KR20170080515A - Release film and manufacturing method thereof - Google Patents
Release film and manufacturing method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- KR20170080515A KR20170080515A KR1020160182936A KR20160182936A KR20170080515A KR 20170080515 A KR20170080515 A KR 20170080515A KR 1020160182936 A KR1020160182936 A KR 1020160182936A KR 20160182936 A KR20160182936 A KR 20160182936A KR 20170080515 A KR20170080515 A KR 20170080515A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- formula
- release
- silicon
- coating layer
- film
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
- B29C55/005—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor characterised by the choice of materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
- B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
- B29C55/10—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial
- B29C55/12—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial biaxial
- B29C55/14—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial biaxial successively
- B29C55/143—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial biaxial successively firstly parallel to the direction of feed and then transversely thereto
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/06—Interconnection of layers permitting easy separation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
-
- C08J7/047—
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/20—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for coatings strippable as coherent films, e.g. temporary coatings strippable as coherent films
-
- C09D7/1216—
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/005—Additives being defined by their particle size in general
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
본 발명은 이형 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 세라믹 적층 콘덴서(MLCC), 편광판 보호용, OCA(Opticallly Clear Adhesive)용 등의 전자재료분야에 사용되는 인라인코팅(In-Line Coating) 초경박리 이형필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film and a method for producing the same. More particularly, the present invention relates to an in-line coating release film for use in electronic materials such as a multilayer ceramic capacitor (MLCC), a polarizer protection film, and an OCA (Optically Clear Adhesive) film.
Description
본 발명은 이형 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 세라믹 적층 콘덴서(MLCC), 편광판 보호용, OCA(Opticallly Clear Adhesive)용 등의 전자재료분야에 사용되는 인라인코팅(In-Line Coating) 초경박리 이형필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film and a method for producing the same. More particularly, the present invention relates to an in-line coating release film for use in electronic materials such as a multilayer ceramic capacitor (MLCC), a polarizer protection film, and an OCA (Optically Clear Adhesive) film.
이형필름은 점착제나 접착제 등을 사용하기 위한 접착면 보호용 필름 또는 플렉서블한 재료를 지지하는 캐리어 시트 등에 사용되고 있다. The release film is used for an adhesive surface protection film for use of an adhesive or an adhesive, a carrier sheet for supporting a flexible material, or the like.
한편, 점착제 또는 접착제 등의 형상은 광학 제품의 용도와 품종이 다양화되고 생산성을 개선하기 위해 액상에서 시트로 변화되고 있다. On the other hand, the shape of the pressure-sensitive adhesive or adhesive is changed from liquid to sheet in order to diversify the use and variety of optical products and to improve the productivity.
이러한 시트 형상을 보호하는 이형필름은 라벨이 사용될 때까지 분진, 파편, 수분 또는 기타 오염물로 인한 오염으로부터 접착제품의 접착면을 일시적으로 보호하다가, 접착제품의 사용 직전에 접착면으로부터 분리된다. 따라서 이형필름은 제품의 표면에 박리성을 부여하면서 동시에 제품과의 밀착력을 부여할 수 있는 코팅층이 형성되어 있다.The release film protecting this sheet shape temporarily protects the adhesive surface of the adhesive product from contamination due to dust, debris, moisture or other contaminants until the label is used, and then separates from the adhesive surface immediately before use of the adhesive product. Therefore, the release film is provided with a coating layer which can impart peelability to the surface of the product and at the same time can give adhesion to the product.
이형필름은 코팅방법 또는 용도에 따라 용제형 또는 에멀전형으로 제조할 수 있다. 일반적으로 에멀전형 조성물은 안정성이 떨어지고 물을 분산매로 사용함에 따른 증발 잠열이 높아 고온 경화가 필요한 문제가 있다. The release film may be prepared into a solvent type or an emulsion type depending on the coating method or use. In general, the emulsion type composition has a low stability and a high latent heat of vaporization due to the use of water as a dispersion medium, which requires a high temperature curing.
오프라인 코팅(Off-Line Coating)에 적용되는 이형필름은 건조 공정 온도가 낮고, 건조 라인(Line)의 길이가 짧아 용제형 또는 무용제형 코팅 조성물이 주로 사용된다. The release film applied to the off-line coating has a low drying process temperature and a short length of the drying line, so that a solvent-based or solvent-free coating composition is mainly used.
인라인 코팅(In-Line Coating)에 적용되는 이형필름은 PET 필름 제막 공정에서 용제 사용에 따른 폭발 위험이 있으므로 주로 에멀젼형 조성물이 사용된다. The release film applied to the in-line coating is mainly used in an emulsion-type composition because there is a risk of explosion when the solvent is used in the PET film-forming process.
이러한 에멀젼형 조성물이 인라인 코팅에 적용되는 이유는 텐터(Tenter) 공정의 온도가 높아 충분한 가교결합이 가능하기 때문이다. 그러나 인라인 코팅용 실리콘 에멀젼 조성물은 연신이 가능해야 함에 따른 사용 원료가 제한되는 문제가 있어 인라인 코팅 실리콘 이형필름은 극히 제한적으로 생산되고 있다. The reason why such an emulsion-type composition is applied to an in-line coating is that the temperature of the Tenter process is high and sufficient crosslinking is possible. However, since the silicone emulsion composition for in-line coating needs to be able to be stretched, there is a problem that the raw materials to be used are limited, so that the in-line coated silicone release film is extremely limited.
상기와 같은 문제점을 해소하기 위해, 초기 박리가 용이하고, 충분한 경화반응이 이루어져 잔류점착율이 높으며, 배면 전사율이 낮은 인라인 코팅용 조성물 및 이를 이용한 이형필름을 제공하기 위한 다양한 시도가 있어 왔다. In order to solve the above problems, various attempts have been made to provide a composition for in-line coating and a release film using the composition, which can be easily peeled off at the initial stage, have a sufficient curing reaction, have a high residual adhesive ratio and a low rear-
대한민국 공개특허 제2014-0080659호에는 박리력 조절제로 하이드록실기 또는 알케닐기를 포함하는 오르가노 폴리실록산 수지를 포함하여 박리력 비를 조절하는 기술이 개시되어 있다. 하지만, 상기 기술은 경박리 즉, 이형력이 20 gf/inch 내외 수준까지만 도달할 수 있고, 초경박리, 즉, 이형력이 10 gf/inch 이하를 구현하기 어렵다. 또한, 인라인 코팅법으로는 코팅 두께를 높이는 데 한계가 있고, 코팅층의 두께가 상승할수록 제조 후 권취성이 떨어지고, 코팅 외관이 불량해지거나 코팅원료의 단가가 높아지는 문제가 있어, 이를 개선할 수 있는 연구개발이 요구되는 실정이다. Korean Patent Laid-Open Publication No. 2014-0080659 discloses a technique for adjusting the peeling force ratio including an organopolysiloxane resin containing a hydroxyl group or an alkenyl group as a peel strength adjusting agent. However, the above technique can achieve the delamination, that is, the releasing force can reach up to about 20 gf / inch, and it is difficult to achieve the delamination, that is, the releasing force of 10 gf / inch or less. In addition, the in-line coating method has a limitation in heightening the coating thickness, and as the thickness of the coating layer increases, the winding-off property after manufacture lowers, the appearance of the coating becomes poor and the cost of the coating material increases. Research and development are required.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 도출된 것으로, 초기 이형력이 10 gf/inch 이하의 초경박리성을 달성할 수 있으며, 이형력의 경시 변화가 적고, 코팅 외관이 우수한 이형필름 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. Disclosure of the Invention The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a releasing film having an initial release force of less than 10 gf / inch, And a method for producing the same.
또한, 본 발명은 권취 특성, 잔류 점착률이 우수하며, 이형력 편차를 최소화할 수 있는 이형필름 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.Another object of the present invention is to provide a release film which is excellent in winding property and residual adhesion, and can minimize a deviation in releasing force, and a method for producing the same.
본 발명은 이형필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a release film and a method for producing the same.
본 발명은 폴리에스테르 기재 필름과, 상기 기재필름의 일면 또는 양면에 형성되는 이형코팅층을 포함하는 이형필름을 제공한다. 이때, 상기 이형코팅층은 평균입경이 0.05㎛ 내지 2㎛인 실리콘 비드를 포함하며, 하기 식 1 내지 3을 만족하는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a release film comprising a polyester base film and a release coating layer formed on one or both sides of the base film. In this case, the release coating layer includes silicon beads having an average particle diameter of 0.05 to 2 탆, and is characterized by satisfying the following formulas 1 to 3.
[식 1][Formula 1]
Ri ≤ 10R i ≤ 10
[식 2][Formula 2]
|Rf - Ri| ≤ 20| R f - R i | ≤ 20
[식 3][Formula 3]
|Rf-max - Rf-min| ≤ 1.2| R f-max - R f-min | 1.2
상기 식 1 내지 3에서, Ri는 55℃에서 24시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf -max는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최대값이고, Rf-min는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최소값이다.In the above formulas 1 to 3, R i is the releasing force measured after standing at 55 ° C for 24 hours, R f is the releasing force measured after standing at 55 ° C for 240 hours, R f -max is 55 ° C , And R f -min is the minimum value of the release force measured five times after being left at 55 ° C for 240 hours.
본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름에 있어서, 이형코팅층은 규소화합물 조성물 및 알코올에 분산된 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅층 조성물로 형성된 것일 수 있다. 이때, 실리콘 비드는 무수에탄올 및 무수이소프로필알콜 중에서 선택되는 어느 하나 이상의 알코올을 분산매로 사용하여 분산된 상태로 이형코팅층 조성물에 혼합될 수 있다. In the release film according to an embodiment of the present invention, the release coating layer may be formed of a release coating layer composition comprising a silicon compound composition and silicon beads dispersed in an alcohol. At this time, the silicon beads can be mixed with the release coating layer composition in a dispersed state using any one or more alcohol selected from anhydrous ethanol and isopropyl alcohol anhydride as a dispersion medium.
본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름에 있어서, 규소화합물 조성물은 규소화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함할 수 있다. In the release film according to an embodiment of the present invention, the silicon compound composition may include a silicon compound, a platinum-based catalyst, and a silicon-based wetting agent.
상기 규소화합물은 하기 화학식 1 내지 화학식 3에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 화합물 및 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다. The silicon compound may include any one or two or more compounds selected from the following Formulas (1) to (3) and a compound represented by Formula (4).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 화학식 1에서, n은 20 내지 3000이고, m은 1 내지 500이고, n+m은 21 내지 3000이다.In the above formula (1), n is 20 to 3000, m is 1 to 500, and n + m is 21 to 3000.
[화학식 2](2)
상기 화학식 2에서, x는 1 내지 3000이다.In the above formula (2), x is 1 to 3000.
[화학식 3] (3)
상기 화학식 3에서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 -CH=CH2, -(SiC2H6O)kCH=CH2, -(SiC2H6O)k(CH2)lCH=CH2에서 선택되는 어느 하나이며, k와 l은 각각 독립적으로 0 내지 300이며, y는 20 내지 3000이고, z는 1 내지 500이고, y + z는 21 내지 3000이다.Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent -CH═CH 2 , - (SiC 2 H 6 O) k CH═CH 2 , - (SiC 2 H 6 O) k ( CH 2 ) l CH = CH 2 , k and l are each independently 0 to 300, y is 20 to 3000, z is 1 to 500, and y + z is 21 to 3000.
[화학식 4] [Chemical Formula 4]
상기 화학식 4에서, a는 1 내지 150이고, b는 3 내지 300이고, a+b는 5 내지 300이다. In Formula 4, a is from 1 to 150, b is from 3 to 300, and a + b is from 5 to 300.
또한, 본 발명은 In addition,
a) 폴리에스테르 수지를 용융 압출하여 시트로 제조하는 단계;a) melt-extruding a polyester resin to prepare a sheet;
b) 상기 시트를 종방향으로 연신하는 단계;b) longitudinally stretching the sheet;
c) 상기 b) 단계 시트의 일면 또는 양면에 규소화합물 조성물 및 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅층 조성물을 인라인 코팅법으로 도포하는 단계;c) applying the release coating layer composition comprising the silicon compound composition and the silicon bead on one or both sides of the sheet of step b) by in-line coating method;
d) 상기 c) 단계 시트를 건조 및 예열한 후, 횡방향으로 연신하여 이형필름을 제조하는 단계; 및d) drying and preheating the c) step sheet, and then stretching in the transverse direction to produce a release film; And
e) 상기 이형필름을 열처리하는 단계;e) heat treating the release film;
를 포함하는 이형필름 제조방법을 제공한다. And a method for producing a release film.
본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름의 제조방법에 있어서, 이형코팅층 조성물은 알코올에 분산된 실리콘 비드를 별도로 혼합시키는 것을 포함할 수 있다. In the method for producing a release film according to an embodiment of the present invention, the release coating layer composition may include separately mixing silicon beads dispersed in alcohol.
본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름의 제조방법에 있어서, 실리콘 비드는 평균입경이 0.05㎛ 내지 2㎛인 것일 수 있다.In the method of manufacturing a release film according to an embodiment of the present invention, the silicon bead may have an average particle diameter of 0.05 to 2 탆.
본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름의 제조방법에 있어서, 규소화합물 조성물은 규소화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함할 수 있다.In the method for producing a release film according to an embodiment of the present invention, the silicon compound composition may include a silicon compound, a platinum-based catalyst, and a silicon-based wetting agent.
본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름의 제조방법에 있어서, d) 단계는 140℃ 이하에서 건조 및 예열을 실시할 수 있다. In the method for producing a release film according to an embodiment of the present invention, drying and preheating may be performed at a temperature of 140 ° C or lower in step d).
본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름의 제조방법에 있어서, b) 단계 또는 d) 단계의 연신은 80 내지 150℃에서 실시할 수 있다. In the method for producing a release film according to an embodiment of the present invention, the stretching in step b) or step d) may be carried out at 80 to 150 ° C.
본 발명에 따른 이형필름은 인라인 코팅법을 적용함에도 10 gf/inch 이하의 초경박리성을 달성할 수 있다. 또한, 이형력의 경시 변화가 적으며 코팅 외관이 우수하고, 이형력의 편차를 최소화하여 박리 안정성이 우수하고, 이형필름 박리 시 발생할 수 있는 점착제 들뜸 현상으로 인한 불량을 개선할 수 있는 장점이 있다.The release film according to the present invention can achieve a peelability of 10 gf / inch or less even when the inline coating method is applied. In addition, there is an advantage that the releasing force is less change with time, the appearance of the coating is excellent, the deviation of releasing force is minimized, and the peeling stability is excellent, and the defect caused by peeling of the pressure- .
상기와 같은 물성 구현을 통해, 본 발명에 따른 이형필름은 콘덴서용, 사진필름용, 라벨용, 감압 테이프, 장식용 라미네이트, 트랜스퍼 테이프, 편광판 및 세라믹이형용 그린시트 등의 다양한 분야에 적용될 수 있는 장점이 있다.Through the realization of the above properties, the release film according to the present invention can be applied to various fields such as a capacitor, a photographic film, a label, a pressure sensitive tape, a decorative laminate, a transfer tape, a polarizing plate and a ceramic green sheet have.
이하, 구체예들을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 구체예 또는 실시예는 본 발명을 상세히 설명하기 위한 하나의 참조일 뿐, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 여러 형태로 구현될 수 있다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. It is to be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims.
또한, 달리 정의되지 않은 한, 모든 기술적 용어 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 당업자 중 하나에 의해 일반적으로 이해되는 의미와 동일한 의미를 갖는다. 본원에서 설명에 사용되는 용어는 단지 특정 구체예를 효과적으로 기술하기 위함이고 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않는다.Also, unless otherwise defined, all technical and scientific terms have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention.
또한, 명세서 및 첨부된 특허청구범위에서 사용되는 단수 형태는 문맥에서 특별한 지시가 없는 한 복수 형태도 포함하는 것으로 의도할 수 있다.It is also to be understood that the singular forms as used in the specification and the appended claims are intended to include the plural forms as well, unless the context clearly indicates otherwise.
본 발명에 따른 이형필름은 폴리에스테르 기재 필름과, 이의 일면 또는 양면에 형성되는 이형코팅층을 포함하는 것으로, 상기 이형코팅층은 평균입경이 0.05㎛ 내지 2㎛인 실리콘 비드를 포함하며, 하기 식 1 내지 3을 만족하는 것을 특징으로 한다.The release film according to the present invention comprises a polyester base film and a release coating layer formed on one or both sides of the polyester base film, wherein the release coating layer comprises silicon beads having an average particle diameter of 0.05 to 2 탆, 3 < / RTI >
[식 1][Formula 1]
Ri ≤ 10R i ≤ 10
[식 2][Formula 2]
|Rf - Ri| ≤ 20| R f - R i | ≤ 20
[식 3][Formula 3]
|Rf -max - Rf -min| ≤ 1.2| R f -max - R f -min | 1.2
상기 식 1 내지 3에서, Ri는 55℃에서 24시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf -max는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최대값이고, Rf -min는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최소값이다.In the above formulas 1 to 3, R i is the releasing force measured after standing at 55 ° C for 24 hours, R f is the releasing force measured after standing at 55 ° C for 240 hours, R f -max is 55 ° C , And R f -min is the minimum value of the release force measured five times after being left at 55 ° C for 240 hours.
본 발명에서 폴리에스테르 기재필름은 디카르복실산을 주성분으로 하는 산성분과 알킬글리콜을 주성분으로 하는 글리콜 성분을 축중합하여 얻어지는 폴리에스테르 수지로 이루어질 수 있다. In the present invention, the polyester base film may be composed of a polyester resin obtained by condensation polymerization of an acid component containing a dicarboxylic acid as a main component and a glycol component containing an alkyl glycol as a main component.
상기 디카르복실산의 주성분으로는 테레프탈산 또는 그의 알킬에스테르나 페닐에스테르 등을 주로 사용하지만, 그의 일부를 예컨대 이소프탈산, 옥시에톡시 안식향산, 아디핀산, 세바신산, 5-나트륨설포이소프탈산 등의 이관능성 카르본산 또는 그의 에스테르형성 유도체로 대체하여 사용할 수 있다. As the main component of the dicarboxylic acid, terephthalic acid or an alkyl ester thereof or a phenyl ester thereof is mainly used, but a part of the dicarboxylic acid is used as a main component of the dicarboxylic acid such as isophthalic acid, oxyethoxybenzoic acid, adipic acid, sebacic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid Can be used in place of the bifunctional carboxylic acid or an ester-forming derivative thereof.
상기 글리콜성분으로는 에틸렌글리콜을 주된 대상으로 하지만, 그 일부를 예컨대 프로필렌 글리콜, 트리메틸렌 글리콜, 1,4-사이클로헥산디올, 1,4-사이클로헥산디메탄올, 1,4-비스옥시에톡시벤젠, 비스페놀, 폴리옥시에틸렌 글리콜로 대체하여 사용할 수도 있으며, 또한 적은 함량이라면 일관능성 화합물 또는 삼관능성 화합물을 병용하여도 좋다.The glycol component is mainly composed of ethylene glycol, but a part of the glycol component may be, for example, propylene glycol, trimethylene glycol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4-bisoxyethoxybenzene , Bisphenol, and polyoxyethylene glycol. If the content is small, a monofunctional compound or a trifunctional compound may be used in combination.
본 발명에서 이형코팅층은 하기 식 1 내지 3을 만족할 때, 이형력의 경시변화가 적으며, 균일한 점착특성을 달성할 수 있다.In the present invention, when the release coating layer satisfies the following formulas 1 to 3, the releasing force does not change with the lapse of time, and uniform adhesion characteristics can be achieved.
[식 1][Formula 1]
Ri ≤ 10R i ≤ 10
[식 2][Formula 2]
|Rf - Ri| ≤ 20| R f - R i | ≤ 20
[식 3][Formula 3]
|Rf -max - Rf -min| ≤ 1.2| R f -max - R f -min | 1.2
상기 식 1 내지 3에서 Ri는 55℃에서 24시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf -max는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최대값이고, Rf -min는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최소값이다.In the above formulas 1 to 3, R i is the releasing force measured after standing at 55 ° C for 24 hours, R f is the releasing force measured after standing at 55 ° C for 240 hours, R f -max is 55 ° C R f -min is the minimum value of the release force measured five times after being left at 55 ° C for 240 hours.
상기 식 1은 이형필름의 초경박리성을 나타내는 것으로, 상기 범위를 벗어나는 경우 본 발명에서 요구하는 초경박리성을 달성하기 어렵다. 상기 식 1의 하한은 크게 제한되지는 않으나, 바람직하게는 이형력 Ri이 3 이상인 것이 좋다. 이형력 Ri이 3 미만인 경우 초기 이형력이 너무 떨어져 피접착체에 대한 접착성이 제대로 발현되지 않을 수 있다.The above formula (1) indicates the peelability of the releasing film, and if it is out of the above range, it is difficult to achieve the releasability of the peel strength required in the present invention. Although the lower limit of the above-mentioned formula (1) is not particularly limited, it is preferable that the releasing force R i is 3 or more. When the releasing force R i is less than 3, the initial releasing force is too large and the adhesive property to the adherend may not be properly developed.
식 2는 이형력의 경시변화를 의미하는 것이다. 경시변화가 적을수록 최종 제품화 한 후 장기 보관하여 사용할 수 있으므로 관리의 이점이 있고, 이형필름 박리 시 균일한 박리력을 나타내므로 바람직하다. 상기 식 2의 하한은 크게 제한되지는 않았으나, 바람직하게는 이형력의 경시변화(|Rf - Ri|)가 10 이상인 것이 좋다. 이형력의 경시변화가 10 미만인 경우 필름 1,000㎜ 폭 이상에서 기계로 박리 시 박리의 흔적이 남지 않아 더욱 좋다. 반면, 이형력의 경시변화가 20 초과인 경우에는 필름 폭 1,000㎜ 이상 박리 시 높은 이형력이 나타남에 따라 그린시트 또는 전자재료용 시트 표면에 이형필름 박리의 흔적이 남을 수 있다.Equation (2) implies a change over time in the releasing force. The smaller the change over time is, the better the control is possible because the product can be stored for a long time after final production and can be used, and a uniform peeling force is exhibited when peeling off the releasing film. Although the lower limit of the formula (2) is not particularly limited, it is preferable that the change in the releasing force with time (R f - R i |) is 10 or more. When the change of the releasing force with time is less than 10, it is better because there is no trace of peeling when the film is peeled off from the film at a width of 1,000 mm or more. On the other hand, when the elongation of the releasing force is more than 20, a high releasing force may be exhibited when peeling the film with a width of 1,000 mm or more, so that the peeling of the releasing film may be left on the surface of the green sheet or sheet for electronic materials.
식 3은 이형력 편차를 의미하는 것으로, 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 측정된 이형력의 값들의 편차가 1.2 미만인 경우에는 이형력 편차를 느낄 수 없으며, 박리 시 발생하는 소음이 나타나지 않아 바람직하다. 반면, 1.2를 초과하는 경우는 감각적으로 이형력 편차를 느낄 수 있으며, 박리 시 소음 즉, 박리되며 나타나는 타닥 소리가 발생할 뿐만 아니라, 전체적으로 균일하게 박리되지 않아 불량의 원인이 될 수 있다.When the deviation of the values of the releasing force measured after standing for 240 hours at 55 캜 is less than 1.2, the deviation of the releasing force can not be felt, Do. On the other hand, if it is more than 1.2, it is possible to sense a release force deviation sensibly, and noise during peeling, that is, peeling and peeling may occur, and the peeling may not be uniformly peeled as a whole.
상기 물성의 밸런스를 구현하기 위하여, 본 발명에 따른 이형코팅층은 규소화합물 조성물 및 알코올에 분산된 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅 조성물로 형성된다. 상기 이형코팅 조성물은 크게 제한되는 것은 아니지만, 규소화합물 조성물 10 내지 40 중량%, 실리콘 비드 0.1 내지 5 중량%, 알코올 5 내지 20 중량% 및 잔량의 용매로 이루어질 수 있다. 이때, 상기 실리콘 비드는 바람직하게는 무수에탄올 또는 무수이소프로필알콜 등을 분산매로 사용하여 분산시킨 형태로 이형코팅 조성물에 혼합된다. In order to achieve balance of physical properties, the release coating layer according to the present invention is formed from a release coating composition comprising a silicon compound composition and silicon beads dispersed in an alcohol. The release coating composition is not particularly limited, but may be composed of 10 to 40% by weight of the silicon compound composition, 0.1 to 5% by weight of silicon beads, 5 to 20% by weight of alcohol and a residual solvent. At this time, the silicon beads are preferably mixed with the release coating composition in the form of dispersed using anhydrous ethanol, isopropyl alcohol anhydride or the like as a dispersion medium.
상기 규소화합물 조성물은 규소화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함할 수 있다. The silicon compound composition may include a silicon compound, a platinum-based catalyst, and a silicon-based wetting agent.
상기 규소화합물은 하기 화학식 1 내지 화학식 3에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 화합물 및 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다. The silicon compound may include any one or two or more compounds selected from the following Formulas (1) to (3) and a compound represented by Formula (4).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 화학식 1에서, n은 20 내지 3000이고, m은 1 내지 500이고, n+m은 21 내지 3000이다. In the above formula (1), n is 20 to 3000, m is 1 to 500, and n + m is 21 to 3000.
[화학식 2](2)
상기 화학식 2에서, x는 1 내지 3000이다. In the above formula (2), x is 1 to 3000.
[화학식 3] (3)
상기 화학식 3에서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 -CH=CH2, -(SiC2H6O)kCH=CH2, -(SiC2H6O)k(CH2)lCH=CH2에서 선택되는 어느 하나이며, k와 l은 각각 독립적으로 0 내지 300이며, y는 20 내지 3000이고, z는 1 내지 500이고, y + z는 21 내지 3000이다.Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent -CH═CH 2 , - (SiC 2 H 6 O) k CH═CH 2 , - (SiC 2 H 6 O) k ( CH 2 ) l CH = CH 2 , k and l are each independently 0 to 300, y is 20 to 3000, z is 1 to 500, and y + z is 21 to 3000.
[화학식 4] [Chemical Formula 4]
상기 화학식 4에서, a는 1 내지 150이고, b는 3 내지 300이고, a+b는 5 내지 300이다. In Formula 4, a is from 1 to 150, b is from 3 to 300, and a + b is from 5 to 300.
상기 화학식 1, 2 및 3으로 표시되는 화합물은 각각 이형코팅층의 주제로서 실록산 구조의 프리폴리머 상태이다. 또한, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 경화제로서, 화학식 1 내지 3과 반응하여 PDMS(Polydimethylsilicone Resin)을 형성한다. 화학식 1 내지 3의 비닐그룹(Vinyl group)과 화학식 4의 실란그룹(Silane group)이 반응하게 되며, 화학식 3은 Silane Group(Si-H)와 Si-CH3가 랜덤(Random)하게 교차됨에 따라 Si-H만 연속으로 되어 있는 경화제보다 입체 장애(Steric hindrance)가 낮아 반응속도가 빨라지는 장점이 있으며, 본원발명의 폴리에스테르 기재필름의 물성을 저해하지 않으므로 바람직하다.The compounds represented by the above formulas (1), (2) and (3) are each a prepolymer state of the siloxane structure as a subject of the release coating layer. In addition, the compound represented by Formula 4 reacts with Formulas 1 to 3 as a curing agent to form PDMS (Polydimethylsilicone Resin). The vinyl group of the formulas 1 to 3 reacts with the silane group of the formula 4 and the silane group of the formula 4 reacts randomly with the silane group (Si-H) and Si-CH 3 Si-H is advantageous in that the reaction rate is faster than that of the curing agent in which only Si-H is continuous, because it is low in sterical hindrance, and it does not hinder the physical properties of the polyester base film of the present invention.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 상업화된 예로는 Wacker Chemie AG사의 Dehesive 490 등이 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 상업화된 예로는 Wacker Chemie AG사의 Dehesive 430, 신에츠사(shin-etsu)의 KM3951, KM3952 등이 있으며 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 상업화된 예로는 Wacker Chemie AG사의 Dehesive 440, Dowcorning사의 SYL-OFF 7920, SYL-OFF 7924 등이 있으며 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 상업화된 예로는 Wacker Chemie AG사의 Crosslinker V72, Crosslinker V15 등이 있으며 이에 제한되는 것은 아니다. Commercialized examples of the compound represented by the above formula (1) include, but are not limited to, Dehesive 490 from Wacker Chemie AG. Commercial examples of the compound represented by Formula 2 include Dehesive 430 from Wacker Chemie AG, KM3951 and KM3952 from Shin-etsu, and the like. Commercialized examples of the compound represented by the above formula (3) include Dehesive 440 from Wacker Chemie AG, SYL-OFF 7920 and SYL-OFF 7924 from Dowcorning, and the like. Commercialized examples of the compound represented by Formula 4 include Crosslinker V72 and Crosslinker V15 from Wacker Chemie AG, but are not limited thereto.
본 발명에서 상기 백금계 촉매는 상기 화학식 1 내지 3로 표시되는 화합물이 가지는 폴리디메틸실록산의 비닐기와 화학식 4로 표시되는 화합물의 폴리하이드로실록산의 수소 간의 반응을 촉진하여 코팅층이 기재필름에 접착되는 접착성, 즉 밀착성을 상승시키는 역할을 한다. 이러한 백금촉매는 전체 규소화합물 조성물 중 1 내지 20ppm으로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 범위를 만족하는 경우 반응성 향상 효과가 상승하고, 제조비용을 절감할 수 있다. 상기 백금계 촉매의 상업화된 예로는 Wacker Chemie AG사의 EM440 등이 있으며 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기 실리콘계 웨팅제의 상업화된 예로는 Dow Corning사의 Q2-5211 등이 있으며 이에 제한되는 것은 아니다.In the present invention, the platinum-based catalyst promotes the reaction between the vinyl groups of the polydimethylsiloxane of the compounds represented by Chemical Formulas 1 to 3 and the hydrogen of the polyhydroxylsiloxane of the chemical compound represented by Chemical Formula 4 to bond the coating layer to the substrate film And thus enhances the adhesion, that is, the adhesion. Such a platinum catalyst is preferably contained in an amount of 1 to 20 ppm in the total silicon compound composition. When the above range is satisfied, the effect of improving the reactivity is increased, and the production cost can be reduced. Commercial examples of the platinum-based catalysts include, but are not limited to, EM440 from Wacker Chemie AG. Commercial examples of the silicone-based wetting agent include, but are not limited to, Q2-5211 of Dow Corning.
본 발명에 따른 이형코팅 조성물에서 상기 화학식 1, 2 또는 3 화합물의 고형분 함량은 5 내지 25 중량%, 바람직하게는 8 내지 16 중량%인 것일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우 폴리에스테르 필름 표면을 충분히 코팅할 수 있으며, 반응전환율을 높여 잔류점착율을 효과적으로 조절할 수 있다.In the release coating composition according to the present invention, the solid content of the compound of Formula 1, 2 or 3 may be 5 to 25% by weight, preferably 8 to 16% by weight. When the above range is satisfied, the surface of the polyester film can be sufficiently coated, and the residual conversion ratio can be effectively controlled by increasing the reaction conversion ratio.
또한, 화학식 4 화합물의 고형분 함량이 0.5 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.8 내지 2 중량%인 것일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우 이형코팅층을 충분히 경화 할 수 있고, 미반응한 실란 그룹(Silane Group)이 없이 이형력 경시변화를 낮출 수 있다. In addition, the solid content of the compound of Formula 4 may be 0.5 to 5 wt%, preferably 0.8 to 2 wt%. When the above range is satisfied, the release coating layer can be sufficiently cured, and the change in releasing force over time can be reduced without an unreacted silane group.
또한, 상기 백금계 촉매의 고형분 함량은 0.001 내지 3 중량%, 바람직하게는 0.005 내지 0.1 중량%인 것일 수 있다. 상기 범위에서 촉매 첨가 효과가 충분히 발현되며, 이형력의 불균일을 억제할 수 있다.The solid content of the platinum-based catalyst may be 0.001 to 3% by weight, preferably 0.005 to 0.1% by weight. In this range, the effect of adding the catalyst is sufficiently exhibited, and the unevenness of releasing force can be suppressed.
또한, 상기 실리콘계 웨팅제의 고형분 함량은 0.1 내지 3 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 2 중량%인 것이 더욱 좋다. 상기 범위를 만족하는 경우, 제조되는 필름의 헤이즈를 낮추면서 코팅 얼룩을 유발을 방지할 수 있다.It is further preferable that the solid content of the silicone based wetting agent is 0.1 to 3% by weight, preferably 0.5 to 2% by weight. When the above range is satisfied, it is possible to prevent the occurrence of coating unevenness while lowering the haze of the film to be produced.
상기 규소화합물 조성물은 바람직한 일 양태로, 상기 화학식 1의 화합물, 상기 화학식 4의 화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함하거나, 상기 화학식 2의 화합물, 상기 화학식 4의 화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함하거나, 상기 화학식 3의 화합물, 상기 화학식 4의 화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함할 수 있다. 보다 바람직하게는 상기 규소화합물은 화학식 2 및 화학식 4로 표기되는 화합물의 조합을 포함하여 이형력 편차를 줄이고 잔류점착력을 향상시킬 수 있어 더욱 좋다. In one preferred embodiment, the silicon compound composition comprises the compound of Formula 1, the compound of Formula 4, the platinum-based catalyst, and the silicone-based wetting agent, or the compound of Formula 2, the compound of Formula 4, A wetting agent, a compound of Formula 3, a compound of Formula 4, a platinum catalyst, and a silicone-based wetting agent. More preferably, the silicon compound includes a combination of the compounds represented by the general formulas (2) and (4), thereby reducing the deviation of the releasing force and improving the residual adhesive force.
본 발명에서 상기 규소화합물 조성물은 전체 이형코팅층 조성물 100 중량% 중 10 내지 40 중량% 포함할 수 있다. 상기 범위에서 기재필름과 코팅층 간의 밀착력을 향상시키면서 미반응된 규소화합물의 낭비를 억제할 수 있다.In the present invention, the silicon compound composition may include 10 to 40 wt% of 100 wt% of the total release coating layer composition. In this range, it is possible to improve the adhesion between the base film and the coating layer and to suppress the waste of the unreacted silicon compound.
본 발명에서 상기 실리콘 비드는 낮은 박리력과 표면 조도를 균일하게 하며, 접착제와의 접촉면적을 낮춰 이형력을 낮출 수 있다. 이때, 실리콘 비드는 평균입경이 평균 입경은 0.05㎛ 내지 2㎛일 수 있다. 0.05㎛ 미만인 경우는 그 효과가 미미하며, 2㎛ 초과인 경우는 실리콘 비드의 침전에 따른 조액 안정성이 떨어질 수 있으며, 코팅외관이 불량 할 수 있다.In the present invention, the silicon beads have a low peeling force and a uniform surface roughness, and the contact area with the adhesive is reduced to lower the releasing force. In this case, the average particle size of the silicon beads may be 0.05 탆 to 2 탆. If the thickness is less than 0.05 탆, the effect is insignificant. If the thickness is more than 2 탆, stability of the liquid solution may be deteriorated due to precipitation of silicon beads, and the appearance of the coating may be poor.
또한, 상기 실리콘 비드는 변동계수(Coefficient of Variance, C.V. = 실리콘 비드의 표준 입경(Standard Size)/사용 실리콘 비드의 평균 입경(Average Size))가 20 이하이며, 120℃, 30min 조건에서 수분 분석기로 측정한 함수율(Moisture Contents)이 0.6% 이하일 수 있다. 상기 실리콘 비드의 변동계수가 20 초과인 경우 실리콘 비드의 생산 Lot에 따른 사이즈 분포차이가 큼에 따라 코팅성 및 주행성의 차이가 커질 수 있어 제품의 재현성이 떨어질 수 있다. 또한 함수율이 0.6% 초과인 경우 수분에 따른 실리콘 반응의 저해요소가 될 수 있다.The silicon beads were analyzed by a moisture analyzer at a temperature of 120 DEG C for 30 minutes under conditions of Coefficient of Variance (CV = Standard Size of Silicon Beads / Average Size of Used Silicon Beads) The measured Moisture Contents may be less than 0.6%. When the coefficient of variation of the silicon beads is more than 20, the difference in the size distribution according to the production lot of the silicon beads increases, so that the difference in the coatability and the running property may increase, and the reproducibility of the product may deteriorate. Also, when the moisture content exceeds 0.6%, it can be an inhibiting factor of the silicon reaction depending on the moisture.
본 발명에서 상기 실리콘 비드는 전체 이형코팅층 조성물 100 중량% 중 0.1 내지 5 중량% 포함할 수 있다. 0.1 중량% 미만인 경우 조도를 형성하지 않아 이형력을 낮추는 역할을 할 수 없으며, 5 중량% 초과하는 경우 오히려 이형반응의 반응 전환율을 낮추고, 코팅외관이 불량 할 수 있다.In the present invention, the silicon beads may include 0.1 to 5 wt% of 100 wt% of the total release coating layer composition. If the content is less than 0.1% by weight, roughness is not formed and the releasing force can not be lowered. If the content is more than 5% by weight, the reaction conversion rate may be lowered and the appearance of the coating may be poor.
본 발명에서 상기 실리콘 비드는 알코올에 분산시켜 사용함으로써 더욱 균일한 분산성을 나타내며, 다른 성분과의 조합으로 목적하는 물성 상승효과를 구현할 수 있다. 이때, 알코올은 바람직하게는 무수알코올이 좋으며, 보다 바람직하게는 무수에탄올 및 무수이소프로필알콜 중에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 것일 수 있다. 이는 실리콘 비드 자체의 입경이 작은 것과 동시에 실리콘의 표면이 소수성이기 때문에 분산용매로 물을 사용할 경우 더욱 분산성이 떨어지기 때문이다. 이와 동시에, 본 발명에 따른 알코올은 종래 물을 20 내지 30% 정도 포함하는 것과는 달리 무수알코올을 사용하는 것을 특징으로 한다. 이러한 무수알코올을 사용할 경우, 실리콘비드의 분산이 더욱 향상되며, 외관 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다. In the present invention, the silicon beads are dispersed in alcohol to exhibit a more uniform dispersibility, and a desired property of increasing the physical properties can be realized by combining with other components. At this time, the alcohol is preferably anhydrous alcohol, more preferably any one selected from anhydrous ethanol and anhydrous isopropyl alcohol, or a mixture thereof. This is because the diameter of the silicon bead itself is small and the surface of the silicon is hydrophobic, so that when the water is used as the dispersing solvent, the dispersibility is further lowered. At the same time, the alcohol according to the present invention is characterized in that anhydrous alcohol is used, unlike the case of containing 20 to 30% of water. When such anhydrous alcohol is used, the dispersion of the silicon beads is further improved, and appearance defects can be prevented from occurring.
본 발명에 따른 이형필름은 잔류 점착율이 90% 이상인 것일 수 있다.The release film according to the present invention may have a residual adhesion ratio of 90% or more.
상기 잔류 점착율이 90% 이상인 범위에서 이형필름의 미반응물이 낮은 것으로 판단할 수 있어 고객사에서 후가공후에 이형필름의 미반응물이 최종제품에 전사되는 양이 적으므로 바람직하다.It is possible to judge that the unreacted materials of the release film are low in the range of the residual adhesion ratio of 90% or more, and it is preferable because the amount of unreacted materials of the release film transferred to the final product after the post-processing is small.
본 발명에 따른 이형필름에서 상기 폴리에스테르 기재 필름의 두께는 10 내지 200 ㎛, 더욱 좋게는 10 내지 50㎛인 것일 수 있으며, 상기 이형코팅층의 두께는 0.01 내지 0.5㎛, 더욱 좋게는 0.1 ~ 0.3㎛인 것일 수 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.In the release film according to the present invention, the polyester base film may have a thickness of 10 to 200 탆, more preferably 10 to 50 탆, and the thickness of the release coating layer may be 0.01 to 0.5 탆, more preferably 0.1 to 0.3 탆 However, the present invention is not limited thereto.
본 발명에 따른 이형필름의 제조방법은 기재필름 표면 특성 제어를 통해 제품 물성을 극대화하고, 인라인 코팅 공정을 도입함에 따라 비용을 절감할 수 있어 경제적이고 생산성을 극대화할 수 있는 장점이 있다.The method of manufacturing a release film according to the present invention maximizes product physical properties through control of the surface properties of a base film and can reduce costs as an in-line coating process is introduced, thereby being economical and maximizing productivity.
본 발명에 따른 이형필름의 제조방법은 The method for producing a release film according to the present invention comprises
a) 폴리에스테르 수지를 용융 압출하여 시트로 제조하는 단계;a) melt-extruding a polyester resin to prepare a sheet;
b) 상기 시트를 종방향으로 연신하는 단계;b) longitudinally stretching the sheet;
c) 상기 b) 단계 시트의 일면 또는 양면에 규소화합물 조성물 및 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅층 조성물을 인라인 코팅법으로 도포하는 단계;c) applying the release coating layer composition comprising the silicon compound composition and the silicon bead on one or both sides of the sheet of step b) by in-line coating method;
d) 상기 c) 단계 시트를 건조 및 예열한 후, 횡방향으로 연신하여 이형필름을 제조하는 단계; 및d) drying and preheating the c) step sheet, and then stretching in the transverse direction to produce a release film; And
e) 상기 이형필름을 열처리하는 단계;e) heat treating the release film;
를 포함한다. .
이때, 이형코팅층 조성물은 알코올에 분산된 실리콘 비드를 별도로 혼합시키는 것을 특징으로 한다. At this time, the release coating layer composition is characterized in that silicon beads dispersed in alcohol are separately mixed.
상기 c) 단계는 이형코팅 조성물 도포는 그라비어(Gravure) 롤을 이용하여 도포하는 것일 수 있다. 그라비아 코팅롤을 사용하는 경우, 이형코팅 조성물이 균일한 두께로 도포될 수 있다.In the step c), the release coating composition may be applied using a gravure roll. If a gravure coating roll is used, the release coating composition can be applied in a uniform thickness.
상기 d) 단계는 140℃ 이하, 더욱 구체적으로 110 ~ 140℃ 에서 건조 및 예열을 실시하는 것이 바람직하다. 140℃ 초과하여 진행하는 경우 이형력 편차가 증가하여 균일성이 크게 떨어질 수 있다.Preferably, the drying and preheating is performed at a temperature of 140 ° C or less, more specifically 110 to 140 ° C. If the temperature exceeds 140 ° C, the deviation of the releasing force may increase and the uniformity may be greatly reduced.
또한, 상기 b) 단계 또는 d) 단계 연신은 80 내지 150℃에서 실시하는 것이 바람직하다. 80℃ 미만인 경우 연신에 필요한 열이 충분치 않아 연신이 제대로 일어나지 않으며, 150℃ 초과인 경우 필름에 열주름 또는 오렌지 필(orange peel)이 발생할 수 있다. Also, it is preferable that the stretching at the step b) or d) is carried out at 80 to 150 ° C. If the temperature is lower than 80 ° C, sufficient heat for stretching is not sufficient and stretching does not occur properly. If the temperature is higher than 150 ° C, heat wrinkles or orange peel may occur on the film.
또한, d) 단계에서 연신 시 연신 비율은 크게 제한되는 것은 아니지만, 기계 방향(MD) 및 폭 방향(TD)으로 각각 3 내지 5배 연신할 수 있다. 상기 범위에서 제조되는 필름의 두께 균일성이 유지되면서, 필름의 파단을 억제할 수 있다.In the step d), the stretching ratio during stretching is not limited to a great extent, but stretching may be 3 to 5 times in the machine direction (MD) and the width direction (TD), respectively. The thickness uniformity of the film produced in the above range can be maintained, and the breakage of the film can be suppressed.
e) 단계에서 열처리는 230 내지 250℃에서 실시하는 것일 수 있다. 230℃ 미만에서는 이형코팅층이 충분히 반응이 이루어지지 않아 밀리는 현상이 발생할 수 있고, 250℃ 초과에서는 필름의 열주름과 오렌지필(orange peel)현상이 발생을 할 수 있다.In the step e), the heat treatment may be carried out at 230 to 250 ° C. If the temperature is lower than 230 ° C, the release coating layer may not sufficiently react and may be pushed. When the temperature exceeds 250 ° C, heat wrinkling and orange peel may occur.
이하는 본 발명의 보다 구체적인 설명을 위하여, 실시예를 들어 설명을 하는 바, 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
이하 물성을 다음과 같이 측정하였다.The following physical properties were measured as follows.
1) 코팅 균일성 측정1) Coating uniformity measurement
폴리에스테르 이형필름에 있어서 기재필름 면적 대비 이형층이 형성되지 않은 부분의 면적이 1%이하이면 양호, 1%를 초과할 경우 불량으로 표기하였다. When the area of the portion of the polyester releasing film where the release layer is not formed is 1% or less of the area of the base film, the result is good.
2) 코팅 두께2) Coating thickness
검량된 XRF 장비(Oxford사 LX3500)로 이형층의 실리콘 함량을 측정한 후 이를 코팅 두께로 환산하여 표기하였다.The silicone content of the release layer was measured with a calibrated XRF instrument (Oxford LX3500) and converted to the coating thickness.
3) 이형력3) Release force
FINAT 10의 방법에 따라 표준 Tape으로 TESA 7475를 사용하여 이형력을 측정하였다.The release force was measured using a TESA 7475 as a standard tape according to the method of FINAT 10.
(1) 이형력 Ri (1) Release force R i
실시예 및 비교예에서 제조된 필름의 이형코팅층 위에 TESA 7475를 놓고 2Kg 고무롤을 사용하여 2회 왕복 문지른 다음, 10cm간격으로 50mm×15cm 크기의 샘플을 잘라 5장 준비하였다. 준비된 샘플을 70g/㎠의 하중을 주고 55℃에서 24시간 동안 방치한 후, Peel Tester(Chem Instrument사, AR-1000)을 사용하여 180도 Peel 박리 평가를 실시하였다. 박리속도는 300mm/min으로 하였다. 상기 5장의 샘플의 이형력을 측정하여 평균값을 나타내었다. TESA 7475 was placed on the release coating layer of the films prepared in Examples and Comparative Examples, and was rubbed back and forth twice using 2 Kg of rubber roll, and then 5 samples of 50 mm x 15 cm size pieces were prepared at intervals of 10 cm. The prepared sample was allowed to stand at 55 DEG C for 24 hours under a load of 70 g / cm < 2 > and subjected to peel peel evaluation at 180 degrees using Peel Tester (Chem Instrument, AR-1000). The peeling speed was 300 mm / min. The release force of the five samples was measured and the average value was shown.
(2) 이형력 Rf (2) The releasing force R f
실시예 및 비교예에서 제조된 필름의 이형코팅층 위에 TESA 7475를 놓고 2Kg 고무롤을 사용하여 2회 왕복 문지른 다음, 10cm간격으로 50mm×15cm 크기의 샘플을 잘라 5장 준비하였다. 준비된 샘플을 70g/㎠의 하중을 주고 55℃에서 240시간 동안 방치한 후, Peel Tester(Chem Instrument사, AR-1000)을 사용하여 180도 Peel 박리 평가를 실시하였다. 박리속도는 300mm/min으로 하였다. 상기 5장의 샘플의 이형력을 측정하여 평균값을 나타내었다. TESA 7475 was placed on the release coating layer of the films prepared in Examples and Comparative Examples, and was rubbed back and forth twice using 2 Kg of rubber roll, and then 5 samples of 50 mm x 15 cm size pieces were prepared at intervals of 10 cm. The prepared sample was allowed to stand at 55 DEG C for 240 hours under a load of 70 g / cm < 2 > and subjected to peel peel evaluation at 180 degrees using Peel Tester (Chem Instrument, AR-1000). The peeling speed was 300 mm / min. The release force of the five samples was measured and the average value was shown.
(3) 이형력의 경시변화(|Rf - Ri|)(3) Change over time of release force (| R f - R i |)
상기 이형력 Rf와 이형력 Ri의 차이 값을 이형력의 경시변화로 한다. The difference between the releasing force R f and the releasing force R i is taken as a change with time in the releasing force.
(4) 이형력 편차(|Rf-max Rf-min|)(4) Deformation force deviation (| R f-max R f -min |)
상기 이형력 Rf 측정 시, 5회 측정된 이형력 중 최대값을 Rf -max로 하고, 최소값을 Rf-min로 하여 그 차이 값을 계산하였다.The releasing force R f In the measurement, the difference value was calculated by setting the maximum value of the release force measured five times as R f -max and the minimum value as R f-min .
4) 잔류 점착율4) Residual adhesion rate
(1) 제 1 점착력 : 표준 테이프(Tape)인 Nitto 31B Tape를 70℃에서 24시간 동안 방치한 후 테프론(Teflon) 시트에 합지하고, 2kg의 고무롤로 2회 반복하여 압착시켰다. 합지된 샘플의 Nitto 31B Tape를 180도 필 테스터(Chem Instrument사 AR1000)를 이용하여 점착력을 측정하였다.(1) First Adhesive Force: A Nitto 31B tape, which is a standard tape, was left to stand at 70 캜 for 24 hours, followed by lapping it on a Teflon sheet and repeatedly pressing twice with 2 kg of rubber roll. The adhesive strength of the lapped sample Nitto 31B Tape was measured using a 180-degree film tester (Chem Instrument AR1000).
(2) 제 2 점착력 : 표준 테이프(Tape)인 Nitto 31B Tape를 실시예 및 비교예에서 제조된 필름의 이형코팅층에 접착시키고 70g/㎠의 하중을 가한 상태에서 70℃에서 24시간 동안 방치한 후 Nitto 31B Tape를 떼어내었다. 떼어낸 Nitto 31B Tape를 다시 테프론(Teflon) 시트에 합지하고, 2kg의 고무롤로 2회 반복하여 압착시켰다. 합지된 샘플의 Nitto 31B Tape를 180도 필 테스터(Chem Instrument사 AR1000)를 이용하여 점착력을 측정하였다.(2) Second Adhesive Force: A Nitto 31B tape as a standard tape was adhered to the release coating layer of the film prepared in Examples and Comparative Examples, and left at 70 DEG C for 24 hours under a load of 70 g / cm < I removed the Nitto 31B tape. The detached Nitto 31B tape was again put on a Teflon sheet and pressed twice with 2 kg of rubber roll. The adhesive strength of the lapped sample Nitto 31B Tape was measured using a 180-degree film tester (Chem Instrument AR1000).
잔류 점착력은 하기 식 4와 같이 측정하였다. 단위는 gf/inch이며, 잔류 점착율이 90%이상일 때 만족으로 한다.The residual adhesive force was measured as shown in Equation 4 below. The unit is gf / inch, and satisfies when the residual adhesion rate is 90% or more.
[식 4][Formula 4]
잔류 점착율 = (제 2 점착력 / 제 1 점착력) × 100Residual tack ratio = (second tack / first tack) x 100
하기 실시예 및 비교예에서 사용된 조성은 다음과 같다.The compositions used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.
코팅액 1 : 화학식 1의 규소화합물로 폴리디메틸실록산(Wacker Chemie AG사, DEHESIVE® 490)을 고형분함량으로 49.99중량%, 백금촉매(Wacker Chemie AG사, EM440)를 고형분 함량으로 0.01 중량% 포함하며, 전체 고형분 함량이 50 중량%인 조성물.Coating solution 1: 49.99 wt% of polydimethylsiloxane (DEHESIVE (R) 490, Wacker Chemie AG) as a silicon compound of formula (1) and 0.01 wt% of platinum catalyst (EM440, Wacker Chemie AG) as a solid content, Wherein the total solids content is 50% by weight.
코팅액 2 : 화학식 2의 규소화합물로 폴리디메틸실록산(신에츠사, KM3951)을 고형분 함량으로 49.99 중량%, 백금촉매(Wacker Chemie AG사, EM440)를 고형분 함량으로 0.01 중량% 포함하며, 전체 고형분 함량이 50 중량%인 조성물.Coating solution 2: 49.99% by weight of a polydimethylsiloxane (Shin-Etsu, KM3951) as a silicon compound of formula (2) in solid content and 0.01% by weight of a platinum catalyst (EM440 by Wacker Chemie AG) as a solid content and the total solids content 50% by weight.
코팅액 3 : 화학식 4의 규소화합물로 수소실란계 화합물(Wacker Chemie AG사, Crosslinker V15, 화학식 4에서 a가 5이고, b가 95이며, 중량평균분자량이 4000 g/mol인 화합물)을 고형분 함량으로 50 중량% 포함하는 조성물.Coating solution 3: A hydrogen silane compound (Wacker Chemie AG, Crosslinker V15, a compound having a of 5 in the formula (4), b of 95 and a weight average molecular weight of 4000 g / mol) was mixed with the silicon compound of the formula (4) 50 wt%.
상기 중량평균분자량은 스티렌을 스탠다드 물질로 사용하여 겔크로마토그래피(GPC)로 측정된 것이다.The weight average molecular weight is measured by gel chromatography (GPC) using styrene as a standard material.
코팅액 4 : 실리콘계 웨팅제이며, Dow Corning사, Q2-5212로 고형분이 80중량%인 조성물.Coating solution 4: A silicone-based wetting agent, the composition of which is Dow Corning, Q2-5212 with a solids content of 80% by weight.
코팅액 5 : 화학식 3의 폴리디메틸실록산과 화학식 4의 수소실란계 화합물이 포함된 Dow Corning사, SYL-OFF® 7920을 고형분 함량으로 49.99중량%, 백금촉매(Wacker Chemie AG사, EM440)를 고형분 함량으로 0.01 중량% 포함하며, 전체 고형분 함량이 45 중량%인 조성물.Coating solution 5: 49.99% by weight of a solid content of SYL-OFF 占 7920, Dow Corning company containing a polydimethylsiloxane of the formula (3) and a hydrogen silane compound of the formula (4), a solid content of platinum catalyst (Wacker Chemie AG, EM440) By weight to 0.01% by weight, and a total solids content of 45% by weight.
[실시예 1][Example 1]
상기 코팅액 1을 20 중량%, 코팅액 3을 1 중량%, 코팅액 4를 0.5 중량%, 실리콘 비드 0.5 중량% 및 잔량의 물을 용매로 사용하여 조액하였다. 또한, 상기 실리콘 비드는 별도로 무수에탄올을 이용하여 분산시킨 후 혼합하여 조액하였다. 이때, 무수에탄올의 함량은 전체 코팅액 조성물 중 10 중량%이다. 20% by weight of the coating solution 1, 1% by weight of the coating solution 3, 0.5% by weight of the coating solution 4, 0.5% by weight of silicon beads and residual water was used as a solvent. Further, the silicon beads were dispersed separately using anhydrous ethanol, and then mixed to prepare a liquid. At this time, the content of anhydrous ethanol is 10% by weight in the total coating liquid composition.
다음으로, 1000g의 디메틸테레프탈레트, 576g의 에틸렌글리콜, 폴리에스테르 수지 함량 대비 300ppm의 마그네슘 아세테이트, 400ppm의 트리메틸 포스페이트를 반응기에 넣고 메탄올을 유출시키면서 에스테르교환반응을 시켰다. 이후, 285℃, 0.3torr 진공 하에서 축중합반응을 하여 고유점도가 0.61인 폴리에스테르 칩을 얻었다. Then, 1,000 g of dimethyl terephthalate, 576 g of ethylene glycol, 300 ppm of magnesium acetate and 400 ppm of trimethyl phosphate were added to the reactor and the ester exchange reaction was carried out while methanol was flowing out. Thereafter, condensation polymerization was carried out under a vacuum of 0.3 torr at 285 DEG C to obtain a polyester chip having an intrinsic viscosity of 0.61.
상기 폴리에스테르 칩을 280℃에서 용융 압출한 후 대형롤을 이용하여 24℃로 급냉하여 폴리에스테르 시트를 얻었다. 얻어진 폴리에스테르 시트를 110℃에서 3.5배 종방향 연신하고 냉각된 필름에 그라비아 코터를 이용하여 코팅액을 도포하였다.The polyester chips were melt-extruded at 280 DEG C and then quenched at 24 DEG C using a large-sized roll to obtain a polyester sheet. The resulting polyester sheet was stretched 3.5 times in the longitudinal direction at 110 DEG C and the coating film was applied to the cooled film using a gravure coater.
그리고, 125℃에서 건조 및 예열한 후 횡방향으로 3.5배 연신하여 이축 연신 필름을 제조하였다. 얻어진 이축연신 필름을 240℃에서 열처리하여 두께가 25㎛인 이형필름을 얻었다. 얻어진 이형필름의 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.After drying and preheating at 125 DEG C, the film was stretched 3.5 times in the transverse direction to prepare a biaxially stretched film. The obtained biaxially stretched film was heat-treated at 240 캜 to obtain a release film having a thickness of 25 탆. The physical properties of the resulting release film were measured and are shown in Table 2 below.
[실시예 2 내지 9 및 비교예 1 내지 3][Examples 2 to 9 and Comparative Examples 1 to 3]
하기 표 1과 같이 코팅액의 조성비, 예열온도 등을 달리한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 이형필름을 제조하였다. 제조된 이형필름의 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.A release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition ratio of the coating liquid, the preheating temperature, and the like were changed as shown in Table 1 below. The properties of the prepared release films were measured and are shown in Table 2 below.
종류Dispersed solvent
Kinds
(㎛)Average particle diameter
(탆)
(중량%)Addition amount
(weight%)
상기 표 1에서 ET은 무수에탄올이고, IPA는 무수이소프로필알콜이다. In Table 1, ET is anhydrous ethanol and IPA is isopropyl alcohol anhydride.
균일성coating
Uniformity
(㎛)Coating thickness
(탆)
(gf/inch)R i
(gf / inch)
(%)Residual tack rate
(%)
(gf/inch)R f
(gf / inch)
상기 표 2에서 볼 수 있는 바와 같이, 본 발명을 통해 제조된 이형필름은 코팅 균일성이 양호하고, 이형력 Ri이 10 이하로 낮은 것을 알 수 있다. 또한 식 2에 따른 이형력의 경시변화가 20 이하이며, 식 3에 따른 이형력 편차가 1.2 이하인 물성을 모두 만족하였다. 또한, 잔류 점착율이 90% 이상인 물성을 나타내어 미반응물이 낮은 것을 확인하였다.As can be seen from Table 2, the release film produced by the present invention has good coating uniformity and a low releasing force R i of 10 or less. Also, the elongation of the releasing force according to Eq. 2 is 20 or less, and the releasing force deviation according to Eq. 3 is 1.2 or less. In addition, it was confirmed that the residual adhesion ratio was 90% or more and the unreacted materials were low.
이에 반해 비교예의 경우 초기 이형력이 높고, 이형력의 편차가 큰 것을 알 수 있다. 특히 분산용매로 물을 사용한 비교예 2의 경우 외관불량으로 물성을 측정하지 못하는 것을 확인하였으며, 비교예 3은 예열 온도를 150℃로 함에 따라 이형력 편차가 커져 코팅 균일성이 불량인 것을 확인할 수 있다.On the contrary, in the comparative example, the initial releasing force is high and the deviation of the releasing force is large. Particularly, in Comparative Example 2 in which water was used as a dispersion solvent, it was confirmed that the physical properties could not be measured due to defective appearance, and in Comparative Example 3, as the preheating temperature was set to 150 ° C, the deviation in mold releasing force became large, have.
이상으로 본 발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to specific embodiments thereof, those skilled in the art will appreciate that such specific embodiments are merely preferred embodiments and that the scope of the present invention is not limited thereby. something to do. It is therefore intended that the scope of the invention be defined by the claims appended hereto and their equivalents.
Claims (11)
상기 이형코팅층은 평균입경이 0.05 내지 2㎛인 실리콘 비드를 함유하고, 하기 식 1 내지 3을 만족하는 것을 특징으로 하는 이형필름.
[식 1]
Ri ≤ 10
[식 2]
|Rf - Ri| ≤ 20
[식 3]
|Rf-max - Rf-min| ≤ 1.2
상기 식 1 내지 3에서, Ri는 55℃에서 24시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf-max는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최대값이고, Rf-min는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최소값이다.A polyester base film and a release coating layer formed on one or both sides of the polyester base film,
Wherein the release coating layer contains silicon beads having an average particle diameter of 0.05 to 2 占 퐉 and satisfies the following formulas (1) to (3).
[Formula 1]
R i ≤ 10
[Formula 2]
| R f - R i | ≤ 20
[Formula 3]
| R f-max - R f-min | 1.2
In the above Equations 1 to 3, R i is the releasing force measured after standing at 55 ° C for 24 hours, R f is the releasing force measured after standing at 55 ° C for 240 hours, and R f-max is 55 ° C , And R f -min is the minimum value of the release force measured five times after being left at 55 ° C for 240 hours.
상기 이형코팅층은 규소화합물 조성물 및 알코올에 분산된 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅층 조성물로 형성된 것인 이형필름. The method according to claim 1,
Wherein the release coating layer is formed from a release coating layer composition comprising a silicon compound composition and silicon beads dispersed in an alcohol.
상기 알코올은 무수에탄올 및 무수이소프로필알콜 중에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 이형필름.3. The method of claim 2,
Wherein the alcohol is any one selected from anhydrous ethanol and isopropyl alcohol, or a mixture thereof.
상기 규소화합물 조성물은 규소화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함하는 이형필름.3. The method of claim 2,
Wherein the silicon compound composition comprises a silicon compound, a platinum catalyst, and a silicone-based wetting agent.
상기 규소화합물은 하기 화학식 1 내지 화학식 3에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 화합물 및 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함하는 이형필름.
[화학식 1]
상기 화학식 1에서, n은 20 내지 3000이고, m은 1 내지 500이고, n+m은 21 내지 3000이다.
[화학식 2]
상기 화학식 2에서, x는 1 내지 3000이다.
[화학식 3]
상기 화학식 3에서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 -CH=CH2, -(SiC2H6O)kCH=CH2, -(SiC2H6O)k(CH2)lCH=CH2에서 선택되는 어느 하나이며, k와 l은 각각 독립적으로 0 내지 300이며, y는 20 내지 3000이고, z는 1 내지 500이고, y + z는 21 내지 3000이다.
[화학식 4]
상기 화학식 4에서, a는 1 내지 150이고, b는 3 내지 300이고, a+b는 5 내지 300이다. 5. The method of claim 4,
Wherein the silicon compound comprises any one or two or more compounds selected from the following Formulas (1) to (3) and a compound represented by Formula (4).
[Chemical Formula 1]
In the above formula (1), n is 20 to 3000, m is 1 to 500, and n + m is 21 to 3000.
(2)
In the above formula (2), x is 1 to 3000.
(3)
Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent -CH═CH 2 , - (SiC 2 H 6 O) k CH═CH 2 , - (SiC 2 H 6 O) k ( CH 2 ) l CH = CH 2 , k and l are each independently 0 to 300, y is 20 to 3000, z is 1 to 500, and y + z is 21 to 3000.
[Chemical Formula 4]
In Formula 4, a is from 1 to 150, b is from 3 to 300, and a + b is from 5 to 300.
b) 상기 시트를 종방향으로 연신하는 단계;
c) 상기 b) 단계 시트의 일면 또는 양면에 규소화합물 조성물 및 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅층 조성물을 인라인 코팅법으로 도포하는 단계;
d) 상기 c) 단계 시트를 건조 및 예열한 후, 횡방향으로 연신하여 이형필름을 제조하는 단계; 및
e) 상기 이형필름을 열처리하는 단계;
를 포함하는 이형필름 제조방법.a) melt-extruding a polyester resin to prepare a sheet;
b) longitudinally stretching the sheet;
c) applying the release coating layer composition comprising the silicon compound composition and the silicon bead on one or both sides of the sheet of step b) by in-line coating method;
d) drying and preheating the c) step sheet, and then stretching in the transverse direction to produce a release film; And
e) heat treating the release film;
≪ / RTI >
상기 이형코팅층 조성물은 알코올에 분산된 실리콘 비드를 별도로 혼합시키는 것을 포함하는 이형필름 제조방법.The method according to claim 6,
Wherein the release coating layer composition comprises separately mixing silicone beads dispersed in an alcohol.
상기 실리콘 비드는 평균입경이 0.05 내지 2㎛인 이형필름 제조방법.The method according to claim 6,
Wherein the silicon bead has an average particle diameter of 0.05 to 2 占 퐉.
상기 규소화합물 조성물은 규소화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함하는 이형필름 제조방법.The method according to claim 6,
Wherein the silicon compound composition comprises a silicon compound, a platinum catalyst, and a silicone-based wetting agent.
상기 d) 단계는 140℃ 이하에서 건조 및 예열을 실시하는 것인 이형필름 제조방법.The method according to claim 6,
Wherein the drying and preheating are carried out at 140 DEG C or lower.
상기 b) 단계 또는 d) 단계 연신은 80 내지 150℃에서 실시하는 것인 이형필름 제조방법.The method according to claim 6,
Wherein the b) or d) stretching is carried out at 80 to 150 ° C.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201680077257.4A CN108473694B (en) | 2015-12-31 | 2016-12-30 | Release film and method for producing same |
JP2018534169A JP6771569B2 (en) | 2015-12-31 | 2016-12-30 | Release film and its manufacturing method |
PCT/KR2016/015551 WO2017116201A1 (en) | 2015-12-31 | 2016-12-30 | Release film and method for manufacturing same |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150190942 | 2015-12-31 | ||
KR20150190942 | 2015-12-31 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170080515A true KR20170080515A (en) | 2017-07-10 |
KR102392098B1 KR102392098B1 (en) | 2022-04-28 |
KR102392098B9 KR102392098B9 (en) | 2023-05-11 |
Family
ID=59355533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160182936A KR102392098B1 (en) | 2015-12-31 | 2016-12-29 | Release film and manufacturing method thereof |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6771569B2 (en) |
KR (1) | KR102392098B1 (en) |
CN (1) | CN108473694B (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190143676A (en) | 2018-06-21 | 2019-12-31 | 도레이첨단소재 주식회사 | Release film |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114456428A (en) * | 2022-03-16 | 2022-05-10 | 江苏邦宇薄膜技术有限公司 | Preparation method of release film for MLCC |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090070204A (en) * | 2007-12-27 | 2009-07-01 | 주식회사 코오롱 | Release film |
KR20130003393A (en) * | 2011-06-30 | 2013-01-09 | 코오롱인더스트리 주식회사 | Release film and manufacturing method thereof |
KR20150037634A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-08 | 코오롱인더스트리 주식회사 | Release film and manufacturing method thereof |
KR20150053165A (en) * | 2013-11-07 | 2015-05-15 | 도레이첨단소재 주식회사 | Matte release coating polyester film and manufacturing method thereof |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0820095A (en) * | 1994-07-08 | 1996-01-23 | Teijin Ltd | Laminated polyester film |
JPH0976442A (en) * | 1995-09-20 | 1997-03-25 | Teijin Ltd | Laminated film |
JPH10742A (en) * | 1996-06-17 | 1998-01-06 | Toyo Metallizing Co Ltd | Release film |
JP3942481B2 (en) * | 2002-05-07 | 2007-07-11 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | Separate film for aqueous gel sheet |
AU2003242434A1 (en) * | 2002-05-27 | 2003-12-12 | Teijin Dupont Films Japan Limited | Releasing film |
CN101134865B (en) * | 2006-08-28 | 2010-05-26 | 南亚塑胶工业股份有限公司 | Aqueous applying liquid composition for optical polyester film |
JP2009057450A (en) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Kaneka Corp | Substrate with coating film of hollow silicone fine particle containing curing catalyst |
JP5412321B2 (en) * | 2010-02-25 | 2014-02-12 | 藤森工業株式会社 | Release film with excellent transparency |
WO2015047014A1 (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | 코오롱인더스트리 주식회사 | Release film and manufacturing method therefor |
WO2015167235A1 (en) * | 2014-04-30 | 2015-11-05 | 코오롱인더스트리 주식회사 | Polyester film and method for manufacturing same |
-
2016
- 2016-12-29 KR KR1020160182936A patent/KR102392098B1/en active IP Right Grant
- 2016-12-30 CN CN201680077257.4A patent/CN108473694B/en active Active
- 2016-12-30 JP JP2018534169A patent/JP6771569B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090070204A (en) * | 2007-12-27 | 2009-07-01 | 주식회사 코오롱 | Release film |
KR20130003393A (en) * | 2011-06-30 | 2013-01-09 | 코오롱인더스트리 주식회사 | Release film and manufacturing method thereof |
KR20150037634A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-08 | 코오롱인더스트리 주식회사 | Release film and manufacturing method thereof |
KR20150053165A (en) * | 2013-11-07 | 2015-05-15 | 도레이첨단소재 주식회사 | Matte release coating polyester film and manufacturing method thereof |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190143676A (en) | 2018-06-21 | 2019-12-31 | 도레이첨단소재 주식회사 | Release film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102392098B1 (en) | 2022-04-28 |
KR102392098B9 (en) | 2023-05-11 |
CN108473694A (en) | 2018-08-31 |
CN108473694B (en) | 2021-04-20 |
JP2019506312A (en) | 2019-03-07 |
JP6771569B2 (en) | 2020-10-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102054615B1 (en) | Release film comprising fluorine group | |
KR102204965B1 (en) | Release film and manufacturing method thereof | |
CN101965262B (en) | Mold release film | |
KR20090100270A (en) | Releasing sheet, polarizing plate having the releasing sheet attached thereto, and substrateless double-sided adhesive sheet | |
JP2012159548A (en) | Mold-release polyester film for polarizing plate | |
KR102248716B1 (en) | Release film and manufacturing method thereof | |
KR20150104477A (en) | Tight-release coating polyester film | |
JP2013010880A (en) | Release film | |
KR20120044528A (en) | Silicone release coating composition and release film using the same | |
KR101520762B1 (en) | Silicone release film and manufacturing method thereof | |
JP2006051661A (en) | Mold release film | |
KR102392098B1 (en) | Release film and manufacturing method thereof | |
KR101978033B1 (en) | Released film | |
JP2012137567A (en) | Release polyester film for polarizing plate | |
KR102046146B1 (en) | Silicone release film with excellent stability in peeling force over time and optical display using the same | |
KR101955241B1 (en) | Silicone release composition with excellent interface adhesion ability, silicone release film using the same and manufacturing method thereof | |
WO2017116201A1 (en) | Release film and method for manufacturing same | |
KR102581996B1 (en) | Release film and manufacturing method thereof | |
KR101268584B1 (en) | Silicone release composition and carrier film for adhesive coating films using thereof | |
KR101929111B1 (en) | Released film | |
KR102611667B1 (en) | Composition for release film and release film using the same | |
KR101556704B1 (en) | Silicone release film improved coating deffect | |
KR102724717B1 (en) | Release film, polarizing film and optical display apparatus comprising the same | |
WO2018047776A1 (en) | Protective tape and method for producing same | |
JP2016188265A (en) | Release film |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
G170 | Re-publication after modification of scope of protection [patent] |