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KR102679997B1 - Printed circuit board - Google Patents

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Publication number
KR102679997B1
KR102679997B1 KR1020180163424A KR20180163424A KR102679997B1 KR 102679997 B1 KR102679997 B1 KR 102679997B1 KR 1020180163424 A KR1020180163424 A KR 1020180163424A KR 20180163424 A KR20180163424 A KR 20180163424A KR 102679997 B1 KR102679997 B1 KR 102679997B1
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KR
South Korea
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laminate
circuit
circuit board
printed circuit
layer
Prior art date
Application number
KR1020180163424A
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Korean (ko)
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KR20200074718A (en
Inventor
지윤제
김태성
김병찬
Original Assignee
삼성전기주식회사
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Publication date
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Priority to TW108119964A priority patent/TWI801600B/en
Priority to JP2019108655A priority patent/JP7283027B2/en
Publication of KR20200074718A publication Critical patent/KR20200074718A/en
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
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Abstract

본 발명의 일 측면에 따른 인쇄회로기판은, 복수의 소자실장부를 구비하는 인쇄회로기판에 있어서, 복수의 절연층과 제1 회로를 포함하는 제1 적층체; 상기 제1 적층체에 형성되고, 상기 제1 적층체의 상면으로 개방된 캐비티; 및 상기 캐비티 내에 적층된 복수의 수지층과 제2 회로를 포함하는 제2 적층체를 포함하고, 상기 제1 회로는 상기 캐비티에 의하여 노출되는 접속패드를 포함하고, 상기 제2 적층체는 최하층에 위치하는 상기 수지층을 관통하여, 상기 접속패드에 접촉되는 접속비아를 포함하고, 상기 제2 회로는 복수의 소자실장부와 전기적으로 연결된다.A printed circuit board according to one aspect of the present invention includes a printed circuit board having a plurality of device mounting units, a first laminate including a plurality of insulating layers and a first circuit; a cavity formed in the first laminate and open to an upper surface of the first laminate; and a second laminate including a plurality of resin layers and a second circuit stacked in the cavity, wherein the first circuit includes a connection pad exposed by the cavity, and the second laminate is at the bottom layer. It includes a connection via that penetrates the resin layer and contacts the connection pad, and the second circuit is electrically connected to a plurality of device mounting units.

Description

인쇄회로기판{PRINTED CIRCUIT BOARD}Printed circuit board {PRINTED CIRCUIT BOARD}

본 발명은 인쇄회로기판에 관한 것이다.The present invention relates to printed circuit boards.

컴퓨터 산업이 발달함에 따라 더 높은 성능을 가지고 더 낮은 비용으로 생산할 수 있는 집적회로(다이, die)에 대한 기술이 발달하고 있다. 이에 따라, 다수의 다이(die)를 포함하는 패키지 기판에 대한 기술도 개발되고 있다.As the computer industry develops, technology for integrated circuits (die) that can be produced with higher performance and lower cost is developing. Accordingly, technology for a package substrate including multiple dies is also being developed.

미국등록공고 제8754514호US Registration Notice No. 8754514

본 발명의 일 측면에 따르면, 복수의 소자실장부를 구비하는 인쇄회로기판에 있어서, 복수의 절연층과 제1 회로를 포함하는 제1 적층체; 상기 제1 적층체에 형성되고, 상기 제1 적층체의 상면으로 개방된 캐비티; 및 상기 캐비티 내에 적층된 복수의 수지층과 제2 회로를 포함하는 제2 적층체를 포함하고, 상기 제1 회로는 상기 캐비티에 의하여 노출되는 접속패드를 포함하고, 상기 제2 적층체는 최하층에 위치하는 상기 수지층을 관통하여, 상기 접속패드에 접촉되는 접속비아를 포함하고, 상기 제2 회로는 복수의 소자실장부와 전기적으로 연결되는 인쇄회로기판이 제공된다.According to one aspect of the present invention, a printed circuit board having a plurality of device mounting units, comprising: a first laminate including a plurality of insulating layers and a first circuit; a cavity formed in the first laminate and open to an upper surface of the first laminate; and a second laminate including a plurality of resin layers and a second circuit stacked in the cavity, wherein the first circuit includes a connection pad exposed by the cavity, and the second laminate is at the bottom layer. A printed circuit board is provided that penetrates the resin layer and includes a connection via that contacts the connection pad, and the second circuit is electrically connected to a plurality of device mounting units.

상기 제2 회로의 일부는 상기 복수의 소자실장부를 서로 전기적으로 연결할 수 있고, 상기 제2 회로의 일부는 어느 한 상기 소자실장부와 상기 접속비아를 전기적으로 연결할 수 있다.A portion of the second circuit may electrically connect the plurality of device mounting portions to each other, and a portion of the second circuit may electrically connect one of the device mounting portions to the connection via.

상기 수지층은 감광성 수지를 포함할 수 있고, 상기 수지층 두께는 상기 절연층 두께보다 작을 수 있다.The resin layer may include a photosensitive resin, and the thickness of the resin layer may be smaller than the thickness of the insulating layer.

상기 제1 회로의 회로 폭은 상기 제2 회로의 회로 폭보다 클 수 있다. The circuit width of the first circuit may be larger than the circuit width of the second circuit.

상기 제1 적층체의 최상층에 위치하는 상기 제1 회로는 최상층에 위치한 상기 절연층의 상면에 매립될 수 있고, 상기 제1 적층체의 최상층에 위치하는 상기 제1 회로는 최상층에 위치한 상기 절연층보다 돌출될 수 있다. The first circuit located on the uppermost layer of the first laminate may be embedded in the upper surface of the insulating layer located on the uppermost layer, and the first circuit located on the uppermost layer of the first laminate may be embedded in the insulating layer located on the uppermost layer. It may protrude more.

상기 제2 적층체의 상면은 상기 제1 적층체의 상면 높이 이하에 위치할 수 있다.The top surface of the second laminate may be located below the height of the top surface of the first laminate.

상기 제1 적층체의 상면과 상기 제2 적층체의 상면에 형성되는 제2의 수지층을 더 포함할 수 있다. 최상층에 위치한 상기 절연층에는 비아홀이 형성되고, 상기 비아홀 내에는 비아가 형성되고, 상기 제2의 수지층은 상기 비아를 둘러싸도록 상기 비아홀 내부를 충전할 수 있다.It may further include a second resin layer formed on the upper surface of the first laminate and the upper surface of the second laminate. A via hole may be formed in the insulating layer located on the uppermost layer, a via may be formed within the via hole, and the second resin layer may fill the inside of the via hole to surround the via.

상기 제2의 수지층 상에 적층되는 솔더레지스트층을 더 포함할 수 있다. 상기 제2의 수지층 상에 형성되어 상기 제2 회로와 전기적으로 연결되는 제3 회로를 더 포함할 수 있다. It may further include a solder resist layer laminated on the second resin layer. It may further include a third circuit formed on the second resin layer and electrically connected to the second circuit.

상기 제1 적층체와 상기 제2 적층체 상에 적층되는 솔더레지스트층을 더 포함할 수 있다. 상기 솔더레지스트층을 관통하는 상기 소자실장부를 제공하는 금속포스트를 더 포함할 수 있다. 상기 금속포스트는, 상기 솔더레지스트층을 관통하는 포스트비아; 및 상기 솔더레지스트층보다 돌출되게 상기 포스트비아 상에 형성되는 포스트패드를 포함할 수 있다.It may further include a solder resist layer laminated on the first laminate and the second laminate. It may further include a metal post that penetrates the solder resist layer and provides the device mounting portion. The metal post includes a post via penetrating the solder resist layer; and a post pad formed on the post via to protrude beyond the solder resist layer.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 인쇄회로기판을 포함하는 패키지를 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면.
도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면.
도 6은 본 발명의 제5 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면.
도 7은 본 발명의 제5 실시예에 따른 인쇄회로기판을 포함하는 패키지를 나타낸 도면.
도 8은 본 발명의 제6 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면.
도 9는 본 발명의 제7 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면.
도 10 및 도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 패키지의 제조 방법을 나타낸 도면.
도 12 및 도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 패키지의 제조 방법을 나타낸 도면.
1 is a diagram showing a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention.
Figure 2 is a diagram showing a package including a printed circuit board according to the first embodiment of the present invention.
Figure 3 is a diagram showing a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention.
Figure 4 is a diagram showing a printed circuit board according to a third embodiment of the present invention.
Figure 5 is a diagram showing a printed circuit board according to a fourth embodiment of the present invention.
Figure 6 is a diagram showing a printed circuit board according to a fifth embodiment of the present invention.
Figure 7 is a diagram showing a package including a printed circuit board according to a fifth embodiment of the present invention.
Figure 8 is a diagram showing a printed circuit board according to a sixth embodiment of the present invention.
Figure 9 is a diagram showing a printed circuit board according to a seventh embodiment of the present invention.
10 and 11 are diagrams showing a method of manufacturing a package according to an embodiment of the present invention.
12 and 13 are diagrams showing a method of manufacturing a package according to another embodiment of the present invention.

본 발명에 따른 인쇄회로기판의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Embodiments of the printed circuit board according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description with reference to the accompanying drawings, identical or corresponding components are assigned the same drawing numbers and overlapping descriptions thereof are provided. Decided to omit it.

또한, 이하 사용되는 제1, 제2 등과 같은 용어는 동일 또는 상응하는 구성 요소들을 구별하기 위한 식별 기호에 불과하며, 동일 또는 상응하는 구성 요소들이 제1, 제2 등의 용어에 의하여 한정되는 것은 아니다.In addition, terms such as first, second, etc. used below are merely identifiers to distinguish identical or corresponding components, and the same or corresponding components are not limited by terms such as first, second, etc. no.

또한, 결합이라 함은, 각 구성 요소 간의 접촉 관계에 있어, 각 구성 요소 간에 물리적으로 직접 접촉되는 경우만을 뜻하는 것이 아니라, 다른 구성이 각 구성 요소 사이에 개재되어, 그 다른 구성에 구성 요소가 각각 접촉되어 있는 경우까지 포괄하는 개념으로 사용하도록 한다.In addition, coupling does not mean only the case of direct physical contact between each component in the contact relationship between each component, but also means that another component is interposed between each component, and the component is in that other component. It should be used as a concept that encompasses even the cases where each is in contact.

이하, 인쇄회로기판의 다양한 실시예를 구분하여 설명하지만, 어느 한 실시예에 대한 설명이 다른 실시예에도 적용될 수 있음을 배제하지 않는다. 어느 한 실시예에 대한 설명은, 양립 불가한 관계가 아니라면 다른 실시예에도 적용될 수 있다.Hereinafter, various embodiments of the printed circuit board will be separately described, but it is not excluded that the description of one embodiment can be applied to other embodiments. Description of one embodiment may also be applied to other embodiments unless there is an incompatible relationship.

인쇄회로기판printed circuit board

제1 1st 실시예Example

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 인쇄회로기판을 포함하는 패키지를 나타낸 도면이다.FIG. 1 is a diagram showing a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing a package including a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 인쇄회로기판은, 복수의 전자소자가 실장될 수 있도록, 복수의 소자실장부를 제공할 수 있다. 소자실장부는 전자소자가 결합되는 영역으로서, 복수의 실장패드를 포함할 수 있다. 여기서, 전자소자는 능동소자, 수동소자, 집적회로 등 다양하게 선택될 수 있으며, 칩(chip), 다이(die) 등을 포함할 수 있다.A printed circuit board according to an embodiment of the present invention may provide a plurality of device mounting units so that a plurality of electronic devices can be mounted. The device mounting portion is an area where electronic devices are coupled and may include a plurality of mounting pads. Here, electronic devices may be selected from various sources such as active devices, passive devices, and integrated circuits, and may include chips, dies, etc.

본 발명의 실시예에 따른 인쇄회로기판을 설명함에 있어서, 인쇄회로기판이 제1 소자실장부(M1)와 제2 소자실장부(M2)를 구비하는 것을 기준으로 설명하지만, 소자실장부가 3개 이상일 수 있음을 배제하지 않는다.In explaining the printed circuit board according to an embodiment of the present invention, the printed circuit board is described as having a first device mounting portion (M1) and a second device mounting portion (M2), but there are three device mounting portions. It is not ruled out that it may be more than that.

제1 소자실장부(M1)와 제2 소자실장부(M2)는 서로 이격되게 구획되며, 각각의 소자실장부는 서로 다른 복수의 실장패드를 포함할 수 있다. 제1 소자실장부(M1)에는 제1 전자소자(E1)가 실장되고, 제2 소자실장부(M2)에는 제2 전자소자(E2)가 실장되며, 제1 전자소자(E1)와 제2 전자소자(E2) 각각은, 능동소자, 수동소자, 집적회로 등에서 선택될 수 있다. 예를 들어, 제1 전자소자(E1)는 HBM, 제2 전자소자(E2)는 GPU일 수 있으나, 제한되지 않는다.The first device mounting portion M1 and the second device mounting portion M2 are partitioned to be spaced apart from each other, and each device mounting portion may include a plurality of different mounting pads. The first electronic device (E1) is mounted on the first device mounting portion (M1), the second electronic device (E2) is mounted on the second device mounting portion (M2), and the first electronic device (E1) and the second electronic device (E1) are mounted on the first device mounting portion (M1). Each electronic device (E2) may be selected from active devices, passive devices, integrated circuits, etc. For example, the first electronic device (E1) may be a HBM, and the second electronic device (E2) may be a GPU, but are not limited thereto.

도 1을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 인쇄회로기판은, 제1 적층체(100), 캐비티(120), 제2 적층체(200)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, a printed circuit board according to the first embodiment of the present invention may include a first laminate 100, a cavity 120, and a second laminate 200.

제1 적층체(100)는 복수의 절연층(110)이 상하로 적층되어 형성된다. 절연층(110)은 유기물 또는 무기물의 절연물질로 이루어지는 층이며, 수지를 포함할 수 있다. 절연층(110)의 수지는 열경화성 또는 열가소성일 수 있고, 구체적으로, 에폭시(epoxy) 수지, 이미다졸(imidazole) 수지, 폴리이미드(polyimide) 수지, BT(Bismaleimide Triazine) 수지, 불소계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 제한되는 것은 아니다. The first laminate 100 is formed by stacking a plurality of insulating layers 110 vertically. The insulating layer 110 is a layer made of an organic or inorganic insulating material and may include resin. The resin of the insulating layer 110 may be thermosetting or thermoplastic, and specifically, at least one of epoxy resin, imidazole resin, polyimide resin, BT (Bismaleimide Triazine) resin, and fluorine-based resin. It may include, but is not limited to.

절연층(110)은 내부에 유리 섬유와 같은 섬유 보강재를 포함할 수 있으며, 이러한 구체적인 절연층(110)으로 프리프레그(Prepreg)가 사용될 수 있다. 또한, 절연층(110)은 유기필러 또는 무기필러의 필러를 함유할 수 있다. 절연층(110)에 함유되는 무기필러는 실리카일 수 있다.The insulating layer 110 may include a fiber reinforcement material such as glass fiber therein, and prepreg may be used as this specific insulating layer 110. Additionally, the insulating layer 110 may contain an organic filler or an inorganic filler. The inorganic filler contained in the insulating layer 110 may be silica.

서로 동일하거나 다른 재질의 복수의 절연층(110)이 켜켜이 적층되어 제1 적층체(100)를 구성할 수 있다. 도 1에는 두 개의 절연층(110)이 도시되어 있으나, 절연층(110)의 개수는 설계 등에 따라 변경될 수 있다.A plurality of insulating layers 110 made of the same or different materials may be stacked in turns to form the first laminate 100. Although two insulating layers 110 are shown in FIG. 1, the number of insulating layers 110 may change depending on design, etc.

제1 적층체(100)에는 회로가 형성될 수 있고, 제1 적층체(100)에 형성된 회로를 제1 회로(C1)라 칭하기로 한다. 제1 회로(C1)는 금속으로 형성될 수 있고, 제1 회로(C1)의 금속은 구리, 은, 니켈, 팔라듐, 백금, 금, 알루미늄 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. A circuit may be formed in the first laminate 100, and the circuit formed in the first laminate 100 will be referred to as the first circuit C1. The first circuit C1 may be formed of metal, and the metal of the first circuit C1 may include at least one of copper, silver, nickel, palladium, platinum, gold, and aluminum.

제1 회로(C1)는 각 절연층(110)의 일면에 형성될 수 있다. 절연층(110)이 두 개인 경우, 제1 회로(C1)는 세 층으로 형성될 수 있다. 서로 다른 층에 위치하는 제1 회로(C1)는 비아(제1 비아(V1))를 통해 전기적으로 연결될 수 있다. 도 1을 참조하면, 제1 회로(C1) 중, 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최외층 제1 회로(C1’)는 최외층 절연층(110) 상면에 매립되어, 최외층 제1 회로(C1’)에서 상면을 제외한 나머지 면들이 최외층 절연층(110)으로 커버될 수 있다. The first circuit C1 may be formed on one surface of each insulating layer 110. When there are two insulating layers 110, the first circuit C1 may be formed of three layers. The first circuits C1 located on different layers may be electrically connected through a via (first via V1). Referring to FIG. 1, among the first circuits C1, the outermost first circuit C1' located closest to the device mounting surface is embedded in the upper surface of the outermost insulating layer 110, and the outermost first circuit (C1') In C1'), the remaining surfaces except the top surface may be covered with the outermost insulating layer 110.

제1 회로(C1)는 복수의 회로선을 포함할 수 있다. 각각의 회로선 단부에는 패드가 마련될 수 있다. 이러한 패드는 제1 비아(V1) 등의 비아와 연결될 수 있다. 한편, 제1 회로(C1) 중, 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최외층 제1 회로(C1’)는 전자소자 실장을 위한 실장패드를 포함하여 소자실장부를 제공할 수 있다.The first circuit C1 may include a plurality of circuit lines. A pad may be provided at the end of each circuit line. These pads may be connected to vias such as the first via V1. Meanwhile, among the first circuits C1, the outermost first circuit C1' located closest to the device mounting surface may include a mounting pad for mounting electronic devices and provide a device mounting portion.

제1 적층체(100)에는 캐비티(120)가 형성될 수 있다. 캐비티(120)는 제1 적층체(100) 내에 형성되고, 상부로 개방된다. 단, 캐비티(120)의 하부는 개방되지 않으므로, 캐비티(120)는 제1 적층체(100)의 두께 일부만 관통한다. 도 1에 도시된 바와 같이, 캐비티(120)의 깊이는 제1 적층체(100)의 절연층(110) N개의 두께와 일치할 수 있다. 또한, 캐비티(120)의 저면은 두 절연층(110) 간 경계면에 위치할 수 있다.A cavity 120 may be formed in the first laminate 100. The cavity 120 is formed within the first laminate 100 and opens upward. However, since the lower part of the cavity 120 is not open, the cavity 120 penetrates only a portion of the thickness of the first laminate 100. As shown in FIG. 1, the depth of the cavity 120 may match the thickness of N insulating layers 110 of the first laminate 100. Additionally, the bottom of the cavity 120 may be located at the interface between the two insulating layers 110.

캐비티(120)에 의하여, 제1 회로(C1) 중 일부가 노출될 수 있다. 복수의 절연층(110) 중 캐비티(120)와 접하고 있는 절연층(110)에 위치한 제1 회로(C1)가 캐비티(120)에 의해 노출될 수 있고, 상기 제1 회로(C1)의 단부에 마련된 패드가 노출될 수 있다. 캐비티(120)에 의해 노출된 제1 회로(C1)의 패드를 접속패드(300)라 할 수 있다. 다르게 말하면, 캐비티(120)에 의하여 제1 회로(C1)의 접속패드(300)가 노출되고, 상기 접속패드(300)는 캐비티(120) 하측에 위치하는 제1 회로(C1)의 패드이다.A portion of the first circuit C1 may be exposed by the cavity 120. Among the plurality of insulating layers 110, the first circuit C1 located on the insulating layer 110 in contact with the cavity 120 may be exposed by the cavity 120, and may be located at an end of the first circuit C1. The provided pad may be exposed. The pad of the first circuit C1 exposed by the cavity 120 may be referred to as the connection pad 300. In other words, the connection pad 300 of the first circuit C1 is exposed by the cavity 120, and the connection pad 300 is a pad of the first circuit C1 located below the cavity 120.

제2 적층체(200)는 캐비티(120) 내에 형성되며, 복수의 수지층(210)이 상하로 적층되어 형성될 수 있다. 복수의 수지층(210)은 캐비티(120) 내에 순차적으로 적층될 수 있다.The second laminate 200 is formed in the cavity 120 and may be formed by stacking a plurality of resin layers 210 vertically. A plurality of resin layers 210 may be sequentially stacked within the cavity 120.

수지층(210)은 수지를 포함하며, 구체적으로, 에폭시(epoxy) 수지, 이미다졸(imidazole) 수지, 폴리이미드(polyimide) 수지, 액정폴리머(LCP), BT(Bismaleimide Triazine) 수지, 불소계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 제한되는 것은 아니다. The resin layer 210 includes a resin, specifically, epoxy resin, imidazole resin, polyimide resin, liquid crystal polymer (LCP), BT (Bismaleimide Triazine) resin, and fluorine-based resin. It may include at least one, but is not limited.

수지층(210)은 감광성 수지를 포함할 수 있다. 이 경우, 수지층(210)은 광에 반응할 수 있고, 포토리소그래피(photolithography) 공정으로 가공될 수 있다. 감광성 수지를 포함하는 수지층(210)은 PID(photo imageable dielectric)일 수 있다. 또한, 감광성 수지는 포지티브 타입(positive type) 또는 네거티브 타입(negative type)일 수 있다. The resin layer 210 may include photosensitive resin. In this case, the resin layer 210 may react to light and may be processed through a photolithography process. The resin layer 210 containing photosensitive resin may be a PID (photo imageable dielectric). Additionally, the photosensitive resin may be a positive type or a negative type.

포지티브 타입의 수지층(210)의 경우, 노광 공정에서, 빛을 받은 부분의 광중합체 폴리머 결합이 끊어진다. 이후, 현상 공정을 수행하면, 빛을 받아 광중합체 폴리머 결합이 끊어진 부분이 제거가 된다.In the case of the positive type resin layer 210, during the exposure process, the photopolymer bond in the portion that receives light is broken. Afterwards, when the development process is performed, the part where the photopolymer polymer bond is broken by receiving light is removed.

네거티브 타입의 수지층(210)의 경우, 노광 공정에서, 빛을 받은 부분이 광중합 반응을 일으켜 단일구조에서 사슬구조의 3차원 망상 구조가 되며, 현상 공정을 수행하면, 빛을 받지 않은 부분이 제거가 된다.In the case of the negative type resin layer 210, during the exposure process, the part that received light undergoes a photopolymerization reaction, changing from a single structure to a three-dimensional network structure with a chain structure. When the developing process is performed, the part that did not receive light is removed. It becomes.

감광성 수지를 포함하는 수지층(210)에 의하면, 포토리소그래피 공정으로 회로 및 비아 형성 공정이 가능해지므로, 미세 패턴 가공이 용이해질 수 있다.According to the resin layer 210 containing a photosensitive resin, a circuit and via formation process is possible through a photolithography process, so fine pattern processing can be facilitated.

수지층(210)의 두께는 절연층(110)의 두께보다 작을 수 있다. 즉, 복수의 수지층(210) 중 한 개의 두께는 복수의 절연층(110) 중 한 개의 두께보다 작을 수 있다. 이에 의하면, 캐비티(120)의 깊이가 절연층(110) 한 개의 두께와 동일한 경우에, 상기 캐비티(120) 내에 복수의 수지층(210)이 형성될 수 있다. The thickness of the resin layer 210 may be smaller than the thickness of the insulating layer 110. That is, the thickness of one of the plurality of resin layers 210 may be smaller than the thickness of one of the plurality of insulating layers 110. According to this, when the depth of the cavity 120 is equal to the thickness of one insulating layer 110, a plurality of resin layers 210 can be formed within the cavity 120.

수지층(210)의 최상면, 즉, 제2 적층체(200)의 상면은, 제1 적층체(100)의 상면과 동일 평면 상에 위치할 수 있다. The uppermost surface of the resin layer 210, that is, the upper surface of the second laminate 200, may be located on the same plane as the upper surface of the first laminate 100.

제2 적층체(200)에는 회로가 형성될 수 있고, 제2 적층체(200)에 형성된 회로를 제2 회로(C2)라 칭하기로 한다. 제2 회로(C2)는 금속으로 형성될 수 있고, 제2 회로(C2)의 금속은 구리, 은, 니켈, 팔라듐, 백금, 금, 알루미늄 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. A circuit may be formed in the second laminate 200, and the circuit formed in the second laminate 200 will be referred to as a second circuit C2. The second circuit C2 may be formed of metal, and the metal of the second circuit C2 may include at least one of copper, silver, nickel, palladium, platinum, gold, and aluminum.

제2 회로(C2)는 각 수지층(210)의 일면(상면)에 형성될 수 있다. 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최외층(최상층) 제2 회로(C2’)는 최외층(최상층) 수지층(210)에 매립되고, 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최외층 제2 회로(C2’)의 상면은, 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최외층 제1 회로(C1’)의 상면과 동일 평면 상에 위치할 수 있다. The second circuit C2 may be formed on one surface (upper surface) of each resin layer 210. The outermost layer (top layer) second circuit (C2') located closest to the device mounting surface is embedded in the outermost (top layer) resin layer 210, and the outermost layer second circuit (C2') located closest to the device mounting surface. ') may be located on the same plane as the top surface of the outermost first circuit (C1') located closest to the device mounting surface.

서로 다른 층에 위치한 제2 회로(C2)는 비아(제2 비아(V2))를 통해 서로 연결될 수 있다. 한편, 제2 적층체(200)에는 최하층 수지층(211)을 관통하여 상술한 접속패드(300)에 접촉되는 접속비아(400)가 형성될 수 있다. 즉, 접속비아(400)는 접속패드(300)와 제2 회로(C2)를 전기적으로 연결할 수 있다. The second circuits C2 located on different layers may be connected to each other through a via (second via V2). Meanwhile, a connection via 400 that penetrates the lowermost resin layer 211 and contacts the connection pad 300 described above may be formed in the second laminate 200. That is, the connection via 400 can electrically connect the connection pad 300 and the second circuit C2.

본 발명은 제1 적층체(100)의 캐비티(120) 내에 수지층(210)이 직접 형성된다는 점에 특징이 있다. 즉, 제1 적층체(100)의 캐비티(120) 내에 복수의 수지층(210)이 순차적으로 적층되어 제2 적층체(200)가 형성되며, 이는 제2 적층체(200)가 별도로 제조된 뒤에 캐비티(120)에 삽입되어 제1 적층체(100)에 부착되는 구조와 구별된다.The present invention is characterized in that the resin layer 210 is formed directly in the cavity 120 of the first laminate 100. That is, a plurality of resin layers 210 are sequentially stacked in the cavity 120 of the first laminate 100 to form the second laminate 200, which is manufactured separately. It is distinguished from the structure that is later inserted into the cavity 120 and attached to the first laminate 100.

또한, 접속비아(400)가 접속패드(300)에 접촉되게 캐비티(120) 저면에 형성되어, 접속비아(400)에 의해 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200)의 전기적 연결이 이루어질 수 있다. 따라서, 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200)의 연결을 위한 솔더링 작업이나, 접착제 사용이 불필요하다. In addition, a connection via 400 is formed on the bottom of the cavity 120 to contact the connection pad 300, and the first stack 100 and the second stack 200 are electrically connected by the connection via 400. This can be done. Accordingly, there is no need for soldering or use of adhesive to connect the first laminate 100 and the second laminate 200.

제1 회로(C1)의 회로 폭은 제2 회로(C2)의 회로 폭보다 클 수 있다. 제1 회로(C1)의 회로 두께는 제2 회로(C2)의 회로 두께보다 클 수 있다. 제1 회로(C1)보다 제2 회로(C2)가 미세 피치를 가질 수 있다. 제1 회로(C1)의 회로 밀도보다 제2 회로(C2)의 회로 밀도가 클 수 있다. The circuit width of the first circuit (C1) may be larger than the circuit width of the second circuit (C2). The circuit thickness of the first circuit (C1) may be greater than the circuit thickness of the second circuit (C2). The second circuit C2 may have a finer pitch than the first circuit C1. The circuit density of the second circuit C2 may be greater than that of the first circuit C1.

제1 회로(C1) 및 제2 회로(C2)는 SAP공정(Semi-Additive Process), M-SAP공정(Modified Semi-Additive Process) 또는 텐팅(tenting) 공정 등의 기판 공정으로 형성될 수 있다. 여기서, 제2 회로(C2)는 SAP공정으로 형성되고, 제1 회로(C1)는 텐팅 공정 등으로 형성될 수 있으나, 제한되는 것은 아니다.The first circuit (C1) and the second circuit (C2) may be formed through a substrate process such as a SAP process (Semi-Additive Process), an M-SAP process (Modified Semi-Additive Process), or a tenting process. Here, the second circuit (C2) may be formed through a SAP process, and the first circuit (C1) may be formed through a tenting process, etc., but are not limited thereto.

제1 비아(V1)의 크기는 제2 비아(V2)의 크기보다 크고, 제1 비아(V1)의 피치는 제2 비아(V2)의 피치보다 클 수 있다. 또한, 접속비아(400)는 제2 비아(V2)와 동일한 규모를 가질 수 있다. The size of the first via (V1) may be larger than the size of the second via (V2), and the pitch of the first via (V1) may be larger than the pitch of the second via (V2). Additionally, the connection via 400 may have the same size as the second via V2.

제2 회로(C2)는 복수의 회로선을 포함할 수 있다. 각각의 회로선 단부에는 패드가 마련될 수 있다. 이러한 패드는 제2 비아(V2)와 연결될 수 있다. 한편, 제2 회로(C2) 중, 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최외층 제2 회로(C2’)는 전자소자 실장을 위한 실장패드를 포함하여 소자실장부를 제공할 수 있다. The second circuit C2 may include a plurality of circuit lines. A pad may be provided at the end of each circuit line. This pad may be connected to the second via (V2). Meanwhile, among the second circuits (C2), the outermost second circuit (C2') located closest to the device mounting surface may include a mounting pad for mounting electronic devices and provide a device mounting portion.

복수의 소자실장부 각각은 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200) 모두에 걸쳐 형성된다. 즉, 제1 소자실장부(M1)는 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200) 상에 마련되고, 제2 소자실장부(M2) 역시 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200) 상에 마련된다. 제2 적층체(200) 상면은 복수의 소자실장부를 제공하기 위해 복수로 구획될 수 있다.Each of the plurality of device mounting units is formed over both the first stack 100 and the second stack 200. That is, the first device mounting portion M1 is provided on the first stack 100 and the second stack 200, and the second device mounting portion M2 is also provided on the first stack 100 and the second stack 200. It is provided on the laminate 200. The upper surface of the second stack 200 may be divided into multiple sections to provide a plurality of device mounting units.

도 2(a)를 참조하면, 제1 소자실장부(M1) 상에 제1 전자소자(E1)가 실장되고, 제2 소자실장부(M2) 상에 제2 전자소자(E2)가 실장된다. 제1 전자소자(E1)는 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200) 모두에 걸쳐 위치하며, 제2 전자소자(E2) 역시, 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200) 모두에 걸쳐 위치한다. Referring to FIG. 2(a), the first electronic device (E1) is mounted on the first device mounting portion (M1), and the second electronic device (E2) is mounted on the second device mounting portion (M2). . The first electronic device E1 is located across both the first stack 100 and the second stack 200, and the second electronic device E2 is also located across the first stack 100 and the second stack 200. It is located across all 200.

제1 전자소자(E1)는 전극단자(T1)를 포함하고, 상기 전극단자(T1)는 인쇄회로기판의 제1 소자실장부(M1)의 실장패드와 저융점금속부재(LM)으로 결합될 수 있다. 제1 전자소자(E1)와 인쇄회로기판의 사이는 언더필 재료(F)로 충전될 수 있다. 제2 전자소자(E2)는 전극단자(T2)를 포함하고, 상기 전극단자(T2)는 인쇄회로기판의 제2 소자실장부(M2)의 실장패드와 저융점금속부재(LM)으로 결합될 수 있다. 제2 전자소자(E2)와 인쇄회로기판의 사이는 언더필 재료(F)로 충전될 수 있다.The first electronic device (E1) includes an electrode terminal (T1), and the electrode terminal (T1) is coupled to the mounting pad of the first device mounting portion (M1) of the printed circuit board with a low melting point metal member (LM). You can. The space between the first electronic element (E1) and the printed circuit board may be filled with an underfill material (F). The second electronic device (E2) includes an electrode terminal (T2), and the electrode terminal (T2) is coupled to the mounting pad of the second device mounting portion (M2) of the printed circuit board with a low melting point metal member (LM). You can. The space between the second electronic element (E2) and the printed circuit board may be filled with an underfill material (F).

상술한 바와 같이, 제2 회로(C2)는 복수의 회로선을 포함할 수 있다. 제2 회로(C2)는 접속비아(400)와 전기적으로 연결된 회로선을 포함할 수 있다. 또한, 제2 회로(C2)는 접속비아(400)와 전기적으로 절연되고, 복수의 소자실장부를 전기적으로 연결하는 회로선을 포함할 수 있다. 이 경우, 제2 회로(C2)는 다양한 신호전달경로를 제공할 수 있다(도 2(a)의 화살표 참고). As described above, the second circuit C2 may include a plurality of circuit lines. The second circuit C2 may include a circuit line electrically connected to the connection via 400. Additionally, the second circuit C2 is electrically insulated from the connection via 400 and may include a circuit line that electrically connects a plurality of device mounting units. In this case, the second circuit C2 can provide various signal transmission paths (see arrow in FIG. 2(a)).

도 2(b)는 제2 회로(C2)의 특정 신호전달경로를 제공하는 회로선을 도시하고 있다. 도 2(b)를 참조하면, 제2 회로(C2)는, i)제1 소자실장부(M1)와 제1 회로(C1)를 연결하는 회로선(미도시), ii)제2 소자실장부(M2)와 제2 회로(C2)를 연결하는 회로선(C23), iii)제1 소자실장부(M1)와 제2 소자실장부(M2)를 연결하는 회로선(C21, C22)를 포함할 수 있다. i와 ii의 경우, 상기 회로선은 접속비아(400)와 전기적으로 연결되며, iii의 경우 접속비아(400)와 전기적으로 절연될 수 있다.Figure 2(b) shows a circuit line providing a specific signal transmission path of the second circuit C2. Referring to FIG. 2(b), the second circuit C2 includes i) a circuit line (not shown) connecting the first device mounting unit M1 and the first circuit C1, and ii) a second device mounting section. a circuit line (C23) connecting the unit (M2) and the second circuit (C2); iii) a circuit line (C21, C22) connecting the first device mounting unit (M1) and the second device mounting unit (M2); It can be included. In the case of i and ii, the circuit line is electrically connected to the connection via 400, and in the case of iii, the circuit line may be electrically insulated from the connection via 400.

여기서, 제1 소자실장부(M1)와 제2 소자실장부(M2)를 연결하는 회로선(C21, C22)은 브릿지(bridge) 회로로서, 제1 전자소자(E1)와 제2 전자소자(E2)의 전기적 연결(이를, 다이 간 인터커넥션(die to die interconnection)라 부를 수 있음)을 담당할 수 있다. 브릿지 회로는 복수로 형성될 수 있고, 제2 비아(V2)를 경유하여 두 전자소자(E1, E2)를 연결할 수 있다. Here, the circuit lines (C21, C22) connecting the first device mounting portion (M1) and the second device mounting portion (M2) are bridge circuits, and connect the first electronic device (E1) and the second electronic device ( It can be responsible for the electrical connection of E2) (this can be called die to die interconnection). A plurality of bridge circuits may be formed, and the two electronic devices E1 and E2 may be connected via the second via V2.

요컨대, 제2 회로(C2)의 일부는 복수의 소자실장부 중 적어도 두 개를 전기적으로 연결할 수 있고, 제2 회로(C2)의 다른 일부는 어느 한 소자실장부와 접속비아(400)를 전기적으로 연결할 수 있다.In short, a part of the second circuit (C2) can electrically connect at least two of a plurality of device mounting units, and another part of the second circuit (C2) can electrically connect one device mounting unit and the connection via 400. You can connect with .

제1 적층체(100)의 상면, 그리고 제2 적층체(200)의 상면에는 솔더레지스트층(500)이 적층될 수 있다. 솔더레지스트층(500)에는 개구가 형성되어, 개구를 통해, 최외층 회로(C1', C2')가 노출될 수 있다. 특히, 개구를 통해 최외층 회로(C1', C2')의 패드가 노출되고, 노출된 패드는 실장패드로 기능할 수 있다. 한편, 솔더레지스트층(500)은 제1 적층체(100)의 하면에도 적층될 수 있다.A solder resist layer 500 may be laminated on the upper surface of the first laminate 100 and the upper surface of the second laminate 200. An opening is formed in the solder resist layer 500, and the outermost layer circuits C1' and C2' can be exposed through the opening. In particular, the pads of the outermost layer circuits C1' and C2' are exposed through the opening, and the exposed pads can function as mounting pads. Meanwhile, the solder resist layer 500 may also be laminated on the lower surface of the first laminate 100.

제2 2nd 실시예Example

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.Figure 3 is a diagram showing a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 제2 실시예에 따른 인쇄회로기판에서는, 최외층(최상층)에 위치하는 제2 회로(C2’)는 수지층(210)보다 돌출된다. 여기서, 최외층(최상층)에 위치하는 제2 회로(C2’)는 제1 적층체(100)보다 돌출된다. 이는 제1 실시예에서 최외층(최상층)에 위치하는 제2 회로(C2’)가 수지층(210)에 매립되어 제1 적층체(100)보다 돌출되지 않는 것과 구별될 수 있다.Referring to FIG. 3, in the printed circuit board according to the second embodiment, the second circuit C2′ located on the outermost layer (top layer) protrudes beyond the resin layer 210. Here, the second circuit (C2') located on the outermost layer (top layer) protrudes beyond the first laminate 100. This can be distinguished from the first embodiment in which the second circuit C2' located in the outermost layer (top layer) is embedded in the resin layer 210 and does not protrude beyond the first laminate 100.

제3 3rd 실시예Example

도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.Figure 4 is a diagram showing a printed circuit board according to a third embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 제3 실시예에 따른 인쇄회로기판에서는, 제2 적층체(200)의 상면은 제1 적층체(100)의 상면보다 아래에 (낮게) 위치한다. 이에 의하면, 수지층(210)은 캐비티(120) 전체를 충전하지 않으며, 솔더레지스트층(500)이 캐비티(120) 내부를 일부 충전할 수 있다. 본 실시예는 캐비티(120)가 제2 적층체(200)로 완전히 메워진 제1 실시예와 구별될 수 있다. 한편, 최외층(최상층)에 위치하는 제2 회로(C2’)는 수지층(210)보다 돌출되지만, 제1 적층체(100)보다 돌출되지는 않는다.Referring to FIG. 4 , in the printed circuit board according to the third embodiment, the upper surface of the second laminate 200 is located below (lower) than the upper surface of the first laminate 100. According to this, the resin layer 210 does not fill the entire cavity 120, and the solder resist layer 500 may partially fill the inside of the cavity 120. This embodiment can be distinguished from the first embodiment in which the cavity 120 is completely filled with the second laminate 200. Meanwhile, the second circuit C2' located on the outermost layer (top layer) protrudes beyond the resin layer 210, but does not protrude beyond the first laminate 100.

제4 4th 실시예Example

도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.Figure 5 is a diagram showing a printed circuit board according to a fourth embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 제4 실시예에 따른 인쇄회로기판은, 제1 적층체(100), 캐비티(120), 제2 적층체(200)를 포함하고, 제2의 수지층(220)을 더 포함할 수 있다. Referring to FIG. 5, the printed circuit board according to the fourth embodiment includes a first laminate 100, a cavity 120, and a second laminate 200, and a second resin layer 220. More may be included.

제2의 수지층(220)은 제2 적층체(200) 상에 적층되도록 캐비티(120) 내부를 충전하고, 제1 적층체(100)의 상면까지 연장 형성될 수 있다. 제2의 수지층(220)은 제2 적층체(200)의 수지층(210)과 동일한 재료로 형성될 수 있고, 제2의 수지층(220)은 감광성 수지를 포함할 수 있다.The second resin layer 220 may fill the inside of the cavity 120 to be laminated on the second laminate 200 and may extend to the upper surface of the first laminate 100. The second resin layer 220 may be formed of the same material as the resin layer 210 of the second laminate 200, and the second resin layer 220 may include a photosensitive resin.

도 5(a)를 참조하면, 제2 적층체(200)의 최외층 제2 회로(C2’) 상에 제2의 수지층(220)을 관통하는 비아(제3 비아(V3))가 형성되고, 제2의 수지층(220) 상에 제3 회로(C3)가 형성된다. 여기서, 제3 회로(C3)의 패드는 실장패드로 기능할 수 있다. 상기 제3 회로(C3)는 제2 회로(C2)와 동일한 스펙(spec)을 가질 수 있다.Referring to FIG. 5(a), a via (third via V3) penetrating the second resin layer 220 is formed on the second circuit C2', the outermost layer of the second laminate 200. And the third circuit C3 is formed on the second resin layer 220. Here, the pad of the third circuit C3 may function as a mounting pad. The third circuit C3 may have the same specifications as the second circuit C2.

또한, 도 5(a)에 도시된 바와 같이, 솔더레지스트층(500)은 제2의 수지층(220) 상에 적층되고, 솔더레지스트층(500)의 개구는 제2의 수지층(220)을 관통할 수 있다. 솔더레지스트층(500)과 제2의 수지층(220)이 모두 감광성 수지를 포함하는 경우, 솔더레지스트층(500)의 개구는 포토리소그래피 공정으로 형성될 수 있다.In addition, as shown in FIG. 5(a), the solder resist layer 500 is laminated on the second resin layer 220, and the opening of the solder resist layer 500 is opened through the second resin layer 220. can penetrate. When both the solder resist layer 500 and the second resin layer 220 include photosensitive resin, the opening of the solder resist layer 500 may be formed through a photolithography process.

도 5(b)를 참조하면, 제1 적층체(100)의 최외층 절연층(110)에 위치한 비아홀(VH) 내에 제1 비아(V1’)가 형성될 수 있다. 즉, 상기 제1 비아(V1’)는 최외층 제1 회로(C1’) 하에 형성된다. 여기서, 제2의 수지층(220)은 제1 비아(V1’)를 둘러싸도록 비아홀(VH) 내부를 충전할 수 있다.Referring to FIG. 5(b), a first via (V1') may be formed in the via hole (VH) located in the outermost insulating layer 110 of the first laminate 100. That is, the first via (V1') is formed under the outermost first circuit (C1'). Here, the second resin layer 220 may fill the inside of the via hole (VH) to surround the first via (V1').

최외층 제1 회로(C1’)는 제2의 수지층(220) 상에 형성되고, 실장패드를 제공할 수 있다. The outermost first circuit C1' is formed on the second resin layer 220 and may provide a mounting pad.

또한, 제2 적층체(200)의 최외층 제2 회로(C2’) 상에 제2의 수지층(220)을 관통하는 비아(제3 비아(V3))가 형성되고, 제2의 수지층(220) 상에 제3 회로(C3)가 형성된다. 여기서, 제3 회로(C3)의 패드는 실장패드로 기능할 수 있다. In addition, a via (third via V3) penetrating the second resin layer 220 is formed on the second circuit C2', the outermost layer of the second laminate 200, and the second resin layer A third circuit C3 is formed on 220. Here, the pad of the third circuit C3 may function as a mounting pad.

도 5와 같이, 제2의 수지층(220)이 이용되면, 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200)의 밀착력이 우수해질 수 있다.As shown in FIG. 5 , when the second resin layer 220 is used, the adhesion between the first laminate 100 and the second laminate 200 can be improved.

제5 5th 실시예Example

도 6은 본 발명의 제5 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다. 또한, 도 7은 도 6의 인쇄회로기판을 이용한 패키지를 나타낸 도면이다.Figure 6 is a diagram showing a printed circuit board according to a fifth embodiment of the present invention. Additionally, Figure 7 is a diagram showing a package using the printed circuit board of Figure 6.

도 6을 참조하면, 제5 실시예에 따른 인쇄회로기판은, 제1 적층체(100), 캐비티(120), 제2 적층체(200)를 포함하고, 금속포스트(post)(600)를 더 포함할 수 있다. Referring to FIG. 6, the printed circuit board according to the fifth embodiment includes a first laminate 100, a cavity 120, and a second laminate 200, and a metal post 600. More may be included.

금속포스트(600)는 솔더레지스트층(500)을 관통하여 형성될 수 있고, 실장패드를 제공할 수 있다. 금속포스트(600)는 솔더레지스트층(500)보다 돌출되기 때문에, 인쇄회로기판과 전자소자와의 거리가 좁아지고, 전자소자의 실장을 위한 저융점금속부재(LM)의 높이가 줄어들 수 있다(도 7 참고).The metal post 600 may be formed to penetrate the solder resist layer 500 and may provide a mounting pad. Since the metal post 600 protrudes beyond the solder resist layer 500, the distance between the printed circuit board and the electronic device is narrowed, and the height of the low melting point metal member (LM) for mounting the electronic device can be reduced ( (see Figure 7).

금속포스트(600)는 포스트비아(610)와 포스트패드(620)를 포함할 수 있다. 포스트비아(610)는 솔더레지스트층(500)을 관통하여 최외층 제1 회로(C1’), 최외층 제2 회로(C2’) 또는 제3 회로(C3) 상에 형성될 수 있다. 포스트패드(620)는 솔더레지스트층(500)보다 돌출되어 실장패드를 제공한다. The metal post 600 may include a post via 610 and a post pad 620. The post via 610 may penetrate the solder resist layer 500 and be formed on the first outermost circuit C1', the second outermost circuit C2', or the third circuit C3. The post pad 620 protrudes beyond the solder resist layer 500 and provides a mounting pad.

한편, 도 6(a)는 도 3를 참조하여 설명한 인쇄회로기판에 금속포스트(600)를 추가한 것이고, 도 6(b)는 도 4를 참조하여 설명한 인쇄회로기판에 금속포스트(600)를 추가한 것이다. 또한, 도 6(c)는 도 5(b)를 참조하여 설명한 인쇄회로기판에 금속포스트(600)를 추가한 것이다. 한편, 도 7은 도 6(a)의 인쇄회로기판을 이용한 패키지를 도시하고 있다.Meanwhile, FIG. 6(a) shows a metal post 600 added to the printed circuit board described with reference to FIG. 3, and FIG. 6(b) shows a metal post 600 added to the printed circuit board described with reference to FIG. 4. It was added. Additionally, Figure 6(c) shows a metal post 600 added to the printed circuit board described with reference to Figure 5(b). Meanwhile, Figure 7 shows a package using the printed circuit board of Figure 6(a).

제6 6th 실시예Example

도 8은 본 발명의 제6 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.Figure 8 is a diagram showing a printed circuit board according to a sixth embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 본 발명의 제6 실시예에 따른 인쇄회로기판은, 제1 적층체(100), 캐비티(120), 제2 적층체(200)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 8 , the printed circuit board according to the sixth embodiment of the present invention may include a first stack 100, a cavity 120, and a second stack 200.

제1 적층체(100)는 복수의 절연층(110)이 상하로 적층되어 형성된다. 절연층(110)은 유기물 또는 무기물의 절연물질로 이루어지는 층이며, 수지를 포함할 수 있다. 절연층(110)의 수지는 열경화성 또는 열가소성일 수 있고, 구체적으로, 에폭시(epoxy) 수지, 이미다졸(imidazole) 수지, 폴리이미드(polyimide) 수지, BT(Bismaleimide Triazine) 수지, 불소계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 제한되는 것은 아니다. The first laminate 100 is formed by stacking a plurality of insulating layers 110 vertically. The insulating layer 110 is a layer made of an organic or inorganic insulating material and may include resin. The resin of the insulating layer 110 may be thermosetting or thermoplastic, and specifically, at least one of epoxy resin, imidazole resin, polyimide resin, BT (Bismaleimide Triazine) resin, and fluorine-based resin. It may include, but is not limited to.

절연층(110)은 내부에 유리 섬유와 같은 섬유 보강재를 포함할 수 있으며, 이러한 구체적인 절연층(110)으로 프리프레그(Prepreg)가 사용될 수 있다. 또한, 절연층(110)은 유기필러 또는 무기필러의 필러를 함유할 수 있다. 절연층(110)에 함유되는 무기필러는 실리카일 수 있다.The insulating layer 110 may include a fiber reinforcement material such as glass fiber therein, and prepreg may be used as this specific insulating layer 110. Additionally, the insulating layer 110 may contain an organic filler or an inorganic filler. The inorganic filler contained in the insulating layer 110 may be silica.

서로 동일하거나 다른 재질의 복수의 절연층(110)이 켜켜이 적층되어 제1 적층체(100)를 구성할 수 있다. 도 1에는 두 개의 절연층(110)이 도시되어 있으나, 절연층(110)의 개수는 설계 등에 따라 변경될 수 있다.A plurality of insulating layers 110 made of the same or different materials may be stacked in turns to form the first laminate 100. Although two insulating layers 110 are shown in FIG. 1, the number of insulating layers 110 may change depending on design, etc.

제1 적층체(100)에는 회로가 형성될 수 있고, 제1 적층체(100)에 형성된 회로를 제1 회로(C1)라 칭하기로 한다. 제1 회로(C1)는 금속으로 형성될 수 있고, 제1 회로(C1)의 금속은 구리, 은, 니켈, 팔라듐, 백금, 금, 알루미늄 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. A circuit may be formed in the first laminate 100, and the circuit formed in the first laminate 100 will be referred to as the first circuit C1. The first circuit C1 may be formed of metal, and the metal of the first circuit C1 may include at least one of copper, silver, nickel, palladium, platinum, gold, and aluminum.

제1 회로(C1)는 각 절연층(110)의 일면에 형성될 수 있다. 서로 다른 층에 위치하는 제1 회로(C1)는 비아(제1 비아(V1))를 통해 전기적으로 연결될 수 있다. 도 8을 참조하면, 제1 회로(C1) 중, 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최상층 제1 회로(C1’)는 최상층 절연층(110)보다 돌출되고, 소자실장면에 가장 멀리 위치하는 최하층 제1 회로(C1”)는 최하층 절연층(110) 하면에 매립되어, 최하층 제1 회로(C1”)에서 하면을 제외한 나머지 면들이 최하층 절연층(110)으로 커버될 수 있다. The first circuit C1 may be formed on one surface of each insulating layer 110. The first circuits C1 located on different layers may be electrically connected through a via (first via V1). Referring to FIG. 8, among the first circuits C1, the uppermost first circuit C1' located closest to the device mounting surface protrudes beyond the uppermost insulating layer 110, and the lowest layer located furthest from the device mounting surface. The first circuit (C1") may be buried in the lower surface of the lowest layer insulating layer 110, and the remaining surfaces of the lowermost first circuit (C1") except for the lower surface may be covered with the lowest layer insulating layer 110.

제1 회로(C1)는 복수의 회로선을 포함할 수 있다. 각각의 회로선 단부에는 패드가 마련될 수 있다. 이러한 패드는 제1 비아(V1) 등의 비아와 연결될 수 있다. 한편, 제1 회로(C1) 중, 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최외층 제1 회로(C1’)는 전자소자 실장을 위한 실장패드를 포함하여 소자실장부를 제공할 수 있다.The first circuit C1 may include a plurality of circuit lines. A pad may be provided at the end of each circuit line. These pads may be connected to vias such as the first via V1. Meanwhile, among the first circuits C1, the outermost first circuit C1' located closest to the device mounting surface may include a mounting pad for mounting electronic devices and provide a device mounting portion.

제1 적층체(100)에는 캐비티(120)가 형성될 수 있다. 캐비티(120)는 제1 적층체(100) 내에 형성되고, 상부로 개방된다. 단, 캐비티(120)의 하부는 개방되지 않으므로, 캐비티(120)는 제1 적층체(100)의 두께 일부만 관통한다. 도 1에 도시된 바와 같이, 캐비티(120)의 깊이는 제1 적층체(100)의 절연층(110) N개의 두께 이상일 수 있고, 캐비티(120)의 저면은 두 절연층(110) 간의 경계면과 동일 평면 상에 위치하지 않을 수 있다. A cavity 120 may be formed in the first laminate 100. The cavity 120 is formed within the first laminate 100 and opens upward. However, since the lower part of the cavity 120 is not open, the cavity 120 penetrates only a portion of the thickness of the first laminate 100. As shown in FIG. 1, the depth of the cavity 120 may be more than the thickness of N insulating layers 110 of the first laminate 100, and the bottom of the cavity 120 is the interface between the two insulating layers 110. and may not be located on the same plane.

캐비티(120)에 의하여, 제1 회로(C1) 중 일부가 노출될 수 있다. 복수의 절연층(110) 중 캐비티(120)와 접하고 있는 절연층(110)에 위치한 제1 회로(C1)가 캐비티(120)에 의해 노출될 수 있고, 상기 제1 회로(C1)의 단부에 마련된 패드가 노출될 수 있다. 캐비티(120)에 의해 노출된 제1 회로(C1)의 패드를 접속패드(300)라 할 수 있다. 다르게 말하면, 캐비티(120)에 의하여 제1 회로(C1)의 접속패드(300)가 노출되고, 상기 접속패드(300)는 캐비티(120) 하측에 위치하는 제1 회로(C1)의 패드이다.A portion of the first circuit C1 may be exposed by the cavity 120. Among the plurality of insulating layers 110, the first circuit C1 located on the insulating layer 110 in contact with the cavity 120 may be exposed by the cavity 120, and may be located at an end of the first circuit C1. The provided pad may be exposed. The pad of the first circuit C1 exposed by the cavity 120 may be referred to as the connection pad 300. In other words, the connection pad 300 of the first circuit C1 is exposed by the cavity 120, and the connection pad 300 is a pad of the first circuit C1 located below the cavity 120.

제2 적층체(200)는 캐비티(120) 내에 형성되며, 복수의 수지층(210)이 상하로 적층되어 형성될 수 있다. 복수의 수지층(210)은 캐비티(120) 내에 순차적으로 적층될 수 있다.The second laminate 200 is formed in the cavity 120 and may be formed by stacking a plurality of resin layers 210 vertically. A plurality of resin layers 210 may be sequentially stacked within the cavity 120.

수지층(210)은 수지를 포함하며, 구체적으로, 에폭시(epoxy) 수지, 이미다졸(imidazole) 수지, 폴리이미드(polyimide) 수지, 액정폴리머(LCP), BT(Bismaleimide Triazine) 수지, 불소계 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 제한되는 것은 아니다. The resin layer 210 includes a resin, specifically, epoxy resin, imidazole resin, polyimide resin, liquid crystal polymer (LCP), BT (Bismaleimide Triazine) resin, and fluorine-based resin. It may include at least one, but is not limited.

수지층(210)은 감광성 수지를 포함할 수 있다. 이 경우, 수지층(210)은 광에 반응할 수 있고, 포토리소그래피(photolithography) 공정으로 가공될 수 있다. 감광성 수지를 포함하는 수지층(210)은 PID(photo imageable dielectric)일 수 있다. 또한, 감광성 수지는 포지티브 타입(positive type) 또는 네거티브 타입(negative type)일 수 있다. The resin layer 210 may include photosensitive resin. In this case, the resin layer 210 may react to light and may be processed through a photolithography process. The resin layer 210 containing photosensitive resin may be a PID (photo imageable dielectric). Additionally, the photosensitive resin may be a positive type or a negative type.

포지티브 타입의 수지층(210)의 경우, 노광 공정에서, 빛을 받은 부분의 광중합체 폴리머 결합이 끊어진다. 이후, 현상 공정을 수행하면, 빛을 받아 광중합체 폴리머 결합이 끊어진 부분이 제거가 된다.In the case of the positive type resin layer 210, during the exposure process, the photopolymer bond in the portion that receives light is broken. Afterwards, when the development process is performed, the part where the photopolymer polymer bond is broken by receiving light is removed.

네거티브 타입의 수지층(210)의 경우, 노광 공정에서, 빛을 받은 부분이 광중합 반응을 일으켜 단일구조에서 사슬구조의 3차원 망상 구조가 되며, 현상 공정을 수행하면, 빛을 받지 않은 부분이 제거가 된다.In the case of the negative type resin layer 210, during the exposure process, the part that received light undergoes a photopolymerization reaction, changing from a single structure to a three-dimensional network structure with a chain structure. When the developing process is performed, the part that did not receive light is removed. It becomes.

감광성 수지를 포함하는 수지층(210)에 의하면, 포토리소그래피 공정으로 회로 및 비아 형성 공정이 가능해지므로, 미세 패턴 가공이 용이해질 수 있다.According to the resin layer 210 containing a photosensitive resin, a circuit and via formation process is possible through a photolithography process, so fine pattern processing can be facilitated.

수지층(210)의 두께는 절연층(110)의 두께보다 작을 수 있다. 즉, 복수의 수지층(210) 중 한 개의 두께는 복수의 절연층(110) 중 한 개의 두께보다 작을 수 있다. The thickness of the resin layer 210 may be smaller than the thickness of the insulating layer 110. That is, the thickness of one of the plurality of resin layers 210 may be smaller than the thickness of one of the plurality of insulating layers 110.

수지층(210)의 최상면, 즉, 제2 적층체(200)의 상면은, 제1 적층체(100)의 상면과 동일 평면 상에 위치할 수 있다. The uppermost surface of the resin layer 210, that is, the upper surface of the second laminate 200, may be located on the same plane as the upper surface of the first laminate 100.

제2 적층체(200)에는 회로가 형성될 수 있고, 제2 적층체(200)에 형성된 회로를 제2 회로(C2)라 칭하기로 한다. 제2 회로(C2)는 금속으로 형성될 수 있고, 제2 회로(C2)의 금속은 구리, 은, 니켈, 팔라듐, 백금, 금, 알루미늄 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. A circuit may be formed in the second laminate 200, and the circuit formed in the second laminate 200 will be referred to as a second circuit C2. The second circuit C2 may be formed of metal, and the metal of the second circuit C2 may include at least one of copper, silver, nickel, palladium, platinum, gold, and aluminum.

제2 회로(C2)는 각 수지층(210)의 일면(상면)에 형성될 수 있다. 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최외층(최상층) 제2 회로(C2’)는 최외층(최상층) 수지층(210)보다 돌출되고, 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최외층 제2 회로(C2’)의 상면은, 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최외층 제1 회로(C1’)의 상면과 동일 평면 상에 위치할 수 있다. 다만, 도 8의 도시와 달리, 최외층 제2 회로(C2’)의 두께가 최외층 제1 회로(C1’)의 두께보다 작을 수 있다. 이 경우, 두 최외층 회로(C1', C2')의 상면은 동일 평면 상에 위치하지 않는다.The second circuit C2 may be formed on one surface (upper surface) of each resin layer 210. The outermost layer (top layer) second circuit (C2') located closest to the device mounting surface protrudes beyond the outermost (top layer) resin layer 210, and the outermost layer second circuit (C2') located closest to the device mounting surface. ') may be located on the same plane as the top surface of the outermost first circuit (C1') located closest to the device mounting surface. However, unlike the illustration in FIG. 8, the thickness of the second outermost circuit (C2') may be smaller than the thickness of the first outermost circuit (C1'). In this case, the top surfaces of the two outermost layer circuits C1' and C2' are not located on the same plane.

서로 다른 층에 위치한 제2 회로(C2)는 비아(제2 비아(V2))를 통해 서로 연결될 수 있다. 한편, 제2 적층체(200)에는 최하층 수지층(211)을 관통하여 상술한 접속패드(300)에 접촉되는 접속비아(400)가 형성될 수 있다. 즉, 접속비아(400)는 접속패드(300)와 제2 회로(C2)를 전기적으로 연결할 수 있다. The second circuits C2 located on different layers may be connected to each other through a via (second via V2). Meanwhile, a connection via 400 that penetrates the lowermost resin layer 211 and contacts the connection pad 300 described above may be formed in the second laminate 200. That is, the connection via 400 can electrically connect the connection pad 300 and the second circuit C2.

제1 회로(C1)의 회로 폭은 제2 회로(C2)의 회로 폭보다 클 수 있다. 제1 회로(C1)의 회로 두께는 제2 회로(C2)의 회로 두께보다 클 수 있다. 제1 회로(C1)보다 제2 회로(C2)가 미세 피치를 가질 수 있다. 제1 회로(C1)의 회로 밀도보다 제2 회로(C2)의 회로 밀도가 클 수 있다. The circuit width of the first circuit (C1) may be larger than the circuit width of the second circuit (C2). The circuit thickness of the first circuit (C1) may be greater than the circuit thickness of the second circuit (C2). The second circuit C2 may have a finer pitch than the first circuit C1. The circuit density of the second circuit C2 may be greater than that of the first circuit C1.

제1 비아(V1)의 크기는 제2 비아(V2)의 크기보다 크고, 제1 비아(V1)의 피치는 제2 비아(V2)의 피치보다 클 수 있다. 또한, 접속비아(400)는 제2 비아(V2)와 동일한 규모를 가질 수 있다. The size of the first via (V1) may be larger than the size of the second via (V2), and the pitch of the first via (V1) may be larger than the pitch of the second via (V2). Additionally, the connection via 400 may have the same size as the second via V2.

제2 회로(C2)는 복수의 회로선을 포함할 수 있다. 각각의 회로선 단부에는 패드가 마련될 수 있다. 이러한 패드는 제2 비아(V2)와 연결될 수 있다. 한편, 제2 회로(C2) 중, 소자실장면에 가장 가까이 위치하는 최외층 제2 회로(C2’)는 전자소자 실장을 위한 실장패드를 포함하여 소자실장부를 제공할 수 있다. The second circuit C2 may include a plurality of circuit lines. A pad may be provided at the end of each circuit line. This pad may be connected to the second via (V2). Meanwhile, among the second circuits (C2), the outermost second circuit (C2') located closest to the device mounting surface may include a mounting pad for mounting electronic devices and provide a device mounting portion.

복수의 소자실장부 각각은 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200) 모두에 걸쳐 형성된다. 즉, 제1 소자실장부(M1)는 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200) 상에 마련되고, 제2 소자실장부(M2) 역시 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200) 상에 마련된다. 제2 적층체(200) 상면은 복수의 소자실장부를 제공하기 위해 복수로 구획될 수 있다.Each of the plurality of device mounting units is formed over both the first stack 100 and the second stack 200. That is, the first device mounting portion M1 is provided on the first stack 100 and the second stack 200, and the second device mounting portion M2 is also provided on the first stack 100 and the second stack 200. It is provided on the laminate 200. The upper surface of the second stack 200 may be divided into multiple sections to provide a plurality of device mounting units.

제1 소자실장부(M1) 상에 제1 전자소자(E1)가 실장되고, 제2 소자실장부(M2) 상에 제2 전자소자(E2)가 실장된다. 제1 전자소자(E1)는 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200) 모두에 걸쳐 위치하며, 제2 전자소자(E2) 역시, 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200) 모두에 걸쳐 위치한다. The first electronic device (E1) is mounted on the first device mounting portion (M1), and the second electronic device (E2) is mounted on the second device mounting portion (M2). The first electronic device E1 is located across both the first stack 100 and the second stack 200, and the second electronic device E2 is also located across the first stack 100 and the second stack 200. It is located across all 200.

제1 전자소자(E1)는 전극단자(T1)를 포함하고, 상기 전극단자(T1)는 인쇄회로기판의 제1 소자실장부(M1)의 실장패드와 저융점금속부재(LM)으로 결합될 수 있다. 제1 전자소자(E1)와 인쇄회로기판의 사이는 언더필 재료(F)로 충전될 수 있다. 제2 전자소자(E2)는 전극단자(T2)를 포함하고, 상기 전극단자(T2)는 인쇄회로기판의 제2 소자실장부(M2)의 실장패드와 저융점금속부재(LM)으로 결합될 수 있다. 제2 전자소자(E2)와 인쇄회로기판의 사이는 언더필 재료(F)로 충전될 수 있다.The first electronic device (E1) includes an electrode terminal (T1), and the electrode terminal (T1) is coupled to the mounting pad of the first device mounting portion (M1) of the printed circuit board with a low melting point metal member (LM). You can. The space between the first electronic element (E1) and the printed circuit board may be filled with an underfill material (F). The second electronic device (E2) includes an electrode terminal (T2), and the electrode terminal (T2) is coupled to the mounting pad of the second device mounting portion (M2) of the printed circuit board with a low melting point metal member (LM). You can. The space between the second electronic element (E2) and the printed circuit board may be filled with an underfill material (F).

상술한 바와 같이, 제2 회로(C2)는 복수의 회로선을 포함할 수 있다. 제2 회로(C2)는 접속비아(400)와 전기적으로 연결된 회로선을 포함할 수 있다. 또한, 제2 회로(C2)는 접속비아(400)와 전기적으로 절연되고, 복수의 소자실장부를 전기적으로 연결하는 회로선을 포함할 수 있다. 이 경우, 제2 회로(C2)는 다양한 신호전달경로를 제공할 수 있다. As described above, the second circuit C2 may include a plurality of circuit lines. The second circuit C2 may include a circuit line electrically connected to the connection via 400. Additionally, the second circuit C2 is electrically insulated from the connection via 400 and may include a circuit line that electrically connects a plurality of device mounting units. In this case, the second circuit (C2) can provide various signal transmission paths.

제2 회로(C2)는, i)제1 소자실장부(M1)와 제1 회로(C1)를 연결하는 회로선, ii)제2 소자실장부(M2)와 제2 회로(C2)를 연결하는 회로선, iii)제1 소자실장부(M1)와 제2 소자실장부(M2)를 연결하는 회로선을 포함할 수 있다. i와 ii의 경우, 상기 회로선은 접속비아(400)와 전기적으로 연결되며, iii의 경우 접속비아(400)와 전기적으로 절연될 수 있다.The second circuit (C2) is i) a circuit line connecting the first device mounting portion (M1) and the first circuit (C1), ii) connecting the second device mounting portion (M2) and the second circuit (C2). iii) a circuit line connecting the first device mounting portion (M1) and the second device mounting portion (M2). In the case of i and ii, the circuit line is electrically connected to the connection via 400, and in the case of iii, the circuit line may be electrically insulated from the connection via 400.

요컨대, 제2 회로(C2)의 일부는 복수의 소자실장부 중 적어도 두 개를 전기적으로 연결할 수 있고, 제2 회로(C2)의 다른 일부는 어느 한 소자실장부와 접속비아(400)를 전기적으로 연결할 수 있다.In short, a part of the second circuit (C2) can electrically connect at least two of a plurality of device mounting units, and another part of the second circuit (C2) can electrically connect one device mounting unit and the connection via 400. You can connect with .

제1 적층체(100)의 상면, 그리고 제2 적층체(200)의 상면에는 솔더레지스트층(500)이 적층될 수 있다. 솔더레지스트층(500)에는 개구가 형성되어, 개구를 통해, 최외층 회로(C1', C2')가 노출될 수 있다. 특히, 개구를 통해 최외층 회로(C1', C2')의 패드가 노출되고, 노출된 패드는 실장패드로 기능할 수 있다. 한편, 솔더레지스트층(500)은 제1 적층체(100)의 하면에도 적층되어 최하층 제1 회로(C1”)를 커버할 수 있다.A solder resist layer 500 may be laminated on the upper surface of the first laminate 100 and the upper surface of the second laminate 200. An opening is formed in the solder resist layer 500, and the outermost layer circuits C1' and C2' can be exposed through the opening. In particular, the pads of the outermost layer circuits C1' and C2' are exposed through the opening, and the exposed pads can function as mounting pads. Meanwhile, the solder resist layer 500 may be laminated on the lower surface of the first laminate 100 to cover the lowermost first circuit (C1”).

제7 Lesson 7 실시예Example

도 9는 본 발명의 제7 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.Figure 9 is a diagram showing a printed circuit board according to a seventh embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, 제7 실시예에 따른 인쇄회로기판은, 제1 적층체(100), 캐비티(120), 제2 적층체(200)를 포함하고, 제2의 수지층(220) 및/또는 금속포스트(600)를 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 9, the printed circuit board according to the seventh embodiment includes a first laminate 100, a cavity 120, a second laminate 200, a second resin layer 220, and /Or it may further include a metal post 600.

제2의 수지층(220)은 제2 적층체(200) 상에 적층되도록 캐비티(120) 내부를 충전하고, 제1 적층체(100)의 상면까지 연장 형성될 수 있다. 제2의 수지층(220)은 제2 적층체(200)의 수지층(210)과 동일한 재료로 형성될 수 있고, 제2의 수지층(220)은 감광성 수지를 포함할 수 있다.The second resin layer 220 may fill the inside of the cavity 120 to be laminated on the second laminate 200 and may extend to the upper surface of the first laminate 100. The second resin layer 220 may be formed of the same material as the resin layer 210 of the second laminate 200, and the second resin layer 220 may include a photosensitive resin.

제1 적층체(100)의 최외층 절연층(110)에 위치한 비아홀(VH) 내에 제1 비아(V1’)가 형성될 수 있다. 즉, 상기 제1 비아(V1’)는 최외층 제1 회로(C1’) 하에 형성된다. 여기서, 제2의 수지층(220)은 제1 비아(V1’)를 둘러싸도록 비아홀(VH) 내부를 충전할 수 있다.A first via (V1') may be formed in the via hole (VH) located in the outermost insulating layer 110 of the first laminate 100. That is, the first via (V1') is formed under the outermost first circuit (C1'). Here, the second resin layer 220 may fill the inside of the via hole (VH) to surround the first via (V1').

최외층 제1 회로(C1’)는 제2의 수지층(220) 상에 형성될 수 있다. 제2 적층체(200)의 최외층 제2 회로(C2’) 상에 제2의 수지층(220)을 관통하는 비아(제3 비아(V3))가 형성되고, 제2의 수지층(220) 상에 제3 회로(C3)가 형성된다. The outermost first circuit (C1') may be formed on the second resin layer (220). A via (third via V3) penetrating the second resin layer 220 is formed on the second circuit C2', the outermost layer of the second laminate 200, and the second resin layer 220 ) A third circuit (C3) is formed on the.

솔더레지스트층(500)은 제2의 수지층(220) 상에 적층되고, 제1 적층체(100)의 하면에도 적층될 수 있다.The solder resist layer 500 is laminated on the second resin layer 220 and may also be laminated on the lower surface of the first laminate 100.

금속포스트(600)는 솔더레지스트층(500)을 관통하여 형성될 수 있고, 실장패드를 제공할 수 있다. 금속포스트(600)는 솔더레지스트층(500)보다 돌출되기 때문에, 인쇄회로기판과 전자소자와의 거리가 좁아지고, 전자소자의 실장을 위한 저융점금속부재(LM)의 높이가 줄어들 수 있다.The metal post 600 may be formed to penetrate the solder resist layer 500 and may provide a mounting pad. Since the metal post 600 protrudes beyond the solder resist layer 500, the distance between the printed circuit board and the electronic device is narrowed, and the height of the low melting point metal member (LM) for mounting the electronic device can be reduced.

금속포스트(600)는 포스트비아(610)와 포스트패드(620)를 포함할 수 있다. 포스트비아(610)는 솔더레지스트층(500)을 관통하여 최외층 제1 회로(C1’), 최외층 제2 회로(C2’) 또는 제3 회로(C3) 상에 형성될 수 있다. 포스트패드(620)는 솔더레지스트층(500)보다 돌출되어 실장패드를 제공한다. The metal post 600 may include a post via 610 and a post pad 620. The post via 610 may penetrate the solder resist layer 500 and be formed on the first outermost circuit C1', the second outermost circuit C2', or the third circuit C3. The post pad 620 protrudes beyond the solder resist layer 500 and provides a mounting pad.

인쇄회로기판 제조 방법Printed circuit board manufacturing method

도 10 및 도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판과 이를 포함하는 패키지의 제조 방법을 나타낸 도면이다. 도 10 및 도 11은 도 3에 도시된 인쇄회로기판을 제조하는 방법을 도시하고 있으나, 상기 제조 방법은 다른 인쇄회로기판을 제조하는 방법에도 적용될 수 있다.10 and 11 are diagrams showing a method of manufacturing a printed circuit board and a package including the same according to an embodiment of the present invention. Figures 10 and 11 illustrate a method of manufacturing the printed circuit board shown in Figure 3, but the manufacturing method can also be applied to a method of manufacturing other printed circuit boards.

도 10(a)를 참조하면, 복수의 절연층(110)이 상하로 적층되고, 제1 회로(C1)가 형성되어 제1 적층체(100)가 마련된다. 도시되지는 않았으나, 캐리어를 이용하여 제1 적층체(100)를 형성할 수 있다. 즉, 캐리어 상에 복수의 절연층(110)을 순차적층하면서 각 층의 일면마다 제1 회로(C1)를 형성한 후, 캐리어를 제거하면 제1 적층체(100)가 마련된다. 여기서, a면은 캐리어 부착면이며, 캐리어 부착면 측에 있는 제1 회로(C1)는 매립형 회로가 될 수 있다. 또한, 여기서, a면이 소자실장면이 된다.Referring to FIG. 10(a), a plurality of insulating layers 110 are stacked up and down, a first circuit C1 is formed, and a first laminate 100 is prepared. Although not shown, the first laminate 100 can be formed using a carrier. That is, after sequentially stacking a plurality of insulating layers 110 on a carrier and forming a first circuit C1 on one side of each layer, the carrier is removed to prepare the first laminate 100. Here, surface a is the carrier attachment surface, and the first circuit (C1) on the carrier attachment surface side may be an embedded circuit. Also, here, the a-plane becomes the device mounting surface.

도 10(b)를 참조하면, 제1 적층체(100)에 캐비티(120)가 형성된다. 캐비티(120)는 레이저 가공을 통해 형성될 수 있다. 캐비티(120)에 의해 제1 회로(C1)의 일부가 노출될 수 있고, 특히, 제1 회로(C1)의 패드가 노출될 수 있으며, 노출된 패드는 접속패드(300)가 된다.Referring to FIG. 10(b), a cavity 120 is formed in the first laminate 100. Cavity 120 may be formed through laser processing. A portion of the first circuit C1 may be exposed by the cavity 120, and in particular, a pad of the first circuit C1 may be exposed, and the exposed pad becomes the connection pad 300.

도 10(c) 및 도 10(d)를 참조하면 캐비티(120) 내에 복수의 수지층(210)을 상하로 적층하고, 제2 회로(C2)를 형성함으로써, 제2 적층체(200)를 형성한다. 먼저, 도 10(c)에 도시된 바와 같이, 최하층 수지층(211)을 캐비티(120) 저면에 형성한다. 수지층(210)은 스프레이 공법으로 형성될 수 있다. 도 10(d)에 도시된 바와 같이, 최하층 수지층(211)을 가공하여 비아홀을 형성하고, 비아홀을 도금하여 접속비아(400), 그리고 제2 회로(C2)를 형성한다. 수지층(210)이 감광성 수지를 포함하는 경우, 비아홀은 포토리소그래피 공법으로 형성될 수 있다. 접속비아(400)는, 캐비티(120)에 의해 노출된 접속패드(300)에 직접 접촉되게 형성된다. Referring to FIGS. 10(c) and 10(d), a plurality of resin layers 210 are stacked vertically in the cavity 120 and a second circuit C2 is formed, thereby forming a second laminate 200. form First, as shown in FIG. 10(c), the lowest resin layer 211 is formed on the bottom of the cavity 120. The resin layer 210 may be formed by a spray method. As shown in FIG. 10(d), the lowest resin layer 211 is processed to form a via hole, and the via hole is plated to form the connection via 400 and the second circuit C2. When the resin layer 210 includes photosensitive resin, the via hole may be formed using a photolithography method. The connection via 400 is formed to directly contact the connection pad 300 exposed by the cavity 120.

도 11(a)를 참조하면, 상술한 도 10(c) 및 도 10(d) 과정을 반복함으로써 제2 적층체(200)가 마련될 수 있다. 여기서, 형성된 제1 적층체(100)와 제2 적층체(200)는 도 3에서 도시한 인쇄회로기판과 동일한 형태이지만, 도 1 내지 도 5에 도시된 모든 인쇄회로기판으로 대체될 수 있다.Referring to FIG. 11(a), the second laminate 200 can be prepared by repeating the processes of FIGS. 10(c) and 10(d) described above. Here, the formed first laminate 100 and the second laminate 200 have the same form as the printed circuit board shown in FIG. 3, but can be replaced with any printed circuit board shown in FIGS. 1 to 5.

도 11(b)를 참조하면, 솔더레지스트층(500)이 형성되고, 솔더레지스트층(500)에 개구가 형성됨으로써, 최외층 회로(C1' C2')의 패드가 노출된다. 노출된 패드는 실장패드로 기능할 수 있다.Referring to FIG. 11(b), the solder resist layer 500 is formed, and an opening is formed in the solder resist layer 500, thereby exposing the pads of the outermost layer circuits C1' C2'. The exposed pad can function as a mounting pad.

도 11(c)를 참조하면, 노출된 실장패드 상에 저융점금속부재(LM)가 위치하고, 상기 저융점금속부재(LM)에 제1 전자소자(E1)의 전극단자(T1)와 제2 전자소자(E2)의 전극단자(T2)가 결합될 수 있다. 제1 전자소자(E1)와 제2 전자소자(E2) 하부는 언더필 재료(F)로 채워질 수 있다. Referring to FIG. 11(c), a low melting point metal member (LM) is located on the exposed mounting pad, and the electrode terminal (T1) of the first electronic device (E1) and the second electrode terminal (T1) are connected to the low melting point metal member (LM). The electrode terminal (T2) of the electronic device (E2) may be coupled. The lower portions of the first electronic device (E1) and the second electronic device (E2) may be filled with an underfill material (F).

제1 전자소자(E1)는 제1 적층체(100)의 제1 회로(C1)와 전기적으로 연결됨과 동시에, 제2 적층체(200)의 제2 회로(C2)와도 전기적으로 연결된다. 마찬가지로, 제2 전자소자(E2)는 제1 적층체(100)의 제1 회로(C1)와 전기적으로 연결됨과 동시에, 제2 적층체(200)의 제2 회로(C2)와도 전기적으로 연결된다. 특히, 제2 회로(C2) 중 제1 소자실장부(M1)와 제2 소자실장부(M2)를 연결하는 브릿지 회로는, 제1 전자소자(E1)와 제2 전자소자(E2)를 연결한다.The first electronic device E1 is electrically connected to the first circuit C1 of the first stack 100 and is also electrically connected to the second circuit C2 of the second stack 200. Likewise, the second electronic device E2 is electrically connected to the first circuit C1 of the first stack 100 and is also electrically connected to the second circuit C2 of the second stack 200. . In particular, the bridge circuit connecting the first device mounting portion (M1) and the second device mounting portion (M2) of the second circuit (C2) connects the first electronic device (E1) and the second electronic device (E2). do.

도 12 및 도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 패키지의 제조 방법을 나타낸 도면이다. 도 12 및 도 13은 도 9에 도시된 인쇄회로기판을 제조하는 방법을 도시한다.12 and 13 are diagrams showing a method of manufacturing a package according to another embodiment of the present invention. Figures 12 and 13 show a method of manufacturing the printed circuit board shown in Figure 9.

도 12(a) 및 도 12(b)를 참조하면, 복수의 절연층(110)이 상하로 적층되고, 제1 회로(C1)가 형성되어 제1 적층체(100)가 마련된다. 도시되지는 않았으나, 캐리어를 이용하여 제1 적층체(100)를 형성할 수 있다. 즉, 캐리어 상에 복수의 절연층(110)을 순차적층하면서 각 층의 일면마다 제1 회로(C1)를 형성한 후, 캐리어를 제거하면 제1 적층체(100)가 마련된다. 여기서, b면은 캐리어 부착면이며, 캐리어 부착면 측에 있는 제1 회로(C1)는 매립형 회로가 될 수 있다. 또한, 여기서, b면이 소자실장면의 반대면이 된다. Referring to FIGS. 12(a) and 12(b), a plurality of insulating layers 110 are stacked up and down, a first circuit C1 is formed, and a first laminate 100 is prepared. Although not shown, the first laminate 100 can be formed using a carrier. That is, after sequentially stacking a plurality of insulating layers 110 on a carrier and forming a first circuit C1 on one side of each layer, the carrier is removed to prepare the first laminate 100. Here, the b surface is the carrier attachment surface, and the first circuit (C1) on the carrier attachment surface side may be an embedded circuit. Also, here, the b-side is the opposite side of the element mounting surface.

도 12(c)를 참조하면, 제1 적층체(100)에 캐비티(120)가 형성된다. 캐비티(120)는 레이저 가공을 통해 형성될 수 있다. 캐비티(120)에 의해 제1 회로(C1)의 일부가 노출될 수 있고, 특히, 제1 회로(C1)의 패드가 노출될 수 있으며, 노출된 패드는 접속패드(300)가 된다. 한편, 최외층 절연층(110)에 비아홀(VH)이 형성된다. 비아홀(VH)은 레이저 가공을 통해 형성될 수 있다.Referring to FIG. 12(c), a cavity 120 is formed in the first laminate 100. Cavity 120 may be formed through laser processing. A portion of the first circuit C1 may be exposed by the cavity 120, and in particular, a pad of the first circuit C1 may be exposed, and the exposed pad becomes the connection pad 300. Meanwhile, a via hole (VH) is formed in the outermost insulating layer 110. A via hole (VH) can be formed through laser processing.

도 12(d)를 참조하면, 캐비티(120) 내에 제2 적층체(200)가 형성되는데, 제2 적층체(200)를 형성하는 방법은 도 10(c) 및 도 10(d)을 참조하여 설명한 것과 동일하다. Referring to FIG. 12(d), the second laminate 200 is formed in the cavity 120. Refer to FIGS. 10(c) and 10(d) for a method of forming the second laminate 200. It is the same as what was explained.

도 12(e)를 참조하면, 제2 적층체(200) 상에 제2의 수지층(220)이 형성된다. 제2의 수지층(220)은 제1 적층체(100)의 상면에도 형성되며, 비아홀(VH) 내부를 충전한다.Referring to FIG. 12(e), a second resin layer 220 is formed on the second laminate 200. The second resin layer 220 is also formed on the upper surface of the first laminate 100 and fills the inside of the via hole (VH).

도 13(a)를 참조하면, 제2의 수지층(220)에 비아홀(VH')이 형성된다. 절연층(110)의 비아홀(VH) 내부에 제2의 수지층(220)의 비아홀(VH')이 형성되어, 제1 회로(C1)의 패드를 노출시킬 수 있다. 또한, 제2의 수지층(220)의 비아홀(VH')은 최외층 제2 회로(C2’)의 패드를 노출시킬 수 있다. Referring to FIG. 13(a), a via hole (VH') is formed in the second resin layer 220. A via hole (VH') of the second resin layer 220 is formed inside the via hole (VH) of the insulating layer 110, thereby exposing the pad of the first circuit (C1). Additionally, the via hole (VH') of the second resin layer 220 may expose the pad of the second outermost circuit (C2').

도 13(b)를 참조하면, 최외층에 위치하는 제1 비아(V1’)와 최외층 제1 회로(C1’)가 형성되며, 동시에 제3 비아(V3) 및 제3 회로(C3)가 형성된다. 이들은 모두 도금으로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 13(b), a first via (V1') located in the outermost layer and a first circuit (C1') in the outermost layer are formed, and at the same time, a third via (V3) and a third circuit (C3) are formed. is formed These can all be formed by plating.

도 13(c)를 참조하면, 솔더레지스트층(500)이 제2의 수지층(220) 상에 적층되고, 제1 적층체(100)의 하면에 적층된다. 또한, 금속포스트(600)가 형성된다. 여기서, 솔더레지스트층(500)에 개구를 형성한 후 개구를 도금하여 포스트비아(610)가 형성될 수 있고, 상기 개구를 과도금하여 포스트패드(620)가 형성될 수 있다. 포스트패드(620)는 솔더레지스트층(500)보다 돌출되며, 실장패드로 기능한다. Referring to FIG. 13(c), the solder resist layer 500 is laminated on the second resin layer 220 and on the lower surface of the first laminate 100. Additionally, a metal post 600 is formed. Here, the post via 610 may be formed by forming an opening in the solder resist layer 500 and then plating the opening, and the post pad 620 may be formed by overplating the opening. The post pad 620 protrudes beyond the solder resist layer 500 and functions as a mounting pad.

도 13(d)를 참조하면, 금속포스트(600) 상에 저융점금속부재(LM)가 위치하고, 상기 저융점금속부재(LM)에 제1 전자소자(E1)의 전극단자(T1)와 제2 전자소자(E2)의 전극단자(T2)가 결합될 수 있다. 제1 전자소자(E1)와 제2 전자소자(E2) 하부는 언더필 재료(F)로 채워질 수 있다. Referring to FIG. 13(d), a low melting point metal member (LM) is located on the metal post 600, and the electrode terminal (T1) of the first electronic device (E1) and the low melting point metal member (LM) are connected to the low melting point metal member (LM). 2 The electrode terminal (T2) of the electronic device (E2) can be coupled. The lower portions of the first electronic device (E1) and the second electronic device (E2) may be filled with an underfill material (F).

제1 전자소자(E1)는 제1 적층체(100)의 제1 회로(C1)와 전기적으로 연결됨과 동시에, 제2 적층체(200)의 제2 회로(C2)와도 전기적으로 연결된다. 마찬가지로, 제2 전자소자(E2)는 제1 적층체(100)의 제1 회로(C1)와 전기적으로 연결됨과 동시에, 제2 적층체(200)의 제2 회로(C2)와도 전기적으로 연결된다. 특히, 제2 회로(C2) 중 제1 소자실장부(M1)와 제2 소자실장부(M2)를 연결하는 브릿지 회로는, 제1 전자소자(E1)와 제2 전자소자(E2)를 연결한다.The first electronic device E1 is electrically connected to the first circuit C1 of the first stack 100 and is also electrically connected to the second circuit C2 of the second stack 200. Likewise, the second electronic device E2 is electrically connected to the first circuit C1 of the first stack 100 and is also electrically connected to the second circuit C2 of the second stack 200. . In particular, the bridge circuit connecting the first device mounting portion (M1) and the second device mounting portion (M2) of the second circuit (C2) connects the first electronic device (E1) and the second electronic device (E2). do.

이상, 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.Above, an embodiment of the present invention has been described, but those skilled in the art can add, change, delete or add components without departing from the spirit of the present invention as set forth in the patent claims. The present invention may be modified and changed in various ways, and this will also be included within the scope of rights of the present invention.

100: 제1 적층체
110: 절연층
120: 캐비티
200: 제2 적층체
210: 수지층
220: 제2의 수지층
300: 접속패드
400: 접속비아
C1: 제1 회로
C2: 제2 회로
500: 솔더레지스트층
600: 금속포스트
610: 포스트비아
620: 포스트패드
M1: 제1 소자실장부
M2: 제2 소자실장부
100: first laminate
110: insulating layer
120: Cavity
200: second laminate
210: Resin layer
220: Second resin layer
300: Connection pad
400: Connection via
C1: first circuit
C2: second circuit
500: Solder resist layer
600: Metal post
610: Postvia
620: Post pad
M1: 1st device mounting unit
M2: Second device mounting unit

Claims (16)

복수의 소자실장부를 구비하는 인쇄회로기판에 있어서,
복수의 절연층과 제1 회로를 포함하는 제1 적층체;
상기 제1 적층체에 형성되고, 상기 제1 적층체의 상면으로 개방된 캐비티; 및
상기 캐비티 내에 적층된 복수의 수지층과 제2 회로를 포함하는 제2 적층체를 포함하고,
상기 제1 회로는 상기 캐비티에 의하여 노출되는 접속패드를 포함하고,
상기 제2 적층체는 최하층에 위치하는 상기 수지층을 관통하여, 상기 접속패드에 접촉되는 접속비아를 포함하고,
상기 복수의 수지층 중에서 최하층에 위치하는 상기 수지층은 상기 복수의 절연층 중에서 상기 캐비티의 바닥면으로 노출되는 절연층과 접하고,
상기 제2 회로는 복수의 소자실장부와 전기적으로 연결되는 인쇄회로기판.
In a printed circuit board having a plurality of device mounting units,
A first laminate including a plurality of insulating layers and a first circuit;
a cavity formed in the first laminate and open to an upper surface of the first laminate; and
Comprising a second laminate including a plurality of resin layers stacked in the cavity and a second circuit,
The first circuit includes a connection pad exposed by the cavity,
The second laminate includes a connection via that penetrates the resin layer located in the lowest layer and contacts the connection pad,
The resin layer located in the lowest layer among the plurality of resin layers is in contact with an insulating layer exposed to the bottom surface of the cavity among the plurality of insulating layers,
The second circuit is a printed circuit board electrically connected to a plurality of device mounting units.
제1항에 있어서,
상기 제2 회로의 일부는 상기 복수의 소자실장부를 서로 전기적으로 연결하는 인쇄회로기판.
According to paragraph 1,
A portion of the second circuit is a printed circuit board that electrically connects the plurality of device mounting units to each other.
제1항에 있어서,
상기 제2 회로의 일부는 어느 한 상기 소자실장부와 상기 접속비아를 전기적으로 연결하는 인쇄회로기판.
According to paragraph 1,
A portion of the second circuit is a printed circuit board that electrically connects one of the device mounting units and the connection via.
제1항에 있어서,
상기 수지층은 감광성 수지를 포함하는 인쇄회로기판.
According to paragraph 1,
The resin layer is a printed circuit board containing a photosensitive resin.
제1항에 있어서,
상기 수지층 두께는 상기 절연층 두께보다 작은 인쇄회로기판.
According to paragraph 1,
A printed circuit board wherein the resin layer thickness is smaller than the insulating layer thickness.
제1항에 있어서,
상기 제1 회로의 회로 폭은 상기 제2 회로의 회로 폭보다 큰 인쇄회로기판.
According to paragraph 1,
A printed circuit board wherein the circuit width of the first circuit is greater than the circuit width of the second circuit.
제1항에 있어서,
상기 제1 적층체의 최상층에 위치하는 상기 제1 회로는 최상층에 위치한 상기 절연층의 상면에 매립된 인쇄회로기판.
According to paragraph 1,
The first circuit located on the uppermost layer of the first laminate is a printed circuit board embedded in the upper surface of the insulating layer located on the uppermost layer.
제1항에 있어서,
상기 제1 적층체의 최상층에 위치하는 상기 제1 회로는 최상층에 위치한 상기 절연층보다 돌출된 인쇄회로기판.
According to paragraph 1,
A printed circuit board in which the first circuit located on the uppermost layer of the first laminate protrudes than the insulating layer located on the uppermost layer.
제1항에 있어서,
상기 제2 적층체의 상면은 상기 제1 적층체의 상면 높이 이하에 위치하는 인쇄회로기판.
According to paragraph 1,
A printed circuit board where the upper surface of the second laminate is located below the height of the upper surface of the first laminate.
제1항에 있어서,
상기 제1 적층체의 상면과 상기 제2 적층체의 상면에 형성되는 제2의 수지층을 더 포함하는 인쇄회로기판.
According to paragraph 1,
A printed circuit board further comprising a second resin layer formed on the upper surface of the first laminate and the upper surface of the second laminate.
제10항에 있어서,
최상층에 위치한 상기 절연층에는 비아홀이 형성되고,
상기 비아홀 내에는 비아가 형성되고,
상기 제2의 수지층은 상기 비아를 둘러싸도록 상기 비아홀 내부를 충전하는 인쇄회로기판.
According to clause 10,
A via hole is formed in the insulating layer located on the uppermost layer,
A via is formed in the via hole,
The second resin layer is a printed circuit board that fills the inside of the via hole to surround the via.
제10항에 있어서,
상기 제2의 수지층 상에 적층되는 솔더레지스트층을 더 포함하는 인쇄회로기판.
According to clause 10,
A printed circuit board further comprising a solder resist layer laminated on the second resin layer.
제10항에 있어서,
상기 제2의 수지층 상에 형성되어 상기 제2 회로와 전기적으로 연결되는 제3 회로를 더 포함하는 인쇄회로기판.
According to clause 10,
A printed circuit board further comprising a third circuit formed on the second resin layer and electrically connected to the second circuit.
제1항에 있어서,
상기 제1 적층체와 상기 제2 적층체 상에 적층되는 솔더레지스트층을 더 포함하는 인쇄회로기판.
According to paragraph 1,
A printed circuit board further comprising a solder resist layer laminated on the first laminate and the second laminate.
제14항에 있어서,
상기 솔더레지스트층을 관통하는 상기 소자실장부를 제공하는 금속포스트를 더 포함하는 인쇄회로기판.
According to clause 14,
A printed circuit board further comprising a metal post that penetrates the solder resist layer and provides the device mounting portion.
제15항에 있어서,
상기 금속포스트는,
상기 솔더레지스트층을 관통하는 포스트비아; 및
상기 솔더레지스트층보다 돌출되게 상기 포스트비아 상에 형성되는 포스트패드를 포함하는 인쇄회로기판.
According to clause 15,
The metal post is,
Post vias penetrating the solder resist layer; and
A printed circuit board including a post pad formed on the post via to protrude beyond the solder resist layer.
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