KR20090090162A

KR20090090162A - 대면적 ｘ선 검출장치의 제조방법

Info

Publication number: KR20090090162A
Application number: KR1020080015469A
Authority: KR
Inventors: 김일경; 정헌용; 송현진
Original assignee: 주식회사바텍
Priority date: 2008-02-20
Filing date: 2008-02-20
Publication date: 2009-08-25
Also published as: KR100993005B1

Abstract

본 발명은 대면적 X선 검출장치의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 제 1 지지테이블 상에 제 1 패널을 위치시키는 제 1 단계; 제 2 패널을 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 제 1 패널 상에 위치시키는 제 2 단계; 및 상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 제 2 패널의 일 측부터 순차적으로 상기 제 1 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 제 2 패널의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 제 2 패널을 상기 제 1 패널에 접착하는 제 3 단계;를 포함하여 이루어지며, 신틸레이터 패널과 센서 패널 사이의 거리를 균일하게 유지하고, 기포의 함유를 줄여 획득하는 이미지의 질을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.

광 테이프, TFT 패널, 신틸레이터, 롤러, 진공 챔버, 대면적 X선 검출장치

Description

대면적 Ｘ선 검출장치의 제조방법{Method for fabricating large area x-ray detector}

본 발명은 대면적 X선 검출장치의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 센서 패널과 신틸레이터 패널을 균일하게 접착시키는 대면적 X선 검출장치의 제조방법에 관한 것이다.

X선 검출장치는 피사체의 각 부분을 통과하는 서로 다른 X선을 투과량에 따라 서로 다른 전기 신호로 출력함으로써 상기 피사체의 내부 구조를 이미지로 재구성하는 장치이다.

이러한 X선 검출장치는 산업용, 의료용 등 다양한 분야에서 사용되고 있으며 특히, 의료분야에서는 다양한 신체부위의 고화질 이미지를 획득하기 위하여 활발한 연구개발이 이루어지고 있다.

X선 검출장치의 구조를 간단히 살펴보면, 일반적으로 알루미늄층과 CsI층으로 이루어져 X선을 가시광선으로 변환하는 신틸레이터 패널과 상기 신틸레이터 패널에서 변환된 가시광선을 받아들여 가시광선의 세기에 따른 전기신호를 출력하는 TFT 패널로 이루어진다.

일반적인 X선 검출장치에는 X선이 신틸레이터 패널을 통과하여 TFT 패널까지 도달하는 동안 광학적인 확산이나 산란 등 다양한 원인으로 인하여 이미지의 질이 떨어진다는 문제점이 있다.

이러한 일반적인 X선 검출장치는 상기 신틸레이터 패널과 TFT 패널이 각각 제작되어 서로 접착함으로써 제조하게 되는데, 접착시에 상기 신틸레이터 패널과 TFT 패널은 사이의 거리를 균일하게 하여 접착하거나 기포를 함유하지않도록 하는 것은 매우 어려운 일이다.

또한, 대면적의 신틸레이터 패널이나 TFT 패널을 접합할 수 있는 제조장치의 구성이 어려우며, 신틸레이터 패널의 크기가 크기 때문에 발생하는 수많은 공정상의 어려움이 있었다.

이러한 어려움은 치아나 악궁 등의 이미지를 획득하는 구강센서와 같은 소면적 X선 검출장치를 제조하는데에는 큰 문제가 되지 않지만, 흉부나 두부 및 경부 등과 같은 광범위한 부분의 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치를 제조하는데에는 큰 문제로 작용하게 된다.

이로 인해, 신틸레이터 패널과 TFT 패널을 균일하게 접합시키는 기술이나 기포의 함유를 줄일 수 있는 기술에 대한 개발이 절실히 요구되고 있다.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 단전과 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 롤러나 블록을 구비한 지지 테이블 또는 진공챔버를 이용하여 센서 패널과 신틸레이터 패널 사이를 균일하게 압착 및 흡착시킬 수 있는 대면적 X선 검출장치의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서, 제 1 지지테이블 상에 제 1 패널을 위치시키는 제 1 단계; 제 2 패널을 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 제 1 패널 상에 위치시키는 제 2 단계; 및 상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 제 2 패널의 일 측부터 순차적으로 상기 제 1 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 제 2 패널의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 제 2 패널을 상기 제 1 패널에 접착하는 제 3 단계;를 포함하여 이루어진다.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 1 패널은 센서 패널이며, 상기 제 2 패널은 광 테이프일 수 있다.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 1 패널은 광 테이프가 부착된 센서 패널이며, 상기 제 2 패널은 신틸레이터 패널일 수 있다.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 1 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치(inch)이고, 상기 제 2 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치이다. 또한, 상기 제조 방법은 상기 제 1 패널의 가로 및 세로의 길이가 각각 20 인치 이상이고, 상기 제 2 패널의 가로 및 세로의 길이도 각각 20인치 이상인 초대형 X선 검출장치를 제조하는데에도 적용될 수 있다.

바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 1 패널과 상기 제 2 패널의 가로×세로의 길이는 8×8 인치, 10×12 인치 및 17×17 인치 중 어느 하나이다.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서, 제 1 지지테이블 상에 센서 패널을 위치시키는 제 1 단계; 접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2 단계; 상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 3 단계; 상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 접착층의 일 측부터 순차적으로 상기 센서 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 광 테이프의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 접착층을 상기 센서 패널에 접착하는 제 4 단계; 상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 타 면을 노출시키는 제 5 단계; 및 상기 접착층의 타 면에 신틸레이터 패널을 접착하는 제 6 단계;를 포함하여 이루어진다.

바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 6 단계는: 상기 접착층이 형성된 상기 센서 패널 상에 상기 신틸레이터 패널을 위치시키는 제 6-1 단계; 및 상기 신틸레이터 패널을 롤러로 압착하여 상기 센서 패널에 부착하는 제 6-2 단계;를 포함할 수 있다.

바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 6 단계는 진공 챔버 내부에서 이루어질 수 있으며, 상기 진공 챔버 내부에 구비되되, 상기 제 1 지지테이블 상부에 구비된 제 2 지지테이블에 상기 신틸레이터 패널을 장착하는 제 6-1 단계; 상기 진공 챔버 내부를 진공상태로 만드는 제 6-2 단계; 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널 사이의 간격이 일정한 간격을 이룰 때까지 상기 제 2 지지테이블을 하강하는 제 6-3 단계; 및 상기 제 2 지지테이블의 지지를 해제하고 상기 신틸레이터 패널을 낙하시켜 상기 신틸레이터 패널을 상기 접착층에 접촉시키는 제 6-4 단계;를 포함할 수 있다. 상기 제 6-4 단계 이후에 상기 제 2 지지테이블을 하강시켜 상기 신틸레이터 패널의 상부에 물리적 압력을 가하는 제 6-4-1 단계를 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 6-4-1 단계 이후에 질소 퍼징에 의해 진공을 해제하여 상기 TFT 패널과 신틸레이터 패널을 압착하는 제6-4-2 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 제 6-3 단계의 일정한 거리는 5mm 내지 10mm인 것이 바람직하다.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서, 제 1 지지 테이블 상에 센서 패널을 위치시키는 제 1 단계; 상기 센서 패널에 접착층이 구비된 광 테이프를 접착하는 제 2 단계; 신틸레이터 패널을 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 광 테이프가 부착된 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 3 단계; 및 상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 신틸레이터 패널의 일 측부터 순차적으로 상기 센서 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 신틸레이터 패널의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 신틸레이터 패널을 상기 센서 패널에 접착하는 제 4 단계;를 포함하여 이루어진다.

바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 2 단계:는 접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2-1 단계; 상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 2-2 단계; 상기 광 테이프를 롤러로 압착하여 이용하여 센서 패널에 부착하는 제 2-3 단계; 및 상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하는 제 2-4 단계;를 포함할 수 있다.

바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 2 단계:는 진공 챔버 내부의 상기 제 1 지지테이블 상부에 구비되되, 접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2-1 단계; 상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 2-2 단계; 상기 진공 챔버 내부를 진공상태로 만드는 제 2-3 단계; 상기 센서 패널과 상기 광 테이프 사이의 간격이 일정한 간격을 이룰 때까지 상기 제 2 지 지테이블을 하강하는 제 2-4 단계; 상기 제 2 지지테이블의 지지를 해제하고 상기 광 테이프를 낙하시켜 상기 광 테이프를 상기 센서 패널에 접착시키는 제 2-5 단계; 및 상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하는 제 2-6 단계;를 포함할 수 있다.

바람직한 실시 예에 있어서, 상기 제 2 단계:는 접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2-1 단계; 상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 2-2 단계; 상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 광 테이프의 일 측부터 순차적으로 상기 센서 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 광 테이프의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 접착층을 상기 센서 패널에 접착하는 제 2-3 단계; 및 상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하는 제 2-4 단계;를 포함할 수 있다.

바람직한 실시 예에 있어서, 상기 광 테이프는 투과율이 90% 이상이며, 굴절율이 1.45 내지 1.47인 것이 바람직하다.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 센서 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치(inch)이고, 상기 신틸레이터 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치이다. 또한, 상기 제조 방법은 상기 센서 패널의 가로 및 세로의 길이가 각각 20 인치 이상이고, 상기 신틸레이터 패널의 가로 및 세로의 길이도 각각 20인치 이상인 초대형 X선 검출장치를 제조하는데에도 적용될 수 있다.

바람직한 실시 예에 있어서, 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이는 8×8 인치, 10×12 인치 및 17×17 인치 중 어느 하나이다.

본 발명은 대면적의 신틸레이터 패널과 대면적의 센서 패널을 롤러나 블록을 구비한 지지 테이블 또는 진공챔버를 이용하여 압착함으로써 신틸레이터 패널과 센서 패널 사이의 거리를 균일하게 유지하고, 기포의 함유를 줄여 획득하는 이미지의 질을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.

또한, 본 발명은 광 테이프를 이용하여 접합함으로써 센서 패널에 도달하는 빛의 양을 증가시켜 정확하고 효율적인 데이터를 얻을 수 있는 효과가 있다.

일반적으로 대면적 X선 검출장치는 X선을 가시광으로 변환할 수 있는 파장 변환기로서 신틸레이터와 상기 광을 전기 신호로 변환하는 센서소자를 포함하며 매트릭스 형태로 배열되어 있는 픽셀 및 상기 픽셀로부터 신호를 연속적으로 전송하기 위해 각각의 픽셀과 접속되어 있는 광센서를 포함하고 있는 센서 패널을 포함하고 있다.

즉, 상기 대면적 X선 검출장치는 X선을 가시 광선으로 변환하는 신틸레이터 패널 후면에 상기 가시 광선 신호를 받아 전기신호로 변환하는 센서 패널을 부착하여 제작된다.

본 발명은 상기와 같은 대면적 X선 검출장치를 제작하기 위해 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널을 광 테이프를 이용하여 접착하는 방법에 관한 것으로 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다. 상기 가시 광선 신호를 전기신호로 변환하는 수단으로 다양한 수단을 이용할 수 있지만 TFT를 이용하는 것이 일반적이므로, 본 발명에서는 센서 패널로서 TFT 패널을 이용하여 설명하기로 한다.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따라 제조된 대면적 X선 검출장치의 구성도이다.

도 1을 참조하여 설명하면, 본 발명의 실시 예에 따른 X선 검출장치(100)은 대면적 신틸레이터 패널(110)과 대면적 TFT 패널(140) 및 상기 대면적 신틸레이터 패널(110)과 상기 대면적 TFT 패널(140)을 접합하고 있는 접합층(230)으로 이루어져 있다.

상기 대면적 신틸레이터 패널(110)은 알루미늄 플레이트(120) 및 신틸레이터(130)로 이루어져 있다.

상기 신틸레이터 패널(110)의 표면에는 알루미늄 플레이트(120) 반사막을 설치함으로써 신틸레이터 패널(110)의 광 출력을 증가시켜 선명한 이미지를 획득할 수 있도록 하여 준다.

그리고 상기 신틸레이터(130)는 입사되는 X선을 가시광선으로 변환시키는 패널로서, 고휘도 형광물질인 요오드화 세슘(Csl) 등을 퇴적시켜 성막하는 주상 결정구조로 이루어져 있다. 이때, 본 발명에서는 상기 신틸레이터(130)를 이루고 있는 요오드화 세슘으로서 X선 센서의 해상도를 최적화할 수 있는 적절한 두께인 0.5mm의 두께를 갖도록 제작하였다.

상기 TFT 패널(140)은 TFT 및 가시광선을 센싱할 수 있는 포토 다이오드 등으로 이루어져 있다.

이때, 상기 TFT 패널(140)은 가로의 길이가 8 내지 20 인치(inch)이고, 가로의 길이도 8 내지 20 인치인 대면적 TFT 패널을 이용하였다. 또한, 상기 신틸레이터 패널(130) 역시 가로 및 세로의 길이가 모두 8 내지 20 인치인 대면적 신틸레이터 패널을 이용하였다.

즉, 본 발명은 가로 및 세로의 길이가 각각 20 인치 이상인 센서패널과, 가로 및 세로의 길이도 각각 20인치 이상인 신틸레이터 패널을 이용하여 접합함으로써 초대형 X선 검출장치를 제조할 수 있 수 있다. 한편, 바람직한 실시예로서 상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이가 8×8 인치, 10×12 인치 또는 17×17 인치인 대면적 X선 검출장치를 제조할 수 있다.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치(100)의 제조 방법에 대한 순서도이다.

도 2a 내지 도 2c 참조하여 설명하면, 먼저 제 1 지지테이블(10) 상에 제 1 패널(30)을 위치시킨다.

이어서, 제 2 지지 테이블(20)로 제 2 패널(40)을 흡착하여 상기 제 1 패널 (30)상에 위치시킨다. 이때, 상기 제 2 지지 테이블(20)은 복수 개의 블록을 구비 하고 있으며, 각각의 블록별로 진공을 유지할 수도 있고, 각각의 블록별로 진공을 해제할 수도 있다. 또한, 상기 제 2 지지 테이블(20)의 블록의 끝단은 진공을 발생하는 진공펌프(미도시)와 상호 연결되어 있다.

또한, 상기 블록의 개수와 위치는 상기 제 2 패널을 균일하게 고정할 수 있는 흡착력이 작용하도록 적절하게 배치되는 것이 바람직하다.

계속하여, 상기 제 2 지지테이블(20)의 블록 중 일 측의 블록을 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 제 2 패널(40)이 상기 제 1 지지 테이블(10)의 표면에 접촉하도록 한다.

이와 동시에 상기 제 1 패널(30)과 접촉된 상기 제 2 패널(40)을 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. 이때, 상기 롤러(250)는 상기 제 2 패널(40)과 상기 제 2 지지테이블(20) 사이에 위치하고, 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 제 2 패널을 상기 제 1 패널 상에 부착한다.

즉, 상기 제2 지지테이블(20)의 블록을 순차적으로 풀어줌과 함께 롤러(250)를 이용하여 압착함으로써 상기 제1패널(30)과 상기 제2패널(40)을 접착한다.

상기 제 1 패널은 TFT 패널 또는 광 테이프가 부착된 TFT 패널일 수 있고, 상기 제 2 패널은 광 테이프 또는 신틸레이터 패널 일 수도 있다.

즉, 본 발명의 제 1 실시예는 TFT 패널 상에 광 테이프를 접착시키거나, 광 테이프가 부착된 TFT 패널 상게 신틸레이터 패널을 접착시킬 때에 사용할 수 있다.

이때, 사용되는 상기 광 테이프는 가시광선 통과율이 높으며, 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 접착층의 양면이 보호된 양면테이프를 사용할 수 있다.

도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 블록을 구비한 제 2 지지 테이블 및 롤러를 이용한 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 대한 순서도이다.

도 3a 내지 도 3f를 참조하여 설명하면, 먼저 제 1 지지테이블(10) 상에 TFT 패널(140)을 위치시킨다.

여기서, 상기 TFT 패널(140) 후면에는 상기 TFT 패널(140)을 지지하고 외부의 저항으로부터 보호하는 서브글래스를 더 포함할 수도 있다.

이때, 상기 TFT 패널(140)은 가로의 길이가 8 내지 20 인치(inch)이고, 가로의 길이도 8 내지 20 인치인 대면적 TFT 패널을 이용하였다.

이어서, 복수 개의 블록을 구비하고, 각각의 블록별로 진공을 유지할 수 있는 제 2 지지 테이블(20)로 광 테이프(200)를 흡착하여 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다.

이어서, 상기 광 테이프(200)의 제 1 보호필름(210)을 제거하여 접착층(230)의 일 면을 노출시킨다. 상기 광 테이프(200)는 가시광선 통과율이 높으며, 제 1 보호필름(210)과 제 2 보호필름(220)으로 상기 접착층(230)의 양면이 보호된 양면테이프를 사용할 수 있다.

계속하여, 상기 제 2 지지테이블(20)의 블록별로 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 광 테이프(200)의 접착층(230)이 상기 TFT 패널(140)의 표면에 접촉하도록 하여준다. 이와 동시에 상기 TFT 패널(140)과 접촉된 상기 광 테이프(200)를 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. 이때, 상기 롤 러(250)는 상기 광 테이프(200)와 상기 제 2 지지테이블(20) 사이에 위치하고, 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 광 테이프(200)를 상기 TFT 패널(140) 상에 부착한다.

계속하여, 상기 광 테이프(200)의 제 2 보호필름(220)을 제거하여 상기 접착층(230)의 타 면을 노출시킨다.

계속하여, 상기 TFT 패널(140) 상에 접착된 상기 접착층(230) 상에 신틸레이터 패널(1100)을 위치시킨다.

계속하여, 상기 TFT 패널(140)과 접촉된 상기 신틸레이터 패널(110)을 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. 이때, 상기 롤러(250)는 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 신틸레이터 패널(110)을 상기 TFT 패널(140) 상에 부착한다.

이때, 상기 신틸레이터 패널(110) 역시 가로 및 세로의 길이가 모두 8 내지 20 인치인 대면적 신틸레이터 패널을 이용하였다.

한편, 본 발명의 제 2 실시에에 따른 대면적 X선 검출장치를 제조하는 방법은 진공챔버 내에서 이루어질 수 있다.

따라서, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 따라 제조된 대면적 X선 검출장치는 TFT 패널과 신틸레이터 패널 사이의 접착층의 두께를 균일하게 유지할 수 있을 뿐만 아니라 기포의 함유를 줄여 획득하는 이미지의 질을 향상시킬 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 X선 검출장치의 제조방법에 의해 제조된 대면적 X선 검출장치는 치과용 장비 예를 들면, 파노라마 장치, CT 장치 및 세팔로 장치 등 다양한 장비에 응용될 수 있을 뿐만 아니라, 흉부 X선 촬영장치나 맘모 장치 등과 의료용 장비에도 다양하게 적용될 수 있다.

특히, 17×17 인치의 대면적 X선 검출장치를 이용할 경우, 17×17 인치의 신틸레이터 패널과 17×17 인치의 센서 패널을 각각 4장씩 붙여 사용하면 초대형 X선 검출장치를 제조할 수도 있다.

도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 블록을 구비한 제 2 지지 테이블 및 진공챔버를 이용한 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 대한 순서도이다.

본 발명의 제 2 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법이 지지 테이블 및 롤러를 이용한 방법이라면 본 발명의 제 3 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 지지 테이블 및 진공 챔버(300) 내부에서 진공압착에 의한 방법으로 이루어진다.

먼저, TFT 패널(140)에 접착층(200)을 형성한다. 상기 과정(도 4a 내지 도 4d)은 본 발명의 제 2 실시예와 동일하므로 설명을 생략하기로 한다.

도 4e 내지 도 4g를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제 2 실시에에 따른 제조방법에서 신틸레이터 패널(110)과 TFT 패널(140)을 접착하는 공정은 진공 챔버(300) 내에서 이루어진다.

상기 광 테이프(200)의 제 2 보호필름(220)이 제거된 후, 상기 진공 챔버(300)에 구비된 제 2 지지 테이블(20)을 이용하여 상기 신틸레이터 패널(110)을 흡착한 후 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다.

이때, 상기 제 1 지지테이블(10) 및 제 2 지지테이블(20)은 상기 진공챔버(300) 내부의 진공보다 더 강한 진공을 발생시킴으로써 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)을 각각 흡착시킨다.

또한, 상기 신틸레이터 패널(110)은 상기 제 2 지지테이블(20)에 의해 상기 TFT 패널(140)과 일정 간격을 이룰 때까지 하강하며, 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)의 간격은 약 5m 내지 10mm가 가장 바람직하다.

상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)의 간격이 약 5mm 내지 10mm의 간격을 이루게 되면, 상기 제 2 지지테이블(20)에 구비된 복수 개의 기공을 통해 상기 신틸레이터 패널(110)과 제 2 지지테이블(20) 사이에 기체를 불어넣음으로써 상기 제 2 지지테이블(20)에 흡착된 신틸레이터 패널(110)의 지지를 해제하여 상기 접착층(120)으로 낙하시킴으로써 접착한다.

마지막으로, 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)이 접착된 이후, 상기 제 2 지지테이블(20)을 하강시켜 상기 신틸레이터 패널(110)의 상부에 물리적 압력을 가함으로써 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)을 압착시켜 대면적 X선 검출장치를 완성한다.

이때, 상기 진공 챔버(300) 내부에 순간적으로 질소를 퍼징하여 대기압을 형성함으로써 상기 TFT 패널(140)과 신틸레이터 패널(110)을 압착할 수 있다.

상술한 것을 제외하고는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 제조 방법은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법과 동일하다.

도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 롤러 및 블록을 구비한 제 2 지지 테이블을 이용한 대면적 X선 검출장치를 제조하는 방법에 대한 순서도이다.

도 5a 내지 도 5f를 참조하여 설명하면, 먼저 제 1 지지테이블(10) 상에 TFT 패널(140)을 위치시킨다.

이어서, 접착층(230)의 양면이 제 1 보호필름(210)과 제 2 보호필름(220)으로 보호된 광 테이프(200)를 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다.

이어서, 상기 광 테이프(200)의 접착층(230)이 상기 TFT 패널(140)의 표면에 접촉하도록 하여준다. 이와 함께 상기 TFT 패널(140)과 접촉된 상기 광 테이프(200)를 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. 이때, 상기 롤러(250)는 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 광 테이프(200)를 상기 TFT 패널(140) 상에 부착한다.

계속하여, 상기 광 테이프(200)의 제 2 보호필름(220)을 제거하여 상기 접착 층(230)의 타 면을 노출시킨다.

계속하여, 복수 개의 블록을 구비하고, 각각의 블록별로 진공을 유지할 수 있는 제 2 지지 테이블(20)로 신틸레이터 패널(110)를 흡착하여 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다.

계속하여, 상기 제 2 지지테이블(20)의 블록별로 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 신틸레이터 패널(110)이 상기 TFT 패널(140)에 접착된 상기 접착층(230)의 표면에 접촉하도록 하여준다. 이와 동시에 상기 TFT 패널(140)과 접촉된 상기 신틸레이터 패널(110)을 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다.

이때, 상기 롤러(250)는 상기 신틸레이터 패널(110)와 상기 제 2 지지테이블(20) 사이에 위치하고, 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 신틸레이터 패널(110)을 상기 TFT 패널(140) 상에 부착함으로써 대면적 X선 검출장치를 완성한다.

상술한 것을 제외하고는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 제조 방법은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법과 동일하다.

도 6a 내지 도 6g은 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 진공챔버 및 블록을 구비한 제 2 지지 테이블을 이용한 대면적 X선 검출장치를 제작하는 방법에 대한 순서도이다.

본 발명의 제 4 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법이 롤러 및 블록을 이용한 방법이라면 본 발명의 제 5 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 진공 챔버 및 블록을 이용한 방법으로 이루어진다.

도 6a 내지 도 6g를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제 5 실시에에 따른 제조방법은 진공 챔버(300) 내에서 이루어진다.

먼저, 상기 진공 챔버(300) 내에 구비된 제 1 지지테이블(10) 상에 TFT 패널(140)을 위치시킨다.

이어서, 상기 진공 챔버(300) 내에 구비된 제 2 지지 테이블(20)을 이용하여 광 테이프(200)를 을 흡착한 후 상기 TFT 패널(140) 상에 위치시킨다.

상기 광 테이프(200)는 접착층(230)의 양면을 제 1 보호필름(210)과 제 2 보호필름(22)으로 보호하고 있으며, 상기 제 2 지지 테이블(20)은 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공을 유지할 수 있다.

이때, 상기 제 1 지지테이블(10) 및 제 2 지지테이블(20)은 상기 진공챔버(300) 내부의 진공보다 더 강한 진공을 발생시킴으로써 상기 TFT 패널(140)과 광 테이프(200)를 각각 흡착시킨다.

이어서, 상기 광 테이프(200)의 제 1 보호필름(210)을 제거하여 상기 접착층(230)의 일 면을 노출한다.

계속하여, 상기 진공 챔버(300) 내부를 진공상태로 유지한다.

계속하여, 상기 TFT 패널(140)과 상기 광 테이프(200) 사이의 간격이 일정한 간격을 이룰 때까지 상기 제 2 지지테이블(20)을 하강시킨다. 이때, 상기 TFT 패널(140)과 상기 광 테이프(200)의 간격은 약 5m 내지 10mm가 가장 바람직하다.

상기 TFT 패널(140)과 상기 광 테이프(200)의 간격이 약 5mm 내지 10mm의 간격을 이루게 되면, 상기 제 2 지지테이블(20)에 구비된 복수 개의 기공을 통해 상기 광 테이프(200)과 제 2 지지테이블(20) 사이에 기체를 불어넣음으로써 상기 제 2 지지테이블(20)에 흡착된 상기 광 테이프(200)의 지지를 해제하여 상기 TFT 패널(140)로 낙하시킴으로써 접착한다.

이때, 상기 TFT 패널(140)과 상기 광 테이프(200)가 접착된 이후, 상기 제 2 지지테이블(20)을 하강시켜 상기 광 테이프(200)의 상부에 물리적 압력을 가함으로써 상기 TFT 패널(140)과 상기 광 테이프(200) 사이의 접착층(230)의 두께를 균일하게 할 수 있다.

이어서, 상기 광 테이프(200)의 제 2 보호필름(220)을 제거하여 상기 접착층(230)의 타 면을 노출한다.

이때, 상기 롤러(250)는 상기 신틸레이터 패널(110)와 상기 제 2 지지테이 블(20) 사이에 위치하고, 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 신틸레이터 패널(110)을 상기 TFT 패널(140) 상에 부착함으로써 대면적 X선 검출장치를 완성한다.

상술한 것을 제외하고는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 제조 방법은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법과 동일하다.

도 7a 내지 도 7f는 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 블록을 구비한 제 2 지지 테이블을 이용한 대면적 X선 검출장치를 제작하는 방법에 대한 순서도이다.

본 발명의 제 4 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법이 롤러 및 블록을 이용한 방법이라면 본 발명의 제 6 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법은 블록을 이용한 방법으로 이루어진다.

도 7a 내지 도 7f를 참조하여 설명하면, 먼저 제 1 지지테이블(10) 상에 TFT 패널(140)을 위치시킨다.

이어서, 상기 광 테이프(200)의 제 1 보호필름(210)을 제거하여 접착층(230)의 일 면을 노출시킨다.

계속하여, 상기 제 2 지지테이블(20)의 블록별로 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 광 테이프(200)의 접착층(230)이 상기 TFT 패 널(140)의 표면에 접촉하도록 하여준다. 이와 동시에 상기 TFT 패널(140)과 접촉된 상기 광 테이프(200)를 롤러(250)를 이용하여 압착하기 시작한다. 이때, 상기 롤러(250)는 상기 광 테이프(200)와 상기 제 2 지지테이블(20) 사이에 위치하고, 타 측 방향으로 회전하면서 이동함으로써 상기 광 테이프(200)를 상기 TFT 패널(140) 상에 부착한다.

이하 상기 TFT 패널(140)에 신틸레이터 패널(110)을 형성하는 과정(도 7e 및 도 7f)은 본 발명의 제 4 실시예와 동일하므로 설명을 생략하기로 한다. 상술한 것을 제외하고는 본 발명의 제 6 실시예에 따른 제조 방법은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법과 동일하다.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예들과 같은 방법으로 제작된 대면적 X선 검출장치는 광 테이프를 이용함으로써 투과율이 높아서 대면적 X선 검출장치에 도달하는 빛의 양을 증가시켜 정확한 데이터를 얻는 효과가 있다.

또한, 롤러, 블록을 구비한 제 2 지지 테이블 및 진공챔버를 이용하여 상기 TFT 패널과 신틸레이터 패널 사이를 압착 및 흡착시킴으로써 기포 발생을 억제하고 두께를 일정하게 유지하도록 하여 상기 기포 발생으로 인한 빛의 굴절이 발생 되지 않는다.

상기와 같이 제작된 대면적 X선 검출장치의 가로×세로의 크기는 8× 8(inch), 10×12(inch) 또는 17×17(inch)의 대면적 대면적 X선 검출장치로, 상기 X선 센서 패널은 파노라마 장치, 세팔로 장치, CT 장치 및 맘모장치 등의 다양하고 두부, 경부 및 흉부 등 광범위한 면적을 촬영하는 치과용 X선 촬영장치에 적용될 수 있다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이다.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 구성도이다.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 대한 순서도이다.

도 6a 내지 도 6g는 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 진공 챔버 및 블록을 구비한 제 2 지지 테이블을 이용한 대면적 X선 검출장치를 제작하는 방법에 대한 순서도이다.

< 도면의 주호 부호에 대한 설명 >

10 : 제 1 지지 테이블 20 : 제 2 지지 테이블

100 : 대면적 X선 검출장치 110: 신틸레이터 패널

140 : TFT 패널 200 : 광테이프

210 : 제 1 보호필름 220 : 제 2 보호필름

230 : 접착층 250 : 롤러

300 : 진공 챔버

Claims

X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서,

제 1 지지테이블 상에 제 1 패널을 위치시키는 제 1 단계;

제 2 패널을 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 제 1 패널 상에 위치시키는 제 2 단계; 및

상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 제 2 패널의 일 측부터 순차적으로 상기 제 1 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 제 2 패널의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 제 2 패널을 상기 제 1 패널에 접착하는 제 3 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조방법.
제 1항에 있어서,

상기 제 1 패널은 센서 패널이며, 상기 제 2 패널은 광 테이프인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조방법.
제 1항에 있어서,

상기 제 1 패널은 광 테이프가 부착된 센서 패널이며, 상기 제 2 패널은 신틸레이터 패널인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조방법.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 제 1 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치(inch)이고, 상기 제 2 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
제 4 항에 있어서,

상기 제 1 패널과 상기 제 2 패널의 가로×세로의 길이는 8×8 인치, 10×12 인치 및 17×17 인치 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서,

제 1 지지테이블 상에 센서 패널을 위치시키는 제 1 단계;

접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 구 비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2 단계;

상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 3 단계;

상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 접착층의 일 측부터 순차적으로 상기 센서 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 광 테이프의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 접착층을 상기 센서 패널에 접착하는 제 4 단계;

상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 타 면을 노출시키는 제 5 단계; 및

상기 접착층의 타 면에 신틸레이터 패널을 접착하는 제 6 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
제 6 항에 있어서,

상기 제 6 단계는:

상기 접착층이 형성된 상기 센서 패널 상에 상기 신틸레이터 패널을 위치시키는 제 6-1 단계; 및

상기 신틸레이터 패널을 롤러로 압착하여 상기 센서 패널에 부착하는 제 6-2 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
제 6 항에 있어서,

상기 제 6 단계는 진공 챔버 내부에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
제 8 항에 있어서,

상기 제 6 단계는:

상기 진공 챔버 내부에 구비되되, 상기 제 1 지지테이블 상부에 구비된 제 2 지지테이블에 상기 신틸레이터 패널을 장착하는 제 6-1 단계;

상기 진공 챔버 내부를 진공상태로 만드는 제 6-2 단계;

상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널 사이의 간격이 일정한 간격을 이룰 때까지 상기 제 2 지지테이블을 하강하는 제 6-3 단계; 및

상기 제 2 지지테이블의 지지를 해제하고 상기 신틸레이터 패널을 낙하시켜 상기 신틸레이터 패널을 상기 접착층에 접촉시키는 제 6-4 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
제 9 항에 있어서,

상기 제 6-4 단계 이후에 상기 제 2 지지테이블을 하강시켜 상기 신틸레이터 패널의 상부에 물리적 압력을 가하는 제 6-4-1 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
제 10 항에 있어서,

상기 제 6-4-1 단계 이후에 질소 퍼징에 의해 진공을 해제하여 상기 TFT 패널과 신틸레이터 패널을 압착하는 제6-4-2 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
제 9 항에 있어서,

상기 제 6-3 단계의 일정한 거리는 5mm 내지 10mm인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
X선을 검출하여 이미지를 획득하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법에 있어서,

제 1 지지 테이블 상에 센서 패널을 위치시키는 제 1 단계;

상기 센서 패널에 접착층이 구비된 광 테이프를 접착하는 제 2 단계;

신틸레이터 패널을 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 광 테이프가 부착된 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 3 단계; 및

상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 신틸레이터 패널의 일 측부터 순차적으로 상기 센서 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 신틸레이터 패널의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 신틸레이터 패널을 상기 센서 패널에 접착하는 제 4 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조방법.
제 13 항에 있어서,

상기 제 2 단계:는

접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2-1 단계;

상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 2-2 단계;

상기 광 테이프를 롤러로 압착하여 이용하여 센서 패널에 부착하는 제 2-3 단계; 및

상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하는 제 2-4 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조방법.
제 13 항에 있어서,

상기 제 2 단계:는

진공 챔버 내부의 상기 제 1 지지테이블 상부에 구비되되, 접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2-1 단계;

상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 2-2 단계;

상기 진공 챔버 내부를 진공상태로 만드는 제 2-3 단계;

상기 센서 패널과 상기 광 테이프 사이의 간격이 일정한 간격을 이룰 때까지 상기 제 2 지지테이블을 하강하는 제 2-4 단계;

상기 제 2 지지테이블의 지지를 해제하고 상기 광 테이프를 낙하시켜 상기 광 테이프를 상기 센서 패널에 접착시키는 제 2-5 단계; 및

상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하는 제 2-6 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
제 13 항에 있어서,

상기 제 2 단계:는

접착층의 양면이 제 1 보호필름과 제 2 보호필름으로 보호된 광 테이프를 구비하고, 복수 개의 블록을 구비하며 각각의 블록별로 진공 유지가 조절되는 제 2 지지 테이블을 상기 센서 패널 상에 위치시키는 제 2-1 단계; 및

상기 광 테이프의 제 1 보호필름을 제거하여 상기 접착층의 일 면을 노출시키는 제 2-2 단계;

상기 제 2 지지테이블의 블록을 일 측에서 타 측 방향으로 순차적으로 진공을 풀어주어 상기 광 테이프의 일 측부터 순차적으로 상기 센서 패널의 표면에 접촉하도록 함과 함께, 롤러를 이용하여 상기 광 테이프의 일 측을 순차적으로 압착하여 상기 접착층을 상기 센서 패널에 접착하는 제 2-3 단계; 및

상기 광 테이프의 제 2 보호필름을 제거하는 제 2-4 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
제 6 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 광 테이프는 투과율이 90% 이상이며, 굴절율이 1.45 내지 1.47인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
제 6 항내지 16 항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 센서 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치(inch)이고, 상기 신틸레이터 패널의 가로 및 세로의 길이는 각각 8 내지 20 인치인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.
제 18 항에 있어서,

상기 센서 패널과 상기 신틸레이터 패널의 가로×세로의 길이는 8×8 인치, 10×12 인치 및 17×17 인치 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 대면적 X선 검출장치의 제조 방법.