KR20100057227A - Work process and system for dispensing resin - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 레진도포 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 레진을 분사하는 헤드의 작동 범위 안에 기판에 레진이 도포될 수 있는 레진도포구역을 여러 개 두어 레진도포 작업을 대기시간 없이 연속적으로 실행할 수 있는 레진도포 작업방법 및 레진도포 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a resin coating system, and more particularly, it is possible to continuously perform a resin coating operation without waiting time by placing a plurality of resin coating zones on which a resin can be applied to a substrate within the operating range of the head for injecting the resin. The present invention relates to a resin application method and a resin application system.
일반적으로, 반도체 칩은 금속볼(Bump)과 같은 미세한 도전성 부재를 통해 회로 패턴이 형성되어 있는 기판에 전기적으로 연결된다. 기판의 일면에 다수의 금속볼을 배열하고 그 위에 반도체 칩을 올려놓은 후 열을 가하면, 금속볼의 일부가 녹으면서 반도체 칩이 기판에 결합된다. 그런데 금속볼의 접착력 만으로는 반도체 칩과 기판 사이의 결합력이 약하기 때문에, 반도체 칩과 기판의 사이에 에폭시수지와 같은 점성 있는 레진(Resin)을 도포하여 결합력을 높여주어야 한다.In general, a semiconductor chip is electrically connected to a substrate on which a circuit pattern is formed through a fine conductive member such as a metal ball. When a plurality of metal balls are arranged on one surface of the substrate, the semiconductor chip is placed on the substrate, and heat is applied to the semiconductor chip to be bonded to the substrate while a part of the metal balls are melted. However, since the bonding force between the semiconductor chip and the substrate is weak only by the adhesive force of the metal ball, a viscous resin such as epoxy resin should be applied between the semiconductor chip and the substrate to increase the bonding strength.
금속볼에 의해 기판에 연결된 반도체 칩의 둘레에 레진을 도포하면, 레진이 모세관 현상에 의해 반도체 칩과 기판의 사이의 공간으로 스며들어 금속볼들 사이의 공간을 채우게 된다. 이러한 공정을 언더필(Underfill)이라 하며, 이러한 언더 필 공정에 레진도포 시스템이 이용된다. 금속볼들 사이의 공간을 채운 레진은 반도체 칩과 기판 사이의 결합력을 높여줄 뿐만 아니라, 외부의 충격을 완화시키고, 절연성을 부여하며, 재료들의 열팽창 계수 차이에 의해 발생되는 열응력에 대응하여 반도체 칩, 금속볼, 기판을 안정적으로 잡아주는 역할을 한다.When the resin is applied around the semiconductor chip connected to the substrate by the metal balls, the resin penetrates into the space between the semiconductor chip and the substrate by capillary action to fill the space between the metal balls. This process is called underfill, and a resin coating system is used for this underfill process. The resin filling the space between the metal balls not only increases the bonding force between the semiconductor chip and the substrate, but also alleviates external impact, provides insulation, and responds to the thermal stress generated by the difference in thermal expansion coefficient of the materials. It serves to hold chips, metal balls, and substrates reliably.
레진도포 시스템은 대상 부위에 레진을 분사하기 위한 헤드를 포함하고, 이 헤드는 이동장치에 탑재되어 전후좌우로 이동하면서 레진도포 작업을 수행한다. 이동장치에 의한 헤드의 이동 범위는 제한적이므로, 기판은 컨베이어에 의해 헤드의 작동 범위까지 이송된다. 레진도포 작업이 종료되면 기판은 다시 컨베이어에 의해 언로딩 위치까지 이송된다.The resin application system includes a head for injecting a resin onto a target site, which is mounted on a moving device to move the resin back, forth, left, and right to perform the resin application. Since the moving range of the head by the moving device is limited, the substrate is transferred by the conveyor to the operating range of the head. When the resin coating operation is finished, the substrate is transferred back to the unloading position by the conveyor.
그런데 종래 레진도포 시스템은, 헤드에 의해 레진도포 작업이 이루어지는 레진도포구역이 하나의 컨베이어 상에 형성되어 있어서, 레진도포 작업이 연속적으로 실행되지 못한다. 즉, 레진도포구역에 위치하는 기판에 레진이 도포된 후, 작업 완료된 기판을 언로딩 위치까지 이동시키고 새로운 기판을 레진도포구역까지 이송시키는 동안 헤드가 대기 상태에 있게 된다. 따라서, 작업시간이 길어지고 작업이 비효율적이다.By the way, in the conventional resin application system, the resin application area | region in which resin application operation | work is performed by the head is formed on one conveyor, and resin application operation | work cannot be performed continuously. That is, after the resin is applied to the substrate located in the resin application zone, the head is in the standby state while moving the finished substrate to the unloading position and transferring the new substrate to the resin application zone. Therefore, the working time is long and the work is inefficient.
그리고 기술의 발전으로 헤드의 레진 분사 속도가 점점 고속화되고 있으므로, 헤드의 대기 시간이 길어지면 헤드의 구조 개선 효과가 떨어지게 된다.In addition, since the resin injection speed of the head is gradually increased due to the development of the technology, the longer the waiting time of the head, the less the effect of improving the structure of the head.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 레진을 분사하는 헤 드의 작동 범위 안에 기판에 레진이 도포되는 레진도포구역을 여러 개 두어 하나의 헤드로 레진도포 작업을 대기 시간없이 연속적으로 실행할 수 있는 레진도포 작업방법 및 레진도포 시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above problems, by placing a plurality of resin coating area in which the resin is applied to the substrate within the operating range of the head for discharging the resin to execute the resin coating operation continuously without waiting time with one head The purpose of the present invention is to provide a resin coating method and a resin coating system.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 레진도포 시스템은, 기판 이송을 위한 제 1 이송경로를 갖는 제 1 이송수단과, 기판 이송을 위해 상기 제 1 이송경로와 평행한 제 2 이송경로를 갖는 제 2 이송수단과, 상기 제 1 이송경로 및 상기 제 2 이송경로를 따라 이송되는 기판에 레진을 도포하는 헤드 유닛과, 상기 헤드 유닛을 이동시키기 위한 이동 유닛과, 상기 제 1 이송경로 및 상기 제 2 이송경로를 따라 이송되는 기판을 상기 헤드 유닛의 작동 범위 내에 일시 정지시켰다가 레진 도포가 완료되면 다시 이송키도록 상기 제 1 이송수단과 상기 제 2 이송수단 각각을 제어하는 컨트롤 유닛을 포함한다. 컨트롤 유닛은 상기 헤드 유닛이 상기 제 1 이송경로 상에 정지된 기판 및 상기 제 2 이송경로 상에 정지된 기판에 번갈아 레진을 도포하도록 상기 헤드 유닛을 제어한다.Resin coating system according to the present invention for achieving the above object, the first transfer means having a first transfer path for substrate transfer, and the second transfer path having a second transfer path parallel to the first transfer path for substrate transfer A conveying means, a head unit for applying resin to the substrate conveyed along the first conveying path and the second conveying path, a moving unit for moving the head unit, the first conveying path and the second conveying path And a control unit for controlling each of the first transfer means and the second transfer means to pause the substrate to be transferred along a transfer path within an operating range of the head unit and to transfer the resin again when the resin is applied. The control unit controls the head unit such that the head unit alternately applies resin to the substrate stationary on the first transport path and the substrate stationary on the second transport path.
본 발명에 의한 레진도포 시스템은, 상기 제 1 이송수단에 의해 이송되는 기판을 상기 헤드 유닛의 작동 범위 내에 정지시키기 위해 상기 헤드 유닛의 작동 범위로 이송된 기판을 감지하는 제 1 감지장치와, 상기 제 2 이송수단에 의해 이송되는 기판을 상기 헤드 유닛의 작동 범위 내에 정지시키기 위해 상기 헤드 유닛의 작동 범위로 이송된 기판을 감지하는 제 2 감지장치를 더 포함할 수 있다.Resin coating system according to the present invention, the first sensing device for detecting the substrate transferred to the operating range of the head unit to stop the substrate conveyed by the first transfer means within the operating range of the head unit, and The apparatus may further include a second sensing device configured to sense the substrate transferred to the operating range of the head unit to stop the substrate transferred by the second transfer means within the operating range of the head unit.
본 발명에 의한 레진도포 시스템은, 상기 컨트롤 유닛에 의해 제어되며, 레 진 도포된 기판이 상기 제 1 이송경로 및 상기 제 2 이송경로를 따라 상기 헤드 유닛의 작동 범위에서 벗어나면, 상기 제 1 이송수단 및 상기 제 2 이송수단에 새로운 기판을 로딩시키는 로딩 유닛을 더 포함할 수 있다.The resin application system according to the present invention is controlled by the control unit, and if the resin-coated substrate is out of the operating range of the head unit along the first conveyance path and the second conveyance path, the first conveyance And a loading unit for loading a new substrate into the means and the second transfer means.
본 발명에 의한 레진도포 시스템은, 상기 제 1 이송경로를 따라 이송되는 기판을 가열하기 위해 상기 제 1 이송경로 중에 배치된 제 1 가열수단과, 상기 제 2 이송경로를 따라 이송되는 기판을 가열하기 위해 상기 제 2 이송경로 중에 배치된 제 2 메인 히터를 더 포함할 수 있다.Resin coating system according to the present invention, the first heating means disposed in the first conveying path for heating the substrate conveyed along the first conveying path and the substrate conveyed along the second conveying path It may further include a second main heater disposed in the second transfer path.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 레진도포 작업방법은, a) 제 1 이송수단을 이용하여 기판을 제 1 이송경로 중의 제 1 레진도포구역까지 이송시키는 단계와, b) 레진 도포를 위한 헤드 유닛을 상기 제 1 레진도포구역으로 이동시켜 상기 제 1 레진도포구역에 있는 기판에 레진을 도포하는 단계와, c) 상기 제 1 레진도포구역에서 레진 도포가 완료되기 전에, 제 2 이송수단을 이용하여 기판을 상기 제 1 이송경로와 평행하게 배치된 제 2 이송경로 중의 제 2 레진도포구역까지 이송시키는 단계와, d) 상기 제 1 레진도포구역에서 레진 도포가 완료되면, 상기 헤드 유닛을 상기 제 2 레진도포구역으로 이동시켜 상기 제 2 레진도포구역에 있는 기판에 레진을 도포하는 단계와, e) 상기 제 1 레진도포구역에서 레진 도포가 완료된 기판을 상기 제 1 이송경로를 따라 상기 제 1 레진도포구역에서 이탈시키는 단계와, f) 상기 제 2 레진도포구역에서 레진 도포가 완료되기 전에, 상기 제 1 이송수단을 이용하여 새로운 기판을 상기 제 1 레진도포구역까지 이송시키는 단계와, g) 상기 d) 단계가 완료되면, 상기 헤드 유닛을 상기 제 1 레진도포구역으로 이동 시켜 상기 제 1 레진도포구역에 대기하고 있는 기판에 레진을 도포하는 단계와, h) 상기 제 2 이송수단을 이용하여 상기 제 2 레진도포구역에서 레진 도포가 완료된 기판을 상기 제 2 이송경로를 따라 상기 제 2 레진도포구역에서 이탈시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Resin coating method according to the present invention for achieving the above object, a) using a first transfer means for transferring the substrate to the first resin coating area of the first transfer path, and b) a head for applying the resin Moving a unit to the first resin application zone to apply resin to the substrate in the first resin application zone, and c) using a second transfer means before the application of resin in the first resin application zone is completed. Transferring the substrate to a second resin application zone in a second transport path arranged in parallel with the first transport path; and d) when the resin is applied in the first resin application zone, the head unit is moved. 2 is applied to the substrate in the second resin coating zone by moving to the resin coating zone, and e) the first transfer path to the substrate on which the resin coating is completed in the first resin coating zone Accordingly, leaving the first resin application zone, and f) transferring the new substrate to the first resin application zone by using the first transfer means before the resin is applied in the second resin application zone. And g) when step d) is completed, moving the head unit to the first resin application zone to apply resin to a substrate waiting in the first resin application zone; and h) the second transfer. And using the means to separate the substrate from which the resin is applied in the second resin application zone from the second resin application zone along the second transfer path.
여기에서, 상기 a) 단계에서 제 1 감지장치를 이용하여 기판이 상기 제 1 레진도포구역으로 이송되면 이를 감지하여 상기 제 1 이송수단을 정지시키고, 상기 c) 단계에서 제 2 감지장치를 이용하여 기판이 상기 제 2 레진도포구역으로 이송되면 이를 감지하여 상기 제 2 이송수단을 정지시키고, 상기 e) 단계는 상기 제 1 이송수단을 작동시켜 레진 도포가 완료된 기판을 상기 제 1 이송경로 중의 상기 제 1 레진도포구역보다 하류로 이송시키고, 상기 h) 단계는 상기 제 2 이송수단을 작동시켜 레진 도포가 완료된 기판을 상기 제 2 이송경로 중의 상기 제 2 레진도포구역보다 하류로 이송시킬 수 있다.Here, in step a), when the substrate is transferred to the first resin application zone by using the first sensing device, the first sensing means is stopped by using the second sensing device in step c). When the substrate is transferred to the second resin application zone, the sensing unit stops the second transfer means, and the step e) operates the first transfer means to transfer the resin-coated substrate to the second transfer path. The first step of transferring the resin downstream than the resin coating zone, and in step h) may operate the second transfer means to transfer the substrate on which the resin is applied to the downstream of the second resin coating zone in the second transfer path.
본 발명에 의한 레진도포 방법은, 상기 제 1 이송경로를 따라 이송되는 기판을 가열하는 단계와, 상기 제 2 이송경로를 따라 이송되는 기판을 가열하는 단계를 더 포함할 수 있다.The resin coating method according to the present invention may further include heating the substrate transferred along the first transfer path, and heating the substrate transferred along the second transfer path.
본 발명에 의한 레진도포 시스템은, 기판이 복수의 이송경로를 따라 복열로 헤드 유닛의 작동 범위로 공급되고, 헤드 유닛이 복수의 이송경로를 따라 이송된 기판들에 번갈아 레진을 도포하기 때문에, 레진도포 작업이 헤드 유닛의 대기 시간없이 연속적으로 실행될 수 있다. 따라서, 작업시간을 크게 줄일 수 있고, 헤드 유 닛을 비롯한 구성부품들의 작동 효율을 높일 수 있다.In the resin application system according to the present invention, since the substrate is supplied to the operating range of the head unit in a double row along a plurality of transport paths, and the head unit alternately applies resin to the substrates transported along the plurality of transport paths, The application operation can be carried out continuously without waiting time of the head unit. Therefore, the working time can be greatly reduced, and the operating efficiency of the components including the head unit can be improved.
또한, 본 발명에 의한 레진도포 시스템은, 복수의 이송경로를 통해 다른 종류의 기판이 헤드 유닛의 작동 범위로 동시에 공급될 수 있기 때문에, 다른 종류의 기판에 대한 레진도포 작업을 동시에 수행할 수 있다.In addition, since the resin coating system according to the present invention can be supplied simultaneously to the operating range of the head unit through a plurality of transfer paths, it is possible to carry out a resin coating operation for other substrates at the same time. .
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 의한 레진도포 시스템에 대하여 상세히 설명한다. 도면에서 구성요소의 크기와 형상 등은 발명의 이해를 돕기 위해 과장되거나 단순화되어 나타날 수 있다.Hereinafter, a resin coating system according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the size and shape of the components, etc. may be exaggerated or simplified to aid in understanding the invention.
도 1 및 도 2에 도시된 것과 같이, 본 발명의 일실시예에 의한 레진도포 시스템(100)은, 기판(S)을 이송시키기 위한 제 1 컨베이어(110) 및 제 2 컨베이어(120), 제 1 컨베이어(110) 및 제 2 컨베이어(120)에 의해 이송되는 기판(S)에 레진을 도포하는 헤드 유닛(130), 헤드 유닛(130)을 이동시키는 이동 유닛(140), 이송되는 기판(S)을 가열하기 위한 제 1 가열수단 및 제 2 가열수단, 제 1 컨베이어(110) 및 제 2 컨베이어(120)에 기판(S)을 로딩(Loading)하기 위한 로딩 유닛(170), 제 1 컨베이어(110) 및 제 2 컨베이어(120)에서 기판(S)을 언로딩(Unloading)하기 위한 언로딩 유닛(180), 시스템의 전체적인 동작을 제어하는 컨트롤 유닛(190)을 포함한다.As shown in Figure 1 and 2, the
이러한 본 발명의 일실시예에 의한 레진도포 시스템(100)은, 헤드 유닛(130)이 일정한 작동 범위 내에서 이동하면서 제 1 컨베이어(110)에 의해 이송되는 기판(S)과 제 2 컨베이어(120)에 의해 이송되는 기판(S)에 번갈아 레진을 도포할 수 있기 때문에, 레진도포 작업이 연속적으로 이루어지고 작업시간을 단축시킬 수 있다.In the
도 3에 도시된 것과 같이, 제 1 컨베이어(110)와 제 2 컨베이어(120)는 베이스(101) 위에 서로 평행하게 배치된다. 제 1 컨베이어(110)는 기판(S)을 로딩 유닛(170)에서 언로딩 유닛(180)까지 이송시키기 위한 것으로, 로딩 유닛(170)에서 언로딩 유닛(180)까지 연장된 직선의 제 1 이송경로(111)를 갖는다. 제 2 컨베이어(120)는 제 1 이송경로(111)와 평행한 제 2 이송경로(121)를 갖는다.As shown in FIG. 3, the
제 1 컨베이어(110)는 기판(S) 폭에 대응하는 간격으로 나란하게 배치된 제 1 무빙 레일(112) 및 제 2 무빙 레일(113)로 구성된다. 제 1 무빙 레일(112) 및 제 2 무빙 레일(113)은 제 1 구동장치(114)에 의해 동일한 속도로 작동하고, 기판(S)의 양쪽 측면 각각을 지지한 상태로 기판(S)을 제 1 이송경로(111)를 따라 이송시킨다. 제 2 컨베이어(120)는 기판(S) 폭에 대응하는 간격으로 나란하게 배치된 제 3 무빙 레일(122) 및 제 4 무빙 레일(123)로 구성된다. 제 3 무빙 레일(122) 및 제 4 무빙 레일(123)은 제 2 구동장치(124)의 구동력에 의해 동일한 속도로 작동하고, 기판(S)의 양쪽 측면 각각을 지지한 상태로 기판(S)을 제 2 이송경로(121)를 따라 이송시킨다.The
제 1 컨베이어(110)와 제 2 컨베이어(120)에 의한 기판(S)의 이송 동작은 제 1 구동장치(114)와 제 2 구동장치(124)의 동작에 의해 제어된다. 그리고 제 1 구동장치(114)와 제 2 구동장치(124)는 컨트롤 유닛(190)에 의해 제어된다. 컨트롤 유닛(190)은 제 1 컨베이어(110)와 제 2 컨베이어(120)에 기판(S)이 로딩되면, 제 1 구동장치(114) 및 제 2 구동장치(124)를 작동시켜 기판(S)을 헤드 유닛(130)의 작동 범위까지 이송시킨다. 제 1 이송경로(111) 중에는 제 1 컨베이어(110)에 의해 이송되는 기판(S)이 정지된는 제 1 레진도포구역(115)이 있고, 제 2 이송경로(121) 중에는 제 2 컨베이어(120)에 의해 이송되는 기판(S)이 정지되는 제 2 레진도포구역(125)이 존재한다. 제 1 레진도포구역(115) 및 제 2 레진도포구역(125)은 헤드 유닛(130)이 기판(S)에 레진을 도포할 수 있도록 헤드 유닛(130)의 작동 범위 내에 위치한다.The transfer operation of the substrate S by the
제 1 컨베이어(110) 및 제 2 컨베이어(120)에 의해 이송되는 기판(S)을 제 1 레진도포구역(115) 및 제 2 레진도포구역(125) 각각에 정지시키기 위해, 제 1 이송경로(111) 및 제 2 이송경로(121) 각각에는 기판(S)을 감지하기 위한 제 1 감지장치(116) 및 제 2 감지장치(126)가 설치된다. 제 1 감지장치(116)는 제 1 레진도포구역(115)에 인접하여 제 1 레진도포구역(115)의 전방에 배치되고, 제 2 감지장치(126)는 제 2 레진도포구역(125)에 인접하여 제 2 레진도포구역(125)의 전방에 배치된다.In order to stop the substrate S conveyed by the
기판(S)이 제 1 이송경로(111)를 따라 이송되다가 기판(S)의 일단이 타단이 제 1 감지장치(116)를 통과하면, 제 1 감지장치(116)가 이를 감지하여 감지신호를 컨트롤 유닛(190)으로 전달한다. 이때, 컨트롤 유닛(190)이 제 1 구동장치(114)를 정지시킴으로써 기판(S)을 제 1 레진도포구역(115)에 위치시킬 수 있다. 마찬가지로, 기판(S)이 제 2 이송경로(121)를 따라 이송될 때, 제 2 감지장치(126)의 감지신호에 의해 제 2 구동장치(124)가 정지함으로써 기판(S)이 제 2 레진도포구 역(125)에 위치할 수 있다.When the substrate S is transferred along the
본 발명에 있어서, 기판(S)을 로딩 위치에서 언로딩 위치까지 이송시키기 위한 각 이송수단은 도시되고 설명된 컨베이어 구조로 한정되지 않는다. 이송수단은 기판(S)을 복열로 이송시킬 수 있도록 복수의 이송경로를 갖는 다양한 다른 구조로 변경될 수 있다. 그리고 제 1 레진도포구역(115) 및 제 2 레진도포구역(125)으로 이송되는 기판(S)을 감지하기 위한 제 1 감지장치(116) 및 제 2 감지장치(126)는 다른 구조의 것으로 변경될 수 있다. 또한, 제 1 컨베이어(110)와 제 2 컨베이어(120)의 폭은 서로 다를 수 있다. 이 경우 서로 다른 종류의 기판을 동시에 이송시킬 수 있기 때문에, 다른 종류의 기판에 대한 레진도포 작업을 동시에 수행할 수 있다.In the present invention, each conveying means for conveying the substrate S from the loading position to the unloading position is not limited to the conveyor structure shown and described. The transfer means may be changed to various other structures having a plurality of transfer paths so as to transfer the substrate S in a double row. In addition, the
도 4를 참조하면, 헤드 유닛(130)은 대기 위치에 파킹(Parking)되어 있다가, 기판(S)이 제 1 레진도포구역(115) 및/또는 제 2 레진도포구역(125)까지 이송되어 오면 작동하여 기판(S)에 레진을 도포한다. 헤드 유닛(130)은 레진을 분사하기 위한 헤드(131)와, 헤드(131)와 함께 이동하면서 기판(S) 상에 레진이 도포되어야 할 위치를 검출하는 비전 장치(135)를 포함한다. 헤드(131)는, 레진 저장수단인 시린지(132), 레진을 분사하는 노즐(133), 시린지(132)에 저장된 레진을 노즐(133)로 압송시키는 펌핑 수단(134)을 포함한다. 이러한 헤드 유닛(130)은 통상적으로 것과 같은 것이므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Referring to FIG. 4, the
헤드 유닛(130)은 이동 유닛(140)에 의해 제 1 이송경로(111) 및 제 2 이송경로(121)와 평행한 방향 및 제 1 이송경로(111) 및 제 2 이송경로(121)와 수직인 방향으로 이동한다. 이동 유닛(140)은, 제 1 이송경로(111) 및 제 2 이송경로(121)와 수직으로 배치된 제 1 고정 빔(141) 및 제 2 고정 빔(144)과, 제 1 이송경로(111) 및 제 2 이송경로(121)와 수평인 방향으로 연장된 이동 빔(147)을 포함한다. 제 1 고정 빔(141)은 베이스(101)에 고정된 한 쌍의 기둥(142)에 지지되어 있고, 제 2 고정 빔(144)은 제 1 고정 빔(141)을 지지하는 한 쌍의 기둥(142) 각각과 이격되도록 베이스(101)에 고정된 한 쌍의 기둥(146)에 지지되어 있다. 이동 빔(147)은 제 1 고정 빔(141)과 제 2 고정 빔(144)을 가로지르도록 그 양쪽 단부가 제 1 고정 빔(141) 및 제 2 고정 빔(144) 각각에 지지되어 있다.The
제 1 고정 빔(141)에는 제 1 가이드 레일(143)이 제 1 고정 빔(141)과 평행하게 결합되어 있고, 제 2 고정 빔(144)에는 제 2 가이드 레일(145)이 제 2 고정 빔(144)과 평행하게 결합되어 있으며, 이동 빔(147)에는 제 3 가이드 레일(148)이 이동 빔(147)과 평행하게 결합되어 있다. 이동 빔(147)은 양쪽 단부가 제 1 가이드 레일(143)에 슬라이드 이동 가능하게 결합된 제 1 슬라이더(151) 및 제 2 가이드 레일(145)에 슬라이드 이동 가능하게 결합된 제 2 슬라이더(152) 각각에 결합되어 있다.A
따라서, 이동 빔(147)은 제 1 가이드 레일(143) 및 제 2 가이드 레일(145)을 따라 제 1 이송경로(111) 및 제 2 이송경로(121)와 수직 방향으로 이동할 수 있다. 그리고 헤드 유닛(130)은 제 3 가이드 레일(148)에 슬라이드 이동 가능하게 결합된 제 3 슬라이더(153)에 결합되어 있다. 따라서, 헤드 유닛(130)은 제 3 슬라이더(153)에 의해 제 3 가이드 레일(148)을 따라 제 1 이송경로(111) 및 제 2 이송경 로(121)와 평행한 방향으로 이동할 수 있고, 이동 빔(147)이 이동하는 것에 의해 제 1 이송경로(111) 및 제 2 이송경로(121)와 수직인 방향으로도 이동할 수 있다.Therefore, the moving
이동 유닛(140)에 의해 헤드 유닛(130)이 이동 가능한 범위는 제 1 레진도포구역(115) 및 제 2 레진도포구역(125)을 포함한다. 따라서, 헤드 유닛(130)은 제 1 이송경로(111)를 따라 이송된 기판(S)과 제 2 이송경로(121)를 따라 이송된 기판(S)에 레진을 도포할 수 있다. 이동 유닛(140)의 동작은 컨트롤 유닛(190)에 의해 제어된다.The range in which the
도 5에 도시된 것과 같이, 제 1 이송경로(111)에는 제 1 이송경로(111)를 따라 이송되는 기판(S)을 가열하기 위한 제 1 가열수단이 설치되고, 제 2 이송경로(121)에는 제 2 이송경로(121)를 따라 이송되는 기판(S)을 가열하기 위한 제 2 가열수단이 설치된다. 제 1 가열수단은 제 1 이송경로(111)의 상류에서 하류 방향으로 차례로 배치된 제 1 예열 히터(161), 제 1 메인 히터(162), 제 1 큐어링 히터(163)를 포함한다. 제 1 예열 히터(161)는 로딩된 기판(S)을 예열할 수 있도록 기판(S)의 로딩 위치에 가까이 배치되고, 제 1 메인 히터(162)는 레진 도포 중에 기판(S)을 가열할 수 있도록 제 1 레진도포구역(115)에 배치되며, 제 1 큐어링 히터(163)는 레진 도포된 기판(S)을 언로딩되기 전에 가열할 수 있도록 제 1 레진도포구역(115)보다 하류에 배치된다. 제 2 가열수단은 제 1 이송경로(111)에 배치된 상기 히터들 각각에 대응하는 제 2 예열 히터(164), 제 2 메인 히터(165), 제 2 큐어링 히터(166)를 포함한다. 이들 히터들의 동작은 컨트롤 유닛(190)에 의해 제어된다.As shown in FIG. 5, the
도 5를 참조하면, 로딩 유닛(170)은, 제 1 컨베이어(110) 및 제 2 컨베이어(120)의 전방에 배치되며, 제 1 컨베이어(110)의 제 1 예열 히터(161) 전방 및 제 2 컨베이어(120)의 제 2 예열 히터(164) 전방에 기판(S)을 로딩한다. 그리고 언로딩 유닛(180)은, 제 1 컨베이어(110) 및 제 2 컨베이어(120)의 후방에 배치되며, 제 1 컨베이어(110) 및 제 2 컨베이어(120)에서 기판(S)을 언로딩한다. 로딩 유닛(170)과 언로딩 유닛(180) 각각은 기판(S)을 적재할 수 있는 복수의 팔렛트(171)(181)를 가지고 있다.Referring to FIG. 5, the
또한, 로딩 유닛(170)은 팔렛트(171)에 적재된 기판(S)을 밀어 제 1 컨베이어(110) 및 제 2 컨베이어(120) 각각에 로딩하기 위한 제 1 로딩 푸셔(172) 및 제 2 로딩 푸셔(173)를 가지고 있다. 언로딩 유닛(180)은 제 1 컨베이어(110) 및 제 2 컨베이어(120)를 따라 이송된 기판(S)을 팔렛트(181)로 언로딩하기 위한 제 1 언로딩 푸셔(182) 및 제 2 언로딩 푸셔(183)를 포함한다. 기판(S)을 로딩하는 로딩 유닛(170)과 기판(S)을 언로딩하기 위한 언로딩 유닛(180)은 도시된 구조로 한정되지 않고 다양하게 변경될 수 있다.In addition, the
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 의한 레진도포 시스템의 레진도포 작업방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a resin spreading method of a resin spreading system according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 6에 도시된 것과 같이, 헤드 유닛(130)은 작동하지 않을 때 제 1 레진도포구역(115) 및 제 2 레진도포구역(125)에서 벗어난 파킹 위치에서 대기한다. 레진도포 작업이 시작되면, 로딩 유닛(170)에 의해 제 1 컨베이어(110)에 하나의 기판(S)이 로딩되고, 로딩된 기판(S)은 제 1 컨베이어(110)에 의해 제 1 이송경 로(111)를 따라 이송된다. 제 1 컨베이어(110)에 로딩된 기판(S)은 제 1 예열 히터(161)를 통과할 때 가열된다.As shown in FIG. 6, the
기판(S)이 제 1 레진도포구역(115)까지 이송되면, 제 1 구동장치(114)가 정지하여 기판(S)이 제 1 레진도포구역(115)에 위치한다. 이때, 기판(S)은 제 1 메인 히터(162)에 의해 가열되고, 헤드 유닛(130)이 이동 유닛(140)에 의해 제 1 레진도포구역(115)으로 이동한다.When the substrate S is transferred to the first
도 7에 도시된 것과 같이, 헤드 유닛(130)이 이동할 때, 먼저 비전 장치(135)가 기판(S) 상에 레진이 도포될 위치를 검출한다. 레진이 도포될 위치가 검출되면, 헤드 유닛(130)이 이 위치에 맞게 움직이면서 기판(S)에 레진을 도포한다. 제 1 레진도포구역(115)에서 레진도포 작업이 진행되는 동안, 로딩 유닛(170)에 의해 제 2 컨베이어(120)에 기판(S)이 로딩된다. 로딩된 기판(S)은 제 2 이송경로(121)를 따라 이송되고 제 2 예열 히터(164)를 통과할 때 가열된다.As shown in FIG. 7, when the
도 8에 도시된 것과 같이, 제 2 예열 히터(164)를 통과한 기판(S)은 제 1 레진도포구역(115)에서 레진 도포가 완료되기 전에 제 2 레진도포구역(125)까지 이송되어 제 2 레진도포구역(125)에서 정지된 상태로 대기한다. 제 2 레진도포구역(125)에서 기판(S)은 제 2 메인 히터(165)에 의해 가열된다.As shown in FIG. 8, the substrate S passing through the
도 9에 도시된 것과 같이, 제 1 레진도포구역(115)에서 레진도포 작업이 완료되면, 헤드 유닛(130)이 대기 시간없이 제 2 레진도포구역(125)으로 이동한다. 이때, 비전 장치(135)가 먼저 제 2 레진도포구역(125)에 위치한 기판(S) 상에 레진이 도포될 위치를 검출하고, 레진 도포 위치가 검출되고 나면, 헤드 유닛(130)이 이 위치에 맞게 이동하면서 기판(S)에 레진을 도포한다. 제 2 레진도포구역(125)에서 레진도포 작업이 진행되는 동안, 제 1 레진도포구역(115)에서 레진 도포가 완료된 기판(S)은 제 1 컨베이어(110)의 작동으로 제 1 큐어링 히터(163)를 통과하여 가열된 후 언로딩 위치로 이송된다. 그리고 언로딩 위치로 이송된 기판(S)은 제 1 언로딩 푸셔(182)에 의해 팔렛트(181)로 언로딩된다.As shown in FIG. 9, when the resin spreading operation is completed in the first
계속해서, 제 2 레진도포구역(125)에서 레진도포 작업이 진행되는 동안, 새로운 기판(S)이 로딩 유닛(170)에 의해 제 1 컨베이어(110)에 로딩되어 제 1 레진도포구역(115)까지 이송된다. 이와 같이, 제 2 레진도포구역(125)에서 레진도포 작업이 끝나기 전에 제 1 레진도포구역(115)에 기판(S)이 위치하기 때문에, 헤드 유닛(130)은 제 2 레진도포구역(125)에서 레진을 도포한 후 바로 제 1 레진도포구역(115)으로 이동하여 레진 도포 작업을 수행할 수 있다.Subsequently, while the resin spreading operation is performed in the second
도 10에 도시된 것과 같이, 제 2 레진도포구역(125)에서 레진도포 작업이 끝나 헤드 유닛(130)이 제 1 레진도포구역(115)으로 이동하면, 제 2 컨베이어(120)가 작동하여 레진 도포가 완료된 기판(S)이 제 2 큐어링 히터(166)를 지나 언로딩 위치로 이송된다. 언로딩 위치로 이송된 기판(S)은 언로딩 유닛(180)에 의해 제 2 컨베이어(120)에서 언로딩되고, 제 2 컨베이어(120)에는 새로운 기판(S)이 로딩된다. 제 2 컨베이어(120)에 새로 로딩된 기판(S)은 제 1 레진도포구역(115)에서 레진 도포가 끝나기 전에 제 2 레진도포구역(125)까지 이송된다.As shown in FIG. 10, when the resin coating operation is finished in the second
이와 같이, 본 발명에 의한 레진도포 시스템(100)은, 기판(S)이 제 1 이송경로(111) 및 제 2 이송경로(121)를 따라 복열로 헤드 유닛(130)의 작동 범위로 공급 되고, 헤드 유닛(130)이 제 1 이송경로(111)의 기판(S) 및 제 2 이송경로(121)의 기판(S)에 번갈아 레진을 도포하기 때문에, 레진도포 작업이 연속적으로 실행될 수 있다.As described above, in the
이러한 본 발명에 의한 레진도포 시스템(100)은 언더필 공정을 포함하여 레진을 접착제로 사용하는 다양한 제조 공정에 이용될 수 있다.The
이상에서 설명한 본 발명은 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되지 않는다. 즉, 본 발명은 기재된 특허청구범위의 사상 및 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능하다.The present invention described above is not limited to the configuration and operation as shown and described. That is, the present invention is capable of various changes and modifications within the spirit and scope of the appended claims.
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 레진도포 시스템을 개략적으로 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view schematically showing a resin coating system according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 레진도포 시스템의 구성을 개략적으로 나타낸 구성도이다.Figure 2 is a schematic diagram showing the configuration of a resin coating system according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일실시예에 의한 레진도포 시스템의 제 1, 2 컨베이어 및 그 주위를 나타낸 사시도이다.Figure 3 is a perspective view showing the first and second conveyors and the surroundings of the resin coating system according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 일실시예에 의한 레진도포 시스템의 헤드 유닛 및 이동 유닛을 나타낸 사시도이다.Figure 4 is a perspective view showing a head unit and a moving unit of the resin coating system according to an embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 일실시예에 의한 레진도포 시스템을 나타낸 평면도이다.5 is a plan view showing a resin coating system according to an embodiment of the present invention.
도 6 내지 도 10은 본 발명의 일실시예에 의한 레진도포 시스템의 레진도포 과정을 나타낸 사시도이다.6 to 10 is a perspective view showing a resin coating process of the resin coating system according to an embodiment of the present invention.
♣ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ♣♣ Explanation of symbols for the main parts of the drawing ♣
100 : 레진도포 시스템 110, 120 : 제 1, 2 컨베이어100:
111, 121 : 제 1, 2 이송경로 114, 124 : 제 1, 2 구동장치111, 121: 1st,
116, 126 : 제 1, 2 감지장치 130 : 헤드 유닛116, 126: first and second detection device 130: head unit
131 : 헤드 135 : 비전 장치131: head 135: vision device
141, 144 : 제 1, 2 고정 빔 147 : 이동 빔141 and 144: first and second fixed beams 147: moving beams
143, 145, 148 : 제 1, 2, 3 가이드 레일143, 145, 148: 1st, 2nd, 3rd guide rail
151, 152, 153 : 제 1, 2, 3 슬라이더 161, 164 : 제 1, 2 예열 히터151, 152, 153: 1st, 2nd,
162, 165 : 제 1, 2 메인 히터 163, 166 : 제 1, 2 큐어링 히터162, 165: first and second
170 : 로딩 유닛 171, 181 : 팔렛트170:
180 : 언로딩 유닛 190 : 컨트롤 유닛180: unloading unit 190: control unit
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101952749B1 (en) * | 2018-01-26 | 2019-02-27 | 제엠제코(주) | Three part detachable type adhesive applyng apparatus having two row rail structure |
CN114400187A (en) * | 2022-01-05 | 2022-04-26 | 苏州泰晶微半导体有限公司 | High-efficiency packaging device for semiconductor chip |
Family Cites Families (4)
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---|---|---|---|---|
JP3096389B2 (en) * | 1994-03-28 | 2000-10-10 | シャープ株式会社 | Resin injection device and resin injection method |
KR100327170B1 (en) * | 1999-02-03 | 2002-03-13 | 최녹일 | Dual robot dispensing apparatus for manufacturing semiconductor chip |
KR20000072552A (en) * | 2000-09-08 | 2000-12-05 | 송재식 | Dispensing system used a chip packaging |
KR100578693B1 (en) | 2004-11-29 | 2006-05-16 | 주식회사 프로텍 | Resin dispensing apparatus |
-
2008
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101952749B1 (en) * | 2018-01-26 | 2019-02-27 | 제엠제코(주) | Three part detachable type adhesive applyng apparatus having two row rail structure |
CN114400187A (en) * | 2022-01-05 | 2022-04-26 | 苏州泰晶微半导体有限公司 | High-efficiency packaging device for semiconductor chip |
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