KR20140138807A - Resin composition for coating paint - Google Patents
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Abstract
기포 발생성이 작고, 기포가 발생하는 일이 있어도 소포성이 우수하고, 따라서, 형성되는 도포막에 결함을 발생하기 어려운 비수계의 수지 조성물을 제공한다. 또한 우수한 경도, 내손상성, 투명성, 내오염성 및 그 내구성을 부여하는 경화막을 주는 수지 조성물을 제공한다. 수지 조성물에, 수산기 및 플루오로알킬기를 가지며, 중량 평균 분자량이 1000 이상인 중합체와, (메트)아크릴로일기 및 비닐기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 탄화수소계 모노머와, 포화 탄화수소를 0.01 ∼ 25 중량% 와, SP 값이 10.0 이하의 용제를 함유시킨다.Provided is a non-aqueous resin composition which is low in bubble-forming property and excellent in defoaming property even when bubbles are generated, and therefore hardly causes defects in a coating film to be formed. Also provided is a resin composition which gives a cured film which gives excellent hardness, scratch resistance, transparency, stain resistance and durability. A resin composition comprising a polymer having a hydroxyl group and a fluoroalkyl group and having a weight average molecular weight of 1000 or more, a hydrocarbon monomer containing at least one selected from a (meth) acryloyl group and a vinyl group, 0.01 to 25% by weight, and a solvent having an SP value of 10.0 or less.
Description
본 발명은, 조성물의 상태에서 기포가 발생하기 어렵기 때문에, 경화된 후의 경화막이 레벨링성이 우수하고, 또한 우수한 경도와 내손상성을 갖는 내오염성 부여제로서 유용한 코팅 도료용 수지 조성물, 그리고 그 조성물을 사용한 경화물 및 광 기록 매체 등의 물품에 관한 것이다. 특히, 박막이라도 이들의 충분한 성능을 갖는 경화막을 부여하는 조성물 등에 관한 것이다.The present invention relates to a resin composition for a coating paint useful as a stainproofing agent having excellent hardness and scratch resistance and excellent in leveling property after a cured film is hardly bubbled in a state of a composition, And an article such as an optical recording medium. In particular, the present invention relates to a composition which gives a cured film having a sufficient performance even if it is a thin film.
본 발명은 광학 물품, 특히 재생 전용 광 디스크, 광 기록 디스크, 광 자기 기록 디스크 등의 광 기록 매체, 또는 터치 패널이나 액정 텔레비젼과 같은 광학 디스플레이용 투명 물품에 관한 것이다.The present invention relates to an optical article, particularly an optical recording medium such as a read-only optical disk, an optical recording disk, a magneto-optical recording disk or the like, or a transparent article for an optical display such as a touch panel or a liquid crystal television.
플라스틱 제품, 예를 들어 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 아크릴로니트릴부타디엔스티렌 공중합체 (ABS), 메틸메타크릴레이트-스티렌 공중합체 (MS 수지), 아크릴로니트릴스티렌 공중합체 (AS 수지) 등의 스티렌계 수지, 염화비닐계 수지, 트리아세틸셀룰로오스 등의 아세트산셀룰로오스 등의 수지 소재는 그 경량성, 가공 용이성, 내충격성 등이 특히 우수하므로, 용기, 자동차의 인스트루먼트 패널이나 외판, 창재, 지붕재, 포장재, 각종 하우징재, 광 디스크 기판, 플라스틱 렌즈, 액정 디스플레이나 플라즈마 디스플레이, 프로젝션 TV 등의 표시 기기의 기재, 등 여러 가지의 용도에 이용되고 있다.Plastic products such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, acrylonitrile butadiene styrene copolymer (ABS), methyl methacrylate-styrene copolymer (MS resin), acryl Styrene resins such as styrene-butadiene styrene copolymer, styrene-butadiene styrene copolymer, styrene-butadiene styrene copolymer, styrene-butadiene styrene copolymer, styrene-butadiene styrene copolymer, Such as an instrument panel, an outer panel, a window, a roofing material, a packaging material, various housing materials, an optical disk substrate, a plastic lens, a substrate for a display device such as a liquid crystal display, a plasma display and a projection TV.
그러나, 이들 플라스틱 제품은 표면 경도가 낮기 때문에 손상되기 쉽고, 폴리카보네이트나 폴리에틸렌테레프탈레이트와 같은 투명한 수지에 있어서는, 그 수지가 갖는 본래의 투명성 혹은 외관이 현저하게 손상된다는 결점이 있어, 내마모성을 필요로 하는 분야에서의 플라스틱 제품의 사용을 곤란한 것으로 하고 있다. 이 때문에, 이들 플라스틱 제품의 표면 경도를 높여 내마모성을 부여하기 위한 표면 경화막 (피복재) 이 요구되고 있다.However, these plastic products are susceptible to damage because of their low surface hardness, and in the case of transparent resins such as polycarbonate and polyethylene terephthalate, the inherent transparency or appearance of the resin is remarkably impaired, and wear resistance is required It is difficult to use the plastic product in the field. For this reason, there is a demand for a surface hardened film (covering material) for imparting abrasion resistance by increasing the surface hardness of these plastic products.
이와 같은 표면 경화막은 통상적으로, 수지 조성물을 용매에 용해 또는 현탁시켜, 도료의 형태로서 제품의 표면에 도포한 후에 경화시킴으로써 얻는다. 도포에 의해 도포막을 얻고, 추가로 경화막을 얻는 경우, 그 수지 조성물에는 레벨링성이 요구된다. 레벨링성이 열등하면, 이른바 크레이터링으로 불리는 표면의 까칠함이나 도포 부전(不全) 지점이, 도포막이나 경화막에 생겨, 경화막의 생산에 있어서 중대한 장해가 될 수 있기 때문이다. 크레이터링의 원인으로서는, 도포액이나 도포막에 기포가 생기는 것이나 그 기포가 없어지기 어려운 것을 들 수 있다.Such a surface-hardened film is usually obtained by dissolving or suspending the resin composition in a solvent, applying it to the surface of the product in the form of a paint, and then curing it. When a coating film is obtained by coating and further a cured film is obtained, leveling property is required for the resin composition. If the leveling property is inferior, a so-called cratering or a spot defect on the surface called "cratering" may occur in the coating film or the cured film, which may be a serious obstacle in the production of the cured film. Examples of causes of the cratering include those in which bubbles are generated in the coating liquid or the coating film, and those in which bubbles are hard to disappear.
일반적으로, 수계의 도료에 대해서는 기포가 발생하기 쉽고, 상기의 크레이터링의 문제를 해결하기 위한 대책이 취해지고 있다. 예를 들어, 계면 활성제를 함유하는 수계 도료에 있어서 그 계면 활성제에서 기인하는 기포를 없애기 위해서 포화 탄화수소를 함유시키는 것이 알려져 있다 (특허문헌 1). 한편, 비수계의 도료에 대해서는, 비극성의 용제를 사용하는 것이 일반적인 점에서, 종래 기포가 발생하기 어렵다고 여겨져 왔다.In general, bubbles are likely to be generated with respect to water-based paints, and measures are taken to solve the above-mentioned problem of cratering. For example, in a water-based paint containing a surfactant, it is known to contain saturated hydrocarbons in order to eliminate bubbles caused by the surfactant (Patent Document 1). On the other hand, it has been considered that conventional non-aqueous paints are difficult to generate bubbles in general because it is general that non-polar solvents are used.
그런데, 광 디스크, 터치패널 디스플레이, 액정 텔레비젼이나 플라즈마 TV 와 같은 대화면 플랫 패널 TV 디스플레이에 사용하는 표면 경화막에서는, 표면 경도나 내구성뿐만 아니라, 고레벨에서의 내오염성의 부여도 요구된다. 또, 차세대형의 광 정보 매체나 터치 패널 등의 광학 물품에 있어서는, 최근, 지문 오염 등의 오염 물질이 외관뿐만 아니라 성능에 영향을 미치는 것이 문제가 되어, 중대시되게 되었다.However, surface hardening films used for large-screen flat panel TV displays such as optical discs, touch panel displays, liquid crystal televisions, and plasma TVs are required to impart not only surface hardness and durability but also stain resistance at a high level. In optical products such as next-generation optical information media and touch panels, there has recently been a serious problem that contaminants such as fingerprint contamination affect not only appearance but also performance.
이와 같은 상황에 있어서, 활성 에너지선 경화성기를 갖는 불소계 화합물을 함유하는, 비수계의 코팅 도료용 수지 조성물의 개발이 이루어지고, 그것을 경화시켜 얻은 경화막이 우수한 내오염성을 나타내기 때문에 주목받고 있다 (예를 들어, 특허문헌 2). 본 발명자들도 지금까지, 특정의 퍼플루오로알킬기와 에폭시기를 함유시킨 특정의 공중합체, 혹은 그 (메트)아크릴산 반응물이 우수한 오염 물질의 닦아냄성이나 그 내구성을 갖는 내오염성 부여제로서 유효한 것을 알아내고 있다 (특허문헌 3 ∼ 4).In such a situation, development of a resin composition for a non-aqueous coating paint containing a fluorine-based compound having an active energy ray-curable group has been made, and a cured film obtained by curing the resin composition has attracted attention because it exhibits excellent stain resistance For example, Patent Document 2). The present inventors have also found that a specific copolymer containing a specific perfluoroalkyl group and an epoxy group or a (meth) acrylic acid reaction product thereof is effective as a pollution imparting agent having excellent polishability and durability (Patent Documents 3 to 4).
그러나, 플루오로알킬기와 수산기를 갖는 중합체를 함유하는 수지 조성물을 개발하는 가운데, 본 발명자들은 이들이 일반적으로 기포가 발생하기 어렵다고 여겨져 온 비수계 도료임에도 불구하고 기포 발생성이 높기 때문에 도포막으로 하여 경화시켰을 때에, 레벨링성이 저하되어 버린다. 그 때문에, 얻어지는 도포막이나 경화막의 레벨링성을 개선한다는 새로운 과제에 직면했다.However, while developing a resin composition containing a polymer having a fluoroalkyl group and a hydroxyl group, the inventors of the present invention have found that since they are generally non-aqueous paints that are thought to be difficult to generate bubbles, The leveling property is deteriorated. Therefore, there has been a new problem of improving the leveling property of the obtained coating film or cured film.
수계 도료에 관한 특허문헌 1 과 같이 포화 탄화수소를 첨가하는 것에만 의해서는, 충분한 소포성은 얻어지지 않는다. 또한 상기와 같은 중합체는, 포화 탄화수소에 대한 용해성이 낮고, 포화 탄화수소의 첨가량이 늘어나면 백탁하여 얻어지는 경화막의 투명성이 손상되기 때문에, 광학 물품용의 코팅 도료에 적용하는 것이 곤란해진다.Sufficient bubble resistance can not be obtained only by adding saturated hydrocarbons as in Patent Document 1 for water-based paints. In addition, the above polymer has low solubility in saturated hydrocarbons, and when the amount of saturated hydrocarbons to be added is increased, the transparency of the cured film obtained by clouding is impaired, so that it is difficult to apply the polymer to a coating material for optical articles.
또, 조성물의 기포 발생을 억제하려면, 소포제로서 여러 가지의 첨가제를 첨가하는 것이 일반적이다. 그러나, 통상적으로 그러한 첨가제는 고형 성분인 것이 많아, 수지 조성물로부터 얻어지는 도포막이나 경화막의 특성에 영향을 줄 수 있다. 또, 첨가제는 고가인 것이 많아, 공업적으로 생산하는데 있어서 비용이 올라 버린다는 문제가 있다. 또, 수지 조성물의 구성 성분과의 상성이 있고, 수지 조성물과 첨가제의 상성이 나쁜 경우, 수지 조성물 그 자체의 특성을 저하시켜 버릴 가능성도 있어 첨가제는 수지 조성물마다 개별적으로 선정하지 않으면 안되고, 플루오로알킬기와 수산기를 갖는 중합체를 함유하는 수지 조성물인 비수계 도료 전반에 대해, 그 특성을 저해하는 일 없이 적용할 수 있는 소포 방법이 요구된다.In order to suppress the formation of bubbles in the composition, various additives are generally added as a defoaming agent. However, such an additive is usually a solid component in many cases, and may affect the properties of a coating film or a cured film obtained from the resin composition. In addition, many additives are expensive and there is a problem in that the cost is increased in industrial production. In addition, when there is an imbalance between the constitutional components of the resin composition and poor compatibility between the resin composition and the additive, there is a possibility that the properties of the resin composition itself may be deteriorated. The additives must be individually selected for each resin composition, There is a demand for a fouling method which can be applied to the entire non-aqueous coating material, which is a resin composition containing a polymer having an alkyl group and a hydroxyl group, without hindering its properties.
본 발명은 이러한 상황을 감안하여, 기포 발생성이 작고, 기포가 발생하는 일이 있어도 소포성이 우수하고, 그 결과, 형성되는 도포막에 결함을 발생하기 어려운 비수계의 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한 우수한 경도, 내손상성, 투명성, 내오염성 및 그 내구성을 부여하는 경화막을 주는 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a non-aqueous resin composition which is small in bubble-forming property and excellent in defoaming property even when bubbles are generated and consequently hardly causes defects in the formed coating film The purpose. It is another object of the present invention to provide a resin composition which gives a cured film which gives excellent hardness, scratch resistance, transparency, stain resistance and durability.
또, 본 발명은 이와 같은 조성물의 경화물, 및 그 경화물을 표면에 갖는 물품, 특히, 광 기록 매체, 터치패널 디스플레이 등의 광학 용도의 물품으로, 표면에, 고경도 및 내마모성을 가지며, 또한, 우수한 내오염성 및 내오염성의 내구성도 갖는 물품을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention also provides a cured product of such a composition and an article having the cured product on the surface thereof, particularly an article for optical use such as an optical recording medium and a touch panel display, which has high hardness and abrasion resistance on the surface, , An article having excellent stain resistance and durability against stain resistance.
본 발명자 등은 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 연구를 실시한 결과, 수산기 및 플루오로알킬기를 가지며, 중량 평균 분자량이 1000 이상인 중합체와, (메트)아크릴로일기 및 비닐기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 탄화수소계 모노머와, 특정량의 포화 탄화수소와, SP (Solubility Parameter) 값이 10.0 이하의 용제를 함유함으로써, 수지 조성물의 기포 발생성을 작게 할 수 있는 것을 알아냈다.The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to solve the above problems. As a result, they have found that a polymer having a hydroxyl group and a fluoroalkyl group and having a weight average molecular weight of 1,000 or more and one or two kinds selected from a (meth) acryloyl group and a vinyl group Of a hydrocarbon monomer, a specific amount of a saturated hydrocarbon, and a solvent having a SP (Solubility Parameter) value of 10.0 or less, so that the bubble generation property of the resin composition can be reduced.
또, 수산기 및 플루오로알킬기를 가지며, 중량 평균 분자량이 1000 이상인 중합체와, (메트)아크릴로일기 및 비닐기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 탄화수소계 모노머와, 표면 장력 저하능이 2 mN/m 이상인 불소기 함유 올리고머와, SP 값이 10.0 이하의 용제를 함유하는 것에 의해서도, 수지 조성물의 기포 발생성을 작게 할 수 있는 것을 알아냈다.Also, a hydrocarbon monomer having a hydroxyl group and a fluoroalkyl group, a polymer having a weight average molecular weight of 1000 or more, a hydrocarbon monomer containing at least one selected from a (meth) acryloyl group and a vinyl group, m < 2 > / m < 2 > or more, and a solvent having an SP value of 10.0 or less, the bubble generating property of the resin composition can be reduced.
나아가서는 상기 중합체가 폴리실록산 구조를 가지며, 그 폴리실록산 구조 말단의 규소 또는 그 규소에 결합한 포화 탄화수소기가 산소 원자 또는 황 원자를 개재하여 상기 중합체의 주사슬에 결합되어 있는 중합체인 경우, 높은 발수 발유성도 발현하는, 특히 우수한 수지 조성물이 되는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.When the polymer has a polysiloxane structure and the silicon at the terminal of the polysiloxane structure or a saturated hydrocarbon group bonded to the silicon is bonded to the main chain of the polymer via an oxygen atom or a sulfur atom, The present invention has been accomplished on the basis of these findings.
즉, 본 발명은 이하와 같다.That is, the present invention is as follows.
[1] 수산기 및 플루오로알킬기를 가지며, 중량 평균 분자량이 1000 이상인 중합체와, (메트)아크릴로일기 및 비닐기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 탄화수소계 모노머와, 포화 탄화수소를 0.01 ∼ 25 중량% 와, SP 값이 10.0 이하의 용제를 함유하는 수지 조성물.[1] A polymer composition comprising a polymer having a hydroxyl group and a fluoroalkyl group and having a weight average molecular weight of 1000 or more, a hydrocarbon monomer containing at least one member selected from a (meth) acryloyl group and a vinyl group, a saturated hydrocarbon having a saturated hydrocarbon of 0.01 To 25% by weight, and an SP value of 10.0 or less.
[2] 상기 포화 탄화수소의 탄소수가 5 ∼ 18 인, [1] 에 기재된 수지 조성물.[2] The resin composition according to [1], wherein the saturated hydrocarbon has 5 to 18 carbon atoms.
[3] 수산기 및 플루오로알킬기를 가지며, 중량 평균 분자량이 1000 이상인 중합체와, (메트)아크릴로일기 및 비닐기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 탄화수소계 모노머와, 표면 장력 저하능이 2 mN/m 이상인 불소기 함유 올리고머와, SP 값이 10.0 이하의 용제를 함유하는 수지 조성물.(3) a hydrocarbon monomer having a hydroxyl group and a fluoroalkyl group and having a weight average molecular weight of 1000 or more, a hydrocarbon monomer containing one or more selected from a (meth) acryloyl group and a vinyl group, A resin having a fluorine group-containing oligomer of 2 mN / m or more and a solvent having an SP value of 10.0 or less.
[4] 상기 중합체에 있어서의 수산기의 함유량이 0.2 ∼ 5.0 중량% 인, [1] ∼ [3] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[4] The resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the polymer has a hydroxyl group content of 0.2 to 5.0% by weight.
[5] 상기 중합체에 있어서의 불소 원자의 함유량이 1.0 ∼ 34.0 중량% 인, [1] ∼ [4] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[5] The resin composition according to any one of [1] to [4], wherein the content of fluorine atoms in the polymer is 1.0 to 34.0% by weight.
[6] 상기 중합체가 측사슬에 불포화 이중 결합기를 갖는, [1] ∼ [5] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[6] The resin composition according to any one of [1] to [5], wherein the polymer has an unsaturated double bond group in a side chain.
[7] 상기 중합체가 폴리실록산 구조를 갖는, [1] ∼ [6] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[7] The resin composition according to any one of [1] to [6], wherein the polymer has a polysiloxane structure.
[8] 상기 폴리실록산 구조 말단의 규소 또는 그 규소에 결합한 포화 탄화수소기가 산소 원자 또는 황 원자를 개재하여 상기 중합체의 주사슬에 결합되어 있는, [7] 에 기재된 수지 조성물.[8] The resin composition according to [7], wherein the silicon at the terminal of the polysiloxane structure or the saturated hydrocarbon group bonded to the silicon is bonded to the main chain of the polymer through an oxygen atom or a sulfur atom.
[9] 상기 탄화수소계 모노머가 1 분자 중에 3 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트인, [1] ∼ [8] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[9] The resin composition according to any one of [1] to [8], wherein the hydrocarbon-based monomer is a polyfunctional (meth) acrylate having at least three (meth) acryloyl groups in one molecule.
[10] 상기 불소기 함유 올리고머의 중량 평균 분자량이 5000 이상인, [3] ∼ [9] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[10] The resin composition according to any one of [3] to [9], wherein the fluorine group-containing oligomer has a weight average molecular weight of 5000 or more.
[11] 상기 불소기 함유 올리고머가 비이온성인, [3] ∼ [10] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[11] The resin composition according to any one of [3] to [10], wherein the fluorine group-containing oligomer is nonionic.
[12] 수지 조성물 중의 불소기 함유 올리고머의 함유량이 수지 조성물 전체의 0.005 ∼ 10 중량% 인, [3] ∼ [11] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[12] The resin composition according to any one of [3] to [11], wherein the content of the fluorine group-containing oligomer in the resin composition is 0.005 to 10% by weight based on the whole resin composition.
[13] 상기 용제가 케톤계 용매, 알코올계 용매, 에테르계 용매, 에스테르계 용매 및 방향족 탄화수소 용매로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 용매인, [1] ∼ [12] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[13] The organic electroluminescent device described in any one of [1] to [12], wherein the solvent is at least one solvent selected from the group consisting of a ketone solvent, an alcohol solvent, an ether solvent, an ester solvent and an aromatic hydrocarbon solvent ≪ / RTI >
[14] 탄소수가 5 ∼ 18 인 포화 탄화수소를 함유하는, [3] ∼ [13] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[14] The resin composition according to any one of [3] to [13], which contains saturated hydrocarbons having 5 to 18 carbon atoms.
[15] 라디칼 중합성 광 개시제를 함유하는, [1] ∼ [14] 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.[15] The resin composition according to any one of [1] to [14], which contains a radical polymerizable photoinitiator.
[16] [1] ∼ [15] 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 경화하여 얻어지는 경화물.[16] A cured product obtained by curing the composition according to any one of [1] to [15].
[17] 상기 조성물에 활성 에너지선을 조사함으로써 얻은, [16] 에 기재된 경화물.[17] The cured product according to [16], which is obtained by irradiating the composition with an active energy ray.
[18] [16] 또는 [17] 에 기재된 경화물을 갖는 성형품.[18] A molded article having the cured product according to [16] or [17].
[19] 광학용으로 사용되는 [18] 에 기재된 성형품.[19] A molded article according to [18], which is used for optical purposes.
[20] 광 기록 매체 또는 광학 디스플레이용 적층체인, [19] 에 기재된 성형품.[20] A laminated chain for an optical recording medium or an optical display, as described in [19].
본 발명에 의해, 기포 발생성이 작고, 기포가 발생하는 일이 있어도 소포성이 우수하고, 따라서, 형성되는 도포막에 결함을 발생하기 어려운 수지 조성물이 제공된다. 또한 이것을 물품 등의 표면에 얇게 도포하여 경화시키면, 그 물품 등이 우수한 경도, 내손상성, 투명성, 내오염성 및 그 내구성을 부여하는 경화막을 제공한다.According to the present invention, there is provided a resin composition which is low in bubble generation property and bubbles to be generated, and which is excellent in defoaming property and therefore hardly causes defects in the formed coating film. Further, when it is coated thinly on the surface of an article or the like and cured, the article or the like provides a cured film which gives excellent hardness, scratch resistance, transparency, stain resistance and durability.
그 때문에, 본 발명의 수지 조성물은 광 기록 매체 표면의 보호, 터치 패널이나 평면 디스플레이 등의 광학 디스플레이, 휴대 전화 케이싱, 자동차 투명 부품 보호, 농업용 비닐 하우스 등의 투명부의 보호 등의 폭넓은 용도에 바람직하게 적용할 수 있다.Therefore, the resin composition of the present invention is suitable for a wide range of applications such as protection of the surface of an optical recording medium, optical display such as a touch panel and a flat display, protection of a transparent part of a mobile phone casing, automotive transparent part protection, .
이하에 있어서, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명하지만, 이하에 기재하는 구성 요건의 설명은 본 발명의 실시양태의 대표예이며, 본 발명은 이들 내용으로 한정되는 것이 아니고, 그 요지의 범위 내에서 여러 가지 변형하여 실시할 수 있다. 이하에, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described in detail. However, the description of the constituent elements described below is a representative example of the embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to these embodiments, It is possible to carry out various modifications within the scope of the present invention. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
또한, 본원 명세서에 있어서 「∼」이란 그 전후에 기재되는 수치를 하한치 및 상한치로서 포함하는 의미로 사용된다.In the present specification, " " is used to mean that the numerical values described before and after the lower limit and the upper limit are included.
또, 본 발명에서 말하는 「중합」 이란, 특별히 언급하지 않는 한, 이른바 「공중합」 도 포함하는 광의의 중합이다. 따라서, 본 발명에 있어서, 「중합체」 에는, 「공중합체」도 포함된다.The term " polymerization " in the present invention is broad-spectrum polymerization including so-called " copolymerization " Therefore, in the present invention, the term " polymer " also includes " copolymer ".
또, 본 발명에서 말하는 「실온」 이란, 그 실험 등을 실시하고 있는 장소의 온도를 말하며, 예를 들어, 15 ∼ 30 ℃ 의 온도, 보다 바람직하게는 20 ∼ 25 ℃ 를 의미한다.The term " room temperature " in the present invention refers to a temperature at a place where the experiment is conducted, for example, at a temperature of 15 to 30 캜, more preferably 20 to 25 캜.
또, 「통상적인 산소 농도」 란 18 ∼ 22 %, 보다 바람직하게는 19 ∼ 21 % 를 의미한다.The " normal oxygen concentration " means 18 to 22%, more preferably 19 to 21%.
또, 「(메트)아크릴레이트」 는 「아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트」 를 의미하고, 「(메트)아크릴로일」, 「(메트)아크릴」에 대해서도 동일하다.The term "(meth) acrylate" means "acrylate and / or methacrylate", and the same applies to "(meth) acryloyl" and "(meth) acrylate".
<1. 수지 조성물><1. Resin composition>
본 발명의 일 양태인 수지 조성물 (이하, 「본 발명에 관련된 수지 조성물 (A)」 라고 약칭하는 경우가 있다.) 은 수산기 및 플루오로알킬기를 가지며, 중량 평균 분자량이 1000 이상인 중합체와, (메트)아크릴로일기 및 비닐기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 탄화수소계 모노머와, 포화 탄화수소를 0.01 중량% ∼ 25 중량% 와, SP 값이 10.0 이하의 용제를 필수 성분으로서 함유한다.The resin composition (hereinafter abbreviated as " the resin composition (A) related to the present invention " in some cases) may be a polymer having a hydroxyl group and a fluoroalkyl group and having a weight average molecular weight of 1000 or more, ) Acryloyl group and a vinyl group, a solvent containing 0.01 to 25% by weight of a saturated hydrocarbon and an SP value of 10.0 or less as essential components.
또, 본 발명의 다른 양태인 수지 조성물 (이하, 「본 발명에 관련된 수지 조성물 (B)」라고 약칭하는 경우가 있다.) 은 수산기 및 플루오로알킬기를 가지며, 중량 평균 분자량이 1000 이상인 중합체와, (메트)아크릴로일기 및 비닐기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 탄화수소계 모노머와, 표면 장력 저하능이 2 mN/m 이상인 불소기 함유 올리고머와, SP 값이 10.0 이하의 용제를 필수 성분으로서 함유한다.The resin composition (hereinafter abbreviated as " the resin composition (B) related to the present invention " in some cases) may be a polymer having a hydroxyl group and a fluoroalkyl group, (Meth) acryloyl group and vinyl group, a fluorine group-containing oligomer having a surface tension lowering ability of 2 mN / m or more, and a solvent having an SP value of 10.0 or less are required .
<1-1. 중합체><1-1. Polymers>
본 발명의 수지 조성물의 필수 성분인 중합체는 수산기 및 플루오로알킬기를 가지며, 중량 평균 분자량이 1000 이상의 것이다. 중량 평균 분자량은 1000 이상이면 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 1000 ∼ 30000, 보다 바람직하게는 1000 ∼ 20000 이다. 여기서, 중량 평균 분자량은, GPC (토소사 제조 「HLC-8120 GPC」) 를 이용하여, 용매로서 테트라하이드로푸란, 표준 샘플로서 폴리스티렌을 사용하여 측정된 것을 말한다.The polymer which is an essential component of the resin composition of the present invention has a hydroxyl group and a fluoroalkyl group and has a weight average molecular weight of 1000 or more. The weight average molecular weight is not particularly limited as long as it is 1,000 or more, but is preferably 1,000 to 30,000, more preferably 1,000 to 20,000. Here, the weight average molecular weight is measured using GPC (HLC-8120 GPC manufactured by TOSOH Corporation), tetrahydrofuran as a solvent, and polystyrene as a standard sample.
또, 상기 중합체는 측사슬에 불포화 이중 결합기를 갖는 것이 수지 조성물의 경화의 관점에서 바람직하다.It is preferable that the polymer has an unsaturated double bond group in the side chain from the viewpoint of curing of the resin composition.
또, 상기 중합체는 폴리실록산 구조를 갖는 것이 경화막에 레벨링성, 미끄러짐성, 박리성을 부여하는 관점에서 바람직하다. 이 경우, 상기 폴리실록산 구조 말단의 규소 또는 그 규소에 결합한 포화 탄화수소기가 산소 원자 또는 황 원자를 개재하여 상기 중합체의 주사슬에 결합되어 있는 것이 보다 바람직하다.In addition, the above-mentioned polymer preferably has a polysiloxane structure from the viewpoint of imparting leveling property, slipperiness and releasability to the cured film. In this case, it is more preferable that the silicon at the terminal of the polysiloxane structure or a saturated hydrocarbon group bonded to the silicon is bonded to the main chain of the polymer through an oxygen atom or a sulfur atom.
본 발명의 수지 조성물에 있어서의 중합체는 이하에 설명하는 중합성 모노머를 중합시킴으로써 제조할 수 있다. 이하에 중합체의 바람직한 제조 방법을 기재한다.The polymer in the resin composition of the present invention can be produced by polymerizing a polymerizable monomer described below. A preferred method for producing the polymer is described below.
또한, 이하에 있어서, 본 발명의 중합체의 제조 원료로서의 모노머 혼합물 100 중량부 중의 각 성분의 양 (중량부) 을 「사용량」 이라고 칭하는 경우가 있다.Hereinafter, the amount (parts by weight) of each component in 100 parts by weight of the monomer mixture as the raw material for producing the polymer of the present invention may be referred to as the " usage amount ".
중합체를 제조하는 중합성 모노머로서, 먼저 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트를 설명한다. 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트의 몇 개의 대표적인 구체예를 나타내면, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 등을 들 수 있지만, 전혀 이들로 한정되는 것이 아니고, 반응에 의해 수산기를 생성하는 관능기를 갖는 모노머이어도 된다. 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트의 사용량이 적으면 수지 조성물로부터 얻어지는 경화막의 경도가 떨어져, 모두 바람직하지 않다.As a polymerizable monomer for producing a polymer, firstly, a (meth) acrylate having a hydroxyl group is described. Examples of some representative examples of the (meth) acrylate having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl acrylate, pentaerythritol triacrylate, and the like, but are not limited to them at all, Or a monomer having a functional group to be produced. When the amount of the (meth) acrylate having a hydroxyl group is too small, the hardness of the cured film obtained from the resin composition is decreased, which is not preferable.
반응에 의해 수산기를 생성하는 관능기를 갖는 모노머에 관해서, 그러한 반응으로서는 에폭시기와 카르보닐기의 반응이나 옥시실란 골격의 개환 반응 또는 부가 반응 등을 예로서 들 수 있다.With respect to the monomer having a functional group that generates a hydroxyl group by the reaction, examples of such a reaction include a reaction between an epoxy group and a carbonyl group, a ring-opening reaction or addition reaction of an oxysilane skeleton, and the like.
에폭시기를 갖는 (메트)아크릴레이트의 몇 개의 대표적인 구체예를 나타내면, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 글리시딜기를 갖는 (메트)아크릴레이트 ; 3,4-에폭시시클로헥실아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트 등의 지환 구조에 직접 에폭시기가 결합되어 있는 (메트)아크릴레이트를 들 수 있지만, 전혀 이들로 한정되는 것은 아니다.Examples of (meth) acrylates having an epoxy group include (meth) acrylate having a glycidyl group such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexyl acryl (Meth) acrylate in which an epoxy group is directly bonded to an alicyclic structure such as 3,4-epoxycyclohexyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, Rate, but is not limited to them at all.
이들 중에서는, 입수의 용이함, (메트)아크릴산에 의한 변성의 용이함에서, 글리시딜메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트 등이 특히 바람직하다.Of these, glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexyl acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexyl methacrylate and the like are preferable in terms of easiness to obtain and ease of modification with (meth) -Epoxycyclohexylmethyl acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate and the like are particularly preferable.
이와 같은 에폭시기를 갖는 (메트)아크릴레이트는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.These (meth) acrylates having an epoxy group may be used singly or in combination of two or more kinds.
에폭시기를 갖는 (메트)아크릴레이트의 사용량이 적으면, (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산 변성에 의한 광 라디칼 중합에 의한 고경화성이나 고경도화 효과, 표면 경화성의 향상 효과 등을 발현할 수 없고, 사용량이 많으면 폴리머 용액의 증점이나 액 안정성의 저하가 보여지는 경우가 있고, 또 가일층의 고경화성이나 고경도화도 볼 수 없어, 모두 바람직하지 않다.When the amount of the (meth) acrylate having an epoxy group is small, it is possible to exhibit an effect of improving the hardenability, the hardening effect and the surface hardenability by the photo radical polymerization by the modification of the carboxylic acid having the (meth) acryloyl group When the amount is too large, there is a case where the viscosity of the polymer solution and the liquid stability are lowered. In addition, neither the hardening property nor the hardening of the upper layer can be seen.
카르보닐기를 갖는 (메트)아크릴레이트의 몇 개의 대표적인 구체예를 나타내면, 아크릴산, 메타크릴산, 숙신산 변성 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 등을 들 수 있지만, 전혀 이들로 한정되는 것은 아니다.Examples of some representative examples of (meth) acrylates having a carbonyl group include acrylic acid, methacrylic acid, succinic acid-modified pentaerythritol triacrylate, and the like, but are not limited thereto at all.
본 발명의 수지 조성물에 있어서의 중합체 중의 수산기의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명에 관련된 수지 조성물 (A) 또는 수지 조성물 (B) 의 경우, 하한치로서는 0.2 중량% 이상인 것이 바람직하고, 0.4 중량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.5 중량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 0.7 중량% 이상인 것이 특히 바람직하고, 1.0 중량% 이상인 것이 가장 바람직하다. 상한치로서는, 5.0 중량% 이하인 것이 바람직하고, 4.0 중량% 인 것이 보다 바람직하고, 3.5 중량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 3.0 중량% 인 것이 가장 바람직하다.In the resin composition (A) or the resin composition (B) according to the present invention, the lower limit is preferably 0.2% by weight or more, more preferably 0.4% by weight or less, More preferably 0.5% by weight or more, particularly preferably 0.7% by weight or more, and most preferably 1.0% by weight or more. The upper limit is preferably 5.0% by weight or less, more preferably 4.0% by weight, further preferably 3.5% by weight or less, and most preferably 3.0% by weight.
중합체의 제조에 있어서는, 이 범위가 되도록 수산기를 갖는 모노머의 사용량을 조정한다.In the production of the polymer, the amount of the monomer having a hydroxyl group is adjusted so as to be within this range.
또, 중합체를 제조하는 모노머 혼합물 중에 있어서, 모노머 전체에 대한 수산기를 갖는 모노머의 사용량은 5 ∼ 50 중량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 30 중량% 인 것이 더욱 바람직하다.Further, in the monomer mixture for producing the polymer, the amount of the monomer having a hydroxyl group with respect to the whole monomer is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 30% by weight.
중합체의 제조에 사용하는 모노머로서, 플루오로알킬기를 갖는 모노머를 설명한다. 이러한 모노머로서는 플루오로알킬기를 함유하는 (메트)아크릴레이트를 바람직하게 들 수 있다. 플루오로알킬기를 함유하는 (메트)아크릴레이트로서는, 특별히 제한은 없지만, 탄소수 8 이상의 직사슬의 퍼플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트 이외의 플루오로알킬기를 함유하는 (메트)아크릴레이트가 바람직하다. 탄소수가 8 이상으로, 직사슬의 퍼플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트를 다량으로 사용하면, 본 발명의 중합체 용액, 혹은 이 중합체를 사용한 조성물 용액의 기포 발생성이 현저하게 높아져, 문제가 되기 때문이다. 또한, 탄소수 8 이상의 직사슬의 퍼플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트는 반드시 사용해선 안 되는 것은 아니다.Monomers having fluoroalkyl groups are described as monomers for use in the production of polymers. As such a monomer, a (meth) acrylate containing a fluoroalkyl group is preferably exemplified. The (meth) acrylate containing a fluoroalkyl group is not particularly limited, but a (meth) acrylate containing a fluoroalkyl group other than (meth) acrylate having a linear chain perfluoroalkyl group having at least 8 carbon atoms is preferable Do. When a large amount of (meth) acrylate having a linear chain of perfluoroalkyl groups is used, the bubble-forming property of the polymer solution of the present invention or the composition solution using the polymer is remarkably increased, . In addition, (meth) acrylates having a linear chain perfluoroalkyl group having at least 8 carbon atoms are not necessarily used.
바람직한 플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트로서는, 탄소수 4 ∼ 7 의 직사슬의 플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트를 들 수 있고, 예를 들어, 퍼플루오로헥실에틸(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로헥실글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물, 퍼플루오로헵틸글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물 등이 바람직하다. 또, 탄소수 6 이상으로, 말단이 디플루오로메틸기의 플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트도 들 수 있고, 예를 들어, 1H, 1H, 7H-도데카플루오로헵틸(메트)아크릴레이트, 1H, 1H, 9H-헥사데카플루오로노닐(메트)아크릴레이트 등이 바람직하다.Examples of the (meth) acrylate having a preferable fluoroalkyl group include (meth) acrylates having a linear chain fluoroalkyl group having 4 to 7 carbon atoms, and examples thereof include perfluorohexylethyl (meth) acrylate , A (meth) acrylic acid adduct of perfluorohexyl glycidyl ether, and a (meth) acrylic acid adduct of perfluoroheptyl glycidyl ether. Examples of the (meth) acrylate having 6 or more carbon atoms and a fluoroalkyl group having a difluoromethyl group at the end include, for example, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl (meth) 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl (meth) acrylate and the like are preferable.
이들 중, 탄소수 6 의 직사슬·포화 플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트, 예를 들어, 퍼플루오로헥실에틸(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로헥실글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물이 특히 바람직하다.Of these, (meth) acrylates having a linear or saturated fluoroalkyl group having 6 carbon atoms such as perfluorohexylethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid esters of perfluorohexylglycidyl ether Water is particularly preferred.
이들의 플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.These (meth) acrylates having a fluoroalkyl group may be used singly or in combination of two or more kinds.
탄소수 8 이상의 직사슬의 퍼플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어, 퍼플루오로옥틸에틸(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로데실에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로-7-메틸옥틸)에틸(메트)아크릴레이트, 헵타데카플루오로노네닐(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로옥틸글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물 등의 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylate having a linear chain perfluoroalkyl group having at least 8 carbon atoms include perfluorooctylethyl (meth) acrylate, perfluorodecylethyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylic acid adduct of perfluorooctylglycidyl ether, and (meth) acrylic acid adduct of perfluorooctylglycidyl ether, and the like. .
본 발명의 수지 조성물에 있어서의 중합체 중의 불소 원자의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명에 관련된 수지 조성물 (A) 또는 수지 조성물 (B) 의 경우, 하한치로서는 1.0 중량% 이상인 것이 바람직하고, 4.0 중량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 4.5 중량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 5.0 중량% 이상인 것이 특히 바람직하고, 10.0 중량% 이상인 것이 가장 바람직하다. 상한치로서는 34.0 중량% 이하인 것이 바람직하고, 30.0 중량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 25.0 중량% 인 것이 더욱 바람직하다. 불소 원자의 함유량이 이 하한치 미만에서는, 플루오로알킬기의 발유성에서 유래하는 내유성 오염성의 향상 등의 효과가 충분히 발현되지 않고, 이 상한치를 초과하면 중합체와 다른 성분과의 상용성이 저하되거나, 경화막의 경도가 저하되어 표면의 내손상성이나 연필 경도가 저하되거나 할 가능성이 있다. 중합체의 제조에 있어서는, 이 범위가 되도록 플루오로알킬기를 갖는 모노머의 사용량을 조정한다.In the resin composition (A) or the resin composition (B) related to the present invention, the lower limit of the content is preferably 1.0% by weight or more, more preferably 4.0% by weight More preferably at least 4.5% by weight, particularly preferably at least 5.0% by weight, most preferably at least 10.0% by weight. The upper limit value is preferably 34.0 wt% or less, more preferably 30.0 wt% or less, and further preferably 25.0 wt%. If the content of fluorine atoms is less than this lower limit, the effect of improving the oil resistance and stain resistance derived from the oil repellency of the fluoroalkyl group is not sufficiently manifested. If the content exceeds the upper limit, the compatibility of the polymer with other components may deteriorate, There is a possibility that the hardness of the film is lowered and the scratch resistance and pencil hardness of the surface are lowered. In the production of the polymer, the amount of the monomer having a fluoroalkyl group is adjusted so as to fall within this range.
또, 중합체를 제조하는 모노머 혼합물 중에 있어서, 모노머 전체에 대한 퍼플루오로알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트의 사용량은 80.0 중량% 이하인 것이 바람직하고, 60.0 중량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.The amount of the (meth) acrylate having a perfluoroalkyl group to the whole monomer in the monomer mixture for producing the polymer is preferably 80.0% by weight or less, and more preferably 60.0% by weight or less.
또, 본 발명에 있어서의 중합체는 전술한 바와 같이 폴리실록산 구조를 갖는 것이 바람직하다. 여기서, 폴리실록산 구조란, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 반복 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the polymer of the present invention has a polysiloxane structure as described above. Here, the polysiloxane structure preferably has a repeating structural unit represented by the following general formula (1).
-(SiR1R2-O)- (1) - (SiR 1 R 2 -O) - (1)
식 중, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기를 나타내고, 바람직하게는 하이드록실기 또는 알콕시기로 치환되어 있어도 되는 알킬기 (보다 바람직하게는 알콕시기 및 알킬기의 탄소수가 1 ∼ 3 이다) 이며, 더욱 바람직하게는 치환기를 가지지 않는 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기이며, 가장 바람직하게는 메틸기이다.Wherein R < 1 > and R < 2 & Each independently represents an alkyl group which may have a substituent or a phenyl group which may have a substituent, preferably an alkyl group which may be substituted with a hydroxyl group or an alkoxy group (more preferably, the alkoxy group and the alkyl group have 1 to 3 carbon atoms More preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, which has no substituent, and is most preferably a methyl group.
본 발명에 있어서 폴리실록산 구조를 갖는 중합체는, 수산기 또는 에폭시기, 및 플루오로알킬기에 더하여, 폴리실록산 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 또는 디메르캅탄 등을 함유하는 모노머 혼합물의 라디칼 중합체의 에폭시기의 적어도 일부에, (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산을 반응시켜 이루어지는 구조에 상당하는 구조를 갖는 중합체 또는, 수산기 및 플루오로알킬기를 갖는 모노머 혼합물의 라디칼 중합체의 에폭시기의 적어도 일부에, 폴리실록산 구조를 갖는 카르복실산 또는, 메르캅탄, 아민 등을 반응시켜 이루어지는 구조에 상당하는 구조를 갖는 중합체이다.In the present invention, the polymer having a polysiloxane structure is preferably a polymer having, in addition to the hydroxyl group or the epoxy group and the fluoroalkyl group, at least a part of the epoxy group of the radical polymer of the monomer mixture containing (meth) acrylate or dimercaptan having a polysiloxane structure , A carboxylic acid having a (meth) acryloyl group, or a polymer having a structure corresponding to a structure obtained by reacting a carboxyl group having a polysiloxane structure with at least a part of an epoxy group of a radical polymer of a monomer mixture having a hydroxyl group and a fluoroalkyl group Is a polymer having a structure corresponding to a structure formed by reacting a carboxylic acid, a carboxylic acid, a malonic acid, a carboxylic acid,
이와 같은 폴리실록산 구조를 갖는 중합체의 제조에 사용하는 모노머는 상기 식 (1) 로 나타내는 반복 구조 단위가 2 이상 연결된 폴리실록산 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 또는 디메르캅탄이 바람직하다. 그러한 모노머의 예로서는, 편말단에 메타크릴로일기를 갖는 폴리디메틸실록산 (JNC (구 칫소) 사 제조 「사이라프레인 FM-0725」), 양 말단에 메타크릴로일기를 갖는 폴리디메틸실록산 (예를 들어 신에츠 화학 제조 「X-22-164A」), 양 말단에 에폭시기를 갖는 폴리디메틸실록산, 양 말단 및 측사슬에 에폭시기를 갖는 폴리디메틸실록산, 측사슬에 아크릴로일기를 갖는 폴리디메틸실록산 유도체 (예를 들어 에보닉데구사 재팬 제조 「Tego-Rad」), 양 말단에 아크릴로일기를 갖는 폴리디메틸실록산 (예를 들어 Gelest 사 제조 「DMS-U22」), 양 말단에 메르캅토기를 갖는 폴리디메틸실록산 (예를 들어 신에츠 화학 공업사 제조 「X-22-167B」), 주사슬 또는 측사슬에 폴리디메틸실록산을 가지며, 측사슬 및/또는 말단에 아크릴로일기 및/또는 에폭시기를 갖는 공중합체 등을 들 수 있다.The monomer used in the production of the polymer having such a polysiloxane structure is preferably (meth) acrylate or dimercaptan having a polysiloxane structure in which two or more repeating structural units represented by the above formula (1) are connected. Examples of such monomers include polydimethylsiloxane having a methacryloyl group at one end ("Saifrafene FM-0725" manufactured by JNC (formerly JNC), polydimethylsiloxane having methacryloyl groups at both terminals (X-22-164A, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polydimethylsiloxane having epoxy groups at both terminals, polydimethylsiloxane having epoxy groups at both terminals and side chains, polydimethylsiloxane derivative having an acryloyl group in the side chain (For example, " DMS-U22 " manufactured by Gelest) having an acryloyl group at both ends, polydimethylsiloxane having a mercapto group at both terminals (For example, " X-22-167B " manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), copolymers having polydimethylsiloxane in the main chain or side chain and having an acryloyl group and / or an epoxy group at the side chain and / .
또, 본 발명의 중합체에 있어서의 폴리실록산 구조는, 전술한 바와 같이 그 말단의 규소 또는 그 규소에 결합한 포화 탄화수소기가 산소 원자 또는 황 원자를 개재하여 상기 중합체의 주사슬에 결합되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같은 중합체를 제조하기 위한, 폴리실록산 구조를 갖는 모노머로서는, 메타크릴레이트로 예시하면, 예를 들어, 디메틸폴리실록시프로필메타크릴레이트, α-부틸-ω-(3-메타크릴옥시프로필)폴리디메틸실록산이 있고, 이들에 전혀 한정되는 것은 아니다. 또, 디메르캅탄으로 예시하면, 예를 들어, α,ω-디메르캅토폴리디메틸실록산, α,ω-디메르캅토폴리디에틸실록산, α,ω-디메르캅토폴리메틸에틸실록산, α,ω-디메르캅토폴리디하이드록시메틸실록산, α,ω-디메르캅토폴리디메톡시메틸실록산 등이 있다. 그 중에서도 바람직한 것은 α,ω-디메르캅토폴리디메틸실록산으로, 이 메르캅토기는 직접 폴리실록산기에 연결되어 있어도 되고, 알킬렌기를 개재하여 폴리실록산기에 연결되어 있어도 된다. 보다 바람직하게는, 메르캅토기가 프로필렌기를 개재하여 폴리실록산기에 연결되어 있는 폴리실록산 (α,ω-디메르캅토프로필폴리디메틸실록산) 이다. 단, 이들에 전혀 한정되는 것은 아니다.It is preferable that the polysiloxane structure of the polymer of the present invention has a terminal silicon or a saturated hydrocarbon group bonded to the silicon bonded to the main chain of the polymer via an oxygen atom or a sulfur atom as described above. Examples of the monomer having a polysiloxane structure for producing such a polymer include methacrylates such as dimethylpolysiloxyl methacrylate,? -Butyl-? - (3-methacryloxypropyl) polydimethyl Siloxane, and are not limited thereto. Examples of dimercaptans include α, ω-dimercapto-polydimethylsiloxane, α, ω-dimercaptopro- diethylsiloxane, α, ω-dimercapto-polymethylethylsiloxane, α, ω-dimercaptopolididic hydroxymethylsiloxane, α, ω-dimercaptopolidimethoxymethylsiloxane, and the like. Among these,?,? - dimercapto-polydimethylsiloxane is preferred, and the mercapto group may be directly bonded to the polysiloxane group or may be connected to the polysiloxane group via an alkylene group. More preferably, it is a polysiloxane (?,? - dimercapto-polydimethylsiloxane) having a mercapto group linked to a polysiloxane group via a propylene group. However, the present invention is not limited thereto.
폴리실록산 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 또는 디메르캅탄은, 내오염성과 경도를 균형있게 달성하기 위해, 수평균 분자량 1000 ∼ 10000 정도인 것이 바람직하다. 여기서, 수평균 분자량은, GPC (토소사 제조 「HLC-8120GPC」) 를 이용하고, 용매로서 테트라하이드로푸란, 표준 샘플로서 폴리스티렌을 사용하여, 측정된 것을 말한다.(Meth) acrylate or dimercaptan having a polysiloxane structure preferably has a number average molecular weight of about 1000 to 10000 in order to balance contamination and hardness. Here, the number average molecular weight is measured using GPC (HLC-8120GPC manufactured by Toso Co., Ltd.), tetrahydrofuran as a solvent, and polystyrene as a standard sample.
폴리실록산 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 또는 디메르캅탄은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.(Meth) acrylate or dimercaptan having a polysiloxane structure may be used singly or in combination of two or more kinds.
또, 폴리실록산 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 또는 디메르캅탄의 사용량은 중합체를 제조하는 모노머 혼합물 중에 있어서 모노머 전체에 대해 0.01 ∼ 30 중량% 이며, 바람직하게는 0.1 ∼ 25 중량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 20 중량% 이다. 폴리실록산 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 또는 디메르캅탄의 사용량이 0.01 중량% 미만에서는 내오염성 부여가 불충분하고, 30 중량% 를 초과하면 얻어지는 중합체와 다른 성분과의 상용성 (중합 반응시의 계의 균일 상용성, 그리고 조성물로 했을 때의 중합체와 다른 성분과의 상용성) 이 저하되거나, 경화막의 경도가 저하되거나 하므로, 바람직하지 않다.The amount of the (meth) acrylate or dimercaptan having a polysiloxane structure is preferably 0.01 to 30% by weight, more preferably 0.1 to 25% by weight, more preferably 0.1 to 25% by weight based on the total amount of monomers in the monomer mixture for producing the polymer 1 to 20% by weight. When the amount of the (meth) acrylate or dimercaptane having a polysiloxane structure is less than 0.01% by weight, the impartation of stain resistance is insufficient. When the amount exceeds 30% by weight, compatibility of the obtained polymer with other components Uniform compatibility and compatibility with other components of the polymer when the composition is formed into a composition) is lowered or the hardness of the cured film is lowered.
바람직하게는 폴리실록산 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 또는 디메르캅탄의 사용량은 0.1 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 1 중량% 이상이다.Preferably, the amount of (meth) acrylate or dimercaptan having a polysiloxane structure is 0.1% by weight or more, more preferably 1% by weight or more.
또, 바람직하게는 폴리실록산 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 또는 디메르캅탄의 사용량은 25 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 20 중량% 이하이다.The amount of (meth) acrylate or dimercaptan having a polysiloxane structure is preferably 25% by weight or less, more preferably 20% by weight or less.
본 발명에 있어서의 중합체를 제조할 때에 조제하는 모노머 혼합물에는, 그 밖의 (메트)아크릴레이트를 함유하고 있어도 된다. 그 밖의 (메트)아크릴레이트로서는, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 에폭시기와의 반응성이 낮고, 생성 폴리머의 안정성을 저하시키지 않는 것, 혹은 골격이 강직하고, 경도를 내리지 않는 것, 내오염성을 더욱 향상할 수 있는 것 등이 요구된다.The monomer mixture prepared at the time of producing the polymer of the present invention may contain other (meth) acrylate. The other (meth) acrylate is not particularly limited, but it preferably has a low reactivity with an epoxy group, does not lower the stability of the resulting polymer, or has a rigid skeleton and does not lower its hardness, And so on.
이와 같은 그 밖의 (메트)아크릴레이트의 몇 개의 구체예를 들면, 스티렌, 또는 그 저급 (탄소수 1 ∼ 4 의) 알킬기, 알케닐기 치환 유도체, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬(메트)아크릴레이트, 알킬(메트)아크릴아미드, 탄소수 5 ∼ 20 의 (폴리)시클로알킬 측사슬을 갖는 시클로알킬(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴아미드류 등의 라디칼 중합성 모노머 등을 예시할 수 있다.Some examples of such other (meth) acrylates are styrene, its lower alkyl (having 1 to 4 carbon atoms), alkenyl group substituted derivatives, alkyl (meth) acrylates having 1 to 20 carbon atoms, alkyl (Meth) acrylamides, cycloalkyl (meth) acrylates having (poly) cycloalkyl side chains of 5 to 20 carbon atoms, and (meth) acrylamides.
그 밖의 (메트)아크릴레이트는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.The other (meth) acrylates may be used singly or in combination of two or more.
그 밖의 (메트)아크릴레이트의 사용량은 50 중량% 이하이다. 그 밖의 (메트)아크릴레이트의 사용량이 50 중량% 를 초과하면, 중합체의 경도가 저하되고, 표면의 내손상성이나 연필 경도가 저하되기 때문에, 역시 바람직하지는 않다.The other (meth) acrylate is used in an amount of 50% by weight or less. If the amount of other (meth) acrylate used exceeds 50% by weight, the hardness of the polymer is lowered, and the surface damage and pencil hardness are lowered.
바람직하게는 그 밖의 (메트)아크릴레이트의 사용량은 45 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 40 중량% 이하이다.Preferably, the other (meth) acrylate is used in an amount of 45% by weight or less, more preferably 40% by weight or less.
본 발명의 중합체의 제조에 있어서는, 상기 서술한 모노머의 혼합물을 라디칼 중합시키지만, 그 반응의 균일성을 향상시키기 위해서, 모노머 혼합물에는 용매를 첨가해도 된다.In the production of the polymer of the present invention, the above-mentioned mixture of monomers is subjected to radical polymerization, but in order to improve the uniformity of the reaction, a solvent may be added to the monomer mixture.
이와 같은 용매로서는, 아세톤, 메틸에틸케톤 (MEK), 메틸이소부틸케톤 (MIBK) 등의 케톤계 용매 ; 에탄올, 메탄올, 이소프로필알코올 (IPA), 이소부탄올 등의 알코올계 용매 ; 에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르계 용매 ; 아세트산에틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 2-에톡시에틸아세테이트 등의 에스테르계 용매 ; 톨루엔 등의 방향족 탄화수소 용매 ; 및 물을 바람직한 예로서 들 수 있다.Examples of the solvent include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK) and methyl isobutyl ketone (MIBK), alcohol solvents such as ethanol, methanol, isopropyl alcohol (IPA) and isobutanol, ethylene glycol dimethyl ether , Propylene glycol monomethyl ether and the like; esters such as ethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and 2-ethoxyethyl acetate; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene; and water as preferred examples .
이들의 용매는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.These solvents may be used singly or in combination of two or more kinds.
상기 서술한 성분을 함유하는 모노머 혼합물의 라디칼 중합에는, 라디칼 중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다.In the radical polymerization of the monomer mixture containing the above-described components, it is preferable to use a radical polymerization initiator.
라디칼 중합 개시제로서는, 일반적으로 라디칼 중합에 사용되는 공지된 개시제를 사용할 수 있고, 벤조일퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드 등의 유기 과산화물, 2,2'-아조비스부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴) 등의 아조 화합물을 바람직한 예로서 들 수 있다.As the radical polymerization initiator, known initiators generally used for radical polymerization can be used, and organic peroxides such as benzoyl peroxide and di-t-butyl peroxide, 2,2'-azobisbutyronitrile, 2,2'- Azo compounds such as azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile).
이들의 라디칼 중합 개시제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.These radical polymerization initiators may be used singly or in combination of two or more kinds.
상기 서술한 성분을 함유하는 모노머 혼합물에 추가로 필요에 따라 용매 및 라디칼 중합 개시제를 사용하여 라디칼 중합을 실시할 때의, 모노머 성분과 용매의 혼합·용해 방법 등에는 특별히 제한은 없지만, 예를 들어, 모노머 성분과 용매의 혼합 후, 일정시간 이내, 바람직하게는 3 시간 이내에 라디칼 중합 개시제를 첨가하여, 중합을 개시하는 것이 바람직하다.The method of mixing and dissolving the monomer component and the solvent when the radical polymerization is carried out using a solvent and a radical polymerization initiator in addition to the monomer mixture containing the above-mentioned components is not particularly limited, , It is preferable to initiate polymerization by adding a radical polymerization initiator within a certain period of time, preferably within 3 hours, after mixing the monomer component and the solvent.
라디칼 중합에 제공하는 반응액 중의 모노머 성분의 총합 농도는 바람직하게는 10 중량% 이상, 60 중량% 이하이며, 라디칼 중합 개시제는, 바람직하게는 모노머 성분의 합계에 대해, 바람직하게는 0.1 중량% 이상, 보다 바람직하게는 0.2 중량% 이상이고, 바람직하게는 10 중량% 이하, 보다 바람직하게는 2 중량% 이하 사용된다.The total concentration of the monomer components in the reaction liquid to be added to the radical polymerization is preferably 10% by weight or more and 60% by weight or less, and the radical polymerization initiator is preferably 0.1% by weight or more , More preferably not less than 0.2 wt%, preferably not more than 10 wt%, and more preferably not more than 2 wt%.
또, 바람직한 중합 조건은 사용하는 라디칼 중합 개시제에 따라 상이하지만, 중합 온도는 20 ∼ 150 ℃, 중합 시간은 1 ∼ 72 시간, 더욱 바람직하게는, 중합 온도는 통상적으로 50 ∼ 100 ℃, 중합 시간은 3 ∼ 36 시간이다.The preferred polymerization conditions are different depending on the radical polymerization initiator to be used, but the polymerization temperature is 20 to 150 占 폚, the polymerization time is 1 to 72 hours, more preferably the polymerization temperature is 50 to 100 占 폚, 3 to 36 hours.
본 발명에 있어서의 중합체는, 상기 서술한 바와 같이 하여 얻어지는 라디칼 중합체의 에폭시기의 적어도 일부에, (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산, 바람직하게는 1 분자 내에 1 ∼ 5 개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산을 부가시킨 것이 바람직하다. 이것은, (메트)아크릴로일기가 가교점이 되어 중합체가 가교 구조를 취함으로써, 오염 물질의 닦아냄성 및 그 내구성이 향상되기 때문이다.The polymer in the present invention is a polymer obtained by adding at least a part of the epoxy group of the radical polymer obtained as described above to a carboxylic acid having a (meth) acryloyl group, preferably 1 to 5 (meth) acryl It is preferable to add a carboxylic acid having a diazo group. This is because the (meth) acryloyl group becomes a crosslinking point and the polymer takes a crosslinked structure, thereby improving the wiping property of the contaminant and the durability thereof.
여기서 사용하는 (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산으로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 무수 숙신산, 무수 프탈산, 헥사하이드로 무수 프탈산 등의 산무수물의 부가체, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 무수 숙신산, 무수 프탈산, 헥사하이드로 무수 프탈산 등의 산무수물의 부가체 등을 들 수 있다. 이것은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the carboxylic acid having a (meth) acryloyl group used herein include (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylsuccinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid , Adducts of acid anhydrides such as pentaerythritol tri (meth) acrylate and succinic anhydride, phthalic anhydride and hexahydrophthalic anhydride, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and succinic anhydride, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride , And the like. These may be used alone or in combination of two or more.
이 부가 반응에서는, 라디칼 중합체가 갖는 에폭시기와, (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산의 카르복실기가 반응한다.In this addition reaction, an epoxy group contained in the radical polymer reacts with a carboxyl group of a carboxylic acid having a (meth) acryloyl group.
라디칼 중합체와 (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산이란, 라디칼 중합체의 에폭시기와 (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산의 카르복실기의 비 (이하 간단히 「에폭시기/카르복실기」 라고 칭하는 경우가 있다.) 가 1 이상이 되는 비율로 사용하는 것이 바람직하다. 또 에폭시기/카르복실기가 10 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 이하, 더욱 바람직하게는 2 이하이다.Examples of the carboxylic acid having a (meth) acryloyl group and a radical polymer include a ratio of an epoxy group of a radical polymer to a carboxyl group of a carboxylic acid having a (meth) acryloyl group (hereinafter sometimes simply referred to as "epoxy group / carboxyl group" ) Is 1 or more. The epoxy group / carboxyl group is preferably 10 or less, more preferably 5 or less, still more preferably 2 or less.
에폭시기/카르복실기가 이 하한치 이상이면, 미반응으로 남는 (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산에 의한 안정성의 저하를 방지할 수 있고, 이 상한치이면, 잔존하는 에폭시기에 의한 안정성의 저하를 방지할 수 있기 때문에 바람직하다.If the epoxy group / carboxyl group is lower than the lower limit, it is possible to prevent the stability from being lowered by the carboxylic acid having a (meth) acryloyl group remaining unreacted. If the upper limit is exceeded, the stability of the epoxy group remaining It is preferable.
또, 라디칼 중합체가 갖는 에폭시기 중, 50 ∼ 99 % 가 (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산의 카르복실기와 반응하고 있는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 98 % 이다.It is also preferable that 50 to 99% of the epoxy groups of the radical polymer react with the carboxyl group of the carboxylic acid having a (meth) acryloyl group, more preferably 70 to 98%.
이 부가 반응은 50 ∼ 110 ℃ 에서 3 ∼ 50 시간 실시하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 80 ∼ 110 ℃ 에서 3 ∼ 30 시간이다.The addition reaction is preferably carried out at 50 to 110 ° C for 3 to 50 hours, more preferably at 80 to 110 ° C for 3 to 30 hours.
또 본 반응에서는, 반응을 촉진시키기 위해서, 예를 들어, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 트리에틸렌디아민, N,N-디메틸벤질아민, 벤질트리메틸암모늄클로라이드 및 트리페닐포스핀 등의 공지된 촉매의 1 종 또는 2 종 이상을 사용할 수 있다. 그 사용량은 반응 혼합물 (즉, 라디칼 중합체와, (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산의 합계) 에 대해 0.01 중량% 이상인 것이 바람직하고, 0.05 중량% 이상인 것이 바람직하다. 또 2 중량% 이하인 것이 바람직하고, 1 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다.In the present reaction, in order to accelerate the reaction, a known catalyst such as triethylamine, tributylamine, triethylenediamine, N, N-dimethylbenzylamine, benzyltrimethylammonium chloride and triphenylphosphine One or more of them may be used. The amount thereof is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.05% by weight or more based on the total amount of the reaction mixture (that is, the total of the radical polymer and the carboxylic acid having a (meth) acryloyl group). The content is preferably 2% by weight or less, more preferably 1% by weight or less.
또, 본 반응에서는, (메트)아크릴로일기를 갖는 카르복실산의 (메트)아크릴로일기에 의한 라디칼 중합을 방지하기 위해서, 예를 들어, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 카테콜, p-t-부틸카테콜, 페노티아진 등의 중합 금지제의 1 종 또는 2 종 이상을 사용하는 것이 바람직하다. 중합 금지제의 사용량은 반응 혼합물에 대해 0.01 중량% 이상인 것이 바람직하고, 0.05 중량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 또 1 중량% 이하인 것이 바람직하고, 5 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다.In this reaction, in order to prevent radical polymerization of the (meth) acryloyl group-containing carboxylic acid with the (meth) acryloyl group, for example, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, catechol, pt -Butyl catechol, phenothiazine, and the like are preferably used. The amount of the polymerization inhibitor to be used is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.05% by weight or more based on the reaction mixture. The content is preferably 1% by weight or less, more preferably 5% by weight or less.
이상, 본 발명에 있어서의 중합체의 제조 방법을 구체예를 들어 설명했지만, 본 발명에 있어서 중합체는 상기에서 설명한 구조를 가지고 있으면 되고, 상기 제조법으로 얻어진 것에 한정되지 않는다.The method for producing a polymer according to the present invention has been described above with specific examples. However, the polymer in the present invention may have the structure described above, and is not limited to those obtained by the above production method.
본 발명의 수지 조성물에는, 상기 서술한 중합체의 1 종만이 함유되어 있어도 되고, 2 종 이상이 함유되어 있어도 된다.The resin composition of the present invention may contain only one kind of the above-mentioned polymers, or two or more kinds of them.
본 발명의 조성물 중의 중합체의 함유량은 조성물의 용도나 사용한 중합체의 종류, 그 밖의 함유 성분의 조성에 따라서도 상이하지만, 바람직하게는 0.5 중량% 이상, 보다 바람직하게는 1 중량% 이상이고, 또 바람직하게는 20 중량% 이하, 보다 바람직하게는 15 중량% 이하이다. 중합체의 함유량이 0.5 중량% 이상이면 내오염성이 보다 양호해지고, 20 중량% 이하이면 경도가 높아지고, 도포성이 우수하다.The content of the polymer in the composition of the present invention is preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more, and still more preferably 1% by weight or more, though it varies depending on the use of the composition, the type of polymer used, By weight is 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less. When the content of the polymer is 0.5% by weight or more, the stain resistance is better. When the content is 20% by weight or less, the hardness is increased and the coating property is excellent.
<1-2. 탄화수소계 모노머><1-2. Hydrocarbon-based monomers>
본 발명의 수지 조성물의 필수 성분인 탄화수소계 모노머는 (메트)아크릴로일기 및 비닐기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하고, 바람직하게는 (메트)아크릴로일기를 함유한다.The hydrocarbon-based monomer which is an essential component of the resin composition of the present invention contains one or more kinds selected from a (meth) acryloyl group and a vinyl group, and preferably contains a (meth) acryloyl group.
본 성분은 수지 조성물로부터 얻어지는 경화막에 양호한 경도를 부여한다. 또한, 본원 명세서에서 말하는 「탄화수소계 모노머」 란, 탄소, 수소 이외의 원자를 포함하는 결합을 함유해도 된다.This component imparts good hardness to the cured film obtained from the resin composition. The term "hydrocarbon-based monomer" in the present specification may contain a bond containing atoms other than carbon and hydrogen.
비닐기를 함유하는 탄화수소계 모노머로서는, 예를 들어, 스티렌, p-클로르스티렌, p-메톡시스티렌, 디비닐벤젠, N-비닐피롤리돈, N-비닐카프로락탐, 아크릴로니트릴, 에틸렌글리콜디비닐에테르, 펜타에리트리톨디비닐에테르, 1,6-헥산디올디비닐에테르, 트리메틸올프로판디비닐에테르, 에틸렌옥사이드 변성 하이드로퀴논디비닐에테르, 에틸렌옥사이드 변성 비스페놀 A 디비닐에테르, 펜타에리트리톨트리비닐에테르, 디펜타에리트리톨헥사비닐에테르, 디트리메틸올프로판폴리비닐에테르 등을 들 수 있다.Examples of the hydrocarbon-based monomer containing a vinyl group include styrene, p-chlorostyrene, p-methoxystyrene, divinylbenzene, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, acrylonitrile, ethylene glycol di Vinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, ethylene oxide modified hydroquinone divinyl ether, ethylene oxide modified bisphenol A divinyl ether, pentaerythritol trivinyl Ether, dipentaerythritol hexa vinyl ether, and ditrimethylol propane polyvinyl ether.
(메트)아크릴로일기를 함유하는 탄화수소계 모노머로서는, 1 분자 중에 1 개 또는 2 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 것을 들 수 있다.Examples of the hydrocarbon-based monomer containing a (meth) acryloyl group include those having one or more (meth) acryloyl groups per molecule.
1 분자 중에 1 개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 것으로서는, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산알킬 (C1 ∼ C18), 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 부톡시에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴로일포스페이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타디엔에톡시(메트)아크릴레이트, p-벤질페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올모노(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜모노(메트)아크릴레이트, 글리세린모노(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판모노(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨모노(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페닐옥시프로필(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-옥틸옥시프로필(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 400 모노(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플로로옥틸)에틸(메트)아크릴레이트, CH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3 등을 들 수 있다.(Meth) acrylic acid, alkyl (meth) acrylates (C 1 -C 18 ), phenoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate having one (meth) acryloyl group in one molecule (Meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl Hydroxyethyl (meth) acryloylphosphate, tetrahydrofurfuryl ( (Meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, dicyclopentadienethoxy (meth) acrylate, p-benzylphenoxyethyl (Meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, pentaerythritol mono (Meth) acrylate, 2-hydroxy-3-octyloxypropyl (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol 400 mono ) Ethyl (meth) acrylate, and CH 2 ═C (CH 3 ) COO (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 .
1 분자 중에 2 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 것으로서는, 당해 기술 분야에 있어서 일반적으로 다관능 (메트)아크릴레이트 또는 특수 (메트)아크릴레이트라고 칭해지는 것이나, 프레폴리머, 베이스 레진, 올리고머, 또는 아크릴 올리고머라고 칭해지는 것이 포함되고, 구체적으로는 이하의 (i) ∼ (v) 를 들 수 있다.(Meth) acryloyl group in the molecule, it is generally known in the art as polyfunctional (meth) acrylate or special (meth) acrylate, prepolymer, base resin, oligomer , Or an acrylic oligomer, and specifically includes the following (i) to (v).
(i) 다가 알코올에 (메트)아크릴산이 2 개 이상 결합한 다가 (메트)아크릴레이트.(i) a polyfunctional (meth) acrylate having two or more (meth) acrylic acid bound to a polyhydric alcohol.
(ii) 다가 알코올과 다염기산의 반응에서 얻어지는 폴리에스테르폴리올에 (메트)아크릴산이 2 개 이상 결합한 폴리에스테르아크릴레이트.(ii) a polyester acrylate in which two or more (meth) acrylic acids are bonded to a polyester polyol obtained by the reaction of a polyhydric alcohol with a polybasic acid.
상기 (i) 및 (ii) 에 있어서의 다가 알코올로서는, 에틸렌글리콜, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 디에틸렌글리콜, 트리메틸올프로판, 디프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 등이다. 또 다염기산으로서는 프탈산, 아디프산, 말레산, 트리멜리트산, 이타콘산, 숙신산, 테레프탈산, 알케닐숙신산 등을 들 수 있다.Examples of the polyhydric alcohol in (i) and (ii) include ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, trimethylolpropane, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, Pentaerythritol, dipentaerythritol, and the like. Examples of the polybasic acid include phthalic acid, adipic acid, maleic acid, trimellitic acid, itaconic acid, succinic acid, terephthalic acid, alkenylsuccinic acid and the like.
(iii) 에폭시 수지의 에폭시기를 (메트)아크릴산으로 에스테르화하여 관능기로서 (메트)아크릴로일기로 한 에폭시아크릴레이트.(iii) an epoxy acrylate obtained by esterifying an epoxy group of an epoxy resin with (meth) acrylic acid to obtain a (meth) acryloyl group as a functional group.
상기 (iii) 에 있어서의 에폭시 수지로서는, 비스페놀 A-에피클로르히드린형, 페놀 노볼락-에피클로히드린형, 지환식 수지 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy resin in (iii) include bisphenol A-epichlorohydrin type, phenol novolac-epichlorohydrin type, and alicyclic resin.
(iv) 다가 이소시아네이트 화합물에, 하이드록실기 함유 (메트)아크릴레이트를 반응시켜 얻어지는 폴리우레탄아크릴레이트.(iv) A polyurethane acrylate obtained by reacting a polyfunctional isocyanate compound with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate.
상기 (iv) 에 있어서의 다가 이소시아네이트 화합물로서는, 분자 중앙부가 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리우레탄 등의 구조를 가지며, 양단에 이소시아네이트기를 함유한 것 등을 들 수 있다.Examples of the polyvalent isocyanate compound in (iv) include those having a structure such as polyester, polyether, and polyurethane at the central part of the molecule and containing isocyanate groups at both ends.
(v) 그 외로서, 폴리에테르(메트)아크릴레이트, 멜라민(메트)아크릴레이트, 알키드(메트)아크릴레이트, 이소시아누레이트(메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트 등.(v) Other examples include polyether (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, alkyd (meth) acrylate, isocyanurate (meth) acrylate and silicone (meth) acrylate.
이들의 보다 구체적인 화합물의 예로서는, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 400 디(메트)아크릴레이트, 하이드록시피발산에스테르네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,3-비스(3''-아크릴옥시에톡시-2'-하이드록시프로필)5,5-디메틸히단토인, 하이드록시피발산에스테르네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨모노하이드록시펜타(메트)아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 비스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 히타치 화성 (주) 제조 FA-731A, 하기 일반식 (2) ∼ (7) (단, R6 은 H 또는 -CH3 이며, n 및 x 는 각각 1 ∼ 10 의 정수이다) 을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Examples of these more specific compounds are 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di Acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol 400 di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) (3 '' - acryloxyethoxy-2'-hydroxypropyl) 5,5-dimethylhydantoin, hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tetra Mat (Acryloxyethyl) isocyanurate, FA-731A, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, bis (2) to (7) (wherein R < 6 > Is H or -CH 3 , And n and x each represent an integer of 1 to 10). However, the present invention is not limited thereto.
[화학식 1][Chemical Formula 1]
본 발명에 있어서는, 상기 1 분자 중에 2 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 것 중, 3 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다. 그러한 탄화수소계 모노머를 사용함으로써, 수지 조성물로부터 얻어지는 경화막의 경도를 보다 향상시킬 수 있기 때문이다.In the present invention, among those having at least two (meth) acryloyl groups in one molecule, polyfunctional (meth) acrylates having at least three (meth) acryloyl groups are more preferable. This is because the hardness of the cured film obtained from the resin composition can be further improved by using such a hydrocarbon-based monomer.
구체적으로는, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트류, 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트류, 폴리에폭시(메트)아크릴레이트류, 이소시아누레이트 고리를 갖는 트리에톡시(메트)아크릴레이트 (예를 들어, 토아 합성 제조, 아로닉스 M315, M313 등) 를 예시할 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도, 경도 등의 성능면이 양호한 점에서 다관능 아크릴레이트가 좋고, 트리스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 비스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트가 바람직하다.Specific examples include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (Meth) acrylate, polyepoxy (meth) acrylate, isocyanurate ring (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (For example, Toon Synthesis, Aronix M315, M313, and the like) having a hydroxyl group and a hydroxyl group, but are not limited thereto. Of these, polyfunctional acrylates are preferred from the viewpoint of satisfactory performance such as hardness and tris (acryloxyethyl) isocyanurate, bis (acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tri (meth) acrylate , Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and pentaerythritol tetra (meth) acrylate.
상기에서 예시한 여러 가지의 탄화수소계 모노머는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.The various hydrocarbon-based monomers exemplified above may be used singly or in combination of two or more kinds.
또, 조성물 중의 이들의 바람직한 함유량에 대해 그 합계의 함유량은 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 특별히 정하는 것은 아니지만, 특히 높은 경도를 필요로 하는 조성물로서 사용하는 경우에는, 탄화수소계 모노머/중합체의 중량비로서 99.9/0.1 보다 중합체가 많고, 특히 99/1 보다 중합체가 많아지도록 하는 것이 바람직하고, 50/50 보다 중합체가 적고, 나아가서는 80/20 보다 중합체가 적고, 특히 85/15 보다 중합체가 적게 하는 것이 바람직하다. 중합체를 이 상한 이하로 함으로써, 얻어지는 경화물에 대해 보다 높은 경도를 유지할 수 있어 바람직하고, 이 하한 이상으로 함으로써, 얻어지는 경화물에 대해 보다 양호한 내오염성을 발현할 수 있어 바람직하다.The content of the total amount of these components in the composition is not specifically defined as far as it does not deviate from the object of the present invention. However, when the composition is used as a composition requiring particularly high hardness, the weight ratio of the hydrocarbon monomer / More polymer than 99.9 / 0.1, more preferably more polymer than 99/1, less polymer than 50/50, less polymer than 80/20, in particular less polymer than 85/15 . By setting the polymer to not more than the upper limit, a higher hardness can be maintained with respect to the resulting cured product, and when it is not lower than the lower limit, it is possible to exhibit better stain resistance to the obtained cured product.
<1-3. 포화 탄화수소><1-3. Saturated hydrocarbons>
본 발명에 관련된 수지 조성물 (A) 의 필수 성분인 포화 탄화수소는 공지된 것을 널리 채용할 수 있지만, 탄소수가 5 ∼ 18 의 것이 바람직하다. 탄소수가 5 미만인 것은 실온에서 기체이고, 탄소수 18 이상인 것은 실온에서 고체이며, 취급이 곤란하다. 바람직한 예로서는, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산, 시클로헵탄 등을 들 수 있다.The saturated hydrocarbon which is an essential component of the resin composition (A) according to the present invention can be widely known, and preferably has 5 to 18 carbon atoms. Those having a carbon number of less than 5 are gases at room temperature and those having a carbon number of 18 or more are solid at room temperature and are difficult to handle. Preferred examples thereof include hexane, heptane, octane, cyclohexane, cycloheptane and the like.
또, 본 발명에 관련된 수지 조성물 (B) 도 포화 탄화수소를 함유하는 것이 바람직하다. 포화 탄화수소는 본 발명에 관련된 수지 조성물 (A) 의 경우와 마찬가지로 공지된 것을 널리 채용할 수 있지만, 탄소수가 5 ∼ 18 의 것이 바람직하다.The resin composition (B) according to the present invention also preferably contains saturated hydrocarbons. As in the case of the resin composition (A) related to the present invention, saturated hydrocarbons can be widely known, and the number of carbon atoms is preferably 5 to 18.
본 발명에 관련된 수지 조성물 (A) 중의 포화 탄화수소의 함유량은 0.01 ∼ 25 중량% 이지만, 바람직하게는 0.5 중량% 이상, 보다 바람직하게는 1 중량% 이상이다.The content of the saturated hydrocarbon in the resin composition (A) according to the present invention is 0.01 to 25% by weight, preferably 0.5% by weight or more, and more preferably 1% by weight or more.
본 발명에 관련된 수지 조성물 (B) 중의 포화 탄화수소의 함유량은 조성물의 용도나 사용한 중합체의 종류, 그 밖의 함유 성분의 조성에 따라서도 상이하지만, 바람직하게는 0.01 중량% 이상, 보다 바람직하게는 0.5 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 1 중량% 이상이고, 또 바람직하게는 25 중량% 이하, 보다 바람직하게는 23 중량% 이하, 특히 바람직하게는 20 중량% 이하이다. 중합체의 함유량이 이 하한치보다 적으면 소포성이 부여되지 않고, 이 상한치보다 많으면 중합물이 석출될 우려가 있다.The content of the saturated hydrocarbon in the resin composition (B) according to the present invention varies depending on the use of the composition, the type of polymer used, and the composition of other components, but is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.5% More preferably not less than 1% by weight, further preferably not more than 25% by weight, more preferably not more than 23% by weight, particularly preferably not more than 20% by weight. When the content of the polymer is less than this lower limit, defoaming property is not imparted. If the content of the polymer is higher than this upper limit, there is a possibility that the polymer is precipitated.
또, 본 발명의 수지 조성물 중에 있어서, 필수 성분인 중합체와 포화 탄화수소는 중량비로 5 : 1 ∼ 1 : 20 인 것이 바람직하다. 이러한 비가 이 범위임으로써, 양 성분의 상호 작용에 의해 수지 조성물의 기포 발생성이 억제되기 쉽고, 또 소포성이 향상되기 쉽기 때문이다.In the resin composition of the present invention, it is preferable that the polymer and the saturated hydrocarbon, which are essential components, are in a weight ratio of 5: 1 to 1:20. When the ratio is in this range, the bubble generation property of the resin composition is easily suppressed by the interaction of the two components, and the bubble resistance tends to be improved.
<1-4. 표면 장력 저하능이 2 mN/m 이상인 불소기 함유 올리고머><1-4. Fluorine group-containing oligomer having a surface tension lowering ability of 2 mN / m or more>
본 발명에 관련된 수지 조성물 (B) 의 필수 성분인 표면 장력 저하능이 2 mN/m 이상인 불소기 함유 올리고머는 공지된 것을 널리 채용할 수 있다. 여기서, 표면 장력 저하능이란, 불소기 함유 올리고머를 1 질량% 용해시켰을 때의 PGMAc (1-메톡시프로필-2-프로판올) 의 표면 장력의 저하량 (「표면 장력 저하능」=「PGMAc 의 표면 장력」-「1 % PGMAc 용액의 표면 장력」) 을 의미하는 것으로 한다.The known fluorine group-containing oligomer having a surface tension lowering ability of 2 mN / m or more, which is an essential component of the resin composition (B) according to the present invention, can be widely used. Here, the surface tension lowering ability refers to a decrease in the surface tension of PGMAc (1-methoxypropyl-2-propanol) when the fluorine group-containing oligomer is dissolved in 1 mass% Tension " - " surface tension of 1% PGMAc solution ").
불소기 함유 올리고머의 표면 장력 저하능은 2 mN/m 이상이면 특별히 한정되지 않지만, 상한치로서는, 바람직하게는 15 mN/m 이하, 보다 바람직하게는 12 mN/m 이하, 특히 바람직하게는 10 mN/m 이하이다. 또, 하한치로서는, 바람직하게는 2 mN/m 이상, 보다 바람직하게는 3.5 mN/m 이상, 특히 바람직하게는 5 mN/m 이상이다. 이 상한치 이하이면, 상용성이 양호하기 때문에 바람직하고, 이 하한치 이상이면, 소포성이 양호하기 때문에 바람직하다. 또한, 상기 표면 장력 저하능은 표면 장력계 (쿄와 계면 화학사 제조 「Drop Master 시리즈」) 를 사용하여 산출한 값이다. 또, 표면 장력 저하능은 첨가제의 분자 구조에 의해 정해지는 수치이며, 불소 원자나 Si 원자를 갖는 구조를 가지면, 표면 장력 저하능이 커지는 경향이 있고, 극성기를 많이 함유하면 표면 장력 저하능이 작아지는 경향이 있음으로써 정해진다.The upper limit of the upper limit is preferably 15 mN / m or less, more preferably 12 mN / m or less, particularly preferably 10 mN / m or less, although the surface tension lowering ability of the fluorine group-containing oligomer is not particularly limited as long as it is 2 mN / m or less. The lower limit value is preferably 2 mN / m or more, more preferably 3.5 mN / m or more, particularly preferably 5 mN / m or more. If the upper limit is lower than the upper limit, it is preferable because the compatibility is good, and if it is lower than the lower limit, it is preferable because the foaming property is good. In addition, the surface tension lowering ability is a value calculated by using a surface tension meter ("Drop Master series" manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). The surface tension lowering ability is a numerical value determined by the molecular structure of the additive. When the fluorine atom or Si atom is present, the surface tension lowering ability tends to increase, and when the polar group is included in large amount, the surface tension lowering ability tends to decrease .
불소기 함유 올리고머는, 표면 장력 저하능이 2 mN/m 이상이면, 그 외에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 중량 평균 분자량의 하한치로서는, 바람직하게는 5000 이상, 보다 바람직하게는 6000 이상, 특히 바람직하게는 7000 이상이다. 또, 상한치로서는, 바람직하게는 40000 이하, 보다 바람직하게는 20000 이하, 특히 바람직하게는 15000 이하이다. 이 상한치 이하이면, 다른 성분과의 상용성이 양호하기 때문에 바람직하다. 이 하한치 이상이면, 소포성이 양호하기 때문에 바람직하다. 여기서, 중량 평균 분자량은 GPC (토소사 제조 「HLC-8120GPC」) 를 사용하고, 용매로서 테트라하이드로푸란, 표준 샘플로서 폴리스티렌을 사용하여, 측정된 것을 말한다.The lower limit of the weight average molecular weight is preferably 5000 or more, more preferably 6000 or more, particularly preferably 7000 or more, even though the fluorine group-containing oligomer is not particularly limited as far as the surface tension lowering ability is 2 mN / Or more. The upper limit value is preferably not more than 40,000, more preferably not more than 20,000, and particularly preferably not more than 15,000. If the upper limit is not exceeded, compatibility with other components is preferable. If it is at least the lower limit, it is preferable because the bubble resistance is good. Here, the weight average molecular weight refers to a value measured by using GPC (HLC-8120GPC manufactured by Toso Co., Ltd.), tetrahydrofuran as a solvent, and polystyrene as a standard sample.
또, 불소기 함유 올리고머는 소포성이 양호하기 때문에 아크릴로일기를 함유하지 않는 것이 바람직하다.It is preferable that the fluorine group-containing oligomer does not contain an acryloyl group because the oligomer has good defoaming property.
또한 불소기 함유 올리고머는 소포성이 우수한 점에서 비이온성인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들어, 네오스사의 후타젠토 710FM, DIC 사 제조의 메가팍 F-555, 다이킨사 제조의 NS-9013 등을 들 수 있다. 상기 올리고머는 복수 혼합하여 사용해도 된다.Further, the fluorine group-containing oligomer is preferably nonionic in that it is excellent in defoaming property. Specifically, there may be mentioned, for example, Futagonto 710FM of Neos, Megapak F-555 of DIC, and NS-9013 of Daikensha. A plurality of oligomers may be used in combination.
본 발명에 관련된 수지 조성물 (B) 중의 불소기 함유 올리고머의 바람직한 함유량은 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 특별히 정하는 것은 아니지만, 본 발명에 관련된 수지 조성물 (B) 전체의 0.005 ∼ 10 중량% 인 것이 바람직하고, 0.01 ∼ 5 중량% 인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 함유량이 0.005 중량% 보다 적으면 수지 조성물의 기포 발생을 억제할 수 없는 경우가 있고, 10 중량% 보다 크면 수지 조성물의 도포시에 줄무늬나 크레이터링 등의 결함이 생기는 경우가 있다.The content of the fluorine group-containing oligomer in the resin composition (B) according to the present invention is not particularly limited as long as it does not deviate from the object of the present invention, but it is preferably 0.005 to 10% by weight of the total of the resin composition (B) And more preferably 0.01 to 5% by weight. When the content is less than 0.005% by weight, the formation of bubbles in the resin composition may not be suppressed. When the content is more than 10% by weight, defects such as stripes and cratering may occur at the time of applying the resin composition.
본 발명에 관련된 수지 조성물 (A) 도 불소기 함유 올리고머를 함유하는 것이 바람직하고, 비이온성 불소기 함유 올리고머를 함유하는 것이 바람직하다. 이것은 수지 조성물의 기포 발생 방지를 보다 향상시키기 위함이다.The resin composition (A) related to the present invention also preferably contains a fluorine group-containing oligomer and preferably contains a non-ionic fluorine group-containing oligomer. This is to further improve prevention of bubble formation of the resin composition.
비이온성 불소기 함유 올리고머로서는, 중합 평균 분자량이 5000 ∼ 20000 인 것이 바람직하고, 5000 ∼ 10000 인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 네오스사의 후타젠토 710FM, DIC 사 제조의 메가팍 F-554, 메가팍 F-555, 메가팍 F-556, 메가팍 RS-75, 다이킨사 제조 NS-9013, DSN-403N 등을 들 수 있지만, 바람직하게는 후타젠토 710FM, 메가팍 F-555, NS-9013 이다. 여기서, 중합 평균 분자량은 GPC (토소사 제조 「HLC-8120GPC」) 를 사용하고, 용매로서 테트라하이드로푸란, 표준 샘플로서 폴리스티렌을 사용하여, 측정된 것을 말한다.The oligomer having a nonionic fluorine group preferably has a polymerization average molecular weight of 5,000 to 20,000, more preferably 5,000 to 10,000. For example, FutaZento 710FM manufactured by NEOS Corporation, Megafac F-554, Megafac F-555, Megafac F-556, Megaface RS-75 manufactured by DIC Corporation, NS-9013 and DSN- But are preferably Futazento 710FM, Megafac F-555, and NS-9013. Here, the polymerization average molecular weight is measured using GPC (HLC-8120GPC manufactured by Toso Co., Ltd.), tetrahydrofuran as a solvent, and polystyrene as a standard sample.
본 발명에 관련된 수지 조성물 (A) 중의 비이온성 불소기 함유 올리고머의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명에 관련된 수지 조성물 (A) 전체의 0.005 ∼ 10 중량% 인 것이 바람직하고, 0.01 ∼ 5 중량% 인 것이 더욱 바람직하고, 0.1 ∼ 2 중량% 인 것이 특히 바람직하다. 이러한 함유량이 0.005 중량% 보다 적으면 수지 조성물의 기포 발생을 억제할 수 없는 경우가 있고, 10 중량% 보다 크면 수지 조성물의 도포시에 줄무늬나 크레이터링 등의 결함이 생기는 경우가 있다.The content of the nonionic fluorine group-containing oligomer in the resin composition (A) according to the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.005 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 5% by weight, , And particularly preferably 0.1 to 2% by weight. When the content is less than 0.005% by weight, the formation of bubbles in the resin composition may not be suppressed. When the content is more than 10% by weight, defects such as stripes and cratering may occur at the time of applying the resin composition.
<1-5. 용제><1-5. Solvent>
본 발명의 수지 조성물의 필수 성분인 용제는 SP 값 10.0 이하의 것이지만, 바람직하게는 9.5 이하, 보다 바람직하게는 9.3 이하, 특히 바람직하게는 9.0 이하이다. 이 상한치 이하이면, 소포성이 양호하기 때문에 바람직하다. 또, 하한치로서는, 바람직하게는 7.5 이상, 보다 바람직하게는 7.8 이상, 더욱 바람직하게는 8.0 이상, 특히 바람직하게는 8.2 이상, 가장 바람직하게는 8.5 이상이다. 이 하한치 이상이면, 상용성이 양호하기 때문에 바람직하다.The solvent which is an essential component of the resin composition of the present invention has an SP value of 10.0 or less, preferably 9.5 or less, more preferably 9.3 or less, particularly preferably 9.0 or less. If the upper limit is not more than the upper limit, it is preferable because the foaming property is good. The lower limit is preferably at least 7.5, more preferably at least 7.8, even more preferably at least 8.0, particularly preferably at least 8.2, most preferably at least 8.5. If it is more than the lower limit, it is preferable because compatibility is good.
SP 값이란, 용해도 파라미터를 나타내고, 그 값은 Fedors 들이 제안한 방법에 의해 계산되는 것이다. 구체적으로는 「POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE, FEBRUARY, 1974, Vol. 14, No. 2, ROBERT F. FEDORS. (147 ∼ 154 페이지)」 를 참조하기 바란다. 또, SP 값은 분자의 소수성기나 친수성기의 함유량에 의해 정해지는 물성치이며, 혼합 용매를 사용하는 경우에는, SP 값이 작은 용매와 큰 용매를 혼합하여 적절히 조제하는 것도 가능하다.The SP value represents the solubility parameter, which is calculated by the method proposed by Fedors. Specifically, " POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE, FEBRUARY, 1974, Vol. 14, No. 2, ROBERT F. FEDORS. (Pages 147 to 154). The SP value is a property value determined by the content of the hydrophobic group or the hydrophilic group in the molecule. When a mixed solvent is used, it is also possible to prepare a mixture by mixing a solvent having a low SP value and a large solvent.
일반적으로 중합체를 용해시키는 수지 생물에 있어서 SP 값이 높은 용제를 사용하면 친수성기가 많아지기 때문에 콜로이드를 형성하기 쉬워져 기포가 발생하기 쉽고, SP 값이 낮은 용제를 사용하면 기포 발생을 방지할 수 있다. 그러나, 본 발명의 수지 조성물의 필수 성분인 중합체의 용해성을 높게 하기 위해, 어느 정도 SP 값이 높은 용제를 사용하여, 균일한 용액을 얻을 수 있으므로 바람직하다. 그 때문에, 본 발명에 있어서의 용제로서는, 상기 범위에 SP 값이 있는 것이 사용된다.In general, when a solvent having a high SP value is used in a resin organism which dissolves a polymer, since a hydrophilic group is increased, colloid is easily formed and bubbles tend to be generated. When a solvent having a low SP value is used, bubble formation can be prevented . However, in order to increase the solubility of the polymer, which is an essential component of the resin composition of the present invention, it is preferable to use a solvent having a high SP value to some extent to obtain a homogeneous solution. Therefore, a solvent having an SP value in the above range is used as the solvent in the present invention.
본 발명에 있어서의 용제로서는, SP 값이 상기 범위에 있으면, 공지된 것을 널리 채용할 수 있지만, 아세톤, 메틸에틸케톤 (MEK), 메틸이소부틸케톤 (MIBK) 등의 케톤계 용매 ; 에탄올, 메탄올, 이소프로필알코올 (IPA), 이소부탄올 등의 알코올계 용매 ; 에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르계 용매 ; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 2-에톡시에틸아세테이트 등의 에스테르계 용매 ; 톨루엔 등의 방향족 탄화수소 용매 등을 바람직한 예로서 들 수 있다. 이 중, 케톤계 용매의 메틸에틸케톤 (MEK), 메틸이소부틸케톤 (MIBK) 은 기포 발생이 낮고, 또한 본 발명의 폴리머와의 상용성도 높다는 관점에서 더욱 바람직하다.As the solvent in the present invention, any of known solvents can be widely used as long as the SP value is within the above range, but ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK) and methyl isobutyl ketone (MIBK) , Isopropyl alcohol (IPA) and isobutanol; ether solvents such as ethylene glycol dimethyl ether and propylene glycol monomethyl ether; ethers such as ethyl acetate, butyl acetate, propyleneglycol monomethyl ether acetate, 2-ethoxyethyl An ester solvent such as acetate; an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene; and the like. Among them, methyl ethyl ketone (MEK) and methyl isobutyl ketone (MIBK) of ketone solvents are more preferable from the viewpoint of low bubble generation and high compatibility with the polymer of the present invention.
이들 용매는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.These solvents may be used singly or in combination of two or more kinds.
본 발명의 수지 조성물은, 특히, 후술하는 바와 같이, 도포 용도로 사용되는 경우, 이들의 유기 용제를 함유함으로써, 그 고형분 농도가 10 중량% 이상, 특히 20 중량% 이상이고, 90 중량% 이하, 특히 70 중량% 이하로 조제되는 것이 바람직하다.When the resin composition of the present invention is used for a coating application as described later, the solid content concentration of the resin composition is 10 wt% or more, particularly 20 wt% or more, 90 wt% or less, Particularly preferably 70% by weight or less.
<1-6. 라디칼 중합성 광 개시제><1-6. Radical Polymerizable Photoinitiator>
본 발명의 수지 조성물은 상기 필수 성분 외에 추가로 라디칼 중합성 개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 이것은 수지 조성물의 경화를 효율적으로 실시하기 위함이다. 통상적으로, 수지 조성물의 경화는 활성 에너지선을 조사함으로써 실시하지만, 일렉트론 빔 (EB) 과 같이 조사 에너지가 매우 강하여, 라디칼 중합성 개시제의 첨가를 필요로 하지 않는 경우에는 생략할 수 있다.It is preferable that the resin composition of the present invention further contains a radical polymerization initiator in addition to the above essential components. This is for efficiently carrying out curing of the resin composition. Normally, the curing of the resin composition is carried out by irradiating the active energy ray, but it can be omitted if irradiation energy is very strong like the electron beam (EB), and addition of the radical polymerization initiator is not required.
라디칼 중합성 광 개시제로서는, 공지된 것을 널리 채용할 수 있지만, 바람직하게는, 알킬페논형 화합물 (α-하이드록시아세토페논계, α-아미노아세토페논계, 벤질케탈계 등), 아실포스핀옥사이드형 화합물, 옥심에스테르 화합물, 옥시페닐아세트산에스테르류, 벤조인에테르류, 페닐포름산에스테르류, 케톤/아민 화합물 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인부틸에테르, 디에톡시아세토페논, 벤질디메틸케탈, 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조인디페닐포스핀옥사이드, 2-메틸-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로파논, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 메틸벤조일포르메이트, 미힐러케톤, N,N-디메틸아미노벤조산이소아밀, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤 등이 바람직하다.As the radical-polymerizable photoinitiator, it is possible to widely adopt known ones, but it is preferable to use an alkylphenone type compound (? -Hydroxyacetophenone type,? -Aminoacetophenone type, benzylketal type, etc.), acylphosphine oxide Oxime ester compounds, oxyphenylacetic acid esters, benzoin ethers, phenyl formic acid esters, ketone / amine compounds, and the like. Specific examples thereof include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin butyl ether, diethoxyacetophenone, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclo Methyl [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl- 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, methylbenzoylformate, Michler's ketone, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 2-chlorothioxanthone, 2 , 4-diethyl thioxanthone and the like are preferable.
이들의 라디칼 중합성 광 개시제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.These radically polymerizable photoinitiators may be used singly or in combination of two or more.
본 발명의 수지 조성물 중의 라디칼 중합성 광 개시제의 함유량은 사용하는 라디칼 중합성 광 개시제의 종류에 따라 적절히 정할 수 있지만, 조성물 중의 중합체, 그 외 후술하는 콜로이달 실리카를 주성분으로 하는 무기 산화물 미립자에 -O-Si-R- 결합 (R 은 탄소수 2 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬렌기를 나타낸다.) 을 개재하여 결합되어 있는 (메트)아크릴로일기를 갖는 유기 무기 복합체, 라디칼 중합성의 유기 (메트)아크릴레이트 화합물 및/또는 라디칼 중합성의 유기 (메트)아크릴아미드 화합물, 본 발명의 중합체 이외의 라디칼 중합성기를 갖는 폴리머 등의 조성물 중의 중합성 성분의 총합에 대해 10 중량% 이하가 바람직하고, 8 중량% 이하가 보다 바람직하고, 0.5 중량% 이상이 바람직하다. 이 범위보다 라디칼 중합성 광 개시제의 함유량이 적으면 경화가 불충분해지고, 많으면 경도의 저하나, 내오염성의 저하가 생기는 경우가 있다.The content of the radically polymerizable photoinitiator in the resin composition of the present invention can be appropriately determined depending on the kind of the radically polymerizable photoinitiator to be used. However, the content of the polymer in the composition, An organic-inorganic hybrid substance having a (meth) acryloyl group bonded via an O-Si-R- bond (R represents a linear or branched alkylene group having 2 to 10 carbon atoms), a radical polymerizable organic ) Is preferably 10% by weight or less, more preferably 10% by weight or less, and more preferably 10% by weight or less, based on the total amount of the polymerizable components in the composition such as the acrylate compound and / or the radically polymerizable organic (meth) acrylamide compound and the polymer having radically polymerizable groups other than the polymer By weight or less, more preferably 0.5% by weight or more. When the content of the radical-polymerizable photoinitiator is smaller than this range, the curing becomes insufficient, whereas when the content is larger than that range, the hardness is lowered and the stain resistance is lowered.
또한, 라디칼 중합성 광 개시제로서, 2-메틸-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로파논, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온 등의 α-아미노아세토페논계 개시제, 치바 스페셜리티 케미컬즈사 제조, 이르가큐어 OXE-01 등의 옥심에스테르계 개시제, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤과 미힐러케톤 등의 α-하이드록시케톤계 개시제와 벤조페논계 증감제의 혼합물의 1 종 또는 2 종 이상을, 라디칼 중합성 광 개시제 성분 중의 20 중량% 이상 사용하면, 산소에 의한 중합 저해가 보다 경감되고, 표면 경화성·박막 경화성의 보다 가일층의 향상을 볼 수 있어, 특히 바람직한 경우가 있다.Further, as the radically polymerizable photoinitiator, there may be mentioned 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2- Naphthyl) -butan-1-one, oxime ester initiators such as Irgacure OXE-01 manufactured by Ciba Specialty Chemicals, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and Michler's ketone Is used in an amount of not less than 20% by weight based on the total amount of the radical polymerizable photoinitiator component, the polymerization inhibition by oxygen is further reduced, The surface hardening property and the film hardening property can be further improved, which is particularly preferable.
<1-7. 그 밖의 임의 성분><1-7. Other optional components>
본 발명의 수지 조성물에는, 조성물을 도포막으로 했을 때의 경도 등의 도포막 물성이나, 조성물의 점도 등의 액 물성의 조정을 도모하기 위해, 추가로 본 발명의 중합체 이외의 라디칼 중합성기를 갖는 폴리머, 콜로이달 실리카를 주성분으로 하는 무기 산화물 미립자에 -O-Si-R- 결합 (R 은 탄소수 2 ∼ 10 의 직사슬 또는 분기의 알킬렌기를 나타낸다) 을 개재하여 결합되어 있는 (메트)아크릴로일기를 갖는 유기 무기 복합체, 및 무기 미립자에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유해도 된다.In the resin composition of the present invention, in order to control the properties of the coating film such as the hardness and the like when the composition is used as a coating film and to control the liquid properties such as the viscosity of the composition, (Meth) acryloyloxy group bonded through a -O-Si-R- bond (R represents a linear or branched alkylene group having 2 to 10 carbon atoms) to inorganic oxide fine particles mainly comprising a polymer and colloidal silica An organic-inorganic hybrid having a weather, and an inorganic fine particle.
이들의 함유량은 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 특별히 정하는 것은 아니지만, 수지 조성물 전체의 0.1 ∼ 50 중량% 인 것이 바람직하고, 1 ∼ 30 중량% 인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 함유량이 0.1 중량% 보다 작으면 이들 추가적인 성분의 첨가로 기도하는 효과 (예를 들어, 도포막의 경도 향상이나, 컬 억제 등) 를 얻기 어렵고, 또 50 중량% 보다 크면 내오염성 등의 도포막 물성이 저하되는 경우가 있다.The content thereof is not particularly limited as long as it does not deviate from the object of the present invention, but it is preferably 0.1 to 50% by weight, more preferably 1 to 30% by weight based on the whole resin composition. If such a content is smaller than 0.1% by weight, it is difficult to obtain a praying effect (for example, improvement of the hardness of the coated film, curl suppression or the like) by the addition of these additional components, and if it is larger than 50% by weight, May be lowered.
여기서, 본 발명의 중합체 이외의 폴리머로서는, 바람직하게는, 아크릴로일기, 메타크릴로일기와 같은 라디칼 중합성기를 측사슬에 갖는, 본 발명의 중합체 이외의 (메트)아크릴레이트계 중합체, 그러한 중합체와 스티렌 등의 다른 라디칼 중합성 모노머의 공중합체를 들 수 있다. 구체적으로는, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 주성분으로서 중합한 중합체에 (메트)아크릴산을 부가하여 얻어지는, 측사슬에 (메트)아크릴로일기를 갖는 폴리머가 바람직하다. 물론 이들 이외의 것을 배제하는 것은 아니다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Here, as the polymer other than the polymer of the present invention, a (meth) acrylate polymer other than the polymer of the present invention having a side chain with a radically polymerizable group such as an acryloyl group or a methacryloyl group, And copolymers of other radically polymerizable monomers such as styrene. Specific examples thereof include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexyl acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, 3 , A polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain obtained by adding (meth) acrylic acid to a polymer obtained by polymerizing 4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate as a main component is preferable. Of course, they do not exclude other things. These may be used singly or in combination of two or more kinds.
또한, 본 발명의 수지 조성물에는, 상기 서술한 성분 외에, 각종 기능성을 부여하는 목적으로, 그 밖의 성분을 배합할 수 있다.In addition to the components described above, other components may be blended into the resin composition of the present invention for the purpose of imparting various functions.
예를 들어, 자외선 흡수제, 힌더드아민계 광 안정제를 배합하면, 또한 내후성이 현저하게 향상되어, 바람직한 경우가 있다. 자외선 흡수제로서는, 벤조트리아졸계, 벤조페논계, 살리실산계, 시아노아크릴레이트계, 트리아진계 자외선 흡수제 등을 바람직한 예로서 들 수 있다. 그 외에, 도포막 물성을 개량하는 목적으로, 산화 방지제 (예를 들어, 힌더드페놀계, 황계, 인계 산화 방지제 등), 블로킹 방지제, 슬립제, 레벨링제 등의, 이 종류의 내오염성 부여제에 배합되는 여러 가지의 첨가제를 배합해도 된다. 이들 첨가제의 배합량으로서는, 다른 고형분에 대해, 각각 0.01 중량% 이상, 2 중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.For example, when an ultraviolet absorber and a hindered amine light stabilizer are incorporated, the weatherability is remarkably improved, which is preferable. Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole-based, benzophenone-based, salicylic acid-based, cyanoacrylate-based, and triazine-based ultraviolet absorbers. In addition, for the purpose of improving the physical properties of the coating film, it is also possible to use this kind of antifouling agent (such as a hindered phenol-based, sulfur-based, phosphorus-based antioxidant), antiblocking agent, slipping agent, May be blended with various additives. The blending amount of these additives is preferably 0.01% by weight or more and 2% by weight or less, respectively, with respect to the other solid components.
또, 본 발명의 수지 조성물에는, 경도나 내블로킹성 등을 더욱 향상시키는 목적으로, 전술한 유기 무기 복합체 (C2) 에 사용되는 무기 산화물 미립자를 미처리인 채 배합해도 된다.In order to further improve the hardness and blocking resistance, the resin composition of the present invention may be blended with inorganic oxide fine particles used in the organic-inorganic hybrid substance (C2) as described above.
또, 실리콘계 화합물 등의 시판되는 소포제를 보조적으로 함유해도 된다.In addition, a commercially available antifoaming agent such as a silicone compound or the like may be supplementarily contained.
<1-8. 소포성><1-8. Defoaming>
본 발명의 수지 조성물은 우수한 소포성을 갖는다. 그 때문에, 코팅 도료로서 사용했을 때에, 도포막에 크레이터링이 생기지 않고, 그 도포막으로부터 얻어지는 경화막의 레벨링성이 우수한 것이 된다.The resin composition of the present invention has excellent defoaming property. Therefore, when used as a coating paint, the coating film is not cratered, and the leveling property of the cured film obtained from the coating film is excellent.
여기서, 소포성이 우수한 것은, 고형분 (수지 조성물의 필수 성분인 중합체 및 탄화수소계 모노머) 을, 고형분 농도가 50 중량% 이고, 고형분 중의 그 중합체의 비율이 5 중량% 가 되도록, 수지 조성물의 필수 성분인 포화 탄화수소 (용해액 전체의 10 중량%) 및 동 필수 성분인 용제에 용해한 액 15 ㎖ 를, 내경 1.5 cm 의 30 ㎖ 용량의 유저(有底) 원통 형상의 용기에 넣고, 5 초간에 20 회 진탕하여 가만히 정지시키고, 생성된 액 표면의 기포가 사라질 때까지의 시간을 육안으로 측정했다. 액 표면의 기포가 15 분 미만에 사라지는 것이 바람직하고, 2 분 미만에 사라지면 보다 바람직하다.Here, the excellent antifoaming property means that the solid content (polymer and hydrocarbon monomer as essential components of the resin composition) is adjusted so that the solid concentration is 50% by weight and the proportion of the polymer in the solid content is 5% 15 ml of a phosphoric acid-saturated hydrocarbon (10% by weight of the total solution) and 15 ml of a solution dissolved in a solvent, which is an indispensable ingredient, were placed in a 30 ml cylindrical container having an inner diameter of 1.5 cm, And the time until the bubbles on the surface of the produced liquid disappeared was visually measured. The bubbles on the surface of the liquid preferably disappear in less than 15 minutes, more preferably in less than 2 minutes.
<1-9. 본 발명이 효과를 발휘하는 이유><1-9. Reasons why the present invention is effective>
본 발명이 효과를 발휘하는 이유로서는, 이하와 같이 추찰된다. 일반적으로는, SP 값이 높은 용매 중에서는, 본 발명과 같은 수산기와 플루오로알킬기를 갖는 폴리머, 즉 친수성과 소수성의 기를 가지는 폴리머가 소수성의 기를 외부로 하여 배열함으로써, 용액의 기포를 형성해 버린다. 그래서, 본 발명의 제 1 양태에서는, SP 값이 특정값 이하인 용매를 사용하고, 포화 탄화수소를 첨가함으로써, 용매의 소수성을 올리고, 폴리머가 기포를 형성하는 것을 억제함으로써 소포성이 양호해지는 것과, 포화 탄화수소가, 기포를 형성하고 있는 친수성과 소수성의 기를 가지는 폴리머의 용액 중에서의 분자의 배열을 무너뜨림으로써, 소포의 기점이 되어, 본 발명의 효과를 발휘하는 것으로 추찰된다. 또, 마찬가지로, 본 발명의 제 2 양태에서는, SP 값이 특정값 이하인 용매를 사용하고, 표면 장력 저하능이 있는 일정 이상인 첨가제를 첨가함으로써, 용매의 소수성을 올리고, 폴리머가 기포를 형성하는 것을 억제함으로써 소포성이 양호해지는 것과, 불소기 함유 올리고머가, 기포를 형성하고 있는 친수성과 소수성의 기를 가지는 폴리머의 용액 중에서의 분자의 배열을 무너뜨림으로써, 소포의 기점이 되어, 본 발명의 효과를 발휘하는 것으로 추찰된다.The reason why the present invention exerts the effect is presumed as follows. Generally, in a solvent having a high SP value, a polymer having a hydroxyl group and a fluoroalkyl group as in the present invention, that is, a polymer having a hydrophilic and hydrophobic group, arranges hydrophobic groups externally to form bubbles in the solution. Thus, in the first aspect of the present invention, it is considered that the solvent having a SP value of not more than a specific value is used and saturated hydrocarbon is added to increase the hydrophobicity of the solvent and to prevent the polymer from forming bubbles, It is presumed that the hydrocarbon becomes a starting point of the vesicle by destroying the arrangement of molecules in the solution of the polymer having hydrophilic and hydrophobic groups forming bubbles and exerts the effect of the present invention. Likewise, in the second aspect of the present invention, by using a solvent having a SP value of not more than a specific value and adding an additive having a surface tension lowering ability and a certain level or more, the hydrophobicity of the solvent is increased and the polymer is inhibited from forming bubbles The defoaming property becomes good and the fluorine group-containing oligomer breaks the arrangement of molecules in a solution of a polymer having hydrophilic and hydrophobic groups forming bubbles, thereby becoming a starting point of the bubbles and exhibiting the effect of the present invention It is presumed.
<2. 경화물><2. Cured goods>
본 발명의 수지 조성물을 경화시킴으로써, 후술하는 우수한 물성을 나타내는 경화막을 얻을 수 있다.By curing the resin composition of the present invention, it is possible to obtain a cured film exhibiting excellent physical properties to be described later.
본 발명의 수지 조성물을 도포한 후, 용제 건조에 의해 도포막을 형성 후, 활성 에너지선을 조사함으로써, 조성물 중의 중합성 성분을 중합시켜, 경화막을 얻을 수 있다. 도포 방법으로서는, 스핀 코트, 딥 코트, 플로우 코트, 스프레이 코트, 바 코트, 그라비아 코트, 롤 코트, 블레이드 코트, 에어 나이프 코트 등을 바람직한 예로서 들 수 있다. 도포, 건조, 중합, 경화되어 얻어지는 피막의 두께는 특별히 정하는 것이 아니고, 예를 들어, 5 ㎛ 이상이어도 되고, 2 ㎛ 이하이어도 된다. 즉, 본 발명의 수지 조성물은 박막화/후막화의 양방이 가능한 점에서 매우 의미가 있다. 경화막의 두께는 특히 바람직하게는 0.01 ㎛ 이상, 50 ㎛ 이하이며, 경도를 중시하는 경우에는 특히 바람직하게는 2 ㎛ 이상, 20 ㎛ 이하이며, 경도를 비교적 중시하지 않는 경우에는 특히 바람직하게는 0.04 ㎛ 이상, 2 ㎛ 이하이다.The cured film can be obtained by polymerizing the polymerizable component in the composition by applying a resin composition of the present invention, forming a coating film by solvent drying, and then irradiating an active energy ray. Examples of the application method include spin coating, dip coating, flow coating, spray coating, bar coating, gravure coating, roll coating, blade coating, air knife coating and the like. The thickness of the film obtained by coating, drying, polymerization and curing is not particularly limited, and may be, for example, 5 탆 or more and 2 탆 or less. That is, the resin composition of the present invention is very meaningful in that both of thinning and thickening are possible. The thickness of the cured film is particularly preferably not less than 0.01 탆 and not more than 50 탆, particularly preferably not less than 2 탆 and not more than 20 탆 when the hardness is emphasized, particularly preferably not more than 0.04 탆 Or more and 2 m or less.
활성 에너지선 조사로서는, 크세논 램프, 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 카본 아크등, 텅스텐 램프 등의 광원으로부터 발생되는 자외선, 또는 통상적으로 20 ∼ 2000 kV 의 입자 가속기로부터 취출되는 전자선, α 선, β 선, γ 선 등의 활성 에너지선을 사용할 수 있고, 이들의 활성 에너지선을 도포막에 조사하여, 경화시켜 경화막을 형성시킨다.Examples of the active energy ray irradiation include ultraviolet rays generated from a light source such as a xenon lamp, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc lamp or a tungsten lamp, or an electron beam ,? -ray,? -ray,? -ray and the like can be used. These active energy rays are irradiated to the coating film and cured to form a cured film.
이와 같은 활성 에너지선에 의한 조사로 형성된 경화막은 생산성·물성의 밸런스가 우수하고, 특히 바람직하다.Such a cured film formed by irradiation with an active energy ray is particularly preferable because it has excellent balance of productivity and physical properties.
본 발명의 경화물의 상기 서술한 본 발명의 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사하여, 조성물 중의 중합성 성분을 중합시켜 이루어지는 것이지만, 특히 이하의 적합한 물성을 만족시키는 것이 바람직하다. 또, 본 발명의 수지 조성물을 함유하는 도포막의 경화는 자외선에 한정되지 않고, 전자선, α 선, β 선, γ 선 등의 활성 에너지선을 사용할 수 있고, 본 발명에 있어서의 「활성 에너지선을 조사하여 중합」 으로서는, 광 라디칼 중합 또는 광 카티온 중합을 바람직한 예로서 들 수 있다. 또한, 이하에 있어서, 자외선 조사는 모두 통상적으로 산소 농도 분위기하에서 실시된다.The resin composition of the present invention described above of the cured product of the present invention is irradiated with an active energy ray to polymerize the polymerizable component in the composition, and it is particularly preferable to satisfy the following appropriate physical properties. The curing of the coating film containing the resin composition of the present invention is not limited to ultraviolet rays, and active energy rays such as electron beams, alpha rays, beta rays and gamma rays can be used. In the present invention, Photo-radical polymerization or photo-cation polymerization can be mentioned as a preferable example. In the following description, ultraviolet irradiation is usually conducted in an oxygen concentration atmosphere.
<2-1. 경화물의 성질><2-1. Properties of Cured Products>
본 발명의 수지 조성물을 경화하여 얻어지는 경화물은 이하의 물성을 갖는다.The cured product obtained by curing the resin composition of the present invention has the following properties.
<2-1-1. 경도><2-1-1. Longitude>
본 발명의 경화물은 높은 경도를 나타낸다. 여기서, 경도가 높다란, 연필 경도 JIS K-5400 의 규격의 조건하에서 HB 이상의 경도인 것을 말한다. 또한, 연필 경도는, 부드러운 것으로부터 순서대로, 6B, 5B,···, B, HB, F, H, 2H, 3H,···9H 로 정해져 있다.The cured product of the present invention exhibits high hardness. Here, the hardness is high, and pencil hardness means hardness of not less than HB under the condition of the standard of JIS K-5400. The pencil hardness is determined by the order of 6B, 5B, ..., B, HB, F, H, 2H, 3H, ..., 9H.
본 발명의 수지 조성물을 188 ㎛ 두께의 접착 용이 PET 기재 상에 도포하고, 얻어진 도포막에, 출력 밀도 120 W/cm 의 고압 수은등을 사용하여, 파장 254 nm 의 자외선을 500 mJ/㎠ 의 적산 광량이 되도록 조사함으로써 형성한, 막두께 5 ㎛ 의 경화막의 연필 경도는 B 이상, 특히 HB 이상인 것이 바람직하다.The resin composition of the present invention was coated on a PET substrate having an adhesive property of 188 탆 in thickness, and a high-pressure mercury lamp with an output density of 120 W / cm was used to apply ultraviolet rays having a wavelength of 254 nm to a cumulative light quantity of 500 mJ / The pencil hardness of the cured film having a thickness of 5 占 퐉 is preferably B or more, particularly preferably HB or more.
특히 본 발명의 수지 조성물이 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트를 함유하는 경우, 이것을 188 ㎛ 두께의 접착 용이 PET 기재 상에 도포하고, 얻어진 도포막에, 출력 밀도 120 W/cm 의 고압 수은등을 사용하여, 파장 254 nm 의 자외선을 500 mJ/㎠ 의 적산 광량이 되도록 조사함으로써 형성한, 막두께 5 ㎛ 의 경화막의 연필 경도는 3H 이상인 것이 바람직하다.Particularly, when the resin composition of the present invention contains dipentaerythritol hexaacrylate, it is coated on a PET base material having a thickness of 188 탆, and a high-pressure mercury lamp with an output density of 120 W / cm , A pencil hardness of a cured film having a thickness of 5 占 퐉 formed by irradiating ultraviolet rays having a wavelength of 254 nm to an integrated light quantity of 500 mJ / cm2 is preferably 3H or more.
단, 이 연필 경도의 평가에 사용하는 조성물은, 라디칼 중합성 광 개시제로서 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤만을 사용하고, 또한, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 이외의 고형분 100 중량부에 대해, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤을 2.5 중량부 배합한 것이다.However, the composition used for evaluating the pencil hardness was such that only 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone was used as the radical polymerizable photoinitiator, and in addition to 100 parts by weight of solids other than 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, And 2.5 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone.
<2-1-2. 발수 발유성><2-1-2. Water and oil repellency>
본 발명의 경화물은 우수한 발수 발유성을 나타낸다.The cured product of the present invention shows excellent water repellency and oil repellency.
여기서, 발수 발유성이 우수한 것은, 본 발명의 수지 조성물을 188 ㎛ 두께의 접착 용이 PET 기재 상에 도포하고, 얻어진 도포막에, 출력 밀도 120 W/cm 의 고압 수은등을 사용하여, 파장 254 nm 의 자외선을 500 mJ/㎠ 의 적산 광량이 되도록 조사함으로써 형성한, 막두께 5 ㎛ 의 경화막의 표면의 물에 대한 접촉각은 100 도 이상, 120 도 이하, 특히 102 도 이상, 115 도 이하이며, 헥사데칸에 대한 접촉각이 50 도 이상, 90 도 이하, 특히 52 도 이상, 75 도 이하인 것에 의해 평가할 수 있다. 또한, 이 접촉각의 측정 방법은 후술하는 실시예에 있어서 상세를 설명한다.The excellent water and oil repellency is obtained by applying the resin composition of the present invention onto a PET substrate having an adhesive property of 188 탆 and using a high pressure mercury lamp with a power density of 120 W / cm to obtain a coating film having a wavelength of 254 nm The contact angle of the surface of the cured film having a thickness of 5 占 퐉 formed by irradiating ultraviolet rays to an integrated light quantity of 500 mJ / cm2 with respect to water is not less than 100 degrees and not more than 120 degrees, particularly not less than 102 degrees and not more than 115 degrees, Can be evaluated by a contact angle of not less than 50 degrees, not more than 90 degrees, particularly not less than 52 degrees, and not more than 75 degrees. The method of measuring the contact angle will be described in detail in the following embodiments.
<2-1-3. 내오염성 및 그 내구성><2-1-3. Stain resistance and durability>
본 발명의 경화물은 내오염성이 우수하고, 또한 그 성질의 내구성이 우수하다. 특히, 유지성 오염에 대해 우수한 방오성을 나타낸다.The cured product of the present invention is excellent in stain resistance and has excellent durability. In particular, it exhibits excellent antifouling property against persistent pollution.
내오염성이 우수한 것은, 본 발명의 수지 조성물의 경화물 또는 경화막의 표면에, 흑매직을 부착시키고, 200 g 하중으로 티슈 페이퍼로 닦아내는 경우, 3 왕복 이내의 닦아냄 조작, 보다 바람직하게는 2 왕복 이내의 조작으로, 완전하게 지문을 제거할 수 있는, 매우 내지문성이 높은 것인 것에 의해 평가할 수 있다.When the black magic is attached to the surface of the cured product or the cured film of the resin composition of the present invention and wiped with a tissue paper at a load of 200 g, the wiping operation within 3 round trips, more preferably 2 The fingerprint can be completely removed by the operation within the round trip, and the fingerprint can be evaluated by being very high to high.
또, 내오염성의 내구성이 우수한 것은, 흑매직을 부착시키고, 200 g 하중으로 티슈 페이퍼로 3 왕복 닦는, 닦아냄 조작을 5 회 반복해도, 지문 제거성이 저하되지 않는 것에 의해 평가할 수 있고, 이것은 본 발명의 경화물의 더욱 큰 특징이다.In addition, excellent durability against stain resistance can be evaluated by the fact that the fingerprint removing property is not deteriorated even by repeating the wiping operation five times by attaching black magic and wiping three times with tissue paper at a load of 200 g, It is a further feature of the cured product of the present invention.
적은 닦아냄 횟수로 닦여지도록 하는 내오염성 부여제를 사용해도, 종래의 것은 경도가 부족하거나, 막 표면에 고정되어 있지 않기 때문에, 부착, 닦아냄 조작을 반복하면, 수 회 ∼ 십수 회로 표면에 미세한 흠이 생기고, 그 간극에 지문 (또는 인공 지문액) 이 들어가거나, 혹은 내오염성 부여제 자체가 표면으로부터 없어져 버려, 지문 제거성의 내구성이 떨어져 있었다. 한편, 본 발명의 수지 조성물은, 경화 후의 경도가 높고, 또한 막 표면에 고정되어 있기 때문에, 5 회 이상, 바람직하게는 10 회 이상 조작을 반복해도, 흑매직의 닦아냄성이 저하되지 않는다는, 매우 높은 닦아냄 성능 내구성을 갖는다는 특징을 갖는다.Even if a stain resistance imparting agent for wiping with a small number of times of wiping is used, since the conventional stiffness is insufficient or is not fixed to the surface of the membrane, repeating the affixing and wiping operations may result in fine The fingerprint (or the artificial fingerprint liquid) entered the gap, or the stain resistance imparting agent disappeared from the surface, and the durability of the fingerprint removing property was deteriorated. On the other hand, since the resin composition of the present invention has a high hardness after curing and is fixed on the surface of the film, the wiping property of black magic does not deteriorate even if the operation is repeated 5 times or more, preferably 10 times or more. And has high wiping performance durability.
<3. 경화막을 갖는 성형품><3. Molded products having a cured film>
상기 서술한 바와 같이, 본 발명의 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 조성물 중의 중합성 성분을 중합시켜 이루어지는 경화물은 내오염성, 경도 등의 특성이 우수하다.As described above, the cured product obtained by polymerizing the polymerizable component in the composition by irradiating the active energy ray to the resin composition of the present invention is excellent in properties such as stain resistance and hardness.
따라서, 본 발명의 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 얻어지는 경화막을 표면에 갖는 물품은 내오염성, 경도 등의 특성이 우수하다.Therefore, an article having a cured film obtained by irradiating the resin composition of the present invention with an active energy ray has excellent properties such as stain resistance and hardness.
이 경화막은, 물품 본체의 표면에 본 발명의 수지 조성물을 도포한 후, 활성 에너지선을 조사하여 중합시켜 형성해도 되고, 활성 에너지선을 조사하여 중합시킨 형성된 경화막을 별도 제작한 후, 물품에 적층하여 형성해도 된다.The cured film may be formed by applying the resin composition of the present invention onto the surface of the article body and then polymerizing the film by irradiation with an active energy ray. Alternatively, the cured film may be formed by irradiating an active energy ray, .
이하, 본 발명의 경화물, 특히 경화막을 구비하는 물품에 대해 설명한다.Hereinafter, a cured product of the present invention, particularly an article comprising a cured film, will be described.
본 발명의 경화막은 여러 가지의 물품에 적용할 수 있지만, 예를 들어, 광 기록 매체, 광학 디스플레이, 농업용 비닐 하우스의 투명 필름 (태양광을 유효하게 취입할 필요가 있기 때문에, 내오염 기능이 필요), 태양 전지의 표면 보호 투명 필름 (전지 효율 저하를 방지하기 위해, 내오염 기능이 필요), 재귀 반사 표식 표면 보호용 투명 필름 (헤드 램프 라이트나 외광의 비교적 어두운 빛으로도 표식의 문자를 보이기 쉽게 하기 위해, 투명성과 내오염 기능이 필요), 광학 렌즈, 광학 프리즘, 프리즘 시트, 자동차의 창재, 건조물의 창재, 안경 렌즈, 등에 적용할 수 있다. 특히, 높은 투명성이 요구되는 광학 물품에 적용하면 바람직하다.The cured film of the present invention can be applied to various articles. For example, it is necessary to use an optical recording medium, an optical display, a transparent film of a vinyl house for agriculture ), Solar cell surface protection film (to prevent deterioration of battery efficiency, internal pollution function is required), retroreflective surface protective film (headlamp light or relatively dark light of external light, An optical lens, an optical prism, a prism sheet, a window pane of automobile, a window pane of a dried product, a spectacle lens, and the like. Particularly, it is preferable to apply it to an optical article requiring high transparency.
본 발명의 수지 조성물은 여러 가지의 기재 상에 도포, 건조, 경화시켜 하드 코트층을 형성하기 위해서 바람직하게 사용된다. 이 경우, 기재의 종류는 특별히 한정되지 않지만, 접착성의 높음 등에서 수지로 이루어지는 기재가 바람직하다. 수지 기재는 판상, 시트상, 필름상 중 어느 것이어도 되고, 임의의 형상의 성형품이어도 된다. 또 기재가 적층체의 일부이어도 되고, 기재와 경화막의 사이에 다른 층을 개재해도 된다.The resin composition of the present invention is preferably used for forming a hard coat layer by applying, drying and curing various substrates. In this case, the kind of the substrate is not particularly limited, but a substrate made of a resin is preferable because of high adhesiveness. The resin base material may be a plate, a sheet, or a film, or may be a molded product of any desired shape. The substrate may be a part of the laminate, or another layer may be interposed between the substrate and the cured film.
수지 기재는 열가소성 수지이어도 되고, 열이나 활성 에너지선에 의해 경화된 경화 수지이어도 된다.The resin substrate may be a thermoplastic resin or a cured resin cured by heat or an active energy ray.
열가소성 수지로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리메타크릴산메틸 (PMMA), 메타크릴산메틸 (MMA) 함유 공중합체 (메타크릴산메틸-스티렌 공중합 수지 (MS 수지)), 폴리카보네이트 (PC), 트리아세틸셀룰로오스, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 (ABS 수지), 변성 폴리올레핀 수지, 불소 수지 (예를 들어, 불화비닐리덴 수지 (PVDF), 불화비닐 수지 (PVF) 등), 수소화폴리스티렌 수지, 시클로올레핀계 수지 (예를 들어 JSR 제조의 아톤, 닛폰 제온 제조의 제오넥스, 제오노아, 미츠이 화학 제조의 아펠) 등을 들 수 있다.Examples of the thermoplastic resin include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), and copolymers containing methyl methacrylate (MMA) (methyl methacrylate-styrene copolymer Butadiene-styrene copolymer (ABS resin), modified polyolefin resin, fluororesin (e.g., vinylidene fluoride resin (PVDF), polyvinylidene fluoride resin Polyvinyl fluoride resin (PVF)), hydrogenated polystyrene resin, cycloolefin resin (for example, Aton manufactured by JSR, Zeonex manufactured by Nippon Zeon, Zeonoa, and Arpel manufactured by Mitsui Chemicals).
경화 수지로서는, 예를 들어, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 열경화성이나 광경화성의 아크릴계 수지의 경화물, 열경화성이나 광경화성의 유기 무기 하이브리드 수지 등의 경화물 등을 들 수 있다.Examples of the cured resin include epoxy resins, urethane resins, cured products of thermosetting and photo-curable acrylic resins, and cured products of thermosetting and photo-curable organic-inorganic hybrid resins.
이들 기재는 예를 들어 그 자체 도포 형성된 막이어도 되고, 각종 성형법에 의한 성형품이어도 된다.These substrates may be, for example, self-coating films or molded products obtained by various molding methods.
본 발명의 경화막은 투명성이 우수하고, 내오염성, 경도가 우수하므로, 높은 투명성이 요구되는 광학 물품에 적용하면 매우 유용하다. 이 때, 기재도 투명한 것이 필요한 경우에는, 기재는 코팅법, 용융 압출 성형법, 솔벤트 캐스트법 중 어느 것으로 형성되어 이루어지는 것이 바람직하다. 또 기재가 활성 에너지선 또는 열로 경화 가능한 관능기를 함유하는 경우, 활성 에너지선 조사 또는 가열에 의해 경화시키면 보다 바람직한 경우가 있다. 또 기재의 경도를 높이거나 경화 수축을 저감시키거나 하기 위해서는, 무기 산화물 미립자 및/또는 우레탄아크릴레이트를 함유하는 것이 바람직하다. 또한 투명하다란, 일반적으로, 목적으로 하는 파장의 광의 투과율이 80 % 이상인 것을 말한다.The cured film of the present invention is excellent in transparency, excellent in stain resistance and hardness, and thus is very useful when applied to optical articles requiring high transparency. In this case, when it is necessary that the base material is also transparent, it is preferable that the base material is formed by a coating method, a melt extrusion molding method, or a solvent casting method. When the substrate contains an active energy ray or a heat-curable functional group, it may be more preferable to cure it by irradiation with active energy rays or heating. In order to increase the hardness of the substrate or reduce the hardening shrinkage, it is preferable to contain inorganic oxide fine particles and / or urethane acrylate. In addition, transparency means that the transmittance of light of a target wavelength is generally 80% or more.
본 발명의 경화막은 또, 광 기록 매체의 내오염성 하드 코트층으로서 바람직하게 사용할 수 있다.The cured film of the present invention can also be suitably used as an anti-staining hard coat layer of an optical recording medium.
본 발명의 수지 조성물은 광학 디스플레이 용도에도 바람직하게 사용할 수 있다. 특히, 평면 디스플레이 (액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 리어 프로젝션 디스플레이, 프론트 프로젝터용 스크린, 무기 EL 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등) 의 디스플레이 패널 표면에 대한 내오염성 부여제로서 바람직하고, 그 중에서도 카 내비게이션 시스템, 휴대전화, 모바일 정보 단말 (PDA 등), PC 모니터 등에서 터치 패널 입력 기능을 갖는 디스플레이, 또는 가정에서 널리 이용되는 평면 TV (특히 액정 텔레비젼) 의 표면의 하드 코트층으로서 바람직하게 사용할 수 있다.The resin composition of the present invention can be preferably used for optical display applications. Particularly, it is preferable as an agent for imparting stain resistance to a display panel surface of a flat panel display (a liquid crystal display, a plasma display, a rear projection display, a screen for a front projector, an inorganic EL display, an organic EL display, etc.) It can be suitably used as a hard coat layer on the surface of a flat panel TV (especially a liquid crystal television) widely used in the home, a display having a touch panel input function in a telephone, a mobile information terminal (PDA etc.), a PC monitor and the like.
이와 같은 광 기록 매체 또는 디스플레이에 사용하는 적층체에 본 발명의 수지 조성물을 적용하는 경우에는, 투명 수지 기재를 사용하고, 적층체의 적어도 일방의 가장 표면에, 본 발명의 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 중합시켜 이루어지는 경화막을 형성하는 것이 바람직하다.When the resin composition of the present invention is applied to a laminate used for such an optical recording medium or a display, a transparent resin base material is used, and at least one surface of the laminate is coated with an active energy ray To form a cured film formed by polymerization.
본 발명의 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 중합시켜 이루어지는 경화물은 내오염성, 경도 등의 특성이 우수하다.The cured product obtained by polymerizing the resin composition of the present invention by irradiation with an active energy ray is excellent in properties such as stain resistance and hardness.
본 발명의 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 중합시켜 이루어지는 막을 표면에 갖는 물품은 내오염성, 경도 등의 특성이 우수하다. 물품의 표면에 조성물을 도포한 후, 활성 에너지선을 조사하여 중합시켜도 되고, 활성 에너지선을 조사하여 중합시킨 막을 물품에 적층해도 된다.An article having a film formed by polymerizing the resin composition of the present invention by irradiation with active energy rays has excellent properties such as stain resistance and hardness. The composition may be coated on the surface of the article, and then irradiated with an active energy ray to polymerize it. Alternatively, a film polymerized by irradiation with an active energy ray may be laminated on the article.
실시예Example
이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은, 그 요지를 일탈하지 않는 한, 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless they depart from the gist of the present invention.
이하에 실시예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 순서 등은, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한, 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The materials, the amounts to be used, the ratios, the contents of the treatments, the processing procedures, and the like shown in the following examples can be appropriately changed as long as they do not depart from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following specific examples.
또한, 예 중의 「부」 및 「%」 는 각각 「중량부」 및 「중량%」 를 의미한다.In the examples, "part" and "%" mean "part by weight" and "% by weight", respectively.
<합성예 1 : 중합체 (A-01) 의 합성>≪ Synthesis Example 1: Synthesis of Polymer (A-01) >
퍼플루오로헥실에틸메타크릴레이트 55 g, 라우릴메타크릴레이트 11 g, 글리시딜메타크릴레이트 34 g, 도데실메르캅탄 0.9 g (M(a1)/M(a3) = 1.78), 1-메톡시-2-프로판올 200 g 을 첨가하고, 내부 온도를 질소 기류하 약 60 ℃ 까지 승온했다. 그 후 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) (V65) 를 2 회로 나누어 합계 1.2 g 첨가하고, 65 ℃ 에서 6 시간 교반을 계속했다. 그 후, 내부 온도를 80 ℃ 까지 올려 V65 를 완전하게 실활시킨 후, 실온으로 되돌렸다. 고형분 농도는 약 34 % 였다.55 g of perfluorohexylethyl methacrylate, 11 g of lauryl methacrylate, 34 g of glycidyl methacrylate, 0.9 g of dodecyl mercaptan (M (a1) / M (a3) = 1.78), 1- 200 g of methoxy-2-propanol was added, and the internal temperature was raised to about 60 DEG C under nitrogen flow. Thereafter, a total of 1.2 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (V65) was divided into two portions, and stirring was continued at 65 ° C for 6 hours. Thereafter, the internal temperature was raised to 80 DEG C to completely inactivate V65, and the temperature was returned to room temperature. The solid concentration was about 34%.
다음으로 7 % 산소 분위기하, 90 ℃ 로 가열한 후, p-메톡시페놀 0.5 g, 트리페닐포스핀 4.6 g 을 첨가했다. 5 분 후, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 127.2 g 을 1-메톡시프로필-2-아세테이트 54.5 g 에 용해하고, 30 분에 걸쳐 적하했다. 이 동안 액 온도를 90 ∼ 105 ℃ 로 유지했다. 그 후 액 온도를 110 ℃ 로 올리고, 이 온도에서 12 시간 유지한 후, 실온으로 되돌렸다. 고형분은 35 % 였다 (A-01).Next, the mixture was heated to 90 DEG C under a 7% oxygen atmosphere, then 0.5 g of p-methoxyphenol and 4.6 g of triphenylphosphine were added. After 5 minutes, 127.2 g of pentaerythritol tri (meth) acrylate was dissolved in 54.5 g of 1-methoxypropyl-2-acetate and added dropwise over 30 minutes. During this time, the liquid temperature was maintained at 90 to 105 ° C. Thereafter, the solution temperature was raised to 110 DEG C, held at this temperature for 12 hours, and returned to room temperature. The solids content was 35% (A-01).
또한, 주입 중량으로부터 산출한 불소 원자의 함유량은 12.3 중량%, 수산기의 함유량은 1.6 중량% 였다.The fluorine atom content and the hydroxyl group content calculated from the injection weight were 12.3 wt% and 1.6 wt%, respectively.
<합성예 2 : 중합체 (A-02) 의 합성>Synthesis Example 2: Synthesis of polymer (A-02)
퍼플루오로헥실에틸메타크릴레이트 50 g, 라우릴메타크릴레이트 10 g, α,ω-디메르캅토프로필폴리디메틸실록산 (수평균 분자량 1600) 10 g, 글리시딜메타크릴레이트 30 g, 도데실메르캅탄 0.9 g, 1-메톡시-2-프로판올 200 g 을 첨가하고, 내부 온도를 질소 기류하 약 60 ℃ 까지 승온했다. 그 후 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) (V65) 를 2 회로 나누어 합계 1.2 g 첨가하고, 65 ℃ 에서 6 시간 교반을 계속했다. 그 후, 내부 온도를 80 ℃ 까지 올려 V65 를 완전하게 실활시킨 후, 실온으로 되돌렸다. 고형분 농도는 약 34 % 였다.50 g of perfluorohexylethyl methacrylate, 10 g of lauryl methacrylate, 10 g of?,? - dimercapto-polydimethylsiloxane (number average molecular weight 1600), 30 g of glycidyl methacrylate, 0.9 g of mercaptan and 200 g of 1-methoxy-2-propanol were added, and the internal temperature was raised to about 60 캜 under a nitrogen stream. Thereafter, a total of 1.2 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (V65) was divided into two portions, and stirring was continued at 65 ° C for 6 hours. Thereafter, the internal temperature was raised to 80 DEG C to completely inactivate V65, and the temperature was returned to room temperature. The solid concentration was about 34%.
다음으로 7 % 산소 분위기하, 90 ℃ 로 가열한 후, p-메톡시페놀 0.5 g, 트리페닐포스핀 4.6 g 을 첨가했다. 5 분 후, 아크릴산 15.5 g 을 1-메톡시프로필-2-아세테이트 54.5 g 에 용해하고, 30 분에 걸쳐 적하했다. 이 동안 액 온도를 90 ∼ 105 ℃ 로 유지했다. 그 후 액 온도를 110 ℃ 로 올리고, 이 온도에서 12 시간 유지한 후, 실온으로 되돌렸다. 고형분은 30 % 였다 (A-02).Next, the mixture was heated to 90 DEG C under a 7% oxygen atmosphere, then 0.5 g of p-methoxyphenol and 4.6 g of triphenylphosphine were added. After 5 minutes, 15.5 g of acrylic acid was dissolved in 54.5 g of 1-methoxypropyl-2-acetate and added dropwise over 30 minutes. During this time, the liquid temperature was maintained at 90 to 105 ° C. Thereafter, the solution temperature was raised to 110 DEG C, held at this temperature for 12 hours, and returned to room temperature. The solids content was 30% (A-02).
<합성예 3 : 중합체 (A-03) 의 합성>≪ Synthesis Example 3: Synthesis of Polymer (A-03) >
퍼플루오로헥실에틸메타크릴레이트 50 g, 라우릴메타크릴레이트 10 g, α,ω-디메르캅토프로필폴리디메틸실록산 (수평균 분자량 1600) 10 g, 글리시딜메타크릴레이트 30 g, 도데실메르캅탄 0.9 g, 1-메톡시-2-프로판올 200 g 을 첨가하고, 내부 온도를 질소 기류하 약 60 ℃ 까지 승온했다. 그 후 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) (V65) 를 2 회로 나누어 합계 1.2 g 첨가하고, 65 ℃ 에서 6 시간 교반을 계속했다. 그 후, 내부 온도를 80 ℃ 까지 올려, V65 를 완전하게 실활시킨 후, 실온으로 되돌렸다. 고형분 농도는 약 34 % 였다.50 g of perfluorohexylethyl methacrylate, 10 g of lauryl methacrylate, 10 g of?,? - dimercapto-polydimethylsiloxane (number average molecular weight 1600), 30 g of glycidyl methacrylate, 0.9 g of mercaptan and 200 g of 1-methoxy-2-propanol were added, and the internal temperature was raised to about 60 캜 under a nitrogen stream. Thereafter, a total of 1.2 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (V65) was divided into two portions, and stirring was continued at 65 ° C for 6 hours. Thereafter, the internal temperature was raised to 80 DEG C, V65 was completely deactivated, and the temperature was returned to room temperature. The solid concentration was about 34%.
다음으로 7 % 산소 분위기하, 90 ℃ 로 가열한 후, p-메톡시페놀 0.5 g, 트리페닐포스핀 4.6 g 을 첨가했다. 5 분 후, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 127.2 g 을 1-메톡시프로필-2-아세테이트 54.5 g 에 용해하고, 30 분에 걸쳐 적하했다. 이 동안 액 온도를 90 ∼ 105 ℃ 로 유지했다. 그 후 액 온도를 110 ℃ 로 올려, 이 온도에서 12 시간 유지한 후, 실온으로 되돌렸다. 고형분은 35 % 였다 (A-03).Next, the mixture was heated to 90 DEG C under a 7% oxygen atmosphere, then 0.5 g of p-methoxyphenol and 4.6 g of triphenylphosphine were added. After 5 minutes, 127.2 g of pentaerythritol tri (meth) acrylate was dissolved in 54.5 g of 1-methoxypropyl-2-acetate and added dropwise over 30 minutes. During this time, the liquid temperature was maintained at 90 to 105 ° C. Thereafter, the solution temperature was raised to 110 DEG C, held at this temperature for 12 hours, and returned to room temperature. The solids content was 35% (A-03).
또한, 주입 중량으로부터 산출한 불소 원자의 함유량은 12.1 중량%, 수산기의 함유량은 1.5 중량% 였다.The content of fluorine atoms calculated from the weight of the solution was 12.1% by weight, and the content of hydroxyl groups was 1.5% by weight.
<합성예 4 : 중합체 (A-04) 의 합성>Synthesis Example 4: Synthesis of Polymer (A-04)
퍼플루오로헥실에틸메타크릴레이트 50 g, 라우릴메타크릴레이트 10 g, 폴리디메틸실록산 함유 메타크릴레이트 (수평균 분자량 1000, 칫소사, FM0711) 10 g, 글리시딜메타크릴레이트 30 g, 도데실메르캅탄 0.9 g, 1-메톡시-2-프로판올 200 g 을 첨가하고, 내부 온도를 질소 기류하 약 60 ℃ 까지 승온했다. 그 후 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) (V65) 를 2 회로 나누어 합계 1.2 g 첨가하고, 65 ℃ 에서 6 시간 교반을 계속했다. 그 후, 내부 온도를 80 ℃ 까지 올려, V65 를 완전하게 실활시킨 후, 실온으로 되돌렸다. 고형분 농도는 약 34 % 였다.10 g of perfluorohexylethyl methacrylate, 10 g of lauryl methacrylate, 10 g of polydimethylsiloxane-containing methacrylate (number average molecular weight 1000, manufactured by Chisso Corporation, FM0711), 30 g of glycidyl methacrylate, 0.9 g of silmercaptan and 200 g of 1-methoxy-2-propanol were added, and the internal temperature was raised to about 60 캜 under a nitrogen stream. Thereafter, a total of 1.2 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (V65) was divided into two portions, and stirring was continued at 65 ° C for 6 hours. Thereafter, the internal temperature was raised to 80 DEG C, V65 was completely deactivated, and the temperature was returned to room temperature. The solid concentration was about 34%.
다음으로 7 % 산소 분위기하, 90 ℃ 로 가열한 후, p-메톡시페놀 0.5 g, 트리페닐포스핀 4.6 g 을 첨가했다. 5 분 후, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 127.2 g 을 1-메톡시프로필-2-아세테이트 54.5 g 에 용해하고, 30 분에 걸쳐 적하했다. 이 동안 액 온도를 90 ∼ 105 ℃ 로 유지했다. 그 후 액 온도를 110 ℃ 로 올려, 이 온도에서 12 시간 유지한 후, 실온으로 되돌렸다. 고형분은 35 % 였다 (A-04).Next, the mixture was heated to 90 DEG C under a 7% oxygen atmosphere, then 0.5 g of p-methoxyphenol and 4.6 g of triphenylphosphine were added. After 5 minutes, 127.2 g of pentaerythritol tri (meth) acrylate was dissolved in 54.5 g of 1-methoxypropyl-2-acetate and added dropwise over 30 minutes. During this time, the liquid temperature was maintained at 90 to 105 ° C. Thereafter, the solution temperature was raised to 110 DEG C, held at this temperature for 12 hours, and returned to room temperature. The solids content was 35% (A-04).
또한, 주입 중량으로부터 산출한 불소 원자의 함유량은 12.1 중량%, 수산기의 함유량은 1.5 중량% 였다.The content of fluorine atoms calculated from the weight of the solution was 12.1% by weight, and the content of hydroxyl groups was 1.5% by weight.
<참고 합성예 1 : 중합체 (X-01) 의 합성>Reference Synthesis Example 1: Synthesis of Polymer (X-01)
메틸메타크릴레이트 2 g, 글리시딜메타크릴레이트 98 g, 메르캅토프로필트리메톡시실란 3.3 g, 1-메톡시-2-프로판올 200 g 을 첨가하고, 내부 온도를 질소 기류하 약 60 ℃ 까지 승온했다. 그 후 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) (V65) 를 2 회로 나누어 합계 1.5 g 첨가하고, 65 ℃ 에서 6 시간 교반을 계속했다. 그 후, 내부 온도를 80 ℃ 까지 올려, V65 를 완전하게 실활시킨 후, 실온으로 되돌렸다. 고형분 농도는 약 34 % 였다.2 g of methyl methacrylate, 98 g of glycidyl methacrylate, 3.3 g of mercaptopropyltrimethoxysilane and 200 g of 1-methoxy-2-propanol were added and the internal temperature was adjusted to about 60 캜 It has warmed up. Thereafter, 1.5 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (V65) was added in two portions, and stirring was continued at 65 ° C for 6 hours. Thereafter, the internal temperature was raised to 80 DEG C, V65 was completely deactivated, and the temperature was returned to room temperature. The solid concentration was about 34%.
다음으로 공기 분위기하, 90 ℃ 로 가열한 후, p-메톡시페놀 0.1 g, 트리페닐포스핀 0.5 g 을 첨가했다. 5 분 후, 아크릴산 50.6 g 을 1-메톡시-2-프로판올 19 g 에 용해하고, 30 분에 걸쳐 적하했다. 이 동안 액 온도를 90 ∼ 105 ℃ 로 유지했다. 그 후 액 온도를 110 ℃ 로 올려, 이 온도에서 12 시간 유지한 후, 실온으로 되돌렸다. 고형분은 35 % 였다 (X-01).Next, the mixture was heated to 90 DEG C in an air atmosphere, and then 0.1 g of p-methoxyphenol and 0.5 g of triphenylphosphine were added. After 5 minutes, 50.6 g of acrylic acid was dissolved in 19 g of 1-methoxy-2-propanol and added dropwise over 30 minutes. During this time, the liquid temperature was maintained at 90 to 105 ° C. Thereafter, the solution temperature was raised to 110 DEG C, held at this temperature for 12 hours, and returned to room temperature. The solids content was 35% (X-01).
<참고 합성예 2 : 중합체 (X-02) 의 합성>Reference Synthesis Example 2: Synthesis of Polymer (X-02)
퍼플루오로헥실에틸메타크릴레이트 22 g, 라우릴메타크릴레이트 10 g, 메틸메타크릴레이트 68 g, 도데실메르캅탄 0.9 g, 1-메톡시-2-프로판올 200 g 을 첨가하고, 내부 온도를 질소 기류하 약 60 ℃ 까지 승온했다. 그 후 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) (V65) 를 2 회로 나누어 합계 1.2 g 첨가하고, 65 ℃ 에서 6 시간 교반을 계속했다. 그 후, 내부 온도를 80 ℃ 까지 올려, V65 를 완전하게 실활시킨 후, 실온으로 되돌렸다. 고형분 농도는 약 34 % 였다 (X-02).22 g of perfluorohexylethyl methacrylate, 10 g of lauryl methacrylate, 68 g of methyl methacrylate, 0.9 g of dodecyl mercaptan and 200 g of 1-methoxy-2-propanol were added, The temperature was raised to about 60 占 폚 under a nitrogen stream. Thereafter, a total of 1.2 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (V65) was divided into two portions, and stirring was continued at 65 ° C for 6 hours. Thereafter, the internal temperature was raised to 80 DEG C, V65 was completely deactivated, and the temperature was returned to room temperature. The solid concentration was about 34% (X-02).
[실시예 1-1 ∼ 1-11][Examples 1-1 to 1-11]
<수지 조성물의 조제 및 평가>≪ Preparation and evaluation of resin composition >
표 1 에 나타내는 배합 (중량비) 으로, 실시예 1-1 ∼ 1-11 및 비교예 1 ∼ 9 의 수지 조성물을 조제했다.Resin compositions of Examples 1-1 to 1-11 and Comparative Examples 1 to 9 were prepared in the formulations shown in Table 1 (weight ratio).
※ SP 값은 Fedors 의 추산법을 이용하여 산출했다 (참고 문헌 : R. F. Fedors : Polym. Eng. Sci., 14〔2〕, 147-154 (1974))* SP value was calculated using the Fedors estimation method (Reference: R. F. Fedors: Polym. Eng. Sci., 14 [2], 147-154 (1974))
※ 헵탄 (포화 탄화수소) 을 용매의 SP 값에는, 산입하지 않았다.※ Heptane (saturated hydrocarbon) was not included in the SP value of the solvent.
DPHA : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물 (닛폰 가야쿠사 제조 「KAYARAD DPHA」) DPHA: A mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate ("KAYARAD DPHA" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
M-313 : 이소시아누르산 EO 변성 디 및 트리아크릴레이트 (토아 합성사 제조 「아로닉스 M-313」) M-313: Isocyanuric acid EO-modified di- and triacrylate (Aronix M-313, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
irg184 : 하이드록시시클로헥실페닐케톤 (BASF 사 제조 「이르가큐어 184」) irg184: hydroxycyclohexyl phenyl ketone ("Irgacure 184" manufactured by BASF Corporation)
메가팍 F-555 : DIC 사 제조 「메가팍 F-555」Megafac F-555: "Megafac F-555" manufactured by DIC Corporation
후타젠토 710 FM : 네오스사 제조 「후타젠토 710 FM」Futagento 710 FM: "Futagento 710 FM" manufactured by Neos Corporation
MIBK : 메틸이소부틸케톤 MIBK: methyl isobutyl ketone
MEK : 메틸에틸케톤 MEK: methyl ethyl ketone
PGM : 1-메톡시-2-프로판올 PGM: 1-methoxy-2-propanol
PGMAc : 1-메톡시프로필-2-아세테이트PGMAc: 1-Methoxypropyl-2-acetate
상기와 같이 조제한 실시예 1-1 ∼ 1-9 및 비교예 1 ∼ 9 의 수지 조성물에 대해, 소포성을 평가했다.The resin compositions of Examples 1-1 to 1-9 and Comparative Examples 1 to 9 prepared as described above were evaluated for defoaming property.
평가 방법은 이하와 같다. 실시예 1-1 ∼ 1-9 및 비교예 1 ∼ 9 의 수지 조성물 15 ㎖ 를 각각, 내경 1.5 cm 의 30 ㎖ 용량의 유저 원통 형상의 용기에 넣고, 5 초간에 20 회 진탕 (진폭 10 ∼ 20 cm) 한 후 가만히 정지시키고, 액 표면의 기포가 사라질 때까지 필요로 하는 시간을 육안으로 측정하여, 「소포성」 을 3 단계 (◎ : 3 분 미만, ○ : 3 분 이상 20 분 미만, × : 20 분 이상) 로 평가했다. 또, 진탕 전의 액의 투명성·균일성을 관찰하여, 「외관」 으로서 2 단계 (○ : 투명, × : 백탁이나 침전이 있다) 로 평가했다. 결과를 표 2 에 나타낸다.The evaluation method is as follows. 15 ml of each of the resin compositions of Examples 1-1 to 1-9 and Comparative Examples 1 to 9 was placed in a cylindrical container having a capacity of 30 ml with an inner diameter of 1.5 cm and shaken 20 times for 5 seconds (⊚: less than 3 minutes, ∘: more than 3 minutes and less than 20 minutes, ×: less than 3 minutes), and the time required until the bubbles on the surface of the liquid disappeared was visually measured. : 20 minutes or more). In addition, transparency and uniformity of the liquid before shaking were observed and evaluated as "appearance" in two steps (o: transparent, ×: cloudy or precipitated). The results are shown in Table 2.
※ 괄호 내의 숫자는 액 표면의 기포가 사라지기까지의 시간을 나타낸다.* The numbers in parentheses indicate the time until the bubble on the liquid surface disappears.
표 2 에 나타내는 바와 같이, 실시예 1-1 ∼ 1-9 의 수지 조성물은 우수한 소포성을 나타냈다. 한편, 비교예 1 ∼ 7 의 수지 조성물은 기포가 발생하기 쉬운 데다가, 기포가 좀처럼 사라지지 않았다. 특히, 비교예 3 은 액이 백탁하여 관찰하기 어려워, 소포성의 평가를 할 수 없었다. 또한, 수산기를 갖고 플루오로알킬기를 갖지 않는 중합체를 사용한 비교예 8 이나, 수산기를 갖지 않고 플루오로알킬기를 갖는 중합체를 사용한 비교예 9 에 나타내는 바와 같이, 수지 조성물의 기포는 중합체 중에 존재하는 수산기 및 플루오로알킬기에서 기인한다.As shown in Table 2, the resin compositions of Examples 1-1 to 1-9 exhibited excellent defoaming properties. On the other hand, in the resin compositions of Comparative Examples 1 to 7, bubbles were easily generated, and bubbles were rarely lost. In particular, in Comparative Example 3, it was difficult to observe the liquid because the liquid was opaque, and evaluation of the defoaming property could not be made. Further, as shown in Comparative Example 8 using a polymer having a hydroxyl group and no fluoroalkyl group, and Comparative Example 9 using a polymer having no hydroxyl group and having a fluoroalkyl group, the bubbles of the resin composition are the hydroxyl groups and Lt; RTI ID = 0.0 > fluoroalkyl < / RTI >
<경화막의 제작 및 평가>≪ Preparation and evaluation of cured film &
상기와 같이 조제한 실시예 1-4, 1-5, 1-7 및 1-9 그리고 비교예 2 의 수지 조성물을 각각, PET 기재 (두께 188 ㎛) 에 막두께 3 ∼ 4 ㎛ 의 경화막이 형성되도록 도포하고, 그 후, 80 ℃ 에서 건조시켜, 용제를 제거하여 건조 피막을 형성했다. 이 도포막을 출력 밀도 120 W/cm 의 고압 수은등을 사용하여 파장 254 nm 의 자외선을 적산 광량 500 mJ/㎠ 가 되도록 통상적인 산소 농도 분위기하에서 조사하여 경화시켜 경화막을 얻었다.The resin compositions of Examples 1-4, 1-5, 1-7, 1-9, and 1-9 and Comparative Example 2 prepared as described above were each coated on a PET substrate (thickness 188 탆) so that a cured film having a thickness of 3-4 탆 was formed And then dried at 80 DEG C to remove the solvent to form a dried film. This coated film was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 254 nm at a power density of 120 W / cm 2 under a normal oxygen concentration atmosphere so as to obtain an accumulated light quantity of 500 mJ / cm 2 and cured to obtain a cured film.
상기와 같이 제작한 경화막에 대해, 이하의 (1) ∼ (6) 의 항목에 대해 평가했다.The following items (1) to (6) were evaluated for the cured film prepared as described above.
(1) 투명성 : JIS K-7105 에 따라 헤이즈미터 (무라카미 색채 기술 연구소 제조 「HAZE METER HM-65W」) 를 사용하여, 경화막의 헤이즈치를 측정했다.(1) Transparency: The haze value of the cured film was measured using a haze meter ("HAZE METER HM-65W" manufactured by Murakami Color Research Laboratory) according to JIS K-7105.
(2) 경도 : JIS 준거 연필 경도계 (타이유 기재사 제조) 를 사용하여, JIS K-5400 의 조건에 기초하여, 측정을 실시하고, 흠이 생기지 않는 가장 단단한 연필의 번수로 나타냈다.(2) Hardness: Measurement was carried out on the basis of the conditions of JIS K-5400 using a JIS-compliant pencil hardness tester (manufactured by Tairu Co., Ltd.) and expressed as the number of the hardest pencils without scratches.
(3) 발수 발유성 : 경화막을 온도 23 ℃, 습도 60 % RH 의 항온 실내에서 24 시간 가만히 정지시켜 상태를 조정한 후, 접촉각계 (쿄와 계면 과학사 제조 「Drop Master DM500」) 로, 경화막에 0.002 ㎖ 의 순수 또는 헥사데칸을 적하하고, 1 분 후에, 접촉각계 (쿄와 계면 과학 (주) 제조 Drop Master 500) 를 사용하여, 물에 대한 접촉각 및 헥사데칸에 대한 접촉각을 각각 측정했다 (단위 ; 도).(3) Water-repellent and oil repellency: The cured film was stopped for 24 hours in a constant-temperature chamber at a temperature of 23 占 폚 and a humidity of 60% RH to adjust the state. Thereafter, the cured film was cured with a contact angle meter (" Drop Master DM500 " 0.002 ml of pure water or hexadecane was added dropwise and 1 minute later, the contact angle to water and the contact angle to hexadecane were measured using a contact angle meter (Drop Master 500, Kyowa Interface Science Co., Ltd.) Unit).
(4) 밀착성 : JIS K5400 에 기재된 크로스 컷법으로 시험했다. 경화막에, 1 mm 간격으로 100 개의 바둑판 눈금을 넣어 셀로판 테이프 (니치반사 제조) 를 사용하여 시험했다. 동일한 조작을 5 회 반복하고 (셀로판 테이프는 항상 새로운 것을 사용했다), 전혀 흠이나 박리가 생기지 않는 것을 ○, 10 % 이하의 흠이나 박리가 생기는 것을 △, 그 이외를 ×, 로 하여 3 단계로 평가했다.(4) Adhesion: The test was conducted by the cross-cut method described in JIS K5400. The cured film was tested with a cellophane tape (manufactured by Nichibei Reflective Co., Ltd.) by inserting 100 checkerboard scales at intervals of 1 mm. The same operation was repeated five times (a cellophane tape was always replaced with a new one). The results were rated as?: No scratch or peeling occurred at all,?: No scratch or peeling occurred at 10% or less, I appreciated.
(5) 내매직 부착성 : 경화막에, 유성 매직 마커 (제브라 제조 막키 케어 극세 (흑) 의 세(細)) 로 선을 그리고, 30 초 후, 선이 겉돌고 있으면 ○, 겉돌고 있지 않으면 × 로 하여 2 단계로 평가했다.(5) Magic adhesion: A line is drawn on a cured film with a planar magic marker (Zebra Makishi-keika super fine (black)), and after 30 seconds, when the line is outward, ×, and evaluated in two steps.
(6) 매직 닦아냄 내구성 : 경화막에, 유성 매직 마커 (제브라 제조 막키 케어 극세 (흑) 의 세) 로 선을 그리고, 10 초 후, 표면을 티슈 페이퍼 (제조원 : 크레시아) 로 닦고, 이 작업을 반복하여, 닦여지지 않게 될 때까지의 횟수로부터, 8 ∼ 5 회를 ○, 4 ∼ 2 회를 △, 1 회를 × 로 하여 3 단계로 평가했다.(6) Magic wiping Durability: The surface of the woven fabric was wiped with a vaginal magic marker (three times of Zeroglyphic superfine (black) manufactured by Zebra), and after 10 seconds, the surface was wiped with tissue paper (Cressia) From the number of times until the operation was repeated until the wipes were not wiped, the evaluation was made in three steps from ∘ to 5, from 4 to 4, and from 1 to 1.
경화막의 평가 결과를 표 3 에 나타낸다.The evaluation results of the cured film are shown in Table 3.
본 발명의 수지 조성물을 경화하여 얻은 경화막은 투명성, 경도, 발수 발유성, 밀착성, 내오염성, 내오염성의 내구성 중 어느 것에 대해서도 양호했다.The cured film obtained by curing the resin composition of the present invention was good in transparency, hardness, water and oil repellency, adhesion, stain resistance and durability against stain resistance.
상기 실시예에 의해, 본 발명의 수지 조성물은 기포 발생성이 작고 레벨링성이 우수한 것이 나타났다. 또한, 본 발명의 수지 조성물은 경화시킴으로써, 경도가 높고, 내오염성 및 그 내구성, 발수 발유성, 그리고 밀착성이 우수한 경화물을 실현하는 것이 나타났다.According to the above examples, the resin composition of the present invention exhibited low bubble generating property and excellent leveling property. Further, by curing the resin composition of the present invention, it has been found to realize a cured product having high hardness, excellent stain resistance, excellent durability, water and oil repellency, and adhesion.
[실시예 2-1 ∼ 2-25][Examples 2-1 to 2-25]
<수지 조성물의 조제 및 평가>≪ Preparation and evaluation of resin composition >
표 4 에 나타내는 배합 (중량비) 으로, 실시예 및 비교예의 수지 조성물을 조제했다. 구체적으로는, 상기 서술한 합성예로 합성한 중합체, 다관능 아크릴레이트를 표 4 에 기재된 비율로 합계 100 중량부에 혼합하고, 중합체와 다관능 아크릴레이트의 혼합물 100 중량부에 대해, 개시제 및 첨가제를 표 4 에 기재된 비율로 각각 혼합했다. 거기에, 표 4 에 기재된 중량비로 용제를 첨가하고, 실시예 2-4, 2-5, 2-10, 2-11, 2-15 ∼ 2-18 에서는 포화 탄화수소도 첨가하여 수지 조성물을 조제했다.Resin compositions of Examples and Comparative Examples were prepared in the formulations shown in Table 4 (weight ratio). Concretely, the polymer and the polyfunctional acrylate synthesized in the above-mentioned synthesis examples were mixed in a total amount of 100 parts by weight in the ratio shown in Table 4, and 100 parts by weight of the mixture of the polymer and the polyfunctional acrylate was mixed with the initiator and the additive Were mixed in the proportions shown in Table 4, respectively. A solvent was added thereto in the weight ratios shown in Table 4, and saturated hydrocarbons were also added in Examples 2-4, 2-5, 2-10, 2-11, and 2-15 to 2-18 to prepare a resin composition .
※ SP 값은 Fedors 의 추산법을 이용하여 산출했다 (참고 문헌 : R. F. Fedors : Polym. Eng. Sci., 14〔2〕, 147-154 (1974))* SP value was calculated using the Fedors estimation method (Reference: R. F. Fedors: Polym. Eng. Sci., 14 [2], 147-154 (1974))
※ 헵탄 (포화 탄화수소) 을 용매의 SP 값에는, 산입하지 않았다.※ Heptane (saturated hydrocarbon) was not included in the SP value of the solvent.
DPHA : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물 (닛폰 가야쿠사 제조 「KAYARAD DPHA」) DPHA: A mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate ("KAYARAD DPHA" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
M-313 : 이소시아누르산 EO 변성 디 및 트리아크릴레이트 (토아 합성사 제조 「아로닉스 M-313」) M-313: Isocyanuric acid EO-modified di- and triacrylate (Aronix M-313, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
irg184 : 하이드록시시클로헥실페닐케톤 (BASF 사 제조 「이르가큐어 184」) irg184: hydroxycyclohexyl phenyl ketone ("Irgacure 184" manufactured by BASF Corporation)
메가팍 F-555 : DIC 사 제조 「메가팍 F-555」Megafac F-555: "Megafac F-555" manufactured by DIC Corporation
메가팍 F-477 : DIC 사 제조 「메가팍 F-477」Mega Park F-477: "Mega Park F-477" manufactured by DIC Corporation
메가팍 F-444 : DIC 사 제조 「메가팍 F-444」Megafac F-444: "Megafac F-444" manufactured by DIC Corporation
후타젠토 710 FM : 네오스사 제조 「후타젠토 710 FM」Futagento 710 FM: "Futagento 710 FM" manufactured by Neos Corporation
후타젠토 208G : 네오스사 제조 「후타젠토 208G」Futagento 208G: "Futagento 208G" manufactured by NEOS Corporation
후타젠토 215M : 네오스사 제조 「후타젠토 215M」Futagento 215M: "Futagento 215M" manufactured by NEOS Corporation
후타젠토 245F : 네오스사 제조 「후타젠토 245F」Futazento 245F: "Futazento 245F" manufactured by NEOS Corporation
MIBK : 메틸이소부틸케톤 MIBK: methyl isobutyl ketone
PGM : 1-메톡시-2-프로판올 PGM: 1-methoxy-2-propanol
PGMAc : 1-메톡시프로필-2-아세테이트PGMAc: 1-Methoxypropyl-2-acetate
또한, 실시예 및 비교예에서 사용한 첨가제의 물성값의 측정 방법은 이하와 같다. 용제의 SP 값은 문헌값 (IUPAC Gold Book-solubility parameter) 을 사용했다.Methods for measuring the physical properties of the additives used in Examples and Comparative Examples are as follows. The SP value of the solvent was determined using the literature value (IUPAC Gold Book-solubility parameter).
표면 장력 저하능은 표면 장력계 (쿄와 계면 화학사 제조 「Drop Master 시리즈」) 를 사용하여, 불소기 함유 올리고머의 1 % PGMAc 용액의 표면 장력을 측정하고, 「표면 장력 저하능 = PGMAc 의 표면 장력 - 1 % PGMAc 용액의 표면 장력」 으로서 산출했다.The surface tension was determined by measuring the surface tension of a 1% PGMAc solution of a fluorine group-containing oligomer using a surface tension meter (" Drop Master series " manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) - surface tension of 1% PGMAc solution ".
중량 평균 분자량은, GPC (토소사 제조 「HLC-8120GPC」) 를 사용하고, 용매로서 테트라하이드로푸란, 표준 샘플로서 폴리스티렌을 사용하여 측정된 것을 말한다. 또, 올리고머의 물성 측정 결과를 표 5 에 나타낸다.The weight average molecular weight refers to a value measured using GPC (HLC-8120GPC manufactured by Toso Co., Ltd.), tetrahydrofuran as a solvent, and polystyrene as a standard sample. Table 5 shows the results of measuring the physical properties of the oligomer.
상기와 같이 조제한 실시예 및 비교예의 수지 조성물에 대해, 소포성을 평가했다.The resin compositions of the prepared examples and comparative examples were evaluated for bubble resistance.
평가 방법은 이하와 같다. 실시예 및 비교예의 수지 조성물 15 ㎖ 를 각각 내경 1.5 cm 의 30 ㎖ 용량의 유저 원통 형상의 용기에 넣고, 5 초간에 20 회 진탕 (진폭 10 ∼ 20 cm) 한 후 가만히 정지시키고, 액 표면의 기포가 사라질 때까지 필요로 하는 시간을 육안으로 측정했다. 15 분 이상의 것은, 실제로는 생산성이 나쁘기 때문에, 비교예로 했다. 또, 진탕 전의 액의 투명성·균일성을 관찰하여, 「외관」 으로서 2 단계 (○ : 투명, × : 백탁이나 침전이 있다) 로 평가했다. 결과를 표 6 에 나타낸다.The evaluation method is as follows. 15 ml of the resin compositions of the examples and comparative examples were placed in a cylindrical container of 30 ml in inner diameter of 1.5 cm in inner diameter and shaken 20 times (amplitude: 10 to 20 cm) for 5 seconds, The time required for the disappearance of the test piece was visually measured. The above 15 minutes is actually a comparative example because the productivity is bad. In addition, transparency and uniformity of the liquid before shaking were observed and evaluated as "appearance" in two steps (o: transparent, ×: cloudy or precipitated). The results are shown in Table 6.
표 6 에 나타내는 바와 같이, 실시예의 수지 조성물은 우수한 소포성을 나타냈다. 한편, 비교예의 수지 조성물은 기포가 발생하기 쉬운 데다가, 기포가 좀처럼 사라지지 않았다.As shown in Table 6, the resin compositions of the examples exhibited excellent defoaming properties. On the other hand, in the resin composition of the comparative example, bubbles were easily generated, and the bubbles hardly disappeared.
<경화막의 제작 및 평가>≪ Preparation and evaluation of cured film &
상기와 같이 조제한 실시예 2-2, 2-4, 2-8 및 2-10 그리고 비교예 10 의 수지 조성물을 각각, PET 기재 (두께 188 ㎛) 에 막두께 3 ∼ 4 ㎛ 의 경화막이 형성되도록 도포하고, 그 후, 80 ℃ 에서 건조시켜, 용제를 제거하여 건조 피막을 형성했다. 이 도포막을 출력 밀도 120 W/cm 의 고압 수은등을 사용하여 파장 254 nm 의 자외선을 적산 광량 500 mJ/㎠ 가 되도록 통상적인 산소 농도 분위기하에서 조사하여 경화시켜 경화막을 얻었다.The resin compositions of Examples 2-2, 2-4, 2-8 and 2-10 and Comparative Example 10 prepared as described above were each coated on a PET substrate (188 占 퐉 thick) so that a cured film having a thickness of 3-4 占 퐉 was formed And then dried at 80 DEG C to remove the solvent to form a dried film. This coated film was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 254 nm at a power density of 120 W / cm 2 under a normal oxygen concentration atmosphere so as to obtain an accumulated light quantity of 500 mJ / cm 2 and cured to obtain a cured film.
상기와 같이 제작한 경화막에 대해, 이하의 (1) ∼ (6) 의 항목에 대해 평가했다.The following items (1) to (6) were evaluated for the cured film prepared as described above.
(1) 투명성 : JIS K-7105 에 따라 헤이즈미터 (무라카미 색채 기술 연구소 제조 「HAZE METER HM-65 W」) 를 사용하여, 경화막의 헤이즈치를 측정했다.(1) Transparency: The haze value of the cured film was measured using a haze meter ("HAZE METER HM-65 W" manufactured by Murakami Color Research Laboratory) according to JIS K-7105.
(2) 경도 : JIS 준거 연필 경도계 (타이유 기재사 제조) 를 사용하여 JIS K-5400 의 조건에 기초하여, 측정을 실시하고, 흠이 생기지 않는 가장 단단한 연필의 번수로 나타냈다.(2) Hardness: The measurement was carried out on the basis of the conditions of JIS K-5400 using a JIS-compliant pencil hardness tester (manufactured by Tairu Co., Ltd.) and expressed as the number of the hardest pencils without scratches.
(3) 발수 발유성 : 경화막을 온도 23 ℃, 습도 60 % RH 의 항온 실내에서 24 시간 가만히 정지시켜 상태를 조정한 후, 접촉각계 (쿄와 계면 과학사 제조 「Drop Master DM500」) 로, 경화막에 0.002 ㎖ 의 순수 또는 헥사데칸을 적하하고, 1 초 후에, 접촉각계 (쿄와 계면 과학 (주) 제조 Drop Master 500) 를 사용하여, 물에 대한 접촉각 및 헥사데칸에 대한 접촉각을 각각 측정했다 (단위 ; 도).(3) Water-repellent and oil repellency: The cured film was stopped for 24 hours in a constant-temperature chamber at a temperature of 23 占 폚 and a humidity of 60% RH to adjust the state. Thereafter, the cured film was cured with a contact angle meter (" Drop Master DM500 " And the contact angle with respect to water and the contact angle with respect to hexadecane were measured by using a contact angle meter (Drop Master 500, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) after 1 second of dropwise addition of 0.002 ml of pure water or hexadecane Unit).
(4) 밀착성 : JIS K5400 에 기재된 크로스 컷법으로 시험했다. 경화막에, 1 mm 간격으로 100 개의 바둑판 눈금을 넣어 셀로판 테이프 (니치반사 제조) 를 사용하여 시험했다. 동일한 조작을 5 회 반복하여 (셀로판 테이프는 항상 새로운 것을 사용했다), 전혀 흠이나 박리가 생기지 않은 것을 ○, 10 % 이하의 흠이나 박리가 생기는 것을 △, 그 이외를 × 로 하여 3 단계로 평가했다.(4) Adhesion: The test was conducted by the cross-cut method described in JIS K5400. The cured film was tested with a cellophane tape (manufactured by Nichibei Reflective Co., Ltd.) by inserting 100 checkerboard scales at intervals of 1 mm. The same operation was repeated five times (a cellophane tape was always replaced with a new one). All the samples were evaluated as having no flaws or peelings. The results were rated as?, 10% or less flaws or peelings occurred, did.
(5) 내매직 부착성 : 경화막에, 유성 매직 마커 (제브라 제조 막키 케어 극세 (흑) 의 세) 로 선을 그리고, 30 초 후, 선이 겉돌고 있으면 ○, 겉돌지 않으면 × 로 하여 2 단계로 평가했다.(5) Magnetic adhesion: A line was drawn on the cured film with a planetary magic marker (three times of superficial black mark made by zebra manufacturing). After 30 seconds, if the line was outward, .
(6) 매직 닦아냄 내구성 : 경화막에, 유성 매직 마커 (제브라 제조 막키 케어 극세 (흑) 의 세) 로 선을 그리고, 10 초 후, 표면을 티슈 페이퍼 (제조원 : 크레시아) 로 닦고, 이 작업을 반복하여, 닦여지지 않게 될 때까지의 횟수로부터, 8 ∼ 5 회를 ○, 4 ∼ 2 회를 △, 1 회를 × 로 하여 3 단계로 평가했다.(6) Magic wiping Durability: The surface of the woven fabric was wiped with a vaginal magic marker (three times of Zeroglyphic superfine (black) manufactured by Zebra), and after 10 seconds, the surface was wiped with tissue paper (Cressia) From the number of times until the operation was repeated until the wipes were not wiped, the evaluation was made in three steps from ∘ to 5, from 4 to 4, and from 1 to 1.
경화막의 평가 결과를 표 7 에 나타낸다.Table 7 shows the evaluation results of the cured film.
본 발명의 수지 조성물을 경화하여 얻은 경화막은 투명성, 경도, 발수 발유성, 밀착성, 내오염성, 내오염성의 내구성 중 어느 것에 대해서도 양호했다.The cured film obtained by curing the resin composition of the present invention was good in transparency, hardness, water and oil repellency, adhesion, stain resistance and durability against stain resistance.
상기 실시예에 의해, 본 발명의 수지 조성물은 기포 발생성이 작고 레벨링성이 우수한 것이 나타났다. 또한, 본 발명의 수지 조성물은 경화시킴으로써, 경도가 높고, 내오염성 및 그 내구성, 발수 발유성, 그리고 밀착성이 우수한 경화물을 실현하는 것이 나타났다.According to the above examples, the resin composition of the present invention exhibited low bubble generating property and excellent leveling property. Further, by curing the resin composition of the present invention, it has been found to realize a cured product having high hardness, excellent stain resistance, excellent durability, water and oil repellency, and adhesion.
산업상 이용가능성Industrial availability
본 발명에 의해, 기포 발생성이 작고, 기포가 발생하는 일이 있어도 소포성이 우수하고, 따라서, 형성되는 도포막에 결함을 발생하기 어려운 수지 조성물이 제공된다. 또한 이것을 물품 등의 표면에 얇게 도포하여 경화시키면, 그 물품 등에 우수한 경도, 내손상성, 투명성, 내오염성 및 그 내구성을 부여하는 경화막을 제공한다. 따라서, 본 발명의 수지 조성물은, 광 기록 매체 표면의 보호, 터치 패널이나 평면 디스플레이 등의 광학 디스플레이, 휴대전화 케이싱, 자동차 투명 부품 보호, 농업용 비닐 하우스 등의 투명부의 보호 등의 폭넓은 용도에 바람직하게 적용할 수 있기 때문에, 산업상 매우 유용하다.According to the present invention, there is provided a resin composition which is low in bubble generation property and bubbles to be generated, and which is excellent in defoaming property and therefore hardly causes defects in the formed coating film. Further, when it is coated thinly on the surface of an article or the like and cured, a cured film which gives excellent hardness, scratch resistance, transparency, stain resistance and durability to the article is provided. Therefore, the resin composition of the present invention is suitable for a wide range of applications such as protection of the surface of an optical recording medium, optical display such as a touch panel or a flat display, protection of a transparent part of a mobile phone casing, automotive transparent part protection, So it is very useful in industry.
Claims (20)
(메트)아크릴로일기 및 비닐기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 탄화수소계 모노머와,
포화 탄화수소를 0.01 ∼ 25 중량% 와,
SP 값이 10.0 이하의 용제를 함유하는 수지 조성물.A polymer having a hydroxyl group and a fluoroalkyl group and having a weight average molecular weight of 1000 or more,
(Meth) acryloyl group and a vinyl group, a hydrocarbon-based monomer containing at least one member selected from
0.01 to 25% by weight of saturated hydrocarbons,
A resin having an SP value of 10.0 or less.
상기 포화 탄화수소의 탄소수가 5 ∼ 18 인 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the saturated hydrocarbon has 5 to 18 carbon atoms.
(메트)아크릴로일기 및 비닐기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 탄화수소계 모노머와,
표면 장력 저하능이 2 mN/m 이상인 불소기 함유 올리고머와,
SP 값이 10.0 이하의 용제를 함유하는 수지 조성물.A polymer having a hydroxyl group and a fluoroalkyl group and having a weight average molecular weight of 1000 or more,
(Meth) acryloyl group and a vinyl group, a hydrocarbon-based monomer containing at least one member selected from
A fluorine group-containing oligomer having a surface tension lowering ability of 2 mN / m or more,
A resin having an SP value of 10.0 or less.
상기 중합체에 있어서의 수산기의 함유량이 0.2 ∼ 5.0 중량% 인 수지 조성물.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the polymer has a hydroxyl group content of 0.2 to 5.0% by weight.
상기 중합체에 있어서의 불소 원자의 함유량이 1.0 ∼ 34.0 중량% 인 수지 조성물.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the content of fluorine atoms in the polymer is 1.0 to 34.0% by weight.
상기 중합체가 측사슬에 불포화 이중 결합기를 갖는 수지 조성물.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the polymer has an unsaturated double bond group in a side chain.
상기 중합체가 폴리실록산 구조를 갖는 수지 조성물.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein the polymer has a polysiloxane structure.
상기 폴리실록산 구조 말단의 규소 또는 그 규소에 결합한 포화 탄화수소기가 산소 원자 또는 황 원자를 개재하여 상기 중합체의 주사슬에 결합되어 있는 수지 조성물.8. The method of claim 7,
Wherein the silicon at the terminal of the polysiloxane structure or the saturated hydrocarbon group bonded to the silicon is bonded to the main chain of the polymer via an oxygen atom or a sulfur atom.
상기 탄화수소계 모노머가 1 분자 중에 3 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트인 수지 조성물.9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Wherein the hydrocarbon-based monomer is a polyfunctional (meth) acrylate having at least three (meth) acryloyl groups in one molecule.
상기 불소기 함유 올리고머의 중량 평균 분자량이 5000 이상인 수지 조성물.10. The method according to any one of claims 3 to 9,
Wherein the fluorine group-containing oligomer has a weight average molecular weight of 5,000 or more.
상기 불소기 함유 올리고머가 비이온성인 수지 조성물.11. The method according to any one of claims 3 to 10,
Wherein the fluorine group-containing oligomer is nonionic.
수지 조성물 중의 불소기 함유 올리고머의 함유량이 수지 조성물 전체의 0.005 ∼ 10 중량% 인 수지 조성물.12. The method according to any one of claims 3 to 11,
Wherein the content of the fluorine group-containing oligomer in the resin composition is 0.005 to 10% by weight based on the whole resin composition.
상기 용제가 케톤계 용매, 알코올계 용매, 에테르계 용매, 에스테르계 용매 및 방향족 탄화수소 용매로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 용매인 수지 조성물.13. The method according to any one of claims 1 to 12,
Wherein the solvent is at least one solvent selected from the group consisting of a ketone-based solvent, an alcohol-based solvent, an ether-based solvent, an ester-based solvent and an aromatic hydrocarbon solvent.
탄소수가 5 ∼ 18 인 포화 탄화수소를 함유하는 수지 조성물.14. The method according to any one of claims 3 to 13,
And a saturated hydrocarbon having 5 to 18 carbon atoms.
라디칼 중합성 광 개시제를 함유하는 수지 조성물.15. The method according to any one of claims 1 to 14,
A resin composition containing a radical polymerizable photoinitiator.
상기 조성물에 활성 에너지선을 조사함으로써 얻은 경화물.17. The method of claim 16,
A cured product obtained by irradiating the composition with an active energy ray.
광학용으로 사용되는 성형품.19. The method of claim 18,
A molded article used for optical purposes.
광 기록 매체 또는 광학 디스플레이용 적층체인 성형품.20. The method of claim 19,
A molded article which is laminated for an optical recording medium or an optical display.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012071373 | 2012-03-27 | ||
JPJP-P-2012-071373 | 2012-03-27 | ||
JPJP-P-2012-172316 | 2012-08-02 | ||
JP2012172316 | 2012-08-02 | ||
PCT/JP2013/058774 WO2013146778A1 (en) | 2012-03-27 | 2013-03-26 | Resin composition for coating paint |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197032209A Division KR102078998B1 (en) | 2012-03-27 | 2013-03-26 | Resin composition for coating paint |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140138807A true KR20140138807A (en) | 2014-12-04 |
Family
ID=49260029
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR20147027349A KR20140138807A (en) | 2012-03-27 | 2013-03-26 | Resin composition for coating paint |
KR1020197032209A KR102078998B1 (en) | 2012-03-27 | 2013-03-26 | Resin composition for coating paint |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197032209A KR102078998B1 (en) | 2012-03-27 | 2013-03-26 | Resin composition for coating paint |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JP2014043547A (en) |
KR (2) | KR20140138807A (en) |
CN (1) | CN104220536B (en) |
TW (1) | TWI490242B (en) |
WO (1) | WO2013146778A1 (en) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106232633A (en) * | 2014-04-18 | 2016-12-14 | 日产化学工业株式会社 | Comprise the polymer resin composition of reactive organo-silicon compound |
JP6776508B2 (en) * | 2015-04-23 | 2020-10-28 | ダイキン工業株式会社 | Coating composition |
CN105110652A (en) * | 2015-08-25 | 2015-12-02 | 石海旺 | Hydrophobing agent for mobile phone screens |
CN106632876B (en) * | 2016-11-11 | 2018-12-25 | 浙江大学 | A kind of antifouling paint resin and preparation method thereof |
JP7074541B2 (en) * | 2017-05-10 | 2022-05-24 | リケンテクノス株式会社 | Hardcourt laminated film |
JPWO2019069822A1 (en) * | 2017-10-02 | 2020-10-22 | Agc株式会社 | Fluorine paint |
JP7172980B2 (en) * | 2018-01-31 | 2022-11-16 | 東レ株式会社 | NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT AND DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH CURED FILM, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF |
JP6546356B1 (en) * | 2018-03-28 | 2019-07-17 | 互応化学工業株式会社 | Coating resin composition |
EP3854826A4 (en) * | 2018-11-08 | 2022-06-22 | Daikin Industries, Ltd. | Coated particles, positive electrode, negative electrode, all-solid-state battery, and coating composition for sulfide-based all-solid-state batteries |
WO2020129381A1 (en) * | 2018-12-19 | 2020-06-25 | 太陽インキ製造株式会社 | Curable resin composition, dry film, cured article, and electronic component |
JP7202253B2 (en) * | 2019-05-10 | 2023-01-11 | 信越化学工業株式会社 | Radiation-curable organopolysiloxane composition and release sheet |
JP2020128560A (en) * | 2020-06-03 | 2020-08-27 | ダイキン工業株式会社 | Coating composition |
CN113956791A (en) * | 2021-10-06 | 2022-01-21 | 苏州世诺新材料科技有限公司 | Composition for forming hard coating, hard coating film and preparation method thereof |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63154714A (en) * | 1986-12-18 | 1988-06-28 | Kansai Paint Co Ltd | Curable composition |
DE3717668A1 (en) * | 1987-05-26 | 1988-12-15 | Hoechst Ag | ELECTRICALLY CONDUCTIVE COATING MEASUREMENT, METHOD FOR THEIR PRODUCTION AND THEIR USE |
CA2008020A1 (en) * | 1989-02-17 | 1990-08-17 | William C. Perkins | Radiation-curable coating compositions that form transparent, abrasion-resistant, tintable coatings |
JPH05287216A (en) * | 1992-04-08 | 1993-11-02 | Asahi Glass Co Ltd | Thick coating composition |
JPH10101991A (en) * | 1996-09-26 | 1998-04-21 | Toagosei Co Ltd | Production of resin solution for coating material |
JP2001261908A (en) | 2000-03-23 | 2001-09-26 | Daikin Ind Ltd | Fluoropolymer-based aqueous dispersion composition and coating composition |
JP4179306B2 (en) * | 2000-08-29 | 2008-11-12 | ダイキン工業株式会社 | Curable fluorine-containing polymer, curable resin composition and antireflection film using the same |
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KR100624898B1 (en) | 2004-11-29 | 2006-09-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | Lithium Secondary battery |
JP5125507B2 (en) * | 2005-04-13 | 2013-01-23 | Jsr株式会社 | Resin composition, cured film and laminate |
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JP2009102513A (en) * | 2007-10-23 | 2009-05-14 | Mitsubishi Chemicals Corp | Polymer, composition, cured material, and optical recording medium |
KR101553079B1 (en) * | 2008-04-28 | 2015-09-14 | 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 | Active energy ray-curable resin composition cured film laminate optical recording medium and method for producing cured film |
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-
2013
- 2013-03-26 JP JP2013064363A patent/JP2014043547A/en active Pending
- 2013-03-26 WO PCT/JP2013/058774 patent/WO2013146778A1/en active Application Filing
- 2013-03-26 KR KR20147027349A patent/KR20140138807A/en not_active Application Discontinuation
- 2013-03-26 KR KR1020197032209A patent/KR102078998B1/en active IP Right Grant
- 2013-03-26 CN CN201380017065.0A patent/CN104220536B/en active Active
- 2013-03-27 TW TW102110835A patent/TWI490242B/en active
-
2014
- 2014-01-10 JP JP2014003335A patent/JP5720808B2/en active Active
- 2014-01-10 JP JP2014003336A patent/JP2014062274A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2013146778A1 (en) | 2013-10-03 |
CN104220536A (en) | 2014-12-17 |
TW201345935A (en) | 2013-11-16 |
TWI490242B (en) | 2015-07-01 |
JP2014062274A (en) | 2014-04-10 |
JP2014043547A (en) | 2014-03-13 |
KR102078998B1 (en) | 2020-02-19 |
JP2014062273A (en) | 2014-04-10 |
KR20190126447A (en) | 2019-11-11 |
JP5720808B2 (en) | 2015-05-20 |
CN104220536B (en) | 2017-06-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
N231 | Notification of change of applicant | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
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E601 | Decision to refuse application | ||
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