, 단파장 측에서 각각 구하고, 양자의 파장 차의 절대값을 반값폭으로 하여 산출했다. 결과를 하기 표 1~4에 나타낸다.
한편, 반값폭이 좁으면, 예를 들면, 경화물을 광학 필터로 사용했을 때에 각 색의 발광 강도의 저하를 억제할 수 있는 점에서 뛰어난 것을 나타낸다.
평가 3. 택크성(tackiness)
상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플의 제작 직후에서의 표면의 택크성을 촉진으로 평가하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1~4에 나타낸다.
++: 택크 프리(끈적임 없음)
+: 끈적임이 있지만, 12시간 방치 후에는 택크 프리(끈적임 없음)
한편, 택크성 평가가 "++"이면, 경화물은 경화 속도가 빠른 것을 나타낸다.
평가 4. 컬(curl)성
상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플을 10㎝ 네모지게 자르고, 육안으로 뒤로 젖혀짐이 있는지를 평가하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1~4에 나타낸다.
++: 뒤로 젖혀짐 없음
-: 뒤로 젖혀짐 있음
한편, 컬성 평가가 "++"이면, 경화물은 컬이 적고, 컬성이 뛰어난 것을 나타낸다.
평가 5. 가요성(可撓性)
상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플을 10㎝ 네모지게 자르고, 직경 10㎜의 금속 막대에 둘러 감아서 크랙이 생기는지 아닌지를 육안으로 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1~4에 나타낸다.
++: 크랙 없음
-: 크랙 있음
한편, 가요성 평가가 "++"이면, 경화물은 가요성이 뛰어난 것을 나타낸다.
평가 6. 내(耐)용제성
상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플의, 상기 조성물의 경화막에 아세톤을 스며들게 한 면봉을 문지르고, 10번 왕복 후의 염료의 이염을 육안으로 관찰하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1~4에 나타낸다.
++: 이염 없음
-: 이염 있음
한편, 내용제성이 "++"이면, 경화물은 경시적인 색 변화가 적은 점에서 뛰어난 것을 나타낸다.
평가 7. 색소 단체의 최대 흡수 파장 및 반값폭
색소(C-1~C-5)를 용해 후의 최대 흡수 파장에서의 투과율이 5% 정도(3% 이상 7% 이하)가 되도록 클로로포름에 용해하고, 색소 용액을 조제했다.
이어서, 색소 용액을 석영 셀(광로 길이 10㎜, 두께 1.25㎜)에 충전하고, 분광 광도계(예를 들면, 니혼 분코 제품 가시 자외 흡광도계 V-670)를 이용하여 투과율을 측정하고, 450㎚~700㎚의 범위에서의 투과율의 최소값(투과율)과 그 때의 파장(최대 흡수 파장: λmax)을 얻었다.
또한, 상기 평가 2와 동일한 방법에 의해, 반값폭(색소 단체 반값폭)을 산출했다.
결과를 하기 표 5에 나타낸다.
평가 8. 택크성 2
실시예 1~16 및 18 그리고 실시예 19~36에 대해, 조사하는 자외선량을 700mJ/㎠에서 100mJ/㎠로 변경한 것 이외에는 상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플의 제작 직후에서의 표면의 택크성을 촉진으로 평가하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1~4에 나타낸다.
++: 택크 프리(끈적임 없음)
+: 끈적임이 있지만, 12시간 방치 후에는 택크 프리(끈적임 없음)
한편, 택크성 평가가 "++"이면, 경화물은 경화 속도가 빠른 것을 나타낸다.
평가 9. 내구성
실시예 1, 12, 13, 21 및 24~36에 대해, 상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플을 10㎝ 네모지게 잘라내고, 온도 85℃, 습도 85%의 습열 환경 시험기에 6시간 정치(靜置)했다.
습열 환경 시험 후의 경화막에서, 경화막 중의 색소가 석출된 정도에 대해 하기의 평가 기준에 따라 육안으로 판단했다. 결과를 하기 표 1~4에 나타낸다.
++: 10㎝ 사각의 시험편 중에 색소가 석출된 면적 비율이 1할 이하
+: 10㎝ 사각의 시험편 중에 색소가 석출된 면적 비율이 1할 이상, 4할 이하
-: 10㎝ 사각의 시험편 중에 색소가 석출된 면적 비율이 4할 이상
Figure pct00035
Figure pct00036
Figure pct00037
Figure pct00038
Figure pct00039
표 1~2 및 표 5로부터, 실시예 1~19의 조성물은 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 것을 확인할 수 있었다.
실시예 1~19는 라디칼 중합성 화합물을 포함하는 비교예 1 및 비교예 3과 비교하여, 경화물의 반값폭과 색소 단체 반값폭의 차가 작은 것을 확인할 수 있었다. 구체적으로는, 실시예 1~19에서는 반값폭의 차를 50㎚ 이하로 할 수 있었다. 이에 반하여, 비교예 1 및 비교예 3에서는 반값폭의 차가 50㎚보다 컸다. 즉, 실시예 1~19의 조성물은 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위 등의 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 것을 확인할 수 있었다.
또한, 표에는 기재하지 않았지만, 실시예 1의 색소 함유량을 0.05질량부, 0.1질량부, 0.2질량부로 한 실시예(실시예 1-1, 실시예 1-2, 실시예 1-3)와 비교예 1의 색소 함유량을 0.05질량부, 0.1질량부, 0.2질량부로 한 비교예(비교예 1-1, 비교예 1-2, 비교예 1-3)에 대해, 상기 "평가 2. 경화물의 반값폭"에 기재된 평가를 실시했다.
그 결과, 실시예 1-1~1-3은 각각 색소의 함유량이 동일한 양의 비교예 1-1~1-3보다도 경화물의 반값폭과 색소 단체 반값폭의 차가 10㎚ 이상 작은 것을 확인할 수 있었다.
그 결과, 상기 조성물은 녹색 발광 및 적색 발광의 색 순도를 높이는 것이 가능하고, 화상 표시 장치의 색 재현성이 뛰어난 광학 필터에 특히 유용한 것을 확인할 수 있었다.
실시예 1~19와 비교예 1 및 비교예 3의 컬 평가로부터 실시예 1~18의 조성물은 경화 수축이 적고, 밀착성 등이 뛰어나게 되는 것이 추측되었다.
실시예 1~19와 비교예 1 및 비교예 3의 가요성 평가로부터 실시예 1~18의 조성물은 가요성이 양호하고, 예를 들면, 플렉시블성을 가지는 화상 표시 장치에 사용되는 광학 필터 등에 특히 유용한 것을 확인할 수 있었다.
실시예 1~19와 비교예 2 및 비교예 4의 내용제성의 평가로부터 상기 조성물은 양이온 중합성 화합물을 포함함으로써, 3차원 가교된 도막을 형성할 수 있고, 색소의 유지 성능 등의 내구성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 것을 확인할 수 있었다.
실시예 17과 다른 실시예의 비교로부터 광산 발생제는 열산 발생제보다 경화 속도가 빠른 것을 확인할 수 있었다. 또한, 열산 발생제를 사용함으로써, 상기 조성물은 경화 처리(가열 처리) 후에 다른 부재와의 맞붙임을 용이하게 할 수 있는 것을 확인할 수 있었다.
실시예 20~36과 실시예 3 등의 택크성 2의 평가로부터 증감제를 포함하는 실시예 20~36의 조성물은 양이온 중합성 화합물로서 중합성이 뛰어난 A1-7의 함유량이 낮은 경우여도 뛰어난 경화성을 발휘할 수 있는 것을 확인할 수 있었다.
본 발명은 원하는 파장범위, 예를 들면, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 광학 필터를 제조하는 것이 가능한 조성물을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.

Claims (16)

  1. 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소와,
    양이온 중합성 화합물과,
    산 발생제를 포함하는 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 테트라아자포르피린계 색소가 하기 일반식(1)로 나타내는 화합물이며,
    상기 트리아릴메탄계 색소가 하기 일반식(301)로 나타내는 화합물인 조성물.
    Figure pct00040

    (식(1) 중 R1~R8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 아미노기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기, 또는 이들 기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기를 나타내고, R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 및 R7과 R8은 서로 결합하여, 피롤환의 탄소 원자를 포함하는 지환 구조를 형성하고 있어도 된다. 단, R1~R8 모두가 수소 원자인 것은 아니다. M은 2개의 수소 원자, 2개의 1가의 금속 원자, 2가의 금속 원자, 또는 3가 혹은 4가의 금속 화합물을 나타낸다.)
    Figure pct00041

    (식 중 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309 및 R310은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기 또는 수산기를 나타내거나, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 혹은 상기 알콕시기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내고,
    R311, R312, R313, R314, R315 및 R316은 각각 독립적으로, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 니트로기를 나타내거나, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 시아노기, 니트로기, 수산기 혹은 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 페닐기 혹은 상기 페닐기 중의 수소 원자가 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 비닐기로 치환되어 있는 기, 또는 벤질기 혹은 상기 벤질기 중의 수소 원자가 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 비닐기로 치환되어 있는 기를 나타내며,
    R301과 R311, R302와 R312, R305와 R313, R306과 R314, R309와 R315 및 R310과 R316은 서로 연결되어 6원환을 형성하고 있어도 되고,
    R311과 R312, R313과 R314, 및 R315와 R316은 서로 연결되어 3~6원환의 복소환을 형성하고 있어도 되며,
    R303과 R304 및 R307과 R308은 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR317R318, CO, NR319, PR320 또는 SO2를 개재하여 서로 연결되어 환을 형성하고 있어도 되고,
    R304와 R305, R306과 R307은 서로 연결되어 6원환을 형성하고 있어도 되며,
    X는 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR317R318, CO, NR319, PR320 또는 SO2를 나타내고,
    R317 및 R318은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 혹은 상기 알콕시기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내고,
    R319 및 R320은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내며,
    Anq1-는 q1가의 음이온을 나타내고, q1은 1 또는 2를 나타내며, p1은 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)
  3. 제2항에 있어서,
    상기 일반식(1) 중의 R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 및 R7과 R8의 조합이 각각 독립적으로, 하기 (i), (ii) 및 (iii)으로 나타내는 어느 하나의 조합인 조성물.
    (i) 수소 원자와, 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 상기 알킬기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기의 조합
    (ii) 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 상기 알킬기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기와, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기 또는 상기 알콕시기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기의 조합
    (iii) 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 상기 알킬기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기와, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 상기 아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기의 조합
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 테트라아자포르피린계 색소가 2종류의 상기 일반식(1)로 나타내는 화합물을 포함하고,
    상기 2종류의 화합물의 조합이 하기 (a) 또는 (b)로 나타내는 어느 하나의 조합인 조성물.
    (a) 일반식(1) 중의 R1~R8 중 적어도 하나가, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 상기 아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기인 화합물과, 일반식(1) 중의 R1~R8이 탄소 원자수 6~30의 아릴기 및 상기 아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 기 이외의 기인 화합물의 조합
    (b) 일반식(1) 중의 M이 2가의 금속 원자인 화합물과, 일반식(1) 중의 M이 3가 혹은 4가의 금속 화합물인 화합물의 조합
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 및 시아닌계 색소가 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소인 조성물.
  6. 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 색소와,
    양이온 중합성 화합물과,
    산 발생제를 포함하는 조성물.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    상기 조성물을 경화물로 했을 때, 상기 경화물의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭과,
    550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭의 차의 절대값이 50㎚ 이하인 조성물.
  8. 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하이고,
    상기 양이온 중합성 화합물의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 50질량부 이상이며,
    상기 산 발생제의 함유량이 상기 조성물의 고형분 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하인 조성물.
  9. 제5항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소가 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소를 포함하고,
    상기 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소 또는 시아닌계 색소의 함유량이 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 상기 색소 100질량부 중에 50질량부 이상인 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조성물을 경화물로 했을 때, 상기 경화물의 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 관찰되는 흡수 피크의 반값폭이 150㎚ 이하인 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 산 발생제가 하기 일반식(2)로 나타내는 광산 발생제를 포함하는 조성물.
    Figure pct00042

    (식 중 R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29 및 R30은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고, R31, R32, R33 및 R34는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내며, R35는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 하기 화학식(A)~(C)에서 선택되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, Anq-는 q가의 음이온을 나타내며, p는 전하를 중성으로 하는 계수를 나타낸다.)
    Figure pct00043

    (식 중 R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R145, R146, R147, R148 및 R149는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고, R140, R141, R142, R143 및 R144는 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내며, *는 식(2) 중의 S와의 결합 위치를 나타낸다.)
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 양이온 중합성 화합물이 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 조성물.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조성물이 광학 필터용인 조성물.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 조성물의 경화물.
  15. 제14항에 기재된 경화물을 포함하는 광학 필터.
  16. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 경화하는 공정을 포함하는 경화물의 제조 방법.
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