KR102708183B1 - Probe card with screw probe and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명은 스크류 프로브가 구비된 프로브카드 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상부플레이트부와 하부플레이트부가 결합되고, 그 내부에 다수의 프로브유닛이 장착되어 이루어지는 프로브카드에 있어서, 상기 프로브유닛은, 몸체를 형성하며 꼬여있는 형태로 형성된 바디부, 상기 바디부 상단에 형성된 머리부, 및 상기 바디부 하단에 뾰족한 형태로 형성된 선단부를 포함하며, 상기 프로브유닛은 상기 바디부가 꼬인 형태여서 디바이스에 안착된 웨이퍼와 접촉될 때 회전모멘트가 발생될 수 있다.The present invention relates to a probe card equipped with a screw probe and a manufacturing method thereof. The probe card comprises an upper plate part and a lower plate part coupled together and a plurality of probe units mounted therein, wherein the probe units include a body part formed in a twisted shape that forms a body, a head part formed at an upper end of the body part, and a tip part formed in a pointed shape at a lower end of the body part, and the probe unit can generate a rotational moment when the body part is twisted and comes into contact with a wafer mounted on a device.
Description
개시된 내용은 스크류 프로브가 구비된 프로브카드 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The disclosed subject matter relates to a probe card equipped with a screw probe and a method for manufacturing the same.
본 명세서에서 달리 표시되지 않는 한, 이 식별항목에 설명되는 내용들은 이 출원의 청구항들에 대한 종래 기술이 아니며, 이 식별항목에 기재된다고 하여 종래 기술이라고 인정되는 것은 아니다.Unless otherwise indicated herein, the matters described in this identifier are not prior art to the claims of this application, and their description in this identifier is not an admission that they are prior art.
마이크로전자기계시스템(MEMS ; Micro-Electro-Mechanical System)은, 마이크로제조 기술을 통해 실리콘 기판과 같은 통상의 기판 상에 기계 요소들, 센서들, 액추에이터들, 및 전자 기기들의 집적화이다. 전자 기기들이 집적 회로(IC) 공정 시퀀스(예를 들면, CMOS, Bipolar, 또는 BICOMS 공정들)를 사용하여 제조되는 한편, 마이크로기계 컴포넌트들은, 기계 및 전자기계 장치를 형성하도록 실리콘 웨이퍼의 특정 부분들을 선택적으로 에칭하거나 새로운 구조 층들을 추가하는 호환 가능한 "마이크로가공(micromachining)" 공정들을 사용하여 제조된다.Micro-Electro-Mechanical Systems (MEMS) are the integration of mechanical elements, sensors, actuators, and electronics onto a conventional substrate, such as a silicon substrate, using microfabrication techniques. While the electronic devices are fabricated using integrated circuit (IC) process sequences (e.g., CMOS, Bipolar, or BICOMS processes), the micromechanical components are fabricated using compatible "micromachining" processes that selectively etch specific portions of the silicon wafer or add new structural layers to form mechanical and electromechanical devices.
MEMS 장치는 마이크로미터 스케일(미터의 100만분의 1) 단위의 작은 구조물들을 포함한다. MEMS 기술의 중요한 부분들은 집적 회로 기술로부터 채용되고 있다. 예를 들면, 집적 회로들과 마찬가지로, MEMS 구조물들은 박막 형태로 구현되고 포토리소그래피 방법들로 패터닝된다. MEMS devices contain structures that are micrometer-scale (one millionth of a meter). Significant parts of MEMS technology are adopted from integrated circuit technology. For example, like integrated circuits, MEMS structures are implemented in thin film form and patterned using photolithography methods.
집적 회로들과 마찬가지로 MEMS 구조물들은 일련의 증착, 리소그래피 및 에칭에 의해 웨이퍼 상에 제조된다. MEMS 구조물들의 복잡성이 증가할수록, MEMS 장치의 제조 공정 또한 복잡성이 증가하게 된다. 예를 들면, MEMS프로브들의 배열은 프로브 카드(Probe card)로 조립될 수 있다. 프로브 카드는 전자 테스트 시스템과 테스트 중인 반도체 웨이퍼 사이의 인터페이스이다. 프로브 카드는 테스트 시스템과 웨이퍼(Wafer) 상의 회로 사이에 전기적인 경로를 제공하는데, 이에 따라 웨이퍼 상의 칩들을 절단하고 패키지화하기 전에, 웨이퍼 레벨에서 회로의 유효성 및 테스트가 가능해진다.Like integrated circuits, MEMS structures are fabricated on wafers by a series of deposition, lithography, and etching processes. As the complexity of MEMS structures increases, the fabrication process for the MEMS device also increases. For example, an array of MEMS probes can be assembled into a probe card. A probe card is an interface between an electronic test system and a semiconductor wafer under test. The probe card provides an electrical path between the test system and the circuits on the wafer, thereby enabling validation and testing of the circuits at the wafer level before the chips on the wafer are cut and packaged.
일반적으로 프로브 카드는 특정 반도체 제조 공정(FAB ; Fabrication Facility)이 완료된 웨이퍼상에 있는 각각의 반도체 소자 들을 검사하기 위한 것이다. 프로브 핀들을 이용하여 각각의 테스트하려는 반도체 소자의 패드에 접촉시킨 후 테스트 시스템의 전기적 신호를 반도체 소자에 전달하여 웨이퍼의 양품과 불량품을 구분하는데 사용되는 핵심 장치이다.In general, a probe card is used to inspect each semiconductor device on a wafer after a specific semiconductor manufacturing process (FAB; Fabrication Facility) has been completed. It is a key device used to distinguish between good and bad products on a wafer by contacting the pad of each semiconductor device to be tested using probe pins and transmitting the electrical signal of the test system to the semiconductor device.
반도체 소자의 전기적 특성을 테스트하는 공정, 예컨대 EDS(electric die sorting) 공정은 반도체 소자에 대한 전기적인 특성을 테스트함으로써 불량 여부를 판별하여 수율을 증대시키며, 결함을 가진 반도체 소자를 조기에 제거하여 조립(assembly) 및 패키지 검사(package test)에서 소요되는 원가를 절감할 수 있다.A process for testing the electrical characteristics of semiconductor devices, such as the electric die sorting (EDS) process, can increase yield by determining whether there are any defects by testing the electrical characteristics of semiconductor devices, and can reduce costs incurred in assembly and package testing by removing defective semiconductor devices early.
이와 같은, 반도체 웨이퍼 상에 형성된 반도체 소자를 검사하는 장비는 테스터(tester)와, 프로브 시스템(probe system)으로 이루어져 있으며, 프로브 시스템에는 반도체 소자의 전극 패드와 기계적으로 접촉되는 프로브 카드가 설치된다.The equipment for inspecting semiconductor elements formed on a semiconductor wafer is composed of a tester and a probe system, and a probe card that makes mechanical contact with the electrode pads of the semiconductor element is installed in the probe system.
반도체 소자가 고집적화됨에 따라 전극 패드들의 간격 및 크기 역시 감소하고 있다. 프로브 카드에 구비된 프로브 핀들은 전극 패드들에 물리적으로 접촉하는 구조라는 점에서, 이러한 패드 구조의 변화는 프로브의 구조 및 배치와 관련된 벤딩 피로도, 내구성, 탐침 안정도 등 기술적 어려움을 유발한다.As semiconductor devices become more highly integrated, the spacing and size of electrode pads are also decreasing. Since the probe pins provided on the probe card are structured to physically contact the electrode pads, this change in pad structure causes technical difficulties such as bending fatigue, durability, and probe stability related to the structure and arrangement of the probe.
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위한 것으로, 프로브유닛의 바디부가 꼬인 형태로 형성되어 웨이퍼에 접촉시 회전모멘트가 발생하여 웨이퍼의 산화막을 효율적으로 뚫을 수 있고, 상부플레이트부의 제1 공간의 폭길이와 하부플레이트부의 제3 공간의 폭길이가 달라 프로브유닛이 벤딩되게 배치되어 웨이퍼와 효율적으로 접촉하여 검침하는 스크류 프로브가 구비된 프로브카드 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is intended to solve the above problems, and provides a probe card equipped with a screw probe in which the body of the probe unit is formed in a twisted shape so that a rotational moment is generated when it comes into contact with a wafer to efficiently penetrate an oxide film of the wafer, and the width of the first space of the upper plate part and the width of the third space of the lower plate part are different so that the probe unit is arranged to be bent so as to efficiently come into contact with the wafer and perform inspection, and a method for manufacturing the same.
또한 상술한 바와 같은 기술적 과제들로 한정되지 않으며, 이하의 설명으로부터 또 다른 기술적 과제가 도출될 수도 있음은 자명하다.It is also clear that the technical challenges are not limited to those described above, and that other technical challenges may be derived from the following description.
본 발명에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드는 상부플레이트부와 하부플레이트부가 결합되고, 그 내부에 다수의 프로브유닛이 장착되어 이루어지는 프로브카드에 있어서, 상기 프로브유닛은, 몸체를 형성하며 꼬여있는 형태로 형성된 바디부, 상기 바디부 상단에 형성된 머리부, 및 상기 바디부 하단에 뾰족한 형태로 형성된 선단부를 포함하며, 상기 프로브유닛은 상기 바디부가 꼬인 형태여서 디바이스에 안착된 웨이퍼와 접촉될 때 회전모멘트가 발생될 수 있다.A probe card equipped with a screw probe according to the present invention is a probe card in which an upper plate part and a lower plate part are connected and a plurality of probe units are mounted inside the upper plate part, wherein the probe unit includes a body part formed in a twisted shape that forms a body, a head part formed on an upper end of the body part, and a tip part formed in a pointed shape on a lower end of the body part, and the probe unit can generate a rotational moment when the body part is twisted and comes into contact with a wafer mounted on a device.
상기 바디부는 상부와 하부가 90°~ 180°각도 차이 내에서 꼬인 상태로 형성될 수 있다.The above body part can be formed in a state where the upper and lower parts are twisted within an angle difference of 90° to 180°.
상기 상부플레이트부는 다수의 제1 핀홀이 형성되고, 상기 상부플레이트부 내부에 형성되며 상기 제1 핀홀 일측에 위치되는 제1 공간과, 상기 상부플레이트부 내부에 형성되며 상기 제1 핀홀 타측에 위치되는 제2 공간을 포함하며, 상기 제1 공간이 상기 제2 공간보다 폭길이가 넓게 형성될 수 있다.The upper plate portion includes a plurality of first pinholes formed therein, a first space formed inside the upper plate portion and positioned on one side of the first pinhole, and a second space formed inside the upper plate portion and positioned on the other side of the first pinhole, and the first space may be formed to have a wider width than the second space.
본 발명에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드의 제조방법은 상기 바디부가 도금방식으로 상기 프로브유닛의 길이방향과 직교하는 방향으로 꼬인 형태로 적층되면서 형성될 수 있다.A method for manufacturing a probe card equipped with a screw probe according to the present invention can be formed by stacking the body portion in a twisted shape in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the probe unit using a plating method.
상기 상부플레이트부와 상기 하부플레이트부를 마주보도록 배치하는 배치단계, 및 상기 상부플레이트부를 이동시켜 상기 하부플레이트부와 일치되도록 정렬시키고, 이 과정에서 상기 프로브유닛은 상기 바디부가 휘어져 좌굴 상태가 되는 결합단계를 포함할 수 있다.The method may include a positioning step of arranging the upper plate portion and the lower plate portion to face each other, and a joining step of moving the upper plate portion and aligning it to match the lower plate portion, and in this process, the probe unit may include a body portion bending into a buckling state.
상기 하부플레이트부는 다수의 제2 핀홀이 형성되며, 상기 결합단계 이후 실시되는 공정으로, 상기 하부플레이트부의 상기 제2 핀홀로 노출된 상기 선단부와 디바이스에 안착된 웨이퍼가 접촉되어 상기 바디부가 휘어지고 회전하면서 좌굴 상태와 회전모멘트가 더 진행되는 탐침단계를 더 포함할 수 있다.The lower plate portion may further include a probing step in which a plurality of second pinholes are formed, and a process performed after the bonding step in which the tip portion exposed through the second pinholes of the lower plate portion and the wafer mounted on the device come into contact, causing the body portion to bend and rotate, thereby further progressing the buckling state and the rotational moment.
바디부가 꼬인 형태인 프로브유닛은 바디부가 꼬이지 않은 통상의 프로브와 달리 추가적으로 트위스트 형태(꼬인 형태)에 따른 회전모멘트가 발생하여 적절한 반력을 가지고 웨이퍼 위에 덮힌 산화막을 효과적으로 뚫을 수 있어 반도체 소자와 안정되게 접촉하여 소자의 불량유무를 안정적이고 효율적으로 검침할 수 있다.The probe unit with a twisted body, unlike a conventional probe with a non-twisted body, additionally generates a rotational moment according to the twisted shape (twisted shape), so that it can effectively penetrate the oxide film covering the wafer with an appropriate reaction force, thereby making stable contact with the semiconductor element and stably and efficiently detecting whether the element is defective.
프로브유닛의 선단부가 웨이퍼에 접촉하여 잦은 휨변형이 발생하더라도 바디부가 꼬인 형태로 형성되어 변형이나 손상이 적어 내구성이 향상될 수 있다.Even if the tip of the probe unit comes into contact with the wafer and is subject to frequent bending deformation, the body portion is formed in a twisted shape, so that deformation or damage is reduced, thereby improving durability.
상부플레이트부와 하부플레이트부를 결합한 후 각 제1 핀홀과 제2 핀홀의 위치 편차로 인해 프로브가 휘어지는 특성이 더욱 향상될 수 있어 디바이스 접촉시 휘어짐이 더욱 탄력적으로 수행될 수 있다.After combining the upper plate part and the lower plate part, the bending characteristic of the probe can be further improved due to the positional deviation of each first pinhole and second pinhole, so that bending can be performed more flexibly when contacting the device.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.
도 1은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드의 단면도.
도 2는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드 프로브유닛의 사시도.
도 3은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드의 사용상태도.
도 4는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드의 제조방법에 따른 프로브유닛 바디부의 개략적인 적층방법도.
도 5는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드의 제조방법에 따른 공정도.
도 6은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드의 제조방법에 따른 탐침단계도.FIG. 1 is a cross-sectional view of a probe card equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed subject matter.
FIG. 2 is a perspective view of a probe card probe unit equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed subject matter.
Figure 3 is a diagram showing the usage status of a probe card equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed content.
FIG. 4 is a schematic diagram of a stacking method of a probe unit body according to a method for manufacturing a probe card equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed content.
FIG. 5 is a process diagram according to a method for manufacturing a probe card equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed content.
FIG. 6 is a probing step diagram according to a method for manufacturing a probe card equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed content.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예의 구성 및 작용효과에 대하여 살펴본다. 참고로, 이하 도면에서, 각 구성요소는 편의 및 명확성을 위하여 생략되거나 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 반영하는 것은 아니다. 또한 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭하며 개별 도면에서 동일 구성에 대한 도면 부호는 생략하기로 한다.Hereinafter, the configuration and operation effects of a preferred embodiment will be examined with reference to the attached drawings. For reference, in the drawings below, each component is omitted or schematically illustrated for convenience and clarity, and the size of each component does not reflect the actual size. In addition, the same reference numerals refer to the same components throughout the specification, and drawing numerals for the same configuration in individual drawings are omitted.
이하에서는, 본 발명의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a probe card (900) equipped with a screw probe according to one embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 1은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)의 단면도이고, 도 2는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900) 프로브유닛(300)의 사시도이며, 도 3은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)의 사용상태도이다.FIG. 1 is a cross-sectional view of a probe card (900) equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed content, FIG. 2 is a perspective view of a probe unit (300) of a probe card (900) equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed content, and FIG. 3 is a usage state diagram of a probe card (900) equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed content.
본 발명은 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)에 관한 것으로, 프로브유닛(300)의 바디부(310)가 꼬인 형태로 형성되어 웨이퍼(10)에 접촉시 회전모멘트가 발생하여 웨이퍼(10)의 산화막을 효율적으로 뚫어 접촉의 안정도를 높일 수 있다. 본 발명의 일례에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)는 상부플레이트부(100), 하부플레이트부(200), 및 프로브유닛(300) 등을 포함할 수 있다. The present invention relates to a probe card (900) equipped with a screw probe, in which a body part (310) of a probe unit (300) is formed in a twisted shape so that a rotational moment is generated when it comes into contact with a wafer (10), thereby efficiently penetrating an oxide film of the wafer (10) and thereby increasing the stability of the contact. A probe card (900) equipped with a screw probe according to an example of the present invention may include an upper plate part (100), a lower plate part (200), and a probe unit (300).
본 발명에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)는 상부플레이트부(100)와 하부플레이트부(200)가 결합되고, 그 내부에 다수의 프로브유닛(300)이 장착되어 이루어지는 프로브카드에 있어서, 프로브유닛(300)은, 몸체를 형성하며 꼬여있는 형태로 형성된 바디부(310), 바디부(310) 상단에 형성된 머리부(320), 및 바디부(310) 하단에 뾰족한 형태로 형성된 선단부(330)를 포함하며, 프로브유닛(300)은 바디부(310)가 꼬인 형태여서 디바이스에 안착된 웨이퍼(10)와 접촉될 때 회전모멘트가 발생되며, 바디부(310)는 상부와 하부가 90°~ 180°각도 차이 내에서 꼬인 상태로 형성될 수 있다.A probe card (900) equipped with a screw probe according to the present invention is a probe card in which an upper plate part (100) and a lower plate part (200) are combined and a plurality of probe units (300) are mounted therein, wherein the probe unit (300) includes a body part (310) formed in a twisted shape that forms a body, a head part (320) formed in the upper part of the body part (310), and a tip part (330) formed in a pointed shape at the lower part of the body part (310), and since the probe unit (300) has a twisted body part (310), a rotational moment is generated when it comes into contact with a wafer (10) mounted on a device, and the body part (310) can be formed in a twisted state within an angle difference of 90° to 180° between the upper and lower parts.
도 1의 예시에서 알 수 있는 바와 같이, 프로브유닛(300)은 소정 길이를 갖는 도전성 핀으로, 디바이스에 안착된 웨이퍼(10)와 접촉되어 웨이퍼(10)상에 배치된 반도체 소자의 전기적 특성을 테스트하여 불량품을 구분하는 역할을 할 수 있으며, 바디부(310), 머리부(320), 및 선단부(330) 등을 포함할 수 있다. As can be seen from the example of Fig. 1, the probe unit (300) is a conductive pin having a predetermined length, which can be brought into contact with a wafer (10) mounted on a device to test the electrical characteristics of a semiconductor element placed on the wafer (10) and distinguish defective products, and can include a body (310), a head (320), and a tip (330).
도 1 내지 도 3의 예시에서 알 수 있는 바와 같이, 바디부(310)는 프로브유닛(300)의 몸체를 이루는 것으로, 꼬인 형태로 형성되어 후술하는 선단부(330)가 웨이퍼(10)와 접촉할 때 프로브유닛(300)에 회전모멘트(회전력)를 발생시키는 역할을 할 수 있다. As can be seen from the examples of FIGS. 1 to 3, the body part (310) forms the body of the probe unit (300), and is formed in a twisted shape so that when the tip part (330) described below comes into contact with the wafer (10), it can play a role in generating a rotational moment (rotational force) in the probe unit (300).
일례로, 바디부(310)가 꼬인 형태인 프로브유닛(300)은 바디부(310)가 꼬이지 않은 통상의 프로브 끝단에서 발생하는 스크럽(scrub) 이외에 추가적으로 트위스트 형태(꼬인 형태)에 따른 회전모멘트가 발생할 수 있다. 이러한 회전모멘트는 적절한 반력을 가지고 웨이퍼(10) 위에 덮힌 산화막을 효과적으로 뚫을 수 있어 반도체 소자와 안정되게 접촉하여 소자의 불량유무를 안정적이고 효율적으로 검침할 수 있다.For example, a probe unit (300) having a twisted body (310) can generate a rotational moment according to the twisted shape (twisted shape) in addition to the scrub generated at a normal probe tip where the body (310) is not twisted. This rotational moment can effectively penetrate the oxide film covering the wafer (10) with an appropriate counterforce, thereby stably contacting the semiconductor element and stably and efficiently detecting whether the element is defective.
도 2의 예시에서 알 수 있는 바와 같이 일례로, 바디부(310)는 상부와 하부가 90°에서 180°차이 내에서 꼬인 상태로 형성될 수 있다. As can be seen from the example of Fig. 2, for example, the body part (310) can be formed in a state where the upper and lower parts are twisted within a difference of 90° to 180°.
일례로, 사각 막대 형태의 바디부(310)에서, 바디부(310) 상부의 하나의 꼭지점에서 연장되어 하부까지 이어지는 선분상에 위치하는 상하부 꼭지점의 각도가 90°이하가 되면 회전모멘트가 약해서 적절한 반력으로 웨이퍼(10)상의 산화막 등을 뚫기 어렵고 각도가 180°이상이 되면 바디부(310)의 내구성에 문제가 생기거나 회전모멘트가 강해 높은 반력으로 산화막과 디바이스 패턴까지 뚫을 수 있다. 또한, 후술하는 프로브유닛(300)의 선단부(330)가 웨이퍼(10)에 접촉하게 되면 프로브유닛(300)이 휘어지게 되어 잦은 휨변형으로 인해 쉽게 피로가 누적되어 변형되거나 손상될 수 있으나, 바디부(310)가 꼬인 형태인 경우 변형이나 손상이 적어 내구성이 향상될 수 있다.For example, in a body (310) having a square rod shape, if the angle between the upper and lower vertices located on a line extending from one vertex of the upper part of the body (310) to the lower part is less than 90°, the rotational moment is weak, making it difficult to penetrate an oxide film on the wafer (10) with an appropriate reaction force, and if the angle is more than 180°, there may be a problem with the durability of the body (310) or the rotational moment is strong, making it possible to penetrate the oxide film and even the device pattern with a high reaction force. In addition, if the tip (330) of the probe unit (300) described below comes into contact with the wafer (10), the probe unit (300) may bend, and due to frequent bending deformation, fatigue may easily accumulate and the probe unit may be deformed or damaged. However, if the body (310) is twisted, the deformation or damage may be reduced, so that durability may be improved.
도 1 또는 도 2의 예시에서 알 수 있는 바와 같이, 머리부(320)는 바디부(310)의 상단에 형성되는 것이고, 선단부(330)는 바디부(310)의 하단에 뾰족한 형태로 형성되어 검침하려는 웨이퍼(10)와 접촉되는 부분이다.As can be seen from the examples of FIG. 1 or FIG. 2, the head portion (320) is formed at the upper end of the body portion (310), and the tip portion (330) is formed in a pointed shape at the lower end of the body portion (310) and is a portion that comes into contact with the wafer (10) to be inspected.
상부플레이트부(100)는 다수의 제1 핀홀(110)이 형성되고, 상부플레이트부(100) 내부에 형성되며 제1 핀홀(110) 일측에 위치되는 제1 공간(150)과, 상부플레이트부(100) 내부에 형성되며 제1 핀홀(110) 타측에 위치되는 제2 공간(160)을 포함하며, 제1 공간(150)이 제2 공간(160)보다 폭길이가 넓게 형성될 수 있다.The upper plate portion (100) includes a plurality of first pinholes (110) formed therein, a first space (150) formed inside the upper plate portion (100) and positioned on one side of the first pinhole (110), and a second space (160) formed inside the upper plate portion (100) and positioned on the other side of the first pinhole (110), and the first space (150) may be formed to have a wider width than the second space (160).
도 1의 예시에서 알 수 있는 바와 같이 일례로, 프로브카드는 상부플레이트부(100)와 하부플레이트부(200)가 결합되고, 그 내부에 다수의 프로브유닛(300)이 장착되며, 각 프로브유닛(300)의 상단에 MLC(20)가 결합되며, MLC(20)에 다수의 인터포저(30)가 연결되며, 인터포저(30)는 PCB(40)에 형성되고, PCB(40)의 상부에 상부 고정구(50)가 결합되어 이루어질 수 있다.As can be seen from the example of Fig. 1, for example, the probe card may be formed by combining an upper plate part (100) and a lower plate part (200), mounting a plurality of probe units (300) therein, combining an MLC (20) on the top of each probe unit (300), connecting a plurality of interposers (30) to the MLC (20), forming the interposer (30) on a PCB (40), and combining an upper fixture (50) on the top of the PCB (40).
도 1 또는 도 5의 예시에서 알 수 있는 바와 같이 일례로, 상부플레이트부(100)는 다수의 제1 핀홀(110)을 포함할 수 있으며, 하부플레이트부(200)는 다수의 제2 핀홀(210)을 포함할 수 있다. 일례로, 제1 핀홀(110)에는 바디부(310)의 상부가 제2 핀홀(210)에는 바디부(310)의 하부가 삽입되어 위치될 수 있다.As can be seen from the examples of FIG. 1 or FIG. 5, for example, the upper plate portion (100) may include a plurality of first pinholes (110), and the lower plate portion (200) may include a plurality of second pinholes (210). For example, the upper portion of the body portion (310) may be inserted and positioned in the first pinhole (110), and the lower portion of the body portion (310) may be inserted and positioned in the second pinhole (210).
도 1 또는 도 5의 예시에서 알 수 있는 바와 같이 일례로, 제1 공간(150)은 상부플레이트부(100) 내부에 형성되며 제1 핀홀(110)의 일측에 위치되는 것이며, 제2 공간(160)은 상부플레이트부(100) 내부에 형성되며 제1 핀홀(110) 타측에 위치되는 것으로, 제1 공간(150)의 폭길이가 제2 공간(160)의 폭길이 보다 길게 형성될 수 있다. As can be seen from the examples of FIG. 1 or FIG. 5, for example, the first space (150) is formed inside the upper plate portion (100) and is located on one side of the first pinhole (110), and the second space (160) is formed inside the upper plate portion (100) and is located on the other side of the first pinhole (110), so that the width of the first space (150) can be formed longer than the width of the second space (160).
또한 일례로, 하부플레이트부(200)는 다수의 제2 핀홀(210)이 형성되고, 하부플레이트부(200) 내부에 형성되며 제2 핀홀(210) 일측에 위치되는 제3 공간(250)과, 하부플레이트부(200) 내부에 형성되며 제2 핀홀(210) 타측에 위치되는 제4 공간(260)을 포함하며, 제3 공간(250)이 제4 공간(260)과 폭길이가 같거나 좁게 형성될 수 있다. In addition, as an example, the lower plate portion (200) includes a plurality of second pinholes (210) formed therein, a third space (250) formed inside the lower plate portion (200) and positioned on one side of the second pinhole (210), and a fourth space (260) formed inside the lower plate portion (200) and positioned on the other side of the second pinhole (210), and the third space (250) may be formed to have a width equal to or narrower than the fourth space (260).
도 1 또는 도 5의 예시에서 알 수 있는 바와 같이 일례로, 제3 공간(250)은 하부플레이트부(200) 내부에 형성되며 제2 핀홀(210)의 일측에 위치되는 것이며, 제4 공간(260)은 하부플레이트부(200) 내부에 형성되며 제2 핀홀(210) 타측에 위치되는 것으로, 제3 공간(250)의 폭길이가 제4 공간(260)의 폭길이와 같거나 좁게 형성될 수 있다. As can be seen from the examples of FIG. 1 or FIG. 5, for example, the third space (250) is formed inside the lower plate portion (200) and is located on one side of the second pinhole (210), and the fourth space (260) is formed inside the lower plate portion (200) and is located on the other side of the second pinhole (210), and the width of the third space (250) can be formed to be equal to or narrower than the width of the fourth space (260).
도 5 또는 도 6의 예시에서 알 수 있는 바와 같이 일례로, 상부플레이트부(100)의 제1 공간(150)의 폭길이와 제2 공간(160)의 폭길이가 다르게 형성되고 하부플레이트부(200)의 제3 공간(250)의 폭길이와 제4 공간(260)의 폭길이가 동일하게 형성되어 상부플레이트부(100)와 하부플레이트부(200)가 결합될 때 프로브유닛(300)이 벤딩되도록 할 수 있다. 또한 일례로, 상부플레이트부(100)의 제1 공간(150)의 폭길이와 제2 공간(160)의 폭길이가 다르게 형성되고 하부플레이트부(200)의 제3 공간(250)의 폭길이가 제4 공간(260)의 폭길이 보다 짧게 형성되어 상부플레이트부(100)와 하부플레이트부(200)가 결합될 때 프로브유닛(300)이 벤딩되도록 할 수 있다. As can be seen from the examples of FIG. 5 or FIG. 6, for example, the width of the first space (150) of the upper plate part (100) and the width of the second space (160) are formed differently, and the width of the third space (250) of the lower plate part (200) and the width of the fourth space (260) are formed identically, so that the probe unit (300) can be bent when the upper plate part (100) and the lower plate part (200) are combined. In addition, as an example, the width of the first space (150) of the upper plate part (100) and the width of the second space (160) are formed differently, and the width of the third space (250) of the lower plate part (200) is formed shorter than the width of the fourth space (260), so that the probe unit (300) can be bent when the upper plate part (100) and the lower plate part (200) are combined.
물론 일례로, 상부플레이트부(100)의 제1 공간(150)의 폭길이와 제2 공간(160)의 폭길이가 동일하게 형성되고 하부플레이트부(200)의 제3 공간(250)의 폭길이가 제4 공간(260)의 폭길이 보다 짧거나 길게 형성되어 상부플레이트부(100)와 하부플레이트부(200)가 결합될 때 프로브유닛(300)이 벤딩되도록 할 수도 있다. 일례로, 프로브유닛(300)은 휨 탄성을 고려하여 프리 스트레스를 갖도록 소정의 곡률로 휘어진 상태로 결합될 수 있다. Of course, as an example, the width of the first space (150) of the upper plate part (100) and the width of the second space (160) may be formed to be the same, and the width of the third space (250) of the lower plate part (200) may be formed to be shorter or longer than the width of the fourth space (260) so that the probe unit (300) may be bent when the upper plate part (100) and the lower plate part (200) are combined. As an example, the probe unit (300) may be combined in a state where it is bent at a predetermined curvature so as to have pre-stress considering the bending elasticity.
본 발명은 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)에 관한 것으로, 프로브유닛(300)의 바디부(310)가 꼬인 형태로 형성되어 웨이퍼(10)에 접촉시 회전모멘트가 발생하여 웨이퍼(10)의 산화막을 효율적으로 뚫어 접촉의 안정도를 높일 수 있으며, 상부플레이트부(100)의 제1 공간(150)의 폭길이와 하부플레이트부(200)의 제3 공간(250)의 폭길이가 달라 프로브유닛(300)이 벤딩되게 배치되어 웨이퍼(10)에 접촉시 좌굴이 발생하여 웨이퍼(10)와 효율적으로 접촉하여 검침하는 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)에 관한 것이다.The present invention relates to a probe card (900) equipped with a screw probe, in which a body part (310) of a probe unit (300) is formed in a twisted shape so that a rotational moment is generated when it comes into contact with a wafer (10), thereby efficiently penetrating an oxide film of the wafer (10) and increasing the stability of the contact, and in which the width of a first space (150) of an upper plate part (100) and the width of a third space (250) of a lower plate part (200) are different, so that the probe unit (300) is arranged to be bent, so that buckling occurs when it comes into contact with the wafer (10), thereby efficiently coming into contact with the wafer (10) and performing a measurement.
바디부(310)가 꼬인 형태인 프로브유닛(300)은 바디부(310)가 꼬이지 않은 통상의 프로브와 달리 추가적으로 트위스트 형태(꼬인 형태)에 따른 회전모멘트가 발생하여 적절한 반력을 가지고 웨이퍼(10) 위에 덮힌 산화막을 효과적으로 뚫을 수 있어 반도체 소자와 안정되게 접촉하여 소자의 불량유무를 안정적이고 효율적으로 검침할 수 있다. 프로브유닛(300)의 선단부(330)가 웨이퍼(10)에 접촉하여 잦은 휨변형이 발생하더라도 바디부(310)가 꼬인 형태로 형성되어 변형이나 손상이 적어 내구성이 향상될 수 있다. 상부플레이트부(100)와 하부플레이트부(200)를 결합한 후 제1 핀홀(110)과 제2 핀홀(210)의 위치 편차로 인해 프로브유닛(300)이 휘어지는 특성이 더욱 향상될 수 있어 디바이스 접촉시 프로브유닛(300)의 벤딩이 더욱 탄력적으로 수행될 수 있다.The probe unit (300) having a twisted body (310) generates a rotational moment according to the twisted shape (twisted shape) in addition to a conventional probe in which the body (310) is not twisted, so that it can effectively penetrate the oxide film covering the wafer (10) with an appropriate reaction force, thereby stably contacting the semiconductor element and stably and efficiently detecting whether the element is defective. Even if the tip (330) of the probe unit (300) contacts the wafer (10) and frequent bending deformation occurs, the body (310) is formed in a twisted shape, so that deformation or damage is reduced, thereby improving durability. After combining the upper plate portion (100) and the lower plate portion (200), the bending characteristic of the probe unit (300) can be further improved due to the positional deviation of the first pinhole (110) and the second pinhole (210), so that the bending of the probe unit (300) can be performed more flexibly when the device comes into contact.
이하에서는, 본 발명의 일실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)의 제조방법에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a method for manufacturing a probe card (900) equipped with a screw probe according to one embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 4는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)의 제조방법에 따른 프로브유닛(300) 바디부(310)의 개략적인 적층방법도이다. FIG. 4 is a schematic diagram of a stacking method of a probe unit (300) body (310) according to a manufacturing method of a probe card (900) equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed content.
본 발명의 일례에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)의 제조방법은 상부플레이트부(100), 하부플레이트부(200), 및 프로브유닛(300) 등을 포함할 수 있으며, 상부플레이트부(100), 하부플레이트부(200), 및 프로브유닛(300)에 대하여는 앞서 본 발명의 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)에 대한 설명이 유추 적용될 수 있다. A method for manufacturing a probe card (900) equipped with a screw probe according to an example of the present invention may include an upper plate portion (100), a lower plate portion (200), and a probe unit (300), and the description of the probe card (900) equipped with a screw probe according to an embodiment of the present invention may be analogically applied to the upper plate portion (100), the lower plate portion (200), and the probe unit (300).
본 발명에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)의 제조방법은 도 5 또는 도 6의 예시에서 알 수 있는 바와 같이, 배치단계(S1), 결합단계(S2), 및 탐침단계(S3) 등을 포함할 수 있다.The method for manufacturing a probe card (900) equipped with a screw probe according to the present invention may include a placement step (S1), a bonding step (S2), and a probing step (S3), as can be seen in the examples of FIG. 5 or FIG. 6.
본 발명에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)의 제조방법은 바디부(310)가 도금방식으로 프로브유닛(300)의 길이방향과 직교하는 방향으로 꼬인 형태로 적층되면서 형성될 수 있다.The method for manufacturing a probe card (900) equipped with a screw probe according to the present invention can be formed by stacking the body part (310) in a twisted shape in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the probe unit (300) using a plating method.
도 4의 예시에서 알 수 있는 바와 같이 일례로, 바디부(310)는 프로브유닛(300)의 길이방향과 직교하는 방향으로 적층되면서 꼬인 형태로 형성될 수 있으며, 도금방식으로 적층되면서 형성될 수 있다.As can be seen from the example of Fig. 4, for example, the body part (310) can be formed in a twisted shape while being laminated in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the probe unit (300), and can be formed while being laminated using a plating method.
도 5는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)의 제조방법에 따른 공정도이고, 도 6은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)의 제조방법에 따른 탐침단계도이다.FIG. 5 is a process diagram according to a method for manufacturing a probe card (900) equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed content, and FIG. 6 is a probe step diagram according to a method for manufacturing a probe card (900) equipped with a screw probe according to one embodiment of the disclosed content.
본 발명에 따른 스크류 프로브가 구비된 프로브카드(900)의 제조방법은 상부플레이트부(100)와 하부플레이트부(200)를 마주보도록 배치하는 배치단계(S1 단계), 및 상부플레이트부(100)를 이동시켜 하부플레이트부(200)와 일치되도록 정렬시키고, 이 과정에서 프로브유닛(300)은 바디부(310)가 휘어져 좌굴 상태가 되는 결합단계(S2 단계)를 포함할 수 있으며, 하부플레이트부(200)는 다수의 제2 핀홀(210)이 형성되며, 결합단계 이후 실시되는 공정으로, 하부플레이트부(200)의 제2 핀홀(210)로 노출된 선단부(330)와 디바이스에 안착된 웨이퍼(10)가 접촉되어 바디부(310)가 휘어지고 회전하면서 좌굴 상태와 회전모멘트가 더 진행되는 탐침단계(S3 단계)를 더 포함할 수 있다.The method for manufacturing a probe card (900) equipped with a screw probe according to the present invention may include a positioning step (step S1) of positioning an upper plate part (100) and a lower plate part (200) so as to face each other, and a joining step (step S2) of moving the upper plate part (100) to align it with the lower plate part (200), and during this process, the probe unit (300) may include a body part (310) that is bent and buckled, and the lower plate part (200) may be formed with a plurality of second pinholes (210), and as a process performed after the joining step, may further include a probing step (step S3) in which the tip part (330) exposed through the second pinholes (210) of the lower plate part (200) and the wafer (10) mounted on the device come into contact, causing the body part (310) to bend and rotate, thereby further progressing the buckling state and the rotational moment.
(S1) 단계는 상부플레이트부(100)와 하부플레이트부(200)를 마주보도록 배치하는 상하부플레이트부(100, 200) 배치단계이다. 도 5에 예시되어 있는 바와 같이 일례로, 본 단계에서 프로브유닛(300)은 직선 상태로 배치될 수 있다.(S1) Step is a step of arranging the upper and lower plate parts (100, 200) so that the upper plate part (100) and the lower plate part (200) are facing each other. As illustrated in Fig. 5, for example, in this step, the probe unit (300) can be arranged in a straight line.
(S2) 단계는 상부플레이트부(100)를 옆으로 이동시켜 하부플레이트부(200)와 일치되도록 정렬시키는 상하부플레이트부(100, 200) 결합단계이다. 본 단계에서 프로브유닛(300)은 바디부(310)가 휘어져 좌굴 상태가 될 수 있다. 프로브유닛(300)의 벤딩 정도는 상하부플레이트부(100, 200)의 제1 공간(150)과 제3 공간(250)의 폭길이의 차이에 따라 달라질 수 있다.(S2) Step is a step of joining upper and lower plate parts (100, 200) by moving the upper plate part (100) sideways to align it with the lower plate part (200). In this step, the probe unit (300) may be in a buckling state due to the body part (310) being bent. The degree of bending of the probe unit (300) may vary depending on the difference in width between the first space (150) and the third space (250) of the upper and lower plate parts (100, 200).
(S3) 단계는 (S2) 단계이후 실시되는 공정으로, 하부플레이트부(200)의 제2 핀홀(210) 밖으로 노출된 선단부(330)와 디바이스에 안착된 웨이퍼(10)가 접촉되는 탐침단계이다. 본 단계는 프로브유닛(300)이 웨이퍼(10)와 접촉되어 웨이퍼(10)상에 배치된 소자의 불량여부를 판단하는 단계로, 도 6의 예시에서 알 수 있는 바와 같이, 선단부(330)와 웨이퍼(10)의 접촉에 따라 바디부(310)가 벤딩되고 회전하면서 좌굴 상태와 회전모멘트가 더 진행되어 효율적으로 탐침을 할 수 있다.Step (S3) is a process performed after step (S2), and is a probing step in which the tip (330) exposed outside the second pinhole (210) of the lower plate portion (200) comes into contact with the wafer (10) mounted on the device. This step is a step in which the probe unit (300) comes into contact with the wafer (10) to determine whether there is a defect in the device placed on the wafer (10). As can be seen in the example of FIG. 6, as the tip (330) comes into contact with the wafer (10), the body portion (310) bends and rotates, further progressing the buckling state and rotational moment, enabling efficient probing.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described with reference to the attached drawings, the embodiments described in this specification and the configurations illustrated in the drawings are only the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all of the technical ideas of the present invention, and it should be understood that there may be various equivalents and modified examples that can replace them at the time of this application. Therefore, the embodiments described above should be understood as illustrative and not restrictive in all respects, and the scope of the present invention is indicated by the claims described below rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and the equivalent concepts should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
10 : 웨이퍼
100 : 상부플레이트부
110 : 제1 핀홀
150 : 제1 공간
160 : 제2 공간
200 : 하부플레이트부
210 : 제2 핀홀
250 : 제3 공간
260 : 제4 공간
300 : 프로브유닛
310 : 바디부
320 : 머리부
330 : 선단부
900 : 스크류 프로브가 구비된 프로브카드10 : Wafer
100 : Upper plate part
110 : 1st pinhole
150 : 1st space
160 : Second space
200 : Lower plate part
210 : 2nd pinhole
250 : The Third Space
260: The 4th space
300 : Probe Unit
310 : Body part
320 : Head
330 : Fleet
900: Probe card with screw probe
Claims (6)
상기 프로브유닛은,
몸체를 형성하며 꼬여있는 형태로 형성된 바디부;
상기 바디부 상단에 형성된 머리부; 및
상기 바디부 하단에 뾰족한 형태로 형성된 선단부;를 포함하고,
상기 바디부는 상부와 하부가 90°~ 180°각도 차이 내에서 전체가 꼬인 상태로 형성되며,
상기 상부플레이트부는, 다수의 제1 핀홀이 형성되고, 상기 상부플레이트부 내부에 형성되며 상기 제1 핀홀 일측에 위치되는 제1 공간과, 상기 상부플레이트부 내부에 형성되며 상기 제1 핀홀 타측에 위치되고 상기 제1 공간보다 폭길이가 좁게 형성된 제2 공간을 포함하고,
상기 하부플레이트부는, 다수의 제2 핀홀이 형성되고, 상기 하부플레이트부 내부에 형성되며 상기 제2 핀홀 일측에 위치되는 제3 공간과, 상기 하부플레이트부 내부에 형성되며 상기 제2 핀홀 타측에 위치되고 상기 제3 공간보다 폭길이가 넓게 형성된 제4 공간을 포함하여,
상기 제1 공간의 폭길이보다 상기 제3 공간의 폭길이가 좁게 형성되도록 상기 상부플레이트부와 하부플레이트부가 결합되어 상기 프로브유닛이 벤딩되게 배치되며,
상기 프로브유닛은, 상기 바디부가 꼬인 형태이고 상기 제1 공간과 제3 공간의 폭길이 차이로 인해 벤딩되어, 웨이퍼와 접촉될 때 회전모멘트와 좌굴이 함께 발생됨으로써 소정의 반력을 가지고 웨이퍼 위에 덮힌 산화막을 효과적으로 뚫을 수 있어 반도체 소자와 안정되게 접촉하여 소자의 불량유무를 안정적이고 효율적으로 검침할 수 있고,
상기 바디부가 꼬인 형태로 형성되어 상기 선단부가 웨이퍼에 접촉하여 잦은 휨변형이 발생하더라도 변형이나 손상이 적어 내구성이 향상된 스크류 프로브가 구비된 프로브카드.In a probe card in which an upper plate part and a lower plate part are combined and a plurality of probe units are mounted inside,
The above probe unit,
The body part is formed in a twisted shape, forming the body;
a head formed on the upper part of the above body; and
Including a tip formed in a pointed shape at the lower end of the above body portion;
The above body part is formed in a twisted state with the upper and lower parts having an angle difference of 90° to 180°.
The upper plate portion includes a first space formed inside the upper plate portion and positioned on one side of the first pinhole, and a second space formed inside the upper plate portion and positioned on the other side of the first pinhole and having a narrower width than the first space.
The lower plate portion includes a plurality of second pinholes formed therein, a third space formed inside the lower plate portion and located on one side of the second pinhole, and a fourth space formed inside the lower plate portion and located on the other side of the second pinhole and having a wider width than the third space.
The upper plate part and the lower plate part are combined so that the width of the third space is formed narrower than the width of the first space, and the probe unit is arranged to be bent.
The above probe unit has a twisted body and is bent due to a difference in width between the first space and the third space, so that when it comes into contact with a wafer, a rotational moment and buckling occur together, thereby effectively penetrating the oxide film covering the wafer with a predetermined reaction force, thereby stably coming into contact with a semiconductor element and stably and efficiently detecting whether the element is defective.
A probe card equipped with a screw probe having improved durability with less deformation or damage even when the body part is formed in a twisted shape and the tip part comes into contact with the wafer and is subject to frequent bending deformation.
상기 바디부는 도금방식으로 상기 프로브유닛의 길이방향과 직교하는 방향으로 꼬인 형태로 적층되면서 형성되는 스크류 프로브가 구비된 프로브카드의 제조방법.A method for manufacturing a probe card equipped with a screw probe as described in claim 1,
A method for manufacturing a probe card equipped with a screw probe formed by stacking the above body portion in a twisted shape in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the probe unit using a plating method.
상기 상부플레이트부와 상기 하부플레이트부를 마주보도록 배치하는 배치단계; 및
상기 상부플레이트부를 이동시켜 상기 하부플레이트부와 일치되도록 정렬시키고, 이 과정에서 상기 프로브유닛은 상기 바디부가 휘어져 좌굴 상태가 되는 결합단계;를 포함하는 스크류 프로브가 구비된 프로브카드의 제조방법.In claim 4,
A placement step of arranging the upper plate portion and the lower plate portion so that they face each other; and
A method for manufacturing a probe card equipped with a screw probe, comprising: a joining step of moving the upper plate part to align it with the lower plate part, and in this process, the probe unit causes the body part to bend and enter a buckling state;
상기 하부플레이트부는 다수의 제2 핀홀이 형성되며,
상기 결합단계 이후 실시되는 공정으로, 상기 하부플레이트부의 상기 제2 핀홀로 노출된 상기 선단부와 디바이스에 안착된 웨이퍼가 접촉되어 상기 바디부가 휘어지고 회전하면서 좌굴 상태와 회전모멘트가 더 진행되는 탐침단계;를 더 포함하는 스크류 프로브가 구비된 프로브카드의 제조방법.In claim 5,
The above lower plate portion is formed with a plurality of second pinholes,
A method for manufacturing a probe card equipped with a screw probe, further comprising a probing step in which the tip portion exposed through the second pinhole of the lower plate portion and the wafer mounted on the device come into contact with each other, thereby causing the body portion to bend and rotate, thereby further progressing the buckling state and the rotational moment, as a process performed after the above-mentioned bonding step.
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