[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

KR20070069415A - Semiconductor test apparatus and test method - Google Patents

Semiconductor test apparatus and test method Download PDF

Info

Publication number
KR20070069415A
KR20070069415A KR1020050131539A KR20050131539A KR20070069415A KR 20070069415 A KR20070069415 A KR 20070069415A KR 1020050131539 A KR1020050131539 A KR 1020050131539A KR 20050131539 A KR20050131539 A KR 20050131539A KR 20070069415 A KR20070069415 A KR 20070069415A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
test
semiconductor
tester
testing
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
KR1020050131539A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR100821095B1 (en
Inventor
오형근
Original Assignee
동부일렉트로닉스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동부일렉트로닉스 주식회사 filed Critical 동부일렉트로닉스 주식회사
Priority to KR1020050131539A priority Critical patent/KR100821095B1/en
Publication of KR20070069415A publication Critical patent/KR20070069415A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100821095B1 publication Critical patent/KR100821095B1/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2601Apparatus or methods therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 테스트장치 및 그 테스트방법에 관한 것으로서, 상세하게는 제어부에 각각의 테스트 항목(test item)의 테스트가 끝나면 전원(power)을 차단(off)시킴으로써 순간적인 과전압, 과전류로 인한 테스트장치 및 탐침 카드의 손상을 방지하는 효과가 있으며, 멀티사이트(multi site) 테스트하는 경우 유효한 사이트만 전원을 인가하고 다른 사이트는 전원을 차단함으로써 테스트장치 및 탐침 카드의 손상을 방지하는 효과가 있으며, 나아가 테스트장치 및 탐침 카드의 손상을 방지함으로써 상당한 시간적, 금전적 낭비를 막아주는 효과도 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor test apparatus and a test method thereof, and in detail, a test apparatus due to instantaneous overvoltage and overcurrent by turning off power after testing each test item in a control unit. And it is effective to prevent damage to the probe card, in the case of multi-site (multi-site test) to apply power only to the valid site and the other site has the effect of preventing damage to the test device and the probe card, further By preventing damage to the test equipment and probe cards, it also saves considerable time and money.

Description

반도체 테스트장치 및 그 테스트방법{test device for the semiconductor and the testing method thereof}Test device for the semiconductor and the testing method

도 1은 종래 기술에 의한 반도체의 테스트순서를 나타내는 도면이다.1 is a diagram showing a test procedure of a semiconductor according to the prior art.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 테스트장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다.2 is a view showing a schematic configuration of a semiconductor test apparatus according to the present invention.

도 3a는 종래 기술에 의한 반도체 테스트장치의 테스트방법을 나타내는 도면이고, 도 3b는 본 발명에 따른 반도체 테스트장치의 실시 예에 따른 테스트 순서를 나타내는 도면이다.3A is a diagram illustrating a test method of a semiconductor test apparatus according to the prior art, and FIG. 3B is a diagram illustrating a test procedure according to an embodiment of the semiconductor test apparatus according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 반도체 테스트방법에 의한 바람직한 일실시 예를 나타내는 도면이다.4 is a view showing a preferred embodiment by a semiconductor test method according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 설명>Description of the main parts of the drawing

10; 컴퓨터 20; 테스트 시스템10; Computer 20; Test system

22; 구동기 24; 비교기22; Driver 24; Comparator

30; 테스터 32; 테스트 헤드30; Tester 32; Test head

34; 로드 보트 36; 탐침 카드34; Load boat 36; Probe card

38; 탐침 39; 탐침 스테이션38; Probe 39; Probe station

40; 웨이퍼 50; 제어부 100; 웨이퍼 테스트장치40; Wafer 50; Control unit 100; Wafer Test Equipment

본 발명은 반도체의 테스트장치(test device) 및 그 테스트 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a test device for a semiconductor and a test method thereof.

일반적으로 반도체 메모리제조공정은 웨이퍼 프로세스, 테스트, 패키징 및 신뢰성 테스트를 거쳐서 하나의 메모리 제품이 완성된다. 반도체 제조공정에서의 반도체 메모리의 테스트장치를 이용한 테스트 방법을 도 1을 참조하여 상세히 설명한다.In general, semiconductor memory manufacturing processes go through wafer processing, testing, packaging, and reliability tests to complete a single memory product. A test method using a test apparatus for a semiconductor memory in a semiconductor manufacturing process will be described in detail with reference to FIG. 1.

도 1은 종래 기술에 의한 반도체 메모리 테스트의 순서를 나타내는 도면이다.1 is a diagram illustrating a procedure of a semiconductor memory test according to the prior art.

반도체 제조공정은 전반과 후반이라는 의미에서 웨이퍼 프로세스를 전공정(S1), 그리고 테스트, 패키징 및 신뢰성 테스트를 후공정(S2)이라고 부른다.In the semiconductor manufacturing process, the wafer process is referred to as the pre-process (S1) and the test, packaging, and reliability test are referred to as the post-process (S2).

또한, 웨이퍼 프로세스(S1)는 산화 및 확산 등의 가공을 하는 공정인 전반공정(front end of the line, FEOL)(S11), 그리고 그 표면에 배선을 형성하는 공정인 후반공정(back end of the line, BEOL)(S12)으로 나뉜다.In addition, the wafer process S1 is a front end of the line (FEOL) S11 which is a process for processing oxidation and diffusion, and a back end of the which is a process of forming wiring on the surface thereof. line, BEOL) (S12).

한편, 통상적으로 반도체 메모리 테스트는 후공정(S2)에서의 패키징(S24) 전후 여러 단계에서 서로 다른 항목(item)의 테스트로 이루어지는 일련의 공정을 의미한다. On the other hand, the semiconductor memory test typically refers to a series of processes consisting of testing different items at various stages before and after packaging (S24) in the post-process (S2).

그러므로 반도체 메모리 테스트는 크게 패키징(S24) 이전의 웨이퍼 상태에서 실시하는 웨이퍼 테스트(S23)와 이후 패키지 상태에서 이루어지는 패키지 테스트(S25 내지 S28)로 구분된다. 반도체 메모리 테스트를 단계별로 상세히 설명한다.Therefore, the semiconductor memory test is largely divided into a wafer test S23 performed in a wafer state before packaging S24 and a package test S25 through S28 performed in a later package state. The semiconductor memory test will be described in detail step by step.

우선, 레이저 전 테스트(pre-laser repair test)(S21)와 레이저 수리(laser repair)(S22)를 설명한다. 레이저 전 테스트(S21)는 레이저 수리 이전에 웨이퍼 상태에서 실시되는 테스트로서, 메모리 고장 셀(cell)을 가려낸 뒤 여분 셀(redundancy cell)을 대체 사용하여 수리할 수 있는 칩과 그렇지 못한 칩들을 구분하는 단계이며, 다음으로 레이저 수리(S22)는 레이저 전 테스트(S21)에서 가려진 수리할 수 있는 고장 셀 들은 주어진 여분 셀로 치환하는 레이저 수리를 통해 양품 다이(good die)로 바뀌게 되는 단계이다.First, the pre-laser repair test S21 and the laser repair S22 will be described. The pre-laser test (S21) is a test performed in a wafer state before laser repair, and distinguishes between a chip that can be repaired and a chip that cannot be repaired by replacing a redundancy cell after screening a memory failure cell. Next, the laser repair (S22) is a step in which repairable faulty cells masked in the pre-laser test (S21) are turned into good dies by laser repair replacing a given spare cell.

다음으로 웨이퍼 테스트(wafer test)(S23)를 설명한다.Next, a wafer test S23 will be described.

웨이퍼 테스트(S23)는 레이저 수리(S22) 후 웨이퍼 상의 전체 칩을 테스트(probing)하여 레이저 수리(S22) 후의 기능, 동작 여부 등에 대해 전반적으로 테스트하는 단계이다. 이 과정에서 양품 다이(good die)로 판정되면 그 다음 패키징(S24) 공정으로 넘어가게 되지만, 불량 다이(bad die)로 판정되면 웨이퍼 표면에 잉크로 표시되는데 이를 잉크 다이(ink die)라고 부르며 후속 공정으로 이어지지 않게끔 완전히 제거된다. 이 공정은 웨이퍼 프로버(automatic wafer prober)를 이용하여 자동으로 이루어진다.The wafer test S23 is a step of testing the entire chip on the wafer after the laser repair S22 to test overall functions, operations, and the like after the laser repair S22. In this process, if it is determined to be a good die, the process proceeds to the next packaging (S24) process. However, if it is determined to be a bad die, ink is displayed on the wafer surface, which is called an ink die. It is completely removed so as not to lead to the process. This process is done automatically using an automatic wafer prober.

다음으로 패키징(packaging)(S24)은 양품의 메모리 다이를 최종적으로 제품화하기 위해서 패키지에 조립해 넣는 단계이다.Next, packaging (S24) is a step of assembling a good memory die into a package for final production.

패키징(S24)이 끝난 후 패키지 상태에서 제품의 불량 여부와 메모리의 특성 을 판별하기 위한 패키지 테스트(S25~S28)가 이루어진다. 패키지 테스트는 통상 메모리가 정상적인 동작속도로 동작하는 상태에서 실시한다. 이를 좀 더 상세히 설명한다.After the packaging (S24) is finished, a package test (S25 ~ S28) is performed to determine whether the product is defective or the characteristics of the memory in the package state. Package testing is typically performed with memory running at normal operating speeds. This is explained in more detail.

우선, 번인 전 테스트(pre-burn in test)(S25)는 패키징 된 반도체 메모리 전체를 메모리 테스트장치로 테스트하는 단계로서, 이 과정은 조립 공정 시의 발생한 불량을 가려내기 위한 공정으로 자동 시스템으로 테스트가 이루어진다.First, the pre-burn in test (S25) is a step of testing the entire packaged semiconductor memory with a memory test device, which is a process for screening out defects generated during the assembly process, which is tested by an automated system. Is done.

다음으로 번인 테스트(burn-in test)(S26)는 반도체 메모리가 패키징 된 상태에서 메모리의 초기 결함을 조기에 발견하기 위해 온도와 전압이 다소 가혹한 조건에서 하는 테스트이다.Next, the burn-in test S26 is a test performed in a condition where the temperature and voltage are slightly severe to detect an early defect in the memory while the semiconductor memory is packaged.

다음으로 최종 테스트(final test)(S27)는 번인 테스트(S26) 공정에서 불량품으로 판정된 메모리를 제거하기 위해 자동 핸들러(automatic handler)에 의해 테스트 항목에 따라 전체의 메모리를 테스트하는 것이다.Next, the final test S27 is to test the entire memory according to the test item by an automatic handler to remove the memory determined as defective in the burn-in test S26 process.

다음으로 신뢰성 테스트(reliability test)(S28)는 최종 테스트(S27) 공정에서 양품으로 선별된 메모리 로트(lot)에 대해 일정한 개수의 샘플을 추출하여 장기적인 신뢰성을 확인하기 위해 더욱 가혹한 조건의 온도와 전압하에서 테스트하는 단계이다.Next, the reliability test (S28) extracts a certain number of samples from a good lot of memory lot selected in the final test (S27) process to confirm long-term reliability of temperature and voltage under more severe conditions. Test it under

마지막으로 로트 판정(lot decision)(S29) 및 제품출하(shipping)(S30)단계는 신뢰성 테스트(S28) 과정에서 신뢰성에 문제가 없다고 판정된 로트는 입고 또는 출하하는 단계이다. 이상의 과정을 거쳐서 하나의 메모리 제품이 완성된다.Finally, the lot decision (S29) and shipping (S30) step is a step in which the lot determined that there is no problem in reliability during the reliability test (S28) is a step of receiving or shipping. Through the above process, one memory product is completed.

이하 반도체 제조공정에서의 테스트장치를 설명한다.Hereinafter, a test apparatus in a semiconductor manufacturing process will be described.

반도체 제조공정 중에서 테스트 공정에 대응하여 사용되는 장비를 테스트장치라고 한다. 상기한 대로 웨이퍼 상태에서 패키징(S24) 공정으로 이동하기 전에 웨이퍼 상에서 반도체 웨이퍼 칩의 양불 판정 및 수리를 할 수 있으며, 여기에 사용되는 테스트 장비를 팹 라인(Fab Line)용 테스트장치(test device)라 하고, 패키지 상에서 제품의 출하 전 양불 및 등급을 구분하여 테스트하는 테스트 장비를 어셈블리용 테스트장치라 한다.The equipment used in the semiconductor manufacturing process corresponding to the test process is called a test apparatus. As described above, before moving to the packaging (S24) process from the wafer state, it is possible to determine whether the semiconductor wafer chip is unsuccessful and repair the wafer, and the test equipment used here is a test device for a Fab Line. The test equipment for classifying and testing the quantity before and after shipment of the product on the package is called the test apparatus for assembly.

이와 같은 테스트장치를 테스트 되는 반도체별로 분류하면, 메모리 테스트장치, 로직 테스트장치, 선형 및 불연속 테스트장치 등으로 나눌 수 있다.If the test apparatus is classified by the semiconductor under test, it may be divided into a memory test apparatus, a logic test apparatus, and a linear and discontinuous test apparatus.

그런데 기존의 반도체 메모리 테스트장치 및 로직 테스트장치 등의 테스트 방법은 테스트 도중에 전압과 전류의 변화가 그다지 크지 않기 때문에 전압, 전류의 변화에 의한 테스트장치 및 탐침 카드(probe card) 등의 손상이 심하지 않았다. 이는 기존의 반도체는 아날로그 시그널(analog signal) 반도체 또는 디지털 시그널(digital signal) 반도체로 구분되어 있으므로 테스트 도중에 전압과 전류의 변화가 그다지 크지 않기 때문이다.However, the test method of the conventional semiconductor memory test device and the logic test device does not have much damage to the test device and the probe card due to the change of voltage and current since the change of voltage and current is not so large during the test. . This is because conventional semiconductors are classified into analog signal semiconductors or digital signal semiconductors, so the voltage and current changes are not so large during the test.

그러나 최근에는 디지털 시그널 반도체와 아날로그 시그널 반도체가 하나의 칩에 들어있는 복합신호 반도체(mixed signal device)가 주종을 이루고 있다.Recently, however, a mixed signal device having a digital signal semiconductor and an analog signal semiconductor in a single chip is mainly used.

그런데 이러한 복합신호 반도체를 테스트하는 경우 전압과 전류가 급변하는 경우가 많고, 매우 높은 전류를 인가하는 경우도 많아서 자칫 잘못하면 테스트장치의 PMU(Precision Measurement Unit)에 문제가 발생하거나, 탐침 카드(probe card)의 탐침(prober 또는 needle)이 타버리는 문제가 있었다.However, when testing such a mixed-signal semiconductor, voltage and current are often suddenly changed, and very high currents are often applied, so if a mistake is made, a problem may occur in the PMU (Precision Measurement Unit) of the test apparatus or a probe card. ) Probe or needle burned out.

또한, 최근에는 메모리의 집적도가 높아지면서 테스트 시간이 길어지므로 시간당 테스트 처리량(throughput)을 높이기 위해 멀티사이트 테스트(multi-site test 또는 parallel-site test) 방법이 널이 도입되고 있다.In addition, in recent years, as the integration of memory increases, the test time becomes longer, and a multi-site test or multi-site test method is introduced to increase the test throughput per hour.

그런데 한번에 여러 개의 칩을 동시에 테스트할 수 있는 멀티사이트 테스트에서 탐침 카드(probe card)의 한 사이트가 웨이퍼의 에지(edge) 부분에 있는 무효한 다이(dummy die)를 접촉했을 때 순간적으로 높은 전압, 전류가 인가되면 탐침이 많은 스트레스를 받게 되며 일정한 한계를 넘어가면 타버리게 되는 문제가 발생하고 있었다.In a multisite test where multiple chips can be tested at the same time, however, when a site on a probe card contacts an invalid die at the edge of the wafer, a momentary high voltage, When the current is applied, the probe is subjected to a lot of stress, and when a certain limit is exceeded, a problem occurs that burns out.

특히 상기 문제가 한번이라도 발생하면 테스트장치 및 탐침 카드(probe card)의 수리에 많은 시간과 막대한 비용이 필요하게 되는 문제가 발생하게 된다.In particular, if the problem occurs at least once, a problem arises in that a lot of time and huge costs are required to repair the test apparatus and the probe card.

따라서 본 발명은 반도체의 특성에 맞는 테스트장치 및 그 테스트 방법을 고안하여 테스트장치 및 탐침 카드의 손상을 막는데 그 목적이 있다. Therefore, an object of the present invention is to prevent damage to the test apparatus and the probe card by devising a test apparatus and a test method suitable for the characteristics of the semiconductor.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 테스트장치는 반도체를 테스트하기 위한 테스터와, 상기 테스터를 통해 적어도 두 가지 이상의 테스트를 순차적으로 수행하는 경우 제1 테스트 후 상기 테스터에 전원을 차단하고 제2 테스트를 위해 상기 테스터에 전원을 인가하는 제어부가 포함되어 구성되는 것을 특징으로 한다.The semiconductor test apparatus according to the present invention for achieving the above object is to cut off the power to the tester after the first test when the tester for testing the semiconductor and at least two or more tests sequentially through the tester 2 is characterized in that it comprises a control unit for applying power to the tester for the test.

또한, 상기 제어부는 복수 개의 반도체를 동시에 멀티테스트하는 경우 선택 된 복수 개의 반도체 중 유효한 반도체를 테스트하는 테스터에 전원을 인가하고, 무효한 반도체를 테스트하는 테스터에는 전원을 차단할 수 있다.In addition, when multi-testing a plurality of semiconductors simultaneously, the controller may apply power to a tester for testing valid semiconductors among a plurality of selected semiconductors, and cut off power to a tester for testing invalid semiconductors.

또한, 상기 제어부는 테스트의 유형(item)에 따라 인가되는 전압과 전류 중 적어도 하나를 제한할 수 있다.In addition, the controller may limit at least one of a voltage and a current applied according to an item of the test.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 테스트방법은 반도체에 적어도 두 가지 이상의 테스트를 순차적으로 수행하는 경우에 있어서, 상기 반도체에 제1 테스트를 수행하는 단계와, 상기 제1 테스트 후 전원을 차단하는 단계와, 상기 반도체에 제2 테스트를 위해 전원을 인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the semiconductor test method according to the present invention for achieving the above object, in the case of performing at least two or more tests on a semiconductor sequentially, performing a first test on the semiconductor, and after the first test Blocking and applying power to the semiconductor for a second test.

또한, 상기 각각의 테스트 유형(item)에 따라 인가되는 전압과 전류 중 적어도 하나를 제한할 수 있다.In addition, at least one of a voltage and a current applied to each test type may be limited.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 테스트방법은 복수 개의 반도체를 동시에 멀티테스트하는 경우에 있어서, 상기 반도체를 유효한 반도체와 무효한 반도체로 선별하는 단계와, 상기 유효한 반도체를 테스트하는 테스터에 전원을 인가하고 무효한 반도체를 테스트하는 테스터에는 전원을 차단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The semiconductor test method according to the present invention for achieving the above object comprises the steps of selecting the semiconductor as a valid semiconductor and an invalid semiconductor when multi-testing a plurality of semiconductors at the same time, the tester for testing the valid semiconductor The tester for applying power and testing an invalid semiconductor is characterized in that it comprises the step of shutting off the power.

이와 같은 본 발명에 의하면, 반도체 테스트장치의 제어부에서 테스트받는 반도체에 인가되는 전압, 전류를 제어하여 순간적인 과전압, 과전류로 인한 테스트장치를 보호하고, 테스트장치의 손상을 방지함으로써 상당한 시간적, 금전적 낭비를 방지하는 장점이 있다.According to the present invention, by controlling the voltage and current applied to the semiconductor under test in the control unit of the semiconductor test device to protect the test device due to the instantaneous overvoltage, overcurrent, and prevent damage to the test device, considerable time and money wasted There is an advantage to prevent.

이하, 본 발명의 실시 예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시 예에 따른 반도체 테스트장치는 테스트대상에 따라 웨이퍼 테스트장치, 패키지 테스트장치 및 메모리 모듈 테스트장치 등으로 나눌 수 있다. The semiconductor test apparatus according to the embodiment of the present invention may be divided into a wafer test apparatus, a package test apparatus, and a memory module test apparatus according to a test target.

본 발명의 실시 예에 따른 반도체 테스트장치가 적용될 수 있는 반도체는 아날로그신호(analog signal) 반도체, 디지털신호(digital signal) 반도체, 복합신호(mixed signal) 반도체가 있을 수 있다.Semiconductors to which the semiconductor test apparatus according to the embodiment of the present invention may be applied may include an analog signal semiconductor, a digital signal semiconductor, and a mixed signal semiconductor.

이하, 웨이퍼 테스트장치, 패키지 테스트장치 및 메모리 모듈 테스트장치를 순서대로 이하에 설명한다.The wafer test apparatus, package test apparatus, and memory module test apparatus will be described below in order.

도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 테스트장치, 특히 웨이퍼 테스트 장치(이하 '웨이퍼 테스트장치'라 한다)의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다. 2 is a view showing a schematic configuration of a semiconductor test apparatus, in particular a wafer test apparatus (hereinafter referred to as a "wafer test apparatus") according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시 예에 따른 웨이퍼 테스트장치(100)는 소정의 반도체를 테스트하는 테스터(30) 및 적어도 2개 이상의 항목(item)을 테스트하는 경우 소정의 테스트가 끝나면 전원을 차단(down)시키고 그 다음 다른 항목을 테스트하도록 전원을 인가하도록 상기 테스터(30)를 제어하도록 설정되어있는 제어부(50);를 포함할 수 있다. 이하, 제어부(50)와 테스터(30) 순으로 설명한다.The wafer test apparatus 100 according to the embodiment of the present invention, when testing the tester 30 and at least two or more items (item) for testing a predetermined semiconductor, after the predetermined test is turned off (down) and the And a controller 50 configured to control the tester 30 to apply power to test another item. Hereinafter, the control unit 50 and the tester 30 will be described in order.

상기 제어부(50)는 웨이퍼 테스트장치(100)를 제어하는 소정의 테스트 프로그램(test program)을 지시하는 컴퓨터(10)와 컴퓨터(10)에 의해 지시된 테스트 프로그램을 수행하는 테스트 시스템(20)을 포함할 수 있다.The controller 50 includes a computer 10 for instructing a predetermined test program for controlling the wafer test apparatus 100 and a test system 20 for executing a test program indicated by the computer 10. It may include.

상기 컴퓨터(10)는 중앙정보처리장치(CPU), 키보드, 모니터를 포함할 수 있으며, 테스트 장치(100)를 제어하는 소정의 테스트 프로그램(test program)을 지시 하는 역할을 한다.The computer 10 may include a central processing unit (CPU), a keyboard, and a monitor, and serves to indicate a predetermined test program for controlling the test apparatus 100.

다음으로 상기 테스트 시스템(20)은 전원공급장치(power supply)(미도시), 구동기(driver)(22), 비교기(comparator)(24), PMU(Precision Measurement Unit)(미도시), 클램프(Clamp)(미도시)를 포함할 수 있으며, 이러한 테스트 시스템(20)의 하드웨어는 컴퓨터(10)에 의해 컨트롤 된다.Next, the test system 20 includes a power supply (not shown), a driver 22, a comparator 24, a PMU (Precision Measurement Unit) (not shown), a clamp ( Clamp (not shown), the hardware of such a test system 20 is controlled by the computer 10.

상기 비교기(24)는 기능테스트(functional test) 할 때 사용하는 기기로서 테스트받는 웨이퍼(40)로부터 로직(logic) 0 또는 로직 1 레벨 값을 감지하는 역할을 한다. 기능테스트는 웨이퍼(40)가 논리적인 연산 기능들을 제대로 수행하는가를 테스트하는 것으로서, 입력 데이터가 웨이퍼(40)에 공급되고. 출력 데이터가 웨이퍼(40)로부터 읽혀짐으로써 테스트를 수행하게 된다.The comparator 24 is a device used for a functional test and senses a logic 0 or logic 1 level value from the wafer 40 under test. The functional test is to test whether the wafer 40 properly performs logical arithmetic functions, and input data is supplied to the wafer 40. The output data is read from wafer 40 to perform the test.

한편, 상기 비교기(24)는 후술하는 테스터(30)의 테스트 헤드(32)에 내장될 수도 있다.On the other hand, the comparator 24 may be built in the test head 32 of the tester 30 to be described later.

상기 PMU(Precision Measurement Unit 또는 Parametric Measurement Unit)는 전압을 인가하여 전류를 측정하거나, 전류를 인가하여 전압을 측정하는 역할을 수행한다.The PMU (Precision Measurement Unit or Parametric Measurement Unit) measures a current by applying a voltage or measures a voltage by applying a current.

상기 클램프(Clamp)는 테스트를 하는 동안 테스트 시스템(20)에 의해 공급되는 전압이나 전류의 양을 제한하는 하드웨어로서, 클램프에 의해 테스트 오퍼레이터(test operator), 테스트장치(100), 웨이퍼(40)를 보호하는 역할을 수행한다.The clamp is hardware that limits the amount of voltage or current supplied by the test system 20 during the test, and the test operator, the test apparatus 100, and the wafer 40 by the clamp. Serves to protect it.

그 다음으로 테스트 시스템(20)에 의해 수행되는 테스트 프로그램에 따라 소정의 웨이퍼(40)를 테스트하는 테스터(30)를 설명한다. Next, a tester 30 that tests a given wafer 40 in accordance with a test program performed by the test system 20 will be described.

상기 테스터(30)는 정확한 전압, 전류를 적절한 시각에 웨이퍼(40)에 제공해야 하고, 각 테스트 항목(item)에 대한 웨이퍼(40)의 응답을 테스터(30)의 화면에 내보낸다. 그 다음 각각의 테스트 결과를 사전에 정의된 한계(limit)와 비교하여 양 불(P/F)을 결정하게 된다.The tester 30 should provide the correct voltage and current to the wafer 40 at an appropriate time, and output the response of the wafer 40 to each test item on the screen of the tester 30. Then, each test result is compared with a predefined limit to determine the positive and negative (P / F).

상기 테스터(30)는 테스트 헤드(32), 로드 보드(load board)(34), 탐침 카드(36), 탐침(38), 탐침 스테이션(39)을 포함할 수 있다.The tester 30 may include a test head 32, a load board 34, a probe card 36, a probe 38, and a probe station 39.

상기 테스트 헤드(32)는 웨이퍼(40)에 입력신호를 공급하고 출력신호를 받는 역할을 수행한다.The test head 32 supplies an input signal to the wafer 40 and receives an output signal.

상기 로드 보드(34)는 테스터(30)와 웨이퍼(40)를 연결하는 역할을 한다.The load board 34 serves to connect the tester 30 and the wafer 40.

상기 탐침(prober)(38)은 반도체 웨이퍼 상태에서 테스트가 이루어지기 때문에 다이에 있는 패드(pad)에 직접 접촉시키는 기구를 말한다. 탐침(38)은 가늘고 긴 바늘모양의 핀(pin) 여러 개를 패드의 간격에 맞도록 조정하여 사용할 수 있다.The probe 38 refers to a mechanism that makes direct contact with a pad on a die because the test is performed on a semiconductor wafer. The probe 38 may be used by adjusting a plurality of thin long needle-shaped pins to match the pad spacing.

상기 탐침 카드(36)는 탐침(38)이 장착되어 있는 보드(board)를 말한다. 탐침 카드(36)는 웨이퍼(40) 상의 각 다이를 테스트하기 위해 PCB 위에 에폭시(epoxy)로 고정한 탐침(38)을 테스트하고자 하는 다이의 패드에 접촉시킨 후 테스트 시스템(20)의 전기적 신호를 다이에 전해주는 도구로서, 웨이퍼(40)를 테스트할 수 있도록 테스트의 각 신호 배선과 웨이퍼 상의 각 패드를 칩 단위로 접속시켜 주는 핵심적인 장치이다. 보통 한 개의 탐침 카드(36)에는 16개 이상의 다이를 동시에 접촉할 수 있도록 탐침(38)이 장착될 수 있다.The probe card 36 refers to a board on which the probe 38 is mounted. The probe card 36 contacts the pad of the die to be tested with an epoxy 38 fixed on the PCB to test each die on the wafer 40 and then dies the electrical signal of the test system 20. It is a key device that connects each signal wiring of the test and each pad on the wafer in a chip unit so that the wafer 40 can be tested. Usually one probe card 36 may be equipped with a probe 38 so that at least 16 dies can be contacted simultaneously.

상기 탐침 스테이션(39)은 테스터(30)와 결합하는 장치로서 그 주요 기능은 테스터(30)에 자동으로 웨이퍼(40)를 이송하고, 탐침(38)과 패드를 자동 정렬(auto align)하며, 여러 개의 다이를 순차적으로 탐침하여 테스트를 수행하고, 테스트에 필요한 온도 환경(-10~+100℃)을 제공하고, 테스트 종료 후 탈착(unload)하여 양품과 불량품으로 선별하는 역할을 한다.The probe station 39 is a device for coupling with the tester 30, the main function of which automatically transfers the wafer 40 to the tester 30, auto-aligns the probe 38 and the pad, It performs the test by sequentially probing several dies, provides the temperature environment (-10 to + 100 ° C) necessary for the test, and unloads after the test is completed to sort out good and bad.

도 2과 같이 탐침(38)의 각 핀과 테스트 시스템(20)이 연결되면 컴퓨터(10)는 테스트 프로그램을 작동하여 데이터를 측정하고, 측정된 데이터를 처리하며 각 장치(unit)들을 모아 테스트 시스템(20)을 종합적으로 제어한다. 구동기(22)와 비교기(24)에서는 원하는 신호를 발생하거나 예상 데이터와 비교하여 기능 동작을 확인한다.As shown in FIG. 2, when each pin of the probe 38 and the test system 20 are connected, the computer 10 operates a test program to measure data, process measured data, and collect each unit to test the system. (20) is comprehensively controlled. The driver 22 and the comparator 24 generate a desired signal or check the function operation by comparing with expected data.

이하, 본 발명에 따른 반도체 테스트장치의 특징적인 테스트 방법을 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, a characteristic test method of the semiconductor test apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.

도 3a는 종래의 반도체 테스트장치의 테스트 방법을 나타내는 도면이고, 도 3b는 본 발명에 따른 반도체 테스트장치의 실시 예에 따른 테스트 순서를 나타내는 도면이다. 도 3은 웨이퍼 테스터와 패키지 테스터 및 반도체 모듈 테스터에 모두 적용될 수 있다.3A is a diagram illustrating a test method of a conventional semiconductor test apparatus, and FIG. 3B is a diagram illustrating a test procedure according to an embodiment of the semiconductor test apparatus according to the present invention. 3 may be applied to both a wafer tester, a package tester, and a semiconductor module tester.

도 3a 및 도 3b의 Open/Short는 Open test, Short test를 나타내는 것으로서, 이 테스트는 탐침 카드(36)와 반도체 메모리의 핀(pin)(단, 웨이퍼 테스트에서는 패드(pad))과 접촉이 제대로 이루어졌는지와 어떤 핀이 다른 핀 또는 전원 등에 쇼트(short) 되지는 않았는가를 테스트하는 것이다. 쇼트(short)는 무효한 칩에 패드가 정상적으로 형성이 되어 있지 않은 경우에 발생할 수도 있으며, 탐침 카드 (36)의 탐침(38)이 직접 쇼트 되지는 않았지만 탐침(38)이 접촉하고 있는 무효한 칩의 패드 부분에 메탈(metal) 층이 있을 경우 원하지 않는 쇼트를 유발할 수도 있다. 그러므로, 무효한 칩(절연층 등)은 Open test/Short test에 의해 테스트 공정이 스킵(skip) 될 수도 있다. 또한, 이러한 Open test/Short test는 반도체 메모리 외부의 Open/Short를 검출하는 것뿐만 아니라 반도체 메모리 내부의 보이지 않는 공정상의 Open/Short를 검출할 수도 있다.3A and 3B show an open test and a short test, and the test is performed in proper contact with the pin of the probe card 36 and the semiconductor memory (except a pad in the wafer test). It is tested to see if it is done and which pin is shorted to another pin or power supply. A short may occur when pads are not normally formed on an invalid chip, and the chip 38 is in contact with the probe 38 although the probe 38 of the probe card 36 is not directly shorted. The presence of a metal layer on the pad portion of the pad may cause unwanted shorts. Therefore, an invalid chip (insulating layer, etc.) may skip the test process by the open test / short test. In addition, the open test / short test may detect not only the open / short of the semiconductor memory but also the open / short of the invisible process inside the semiconductor memory.

그런데, 도 3a에 도시된 바와 같이 종래의 테스트 방법에는 하나의 반도체 소자에서 여러 항목(item)의 테스트가 필요한 경우 각 항목별 테스트는 전원(Power)의 차단 없이 연속적으로 테스트가 진행되었다. 이로 인하여 테스트 항목에 따른 전류, 전압의 차이에 의하여 급격한 전류나 전압의 변화가 있는 경우 테스트 되는 반도체뿐만 아니라 반도체 테스트장치까지 손상시키는 문제가 발생하였다.However, as illustrated in FIG. 3A, when a test of several items is required in one semiconductor device, the test for each item is continuously performed without shutting off the power. As a result, when a sudden change in current or voltage occurs due to a difference in current and voltage according to a test item, a problem occurs that damages not only the semiconductor being tested but also the semiconductor test apparatus.

그러므로 본 발명에서는 도 3b에서 보는 바와 같이 각 테스트 항목의 테스트가 끝나면 초기화를 위해 전원을 차단시킨다. 이로써 각 항목에 따른 전류, 전압의 차이에 의하여 급격한 전류나 전압의 변화를 방지하여 테스트 되는 반도체뿐만 아니라 반도체 테스트장치까지 손상되는 문제를 미리 방지할 수 있는 효과가 있다.Therefore, in the present invention, as shown in Fig. 3b, when the test of each test item is finished, the power is turned off for initialization. As a result, there is an effect of preventing the problem of damage to not only the semiconductor being tested but also the semiconductor test apparatus by preventing sudden changes in current or voltage due to a difference in current and voltage according to each item.

다음으로, 도 4는 본 발명에 따른 반도체 테스트방법에 의한 다른 실시 예를 나타내는 도면이다.Next, Figure 4 is a view showing another embodiment by a semiconductor test method according to the present invention.

최근 반도체 메모리의 집적도가 높아지면서 멀티 사이트 테스트(multi-site test) 방법이 널리 도입되고 있는데 본 발명에서도 멀티 사이트 테스트가 적용될수 있다. 예를 들어, 만약 반도체 테스트장치의 채널(channel)이 512라고 하고, 테스 트하고자 하는 반도체 메모리의 핀(pin) 수가 128개 이하라면 최대 4개의 사이트를 구성해서 테스트가 가능할 수 있다.Recently, as the degree of integration of semiconductor memory increases, a multi-site test method has been widely introduced. The multi-site test may also be applied to the present invention. For example, if the channel of the semiconductor test apparatus is 512, and the number of pins of the semiconductor memory to be tested is 128 or less, the test may be performed by configuring up to four sites.

본 발명에 따른 반도체 테스트장치의 테스트 방법에 의하면, 도 4에서 도시된 바와 같이 한번에 여러 개의 반도체 웨이퍼(200)의 칩들을 테스트할 수 있는 멀티 사이트 테스트를 수행할 경우, 반도체 웨이퍼(200)의 에지(edge) 부분에 있는 유효하지 않은 무효한 다이(Dummy die)(120)의 전원을 차단시키고, 유효한 다이(Test die)(110)만 전원을 인가시킨다. 이로써, 탐침 카드의 한 사이트가 반도체 웨이퍼(200)의 에지(edge) 부분에 있는 유효하지 않은 무효한 다이(120)를 접촉했을 때 순간적으로 높은 전압, 전류가 인가되어 무효한 다이(120)의 탐침(130)이 많은 스트레스를 받게 되고 일정한 한계를 넘어가 타버리는 문제가 예방된다.According to the test method of the semiconductor test apparatus according to the present invention, as shown in Figure 4, when performing a multi-site test that can test the chips of several semiconductor wafers 200 at a time, the edge of the semiconductor wafer 200 Turn off the power of the invalid invalid die (Dummy die) 120 in the (edge) portion, and apply only the valid test die (110). As a result, when a site of the probe card contacts an invalid invalid die 120 at the edge portion of the semiconductor wafer 200, a high voltage and current are instantaneously applied to the invalid die 120. Probe 130 is subjected to a lot of stress and the problem of burning over a certain limit is prevented.

그 다음으로 본 발명에 따른 반도체 테스트방법의 또 다른 실시 예를 설명한다.Next, another embodiment of a semiconductor test method according to the present invention will be described.

종래의 테스트 장비는 단순히 정해진 전압, 전류만을 공급하게 하는 함수로 이루어져 있었으나, 본 발명에서는 좀 더 세밀한 조정이 가능한 함수로 변경하는 데 특징이 있다. 그렇게 함으로써 테스트 항목별로 필요한 전압, 전류를 사전에 제어하여 반도체 테스트장치에서의 항목별 전압, 전류의 급격한 변화를 미리 방지할 수 있는 효과가 있다. 이러한 기능은 테스트를 하는 동안 테스트 시스템에 의해 공급되는 전압이나 전류의 양을 제한하는 하드웨어인 클램프(Clamp)에 의해서 수행될 수 있다.Conventional test equipment was simply made of a function of supplying only a predetermined voltage and current, but the present invention is characterized in that it is changed to a function that can be adjusted more finely. By doing so, the voltage and current required for each test item are controlled in advance, thereby preventing the sudden change of the voltage and current for each item in the semiconductor test apparatus in advance. This function can be performed by a clamp, hardware that limits the amount of voltage or current supplied by the test system during the test.

그 다음으로 본 발명에 실시 예에 따른 테스트장치는 메모리 테스트에 있어 서 패키지 테스트에 적용이 가능하다. 이하 이를 상세히 설명한다.Next, the test apparatus according to the embodiment of the present invention can be applied to the package test in the memory test. This will be described in detail below.

본 발명의 실시 예에 따른 패키지 검사장치는 상기한 웨이퍼 검사장치(100)와 구성이 유사하다.Package inspection apparatus according to an embodiment of the present invention is similar in configuration to the wafer inspection apparatus 100 described above.

한편, 본 발명의 실시 예에 따른 패키지 검사장치에 있어서 상기한 웨이퍼 검사장치(100)의 탐침 스테이션(39)에 해당하는 장비를 테스트 핸들러(test handler)(미도시)라고 부른다.On the other hand, in the package inspection apparatus according to an embodiment of the present invention the equipment corresponding to the probe station 39 of the wafer inspection apparatus 100 is called a test handler (not shown).

상기 테스트 핸들러의 기본적인 기능은 패키지 테스트 공정에서 반도체 메모리를 테스트하기에 적절한 온도와 환경을 조성해주고, 전기적 테스트를 위하여 메모리를 자동으로 테스트하고자 하는 위치로 이송시키는 등의 기능을 한다. The basic function of the test handler is to create a temperature and environment suitable for testing a semiconductor memory in a package test process, and to automatically transfer the memory to a location to be tested for electrical testing.

상기 테스트 핸들러는 그 용도에 따라 매우 다양한 종류가 있을 수 있으며, 메모리의 이송 방법에 따라 분류하면 수직식과 수평식 테스트 핸들러를 포함한다.The test handler may be classified into various types according to its purpose, and may be classified into vertical and horizontal test handlers according to the memory transfer method.

상기 수직식 테스트 핸들러는 트레이 로더(tray loader), 예열 존(preheating zone), 인풋 셔틀(input shuttle), 테스트 사이트(test site), 아웃풋 셔틀(output shuttle), 트레이 언로더(tray unloader)를 포함할 수 있으며, 테스트 사이트는 1~4개일 수 있다.The vertical test handler includes a tray loader, a preheating zone, an input shuttle, a test site, an output shuttle and a tray unloader. You can do this, and there can be one to four test sites.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 테스트장치는 메모리 모듈 검사장치에 적용이 가능하다. 이하 이를 상세히 설명한다.In addition, the semiconductor test apparatus according to an embodiment of the present invention may be applied to a memory module test apparatus. This will be described in detail below.

최근 패키징 기술이 급속히 발전함에 따라 메모리를 직접 PCB에 장착하는 대신 모듈(module) 형태로 제작하여 마더보드(mother board)의 메모리 소켓에 그대로 삽입하여 사용할 수 있는 메모리 모듈이 출하되고 있다.Recently, with the rapid development of packaging technology, memory modules are being shipped that can be used in the form of modules instead of mounting the memory directly on the PCB and inserted into the memory sockets of the motherboard.

본 발명의 실시 예에 따른 메모리 모듈 검사장치에 적용할 수 있는 메모리 모듈 패키지에는 SIMM(Single in-line memory module), DIMM(dual in-line memory module), RIMM(rambus in-line memory module), JLCC(j-lead chip carrier) 등이 있을 수 있다.The memory module package applicable to the memory module test apparatus according to an embodiment of the present invention includes a single in-line memory module (SIMM), a dual in-line memory module (DIMM), a rambus in-line memory module (RIMM), There may be a j-lead chip carrier (JLCC).

본 발명의 실시 예에 따른 메모리 모듈 검사장치의 테스트 핸들러는 외부로부터 테스트하고자 하는 모듈을 공급하는 로더, 상기 모듈을 담은 트레이로부터 모듈을 테스트하기 위한 장소로 운반하고 동시에 여러 개의 모듈을 집어서 이송시키는 그리퍼(gripper), 테스터와 전기적으로 연결되어 있는 소켓에 모듈을 꽂아서 테스트를 수행하는 테스트 사이트, 테스트 결과에 따라 출하용 트레이 혹은 불량품 트레이로 분류하고 출하하는 언로더를 포함할 수 있다. 이러한, 메모리 모듈 테스트 핸들러는 1~16개의 메모리 모듈을 멀티테스트 할 수 있다.The test handler of the memory module inspection apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention carries a loader for supplying a module to be tested from the outside, transports the module from a tray containing the module to a place for testing, and simultaneously picks up and transfers several modules. It may include a gripper, a test site where the module is plugged into a socket electrically connected to the tester, and an unloader classified and shipped as a shipping tray or a defective tray according to the test result. Such a memory module test handler can multi test 1 to 16 memory modules.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 반도체 테스트장치 및 그 테스트 방법에 의하면, 제어부에 각각의 테스트 항목(test item)의 테스트가 끝나면 전원(power)을 차단(down)시킴으로써 순간적인 과전압, 과전류로 인한 테스트장치 및 탐침 카드의 손상을 방지하는 효과가 있다.As described above, according to the semiconductor test apparatus and the test method thereof, after the test of each test item is completed, the controller cuts off the power to provide an instantaneous overvoltage, This prevents damage to the test equipment and the probe card due to overcurrent.

또한, 본 발명의 실시 예에 의하면 제어부에 멀티사이트(multi site) 테스트하는 경우 테스트하고 있는 사이트(site)만 전원을 인가하고 다른 사이트는 전원을 차단하여 상기 테스트장치 및 탐침 카드의 손상을 방지하는 효과가 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, when the multi-site test to the control unit is applied to power only the site (test) and other sites to cut off the power to prevent damage to the test device and the probe card It works.

또한, 본 발명의 실시 예에 의하면 제어부에 테스트 항목에 대한 전압 및 전 류를 공급하는 함수에 소정의 제한 값을 테스트 항목별로 설정하여 전압과 전류의 인가를 보다 안정적으로 제어하여 테스트장치 및 탐침 카드의 손상을 방지하는 효과가 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention by setting a predetermined limit value for each test item to a function for supplying the voltage and current for the test item to the control unit to more stably control the application of voltage and current to the test device and probe card It is effective to prevent damage.

그리고, 본 발명의 실시 예에 의하면 상기한 방법에 의해 테스트장치 및 탐침 카드의 손상을 방지함으로써 상당한 시간적, 금전적 낭비를 막아주는 효과도 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, by preventing the damage to the test apparatus and the probe card by the above method, there is also an effect of preventing significant time and money waste.

Claims (6)

반도체를 테스트하기 위한 테스터와, A tester for testing semiconductors, 상기 테스터를 통해 적어도 두 가지 이상의 테스트를 순차적으로 수행하는 경우 제1 테스트 후 상기 테스터에 전원을 차단하고 제2 테스트를 위해 상기 테스터에 전원을 인가하는 제어부가 포함되어 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트장치.In the case where at least two or more tests are sequentially performed through the tester, the semiconductor test unit may include a control unit which cuts power to the tester after the first test and applies power to the tester for the second test. Device. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제어부는 복수 개의 반도체를 동시에 멀티테스트하는 경우 선택된 복수 개의 반도체 중 유효한 반도체를 테스트하는 테스터에 전원을 인가하고, 무효한 반도체를 테스트하는 테스터에는 전원을 차단하는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트장치.The control unit applies power to a tester for testing valid semiconductors among a plurality of selected semiconductors when multi-testing a plurality of semiconductors simultaneously, and cuts off power to a tester for testing invalid semiconductors. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제어부는 테스트의 유형(item)에 따라 인가되는 전압과 전류 중 적어도 하나를 제한하는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트장치.The control unit limits the at least one of the voltage and current applied according to the type (item) of the test. 반도체에 적어도 두 가지 이상의 테스트를 순차적으로 수행하는 경우에 있어서,In the case where at least two or more tests are sequentially performed on a semiconductor, 상기 반도체에 제1 테스트를 수행하는 단계와,Performing a first test on the semiconductor; 상기 제1 테스트 후 전원을 차단하는 단계와,Disconnecting power after the first test; 상기 반도체에 제2 테스트를 위해 전원을 인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트방법.And applying power to the semiconductor for a second test. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 각각의 테스트 유형(item)에 따라 인가되는 전압과 전류 중 적어도 하나를 제한하는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트방법.And limiting at least one of a voltage and a current applied according to each test type. 복수 개의 반도체를 동시에 멀티테스트하는 경우에 있어서,In the case of multi-testing a plurality of semiconductors at the same time, 상기 반도체를 유효한 반도체와 무효한 반도체로 선별하는 단계와,Selecting the semiconductor as a valid semiconductor and an invalid semiconductor; 상기 유효한 반도체를 테스트하는 테스터에 전원을 인가하고 무효한 반도체를 테스트하는 테스터에는 전원을 차단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트방법.Applying a power to a tester for testing the valid semiconductor and cutting off the power to the tester for testing the invalid semiconductor.
KR1020050131539A 2005-12-28 2005-12-28 Semiconductor test apparatus and test method Expired - Fee Related KR100821095B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050131539A KR100821095B1 (en) 2005-12-28 2005-12-28 Semiconductor test apparatus and test method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050131539A KR100821095B1 (en) 2005-12-28 2005-12-28 Semiconductor test apparatus and test method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070069415A true KR20070069415A (en) 2007-07-03
KR100821095B1 KR100821095B1 (en) 2008-04-10

Family

ID=38505035

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050131539A Expired - Fee Related KR100821095B1 (en) 2005-12-28 2005-12-28 Semiconductor test apparatus and test method

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100821095B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240002378A (en) * 2022-06-29 2024-01-05 주식회사 제니스코리아 Examination apparatus of a dishwasher
KR20240002377A (en) * 2022-06-29 2024-01-05 주식회사 제니스코리아 Examination method of a dishwasher

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102033560B1 (en) 2018-11-26 2019-10-17 (주)케미텍 A Test Device Of Semi-Conductor
KR102394897B1 (en) 2020-04-28 2022-05-06 (주)케미텍 A Test Device Of Semi-Conductor

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990061140A (en) * 1997-12-31 1999-07-26 김영환 Pad Placement Method of Semiconductor Chip for Multichip Test
KR100382248B1 (en) * 2000-09-23 2003-05-01 에스티에스반도체통신 주식회사 Electrical test system of semiconductor & testing method the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240002378A (en) * 2022-06-29 2024-01-05 주식회사 제니스코리아 Examination apparatus of a dishwasher
KR20240002377A (en) * 2022-06-29 2024-01-05 주식회사 제니스코리아 Examination method of a dishwasher

Also Published As

Publication number Publication date
KR100821095B1 (en) 2008-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6321353B2 (en) Intelligent binning for electrically repairable semiconductor chips
US6265888B1 (en) Wafer probe card
US7473568B2 (en) Memory-module manufacturing method with memory-chip burn-in and full functional testing delayed until module burn-in
KR100466984B1 (en) Integrated circuit chip having test element group circuit and method of test the same
US5764650A (en) Intelligent binning for electrically repairable semiconductor chips
US6630685B1 (en) Probe look ahead: testing parts not currently under a probehead
US20020005729A1 (en) Method and system for probing, testing, burn-in, repairing and programming of integrated circuits in a closed environment using a single apparatus
US7479793B2 (en) Apparatus for testing semiconductor test system and method thereof
US7906982B1 (en) Interface apparatus and methods of testing integrated circuits using the same
US8624615B2 (en) Isolation circuit
US7719301B2 (en) Testing method of semiconductor integrated circuit and information recording medium
KR100688517B1 (en) Parallel inspection method of semiconductor device by dividing voltage supply unit
KR100821095B1 (en) Semiconductor test apparatus and test method
KR20070047846A (en) Semiconductor integrated circuit device and its inspection method, semiconductor wafer, burn-in inspection device
US6600329B2 (en) Method for inspecting electrical properties of a wafer and apparatus therefor
KR20050121376A (en) Test device for semiconductor device and method of testing semiconductor device by using the test device
KR20040054904A (en) Socket and managing system for test results of semiconductor device using the socket
JP3783865B2 (en) Semiconductor device, burn-in test method, manufacturing method thereof, and burn-in test control circuit
US20030132489A1 (en) Determination of whether integrated circuit is acceptable or not in wafer-level burn-in test
US20040145387A1 (en) Integrated monitoring burn-in test method for multi-chip package
KR20060005820A (en) Device and parallel test method for parallel testing of semiconductor devices
KR100470989B1 (en) Verification Probe Card
JP2005292062A (en) Inspection method and manufacturing method for multichip module
JPS62179755A (en) Semiconductor integrated circuit with built-in test circuit
KR19990016650A (en) Simultaneous Inspection of Semiconductor Wafers

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20051228

A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20070327

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20051228

Comment text: Patent Application

PG1501 Laying open of application
E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20080329

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20080402

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20080402

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
LAPS Lapse due to unpaid annual fee
PC1903 Unpaid annual fee