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KR102487704B1 - Preparation method of ruthenium compound and ruthenium compound thereby - Google Patents

Preparation method of ruthenium compound and ruthenium compound thereby Download PDF

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KR102487704B1
KR102487704B1 KR1020160155313A KR20160155313A KR102487704B1 KR 102487704 B1 KR102487704 B1 KR 102487704B1 KR 1020160155313 A KR1020160155313 A KR 1020160155313A KR 20160155313 A KR20160155313 A KR 20160155313A KR 102487704 B1 KR102487704 B1 KR 102487704B1
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신재관
김태훈
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Abstract

본 발명은 물에 대한 용해도가 향상된 루테늄 화합물을 제조하는 방법 및 이로부터 제조된 루테늄 화합물에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preparing a ruthenium compound having improved water solubility and a ruthenium compound prepared therefrom.

Description

루테늄 화합물의 제조방법 및 이로부터 제조된 루테늄 화합물{PREPARATION METHOD OF RUTHENIUM COMPOUND AND RUTHENIUM COMPOUND THEREBY}Manufacturing method of ruthenium compound and ruthenium compound prepared therefrom

본 발명은 물에 대한 용해도가 향상된 루테늄 화합물을 제조하는 방법 및 이로부터 제조된 루테늄 화합물에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preparing a ruthenium compound having improved water solubility and a ruthenium compound prepared therefrom.

최근 당뇨환자의 증가로 인해, 혈액 내 포도당의 농도를 간편하게 측정할 수 있는 자가혈당측정기가 널리 사용되고 있다. 자가혈당측정기는 혈액과 반응하는 검사지인 스트립(strip)과 혈당 농도를 측정하는 리더(reader)로 구성된다. 상기 스트립은 혈액에 존재하는 포도당과 반응하는 효소 및 포도당-효소 반응으로 발생된 전자의 이동을 매개하는 전자전달 매개체가 코팅되어 있다. 상기 리더는 스트립에서의 전자 이동에 의한 전류를 측정하여 포도당 농도를 수치화한다. 이러한 자가혈당측정기를 이용하여 신속하고 정확하게 혈당을 측정하기 위해, 전자전달 매개체로서 루테늄 화합물이 사용된다. 상기 루테늄 화합물은 코팅액에 포함되어 스트립에 코팅되기 때문에 코팅액의 용매로 사용되는 증류수에 대한 용해도가 높아야 하며, 정확한 전자의 이동을 측정하기 위해 순도가 높아야 한다. 이로 인해, 스트립에 코팅되는 루테늄 화합물은 높은 용해도 및 순도가 필수적으로 요구된다. Due to the recent increase in diabetic patients, a self-glucose meter capable of conveniently measuring the concentration of glucose in the blood has been widely used. Self-monitoring blood glucose consists of a test strip that reacts with blood and a reader that measures blood glucose concentration. The strip is coated with an enzyme that reacts with glucose present in the blood and an electron transfer medium that mediates the movement of electrons generated by the glucose-enzyme reaction. The reader quantifies the glucose concentration by measuring the current caused by the movement of electrons in the strip. In order to rapidly and accurately measure blood glucose using such an autologous blood glucose meter, a ruthenium compound is used as an electron transfer medium. Since the ruthenium compound is included in the coating solution and coated on the strip, the solubility in distilled water used as a solvent for the coating solution must be high, and the purity must be high to accurately measure the movement of electrons. For this reason, the ruthenium compound coated on the strip is required to have high solubility and purity.

루테늄 화합물을 합성하여 제조할 경우에는 일반적으로 염화루테늄(ruthenium chloride)을 원료로 사용한다. 국내 공개특허공보 제1999-014261호에는 루테늄을 치아염소나트륨에 용해하면서 오존가스를 주입하여 사산화루테늄(RuO4)을 생성한 후 염산으로 포집하고 건조하여 염화루테늄(RuOCl3)를 제조하는 방법이 기재되어 있다. 그러나, 이러한 제조방법은 불순물을 제거하는 공정이 없어 고순도의 염화루테늄을 얻는 것이 어려울 수 있으며, 불순물이 함유된 염화루테늄으로 루테늄 화합물을 제조할 경우, 루테늄 화합물의 순도 또한 저하시킬 수 있다.When synthesizing and manufacturing a ruthenium compound, ruthenium chloride is generally used as a raw material. Korean Patent Publication No. 1999-014261 discloses a method for producing ruthenium chloride (RuOCl 3 ) by injecting ozone gas while dissolving ruthenium in sodium hypochlorite to generate ruthenium tetroxide (RuO 4 ), collecting it with hydrochloric acid and drying it. This is listed. However, in this manufacturing method, it may be difficult to obtain high-purity ruthenium chloride because there is no process for removing impurities, and when the ruthenium compound is prepared from impurity-containing ruthenium chloride, the purity of the ruthenium compound may also be reduced.

이와 같이, 자가혈당측정기에 적용 가능한 루테늄 화합물을 제조하기 위해서는 고순도의 염화루테늄이 사용되어야 할 뿐만 아니라 고가의 염화루테늄이 손실되는 것을 최소화하면서 제조공정 중 포함되는 불순물을 제거해야 한다. 특히, 루테늄 화합물의 제조공정 중 산화제로 사용되는 은(Ag)이 잔존할 경우에는 루테늄 화합물과 함께 코팅되는 효소가 은에 의해 활성이 억제되어 자가혈당측정기의 정확성, 신뢰성이 저하될 수 있다. 또한, 은(Ag) 등의 불순물이 포함된 루테늄 화합물은 순도가 낮아져 스트립 코팅시 사용되는 코팅액의 용매에 완전히 용해되지 않을 수 있다. 따라서, 염화루테늄을 사용하여 높은 용해도 및 순도를 갖는 루테늄 화합물을 제조하기 위해서는 여전히 많은 연구가 진행되어야 한다.As such, in order to manufacture a ruthenium compound applicable to the self-monitoring blood glucose level, not only high purity ruthenium chloride must be used, but also impurities included in the manufacturing process must be removed while minimizing the loss of expensive ruthenium chloride. In particular, when silver (Ag) used as an oxidizing agent remains during the manufacturing process of the ruthenium compound, the activity of the enzyme coated with the ruthenium compound is inhibited by the silver, and thus the accuracy and reliability of the self-monitoring blood glucose level may deteriorate. In addition, since the purity of the ruthenium compound containing impurities such as silver (Ag) is lowered, it may not be completely dissolved in the solvent of the coating solution used for strip coating. Therefore, in order to prepare a ruthenium compound having high solubility and purity using ruthenium chloride, many studies still need to be conducted.

공개특허공보 제1999-014261호Patent Publication No. 1999-014261

상기한 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 염화루테늄(RuCl3)을 사용하여 물에 대한 용해도가 향상된 고순도의 루테늄 화합물을 제조하는 방법 및 이로부터 제조된 루테늄 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a method for preparing a high-purity ruthenium compound having improved solubility in water using ruthenium chloride (RuCl 3 ) and a ruthenium compound prepared therefrom.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 (a) 용매에 염화루테늄(RuCl3)과 염화암모늄(NH4Cl)을 용해한 후 환원제를 투입하여 제1용액을 제조하는 단계; (b) 상기 제1용액을 여과한 용액에 침전제를 투입한 후 루테늄 화합물의 중간체를 침전하여 회수하는 단계; (c) 상기 회수된 루테늄 화합물의 중간체를 포함하는 용액에 산화제를 투입하여 제2용액을 제조하는 단계; (d) 상기 제2용액에 불순물 제거제를 투입한 후 1차 여과, 2차 여과하여 제3용액을 제조하는 단계; (e) 상기 제3용액에 조용매를 투입하여 루테늄 화합물을 침전하는 단계; 및 (f) 상기 침전된 루테늄 화합물을 진공동결하여 건조하는 단계를 포함하는 루테늄 화합물의 제조방법를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention is (a) preparing a first solution by adding a reducing agent after dissolving ruthenium chloride (RuCl 3 ) and ammonium chloride (NH 4 Cl) in a solvent; (b) injecting a precipitating agent into a solution obtained by filtering the first solution, and then precipitating and recovering an intermediate of the ruthenium compound; (c) preparing a second solution by adding an oxidizing agent to the solution containing the recovered intermediate of the ruthenium compound; (d) preparing a third solution by first filtering and second filtering after adding an impurity removing agent to the second solution; (e) injecting a co-solvent into the third solution to precipitate a ruthenium compound; and (f) vacuum-freezing and drying the precipitated ruthenium compound.

또한, 본 발명은 상기 제조방법으로 제조되어 물에 대한 용해도가 향상된 루테늄 화합물을 제공한다.In addition, the present invention provides a ruthenium compound prepared by the above production method and having improved solubility in water.

본 발명에 따른 루테늄 화합물의 제조방법은 염화루테늄(RuCl3)과 염화암모늄(NH4Cl)을 이용하여 환원, 산화반응을 통해 물에 대한 용해도가 높은 헥사아민루테늄 클로라이드(hexaammineruthenium(III) chloride, Ru(NH3)6Cl3)를 제조할 수 있다. 이때, 여과 공정을 반복하고 불순물 제거제를 사용하여 루테늄 화합물의 순도를 99.99% 이상으로 높일 수 있고, 침전 공정을 반복하고 동결 건조하여 루테늄 화합물의 손실을 최소화할 수 있다. 상기 침전 공정의 조건을 조절할 경우에는 루테늄 화합물의 결정화를 제어하여 물에 대한 용해도를 개선시킬 수 있다.The method for producing a ruthenium compound according to the present invention is hexaamineruthenium (III) chloride having high water solubility through reduction and oxidation reactions using ruthenium chloride (RuCl 3 ) and ammonium chloride (NH 4 Cl). Ru(NH 3 ) 6 Cl 3 ) can be prepared. At this time, the purity of the ruthenium compound can be increased to 99.99% or more by repeating the filtration process and using an impurity removing agent, and the loss of the ruthenium compound can be minimized by repeating the precipitation process and freeze-drying. When the conditions of the precipitation process are controlled, the crystallization of the ruthenium compound can be controlled to improve the solubility in water.

따라서, 본 발명에 따른 루테늄 화합물의 제조방법은 물에 대한 용해도가 향상된 고순도의 루테늄 화합물을 효율적으로 제조할 수 있다.Therefore, the method for producing a ruthenium compound according to the present invention can efficiently prepare a high-purity ruthenium compound having improved solubility in water.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 루테늄 화합물의 제조방법을 단계별로 나타낸 공정도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 루테늄 화합물의 제조방법 중 (d) 단계의 2차 여과에서 사용된 여과포의 공극 크기(pore size)를 측정한 SEM 이미지이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 루테늄 화합물의 입도를 측정한 SEM 이미지이다.
1 is a process chart showing a method for producing a ruthenium compound step by step according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a SEM image of measuring the pore size (pore size) of the filter cloth used in the secondary filtration of step (d) of the method for producing a ruthenium compound according to an embodiment of the present invention.
3 is an SEM image of measuring the particle size of a ruthenium compound prepared according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

1. 루테늄 화합물의 제조방법1. Manufacturing method of ruthenium compound

본 발명의 일 실시예에 따른 루테늄 화합물의 제조방법에 의하면, 염화루테늄(RuCl3)과 염화암모늄(NH4Cl)을 사용하여 물에 대해 높은 용해도를 갖는 루테늄 화합물(Ru(NH3)6Cl3)을 제조할 수 있다. 도 1을 참조하여, 이러한 루테늄 화합물의 제조방법을 각 단계별로 나누어 설명하면 다음과 같다. 이때, 본 발명의 일 실시예에 따른 루테늄 화합물의 제조방법은 하기 방법으로 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라 각 공정의 단계가 변형되거나 또는 선택적으로 혼용될 수 있다.According to the method for producing a ruthenium compound according to an embodiment of the present invention, a ruthenium compound having high solubility in water (Ru(NH 3 ) 6 Cl ) is obtained by using ruthenium chloride (RuCl 3 ) and ammonium chloride (NH 4 Cl). 3 ) can be produced. Referring to Figure 1, the manufacturing method of such a ruthenium compound will be described by dividing each step. At this time, the method for producing a ruthenium compound according to an embodiment of the present invention is not limited to the following method, and each process step may be modified or optionally mixed as necessary.

(a) 용매에 염화루테늄(RuCl3)과 염화암모늄(NH4Cl)을 용해한 후 환원제를 투입하여 제1용액을 제조하는 단계(a) preparing a first solution by dissolving ruthenium chloride (RuCl 3 ) and ammonium chloride (NH 4 Cl) in a solvent and then adding a reducing agent

루테늄 화합물(Ru(NH3)6Cl3)을 제조하기 위해, 원료 물질로 염화루테늄(RuCl3)과 염화암모늄(NH4Cl)를 사용한다. 염화루테늄과 염화암모늄의 사용비율은 특별히 한정되지 않으나, 염화루테늄:염화암모늄=1:2 내지 1:3의 당량비일 수 있다. 이러한 염화루테늄과 염화암모늄을 충분히 용해하기 위해서는 당업계에 공지된 통상적인 용매를 사용할 수 있으며, 일례로 증류수 또는 알칼리 성질을 갖는 암모니아수(NH3)를 사용할 수 있다. 이때, 암모니아수를 사용할 경우에는 염화암모늄(NH4Cl)의 용해도를 높이기 위해, 암모니아수의 농도가 2 내지 20mM이고, 수소이온농도가 pH 9 내지 13인 것이 바람직하다. In order to manufacture a ruthenium compound (Ru(NH 3 ) 6 Cl 3 ), ruthenium chloride (RuCl 3 ) and ammonium chloride (NH 4 Cl) are used as raw materials. The use ratio of ruthenium chloride and ammonium chloride is not particularly limited, but may be an equivalent ratio of ruthenium chloride:ammonium chloride = 1:2 to 1:3. In order to sufficiently dissolve these ruthenium chloride and ammonium chloride, a conventional solvent known in the art may be used, and for example, distilled water or alkaline ammonia water (NH 3 ) may be used. At this time, when using ammonia water, it is preferable that the concentration of ammonia water is 2 to 20 mM and the hydrogen ion concentration is pH 9 to 13 in order to increase the solubility of ammonium chloride (NH 4 Cl).

상기 염화루테늄과 염화암모늄이 용해된 용액에 환원제가 투입되어 제1용액이 제조된다. 상기 환원제는 당업계에 공지된 통상적인 환원제를 사용할 수 있으며, 일례로 아연(Zn) 또는 과산화수소(H2O2)를 사용할 수 있다. 이러한 환원제는 산소에 의해 환원반응의 효율이 저하되는 것을 방지하기 위해 질소 분위기에서 사용될 수 있으며, 상기 염화루테늄 100중량%를 기준으로 30 내지 80중량%의 함량으로 60 내지 95℃에서 12 내지 25g/min의 속도로 투입할 수 있다. 환원제 투입 후, 환원반응이 충분히 일어날 수 있도록 0.5 내지 2시간 동안 유지할 수 있다. 이에 따라 제조된 제1용액은 염화루테늄과 염화암모늄이 반응하여 생성된 루테늄 화합물의 중간체(Ru(NH3)6Cl2)를 포함한다.A first solution is prepared by adding a reducing agent to the solution in which the ruthenium chloride and ammonium chloride are dissolved. As the reducing agent, a conventional reducing agent known in the art may be used, and for example, zinc (Zn) or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) may be used. This reducing agent may be used in a nitrogen atmosphere to prevent the reduction of the efficiency of the reduction reaction by oxygen, and the reducing agent may be used in a content of 30 to 80% by weight based on 100% by weight of the ruthenium chloride at 60 to 95 ℃ 12 to 25g / It can be injected at a rate of min. After the reducing agent is added, it may be maintained for 0.5 to 2 hours so that the reduction reaction can occur sufficiently. The first solution thus prepared includes an intermediate (Ru(NH 3 ) 6 Cl 2 ) of a ruthenium compound produced by reacting ruthenium chloride with ammonium chloride.

(b) 제1용액을 여과한 용액에 침전제를 투입하여 루테늄 화합물의 중간체를 침전하여 회수하는 단계 (b) adding a precipitating agent to the solution obtained by filtering the first solution to precipitate and recover the intermediate of the ruthenium compound

제1용액에는 루테늄 화합물의 중간체(Ru(NH3)6Cl2) 이외에 환원반응에 이용되지 않은 환원제가 잔류하므로, 여과를 통해 미반응 환원제를 제거할 수 있다. 이때, 여과 방법으로는 당업계에 공지된 통상적인 여과 방법을 제한 없이 사용할 수 있다.Since a reducing agent not used in the reduction reaction remains in the first solution in addition to the intermediate of the ruthenium compound (Ru(NH 3 ) 6 Cl 2 ), the unreacted reducing agent may be removed through filtration. At this time, as the filtration method, a conventional filtration method known in the art may be used without limitation.

이후, 제1용액을 여과한 용액에 침전제를 투입한다. 상기 침전제로는 당업계에 공지된 통상적인 침전제를 사용할 수 있으며, 일례로 염화암모늄(NH4Cl)을 사용할 수 있다. 이때, 침전제의 투입량은 환원된 루테늄 화합물의 중간체의 수율에 영향을 미칠 수 있어, 제1용액을 여과한 용액에 대해 과포화도(supersaturation level) 직전까지 투입하는 것이 바람직하다. 침전제 투입시 제1용액을 여과한 용액의 온도는 상온보다 승온된 상태로, 상기 용액의 과포화도를 조절하여 침전되는 루테늄 화합물의 중간체의 수율을 향상시키기 위해 40 내지 60℃인 것이 바람직하다. 이에 따라 제1용액에 포함된 루테늄 화합물의 중간체(Ru(NH3)6Cl2)는 침전되고, 이를 여과하여 고형분으로 회수할 수 있다. 이때, 여과 방법으로는 당업계에 공지된 통상적인 여과 방법을 제한 없이 사용할 수 있다.Thereafter, a precipitating agent is added to the solution obtained by filtering the first solution. As the precipitating agent, a conventional precipitating agent known in the art may be used, and for example, ammonium chloride (NH 4 Cl) may be used. At this time, since the input amount of the precipitant may affect the yield of the intermediate of the reduced ruthenium compound, it is preferable to add the first solution up to just before the supersaturation level for the filtered solution. When the precipitating agent is added, the temperature of the solution obtained by filtering the first solution is preferably 40 to 60° C. in order to improve the yield of the intermediate of the ruthenium compound to be precipitated by adjusting the supersaturation of the solution in a state where the temperature is higher than room temperature. Accordingly, the intermediate of the ruthenium compound (Ru(NH 3 ) 6 Cl 2 ) contained in the first solution is precipitated, and may be recovered as a solid by filtering. At this time, as the filtration method, a conventional filtration method known in the art may be used without limitation.

(c) 상기 침전된 루테늄 화합물의 중간체를 포함하는 용액에 산화제를 투입하여 제2용액을 제조하는 단계(c) preparing a second solution by adding an oxidizing agent to the solution containing the intermediate of the precipitated ruthenium compound

고형분 상태로 회수된 루테늄 화합물의 중간체는 용매에 용해되어 용액 상태가 된다. 상기 용매는 당업계에 공지된 통상적인 용매를 사용할 수 있으며, 일례로 증류수일 수 있다. The intermediate of the ruthenium compound recovered in a solid state is dissolved in a solvent to become a solution state. As the solvent, a conventional solvent known in the art may be used, and distilled water may be used as an example.

이후, 루테늄 화합물의 중간체가 충분히 용해된 용액에 산화제를 투입한다. 상기 산화제는 당업계에 공지된 통상적인 산화제를 사용할 수 있으며, 일례로 은(Ag)을 포함하는 화합물을 사용할 수 있다. 이러한 산화제로는 루테늄 화합물의 중간체에 대한 산화효율을 높이기 위해 평균입도가 100 내지 500㎛인 염화은(AgCl)을 사용할 수 있으며, 15 내지 35℃에서 0.5 내지 2시간 동안 산화반응을 유지한다. 이에 따라 제조된 제2용액은 루테늄 화합물(Ru(NH3)6Cl3)을 포함한다.Thereafter, an oxidizing agent is added to the solution in which the intermediate of the ruthenium compound is sufficiently dissolved. As the oxidizing agent, a conventional oxidizing agent known in the art may be used, and for example, a compound containing silver (Ag) may be used. As such an oxidizing agent, silver chloride (AgCl) having an average particle size of 100 to 500 μm may be used to increase the oxidation efficiency of the intermediate of the ruthenium compound, and the oxidation reaction is maintained at 15 to 35 ° C. for 0.5 to 2 hours. The second solution thus prepared contains a ruthenium compound (Ru(NH 3 ) 6 Cl 3 ).

(d) 상기 제2용액에 불순물 제거제를 투입한 후 1차 여과, 2차 여과하여 제3용액을 제조하는 단계(d) preparing a third solution by first filtering and second filtering after adding an impurity remover to the second solution

제2용액에는 루테늄 화합물 이외에 아연(Zn2 +), 은(Ag+) 등의 불순물이 포함되어 있다. 이러한 불순물을 제거하기 위해서는 당업계에 공지된 통상적인 불순물 제거제를 사용할 수 있으며, 일례로 탄산나트륨(Na2CO3)을 사용할 수 있다. 불순물 제거제로 탄산나트륨을 사용할 경우에는 제2용액 내 용해되어 있는 ZnCl2와 반응하여, 아연 이온을 고형분으로 석출하여 제거할 수 있다. 이때, 탄산나트륨은 상기 제2용액 100중량%를 기준으로 0.05 내지 1중량%의 함량으로 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 불순물 제거제는 15 내지 35℃에서 0.5 내지 2시간 동안 반응하여 불순물을 미립자 형태로 형성할 수 있다.The second solution contains impurities such as zinc (Zn 2+ ) and silver (Ag + ) in addition to the ruthenium compound. In order to remove these impurities, a conventional impurity removal agent known in the art may be used, and for example, sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) may be used. When sodium carbonate is used as an impurity removal agent, it reacts with ZnCl 2 dissolved in the second solution to precipitate and remove zinc ions as a solid content. At this time, sodium carbonate is preferably used in an amount of 0.05 to 1% by weight based on 100% by weight of the second solution. The impurity removing agent may be reacted at 15 to 35° C. for 0.5 to 2 hours to form impurities in the form of fine particles.

이후, 불순물 미립자를 제거하기 위해서는 2 단계의 여과 공정을 거친다. 1차 여과 방법으로는 당업계에 공지된 통상적인 여과 방법을 사용할 수 있으며, 일례로 감압 여과 장치를 이용할 수 있다. 2차 여과는 상기 1차 여과 후에도 잔존하는 불순물을 제거하기 위해 실시하는 것으로, 상기 1차 여과와 동일한 방법을 사용할 수 있다. 이때, 1차 여과된 용액에 포함된 불순물을 최소화 하기 위해, 공극 크기(pore size)가 0.001 내지 4.0㎛인 여과포(filter)를 사용하는 것이 바람직하다. Thereafter, in order to remove impurity fine particles, a two-step filtration process is performed. As the primary filtration method, a conventional filtration method known in the art may be used, and for example, a vacuum filtration device may be used. Secondary filtration is performed to remove impurities remaining after the first filtration, and the same method as the first filtration may be used. At this time, in order to minimize impurities contained in the first filtered solution, it is preferable to use a filter having a pore size of 0.001 to 4.0 μm.

이러한 불순물 제거제의 사용과 2 단계의 여과 공정을 통해, 제2용액으로부터 불순물 및 불용분이 제거된 제3용액을 제조할 수 있다.Through the use of such an impurity removing agent and a two-step filtration process, a third solution in which impurities and insoluble matters are removed from the second solution may be prepared.

(e) 상기 제3용액에 조용매를 투입하여 루테늄 화합물을 침전하는 단계(e) precipitating a ruthenium compound by adding a co-solvent to the third solution

제3용액에 포함된 루테늄 화합물(Ru(NH3)6Cl3)을 회수하기 위해, 제3용액에 조용매를 투입하여 용해도 차이를 이용한다. 상기 조용매로는 당업계에 공지된 통상적인 용매를 사용할 수 있으며, 일례로 염산(HCl)을 사용할 수 있다. 이때, 침전된 루테늄 화합물의 수율을 증대시키기 위해, 에탄올을 추가로 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 제3용액에 대하여 1 내지 3배의 염산(HCl)을 10 내지 200ml/분의 속도로 투입한 후 상기 염산 투입량에 대하여 0.1 내지 1중량%의 함량으로 에탄올(EtOH)을 투입할 수 있다. 상기 속도로 염산을 투입할 경우에는 루테늄 화합물의 결정이 평균 입도 50 내지 200㎛로 제어될 수 있어, 물에 대한 용해도가 향상될 수 있다.In order to recover the ruthenium compound (Ru(NH 3 ) 6 Cl 3 ) contained in the third solution, a co-solvent is introduced into the third solution and the difference in solubility is used. As the co-solvent, a conventional solvent known in the art may be used, and hydrochloric acid (HCl) may be used as an example. At this time, ethanol may be additionally used to increase the yield of the precipitated ruthenium compound. For example, after adding 1 to 3 times hydrochloric acid (HCl) to the third solution at a rate of 10 to 200 ml/min, ethanol (EtOH) is added in an amount of 0.1 to 1% by weight based on the amount of hydrochloric acid added. can do. When hydrochloric acid is added at the above rate, the crystals of the ruthenium compound can be controlled to have an average particle size of 50 to 200 μm, and solubility in water can be improved.

(f) 상기 침전된 루테늄 화합물을 진공동결하여 건조하는 단계(f) drying the precipitated ruthenium compound by vacuum freezing

침전된 루테늄 화합물은 여과 공정을 통해 용액이 제거되어 고형분으로 회수된다. 상기 여과 방법으로는 당업계에 공지된 통상적인 여과 방법을 제한 없이 사용할 수 있다. 고형분으로 회수된 루테늄 화합물을 에탄올로 세척하여 건조효율을 높일 수 있으며, 반복하여 세척할 수 있다.The precipitated ruthenium compound is recovered as a solid by removing the solution through a filtration process. As the filtration method, a conventional filtration method known in the art may be used without limitation. The ruthenium compound recovered as a solid content can be washed with ethanol to increase the drying efficiency, and the washing can be repeated.

이후, 열에 의해 화학구조가 변형되는 것을 방지하기 위해, 루테늄 화합물을 진공동결 상태에서 건조시킨다. 이때, 진공동결 조건은 특별히 한정되지 않으나, -120 내지 -10℃에서 1 내지 5시간 동안 수행될 수 있다.Thereafter, in order to prevent the chemical structure from being deformed by heat, the ruthenium compound is dried in a vacuum-freezing state. At this time, vacuum freezing conditions are not particularly limited, but may be performed at -120 to -10 ° C for 1 to 5 hours.

이러한 건조 공정을 통해, 본 발명에 따른 물에 대한 용해도가 300 내지 500mM인 고순도의 루테늄 화합물을 고수율로 제조할 수 있다.Through this drying process, a high purity ruthenium compound having a water solubility of 300 to 500 mM according to the present invention can be prepared in high yield.

이와 같이, 반복적인 여과 및 침전 공정을 거치면서 불순물 제거제를 사용함에 따라 물에 대한 용해도가 향상된 고순도의 루테늄 화합물, 즉 헥사아민루테늄 클로라이드(Ru(NH3)6Cl3)를 효율적으로 제조할 수 있다. As such, high-purity ruthenium compounds with improved water solubility, that is, hexaamineruthenium chloride (Ru(NH 3 ) 6 Cl 3 ) can be efficiently produced by using an impurity removing agent through repeated filtration and precipitation processes. there is.

2. 루테늄 화합물2. Ruthenium compounds

상기 방법에 따라 제조된 루테늄 화합물은 헥사아민루테늄 클로라이드(Ru(NH3)6Cl3)이다. 상기 루테늄 화합물은 화학적으로 안정한 3가 루테늄을 포함하는 구조이며, 평균 입도 50 내지 200㎛이다. 이러한 루테늄 화합물은 물에 대한 용해도가 300 내지 500mM으로, 기존 루테늄 화합물(용해도 200mM)보다 용해도가 높다.The ruthenium compound prepared according to the above method is hexaamineruthenium chloride (Ru(NH 3 ) 6 Cl 3 ). The ruthenium compound has a structure containing chemically stable trivalent ruthenium, and has an average particle size of 50 to 200 μm. This ruthenium compound has a solubility in water of 300 to 500 mM, which is higher than that of conventional ruthenium compounds (solubility 200 mM).

이하, 본 발명을 실시예를 통해 구체적으로 설명하나, 하기 실시예는 본 발명의 한 형태를 예시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail through examples, but the following examples are merely exemplifying one form of the present invention, and the scope of the present invention is not limited by the following examples.

[[ 실시예Example 1] 루테늄 화합물의 제조 1] Preparation of ruthenium compound

먼저, 증류수 400ml이 담긴 5L 비커에 염화루테늄(RuCl3) 200g을 넣고 완전히 용해하여 염화루테늄 수용액을 준비하였다. 항온이 가능한 밀폐형 5L 반응기에 열을 가하여 80℃를 유지하면서 암모니아수(NH3) 1.8L에 염화암모늄(NH4Cl) 50g을 투입하여 용해하였다. 이후, 암모니아수와 염화암모늄이 용해된 밀폐형 반응기에 준비된 염화루테늄 수용액을 투입하고, 반응기 내부에 질소가스를 10L/min 이하로 투입하여 질소 분위기를 유지하였다. 내부온도가 50℃ 이상이 되면 환원제로 아연분말 100g을 투입하여 1시간 동안 환원반응을 유지하여 제1용액을 제조하였다. 제1용액에 포함된 잔류 환원제를 여과하여 제거하였다. 제1용액을 여과한 용액에 침전제로 염화암모늄(NH4Cl) 600g을 투입하여 30℃에서 1시간 동안 200rpm으로 교반하여 루테늄 화합물의 중간체(Ru(NH3)6Cl2)를 침전하였다. 이후 침전물을 여과하여 고형분을 회수하였다. 회수된 루테늄 화합물의 중간체를 증류수 1.8L에 완전히 용해한 후 산화제로 평균입도 150㎛의 염화은(AgCl) 200g을 투입하고 30℃에서 1시간 동안 200rpm으로 교반하여 제2용액을 제조하였다. 제2용액에 불순물 제거제로 탄산나트륨(Na2CO3) 10g을 투입하여 30℃에서 1시간 동안 200rpm으로 교반하였다. 이후, 1차 여과로 감압 여과 장치를 이용하여 불순물 제거제에 의해 생성된 미립자의 불순물과 잔류하는 산화제를 제거하였다. 1차 여과된 용액은 공극 크기가 2.5㎛인 여과포를 이용하여 2차 여과하였고, 최종적으로 불용분을 제거된 제3용액을 제조하였다. 제3용액을 200rpm으로 교반하면서 정량펌프를 사용하여 염산(HCl)용액을 150ml/min의 속도로 30분 동안 투입한 후 무수 에탄올 300ml를 투입하여 루테늄 화합물을 침전하였다. 침전된 루테늄 화합물을 여과하여 고형분으로 분리한 후 에탄올로 3회 세척하였다. 분리된 고형분을 -80℃의 진공동결건조기에서 3시간 동안 건조하여 최종 루테늄 화합물(Ru(NH3)6Cl3)을 제조하였다.First, 200 g of ruthenium chloride (RuCl 3 ) was put into a 5L beaker containing 400 ml of distilled water and completely dissolved to prepare an aqueous solution of ruthenium chloride. 50 g of ammonium chloride (NH 4 Cl) was added to 1.8 L of ammonia water (NH 3 ) while maintaining 80° C. by heating a closed 5L reactor capable of constant temperature, and dissolved. Thereafter, the prepared ruthenium chloride aqueous solution was introduced into a sealed reactor in which aqueous ammonia and ammonium chloride were dissolved, and nitrogen gas was introduced into the reactor at a rate of 10 L/min or less to maintain a nitrogen atmosphere. When the internal temperature reached 50° C. or more, 100 g of zinc powder was added as a reducing agent and the reduction reaction was maintained for 1 hour to prepare a first solution. Residual reducing agent contained in the first solution was removed by filtration. 600 g of ammonium chloride (NH 4 Cl) as a precipitating agent was added to the filtered solution of the first solution, and stirred at 200 rpm for 1 hour at 30° C. to precipitate an intermediate of a ruthenium compound (Ru(NH 3 ) 6 Cl 2 ). Thereafter, the precipitate was filtered to recover solid content. After completely dissolving the recovered intermediate of the ruthenium compound in 1.8 L of distilled water, 200 g of silver chloride (AgCl) having an average particle size of 150 μm was added as an oxidizing agent and stirred at 30 ° C. for 1 hour at 200 rpm to prepare a second solution. 10 g of sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) was added to the second solution as an impurity removal agent, and the mixture was stirred at 30° C. for 1 hour at 200 rpm. Thereafter, as a primary filtration, impurities in the fine particles generated by the impurity removing agent and remaining oxidizing agent were removed using a vacuum filtration device. The firstly filtered solution was secondarily filtered using a filter cloth having a pore size of 2.5 μm, and finally, a third solution from which insoluble matters were removed was prepared. While stirring the third solution at 200 rpm, a hydrochloric acid (HCl) solution was added for 30 minutes at a rate of 150 ml/min using a metering pump, and then 300 ml of absolute ethanol was added to precipitate the ruthenium compound. The precipitated ruthenium compound was separated into solids by filtration and washed three times with ethanol. The separated solid content was dried in a vacuum freeze dryer at -80 °C for 3 hours to prepare a final ruthenium compound (Ru(NH 3 ) 6 Cl 3 ).

[[ 실시예Example 2] 루테늄 화합물의 제조 2] Preparation of ruthenium compound

반응기 내부에 질소를 공급하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 루테늄 화합물을 제조하였다.A ruthenium compound was prepared in the same manner as in Example 1, except that nitrogen was not supplied into the reactor.

[[ 실시예Example 3] 루테늄 화합물의 제조 3] Preparation of ruthenium compound

침전제로 염화암모늄 600g 대신 450g을 투입한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 루테늄 화합물을 제조하였다.A ruthenium compound was prepared in the same manner as in Example 1, except that 450 g of ammonium chloride was added as a precipitant instead of 600 g.

[[ 비교예comparative example 1] 루테늄 화합물의 제조 1] Preparation of ruthenium compound

1차 여과된 용액을 2차 여과하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 루테늄 화합물을 제조하였다.A ruthenium compound was prepared in the same manner as in Example 1, except that the first filtered solution was not second filtered.

[[ 비교예comparative example 2] 루테늄 화합물의 제조 2] Preparation of ruthenium compound

제2용액에 불순물 제거제를 사용하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 루테늄 화합물을 제조하였다.A ruthenium compound was prepared in the same manner as in Example 1, except that the impurity removing agent was not used in the second solution.

[[ 비교예comparative example 3] 루테늄 화합물의 제조 3] Preparation of ruthenium compound

분리된 고형분을 진공동결건조기 대신 강제순환건조기를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 루테늄 화합물을 제조하였다.A ruthenium compound was prepared in the same manner as in Example 1, except that the separated solid content was used in a forced circulation dryer instead of a vacuum freeze dryer.

[[ 비교예comparative example 4] 루테늄 화합물의 제조 4] Preparation of ruthenium compound

제3용액을 200rpm으로 교반하면서 정량펌프를 사용하여 염산(HCl)용액을 1분안에 빠른 속도로 일시에 투입한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 루테늄 화합물을 제조하였다.A ruthenium compound was prepared in the same manner as in Example 1, except that the hydrochloric acid (HCl) solution was simultaneously added at a high speed within 1 minute using a metering pump while stirring the third solution at 200 rpm.

[[ 실험예Experimental example 1] 순도 측정 1] Purity measurement

실시예 1 내지 3, 비교예 1 내지 4에서 제조된 루테늄 화합물의 순도를 측정하였다.The purity of the ruthenium compounds prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 was measured.

이때, 루테늄 화합물의 순도는 5% 염산 용액(HCl) 50㎖에 Ru(NH3)6Cl3 0.5g을 용해하여 분석시료를 제조한 후 ICP-AES XDL(Thermo社)를 사용하여 측정하였다.At this time, the purity of the ruthenium compound was measured by preparing an analysis sample by dissolving 0.5 g of Ru(NH 3 ) 6 Cl 3 in 50 ml of 5% hydrochloric acid solution (HCl), and then using ICP-AES XDL (Thermo Co.).

[[ 실험예Experimental example 2] 용해도 측정 2] Solubility measurement

실시예 1 내지 3, 비교예 1 내지 4에서 제조된 루테늄 화합물의 용해도를 측정하였다.The solubility of the ruthenium compounds prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 was measured.

이때, 루테늄 화합물의 용해도는 혼합용매(증류수:2-이소프로판올=9:1의 체적비) 1㎖에 Ru(NH3)6Cl3 50mg을 용해하여 불용여부를 확인하였다(용해 온도는 40℃ 이하, 용해 시간은 30분 이상, 교반 속도는 50rpm 이상에서 용해함).At this time, the solubility of the ruthenium compound was confirmed by dissolving 50 mg of Ru(NH 3 ) 6 Cl 3 in 1 ml of a mixed solvent (volume ratio of distilled water: 2-isopropanol = 9: 1) (dissolution temperature is 40 ° C or less, The dissolution time is 30 minutes or more, and the stirring speed is dissolved at 50 rpm or more).

[[ 실험예Experimental example 3] 입도 측정 3] Particle size measurement

실시예 1 내지 3, 비교예 1 내지 4에서 제조된 루테늄 화합물의 입도를 측정하였다.The particle size of the ruthenium compounds prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 was measured.

이때, 루테늄 화합물의 입도는 Mastersizer 2000(Malvern社)를 사용하여 5회 측정한 후 평균값으로 기재하였다(분산제 용액은 순수 1000g에 NaPO3 1g을 용해하여 제조함, 이동 용매는 에탄올을 사용함).At this time, the particle size of the ruthenium compound was measured 5 times using a Mastersizer 2000 (Malvern Company) and then described as an average value (the dispersant solution was prepared by dissolving 1 g of NaPO 3 in 1000 g of pure water, and the mobile solvent was ethanol).

상기 실험예 1 내지 3에서 측정된 루테늄 화합물의 순도, 용해도, 입도 측정치를 하기 표 1에 나타내었다.The purity, solubility, and particle size measurements of the ruthenium compounds measured in Experimental Examples 1 to 3 are shown in Table 1 below.

Ag(ppm)Ag (ppm) Zn(ppm)Zn (ppm) 순도(%)water(%) 용해도(mM)Solubility (mM) 입도(㎛)Particle size (㎛) 수율(%)transference number(%) 실시예 1Example 1 0.20.2 1.31.3 99.9999.99 450450 9696 7777 실시예 2Example 2 0.20.2 1.51.5 99.9999.99 432432 9090 7272 실시예 3Example 3 0.50.5 2.12.1 99.9999.99 380380 9595 4545 비교예 1Comparative Example 1 120120 4040 99.8599.85 220220 8787 7575 비교예 2Comparative Example 2 55 45004500 99.5099.50 185185 9292 7272 비교예 3Comparative Example 3 22 33 98.0098.00 160160 9898 6565 비교예 4Comparative Example 4 0.20.2 2.32.3 99.9999.99 280280 1010 6565

상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 실시예 1 내지 3에 따른 방법이 비교예 1 내지 3에 따른 방법에 비해 용해도가 향상된 루테늄 화합물을 고순도 및 고효율로 제조할 수 있는 것을 확인하였다.As shown in Table 1, it was confirmed that the methods according to Examples 1 to 3 can produce ruthenium compounds with improved solubility with high purity and high efficiency compared to the methods according to Comparative Examples 1 to 3.

또한, 상기 실험예 3에서 측정된 실시예 1 및 비교예 4의 루테늄 화합물의 SEM 이미지를 도 3에 나타내었다.In addition, SEM images of the ruthenium compounds of Example 1 and Comparative Example 4 measured in Experimental Example 3 are shown in FIG. 3 .

도 3을 참조하면, 실시예 1에 따른 방법이 비교예 4에 따른 방법에 비해 균일한 입도를 갖는 루테늄 화합물을 고효율로 제조할 수 있는 것을 확인하였다.Referring to FIG. 3 , it was confirmed that the method according to Example 1 can produce a ruthenium compound having a uniform particle size with high efficiency compared to the method according to Comparative Example 4.

Claims (12)

(a) 용매에 염화루테늄(RuCl3)과 염화암모늄(NH4Cl)을 용해한 후 환원제를 투입하여 제1용액을 제조하는 단계;
(b) 상기 제1용액을 여과한 용액에 침전제를 투입한 후 루테늄 화합물의 중간체를 침전하여 회수하는 단계;
(c) 상기 회수된 루테늄 화합물의 중간체를 포함하는 용액에 산화제를 투입하여 제2용액을 제조하는 단계;
(d) 상기 제2용액에 불순물 제거제를 투입한 후 1차 여과, 2차 여과하여 제3용액을 제조하는 단계;
(e) 상기 제3용액에 조용매를 투입하여 루테늄 화합물을 침전하는 단계; 및
(f) 상기 침전된 루테늄 화합물을 -120 내지 -10℃에서 1 내지 5시간 동안 진공동결하여 건조하는 단계
를 포함하는 루테늄 화합물의 제조방법.
(a) preparing a first solution by dissolving ruthenium chloride (RuCl 3 ) and ammonium chloride (NH 4 Cl) in a solvent and then adding a reducing agent;
(b) injecting a precipitating agent into a solution obtained by filtering the first solution, and then precipitating and recovering an intermediate of the ruthenium compound;
(c) preparing a second solution by adding an oxidizing agent to the solution containing the recovered intermediate of the ruthenium compound;
(d) preparing a third solution by first filtering and second filtering after adding an impurity removing agent to the second solution;
(e) injecting a co-solvent into the third solution to precipitate a ruthenium compound; and
(f) drying the precipitated ruthenium compound by vacuum freezing at -120 to -10 ° C for 1 to 5 hours
Method for producing a ruthenium compound comprising a.
제1항에 있어서,
상기 (a) 단계에서 용매로서 농도가 2 내지 20mM이고, 수소이온농도가 pH 9 내지 13인 암모니아수(NH3)를 사용하는 것인 루테늄 화합물의 제조방법.
According to claim 1,
Method for producing a ruthenium compound using ammonia water (NH 3 ) having a concentration of 2 to 20 mM and a hydrogen ion concentration of pH 9 to 13 as a solvent in step (a).
제1항에 있어서,
상기 (a) 단계에서 염화루테늄과 염화암모늄을 염화루테늄:염화암모늄=1:2 내지 1:3의 당량비로 사용하는 것인 루테늄 화합물의 제조방법.
According to claim 1,
In step (a), ruthenium chloride and ammonium chloride are used in an equivalent ratio of ruthenium chloride: ammonium chloride = 1: 2 to 1: 3.
제1항에 있어서,
상기 (a) 단계에서 환원제로서 아연(Zn) 또는 과산화수소(H2O2)를 염화루테늄 100중량%를 기준으로 30 내지 80중량%의 함량으로 사용하며, 질소 분위기에서 60 내지 95℃의 온도에 12 내지 25g/min의 속도로 투입하는 것인 루테늄 화합물의 제조방법.
According to claim 1,
In step (a), zinc (Zn) or hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) is used as a reducing agent in an amount of 30 to 80% by weight based on 100% by weight of ruthenium chloride, and at a temperature of 60 to 95 ° C. in a nitrogen atmosphere. Method for producing a ruthenium compound that is introduced at a rate of 12 to 25 g / min.
제1항에 있어서,
상기 (b) 단계에서 침전제로서 염화암모늄(NH4Cl)을 사용하는 것인 루테늄 화합물의 제조방법.
According to claim 1,
Method for producing a ruthenium compound using ammonium chloride (NH 4 Cl) as a precipitant in step (b).
제1항에 있어서,
상기 (c) 단계에서 산화제로서 평균입도가 100 내지 500인 염화은(AgCl)을 투입하고, 15 내지 35℃에서 0.5 내지 2시간 동안 반응을 수행하는 것인 루테늄 화합물의 제조방법.
According to claim 1,
In step (c), silver chloride (AgCl) having an average particle size of 100 to 500 is added as an oxidizing agent, and the reaction is performed at 15 to 35 ° C. for 0.5 to 2 hours.
제1항에 있어서,
상기 (d) 단계에서 불순물 제거제로서 탄산나트륨(Na2CO3)을 제2용액 100중량%를 기준으로 0.05 내지 1중량%의 함량으로 투입하는 것인 루테늄 화합물의 제조방법.
According to claim 1,
In the step (d), sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) is added as an impurity removing agent in an amount of 0.05 to 1% by weight based on 100% by weight of the second solution.
제1항에 있어서,
상기 (d) 단계에서 2차 여과는 공극 크기(pore size)가 0.001 내지 4.0㎛인 여과포(filter)를 사용하여 수행되는 것인 루테늄 화합물의 제조방법.
According to claim 1,
The method for producing a ruthenium compound wherein the secondary filtration in step (d) is performed using a filter having a pore size of 0.001 to 4.0 μm.
제1항에 있어서,
상기 (e) 단계에서 조용매로서 상기 제3용액에 대하여 1 내지 3배의 염산(HCl)을 10 내지 200ml/min의 속도로 투입하고, 에탄올(EtOH)을 상기 염산 투입량에 대하여 0.1 내지 1중량%의 함량으로 투입하는 것인 루테늄 화합물의 제조방법.
According to claim 1,
In the step (e), hydrochloric acid (HCl) 1 to 3 times greater than the third solution was added as a co-solvent at a rate of 10 to 200 ml/min, and ethanol (EtOH) was added in an amount of 0.1 to 1 weight relative to the amount of hydrochloric acid added. Method for producing a ruthenium compound that is added in % content.
삭제delete 제1항에 내지 제9항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 루테늄 화합물.A ruthenium compound prepared by the method of any one of claims 1 to 9. 제11항에 있어서,
물에 대한 용해도가 300 내지 500mM인 루테늄 화합물.
According to claim 11,
A ruthenium compound having a water solubility of 300 to 500 mM.
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