KR102435555B1

KR102435555B1 - 웨이퍼 pvd 공정용 디가스 장치

Info

Publication number: KR102435555B1
Application number: KR1020220043524A
Authority: KR
Inventors: 김형준; 이흥열
Original assignee: 주식회사 세미노바
Priority date: 2022-04-07
Filing date: 2022-04-07
Publication date: 2022-08-23

Abstract

본 발명은 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼를 가열하여 이물질을 연소시키도록 된 디가스 장치로서, 프레임틀본체와, 상기 프레임틀본체이 상부에 배치되고 내부에 수용공간이 마련되고, 일면에 상기 웨이퍼가 인입되도록 인입슬릿이 형성된 하우징본체와, 상기 하우징본체의 내부에 배치되고 히터가 마련되며, 상기 인입슬릿을 통해 전달된 상기 웨이퍼를 가열하는 가열챔버로 이루어져, 가공될 웨이퍼가 수용되는 가열챔버를 카세트구조로 형성하여, 웨이퍼가 내부에 적층되게 배치되어 가공효율 및 생산성을 효과적으로 향상시킬 수 있게 되고, 가열챔버가 승강되도록 구성하여 웨이퍼를 외부에서 간편하게 인입 또는 인출시킬 수 있게 되는 효과가 있다.

Description

웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치 { Degas device for wafer Physical Vapor Deposition process }

본 발명은 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 가공될 웨이퍼가 수용되는 가열챔버를 카세트구조로 형성하여, 웨이퍼가 내부에 적층되게 배치되어 가공효율 및 생산성을 효과적으로 향상시킬 수 있게 되고, 가열챔버가 승강되도록 구성하여 웨이퍼를 외부에서 간편하게 인입 또는 인출시키도록 된 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위한 공정에서 디가스(degas) 공정이란, PVD 또는 CVD 등을 이용하여 박막을 형성하기 전에 박막이 형성될 웨이퍼의 표면에 박막 형성을 저해하거나 생성된 박막의 특성을 변화시킬 수 있는 기체 또는 액체상의 물질, 예컨대, 수분이나 O₂등을 가열에 의해 활성화시켜서 제거하는 공정이다.

종래의 반도체 소자를 제조하기 위한 디가스 공정을 실시하는 장치는 디가스 공정을 위하여 웨이퍼가 내측으로 로딩되는 챔버와, 챔버의 내측에 마련되는 가열수단과, 챔버 내부의 기체를 진공으로 흡입하는 진공흡입부를 포함한다.

상기 챔버는 바닥면에 웨이퍼를 지지하기 위한 지지대가 마련되고, 일측에 웨이퍼의 출입을 위한 출입구가 형성된다.

그러나, 종래의 디가스 공정의 챔버는 웨이퍼가 지지대에 단독으로 배치되어 가공되는 구조으로 이루어져 있어, 생산성이 저하되고 가공효율이 떨어지는 문제점이 있으며, 웨이퍼가 고정된 구조로 이루어져 있어 효율적이고 균일한 가공이 어려운 문제점이 상존하게 된다.

전술한 발명은 본 발명이 속하는 기술분야의 배경기술을 의미하며, 종래 기술을 의미하는 것은 아니다.

등록특허 제10-0827476호

본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로써, 본 발명의 목적은 가공될 웨이퍼가 수용되는 가열챔버를 카세트구조로 형성하여, 웨이퍼가 내부에 적층되게 배치되어 가공효율 및 생산성을 효과적으로 향상시킬 수 있게 되고, 가열챔버가 승강되도록 구성하여 웨이퍼를 외부에서 간편하게 인입 또는 인출시키도록 된 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

본 발명은 웨이퍼를 가열하여 이물질을 연소시키도록 된 디가스 장치로서, 프레임틀본체와, 상기 프레임틀본체이 상부에 배치되고 내부에 수용공간이 마련되고, 일면에 상기 웨이퍼가 인입되도록 인입슬릿이 형성된 하우징본체와, 상기 하우징본체의 내부에 배치되고 히터가 마련되며, 상기 인입슬릿을 통해 전달된 상기 웨이퍼를 가열하는 가열챔버로 이루어진 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 가열챔버에는 내부에 상기 웨이퍼를 지지하는 가이드레일이 카세트구조로 일정간격을 유지하며 배치되고, 상기 가이드레일의 하부에는 상기 히터가 체결되어, 상기 가이드레일에 배치되는 웨이퍼를 가열하여, 이물질을 연소시키게 되며, 상기 가이드레일에 상기 웨이퍼를 배치시키도록 일면에 투입구가 형성된 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 프레임틀본체 및 상기 하우징본체에는 상기 가열챔버를 승강시키도록 승강부가 더 마련되고, 상기 승강부는 상기 프레임틀 본체에 형성되는 한쌍의 지지패널과, 상기 지지패널들을 연결하며 회전되게 축결합되는 스크류축과, 상기 스크류축에 체결되어, 상기 스크류축의 회전에 의해 승강된 너트부재가 마련된 하부승강패널과, 상기 가열챔버에 연결되는 상부승강패널과, 상기 하부승강패널과 상기 상부승강패널을 상호 연결하는 체결샤프트와, 상기 스크류축을 회전시키는 구동모터로 이루어지며, 상기 인입슬릿은 단일 웨이퍼가 투입될 수 있는 크기로 형성하고, 상기 승강부에 의해 카세트 구조의 상기 가열챔버가 승강되면서 상기 인입슬릿을 통해 투입되는 웨이퍼가 상기 가열챔버의 내부에 일정간격을 유지하며 적층되게 배치되도록 한 후 가열하여 달라붙은 이물질을 연소시키도록 된 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 하우징본체에는 상기 가열챔버에 배치되는 상기 웨이퍼들에 상기 가열챔퍼의 측면패널들을 통해 열기를 전달하도록 순환형열풍공급수단이 더 마련되며, 상기 순환형열풍공급수단은 상기 웨이퍼가 내부에 배치되는 가열챔버의 측면패널들에 형성되는 중공의 가열구와, 상기 가열챔버의 내측면에 체결되어 고정되는 송풍브라켓과, 상기 송풍브라켓에 일단이 연결되어 고정되는 절곡된 구조의 절곡샤프트와, 상기 절곡샤프트의 끝단에 연결되어 고정되는 순환히터유닛과, 상기 송풍브라켓에 체결되는 상기 순환히터유닛 방향으로 바람을 공급하는 송풍펜으로 이루어져, 상기 순환히터유닛에서 발생되는 열기가 상기 측면패널의 가열구를 통해 상기 가열챔버의 웨이퍼로 전달되도록 함과 아울러 상기 송풍펜에 의해 재차 열기가 이동되어 전달되도록 함과 아울러 순환되도록 하는 것을 특징으로 한다.

상기 하우징본체에는 상기 가열챔버에 배치되는 상기 웨이퍼들을 승강하면서 가열하도록 승강형웨이퍼가열수단이 더 마련되며, 상기 승강형웨이퍼가열수단은 상기 하우징본체의 내측 상부에 연결되어 고정되는 승강브라켓과, 상기 승강브라켓에 일단이 연결되어 고정되는 승강실린더와, 상기 승강실린더의 승강축 단부에 형성되는 연결샤프트와, 상기 승강실린더의 연결샤프트에 상단부가 연결되어 고정되며 상기 승강실린더의 구동에 의해 승강되는 가열틀과, 상기 가열틀의 내면에 체결되어 고정되는 가열히터유닛들과, 상기 가열틀에 형성되는 가열통기공들로 이루어져, 상기 승강실린더의 구동에 의해 상기 가열틀이 승강되면서, 상기 가열히터유닛에서 발생되는 열기에 의해 상기 가열챔버에 배치되는 상기 웨이퍼를 가열하도록 된 것을 특징으로 한다.

본 발명인 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치는 가공될 웨이퍼가 수용되는 가열챔버를 카세트구조로 형성하여, 웨이퍼가 내부에 적층되게 배치되어 가공효율 및 생산성을 효과적으로 향상시킬 수 있게 되고, 가열챔버가 승강되도록 구성하여 웨이퍼를 외부에서 간편하게 인입 또는 인출시킬 수 있게 되는 효과가 있다.

도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치를 나타낸 사시사진이다.
도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치를 나타낸 하부 사시사진이다.
도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치를 나타낸 하부 사시사진이다.
도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치의 내부구성을 나타낸 하부 사시사진이다.
도 5는 본 발명에 따른 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치의 단면을 나타낸 사진이다.
도 6은 본 발명에 따른 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치의 다른 실시예를 나타낸 단면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치의 다른 실시예를 나타낸 작동상태도이다.
도 8은 본 발명에 따른 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치의 또 다른 실시예를 나타낸 단면도이다.
도 9는 본 발명에 따른 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치의 또 다른 실시예를 나타낸 작동상태도이다.

본 발명에 관한 설명은 구조적 내지 기능적 설명을 위한 실시예에 불과하므로, 본 발명의 권리범위는 본문에 설명된 실시예에 의하여 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 된다. 즉, 실시예는 다양한 변경이 가능하고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로 본 발명의 권리범위는 기술적 사상을 실현할 수 있는 균등물들을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

한편, 본 발명에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.

"제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로, 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다. 예를 들어, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어"있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결될 수 도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어"있다고 언급된 때에는 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "포함하다"또는 "가지다" 등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이며, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

각 단계들에 있어 식별부호(예를 들어, a, b, c 등)는 설명의 편의를 위하여 사용되는 것으로 식별부호는 각 단계들의 순서를 설명하는 것이 아니며, 각 단계들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않는 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 단계들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 반대의 순서대로 수행될 수도 있다.

여기서 사용되는 모든 용어들은 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미를 지니는 것으로 해석될 수 없다.

도면에 도시된 바와 같이 본 발명인 웨이퍼 PVD(Physical Vapor Deposition) 공정용 디가스 장치(10)(이하에서는 설명의 편의상 디가스 장치라 명명함)는 웨이퍼(100)를 가열하여 이물질을 연소시키도록 된 디가스 장치(10)로서, 이에 이와같은 디가스 장치(10)는 프레임틀본체(20)와 하우징본체(30)와 가열챔버(40)로 이루어진다.

상기 프레임틀본체(20)는 지면에 배치되며 이동할 수 있도록 하부에 캐스터를 설치하는 것도 가능하다.

상기 프레임틀본체(20)는 금속재로 이루어지며, 수평을 유지하도록 하부에 볼트축들의 일단이 형성되고, 상기 볼트축에 너트받침이 나사 체결 된다.

상기 하우징본체(30)는 상기 프레임틀본체(20)이 상부에 배치되고 내부에 수용공간이 마련되고, 일면에 상기 웨이퍼(100)가 인입되도록 인입슬릿(31)이 형성된다.

상기 프레임틀본체(20)의 상부에 하부가 나사체결되어 고정되며, 전면부에는 내부의 수용공간과 연통되게 인입슬릿(31)이 형성된다.

상기 하우징본체(30)는 육면체 형상으로 형성되며, 상기 가열챔버(40)의 가열에 따른 열기에 의해 형상변형이 발생되는 것을 방지하도록 내열성을 갖는 금속재로 형성시키게 된다.

상기 가열챔버(40)는 상기 하우징본체(30)의 내부에 배치되고 히터(41)가 마련되며, 상기 인입슬릿(31)을 통해 전달된 상기 웨이퍼(100)를 가열하게 된다.

상기 가열챔버(40)의 일면에는 상기 인입슬릿(31)에서 전달되는 웨이퍼(100)가 인입 또는 인출되도록 투입구(42)가 형성된다.

상기 가열챔버(40)는 금속재로 이루어지며 도면에서와 같이 육면체 형상으로 형성된다.

이때, 상기 가열챔버(40)에는 양내측면에 상기 웨이퍼(100)를 지지하는 가이드레일(43)이 카세트구조로 일정간격이 유지되게 배치되고, 도면에서와 같이 상기 투입구(42)를 통해 양내측면의 상기 가이드레일(43)들을 연결하며 상부에 상기 웨이퍼(100)를 배치시키게 된다.

상기 가이드레일(43)의 상부에 배치된 상기 웨이퍼(43)들 사이에는 통기공간이 형성된다.

상기 가이드레일(43)은 상기 가열챔버의 내측면에 나사체결하여 고정시키게 된다.

이때, 상기 가이드레일(43)의 하부에는 상기 히터가 체결되어, 상기 가이드레일에 배치되는 웨이퍼(100)를 가열하여, 달라붙은 이물질을 연소시키게 된다.

상기 히터(41)는 열선이며 상기 가이드레일(43)에 나사체결되어 고정되며, 상기 가열챔버(40)의 내측 상면에도 나사체결하여 고정시킬 수 있다.

상기 히터(41)는 상술한 열선 이외에 가열되는 것이면 어느것이 사용되어도 무방하다.

상기 히터(41)의 열기에 의해 상기 가이드레일(43)에 배치되는 웨이퍼(100)의 표면에 달라붙은 이물질을 태워 소멸시키게 된다.

이때, 상기 하우징본체(30)에는 일면에는 개폐도어를 마련하여, 상기 가열챔버(40)를 유지보수하거나 상기 웨이퍼(100)를 상기 가열챔버(40)에 인입 또는 인출시키도록 하는 것도 가능하다.

상기 프레임틀본체(20) 및 상기 하우징본체(30)에는 상기 가열챔버(40)를 승강시키도록 승강부(50)가 더 마련된다.

상기 승강부(50)는 상기 프레임틀 본체에 형성되는 한쌍의 지지패널(51)과, 상기 지지패널(51)들을 연결하는 회전되게 축결합되는 스크류축(52)과, 상기 스크류축(52)에 체결되어, 상기 스크류축(52)의 회전에 의해 승강된 너트부재(531)가 마련된 하부승강패널(53)과, 상기 가열챔버(40)의 하부에 나사체결되는 상부승강패널(54)과, 상기 하부승강패널(53)과 상기 상부승강패널(54)을 상호 연결하는 체결샤프트(55)과, 상기 프레임틀본체(20)에 나사체결되며 상기 스크류축(52)을 회전시키는 구동모터(56)로 이루어진다.

상기 지지패널(51)은 상기 프레임틀 본체의 상부와 하부에 나사체결되어 고정되며, 상부에 고정되는 지지패널(51)은 상기 하우징본체(30)의 저면에 나사체결되어 고정된다.

상기 체결샤프트(55)의 상단부는 상기 하우징본체(30)의 저면에 형성되는 관통공에 관통하여 상기 상부승강패널(54)의 저면에 나사체결되어 고정되고, 하단부는 하부승강패널(53)의 상면에 나사체결되어 고정된다.

상기 구동모터(56)는 상기 스크류축(52)과 벨트에 의해 연결되어 상기 구동모터(56)의 구동에 의해 상기 스크류축(52)을 회전시켜, 상기 구동모터(56)의 구동축의 회전방향에 따라 상기 하부승강패널(53), 상부승강패널(54) 및 상기 가열챔버(40)를 승강시키게 된다.

상기 승강부(50)에 의해 상기 가열챔버(40)가 승강되어, 카세트 구조의 가열챔버(40)에 적층되게 상기 웨이퍼(100)를 인입 또는 인출시킬 수 있게 된다.

이때, 상기 승강부(50)를 실린더로 구성하여, 상기 실린더를 상기 프레임틀본체(20)에 나사체결하고, 상기 실린더의 승강축을 상기 관통공에 관통시킨 후 상기 가열챔버(40)의 하부에 나사체결함으로써, 상기 실린더의 구동에 의해 상기 가열챔버(40)를 승강시키는 것도 가능하다.

또한, 상기 인입슬릿(31)은 단일 웨이퍼(100)가 투입될 수 있는 크기로 형성하고, 상기 승강부(50)에 의해 카세트 구조의 상기 가열챔버(40)가 승강되면서 상기 인입슬릿(31)을 통해 투입되는 웨이퍼(100)가 상기 가열챔버(40)의 내부에 일정간격을 유지하며 적층되게 배치되도록 한 후 가열하여 달라붙은 이물질을 연소시키도록 된다.

상기 하우징본체(30)에는 상기 가열챔버(40)에 배치되는 상기 웨이퍼(100)들에 상기 가열챔퍼의 측면패널들을 통해 열기를 전달하도록 순환형열풍공급수단(60)이 더 마련된다.

상기 순환형열풍공급수단(60)은 상기 웨이퍼(100)가 내부에 배치되는 가열챔버(40)의 측면패널들에 형성되는 중공의 가열구(61)와, 상기 가열챔버(40)의 내측면에 나사체결되어 고정되는 송풍브라켓(62)과, 상기 송풍브라켓(62)에 일단이 나사체결 또는 용접연결되어 고정되는 절곡된 구조의 절곡샤프트(63)와, 상기 절곡샤프트(63)의 끝단에 나사체결되어 고정되는 순환히터(41)유닛과, 상기 송풍브라켓(62)에 나사체결되는 상기 순환히터(41)유닛 방향으로 바람을 공급하는 송풍펜(65)으로 이루어져, 상기 순환히터(41)유닛에서 발생되는 열기가 상기 측면패널의 가열구(61)를 통해 상기 가열챔버(40)의 웨이퍼(100)로 전달되도록 함과 아울러 상기 송풍펜(65)에 의해 재차 열기가 이동되어 전달되도록 함과 아울러 열기가 순환되도록 함으로써, 웨이퍼(100)에 달라붙은 이물질의 제거효율을 높일 수 있게 된다.

또한, 상기 송풍펜(65)에서 전달되는 열풍에 의해 태워진 후 소멸되지 않은 이물질을 웨이퍼(100)에서 분리시킬 수 있어, 별도의 이물질 분리를 위한 공정이 불필요하게 됨으로써, 공정의 효율성을 향상시킬 수 있게 된다.

상기 하우징본체(30)에는 상기 가열챔버(40)에 배치되는 상기 웨이퍼(100)들을 승강하면서 가열하도록 승강형웨이퍼(100)가열수단(70)이 더 마련된다.

상기 승강형웨이퍼(100)가열수단(70)은 상기 하우징본체(30)의 내측 상부에 나사체결되어 고정되는 승강브라켓(71)과, 상기 승강브라켓(71)에 일단이 나사체결되어 고정되는 승강실린더(72)와, 상기 승강실린더(72)의 승강축 단부에 형성되는 연결샤프트(73)와, 상기 승강실린더(72)의 연결샤프트(73)에 상단부가 나사체결되어 고정되며 상기 승강실린더(72)의 구동에 의해 승강되는 중공의 가열틀(74)과, 상기 가열틀(74)의 내면에 나사체결되어 고정되는 열선인 가열히터(41)유닛들과, 상기 가열틀(74)에 형성되는 가열통기공(76)들로 이루어져, 상기 승강실린더(72)의 구동에 의해 상기 가열틀(74)이 승강되면서, 상기 가열히터(41)유닛에서 발생되는 열기에 의해 상기 가열챔버(40)에 배치되는 상기 웨이퍼(100)를 가열하여 달라붙은 이물질을 태워 소멸시키게 된다.

또한, 상기 가열챔버(40)에 형성되는 히터(41)와 상기 가열히터(41)유닛의 열기에 의해 상기 웨이퍼(100)의 이물질을 태우는 효율을 높일 수 있게 되고, 상기 가열틀(74)이 상기 가열챔버(40)을 감싸면서 배치한 후 가열함으로써, 가열효율 및 이물질제거효율을 향상시킬 수 있게 된다.

또한, 상기 가열통기공(76)을 통해 상기 순환형열풍공급수단(60)을 통해 이동되는 열풍을 상기 가열챔버(40)로 전달할 수 있게 된다.

이때, 상기 웨이퍼(100)가 내부에 배치되는 가열챔버(40)의 측면패널들에 중공의 가열구(61)가 형성되어, 상기 투입구(42)와 함께 상기 웨이퍼(100)로 열기를 전달할 수 있게 된다.

지금까지 본 발명에 대해서 상세히 설명하였으나, 그 과정에서 언급한 실시예는 예시적인 것일 뿐이며, 한정적인 것이 아님을 분명히 하고, 본 발명은 이하의 특허청구범위에 의해 제공되는 본 발명의 기술적 사상이나 분야를 벗어나지 않는 범위내에서, 균등하게 대처될 수 있는 정도의 구성요소 변경은 본 발명의 범위에 속한다 할 것이다.

10 : 디가스 장치
20 : 프레임틀본체
30 : 하우징본체
31 : 인입슬릿
40 : 가열챔버
41 : 히터
42 : 투입구
43 : 가이드레일
50 : 승강부
51 : 지지패널
52 : 스크류축
53 : 하부승강패널
531 : 너트부재
54 : 상부승강패널
55 : 체결샤프트
56 : 구동모터
60 : 순환형열풍공급수단
61 : 가열구
62 : 송풍브라켓
63 : 절곡샤프트
64 : 순환히터유닛
65 : 송풍펜
70 : 승강형웨이퍼가열수단
71 : 승강브라켓
72 : 승강실린더
73 : 연결샤프트
74 : 가열틀
75 : 가열히터유닛
76 : 가열통기공
100 : 웨이퍼

Claims

웨이퍼를 가열하여 이물질을 연소시키도록 된 디가스 장치로서,
프레임틀본체;
상기 프레임틀본체의 상부에 배치되고 내부에 수용공간이 마련되고, 일면에 상기 웨이퍼가 인입되도록 인입슬릿이 형성된 하우징본체; 및
상기 하우징본체의 내부에 배치되고 히터가 마련되며, 상기 인입슬릿을 통해 전달된 상기 웨이퍼를 가열하는 가열챔버로 이루어진 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치에 있어서,
상기 하우징본체에는 승강하면서 상기 가열챔버을 감싸면서 배치되어, 상기 가열챔버에 배치되는 상기 웨이퍼들을 가열하도록 승강형웨이퍼가열수단이 더 마련되며,
상기 승강형웨이퍼가열수단은,
상기 하우징본체의 내측 상부에 연결되어 고정되는 승강브라켓과,
상기 승강브라켓에 일단이 연결되어 고정되는 승강실린더와,
상기 승강실린더의 승강축 단부에 형성되는 연결샤프트와,
상기 승강실린더의 연결샤프트에 상단부가 연결되어 고정되며 상기 승강실린더의 구동에 의해 승강되며, 상기 가열챔버를 감싸면서 배치되는 가열틀과,
상기 가열틀의 내면에 체결되어 고정되는 가열히터유닛들과,
상기 가열틀에 형성되는 가열통기공들로 이루어져,
상기 승강실린더의 구동에 의해 상기 가열틀이 승강되면서, 상기 가열히터유닛에서 발생되는 열기를 상기 가열챔버에 형성되는 가열구와 투입구를 통해 열기를 전달하여 상기 가열챔버에 배치되는 상기 웨이퍼를 가열하도록 된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 가열챔버에는 내부에 상기 웨이퍼를 지지하는 가이드레일이 카세트구조로 일정간격을 유지하며 배치되고,
상기 가이드레일의 하부에는 상기 히터가 체결되어, 상기 가이드레일에 배치되는 웨이퍼를 가열하여, 이물질을 연소시키게 되며,
상기 가이드레일에 상기 웨이퍼를 배치시키도록 일면에 투입구가 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 프레임틀본체 및 상기 하우징본체에는 상기 가열챔버를 승강시키도록 승강부가 더 마련되고,
상기 승강부는 상기 프레임틀 본체에 형성되는 한쌍의 지지패널과,
상기 지지패널들을 연결하며 회전되게 축결합되는 스크류축과,
상기 스크류축에 체결되어, 상기 스크류축의 회전에 의해 승강된 너트부재가 마련된 하부승강패널과,
상기 가열챔버에 연결되는 상부승강패널과,
상기 하부승강패널과 상기 상부승강패널을 상호 연결하는 체결샤프트와,
상기 스크류축을 회전시키는 구동모터로 이루어지며,
상기 인입슬릿은 단일 웨이퍼가 투입될 수 있는 크기로 형성하고,
상기 승강부에 의해 카세트 구조의 상기 가열챔버가 승강되면서 상기 인입슬릿을 통해 투입되는 웨이퍼가 상기 가열챔버의 내부에 일정간격을 유지하며 적층되게 배치되도록 한 후 가열하여 달라붙은 이물질을 연소시키도록 된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 하우징본체에는 상기 가열챔버에 배치되는 상기 웨이퍼들에 상기 가열챔버의 측면패널들을 통해 열기를 전달하도록 순환형열풍공급수단이 더 마련되며,
상기 순환형열풍공급수단은,
상기 웨이퍼가 내부에 배치되는 가열챔버의 측면패널들에 형성되는 중공의 가열구와,
상기 가열챔버의 내측면에 체결되어 고정되는 송풍브라켓과,
상기 송풍브라켓에 일단이 연결되어 고정되는 절곡된 구조의 절곡샤프트와,
상기 절곡샤프트의 끝단에 연결되어 고정되는 순환히터유닛과,
상기 송풍브라켓에 체결되는 상기 순환히터유닛 방향으로 바람을 공급하는 송풍펜으로 이루어져,
상기 순환히터유닛에서 발생되는 열기가 상기 측면패널의 가열구를 통해 상기 가열챔버의 웨이퍼로 전달되도록 함과 아울러 상기 송풍펜에 의해 재차 열기가 이동되어 전달되도록 함과 아울러 순환되도록 하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 PVD 공정용 디가스 장치.
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