KR20170086611A

KR20170086611A - 투명 도전성 필름 및 그것을 사용한 터치 센서

Info

Publication number: KR20170086611A
Application number: KR1020177016931A
Authority: KR
Inventors: 모토키 하이시; 나오키 츠노
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2014-12-05
Filing date: 2015-12-02
Publication date: 2017-07-26
Also published as: CN107004463A; US20170338003A1; US10217543B2; TW201629990A; JP2016110831A; TWI683323B; JP6577708B2; CN107004463B; KR102021214B1; WO2016088807A1

Abstract

투명 도전성 필름에 있어서, 롤 투 롤 제법에 견딜 수 있는 안티 블로킹성을 가짐과 함께, 투명 도전막측의 백색의 흐릿한 느낌 (헤이즈) 을 저감시켜, 양호한 투명성을 갖는 투명 도전성 필름 및 그것을 사용한 터치 센서를 제공한다.
본 발명의 투명 도전성 필름은, 투명 기재 (1) 와, 그 편측에 형성된 투명 도전막 (13) 을 포함하는 투명 도전성 필름으로서, 상기 투명 도전막 (13) 의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 가 0 ㎚ 보다 크고 10 ㎚ 이하이고, 상기 투명 기재 (1) 의 상기 투명 도전막 (13) 이 형성되어 있지 않은 측의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 가 5 ㎚ 보다 크고 100 ㎚ 보다 작은, 투명 도전성 필름이다.

Description

투명 도전성 필름 및 그것을 사용한 터치 센서{TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM AND TOUCH SENSOR IN WHICH SAME IS USED}

본 발명은, 투명 기재의 표면에 투명 도전막이 형성되어 있는 투명 도전성 필름 및 그것을 사용한 터치 센서에 관한 것이고, 특히 롤 투 롤 제법을 실시하는 경우에 유용한 기술이다.

종래, 투명 도전성 부재로는 유리 상에 산화인듐 박막을 형성한, 이른바 도전성 유리가 잘 알려져 있다. 그러나, 도전성 유리는 기재가 유리이기 때문에 가요성, 가공성이 열등하여, 용도에 따라서는 적용이 곤란한 경우가 있다. 그 때문에 최근에는 가요성, 가공성에 추가로, 내충격성이 우수하고, 경량인 점 등의 이점으로부터, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등을 비롯한 플라스틱 필름 기재를 사용하는 투명 도전성 필름이 보급되어 있다.

플라스틱 필름 기재의 표면에 투명 도전막을 형성하는 경우, 또 투명 도전성 필름의 가공을 실시하는 경우 등에, 롤 투 롤 제법이 사용되는 것이 알려져 있다. 이러한 롤 투 롤 제법을 사용하는 경우, 필름을 권취했을 때의 필름끼리의 첩부 (貼付)(블로킹) 를 방지하기 위해, 기재 및 투명 도전막 적층체 등의 표면을 어느 정도 거칠게 할 필요가 있었다. 예를 들어, 기재 그 자체에 입자를 첨가하거나, 기재 표면 상에 임의의 입자를 첨가한 수지를 도포하거나, 기재 표면에 미세 요철을 형성하거나 하는 기술 등에 의해, 미끄러짐성이나 안티 블로킹성을 향상시키고 있었다 (특허문헌 1 참조).

그러나, 플라스틱 필름 기재에 미세 요철을 형성하면, 그 요철에 의한 광 산란에서 기인하여, 투명 도전성 필름의 헤이즈가 상승하여 투명성이 저해되어 버린다. 이와 같은 투명 도전성 필름을 액정 디스플레이나 일렉트로 루미네선스 디스플레이 등의 새로운 디스플레이 방식이나 터치 패널 등에 있어서의 투명 전극에 사용하면, 디스플레이 등의 표시 품위를 저하시키는 문제가 있었다.

한편, 헤이즈를 작게 하여 투명성을 향상시키는 기술로서, 특허문헌 2 에는, 필름 기재와 경화 수지층과 인듐계 복합 산화물층을 구비한 투명 도전성 필름에 있어서, 경화 수지층이 소정 범위의 크기의 구상 입자와 소정 범위의 두께의 바인더 수지층을 갖는 투명 도전성 필름이 개시되어 있다. 그러나, 특허문헌 2 의 기술에서는, 안티 블로킹성이나 미끄러짐성 등에 대해서는 고려되어 있지 않다.

그런데, 안티 블로킹성을 가짐과 함께, 양호한 투명성을 갖는 투명 도전성 필름으로서 특허문헌 3 에는, 투명 고분자 기재와 투명 도전층과 경화 수지층을 구비한 투명 도전성 필름에 있어서, 경화 수지층이 형성된 측의 최표면층은, 표면에 평탄부와 소정 범위의 높이의 융기부를 갖고 있는 투명 도전성 필름이 개시되어 있다. 그러나, 특허문헌 3 의 기술에서는, 투명 도전막의 형성측면의 광범위의 시야에 있어서의 Ra 가 커지기 때문에, 헤이즈를 더욱 개선할 여지가 있었다.

일본 공개특허공보 2003-45234호 일본 공개특허공보 2013-145547호 일본 공개특허공보 2014-95896호

그래서, 본 발명의 목적은, 투명 도전성 필름에 있어서, 롤 투 롤 제법에 견딜 수 있는 안티 블로킹성을 가짐과 함께, 투명 도전막측의 백색의 흐릿한 느낌 (헤이즈) 을 저감시켜, 양호한 투명성을 갖는 투명 도전성 필름 및 그것을 사용한 터치 센서를 제공하는 것에 있다.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토한 결과, 하기 구성을 채용함으로써 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 알아내어 본 발명에 이르렀다.

즉, 본 발명의 투명 도전성 필름은, 투명 기재와, 그 편측에 형성된 투명 도전막을 포함하는 투명 도전성 필름으로서, 상기 투명 도전막의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 가 0 ㎚ 보다 크고 10 ㎚ 이하이고, 상기 투명 기재의 상기 투명 도전막이 형성되어 있지 않은 측의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 가 5 ㎚ 보다 크고 100 ㎚ 보다 작은, 투명 도전성 필름인 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명에 있어서의 각종 물성값은, 실시예 등에 있어서 채용하는 방법에 의해 측정되는 값이다.

투명 도전막의 표면의 광범위 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 를 상기 범위로 하여 작게 하고, 투명 기재의 투명 도전막이 형성되어 있지 않은 측의 광범위 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 를 상기 범위로 하여 크게 함으로써, 롤 투 롤 제법에 견딜 수 있는 안티 블로킹성을 유지하면서, 투명 도전막측의 투명성을 향상시켜, 터치 패널 등의 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있다. 이 메커니즘은 하기와 같다고 생각된다. 블로킹을 방지하기 위한 종래 기술 (표면을 거칠게 하는 것) 은, 투명 도전성 필름을 터치 패널 등으로 사용하는 경우의 표시 품위의 저하 (백색의 흐릿한 느낌) 를 초래하고 있었다. 요컨대, 이 표시 품위의 저하의 원인은, 투명 기재 및 최종적인 투명 도전성 적층체의 표면의 조도에 의한 광의 산란이라고 생각된다. 또한, 검토를 진행시키는 것에 의해 투명 도전막을 형성하는 측, 즉, 고굴절률층이 형성되는 측에 있어서의 조도는, 표시 품위의 저하 (백색의 흐릿한 느낌의 발현) 에의 기여가 큰 것이 분명해졌다. 이 지견에 따라, 투명 도전막을 형성하는 측의 조도를 낮게 억제하고, 투명 도전막을 형성하는 측과 반대측을 거칠게 함으로써, 안티 블로킹성을 보다 확실하게 실현시킴과 함께, 표시 품위의 개선에 이르렀다.

본 발명에 있어서의 투명 기재는, 상기 투명 도전막이 형성되는 측의 제 1 경화 수지층과, 투명 수지 필름과, 제 2 경화 수지층을 이 순서로 포함하는 것이 바람직하다. 투명 수지 필름의 양면에 경화 수지층을 형성하고 있으므로, 양면의 산술 평균 표면 조도 Ra 값을 따로따로 조정할 수 있기 때문에, 상기 작용 효과를 실현하는 데에 있어서 유리해진다. 또, 우수한 내찰상성을 발휘할 수 있고, 터치 패널 등의 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있다.

본 발명의 투명 도전성 필름에서는, 투명 도전막이 인듐계 복합 산화물인 것이 바람직하다. 투명 도전막이 인듐계 복합 산화물임으로써, 투명 도전막의 가열 처리에 의한 결정화가 용이하고, 보다 투명성이 높고 양호한 투명 도전막을 형성할 수 있다.

본 발명에 있어서의 투명 도전막은, 상기 투명 기재 상에 형성된 비정질의 투명 도전막이 가열 처리에 의해 결정질로 전화된 결정질층인 것이 바람직하다. 이로써, 저저항성의 투명 도전성 필름을 얻을 수 있음과 함께, 투명성의 향상이 가능하여, 터치 패널 등의 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있다.

본 발명의 투명 도전성 필름에서는, 투명 도전막의 두께가 15 ㎚ ∼ 50 ㎚ 인 것이 바람직하다. 이로써, 투명성이 우수한 투명 도전성 필름을 효율적으로 제조할 수 있고, 터치 패널 등의 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있다. 또, 박형화가 가능하여 정전 용량 방식의 터치 패널에 바람직하다.

본 발명에 있어서의 투명 도전막은, 금속 메시 또는 금속 나노 와이어로 구성되는 것이 바람직하다. 투명 도전막이 금속 메시 또는 금속 나노 와이어로 구성됨으로써, 전광선 투과율이 높은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있어, 터치 패널 등의 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있다.

본 발명에 있어서의 투명 수지 필름은, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지 또는 시클로올레핀계 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 이로써, 기계적 특성이나 가공성이 양호한 투명 도전성 필름이 얻어짐과 함께, 투명성의 향상이 가능하여, 터치 패널 등의 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있다.

본 발명의 투명 도전성 필름은, 투명 기재의 두께가 10 ㎛ ∼ 200 ㎛ 인 것이 바람직하다. 투명 기재의 두께를 상기 범위로 함으로써, 투명성이 높아 외관 품위가 우수한 투명 도전성 필름을 제조할 수 있음과 함께, 롤 투 롤 제법에서의 반송 용이성을 향상시킬 수 있다.

본 발명에 있어서의 제 2 경화 수지층은, 복수의 구상 입자와, 상기 복수의 구상 입자를 상기 투명 수지 필름에 고정하는 바인더 수지층을 갖고, 상기 구상 입자의 최빈 (最頻) 입자경을 w 로 하고, 상기 바인더 수지층의 두께를 d 로 했을 때, 상기 구상 입자의 최빈 입자경 w 와 상기 바인더 수지층의 두께 d 의 차 w - d 가, 0 보다 크고 1.2 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 롤 투 롤 제법에 견딜 수 있는 안티 블로킹성을 보다 확실하게 실현할 수 있도록 된다.

본 발명의 터치 센서는, 상기 투명 도전성 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 투명 도전성 필름에 의하면, 롤 투 롤 제법에 견딜 수 있는 안티 블로킹성을 유지하면서, 투명 도전막측의 투명성을 향상시켜, 터치 패널 등의 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있다.

도 1 은 본 발명의 일 실시형태에 관련된 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다.
도 2 는 본 발명의 다른 실시형태에 관련된 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다.
도 3 은 도 1 또는 도 2 에 있어서의 제 2 경화 수지층의 구성을 나타내는 부분 확대도이다.

본 발명의 투명 도전성 필름의 실시형태에 대해, 도면을 참조하면서 이하에 설명한다. 단, 도면의 일부 또는 전부에 있어서, 설명에 불필요한 부분은 생략하고, 또 설명을 용이하게 하기 위해서 확대 또는 축소하거나 하여 도시한 부분이 있다. 상하 등의 위치 관계를 나타내는 용어는, 단순히 설명을 용이하게 하기 위해서 이용되고 있고, 본 발명의 구성을 한정하는 의도는 일절 없다.

＜투명 도전성 필름＞

도 1 은 본 발명의 일 실시형태에 관련된 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다. 도 1 의 투명 도전성 필름은, 투명 기재 (1) 와 투명 도전막 (13) 을 포함한다. 상기 투명 기재 (1) 는, 투명 수지 필름 (10) 과, 투명 수지 필름 (10) 의 제 1 주면 (主面)(S1) 에 형성된 제 1 경화 수지층 (11) 과, 투명 수지 필름 (10) 의 제 1 주면 (S1) 과는 반대측인 제 2 주면 (S2) 측에 형성된 제 2 경화 수지층 (12) 을 포함하고 있다. 제 2 경화 수지층 (12) 은, 도 3 에 나타내는 바와 같이 복수의 구상 입자 (14) 와, 상기 구상 입자를 투명 수지 필름 (10) 의 표면에 고정하는 바인더 수지층 (15) 을 가지고 있다. 제 2 경화 수지층 (12) 은 표면에 볼록부 (12a) 를 가지고 있기 때문에, 투명 도전성 필름을 롤 투 롤 제법으로 권취한 경우에, 투명 도전성 필름끼리가 블로킹하는 것을 억제할 수 있다. 또, 투명 기재 (1) 는, 투명 수지 필름 (10) 만 또는 투명 수지 필름 (10) 과 제 1 경화 수지층 혹은 제 2 경화 수지층으로 구성할 수 있지만, 상기 투명 도전막 (13) 이 형성되는 측의 제 1 경화 수지층 (11) 과, 투명 수지 필름 (10) 과, 제 2 경화 수지층 (12) 을 이 순서로 포함하는 것이 바람직하다.

도 2 는, 본 발명의 다른 실시형태에 관련된 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다. 이 실시형태에 관련된 투명 도전성 필름에서는, 투명 기재 (1) 의 제 1 경화 수지층 (11) 과 투명 도전막 (13) 사이에 광학 조정층 (16) 이 형성되어 있다. 그 이외의 구성은 도 1 을 참조하여 설명한 투명 도전성 필름과 동일하다.

(투명 수지 필름)

투명 수지 필름으로는, 특별히 제한되지 않지만, 투명성을 갖는 각종 플라스틱 필름이 사용된다. 예를 들어, 그 재료로서 폴리에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌설파이드계 수지 등을 들 수 있다. 시인성을 양호하게 하는 점에서, 이들 중에서 특히 바람직한 것은, 폴리에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지이다.

폴리에스테르계 수지는, 기계적 특성이나 내열성의 점에서 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트계 수지 등인 것이 바람직하다.

시클로올레핀계 수지로는, 고리형 올레핀 (시클로올레핀) 으로 이루어지는 모노머의 유닛을 갖는 수지이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 시클로올레핀계 수지로는, 시클로올레핀 폴리머 (COP) 또는 시클로올레핀 코폴리머 (COC) 의 어느 것이어도 된다. 시클로올레핀 코폴리머란, 고리형 올레핀과 에틸렌 등의 올레핀의 공중합체인 비결정성의 고리형 올레핀계 수지를 말한다.

상기 고리형 올레핀으로는, 다고리형의 고리형 올레핀과 단고리형의 고리형 올레핀이 존재하고 있다. 이러한 다고리형의 고리형 올레핀으로는, 노르보르넨, 메틸노르보르넨, 디메틸노르보르넨, 에틸노르보르넨, 에틸리덴노르보르넨, 부틸노르보르넨, 디시클로펜타디엔, 디하이드로디시클로펜타디엔, 메틸디시클로펜타디엔, 디메틸디시클로펜타디엔, 테트라시클로도데센, 메틸테트라시클로도데센, 디메틸시클로테트라도데센, 트리시클로펜타디엔, 테트라시클로펜타디엔 등을 들 수 있다. 또, 단고리형의 고리형 올레핀으로는, 시클로부텐, 시클로펜텐, 시클로옥텐, 시클로옥타디엔, 시클로옥타트리엔, 시클로도데카트리엔 등을 들 수 있다.

상기 시클로올레핀계 수지를 포함하는 투명 수지 필름은 시판품으로서도 입수 가능하고, 예를 들어 닛폰 제온사 제조 「ZEONOR」, JSR 사 제조 「ARTON」, 폴리플라스틱사 제조 「TOPAS」, 미츠이 화학사 제조 「APEL」등을 들 수 있다.

폴리카보네이트계 수지의 시판품으로는, 테이진사 제조 「퓨어에이스」, 가네카사 제조 「엘메크」등을 들 수 있다.

투명 수지 필름 또는 투명 기재의 두께는, 투명성이 높아 외관 품위가 우수한 투명 도전성 필름 등을 제조시킴과 함께, 롤 투 롤 제법에서의 반송 용이성을 향상시키는 관점에서, 10 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하가 바람직하고, 30 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하가 보다 바람직하다.

투명 수지 필름에는, 표면에 미리 스퍼터링, 코로나 방전, 화염, 자외선 조사, 전자선 조사, 화성, 산화 등의 에칭 처리나 하도 처리를 실시하여, 투명 수지 필름 상에 형성되는 각 경화 수지층과의 밀착성을 향상시키도록 해도 된다. 또, 경화 수지층을 형성하기 전에, 필요에 따라 용제 세정이나 초음파 세정 등에 의해 투명 수지 필름 표면을 제진, 청정화해도 된다.

(경화 수지층)

폴리에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지 등을 포함하는 투명 수지 필름 자체는 매우 흠집이 나기 쉬운 경향이 있다. 투명 도전막의 형성이나 투명 도전막의 패턴화 또는 전자 기기에 대한 탑재 등의 각 공정에서 투명 수지 필름에 흠집이 나기 쉽기 때문에, 투명 수지 필름의 양면에 경화 수지층으로서 제 1 경화 수지층 및 제 2 경화 수지층을 형성하는 것이 바람직하다.

경화 수지층은, 각각 경화형 수지를 경화시킴으로써 얻어진 층이다. 경화형 수지에는, 경화 메커니즘으로서 열 경화, 활성 에너지선 경화, 또는 그 양방을 병용하는 수지 중 어느 것을 채용해도 된다. 필요에 따라 가교제, 개시제, 증감제 등을 경화형 수지와 함께 사용해도 된다. 제 1 경화 수지층 및 제 2 경화 수지층의 두께는, 모두 독립적으로 바람직하게는 0.5 ㎛ ∼ 5 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 0.7 ㎛ ∼ 3 ㎛ 이며, 가장 바람직하게는 0.8 ㎛ ∼ 2 ㎛ 이다. 제 1 경화 수지층 및 제 2 경화 수지층은, 각 경화형 수지와 필요에 따라 첨가하는 가교제, 개시제, 증감제 등을 포함하는 수지 조성물을 투명 수지 필름 상에 도포하고, 수지 조성물이 용제를 포함하는 경우에는, 용제의 건조를 실시하고, 열, 활성 에너지선 또는 그 양방 중 어느 것의 적용에 의해 경화시킴으로써 얻어진다. 열은 공기 순환식 오븐이나 IR 히터 등 공지된 수단을 사용할 수 있지만 이들 방법에 한정되지 않는다. 활성 에너지선의 예로는 자외선, 전자선, 감마선 등이 있지만 특별히 한정되지 않는다. 경화형 수지로는, 아크릴계 수지나 에폭시계 수지가 바람직하고, 보다 바람직하게는 아크릴계 수지이다.

제 1 경화 수지층 (11) 또는 제 2 경화 수지층 (12) 은, 복수의 구상 입자 (14) 와, 상기 구상 입자를 투명 수지 필름 (10) 의 표면에 고정하는 바인더 수지층 (15) 을 포함하는 것이 바람직하다. 특히, 제 2 경화 수지층 (12) 에, 상기 복수의 구상 입자 (14) 와, 상기 바인더 수지층 (15) 을 포함하는 것이 보다 바람직하다. 도 3 은, 도 1 또는 도 2 에 있어서의 제 2 경화 수지층 (12) 의 구성을 나타내는 부분 확대도이다. 제 2 경화 수지층 (12) 은, 복수의 구상 입자 (14) 와, 상기 구상 입자 (14) 를 투명 수지 필름 (10) 의 표면에 고정하는 바인더 수지층 (15) 을 가지고 있다. 구상 입자 (14) 의 최빈 입자경은 w 로, 바인더 수지층 (15) 의 두께는 d 로 기재하고 있다. 제 2 경화 수지층 (12) 의 외측 표면, 즉 투명 수지 필름 (10) 과 접하지 않는 측의 표면에 있어서, 구상 입자 (14) 가 존재하는 부분은, 대략 차 w - d 의 분만큼 돌출된 볼록 형상을 가지고 있고, 구상 입자 (14) 가 존재하지 않는 부분은, 대략 평면 형상을 가지고 있다. 또 각 구상 입자 (14) 의 상면에는 바인더 수지층 (15) 의 일부가 얇게 형성되어 있다. 여기서 「최빈 입자경」이란, 입자 분포의 극대값을 나타내는 입경을 말한다. 「바인더 수지층의 두께」란, 구상 입자가 존재하지 않는 평탄 부분의 두께를 말한다. 제 2 경화 수지층 (12) 에 있어서는, 구상 입자 (14) 의 최빈 입자경 w 와, 바인더 수지층 (15) 의 두께 d 의 관계는, w - d 가 0 보다 크고 1.2 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.1 ㎛ ∼ 1.0 ㎛ 가 보다 바람직하며, 0.3 ㎛ ∼ 0.9 ㎛ 가 더욱 바람직하다. 이로써, 헤이즈에의 영향을 억제하면서, 롤 투 롤 제법에 견딜 수 있는 안티 블로킹성을 보다 확실하게 실현될 수 있도록 된다.

제 1 경화 수지층의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 는, 투명성을 향상시키는 관점에서 0 ㎚ 보다 크고 10 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 0 ㎚ 보다 크고 9 ㎚ 이하인 것이 보다 바람직하며, 0 ㎚ 보다 크고 7 ㎚ 이하인 것이 더욱 바람직하다.

제 2 경화 수지층의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 는, 5 ㎚ 보다 크고 100 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 7 ㎚ 보다 크고 70 ㎚ 이하인 것이 보다 바람직하며, 10 ㎚ 보다 크고 60 ㎚ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 산술 평균 표면 조도 Ra 가 상기 범위 내임으로써, 롤 투 롤 제법에 견딜 수 있는 안티 블로킹성을 향상시킬 수 있다.

제 2 경화 수지층측의 산술 평균 표면 조도 Ra 쪽이, 제 1 경화 수지층측의 산술 평균 표면 조도 Ra 보다 거친 편이 바람직하다. 이로써, 롤 투 롤 제법에 견딜 수 있는 안티 블로킹성을 가짐과 함께, 투명 도전막측의 백색의 흐릿한 느낌 (헤이즈) 을 저감시킬 수 있다. 또, 제 2 경화 수지층의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 와 제 1 경화 수지층의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 의 차는, 5 ㎚ 이상인 것이 바람직하고, 10 ㎚ 이상인 것이 보다 바람직하며, 15 ㎚ 이상인 것이 더욱 바람직하다.

상기 구상 입자로는, 각종 금속 산화물, 유리, 플라스틱 등의 투명성을 갖는 것을 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들어 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화칼슘 등의 무기계 입자, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리우레탄, 아크릴계 수지, 아크릴-스티렌 공중합체, 벤조구아나민, 멜라민, 폴리카보네이트 등의 각종 폴리머로 이루어지는 가교 또는 미가교의 유기계 입자나 실리콘계 입자 등을 들 수 있다. 상기 입자는, 1 종 또는 2 종 이상을 적절히 선택하여 사용할 수 있지만, 유기계 입자가 바람직하다. 유기계 입자로는, 진구성과 내열성의 관점에서 아크릴계 수지가 바람직하다.

상기 제 1 경화 수지층 중의 구상 입자의 함유량은, 수지 조성물의 고형분 100 중량부에 대해 0.0000 ∼ 0.0020 중량부가 바람직하고, 0.0000 ∼ 0.0015 중량부인 것이 보다 바람직하며, 0.0000 ∼ 0.0010 중량부인 것이 더욱 바람직하다. 또, 상기 제 2 경화 수지층 중의 구상 입자의 함유량은, 수지 조성물의 고형분 100 중량부에 대해 0.0010 ∼ 0.0300 중량부인 것이 바람직하고, 0.0015 ∼ 0.0200 중량부인 것이 보다 바람직하며, 0.0020 ∼ 0.0150 중량부인 것이 더욱 바람직하다. 상기 제 1 경화 수지층 또는 상기 제 2 경화 수지층 중의 구상 입자의 함유량이 상기 범위이면, 양면의 산술 평균 표면 조도 Ra 를 따로따로 조정할 수 있으므로, 안티 블로킹성이나 미끄러짐 용이성을 부여하는 데에 충분한 베이스 융기부가 형성되기 쉬워짐과 함께, 구상 입자에 의한 광 산란에서 기인한 투명 도전성 필름의 헤이즈가 작아져, 시인성이 상승하는 경향이 있다.

상기 바인더 수지층에 사용되는 바인더 수지의 재료로는, 구상 입자를 고정할 수 있는 것이면, 임의의 재료를 선택할 수 있다. 이 바인더 수지는, 예를 들어 경화성 수지 조성물을 자외선이나 전자선에 의해 경화시킨 것이다. 경화성 수지 조성물은, 바람직하게는 펜타에리트리톨이나 디펜타에리트리톨 등의 다관능 아크릴레이트 중합체, 글리시딜아크릴레이트계 중합체에 아크릴산을 부가 반응시킨 중합체 및 중합 개시제를 포함한다.

(투명 도전막)

투명 도전막은, 금속 산화물에 의해 형성된 막인 것이 바람직하다. 금속 산화물로는, 인듐, 주석, 아연, 갈륨, 안티몬, 티탄, 규소, 지르코늄, 마그네슘, 알루미늄, 금, 은, 구리, 팔라듐, 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속의 금속 산화물이 바람직하게 사용된다. 당해 금속 산화물에는, 필요에 따라 추가로 상기 군에 나타낸 금속 원자를 포함하고 있어도 된다. 그 중에서도, 인듐·주석 복합 산화물 (ITO) 이나 인듐아연 복합 산화물이 바람직하다. 이 밖에도 4 가 금속 이온 또는 2 가 금속 이온이 도핑된 산화인듐 (In₂O₃) 이 사용된다. 이와 같은 인듐계 복합 산화물층은, 가시광 영역 (380 ㎚ ∼ 780 ㎚) 에서 투과율이 80 ％ 이상으로 높고, 또한 단위면적당의 표면 저항값이 낮다 (300 Ω/□ 이하 : ohms per square) 는 특징을 가지고 있다.

상기 인듐계 복합 산화물층의 표면 저항값은, 바람직하게는 300 Ω/□ 이하이고, 더욱 바람직하게는 270 Ω/□ 이하이다. 이와 같은 표면 저항값이 작은 투명 도전성 필름은, 예를 들어 스퍼터링법 또는 진공 증착법에 의해, 인듐계 복합 산화물의 비정질층을 경화 수지층 상에 형성한 후, 120 ℃ ∼ 200 ℃ 에서 30 ∼ 90 분간 정도 가열 처리하여, 비정질층을 결정질층으로 변화시킴으로써 얻어진다. 이 전화시키는 수단은, 특별히 한정되지 않지만 공기 순환식 오븐이나 IR 히터 등이 사용된다.

(결정질의 정의)

투명 기재 상에 투명 도전막이 형성된 투명 도전성 필름을, 20 ℃, 농도 5 중량％ 의 염산에 15 분간 침지한 후, 수세·건조시키고, 15 ㎜ 간의 단자 간 저항을 테스터로 측정을 실시하고, 단자 간 저항이 10 kΩ 을 초과하지 않는 경우, ITO 막의 결정질로의 전화가 완료된 것으로 한다.

투명 도전막의 두께는, 15 ㎚ ∼ 50 ㎚ 로 하는 것이 바람직하고, 20 ∼ 40 ㎚ 인 것이 보다 바람직하며, 더욱 바람직하게는 25 ∼ 35 ㎚ 의 범위 내이다. 투명 도전막 (13) 의 두께가 15 ㎚ 미만이면 막표면의 전기 저항이 높아지고, 또한 연속 피막이 되기 어려워진다. 또, 투명 도전막 (13) 의 두께가 50 ㎚ 를 초과하면 투명성의 저하 등을 초래하는 경우가 있다. 투명 도전막 (13) 으로는, 상이한 조성의 투명 도전막을 복수층 적층한 구조여도 된다.

상기 투명 도전막의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 는, 투명성을 향상시키는 관점에서 0 ㎚ 보다 크고 10 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 0 ㎚ 보다 크고 9 ㎚ 이하인 것이 보다 바람직하며, 0 ㎚ 보다 크고 7 ㎚ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 제 2 경화 수지층의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 와 상기 투명 도전막의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 의 차는, 5 ㎚ 이상인 것이 바람직하고, 10 ㎚ 이상인 것이 보다 바람직하며, 15 ㎚ 이상인 것이 더욱 바람직하다.

상기 투명 도전막은, 금속 나노 와이어 또는 금속 메시를 포함할 수 있다.

(금속 나노 와이어)

금속 나노 와이어란, 재질이 금속이고, 형상이 침상 또는 실상이며, 직경이 나노미터 사이즈인 도전성 물질을 말한다. 금속 나노 와이어는 직선상이어도 되고, 곡선상이어도 된다. 금속 나노 와이어로 구성된 투명 도전층을 이용하면, 금속 나노 와이어가 망목상이 됨으로써, 소량의 금속 나노 와이어라도 양호한 전기 전도 경로를 형성할 수 있고, 전기 저항이 작은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다. 또한, 금속 나노 와이어가 망목상이 됨으로써, 망목의 간극에 개구부를 형성하여, 광 투과율이 높은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다.

상기 금속 나노 와이어를 구성하는 금속으로는, 도전성이 높은 금속인 한 임의의 적절한 금속이 사용될 수 있다. 상기 금속 나노 와이어를 구성하는 금속으로는, 예를 들어 은, 금, 구리, 니켈 등을 들 수 있다. 또, 이들 금속에 도금 처리 (예를 들어, 금 도금 처리) 를 실시한 재료를 사용해도 된다. 그 중에서도 바람직하게는, 도전성의 관점에서 은, 구리 또는 금이고, 보다 바람직하게는 은이다.

(금속 메시)

금속 메시를 포함하는 투명 도전막은, 상기 투명 기재 상에, 금속 세선이 격자상의 패턴으로 형성되어 이루어진다. 상기 금속 나노 와이어를 구성하는 금속과 동일한 금속을 사용할 수 있다. 금속 메시를 포함하는 투명 도전막은, 임의의 적절한 방법에 의해 형성시킬 수 있다. 투명 도전막은, 예를 들어 은염을 포함하는 감광성 조성물 (투명 도전막 형성용 조성물) 을 투명 기재 상에 도포하고, 그 후 노광 처리 및 현상 처리를 실시하여, 금속 세선을 소정의 패턴으로 형성함으로써 얻을 수 있다.

(광학 조정층)

도 2 에 나타내는 바와 같이, 투명 도전성 필름은 제 1 경화 수지층 (11) 과 투명 도전막 (13) 사이에, 1 층 이상의 광학 조정층 (16) 을 추가로 포함할 수 있다. 투명 도전성 필름의 투과율 상승이나, 투명 도전막 (13) 이 패턴화되는 경우에는, 패턴이 남는 패턴부와 패턴이 남지 않는 개구부 사이에서 투과율차나 반사율차가 저감하여, 시인성이 우수한 투명 도전성 필름을 얻기 위해서 사용된다.

광학 조정층은, 무기물, 유기물, 혹은 무기물과 유기물의 혼합물에 의해 형성된다. 광학 조정층을 형성하는 재료로는, NaF, Na₃AlF₆, LiF, MgF₂, CaF₂, SiO₂, LaF₃, CeF₃, Al₂O₃, TiO₂, Ta₂O₅, ZrO₂, ZnO, ZnS, SiO_x (x 는 1.5 이상 2 미만) 등의 무기물이나, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 알키드 수지, 실록산계 폴리머 등의 유기물을 들 수 있다. 특히, 유기물로서 멜라민 수지와 알키드 수지와 유기 실란 축합물의 혼합물로 이루어지는 열 경화형 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 광학 조정층은, 상기 재료를 사용하여, 그라비어 코트법이나 바 코트법 등의 도공법, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등에 의해 형성할 수 있다.

광학 조정층의 두께는, 10 ㎚ ∼ 200 ㎚ 인 것이 바람직하고, 20 ㎚ ∼ 150 ㎚ 인 것이 보다 바람직하며, 20 ㎚ ∼ 130 ㎚ 인 것이 더욱 바람직하다. 광학 조정층의 두께가 과도하게 작으면 연속 피막이 되기 어렵다. 또, 광학 조정층의 두께가 과도하게 크면 투명 도전성 필름의 투명성이 저하하거나, 광학 조정층에 크랙이 생기기 쉬워지거나 하는 경향이 있다.

광학 조정층은, 평균 입경이 1 ㎚ ∼ 500 ㎚ 인 나노 미립자를 가지고 있어도 된다. 광학 조정층 중의 나노 미립자의 함유량은 0.1 중량％ ∼ 90 중량％ 인 것이 바람직하다. 광학 조정층에 사용되는 나노 미립자의 평균 입경은, 상기 서술한 바와 같이 1 ㎚ ∼ 500 ㎚ 의 범위인 것이 바람직하고, 5 ㎚ ∼ 300 ㎚ 인 것이 보다 바람직하다. 또, 광학 조정층 중의 나노 미립자의 함유량은 10 중량％ ∼ 80 중량％ 인 것이 보다 바람직하고, 20 중량％ ∼ 70 중량％ 인 것이 더욱 바람직하다. 광학 조정층 중에 나노 미립자를 함유함으로써, 광학 조정층 자체의 굴절률의 조정을 용이하게 실시할 수 있다.

나노 미립자를 형성하는 무기 산화물로는, 예를 들어 산화규소 (실리카), 중공 나노 실리카, 산화티탄, 산화알루미늄, 산화아연, 산화주석, 산화지르코늄, 산화니오브 등의 미립자를 들 수 있다. 이들 중에서도, 산화규소 (실리카), 산화티탄, 산화알루미늄, 산화아연, 산화주석, 산화지르코늄, 산화니오브의 미립자가 바람직하다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.

(보호 필름)

투명 도전성 필름의 파단을 방지하는 관점에서, 투명 도전성 필름에 후술하는 점착제층을 개재하여 보호 필름을 적층하여 투명 도전성 적층체로 할 수 있다. 보호 필름은, 폴리에스테르계 수지를 포함한다. 투명 수지 필름의 양면에 상기 서술한 제 1 경화 수지층 및 제 2 경화 수지층을 형성함으로써, 투명 수지 필름 자체에 흠집은 나기 어려워지지만, 양 경화 수지층을 형성함으로써 딱딱하여 파열되기 쉬워진다. 또, 기재로서의 투명 수지 필름이 장척상인 경우에는, 예를 들어 투명 도전막의 형성 공정이나 투명 도전막의 패턴화 공정 등에서, 필름 주행 시에 투명 수지 필름에 파단이 발생하기 쉬워진다는 과제가 있다. 보호 필름을 구성하는 폴리에스테르계 수지 필름은 기계 강도를 향상시키는 관점에서, 1 축 연신 처리나 2 축 연신 처리 등의 연신 처리되어 있는 것이 바람직하다. 기계 강도나 내열 특성 향상의 관점에서 2 축 연신 처리되어 있는 것이 바람직하다. 폴리에스테르계 수지로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지나 폴리에틸렌나프탈레이트계 수지를 들 수 있고, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지가 기계적 특성이나 광학 특성, 입수 용이성의 점에서 바람직하다.

(점착제층)

점착제층의 형성 재료로는, 투명성을 갖는 것이면 특별히 제한 없이 사용할 수 있지만, 바람직하게는 아크릴계 점착제, 에폭시계 점착제, 실리콘계 점착제이고, 보다 바람직하게는 아크릴계 점착제이다. 형성되는 점착제층의 건조 두께는 적절히 조정할 수 있지만, 통상 1 ∼ 40 ㎛ 정도이고, 3 ∼ 35 ㎛ 가 바람직하고, 나아가서는 5 ∼ 30 ㎛ 가 바람직하다. 투명 도전성 필름에 점착제층을 개재하여 보호 필름을 적층하여 투명 도전성 적층체로 할 수 있고, 투명 도전막측의 헤이즈 측정 시에 있어서의 헤이즈의 영향을 적게 할 수 있다.

＜터치 센서＞

본 발명의 터치 센서는, 이상에서 서술한 투명 도전성 필름을 사용한 것이고, 터치 패널, 터치 키 등의 형태로 사용된다. 예를 들어, 투명 도전성 필름은, 정전 용량 방식 등의 터치 패널에 바람직하게 적용할 수 있다.

터치 패널의 형성 시에는, 투명 도전성 필름의 일방 또는 양방의 주면에 투명한 점착제층을 개재하여, 유리나 고분자 필름 등의 다른 기재 등을 첩합할 수 있다. 예를 들어, 투명 도전성 필름의 투명 도전막 (13) 이 형성되어 있지 않은 측의 면에 투명한 점착제층을 개재하여 투명 기체가 첩합된 적층체를 형성해도 된다. 투명 기재는, 1 장의 기체 필름으로 이루어져 있어도 되고, 2 장 이상의 기체 필름의 적층체 (예를 들어 투명한 점착제층을 개재하여 적층한 것) 여도 된다. 또, 투명 도전성 필름에 첩합하는 투명 기체의 외표면에 하드 코트층을 형성할 수도 있다.

상기 본 발명에 관련된 투명 도전성 필름을 터치 패널의 형성에 사용한 경우, 터치 패널 형성 시의 핸들링성이 우수하다. 그 때문에, 투명성 및 시인성이 우수한 터치 패널을 생산성 높게 제조할 수 있다.

실시예

이하, 본 발명에 관해서 실시예를 사용하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.

＜실시예 1＞

(경화 수지층의 형성)

자외선 경화성 수지 조성물 (DIC 사 제조 상품명 「UNIDIC (등록상표) RS29-120」) 을 100 중량부와, 최빈 입자경이 1.9 ㎛ 인 아크릴계 구상 입자 (소켄 화학사 제조 상품명 「MX-180TA」) 를 0.002 중량부를 포함하는, 구상 입자 포함 경화성 수지 조성물을 준비하였다. 준비한 구상 입자 포함 경화성 수지 조성물을 두께가 50 ㎛ 인 장척상의 폴리시클로올레핀 필름 (닛폰 제온 제조 상품명 「ZEONOR (등록상표)」) 의 일방의 면에 도포하여, 도포층을 형성하였다. 이어서, 도포층이 형성된 측으로부터 도포층에 자외선을 조사하여, 두께가 1.0 ㎛ 가 되도록 제 2 경화 수지층을 형성하였다. 폴리시클로올레핀 필름의 타방의 면에, 구상 입자를 포함하지 않는 것 이외에는 상기와 동일한 방법으로, 두께가 1.0 ㎛ 가 되도록 제 1 경화 수지층을 형성하였다.

(투명 도전막의 형성)

다음으로, 양면에 경화 수지층이 형성된 폴리시클로올레핀 필름을, 권취식 스퍼터 장치에 투입하여, 제 1 경화 수지층의 표면에 두께가 27 ㎚ 인 비정질의 인듐·주석 산화물층을 형성하였다.

그 후, 상기 인듐·주석 산화물의 비정질층이 형성된 폴리시클로올레핀 필름을, 롤 투 롤 방식으로 공기 순환식 오븐에 투입하고, 130 ℃ 에서 90 분간 가열 처리를 실시하여, 투명 도전막을 비정질로부터 결정질로 전화시켜, 투명 도전막의 표면 저항값이 100 Ω/□ 인 투명 도전성 필름을 제작하였다.

＜실시예 2＞

실시예 1 에 있어서, 상기 아크릴계 구상 입자를 0.001 중량부 첨가하여 제 1 경화 수지층을 형성하고, 상기 아크릴계 구상 입자를 0.001 중량부 첨가하여 제 2 경화 수지층을 형성한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제작하였다.

＜실시예 3＞

실시예 1 에 있어서, 상기 아크릴계 구상 입자를 0.006 중량부 첨가하여 제 2 경화 수지층을 형성한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제작하였다.

＜실시예 4＞

실시예 1 에 있어서, 상기 아크릴계 구상 입자를 0.010 중량부 첨가하여 제 2 경화 수지층을 형성한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제작하였다.

＜실시예 5＞

실시예 1 에 있어서, 상기 아크릴계 구상 입자를 0.015 중량부 첨가하여 제 2 경화 수지층을 형성한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제작하였다.

＜실시예 6＞

실시예 1 에 있어서, 제 1 경화 수지층 상에, 광학 조정층으로서 평균 입경이 30 ㎚ 인 산화지르코늄 입자와 아크릴계 수지의 바인더로 구성된 유기 무기 하이브리드 수지 (JSR 사 제조, 상품명 : 옵스타 Z7412 (등록상표), 고형분 : 20 ％, 용매 : 80 ％) 를 형성한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제작하였다.

＜비교예 1＞

실시예 1 에 있어서, 상기 아크릴계 구상 입자를 첨가하지 않고 제 2 경화 수지층을 형성한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제작하였다.

＜비교예 2＞

실시예 1 에 있어서, 상기 아크릴계 구상 입자를 0.002 중량부 첨가하여 제 1 경화 수지층을 형성하고, 상기 아크릴계 구상 입자를 0.006 중량부 첨가하여 제 2 경화 수지층을 형성한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제작하였다.

＜비교예 3＞

실시예 1 에 있어서, 상기 아크릴계 구상 입자를 0.004 중량부 첨가하여 제 1 경화 수지층을 형성하고, 상기 아크릴계 구상 입자를 0.004 중량부 첨가하여 제 2 경화 수지층을 형성한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제작하였다.

＜평가＞

(1) 두께의 측정

1.0 ㎛ 미만의 두께는, 투과형 전자현미경 (히타치 제작소 제조, 제품명 「H-7650」) 을 사용하여, 투명 도전성 필름의 단면을 관찰하여 측정하였다. 1.0 ㎛ 이상의 두께는, 막두께계 (Peacock 사 제조, 디지털 다이얼 게이지 DG-205) 를 사용하여 측정하였다.

(2) 최빈 입자경의 측정

플로우식 입자 이미지 분석 장치 (Sysmex 사 제조 제품명 「FPTA-3000S」) 를 사용하여, 소정 조건하 (Sheath 액 : 아세트산에틸, 측정 모드 : HPF 측정 모드, 측정 방식 : 토탈 카운트) 에서 측정하였다. 시료는, 구상 입자를 아세트산에틸로 1.0 중량％ 로 희석하고, 초음파 세정기를 사용하여 균일하게 분산시킨 것을 사용하였다.

(3) 산술 평균 표면 조도 Ra 의 측정

광범위 시야 (452 ㎛ × 595 ㎛) 의 산술 평균 표면 조도는, 광학식 조도계 (Veeco 사 제조 제품명 「WYCO」) 를 사용하여 10 배의 배율로 측정하였다. 또, 협범위 (狹範圍) 시야 (1 ㎛ × 1 ㎛) 의 산술 평균 표면 조도는, 원자간력 현미경 (Digital Instruments 사 제조 제품명 「NanoscopeIV」) 을 사용하여 측정하였다. 평가한 결과를 표 1 에 나타낸다.

(4) 안티 블로킹성의 평가

유리 기판 상 (MATSUNAMI 사 제조, 막두께 1.3 ㎜) 에, 투명 도전성 필름의 제 2 경화 수지층측이 유리 기판측에 오도록 놓았다. 그 위로부터, 500 g 의 추를 10 초간 놓고, 뉴턴 링 현상 (투명 도전성 필름과 유리 기판의 밀착부와 박리부의 간섭 무늬) 이 모두 소실될 때까지의 시간 (초) 을 측정하였다. 평가 기준을 하기에 나타낸다. 평가한 결과를 표 1 에 나타낸다.

＜평가 기준＞

○ : 30 초 이하이고, 안티 블로킹성은 양호

× : 30 초보다 크고, 안티 블로킹성은 불량.

(5) 헤이즈의 측정

헤이즈는, 제 2 경화 수지층의 표면에, 굴절률이 1.47 인 아크릴계 점착제가 형성된 보호 필름을 첩합하여, 제 2 경화 수지층의 표면의 요철을 아크릴계 점착제로 메웠다. 이로써, 측정면 (ITO 측) 과는 반대면 (제 2 경화 수지층측) 의 요철에서 기인하는 헤이즈의 영향을 적게 한 시료를 제작하였다. 이 시료의 투명 도전성 필름 표면 (ITO 측) 의 헤이즈는, Direct reading haze computer (Suga Test Instruments 사 제조 제품명 「HGM-ZDP」) 를 사용하여 측정하였다. 평가한 결과를 표 1 에 나타낸다.

(6) 표면 저항값의 측정

JIS K7194 에 준해, 4 단자법에 의해 측정하였다.

(결과 및 고찰)

실시예 1 ∼ 6 에 있어서는, 롤 투 롤 제법으로 투명 도전성 필름을 반송할 때의 안티 블로킹성이 양호하고, 헤이즈를 저감시킬 수 있었다. 한편, 비교예 1 에 있어서는, 헤이즈를 저감시킬 수 있었지만, 제 2 경화 수지층측의 광범위 시야에서의 Ra 가 작아, 안티 블로킹성이 불충분하였다. 또, 비교예 2 ∼ 3 에 대해서는, 안티 블로킹성은 개선되었지만, 투명 도전막측의 광범위 시야에서의 Ra 가 커, 헤이즈를 저감할 수는 없었다.

1 : 투명 기재
10 : 투명 수지 필름
11 : 제 1 경화 수지층
12 : 제 2 경화 수지층
12a : (제 2 경화 수지층 표면의) 볼록부
13 : 투명 도전막
14 : 구상 입자
15 : 바인더 수지층
16 : 광학 조정층
S1 : (투명 수지 필름의) 제 1 주면
S2 : (투명 수지 필름의) 제 2 주면
w : 구상 입자의 최빈 입자경
d : 바인더 수지층의 두께

Claims

투명 기재와, 그 편측에 형성된 투명 도전막을 포함하는 투명 도전성 필름으로서,
상기 투명 도전막의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 가 0 ㎚ 보다 크고 10 ㎚ 이하이고,
상기 투명 기재의 상기 투명 도전막이 형성되어 있지 않은 측의 표면의 452 ㎛ × 595 ㎛ 의 시야에 있어서의 산술 평균 표면 조도 Ra 가 5 ㎚ 보다 크고 100 ㎚ 보다 작은, 투명 도전성 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 투명 기재는, 상기 투명 도전막이 형성되는 측의 제 1 경화 수지층과, 투명 수지 필름과, 제 2 경화 수지층을 이 순서로 포함하는 것인, 투명 도전성 필름.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 투명 도전막이 인듐계 복합 산화물인, 투명 도전성 필름.
제 3 항에 있어서,
상기 투명 도전막은, 상기 투명 기재 상에 형성된 비정질의 투명 도전막이 가열 처리에 의해 결정질로 전화된 결정질층인, 투명 도전성 필름.
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 투명 도전막의 두께가 15 ㎚ ∼ 50 ㎚ 인, 투명 도전성 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 투명 도전막이 금속 메시 또는 금속 나노 와이어로 구성되는, 투명 도전성 필름.
제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 수지 필름이, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지 또는 시클로올레핀계 수지를 포함하는, 투명 도전성 필름.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 기재의 두께가 10 ㎛ ∼ 200 ㎛ 인, 투명 도전성 필름.
제 2 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 경화 수지층은, 복수의 구상 입자와, 상기 복수의 구상 입자를 상기 투명 수지 필름에 고정하는 바인더 수지층을 갖고, 상기 구상 입자의 최빈 입자경을 w 로 하고, 상기 바인더 수지층의 두께를 d 로 했을 때, 상기 구상 입자의 최빈 입자경 w 와 상기 바인더 수지층의 두께 d 의 차 w - d 가, 0 보다 크고 1.2 ㎛ 이하인, 투명 도전성 필름.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전성 필름을 사용한 터치 센서.