KR20000017570A - 질화 규소 필름을 선택적으로 에칭하기 위한 조성물 및 방법 - Google Patents
질화 규소 필름을 선택적으로 에칭하기 위한 조성물 및 방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 용이하게 용해되는 규소 함유 성분의 수성 인산 에칭조에 관한 것이다. 조는 복합 반도체 소자 제조의 에칭 단계에 사용된다.
Description
본 발명은 반도체 소자의 제조에 사용되는 수성 인산 에칭 용액에 관한 것이다. 자세히 말하면, 본 발명은 질화 규소-산화 규소 복합 반도체 소자에서 이산화 규소 필름에 대한 질화 규소 필름의 향상된 에칭 선택도를 나타내는 수성 인산 에칭 용액을 제공한다. 이산화 규소에 대한 질화 규소의 선택적 에칭은 에칭조 용액에 용이하게 용해되는 육불화규산과 같은 규소 함유 성분과 수성 인산을 함유하는 에칭조 용액을 사용하여 이루어진다. 본 발명에서 "용이하게 용해되는 것"은 규소 함유 성분이 실온에서 수성 에칭조와 균일하게 혼합됨을 의미한다. 에칭조 용액은 불화수소산, 질산 또는 그들의 혼합물 또는 I 또는 II족의 원소를 함유하는 성분을 포함하지 않는다.
일련의 층으로 구성된 복합 반도체 소자의 제작은 전형적으로 여러 기본적 가공 단계들을 필요로 한다. 이러한 기본적 가공 단계들은 세정, 산화 (대기압 또는 고압), 리소그래피 (광리소그래피, 전자-빔, 및 X-레이), 확산과 이식에 의한 도핑, 침착 (전자총, 스퍼터, 화학증착 (chemical vapor deposition; CVD), 저압 화학 증착 (low pressure chemical vapor deposition; LPCVD) 및 플라즈마), 에칭 (습식 화학 및 건식 에칭 또는 플라즈마) 및 시험 단계를 포함한다. 이러한 일반적인 기술은 당업계의 숙련가들에게 잘 알려져 있다.
본 발명은 질화 규소-산화 규소 복합 반도체 소자에서 가열된 수성 인산 용액에서 이산화 규소에 대한 질화 규소의 에칭 선택도를 높이고 질화 규소의 에칭 속도를 향상시키는 개선된 습식 화학 에칭 방법을 제공한다. 이것은 육불화규산과 같은 용이하게 용해되는 규소 함유 성분을 수성 인산을 함유하는 에칭조 용액에 첨가함으로써 이루어진다. 가열된 인산 에칭조를 사용하는 다른 습식 에칭법과는 달리 본 발명의 규소 함유 성분은 인산을 함유하는 에칭조 용액에 쉽게 용해될 수 있다. 더욱이, 본 발명의 용액은 불화수소산, 질산 또는 그들의 혼합물 또는 메타규산 나트륨과 같은 I 또는 II 족의 원소를 함유하는 성분을 포함하지 않는다. 나트륨, 마그네슘 및 I 또는 II 족의 다른 원소들이 존재하는 것은 많은 반도체 가공 분야에서 바람직하지 못하다.
인산 에칭조는 당업계에서 공지되어 있다. 미국 특허 제4,092,211호 (노던 텔레콤사 (Northern Telecom Ltd.))에는 끓는 인산조에서 이산화 규소 차폐막의 홈을 통한 질화 규소 에칭법이 개시되어 있다. 이 방법은 메타규산 나트륨과 같은 가용성 규산염을 인산에 첨가하거나 또는 미분 실리카를 에칭 용액에 첨가함으로써 질화 규소에 대한 이산화 규소의 에칭 속도를 감소시킨다. 이 특허에 따르면 가용성 규산염 또는 실리카의 첨가는 질화 규소의 에칭 속도에 영향을 주지않고 이산화 규소의 에칭 속도를 낮춘다. 일본 특허 제60137024호 (마쯔시따 덴끼)에는 수분 존재하에 미리 열처리된 질화 규소(Si3N4) 필름 에칭의 부산물로부터 형성된 필름의 제거법이 개시되어 있다. 이 특허에 SixNyOz로 기재된 나머지 부산물은 불소 이온을 포함하는 인산 용액으로 에칭함으로써 제거할 수 있다. 이 특허의 목적은 산화 규소, 질화 규소, 및 질화 규소 열처리의 부산물 필름 층을 효과적인 방법으로 제거하는 것이다. 일본 특허 출원 공개 제6349808호 (히다찌 가부시끼가이샤)에는 질화 규소 필름을 제거하는 동안 이산화 규소 필름의 에칭 속도 억제 방법이 개시되어 있다. 이는 이 발명에 따라 규소를 함유하는 인산 에칭 용액을 사용하여 이루어진다. 에칭 용액은 50 ppm 이상의 규소를 함유하는 것이 이상적이다. 에칭조 중의 규소 농도는 보충 용기로부터 새로운 에칭 용액이 첨가됨으로써 유지된다. 미국 특허 제5,310,457호 (AT＆T 벨 라보라토리즈)는 인산, 불화수소산 및 질산의 에칭조를 사용하여 이산화 규소에 대한 질화 규소 및 규소 모두의 높은 에칭 선택도를 달성하는 방법을 개시하고 있다. 이 특허에 따르면, 불화수소산과 질산을 500 ppm 미만의 농도로 첨가하는 것은, "…폴리규소와 질화 규소의 에칭 속도를 각각 본래의 몇 차수와 100 퍼센트 향상시킨다". 에칭조의 유효성은 불화수소산과 질산의 연속적인 첨가로 유지된다. 미국 특허 제5,472,562호 (AT＆T 코포레이션)는 인산, 불화수소산 및 질산을 함유하는 에칭조에 규소를 첨가하는 것을 개시하고 있다. 에칭조에 규소를 첨가하면 산화 규소에 대한 질화 규소 또는 규소의 초기 에칭 선택도를 향상시킨다고 기재하였다. 에칭조에 첨가된 규소는 조에 가용성이다. 가용성인 성분의 예는 육불화규산이다.
수성 인산 에칭조에 용이하게 용해되는 육불화규산과 같은 규소 함유 성분을 더 포함하는 인산 함유 수성 에칭조와 이 조의 선택적 에칭 능력을 개시하거나 제안한 참조 문헌은 없다. 미국 특허 제4,092,211호에 개시된 것과 같은 규산염의 용도는 본 발명의 일부로 고려되지 않는다.
본 발명자들은 산화 규소에 대한 질화 규소 에칭의 선택도와 에칭 속도가 불화규소산, 질산 또는 그들의 혼합물 또는 I 또는 II 족의 원소를 포함하는 성분이첨가되지 않은 수성 인산 함유 에칭조에, 용이하게 용해되는 규소 함유 성분을 첨가함으로써 향상될 수 있음을 밝혀내었다. 본 발명의 목적은 당업계에서 발견된 단점을 극복하는 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명의 조성물은 향상된 질화 규소의 에칭 속도와 산화 규소에 대한 질화 규소의 에칭 선택도를 나타낸다. 본 발명의 조성물은 구성 성분간에 쉽게 용해될 수 있으므로 제조하기 용이하다. 본 발명의 다른 목적은 습식 화학 에칭 공정에서 이산화 규소에 대한 질화 규소의 에칭 속도를 효과적으로 향상시키는 방법을 제공하는 것이다.
반도체 산업에서 질화 규소는 오염물이 반도체 소자 속으로 확산되는 것을 방지하는 장벽 또는 상부 층으로서 광범위하게 사용된다. 또한 트랜지스터 분리를 제공하기 위한 요구되는 범위에서 산화가 일어나도록 하는 규소의 국부 산화 공정 (Localized Oxidation of Silicon; LOCOS)에서 선택적 산화 장벽으로서 이용된다. 질화 규소는 기본적으로 불활성이며, 조밀하고 에칭이 어렵다. 불화수소산과 완충된 산화물 에칭제가 이용될 수 있지만 에칭 속도가 고온에서도 일반적으로 느리고, 극단적인 에칭조건에 의해 보통 포토레지스트가 악영향을 받는다. 또다른 문제점은 인산이 에칭 용액에 사용될 때 인산이 이산화 규소와 질화 규소를 모두 에칭하는 점이다. 이러한 동시-에칭은 질화 규소의 선택적 에칭이 요구될 때에는 바람직하지 않다. 먼저 언급되었던 미국 특허 제5,472,562호에서 인산, 불화수소산, 질산의 에칭 용액에 가용성 규소 화합물을 첨가하면, 규소 및 이산화 규소에 대한 질화 규소 에칭의 선택도를 지원한다고 밝히고 있다. 그러나, 추가의 불화수소산과 질산이 존재하면 바람직하지 못하고 많은 경우에 반도체 공정에 불리하다. 당업계에서 개시된 다른 방법은 조성물의 에칭 특성을 개질하기 위해 규소가 첨가된 스트리핑 조성물을 개시하고 있다. 전형적으로 이것은 가열된 인산 용액에 규소 웨이퍼와 같은 고체 규소 함유 물질을 첨가함으로써 이루어진다. 이 공정은 규소 웨이퍼 침지에 필요한 시간과 에칭 용액 내에 용해되지 않은 입자의 존재 때문에 바람직하지 못하다.
본 발명은 수성 에칭 용액에 용이하게 용해되는 규소 함유 성분과 인산을 함유하는 가열된 수용액 중에서 복합 반도체 소자를 에칭함으로써 복합 반도체 소자 내의 이산화 규소에 대한 질화 규소의 에칭 속도를 향상시키는 방법을 제공한다. 본 발명은 또한 수성 에칭 조성물에 용이하게 용해되는 규소 함유 성분과 인산을 함유하는 수성 에칭 조성물을 제공한다.
본 발명에 따라 질화 규소는 인산 수용액과 에칭조에 용이하게 용해되는 규소 함유 성분을 함유하는 가열된 에칭조에서 에칭 공정을 수행함으로써 이산화 규소에 대해 선택적으로 에칭될 수 있다. 시판용 인산이 사용될 수 있다. 전형적으로 시판되는 인산은 80% 내지 85%의 수용액 형태로 구할 수 있다. 바람직한 실시태양에서 입자 수가 100 입자/ml 미만이고 입자 크기가 0.5 미크론 이하이며, 산 중 금속 이온이 리터 당 수 ppm 내지 수 ppb 수준으로 존재하는 전자용 인산 용액이 사용된다. 이러한 유형의 전자용 인산 용액의 예에는 앳슈랜드 케미칼의 클린룸 (CleanRoom; 등록 상표) 전자용 화학약품, 클린룸 LP (등록 상표), 클린룸 MP (등록 상표), 및 클린룸 기가비트 (CleanRoom GIGABIT; 등록 상표) (GB)가 있다. 불화수소산, 질산 또는 그들의 혼합물과 같은 다른 용액은 에칭조 용액에 첨가되지 않는다.
본 발명에 따라 규소 함유 성분을 에칭 용액에 첨가한다. 이러한 규소 함유 성분은 실온에서 수성 에칭 조성물에 용이하게 용해된다. 바람직한 실시태양에서 용이하게 용해되는 규소 함유 성분은 육불화규산 (H2SiF6)이다. 바람직한 실시태양에서 용이하게 용해되는 규소 함유 성분은 에칭조 용액 중에 약 16 ppm 내지 약 500 ppm의 양으로 존재한다. 용이하게 용해되는 규소 함유 성분의 농도는 중량 (전체 조 용액을 기준으로 하여 용이하게 용해되는 성분 중에 존재하는 규소로부터 계산된 ppm 규소)단위로 나타낸다. 더욱 바람직한 실시태양에서는 용이하게 용해되는 규소 함유 성분은 에칭조 용액 중에 약 16 ppm 내지 약 200 ppm의 양으로 존재한다. 가장 바람직한 실시태양에서는 용이하게 용해되는 규소 함유 성분은 에칭조 용액 중에 약 100 ppm 내지 약 200 ppm의 양으로 존재한다. I 또는 II 족의 원소를 불순물이 될 양으로 더 함유한 규소 함유 성분은 본 발명의 에칭조 용액 중에 존재하지 않는다. 이러한 바람직하지 못한 성분의 예는 메타규산 나트륨일 것이다.
에칭이 수행되는 조의 온도는 질화 규소-산화 규소의 에칭이 수행되는 임의의 온도가 될 수 있다. 이러한 유형의 에칭 공정은 전형적으로 약 180℃에서 실시된다. 본 발명의 장점은 에칭이 훨씬 더 낮은 온도에서 수행될 수 있다는 점이다. 본 발명에 따른 수성 인산 에칭조가 사용될 때, 에칭은 150℃의 저온에서 효과적으로 수행될 수 있다. 본 발명에 따르면, 에칭이 수행되는 조의 온도는 바람직하게는 약 150℃ 내지 약 180℃이다. 더욱 바람직하게는 에칭조 용액의 온도는 약 150℃ 내지 약 160℃이다.
지금까지 본 발명을 기술하였지만, 하기의 실시예는 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
〈측정 기술〉
-에칭 속도는 타원편광반사측정법 (플라즈모스 엘립소미터; Plasmos Ellipsometer)를 사용하여 질화물과 산화물의 두께를 측정함으로써 결정하였다.
-균일도는
1-(최대-최저/2×평균)×100
(여기서 최대=최대 두께, 최저=최저 두께, 평균=평균 두께 (웨이퍼 상의 49개 서로 다른 위치에서 측정) 임)로 계산되었다.
〈웨이퍼 제조〉
-에칭 속도 측정을 위한 웨이퍼는 다음과 같다.
Si3N4-웨이퍼: 산소 장벽 상의 200 nm LPCVD 질화물
100 nm 열 산화물
〈실험 과정〉
모든 실험은 1000 등급 청정실 환경에서 핫 플레이트로 가열한 석영 비이커 내에서 수행하였다. 각 실험에서 점진적으로 가열되는 동일한 조를 이용하여 각기 다른 온도 (150℃, 160℃, 170℃ 및 180℃)를 설정하였다. 인산의 가열 동안 용기의 뚜껑을 덮지 않았다. 배치가 원하는 온도에 도달했을 때, 질화물 웨이퍼를 조에 10분 동안 침지함으로써 Si3N4의 첫번 째 에칭 속도를 측정하였다. 산화물의 에칭 속도는 30분간의 두번째 침지에 의해서 측정하였다. 실시예 1에서 사용한 인산은 리에델-데-하엔 (Riedel-de-Haen)에서 시판하는 GB 등급 85%의 수용액이었다. 실시예 2 내지 8에서 사용한 인산은 앳슈랜드 케미칼에서 시판하는 GB 등급 85%의 수용액이었다. 실시예 9 내지 12에서 사용한 인산은 앳슈랜드 케미칼에서 시판하는 MB 등급 전자용 85%의 수용액이었다. 육불화규산은 25% 수용액이었다. 규소가 SiO2형태로 첨가된 실시예 11은 SiO23 g을 100 ml의 H3PO4에 첨가하고, 이 배합물을 8 리터의 인산 에칭조에 첨가한 다음, 하룻밤 동안 그대로 둠으로써 준비하였다. SiO2는 하룻밤 정치 후, 150℃로 가열하여도 완전히 용해되지 않았다. 표 1은 다양한 온도에서 이루어진 12개 실시예의 결과를 나타낸 것이다. 기록된 결과는 에칭 속도와 Si3N4및 SiO2모두의 균일도 및 에칭의 선택도를 포함한다.
H2SiF6첨가 결과 Si3N4에칭 속도는 전체적으로 향상되었다. 산화물에 대한 질화물 선택도는 첨가제가 없는 인산 및 육불화규산을 포함한 조의 온도가 모두 증가함에 따라 감소하였다. 실시예 12에서 인산에 HF를 첨가한 결과 산화물 및 질화물 에칭 속도가 향상되었고 산화물에 대한 질화물 에칭 선택도가 감소되었다. 실시예 11에서 SiO2형태로 첨가한 규소는 질화물 필름의 에칭 속도에 별다른 효과가 없었다. 실시예 11의 에칭 속도는 조 내에 인산만 존재할 때의 에칭 속도와 유사하였다.
| 질화물 | 산화물 | ||||||
| 실시예 | 첨가제 | T(℃) | 에칭 속도(nm/min) | 균일도(%) | 에칭속도(nm/min) | 균일도(%) | 선택도 |
| 1 | 150160180 | 3.3±0.145.65±0.0710.3±0.07 | 97.59794.4 | 0.13±00.22±0.021.07±0 | 95.89592 | 25.3825.689.63 | |
| 2 | 150160170180 | 3.265.745.1213.7 | 97.997.997.290 | 0.020.230.490.87 | 98.698.297.897.5 | 24.225.210.515.7 | |
| 3 | 150160170180 | 3.56.66.49.9 | 96.596.796.494.6 | 0.150.180.230.6 | 97.597.397.296.6 | 23.336.727.816.5 | |
| 4 | 16 ppm H2SiF6 | 150160180 | 5.65±0.077.55±0.0710.6±0.2 | 96.595.793.3 | 0.17±00.25±0.020.72±0.02 | 95.595.393 | 33.2430.214.65 |
| 5 | 50 ppm H2SiF6 | 150160170180 | 7.349.0910.210.7 | 96.193.99594.1 | 0.090.250.470.88 | 98.397.496.797.8 | 81.536.421.712.1 |
| 6 | 100 ppm H2SiF6 | 150160170180 | 10.512.513.415.25 | 91.9898786 | 0.020.170.721.33 | 97.297.896.795.4 | 462.373.5618.6311.46 |
| 7 | 100 ppm H2SiF6 | 150160170180 | 8.610.011.713.7 | 91.294.094.481.9 | -0.010.190.460.82 | 97.697.597.696.9 | ∞52.625.416.7 |
| 8 | 150 ppm H2SiF6 | 150160170180 | 8.113.214.918.2 | 67.189.690.632.8 | -0.080.070.691.24 | 96.796.596.193.3 | ∞18825.115 |
| 9 | 200 ppm H2SiF6 | 150160170180 | 15.09.315.414.0 | 36.483.192.380.8 | -0.340.010.430.96 | 97.896.397.195.2 | ∞93035.814.6 |
| 10 | 500 ppm H2SiF6 | 150160170180 | (1)14.414.014.5 | (1)92.59795.3 | -0.30.261.022.28 | 97.797.996.487.1 | ∞55146.4 |
| 11 | 100 ppm SiO2 | 160170180 | 5.27.2414.8 | 98.096.687.9 | 0.000.060.29 | 98.798.598.7 | ∞12151 |
| 12 | 100 ppm H2SiF6 | 160170180 | 141419 | 848220 | 1.92.12.24 | 898889 | 5.116.928.74 |
본 발명의 에칭 조성물 및 에칭 방법을 이용하여, 질화 규소-산화 규소 복합 반도체 소자를 제조하면 이산화 규소에 대한 질화 규소의 에칭 선택도 및 질화 규소의 에칭 속도를 향상시킬 수 있다. 또한 통상적 에칭 수행 온도에 비해 훨씬 더 낮은 온도에서 에칭이 수행될 수 있다. 이는 이산화 규소에 대한 질화 규소의 선택적 에칭이 필요한 복합 반도체 소자 제조시에 효과적으로 적용될 수 있다.
Claims (12)
- A. 인산 및 B. 수성 에칭 용액에 용이하게 용해되는 규소 함유 성분을 주성분으로 하는 가열된 수성 에칭 용액에서 반도체 소자를 에칭하는 것을 포함하는 것이 특징인, 이산화 규소에 대한 질화 규소의 에칭 속도 선택도가 향상되는 반도체 소자의 에칭 방법
- 제1항에 있어서, 약 150℃ 내지 약 180℃의 온도에서 에칭을 수행하는 방법.
- 제1항에 있어서, 규소 함유 성분이 약 16 ppm 내지 약 500 ppm의 양으로 존재하는 방법.
- 제1항에 있어서, 규소 함유 성분이 약 100 ppm 내지 약 200 ppm의 양으로 존재하는 방법.
- 제1항에 있어서, 규소 함유 성분이 육불화규산인 방법.
- A. 인산 및 B. 수성 에칭 용액에 용이하게 용해되는 규소 함유 성분을 주성분으로 하는 수성 에칭 조성물.
- 제6항에 있어서, 규소 함유 성분이 약 16 ppm 내지 약 500 ppm의 양으로 존재하는 조성물.
- 제6항에 있어서, 규소 함유 성분이 육불화규산인 조성물.
- 제6항에 있어서, 인산이 85% 수용액인 조성물.
- 제6항에 있어서, 인산이 전자용 85% 수용액인 조성물.
- A. 전자용 85% 인산 수용액 및 B. 수성 에칭 조성물에 용이하게 용해되는 규소 함유 성분 16 ppm 내지 500 ppm을 주성분으로 하는 수성 에칭 조성물.
- 제11항에 있어서, 규소 함유 성분이 육불화규산인 조성물.
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