KR20030047037A - 극판, 이를 채용한 리튬전지, 및 극판 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (25)
- 활물질 및 결합제를 함유하는 활물질층을 포함하는 극판에 있어서,실리콘 알콕사이드 화합물의 가수분해물을 축합중합하여 생성된 메조페이스 SiO2가 상기 활물질층의 내부에 균일하게 분포되어 있는 것을 특징으로 하는 극판.
- 제 1항에 있어서, 상기 메조페이스 SiO2의 입자 크기는 50nm∼10 ㎛인 것을 특징으로 하는 극판.
- 제 1항에 있어서, 상기 메조페이스 SiO2의 함량은 상기 결합제 100 중량부를 기준으로 5% 내지 75% 중량부인 것을 특징으로 하는 극판.
- 제 1항에 있어서, 상기 실리콘 알콕사이드 화합물은 테트라에틸오르소실리케이트(TEOS), 트리헥실실란(trihexylsilane), 또는 메칠트리메칠실리옥시프로펜(2-methyl-1-(trimethylsilyoxy)-1-propene)을 특징으로 하는 극판.
- 제 1항에 있어서, 상기 결합제는 PVDF, PVDF와 SBR의 혼합물, 및 비닐리덴 플루오라이드와 헥사플루오로 프로필렌의 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 극판.
- 제 1항에 있어서, 상기 활물질은 양극 활물질로서 설퍼, LiCoO2, LiMnO2, LiMn2O4, LiNiO2및 LiMxM'yO2로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상의 리튬 금속 산화물 또는 리튬 금속 복합 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 극판:여기서 M은 Mn, Ni, Co를, M'은 Ni, Cu, Ti, Mg를, x의 범위는 2∼1를, y의 범위는 0∼1를 각각 나타낸다.
- 제 1항에 있어서, 상기 활물질은 음극 활물질로서 결정질 또는 비정질의 카본 또는 그래파이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 극판.
- 제 1항에 있어서, 상기 활물질층은 상기 결합제 100 중량부를 기준으로 도전제인 아세틸렌 블랙 2% 내지 5% 중량부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 극판.
- 양극 활물질층을 포함하는 양극, 음극 활물질층을 포함하는 음극, 및 이들 사이에 개재된 세퍼레이터를 포함하는 리튬 전지에 있어서,상기 양극과 음극의 극판은 실리콘 알콕사이드 화합물의 가수분해물을 축합중합하여 생성된 메조페이스 SiO2가 상기 활물질층의 내부에 균일하게 분포되어 있는 것을 특징으로 하는 리튬 전지.
- 제 9항에 있어서, 상기 메조페이스 SiO2의 입자 크기는 50 nm∼10 ㎛인 것을 특징으로 하는 리튬 전지.
- 제 9항에 있어서, 상기 메조페이스 SiO2의 함량은 상기 결합제 100 중량부를 기준으로 5% 내지 75% 중량부인 것을 특징으로 하는 리튬 전지.
- 제 9항에 있어서, 상기 실리콘 알콕사이드 화합물은 테트라에틸오르소실리케이트(TEOS), 트리헥실실란(trihexylsilane), 또는 메칠트리메칠실리옥시프로펜(2-methyl-1-(trimethylsilyoxy)-1-propene)을 특징으로 하는 리튬 전지.
- 제 9항에 있어서, 상기 결합제는 PVDF, PVDF와 SBR의 혼합물, 및 비닐리덴플루오라이드와 헥사플루오로 프로필렌의 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 리튬 전지.
- 제 9항에 있어서, 상기 양극 활물질은 설퍼, LiCoO2, LiMnO2, LiMn2O4, LiNiO2및 LiMxM'yO2로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상의 리튬 금속 산화물 또는 리튬 금속 복합 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 리튬 전지:여기서 M은 Mn, Ni, Co를, M'은 Ni, Cu, Ti, Mg를, x의 범위는 2∼1를, y의 범위는 0∼1를 각각 나타낸다.
- 제 9항에 있어서, 상기 음극 활물질은 결정질 또는 비정질의 카본 또는 그래파이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 리튬 전지.
- 제 9항에 있어서, 상기 활물질층은 상기 결합제 100 중량부를 기준으로 도전제인 아세틸렌 블랙 2% 내지 5% 중량부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 리튬 전지.
- (a) 결합제 5%∼10% 중량부, 실리콘 알콕사이드 화합물 0.25%∼7.5% 중량부, 및 활물질 94.75%∼82.5% 중량부를 용매는 총 고형분의 50%∼60% 중량부를 유지하도록하여 균일하게 혼합하여 활물질 조성물을 형성하는 단계:(b) 상기 활물질 조성물을 집전체상에 코팅하고 상기 실리콘 알콕사이드 화합물의 가수분해반응과 그 가수분해물의 축합반응이 일어나도록 하여 상기 결합제 내에 메조페이스 SiO2가 균일하게 분포된 활물질층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 극판 제조 방법.
- 제 17항에 있어서, 상기 활물질 조성물은 산 또는 염기 촉매를 0.1%∼1% 더 포함하는 것을 특징으로 하는 극판 제조 방법.
- 제 18항에 있어서, 상기 산 촉매는 옥살산 인 것을 특징으로 하는 극판 제조 방법.
- 제 17항에 있어서, 상기 메조페이스 SiO2의 입자 크기는 50 nm∼10 ㎛인 것을 특징으로 하는 극판 제조 방법.
- 제 17항에 있어서, 상기 실리콘 알콕사이드 화합물은 테트라에틸오르소실리케이트(TEOS), 트리헥실실란(trihexylsilane), 또는 메칠트리메칠실리옥시프로펜(2-methyl-1-(trimethylsilyoxy)-1-propene)을 특징으로 하는 극판 제조 방법.
- 제 17항에 있어서, 상기 결합제는 PVDF, PVDF와 SBR의 혼합물, 및 비닐리덴 플루오라이드와 헥사플루오로 프로필렌의 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 극판 제조 방법.
- 제 17항에 있어서, 상기 활물질 중 양극 활물질은 LiCoO2, LiMnO2, LiMn2O4, LiNiO2및 LiMxM'yO2로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상의 리튬 금속 산화물 또는 리튬 금속 복합 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 극판 제조 방법:여기서 M은 Mn, Ni, Co를, M'은 Ni, Cu, Ti, Mg를, x의 범위는 2∼1를 , y의 범위는0∼1를 각각 나타낸다.
- 제 17항에 있어서, 상기 활물질 중 음극 활물질은 결정질 또는 비정질의 카본 또는 그래파이트인 것을 특징으로 하는 극판 제조 방법.
- 제 17항에 있어서, 상기 활물질층은 상기 결합제 100 중량부를 기준으로 도전제인 아세틸랜 블랙 2% 내지 5% 중량부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 극판 제조 방법.
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