KR20150143158A - 고체 전구체용 버블러 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 전구체의 낭비를 최소화하고, 용기 내에서 전구체의 채널링 효과를 방지하여 전구체를 항상 균일하게 공급할 수 있는 고체 전구체용 버블러에 관한 것이다.
본 발명의 고체 전구체용 버블러는 밀폐된 상태로 이루어지고 그 내부에 분말 형태의 전구체가 담긴 용기; 상기 용기에 담긴 전구체를 혼합 및 이송시키기 위하여 용기 내부로 캐리어가스를 공급하는 캐리어가스 주입관로 및 캐리어가스와 함께 혼합된 전구체를 용기 외부로 배출시키기 위한 배출관로; 상기 전구체를 용기 내부의 하부면 에서 간격을 띄우고 이격시켜 유지할 수 있도록 이루어지고 상기 캐리어가스를 고르게 분산시켜 전구체 쪽으로 공급하기 위한 캐리어가스 분산수단을 포함하는 고체 전구체용 버블러를 제공한다.
본 발명의 고체 전구체용 버블러는 밀폐된 상태로 이루어지고 그 내부에 분말 형태의 전구체가 담긴 용기; 상기 용기에 담긴 전구체를 혼합 및 이송시키기 위하여 용기 내부로 캐리어가스를 공급하는 캐리어가스 주입관로 및 캐리어가스와 함께 혼합된 전구체를 용기 외부로 배출시키기 위한 배출관로; 상기 전구체를 용기 내부의 하부면 에서 간격을 띄우고 이격시켜 유지할 수 있도록 이루어지고 상기 캐리어가스를 고르게 분산시켜 전구체 쪽으로 공급하기 위한 캐리어가스 분산수단을 포함하는 고체 전구체용 버블러를 제공한다.
Description
본 발명은 고체 전구체용 버블러에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 전구체의 낭비를 최소화하고, 전구체를 항상 균일하게 공급할 수 있도록 구성된 고체 전구체용 버블러에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자 및 액정 표시장치 등을 제조하기 위해서는 증착공정을 통해 기판에 박막을 형성한 후, 포토 리소그래피 공정, 식각 공정 등을 통해 증착된 박막을 소정의 형상으로 패터닝하여 회로패턴을 형성한다.
이때 박막증착 공정에는 유기금속 화합물 또는 무기금속 화합물과 같은 전구체(precursor)를 이용하게 되며, 이러한 공정 시 원자층 증착법(ALD : atomic layer deposition)이나 화학 증착법(CVD : Chemical Vapor Deposition) 등과 같은 공정을 이용한다.
상기 ALD나 CVD와 같은 공정에서는 특별히 마련된 전구체가 사용될 수 있으며, 이들 전구체는 목적에 따라 특수하게 제작된 스테인리스 스틸이나 석영재질의 보관용기인 버블러에 채워져 공정에 사용된다.
이와 같은 반도체 소자 및 액정 표시장치 제조에 사용되는 버블러의 통상적인 구조는 내부에 전구체가 담겨져 밀폐되는 용기와, 상기 용기에 연결되어 용기 내부로 캐리어가스를 공급하는 주입관로와, 상기 용기에 연결되며 주입관로를 통하여 주입된 캐리어가스에 의하여 혼합된 전구체가 캐리어가스와 함께 배출되는 배출관로를 포함한다.
상기 주입관로를 통하여 공급되는 캐리어 가스는 용기에 담긴 전구체의 원활한 혼합을 위해 질소가스 혹은 아르곤가스와 같은 불활성가스를 이용할 수 있으며, 용기에 주입된 캐리어가스로 인하여 전구체를 버블링(Bubbling)시켜 전구체를 고르게 혼합 시킨다. 그리고 혼합된 전구체는 캐리어가스와 함께 배출관로를 통해 배출된 후, 챔버로 공급되어 증착공정에 사용된다.
그러나 이와 같은 버블러는 고체 유기 금속 화합물의 낮은 유동성으로 인하여 캐리어가스와 직접 접촉하는 부분이 우선적으로 배출되므로 용기 내부의 전구체를 일정량 사용하게 되면 채널링 효과(Channeling effect)로 인하여 전구체를 일정하게 배출시키지 못하고 불규칙적인 형태로 배출시킨다.
이를 해소하기위하여 용기 내부에 메쉬 또는 타공판 등으로 이루어진 지지판을 설치하고 디퓨저(Diffuser)를 이용하여 캐리어가스를 용기 도입 초기에 분산시켜 공급하거나, 또는 불활성 담체에 담지 시킨 고체 유기 금속 화합물을 버블러에 충전하고, 용기 내부의 상부애서 하부 쪽으로 캐리어가스를 공급하거나, 또는 고체 유기 금속 화합물 위쪽에 충전재를 배치하는 방법 등을 적용하기도 한다.
그러나 종래 기술에 따른 버블러는 메쉬 자체에 존재하는 디펙(불균일한 포어 크기)으로 균일한 캐리어 가스의 분산이 어려움이 있고, 타공판의 경우 전구체에 의한 구멍 막힘 현상으로 용기에 담긴 전구체로 캐리어 가스를 균일하게 분산하기 어렵다. 특히 용기에 일정량 이하의 전구체만 남아있을 경우 캐리어가스가 고르게 공급되지 못하고 어느 일측으로 더 공급되는 쏠림 현상이 더욱 크게 발생하여 배출관로를 통하여 배출되는 전구체는 균일한 농도로 배출되지 못한다.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 본 발명의 목적은 전구체의 낭비를 최소화하고, 용기 내에서 전구체의 채널링 효과를 방지하여 전구체를 항상 균일하게 공급할 수 있는 고체 전구체용 버블러를 제공하는데 있다.
본 발명이 제안하는 고체 전구체용 버블러는 밀폐된 상태로 이루어지고 그 내부에 분말 형태의 전구체가 담긴 용기; 상기 용기에 담긴 전구체를 혼합 및 이송시키기 위하여 용기 내부로 캐리어가스를 공급하는 캐리어가스 주입관로 및 캐리어가스와 함께 혼합된 전구체를 용기 외부로 배출시키기 위한 배출관로; 상기 전구체를 용기 내부의 하부면에서 간격을 띄우고 이격시켜 유지할 수 있도록 이루어지고 상기 캐리어가스를 고르게 분산시켜 전구체 쪽으로 공급하기 위한 캐리어가스 분산수단을 포함하는 고체 전구체용 버블러를 제공한다.
상기 캐리어가스 분산수단은 캐리어가스를 1차적으로 분산시키는 제1분산부재와, 상기 제1분산부재를 통과한 캐리어가스를 2차적으로 더욱 분산시키는 제2분산부재로 구성된다.
상기 제1분산부재는 캐리어 가스를 분산시켜 통과할 수 있도록 다수의 관통홀이 형성된 플레이트로 이루어지고, 상기 제2분산부재는 미세한 다수의 구멍들이 서로 연결된 소결체로 이루어진다.
상기 제1,2분산부재는 일체로 결합되고, 상기 관통홀은 플레이트에 간격을 유지하며 복수개가 형성된다.
상기 제2분산부재에 형성된 미세한 구멍은 전구체가 통과할 수 없는 크기로 이루어진다.
상기 1분산부재의 중앙부에는 고정홈이 형성되고, 이 고정홈에는 제2분산부재가 삽입 고정되고, 상기 제1분산부재의 원주방향을 따라서 간격을 유지하며 복수의 고정홈이 형성되고, 이들 각 고정홈에는 제1분산부재가 각각 삽입 고정된다.
상기 고정홈에는 캐리어가스가 통과할 수 있도록 관통홀이 형성된다.
본 발명에 의한 고체 전구체용 버블러는 용기 내 전구체의 채널링 효과를 방지할 수 있어 전구체의 증기압을 항상 일정하고 안정적으로 유지할 수 있으므로 전구체를 균일하게 공급할 수 있다.
그러한 이유로 증기압 불안정(Drop)으로 사용할 수 없는 전구체의 잔량을 최소화 할 수 있고, 증착공정 시 불량률을 최소화할 수 있고 공정 안정화 율을 높일 수 있다.
또한 전구체 잔량을 최소화할 수 있으므로 용기 교체 주기를 늘일 수 있고, 이에 따라 비용을 절감할 수 있다.
도 1a는 본 발명에 따른 고체 전구체용 버블러의 단면도이다.
도 1b는 본 발명에 따른 고체 전구체용 버블러에 있어서 캐리어 가스 주입방향을 다양하게 변형하여 사용할 수 있는 버블러를 설명하기 위한 단면도이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 고체 전구체용 버블러에 제공된 캐리어가스 분산수단의 제1실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 고체 전구체용 버블러에 제공된 캐리어가스 분산수단의 제2실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 고체 전구체용 버블러에 제공된 캐리어가스 분산수단의 제3실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 고체 전구체용 버블러 내부에 담긴 전구체가 캐리어가스 분산수단을 통하여 배출되는 것을 설명하기 위한 확대 단면도이다.
도 1b는 본 발명에 따른 고체 전구체용 버블러에 있어서 캐리어 가스 주입방향을 다양하게 변형하여 사용할 수 있는 버블러를 설명하기 위한 단면도이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 고체 전구체용 버블러에 제공된 캐리어가스 분산수단의 제1실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 고체 전구체용 버블러에 제공된 캐리어가스 분산수단의 제2실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 고체 전구체용 버블러에 제공된 캐리어가스 분산수단의 제3실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 고체 전구체용 버블러 내부에 담긴 전구체가 캐리어가스 분산수단을 통하여 배출되는 것을 설명하기 위한 확대 단면도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면을 참조하여 더욱 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 고체 전구체용 버블러의 단면도로서, 본 발명에 따른 고체 전구체용 버블러는 밀폐된 상태로 이루어지고 그 내부에 고체 형태의 전구체(100)가 담긴 용기(10)와, 상기 용기(10)에 연결되어 용기(10)에 담긴 전구체(100)를 혼합 및 이송시키기 위한 캐리어가스 주입관로(L1)와, 혼합된 전구체를 캐리어가스와 함께 용기 외부로 배출시키기 위한 배출관로(L2)와, 상기 용기(10)에 담긴 전구체(100)를 용기(10) 내부의 하부면 에서 간격을 띄우고 이격시켜 유지할 수 있도록 이루어지고 상기 캐리어가스를 고르게 분산시켜 전구체(100) 쪽으로 공급하기 위한 캐리어가스 분산수단(20)을 포함한다.
상기 전구체(100)는 반도체 소자 및 액정 표시장치 등을 제조할 때 증착공정으로 회로 패턴을 형성하는데 유용한 고체형태의 유기 금속 화합물로 이루어지며, 이러한 유기금속 화합물은 반도체 소자 및 액정 표시장치를 제조할 때 사용되는 통상적인 것을 이용할 수 있으므로 상세한 설명은 생략한다.
전구체(100)는 어느 한 종류 또는 다른 2종류 이상의 금속물이 혼합된 형태일 수 있다. 또 전구체(100)는 상온에서 소정의 크기를 갖는 작은 알갱이 형태의 분말로 이루어진다. 그러나 전구체(100)는 이에 한정되는 것은 아니고 예를 들어 고체 형태로 이루어진 것을 액체 용매에 일부 용해시키는 형태 또는 액체형태로 이루어질 수도 있다.
상기 용기(10)는 스테인리스 재질로 이루어지고 단면이 원통형의 형상으로 구성될 수 있다. 그리고 용기(10)의 상부에는 캐리어가스 주입관로(L1) 및 배출관로(L2)가 연결된다.
주입관로(L1)와 배출관로(L2)에는 밸브(B1)(B2)가 각각 설치되어 이들 관로로 유입 및 배출되는 캐리어가스 및 전구체의 양을 조절할 수 있도록 구성된다.
본 실시예에서는 주입관로(L1) 및 배출관로(L2)는 용기(10)의 상부 쪽에 모두 설치된 것으로 나타내고 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고 예를 들어 캐리어가스 주입관로(L1)를 용기(10)의 하부 쪽에 설치할 수도 있고, 혹은 배출관로(L2)를 용기(10)의 하부 쪽에 설치할 수도 있다.
상기 주입관로(L1)는 용기(10)의 상부 쪽에 연결되어 용기(10) 내부 길이방향으로 연장되고 그 선단부는 캐리어가스 분산수단(20)을 관통하여 그 하부 쪽으로 위치한다. 그러나 주입관로(L1)는 도 1a에서와 같이 캐리어가스 분산수단(20)을 관통할 수도 있고 또는 도 1b에서와 같이 캐리어가스 분산수단(20)을 관통하지 않고 용기(10)의 상부 혹은 어느 일측으로 위치할 수 있다.
이에 따라 캐리어가스 분산수단(20)에는 주입관로(L1)가 관통되는 홀이 형성될 수도 있고 혹은 홀이 형성되지 않을 수도 있다
본 실시예에서는 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이 캐리어가스 분산수단(20)에 주입관로(L1)가 관통되는 홀이 형성되지 않는 것으로 나타내고 있다.
또한 본 발명의 실시예에서는 캐리어가스는 도 1a에서와 같이 캐리어가스 분산수단(20)의 하부 쪽으로 공급되어 캐리어가스 분산수단(20)을 통과한 후 그 상부에 놓인 전구체(100)쪽으로 분출되도록 할 수도 있고, 도 1b에서와 같이 캐리어가스 분산수단(20)에 놓인 전구체(100)로 공급되도록 할 수 있다.
이때 캐리어가스 주입관로(L1)의 선단부 위치 및 배출관로(L2)의 설치된 위치에 따라서 전구체(100)는 캐리어가스 분산수단(20)의 상부 혹은 하부 쪽에 위치하도록 할 수 있고, 캐리어가스의 흐름방향도 도 5a 및 도 5b에서와 같이 캐리어가스 분산수단(20)의 하부 쪽에서 상부 쪽으로 흐르도록 하거나, 또는 캐리어가스 분산수단(20)의 상부 쪽에서 하부 쪽으로 흐르도록 구성할 수 있다.
그리고 주입관로(L1) 또는 배출관로(L2)에는 가이드(30)가 설치되어 캐리어가스에 의해 전구체(100)의 분말이 배출관로(L2)로 유입되는 것을 방지할 수 있도록 되어있다. 또한 가이드(30)는 캐리어가스의 흐름을 최대한 분산시켜 가능한 균일하고 넓은 유로를 형성시키기 위한 역할도 함께 수행하는데, 이러한 가이드(30)의 크기와 모양은 다양하게 변형하여 적용할 수 있다.
상기 캐리어가스 분산수단(20)은 캐리어가스를 1차적으로 분산시키는 제1분산부재(20a)와, 상기 제1분산부재(20a)를 통과한 캐리어가스를 2차적으로 더욱 고르게 분산시키는 제2분산부재(20b)로 구성된다.
상기 제1분산부재(20a)는 소정의 두께를 갖는 스테인리스 판에 다수의 관통홀(22)을 형성한 플레이트 모양으로 이루어진다.
이러한 제1분산부재(20a)로 인하여 캐리어가스 주입관로(L1)의 선단부로 배출된 캐리어가스는 한곳으로 집중되지 않고 관통홀(22)을 통하여 여러 방향으로 분산된 후 제2분산부재(20b) 측으로 공급될 수 있게 된다.
따라서 캐리어가스를 고르게 분포시키면서 제2분산부재(20b) 측으로 배출할 수 있어 전구체(100)를 균일하게 혼합시킬 수 있다.
상기 관통홀(22)은 캐리어가스가 고르게 분포하면서 제2플레이트(20b)를 통과할 수 있도록 원주방향을 따라서 일정한 간격을 유지하며 복수개로 형성하는 것이 바람직하다.
이러한 관통홀(22)은 제1분산부재(20a)의 원주방향을 따라서 형성된 것으로 나타내고 있지만, 이에 한정되는 것은 아니고 예를 들어 제1분산부재(20a)의 전체면적에 걸쳐 일정한 패턴을 갖도록 다수개 형성하거나 또는 무질서하게 형성할 수도 있다.
제1분산부재(20a)를 통과한 캐리어가스는 계속하여 제2분산부재(20b)로 공급되는데, 상기 제2분산부재(20b)는 다수의 미세한 구멍들이 연결된 소결체로 이루어진다.
제2분산부재(20b)는 분말 형태의 금속이나 금속 산화물 등을 혼합하여 소정의 압력으로 가압 성형한 후, 고온으로 굽는 소결(燒結)공정을 통하여 제작할 수 있는데, 이러한 소결체는 입자의 경계면이 융착되어 일체화되면서 그 조직에는 미세한 다수의 구멍이 서로 연결된 고체 상태로 성형된다.
이렇게 미세한 구멍들은 서로 연결되어 있으므로 이 부분을 통하여 캐리어 가스는 제2분산부재(20b)를 통과할 수 있다. 또 제2분산부재(20b)의 미세한 구멍은 전구체(100)의 크기보다 작게 이루어져 버블러를 가동하지 않을 때 전구체(100)는 제2분산부재(20b)를 빠져 나올 수 없도록 되어있다.
이와 같은 제2분산부재(20b)로 인하여 1분산부재(20a)를 통과하여 1차적으로 분산된 캐리어가스는 제2분산부재(20b)의 전체면을 통하여 2차적으로 더욱 고르게 분산되어 전구체(100)쪽으로 분출된다.
따라서 분말 형태의 전구체(100)를 더욱 고르게 잘 혼합시킬 수 있고, 또 용기 내부의 캐리어가스 압력분포를 항상 일정하게 유지할 수 있다.
이와 같은 제1,2분산부재(20a)(20b)는 일측면을 서로 맞댄 상태로 용접이나 브레이징 또는 접착 등의 방법으로 일체로 형성할 수 있다.
그리고 이러한 제1,2분산부재(20a)(20b)로 구성된 캐리어가스 분산수단(20)은 용기(10) 내부에 용접 등의 방법으로 고정시키거나, 아니면 용기(10) 내부에 걸림턱이나 홈을 형성하고 여기에 고정시킬 수 있다.
상기와 같은 본 발명에 따른 고체 전구체용 버블러를 사용하려면, 먼저 용기(10) 내부에 소정의 입자 크기를 갖는 알갱이 형태의 고체 전구체(100)를 충진 하여 캐리어가스 분산수단(20)에 안착시킨 상태에서 캐리어가스 주입관로(L1)와 배출관로(l2)에 각각 제공된 밸브(B1)(B2)를 개방한다.
그러면 캐리어가스는 주입관로(L1)의 선단부를 통하여 소정의 압력으로 배출된 캐리어가스는 캐리어가스 분산수단(20)의 하부 쪽으로 공급된 후 제1분산부재(20a)의 관통홀(22)을 거쳐 1차적으로 분산되어 통과한 다음, 계속하여 제2분산부재(20b)의 미세한 구멍을 통과하여 2차적으로 더욱 고르게 분산되면서 전구체(100)쪽으로 공급된다.
이에 따라 캐리어가스 분산수단(20)에 놓인 분말 형태의 전구체(100)는 캐리어가스와 혼합된 후 캐리어가스의 압력에 의하여 배출관로(L2)를 따라서 캐리어가스와 함께 용기(10) 외부로 배출된다.
이렇게 용기(10) 내부의 전구체(100)가 일정량 배출되어도 캐리어가스는 제1분산부재(20a)에 의하여 1차적으로 분산된 후 제2분산부재(20b)에 의하여 더욱 고르게 전구체(100) 전체면에 걸쳐 공급되므로 채널링 효과(Channeling effect)를 원천적으로 방지하게 된다. 이에 따라 전구체를 항상 일정한 비율 및 농도로 배출시킬 수 있고, 전구체의 잔량이 적게 남아 있더라도 캐리어가스 분산수단(20)에 의하여 전구체(100)에 고르게 캐리어가스가 분사되므로 전구체의 사용량을 최대로 늘일 수 있다.
이렇게 캐리어가스와 함께 혼합되어 배출관로(L2)로 배출된 전구체는 도시되지 않은 챔버로 공급되어 저장되고, 챔버에 저장된 전구체는 이송관로를 통하여 이송되어 증착공정에 사용된다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 고체 전구체용 버블러에 제공된 캐리어가스 분산수단의 제2실시예를 설명하기 위한 도면으로서, 본 발명의 제2실시 예에 따른 캐리어가스 분산수단은 위에서 설명한 제1실시예 캐리어가스 분산수단과 비교하여 다른 부분만 설명하고 동일한 부분은 제1실시예의 설명으로 대치한다.
도시된 바와 같이 본 발명의 제2실시예에서는 제1분산부재(20a)의 중앙부에는 고정홈(24)이 형성되고, 이 고정홈(24)에는 제2분산부재(20b)가 삽입되어 용접이나 브레이징 또는 접착 등의 방법으로 고정된다.
고정홈(24)의 깊이는 제2분산부재(20b)의 두께와 동일하게 형성되고, 고정홈(24)에는 간격을 유지하며 원주방향으로 다수개의 관통홀(22)이 형성된다.
이와 같은 구조로 인하여 본 발명의 제2실시예에 따른 캐리어가스 분산수단은 제1실시예에 비하여 캐리어 가스가 버블러 내부를 통과하는 유로를 동일하게 제어할수 있는 장점을 갖는다. 또한, 제2실시예에 따른 캐리어가스 분산수단은 제1실시예에 비하여 여러 가지 다른 구조의 버블러를 제작하기 위한 파트 설계 및 버블러 구조 구성에 다양한 확장성을 가지는 장점을 갖는다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 고체 전구체용 버블러에 제공된 캐리어가스 분산수단의 제3실시예를 설명하기 위한 도면으로서, 본 발명의 제3실시 예에 따른 캐리어가스 분산수단은 위에서 설명한 제1,2실시예의 캐리어가스 분산수단과 비교하여 다른 부분만 설명하고 동일한 부분은 제1,2실시예의 설명으로 대치한다.
도시된 바와 같이 본 발명의 제3실시예 에서는 제1분산부재(20a)를 따라서 간격을 유지하며 고정홈(26)이 형성되고, 이 고정홈(26)에는 제2분산부재(20b)가 삽입되어 용접이나 브레이징 또는 접착 등의 방법으로 고정된다.
고정홈(26)의 깊이는 제2분산부재(20b)의 두께와 동일하게 형성되고, 각 고정홈(26)에는 관통홀(22)이 각각 형성된다.
이와 같은 구조로 인하여 본 발명의 제3실시예에 따른 캐리어가스 분산수단은 제1실시예에 비하여 캐리어 가스가 버블러 내부를 통과하는 유로를 더욱 동일하게 제어하여 버블러간 유의차를 최소화할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예가 예시를 목적으로 설명되어 있으나 이에 제한되지는 않으며, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 내에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것도 가능하다.
10: 용기 20: 캐리어가스 분산수단
20a: 제1분산부재 20b: 제2분산부재
22: 관통홀 24, 26: 고정홈
30: 가이드 L1: 캐리어가스 주입관로
L2: 배출관로 B1, B2: 밸브
20a: 제1분산부재 20b: 제2분산부재
22: 관통홀 24, 26: 고정홈
30: 가이드 L1: 캐리어가스 주입관로
L2: 배출관로 B1, B2: 밸브
Claims (9)
- 밀폐된 상태로 이루어지고 그 내부에 분말 형태의 전구체가 담긴 용기;
상기 용기에 담긴 전구체를 혼합 및 이송시키기 위하여 용기 내부로 캐리어가스를 공급하는 캐리어가스 주입관로 및 캐리어가스와 함께 혼합된 전구체를 용기 외부로 배출시키기 위한 배출관로;
상기 전구체를 용기 내부의 하부면 에서 간격을 띄우고 이격시켜 유지할 수 있도록 이루어지고 상기 캐리어가스를 고르게 분산시켜 전구체 쪽으로 공급하기 위한 캐리어가스 분산수단;
을 포함하는 고체 전구체용 버블러. - 청구항 1에 있어서,
상기 캐리어가스 분산수단은 캐리어가스를 1차적으로 분산시키는 제1분산부재와, 상기 제1분산부재를 통과한 캐리어가스를 2차적으로 더욱 분산시키는 제2분산부재로 구성된 것을 특징으로 하는 고체 전구체용 버블러. - 청구항 2에 있어서,
상기 제1분산부재는 캐리어 가스를 분산시켜 통과할 수 있도록 다수의 관통홀이 형성된 플레이트로 이루어지고, 상기 제2분산부재는 미세한 다수의 구멍들이 서로 연결된 소결체로 이루어진 것을 특징으로 하는 고체 전구체용 버블러. - 청구항 2에 있어서,
상기 제1,2분산부재는 일체로 결합된 것을 특징으로 하는 고체 전구체용 버블러. - 청구항 3에 있어서,
상기 관통홀은 플레이트에 간격을 유지하며 복수개가 형성된 것을 특징으로 하는 고체 전구체용 버블러. - 청구항 3에 있어서,
상기 소결체에 형성된 미세한 구멍은 전구체가 통과할 수 없는 크기로 이루어진 것을 특징으로 하는 고체 전구체용 버블러. - 청구항 2에 있어서,
상기 1분산부재의 중앙부에는 고정홈이 형성되고, 이 고정홈에는 제2분산부재가 삽입 고정된 것을 특징으로 하는 고체 전구체용 버블러. - 청구항 2에 있어서,
상기 제1분산부재의 원주방향을 따라서 간격을 유지하며 복수의 고정홈이 형성되고, 이들 각 고정홈에는 제1분산부재가 각각 삽입 고정된 것을 특징으로 하는 고체 전구체용 버블러. - 청구항 7 또는 8에 있어서,
상기 고정홈에는 캐리어가스가 통과할 수 있도록 관통홀이 형성된 것을 특징으로 하는 고체 전구체용 버블러.
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190020248A (ko) * | 2017-08-18 | 2019-02-28 | 삼성전자주식회사 | 전구체 공급 유닛, 기판 처리 장치 및 그를 이용한 반도체 소자의 제조방법 |
KR102027179B1 (ko) * | 2018-05-08 | 2019-10-02 | 주식회사 레이크머티리얼즈 | 유기금속 화합물 공급 장치 |
KR102207310B1 (ko) * | 2019-09-24 | 2021-01-26 | 세메스 주식회사 | 가스 공급 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치 |
KR20210021697A (ko) * | 2019-08-19 | 2021-03-02 | 세메스 주식회사 | 유체 공급 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치 |
KR20210051782A (ko) * | 2019-10-31 | 2021-05-10 | 세메스 주식회사 | 버블러 및 기판 처리 장치 |
KR20230058843A (ko) * | 2021-10-25 | 2023-05-03 | (주)덕산테코피아 | 반도체 제조장비용 캐니스터 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20080075186A (ko) | 2005-11-17 | 2008-08-14 | 시그마-알드리치컴퍼니 | 캐리어 가스에 의한 물질 수송용 개선된 기포발생기 |
-
2014
- 2014-06-13 KR KR1020140072326A patent/KR20150143158A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20080075186A (ko) | 2005-11-17 | 2008-08-14 | 시그마-알드리치컴퍼니 | 캐리어 가스에 의한 물질 수송용 개선된 기포발생기 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190020248A (ko) * | 2017-08-18 | 2019-02-28 | 삼성전자주식회사 | 전구체 공급 유닛, 기판 처리 장치 및 그를 이용한 반도체 소자의 제조방법 |
CN109411386A (zh) * | 2017-08-18 | 2019-03-01 | 三星电子株式会社 | 前体供应单元、基板处理系统和制造半导体器件的方法 |
US11047045B2 (en) | 2017-08-18 | 2021-06-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Precursor supply unit, substrate processing system, and method of fabricating semiconductor device using the same |
CN109411386B (zh) * | 2017-08-18 | 2023-04-07 | 三星电子株式会社 | 前体供应单元、基板处理系统和制造半导体器件的方法 |
US11959170B2 (en) | 2017-08-18 | 2024-04-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Precursor supply unit, substrate processing system, and method of fabricating semiconductor device using the same |
KR102027179B1 (ko) * | 2018-05-08 | 2019-10-02 | 주식회사 레이크머티리얼즈 | 유기금속 화합물 공급 장치 |
KR20210021697A (ko) * | 2019-08-19 | 2021-03-02 | 세메스 주식회사 | 유체 공급 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치 |
KR102207310B1 (ko) * | 2019-09-24 | 2021-01-26 | 세메스 주식회사 | 가스 공급 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치 |
KR20210051782A (ko) * | 2019-10-31 | 2021-05-10 | 세메스 주식회사 | 버블러 및 기판 처리 장치 |
KR20230058843A (ko) * | 2021-10-25 | 2023-05-03 | (주)덕산테코피아 | 반도체 제조장비용 캐니스터 |
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