KR20030049832A - Method for prevention of frost in semiconductor test handler - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 소자를 테스트하는 핸들러에서 성에가 발생하는 것을 방지하기 위한 방법에 관한 것으로, 특히 액화질소 등의 냉각유체를 사용하여 반도체 소자를 저온 테스트하는 경우 핸들러의 테스트 사이트에서 냉각유체에 의해 성에가 발생하는 것을 방지할 수 있는 성에 방지 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preventing frost from occurring in a handler for testing a semiconductor device. Particularly, when the semiconductor device is low-temperature tested using a cooling fluid such as liquefied nitrogen, the present invention relates to frost caused by the cooling fluid at a test site of the handler. It relates to a frost prevention method that can prevent the occurrence of.
일반적으로, 생산라인에서 생산 완료된 반도체 소자(Device)들은 출하전에 양품인지 혹은 불량품인지의 여부를 판별하기 위한 테스트를 거치게 된다.In general, semiconductor devices produced in a production line are subjected to a test for determining whether they are good or bad before shipment.
핸들러는 이러한 반도체 소자들을 테스트하는데 이용되는 장비로서, 트레이에 담겨진 반도체 소자를 공정간에 자동으로 이송시키면서 테스트사이트의 테스트소켓에 이들을 장착하여 원하는 테스트를 실시한 후 테스트 결과에 따라 여러 등급으로 분류하여 다시 트레이에 언로딩하는 과정을 순차적으로 반복 수행하며 테스트를 실행하도록 된 장비이다.The handler is a device used to test these semiconductor devices. The semiconductor devices contained in the trays are automatically transferred between processes, mounted on the test sockets of the test site, and the desired test is performed. It is a device that executes the test by sequentially repeating the unloading process.
최근에는 반도체 소자가 이용되는 환경이 다양화됨에 따라 반도체 소자들이 상온에서 뿐만 아니라 고온 또는 저온의 특정 온도 환경에서도 안정적인 제기능을 수행하도록 요구되는 바, 최근의 핸들러들은 자체에서 히터 또는 액화질소를 이용하여 사용자가 원하는 특정 온도 환경을 조성하여 소정의 온도 조건에서 반도체 소자들의 성능을 테스트할 수 있도록 개발되고 있다.Recently, as the environment in which semiconductor devices are used is diversified, semiconductor devices are required to perform stable functions not only at room temperature but also at specific temperatures such as high temperature or low temperature. Recently, handlers use a heater or liquid nitrogen in themselves. By developing a specific temperature environment desired by the user is being developed to test the performance of the semiconductor device at a predetermined temperature conditions.
그런데, 이와 같이 온도 테스트를 수행할 수 있는 종래의 핸들러에서는 저온 테스트를 위해 액화질소를 사용하게 되는 바, 액화질소의 공급을 위해 구성된 요소들이 외부로 노출되어 대기와 만나게 되면 성에가 발생하게 되고, 이러한 성에는 핸들러의 구성요소, 특히 전기적으로 작동하는 구성요소에 나쁜 영향을 끼치게 되어 기기의 오작동 또는 고장을 일으키는 문제점이 있었다.However, in the conventional handler capable of performing the temperature test, the liquid nitrogen is used for the low temperature test. When the elements configured for the supply of the liquid nitrogen are exposed to the outside and meet the atmosphere, frost is generated. Such a castle adversely affects the components of the handler, in particular, the electrically operated components, causing a malfunction or failure of the device.
따라서, 종래에는 성에가 발생되는 주요 부분을 단열재로 감싸고 이 부분에 히터 또는 송풍팬 등의 장치를 추가로 설치하여 성에를 방지하도록 하고 있으나, 이 경우 추가로 설치되는 장비로 인해 비용이 많이 소요되고 장비의 구성도 복잡해지는 문제점이 있다.Therefore, in the related art, the main part of the frost generated is wrapped with a heat insulator and an additional device such as a heater or a blower fan is installed to prevent the frost, but in this case, it is expensive due to the additional equipment. There is a problem that the configuration of the equipment is also complicated.
이에 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 장비의 구조를 복잡하게 하지 않고 간단한 방법으로 핸들러의 테스트 사이트에서 액화질소로 인한 성에 발생을 방지할 수 있도록 함에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, and its object is to prevent frost caused by liquefied nitrogen at the test site of the handler in a simple manner without complicating the structure of the equipment.
도 1은 본 발명에 따른 성에 방지 방법이 적용되는 핸들러의 테스트 사이트의 사시도1 is a perspective view of a test site of a handler to which a frost preventing method according to the present invention is applied
도 2는 도 1의 핸들러의 테스트 사이트에서 이루어지는 성에 방지 작용을 나타낸 작용도Figure 2 is a functional diagram showing the anti-frost action performed at the test site of the handler of Figure 1
* 도면의 주요부분의 참조부호에 대한 설명 *Explanation of Reference Symbols in Major Parts of Drawings
1 : 테스트 사이트 2 : 챔버1: test site 2: chamber
21 : 셔터 22 : 배기공21: shutter 22: exhaust hole
3 : 테스트소켓 4 : 예열플레이트3: test socket 4: preheating plate
42 : 액화질소 공급관 43 : 유동홈42: liquid nitrogen supply pipe 43: flow groove
44 : 배출구 5a, 5b : 제 1,2인덱스헤드44 outlet 5a, 5b, the first and second index head
51 : 픽커 53 : 액화질소 공급관51: picker 53: liquid nitrogen supply pipe
54 : 유동홈 55 : 배출구54: flow groove 55: outlet
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 내부에 히터 및 냉각유체 공급수단을 구비하여 안착된 반도체 소자를 소정의 온도로 가열 및 냉각되는 예열부와, 반도체 소자의 테스트가 이루어지는 테스트소켓과, 내부에 히터 및 냉각유체 공급수단을 구비하고 상기 예열부로부터 테스트소켓으로 반도체 소자를 이송하여 장착하여 주는 인덱스장치를 포함하여 구성된 핸들러의 테스트 사이트에서 저온 테스트시 성에 발생을 방지하기 위한 방법에 있어서, 미세한 배기공이 형성된 챔버를 상기 테스트 사이트를 밀폐하도록 설치하고, 상기 예열부 및 인덱스장치의 각 냉각유체 공급수단을 통해 공급되는 냉각유체가 예열부 및 인덱스장치 내부에서 열교환된 후 외부로 배출되도록 하여, 상기 외부로 배출되는 냉각유체에 의해 챔버 내부 압력을 고압으로 유지하여 챔버 내부의 공기를 배기공을 통해 챔버 외부로 배출시키고 외부의 공기가 챔버 내부로 유입되지 않도록 한 것을 특징으로 하는 반도체 소자 테스트 핸들러의 성에 방지 방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a preheating unit for heating and cooling a semiconductor element seated with a heater and a cooling fluid supply means therein to a predetermined temperature, and a test socket for testing the semiconductor element; In the method for preventing the occurrence of frost during the low temperature test at the test site of the handler comprising an indexing device having a heater and a cooling fluid supply means therein, the index device for transporting and mounting the semiconductor element from the preheating unit to the test socket, A chamber in which a fine exhaust hole is formed is installed to seal the test site, and the cooling fluid supplied through each cooling fluid supply means of the preheating unit and the indexing device is discharged to the outside after heat exchanged in the preheating unit and the indexing device. The internal pressure of the chamber is increased by the cooling fluid discharged to the outside. It maintains as to provide a method for preventing the frost of the semiconductor device test handler, characterized in that to discharge the air inside the chamber to the outside of the chamber through the exhaust hole to prevent the outside air flow into the chamber.
이하, 본 발명에 따른 핸들러의 성에 방지 방법의 일 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, an embodiment of a method for preventing frost of a handler according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명에 따른 성에 방지 방법이 적용되는 핸들러의 테스트 사이트의 일실시예를 나타내고, 도 2는 도 1의 핸들러의 테스트 사이트에서 이루어지는 성에 방지 작용을 나타낸 작용도이다.1 is a view illustrating an embodiment of a test site of a handler to which a frost prevention method according to the present invention is applied, and FIG. 2 is a functional diagram illustrating a frost prevention action performed at a test site of the handler of FIG. 1.
도 1과 도 2에 도시된 것과 같이, 핸들러 본체의 후방에는 위치된 테스트 사이트(1)에는 외부의 테스트장비와 전기적으로 연결되어 반도체 소자의 테스트가 이루어지는 테스트소켓(3)과, 온도 테스트시 테스트할 반도체 소자들을 소정의 온도로 가열 및 냉각하는 예열플레이트(4) 및, 테스트소켓(3)의 상측에 상하 및 좌우로 이동가능하게 설치되어 상기 예열플레이트(4)의 반도체 소자를 픽업하여 테스트소켓(3)에 장착하여 주는 제 1인덱스헤드(5a) 및 제 2인덱스헤드(5b)가 설치되어 있다.As shown in Figure 1 and 2, the test site (1) located at the rear of the handler body, the test socket (3) which is electrically connected to an external test equipment to test the semiconductor device, and the test at the temperature test The preheating plate 4 for heating and cooling the semiconductor elements to a predetermined temperature, and installed on the upper side of the test socket 3 so as to be movable up and down and left and right, picks up the semiconductor elements of the preheating plate 4 to the test socket. The first index head 5a and the second index head 5b to be attached to (3) are provided.
그리고, 테스트 사이트(1)에는 상기 테스트소켓(3)과 예열플레이트(4) 및 제 1,2인덱스헤드(5a, 5b)를 내부에 밀폐되게 수용하도록 투명한 아크릴 재질의 챔버(2)가 설치되는데, 상기 챔버(2)에는 내부의 공기가 배출될 수 있도록 미세한 배기공(22)이 형성된다.In addition, the test site 1 is provided with a transparent acrylic chamber 2 to receive the test socket 3, the preheating plate 4, and the first and second index heads 5a and 5b in an airtight manner. In the chamber 2, minute exhaust holes 22 are formed to discharge air therein.
챔버(2)의 전방에는 반도체 소자를 테스트 사이트 내로 투입할 수 있도록 셔터(21)가 개폐가능하게 설치된다.In front of the chamber 2, the shutter 21 is installed to be opened and closed so that the semiconductor element can be introduced into the test site.
한편, 상기 예열플레이트(4)는 그 상부면에 안착된 반도체 소자를 가열 및 냉각하기 위하여 내부에 전열히터(41) 및 액화질소 공급관(42)으로부터 공급되는 액화질소(LN2)가 유동하는 유동홈(43)을 구비하고, 예열플레이트(4) 일측에는 상기 액화질소 유동홈(43)을 통해 유동한 액화질소 가스(N2)가 외부로 배출되도록 배출구(44)가 형성되어 있다.On the other hand, the preheating plate 4 is a flow in which liquefied nitrogen (LN 2 ) supplied from the heat transfer heater 41 and the liquefied nitrogen supply pipe 42 flows therein to heat and cool the semiconductor element seated on the upper surface thereof. It is provided with a groove 43, the outlet plate 44 is formed on one side of the preheating plate 4 so that the liquid nitrogen gas (N 2 ) flowing through the liquid nitrogen flow groove 43 is discharged to the outside.
그리고, 상기 제 1인덱스헤드(5a)와 제 2인덱스헤드(5b)의 내부에도 예열플레이트(4)가 소정의 온도로 가열 및 냉각된 반도체 소자(10)의 온도를 유지하기 위하여 전열히터(52) 및 액화질소 공급관(53)으로부터 공급되는 액화질소(LN2)가 유동하는 유동홈(54)이 형성되고, 제 1,2인덱스헤드(5a, 5b)의 베이스판(56)의 일측에는 액화질소 가스(N2)가 배출되는 배출구(54)가 형성되어 있다.In addition, in order to maintain the temperature of the semiconductor element 10 in which the preheating plate 4 is heated and cooled to a predetermined temperature inside the first index head 5a and the second index head 5b, the heat transfer heater 52 is provided. ) And a flow groove 54 through which liquefied nitrogen (LN 2 ) supplied from the liquefied nitrogen supply pipe 53 flows, and on one side of the base plate 56 of the first and second index heads 5a and 5b. A discharge port 54 through which nitrogen gas N 2 is discharged is formed.
따라서, 성에 발생이 문제가 되는 반도체 소자의 저온 테스트시, 상기 예열플레이트(4)의 액화질소 공급관(42)을 통해 유입된 액화질소가 유동홈(43)을 따라 유동하면서 예열플레이트(4) 및 이에 안착된 반도체 소자를 냉각시킨 다음 배출구(44)를 통해 외부로 배출됨과 더불어, 상기 제 1,2인덱스헤드(5a, 5b)의 액화질소 공급관(53)을 통해서 유입된 액화질소가 유동홈(54)을 따라 유동한 후 제 1,2인덱스헤드(5a, 5b)의 픽커(51)로 분사되어 픽커(51) 및 이에 픽업된 반도체 소자(10)를 냉각시키고 배출구(55)를 통해 배출된다.Therefore, during the low temperature test of a semiconductor device in which frost generation is a problem, the liquefied nitrogen introduced through the liquefied nitrogen supply pipe 42 of the preheated plate 4 flows along the flow groove 43 and the preheated plate 4 and After cooling the semiconductor element seated thereon, it is discharged to the outside through the outlet 44, and the liquid nitrogen introduced through the liquid nitrogen supply pipe 53 of the first and second index heads 5a and 5b flows through the groove ( After flowing along 54, it is injected into the pickers 51 of the first and second index heads 5a and 5b to cool the picker 51 and the semiconductor element 10 picked up therefrom, and is discharged through the outlet 55. .
이 때, 상기 예열플레이트(4)의 배출구(44)와 제 1,2인덱스헤드(5a, 5b)의 배출구(55)를 통해 배출되는 액화질소는 기화되면서 건조해진 상태이다.At this time, the liquid nitrogen discharged through the outlet 44 of the preheating plate 4 and the outlet 55 of the first and second index heads 5a and 5b is in a dry state while being vaporized.
상기와 같이 저온 테스트시, 상기 예열플레이트(4) 및 제 1,2인덱스헤드(5a, 5b)로부터 지속적으로 건조한 액화질소 가스(N2)가 배출되면서 챔버(2) 내부의 압력이 점차적으로 높아지고, 이에 따라 챔버(2) 내부에 있던 공기는 배기공(22)을 통해 외부로 강제 배출된다.In the low temperature test as described above, the pressure inside the chamber 2 is gradually increased while the liquid nitrogen gas N 2 is continuously dried from the preheating plate 4 and the first and second index heads 5a and 5b. Therefore, the air inside the chamber 2 is forced out through the exhaust hole 22.
일정 정도 시간이 경과하면 챔버(2) 내부는 건조한 액화질소 가스(N2)로 채워지게 되므로 성에가 발생하지 않게 되는데, 이 때 챔버(2) 내부는 고압인 상태이므로 테스트가 실행중일 때에는 외부의 공기가 배기공(22)을 통해 챔버(2) 내로 재유입되지 않으며, 따라서 외부 공기에 의해 챔버 내부에 성에가 발생할 가능성이 거의 없다.After a certain time, the inside of the chamber 2 is filled with dry liquefied nitrogen gas (N 2 ) so that no frost occurs. In this case, since the inside of the chamber 2 is a high-pressure state, Air is not re-introduced into the chamber 2 through the exhaust hole 22, so there is little possibility that frost is generated inside the chamber by the outside air.
한편, 전술한 실시예에서는 챔버(2)에 인위적으로 배기공(22)을 형성하여 내부공기를 배출시키는 것으로 하였으나, 챔버(2)의 전방 셔터(21) 및 챔버(2)가 설치될 때 주변 구성요소와의 간섭에 의해 미세한 틈새가 발생하게 되므로 이 틈새가 배기공의 역할을 하여 공기의 배출이 이루어질 수 있다.On the other hand, in the above-described embodiment, it is assumed that the exhaust hole 22 is artificially formed in the chamber 2 to discharge the internal air, but when the front shutter 21 and the chamber 2 of the chamber 2 are installed, Since a small gap is generated by the interference with the component, the gap may serve as an exhaust hole to release air.
따라서, 상기와 같이 챔버에 미세한 틈새가 발생하는 경우에는 전술한 실시예와 같이 인위적으로 배기공을 형성하지 않아도 된다.Therefore, when a minute gap occurs in the chamber as described above, it is not necessary to artificially form the exhaust hole as in the above-described embodiment.
이상에서와 같이 본 발명에 따르면, 핸들러 장비의 구조를 복잡하게 하지 않고 간단한 구성으로 챔버 내부를 건조한 냉각유체로 채울 수 있고, 따라서 냉각유체와 외부 공기와의 접촉에 의해 성에가 발생할 가능성이 최소화되므로 핸들러의구성요소를 안전하게 보호할 수 있게 된다.As described above, according to the present invention, it is possible to fill the inside of the chamber with a dry cooling fluid in a simple configuration without complicating the structure of the handler equipment, and thus minimize the possibility of frost caused by contact between the cooling fluid and the outside air. The handler's components can be secured.
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KR1020010080153A KR20030049832A (en) | 2001-12-17 | 2001-12-17 | Method for prevention of frost in semiconductor test handler |
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Cited By (2)
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KR20170116875A (en) * | 2016-04-12 | 2017-10-20 | (주)테크윙 | Handler for electric device test |
KR101982516B1 (en) | 2018-08-30 | 2019-05-27 | 안병도 | Apparatus for testing of semiconductor |
-
2001
- 2001-12-17 KR KR1020010080153A patent/KR20030049832A/en not_active Application Discontinuation
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