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KR102297375B1 - 액 공급 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치, 그리고 히터 교체 방법 - Google Patents

액 공급 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치, 그리고 히터 교체 방법 Download PDF

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KR102297375B1
KR102297375B1 KR1020140134502A KR20140134502A KR102297375B1 KR 102297375 B1 KR102297375 B1 KR 102297375B1 KR 1020140134502 A KR1020140134502 A KR 1020140134502A KR 20140134502 A KR20140134502 A KR 20140134502A KR 102297375 B1 KR102297375 B1 KR 102297375B1
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KR
South Korea
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tank
heater
liquid
cap
liquid supply
Prior art date
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KR1020140134502A
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KR20160041160A (ko
Inventor
이우송
이치영
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세메스 주식회사
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Publication date
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Abstract

본 발명의 실시예는 기판을 액 처리하는 장치 및 방법을 제공한다. 액 공급 유닛은 내부에 처리액이 채워지는 수용 공간을 가지는 탱크 및 상기 탱크 내에 제공된 처리액을 열 처리하는 열 처리 부재를 포함하되, 상기 열 처리 부재는 바디, 상기 바디 내에 위치되는 히터, 상기 바디의 일단에 결합되는 캡, 그리고 상기 히터를 상기 탱크에 고정시키는 고정 부재를 포함한다. 이에 따라 바디로부터 캡을 제거하더라도, 바디는 고정 부재에 의해 그 위치가 고정된다. 이에 따라 탱크 내에 처리액이 채워진 상태에서 히터를 교체할 수 있다.

Description

액 공급 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치, 그리고 히터 교체 방법{Unit for supplying chemical, Apparatus for treating substrate with the unit, and Method for replaced heater}
본 발명은 기판을 액 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
반도체소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 이온주입, 박막 증착, 그리고 세정 등의 다양한 공정들이 수행된다. 이 중 포토리소그라피, 식각, 애싱, 그리고 세정 등의 공정들은 공통적으로 기판을 액 처리하는 공정을 수행한다.
이러한 액 처리 공정은 처리액을 기판 상에 공급하는 공정이며, 처리액은 공정 온도로 열 처리된 상태에서 공급된다. 일반적으로 처리액은 탱크 내에 채워지고, 탱크 내에 제공된 히터에 의해 공정 온도로 가열 처리된다. 탱크 내에는 수십 리터 내지 수천 리터의 처리액이 제공되며, 처리액을 가열 처리하기 위해서는 많은 시간이 소요된다.
그러나 장비의 낙후 및 히터에 연결된 케이블의 단선 등과 같은 장비 불량으로 인해 히터는 교체되어야 한다. 도 1은 일반적인 액 공급 유닛을 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 액 공급 유닛은 탱크(2), 바디관(4), 히터(6), 그리고 캡(8)을 포함한다. 바디관(4)은 일부가 탱크(2) 내에 위치되고, 히터(6)는 바디관(4) 내에 위치된다. 바디관(4)의 일단은 탱크(2)의 외측에 위치되며, 그 일단은 캡(8)에 의해 실링된다. 바디관(4)을 실링하는 캡(8)은 탱크(2)에 고정 결합된다. 이에 따라 캡(8)은 바디관(4)의 개방부를 실링하는 동시에 탱크(2)와 바디관(4) 간에 상대 위치를 고정시키고, 탱크(2)와 바디관(4) 간에 틈을 실링하는 역할을 모두 수행한다.
그러나 히터(6)를 교체하기 위해 캡(8)을 바디관(4)으로부터 분리하는 경우, 바디관(4)을 탱크(2)에 고정하는 힘도 함께 제거된다. 이에 따라 바디관(4)은 탱크(2) 내에 채워진 처리액의 가압으로 인해 그 위치가 변동되며, 바디관(4)과 탱크(2) 사이의 틈을 통해 처리액의 누수 현상이 발생된다. 도 2는 도 1의 바디관(4)으로부터 캡(8)이 분리되는 과정을 보여주는 일 예이다.
따라서 히터(6)를 교체하기 위해서는 탱크(2) 내에 채워진 처리액을 모두 드레인 시킨 후에 진행해야만 한다. 이로 인해 히터(6)가 교체된 탱크(2) 내에 처리액을 다시 채우고, 그 채워진 처리액을 공정 온도로 가열해야한다.
한국 특허 공개 번호 2014-0101947
본 발명은 탱크 내에 채워진 처리액을 열 처리하는 히터를 신속하게 교체할 수 있는 장치 및 방법을 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 탱크 내에 처리액이 채워진 상태에서 히터를 교체할 수 있는 장치 및 방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예는 기판을 액 처리하는 장치 및 방법을 제공한다. 액 공급 유닛은 내부에 처리액이 채워지는 수용 공간을 가지는 탱크 및 상기 탱크 내에 제공된 처리액을 열 처리하는 열 처리 부재를 포함하되, 상기 열 처리 부재는 바디, 상기 바디 내에 위치되는 히터, 상기 바디의 일단에 결합되는 캡, 그리고 상기 히터를 상기 탱크에 고정시키는 고정 부재를 포함한다.
상기 고정 부재는 상기 바디를 감싸는 링 형상을 가지며, 상기 탱크의 일벽에 결합될 수 있다. 상기 바디는 상기 고정 부재에 강제 끼움될 수 있다. 상기 바디는 상기 고정 부재와 일체로 제공될 수 있다. 상기 탱크의 일벽에는 상기 바디가 삽입되는 삽입홀이 형성되고, 상기 바디는 상기 일단이 상기 탱크의 외부에 위치되고, 상기 일단과 반대되는 타단이 상기 수용 공간에 위치될 수 있다. 상기 삽입홀은 상기 탱크의 일벽에 복수로 형성되고, 각각의 상기 삽입홀에는 상기 바디가 삽입될 수 있다. 상기 고정 부재는 상기 삽입홀보다 큰 직경을 가질 수 있다.
기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 처리액을 공급하는 노즐, 그리고 상기 노즐에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되, 상기 액 공급 유닛은 내부에 처리액이 채워지는 수용 공간을 가지는 탱크, 상기 수용 공간에 채워진 처리액을 상기 노즐에 공급하는 액 공급 라인, 그리고 상기 탱크 내에 제공된 처리액을 열 처리하는 열 처리 부재를 포함하되, 상기 열 처리 부재는 바디, 상기 바디 내에 위치되는 히터, 상기 바디의 일단에 결합되는 캡, 그리고 상기 히터를 상기 탱크에 고정시키는 고정 부재를 포함한다.
상기 고정 부재는 상기 바디를 감싸는 링 형상을 가지며, 상기 탱크의 일벽에 결합될 수 있다. 상기 탱크의 일벽에는 상기 바디가 삽입되는 삽입홀이 복수개로 형성되고, 각각의 상기 삽입홀에는 상기 바디가 삽입되되, 상기 바디는 상기 일단이 상기 탱크의 외부에 위치되고, 상기 일단과 반대되는 타단이 상기 수용 공간에 위치될 수 있다.
탱크에 채워진 처리액을 열 처리하는 히터를 교체하는 방법으로는, 바디는 상기 히터와 상기 처리액이 비접촉되도록 상기 탱크 내에서 상기 히터를 감싸고, 상기 탱크의 외부에 위치된 상기 바디의 일단을 실링하는 캡을 개방하여 상기 히터를 교체하되, 상기 바디를 감싸는 고정 부재는 상기 바디의 위치가 고정되도록 상기 탱크에 결합된다.
본 발명의 실시예에 의하면, 바디로부터 캡을 제거하더라도, 바디는 고정 부재에 의해 그 위치가 고정된다. 이에 따라 탱크 내에 처리액이 채워진 상태에서 히터를 교체할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 히터를 교체하는 과정에서 탱크 내에 처리액을 드레인 및 공급하는 과정이 생략되므로, 히터의 교체를 보다 신속하게 수행할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 탱크 내에 처리액을 드레인 및 공급하는 과정이 생략되므로, 처리액을 공정 온도로 가열하기 위한 시간을 생략할 수 있다.
도 1은 일반적인 액 공급 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 2는 도 1의 바디관으로부터 캡이 분리되는 과정을 보여주는 일 예이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다.
도 4는 도 3의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 5는 도 4의 액 공급 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 6은 도 5의 탱크 및 열 처리 부재를 보여주는 단면도이다.
도 7은 도 6의 탱크의 일벽의 일부를 보여주는 사시도이다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.
본 실시예에는 기판을 케미칼 처리 및 린스 처리하는 세정 공정을 일 예로 설명한다. 그러나 본 실시예는 세정 공정에 한정되지 않고, 식각 공정, 애싱 공정, 현상 공정 등, 처리액을 이용하여 기판을 처리하는 공정에 적용 가능하다.
이하, 도 3 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다. 도 3을 참조하면, 기판 처리 설비(1)는 인덱스 모듈(10)과 공정 처리 모듈(20)을 가진다. 인덱스 모듈(10)은 로드 포트(120) 및 이송 프레임(140)을 가진다. 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 공정 처리 모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 공정 처리 모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다.
로드 포트(140)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(130)가 안착된다. 로드 포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 로드 포트(120)의 개수는 공정 처리 모듈(20)의 공정 효율 및 풋 프린트 조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(130)에는 기판(W)들을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯(미도시)이 형성된다. 캐리어(130)로는 전면 개방 일체형 포드(Front Opening Unifed Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.
공정 처리 모듈(20)은 버퍼 유닛(220), 이송 챔버(240), 그리고 공정 챔버(260)를 가진다. 이송 챔버(240)는 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 평행하게 배치된다. 이송 챔버(240)의 양측에는 각각 공정 챔버들(260)이 배치된다. 이송 챔버(240)의 일측 및 타측에서 공정 챔버들(260)은 이송 챔버(240)를 기준으로 대칭되도록 제공된다. 이송 챔버(240)의 일측에는 복수 개의 공정 챔버들(260)이 제공된다. 공정 챔버들(260) 중 일부는 이송 챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정 챔버들(260) 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송 챔버(240)의 일측에는 공정 챔버들(260)이 A X B의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(260)의 수이다. 이송 챔버(240)의 일측에 공정 챔버(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정 챔버(260)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정 챔버(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정 챔버(260)는 이송 챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 공정 챔버(260)는 이송 챔버(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.
버퍼 유닛(220)은 이송 프레임(140)과 이송 챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송 챔버(240)와 이송 프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼 유닛(220)의 내부에는 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공된다. 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개가 제공된다. 버퍼 유닛(220)은 이송 프레임(140)과 마주보는 면 및 이송 챔버(240)와 마주보는 면이 개방된다.
이송 프레임(140)은 로드 포트(120)에 안착된 캐리어(130)와 버퍼 유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송 프레임(140)에는 인덱스 레일(142)과 인덱스 로봇(144)이 제공된다. 인덱스 레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스 로봇(144)은 인덱스 레일(142) 상에 설치되며, 인덱스 레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스 로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스 암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스 레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스 암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스 암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스 암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스 암(144c)들 중 일부는 공정 처리 모듈(20)에서 캐리어(130)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 이의 다른 일부는 캐리어(130)에서 공정 처리 모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스 로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
이송 챔버(240)는 버퍼 유닛(220)과 공정 챔버(260) 간에, 그리고 공정 챔버(260)들 간에 기판(W)을 반송한다. 이송 챔버(240)에는 가이드 레일(242)과 메인 로봇(244)이 제공된다. 가이드 레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인 로봇(244)은 가이드 레일(242) 상에 설치되고, 가이드 레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인 로봇(244)은 베이스(244a), 몸체(244b), 그리고 메인 암(244c)을 가진다. 베이스(244a)는 가이드 레일(242)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(244b)는 베이스(244a)에 결합된다. 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인 암(244c)은 몸체(244b)에 결합되고, 이는 몸체(244b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인 암(244c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인 암(244c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다.
공정 챔버(260)는 기판(W)에 대해 세정 공정을 수행하는 기판 처리 장치(300)가 제공된다. 기판 처리 장치(300)는 수행하는 세정 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 이와 달리 각각의 공정 챔버(260) 내의 기판 처리 장치(300)는 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정 챔버들(260)은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정 챔버(260) 내에 기판 처리 장치(300)들은 서로 동일하고, 서로 상이한 그룹에 속하는 공정 챔버(260) 내에 기판 처리 장치(300)의 구조는 서로 상이하게 제공될 수 있다.
기판 처리 장치(300)는 도 4는 도 3의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다. 도 4를 참조하면, 기판 처리 장치(300)는 하우징(320), 스핀 헤드(340), 승강 유닛(360), 액 토출 유닛(380), 그리고 액 공급 유닛(400)을 포함한다.
하우징(320)은 상부가 개방된 통 형상을 가진다. 하우징(320)은 내부 회수통(322) 및 외부 회수통(326)을 가진다. 각각의 회수통(322,326)은 공정에 사용된 처리액들 중 서로 상이한 처리액을 회수한다. 내부 회수통(322)은 스핀 헤드(340)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 외부 회수통(326)은 내부 회수통(326)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부 회수통(322)의 내측공간(322a) 및 내부 회수통(322)은 내부 회수통(322)으로 처리액이 유입되는 제1유입구(322a)로서 기능한다. 내부 회수통(322)과 외부 회수통(326)의 사이공간(326a)은 외부 회수통(326)으로 처리액이 유입되는 제2유입구(326a)로서 기능한다. 일 예에 의하면, 각각의 유입구(322a,326a)는 서로 상이한 높이에 위치될 수 있다. 각각의 회수통(322,326)의 저면 아래에는 회수 라인(322b,326b)이 연결된다. 각각의 회수통(322,326)에 유입된 처리액들은 회수 라인(322b,326b)을 통해 외부의 처리액재생시스템(미도시)으로 제공되어 재사용될 수 있다.
스핀 헤드(340)는 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판(W)을 회전시킨다. 스핀 헤드(340)는 몸체(342), 지지핀(344), 척핀(346), 그리고 지지축(348)을 가진다. 몸체(342)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 몸체(342)의 저면에는 구동부(349)에 의해 회전가능한 지지축(348)이 고정결합된다.
지지핀(344)은 복수 개 제공된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 몸체(342)에서 상부로 돌출된다. 지지 핀(344)들은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다.
척핀(346)은 복수 개 제공된다. 척핀(346)은 몸체(342)의 중심에서 지지핀(344)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척핀(346)은 몸체(342)에서 상부로 돌출되도록 제공된다. 척핀(346)은 스핀 헤드(340)가 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척핀(346)은 몸체(342)의 반경 방향을 따라 대기위치와 지지위치 간에 직선 이동이 가능하도록 제공된다. 대기위치는 지지위치에 비해 몸체(342)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 로딩 또는 언로딩 시 척핀(346)은 대기위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행 시 척 핀(346)은 지지위치에 위치된다. 지지위치에서 척핀(346)은 기판(W)의 측부와 접촉된다.
승강 유닛(360)은 하우징(320)을 상하 방향으로 직선이동시킨다. 하우징(320)이 상하로 이동됨에 따라 스핀 헤드(340)에 대한 하우징(320)의 상대 높이가 변경된다. 승강 유닛(360)은 브라켓(362), 이동축(364), 그리고 구동기(366)를 가진다. 브라켓(362)은 하우징(320)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(362)에는 구동기(366)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동축(364)이 고정결합된다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 놓이거나, 스핀 헤드(340)로부터 들어올려 질 때 스핀 헤드(340)가 하우징(320)의 상부로 돌출되도록 하우징(320)은 하강된다. 또한, 공정이 진행될 시에는 기판(W)에 공급된 처리액의 종류에 따라 처리액이 기설정된 회수통(360)으로 유입될 수 있도록 하우징(320)의 높이가 조절한다. 선택적으로, 승강 유닛(360)은 스핀 헤드(340)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
액 토출 유닛(380)은 기판(W) 상으로 처리액을 공급한다. 액 토출 유닛(380)은 복수 개로 제공되며, 각각은 서로 상이한 종류의 처리액들을 공급한다. 액 공급 유닛(380)은 노즐 이동 부재(381) 및 노즐(390)을 포함한다. 노즐 이동 부재(381)는 노즐(390)을 공정 위치 및 대기 위치로 이동시킨다. 여기서 공정 위치는 노즐(390)이 기판 지지 유닛(340)에 지지된 기판(W)과 대향되는 위치이고, 대기 위치는 노즐(390)이 공정 위치를 벗어난 위치이다. 노즐 이동 부재(381)는 지지축(386), 아암(382), 그리고 구동기(388)를 포함한다. 지지축(386)은 하우징(320)의 일측에 위치된다. 지지축(386)은 그 길이방향이 제3방향을 향하는 로드 형상을 가진다. 지지축(386)은 구동기(388)에 의해 회전 가능하도록 제공된다. 아암(382)은 지지축(386)의 상단에 결합된다. 아암(382)은 지지축(386)으로부터 수직하게 연장된다. 아암(382)의 끝단에는 노즐(390)이 고정 결합된다. 지지축(386)이 회전됨에 따라 노즐(390)은 아암(382)과 함께 스윙 이동 가능하다. 노즐(390)은 스윙 이동되어 공정 위치 및 대기 위치로 이동될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 노즐(390)은 스윙 이동되어 기판(W)의 중심축과 일치되도록 이동될 수 있다. 일 예에 의하면, 처리액은 케미칼, 린스액, 그리고 건조 유체를 포함할 수 있다. 케미칼은 황산(H2SO4) 또는 질산(HNO3)일 수 있다. 린스액은 순수일 수 있다. 건조 유체는 이소프로필 알코올(IPA)일 수 있다. 케미칼, 린스액, 그리고 건조 유체 각각은 서로 상이한 액 공급 유닛(380)에서 공급될 수 있다.
선택적으로, 지지축(386)은 승강 이동이 가능하도록 제공될 수 있다. 또한 아암(382)은 그 길이방향을 향해 전진 및 후진 이동이 가능하도록 제공될 수 있다.
액 공급 유닛(400)은 노즐(390)에 처리액을 공급한다. 도 5는 도 4의 액 공급 유닛을 보여주는 단면도이다. 도 5를 참조하면, 액 공급 유닛(400)은 탱크(410), 액 제공 라인(420), 순환 라인(430), 액 공급 라인(440), 그리고 열 처리 부재(500)를 포함한다. 탱크(410)는 내부에 수용 공간(412)을 제공한다. 수용 공간(412)은 처리액이 채워지는 공간으로 제공된다. 탱크(410)는 직사각의 통 형상을 가지도록 제공된다. 탱크(410)는 복수 개로 제공되며, 각각의 탱크(410)는 모두 동일한 형상으로 제공된다. 일 예에 의하면, 탱크(410)는 2 개로 제공될 수 있다. 제1탱크(410a)에 채워진 처리액이 노즐(390)로 공급되는 동안, 제2탱크(410b)에 채워진 처리액은 순환될 수 있다. 이와 반대로, 제2탱크(410b)에 채워진 처리액이 노즐(390)로 공급되는 동안, 제1탱크(410a)에 채워된 처리액은 순환될 수 있다. 공정 대기 상태의 경우에는 제1탱크(410a) 및 제2탱크(410b) 각각에 채워진 처리액이 모두 순환될 수 있다.
액 제공 라인(420)은 액 공급부(425)를 제1탱크(410a) 및 제2탱크(410b) 각각에 연결한다. 처리액은 액 제공 라인(420)을 통해 액 공급부(425)로부터 각각의 탱크(410)에 제공될 수 있다. 순환 라인(430)은 탱크(410)들 각 수용 공간(412)에 제공된 처리액을 순환시키는 라인으로 제공된다. 순환 라인(430)에는 펌프 및 가열기가 설치된다.
액 공급 라인(440)은 각각의 탱크(410)를 노즐(390)에 연결한다. 제1탱크(410a) 또는 제2탱크(410b)에 채워진 처리액은 액 공급 라인(440)을 통해 노즐(390)로 공급된다. 액 공급 라인(440)에는 펌프, 가열기, 그리고 필터가 설치된다.
열 처리 부재(500)는 탱크(410) 내에 채워진 처리액을 열 처리한다. 열 처리 부재(500)는 처리액을 공정 온도로 가열 처리한다. 열 처리 부재(500)는 제1탱크(410a) 및 제2탱크(410b) 각각에 동일하게 제공되므로, 제1탱크(410a)에 제공되는 열 처리 부재(500)에 대해서만 설명한다. 도 6은 도 5의 탱크 및 열 처리 부재를 보여주는 단면도이고, 도 7은 도 6의 탱크의 일벽의 일부를 보여주는 사시도이다. 도 6 및 도 7을 참조하면, 탱크(410)의 일벽에는 복수 개의 삽입홀(414)들이 형성된다. 삽입홀(414)은 탱크(410)의 내측면과 외측면을 관통하는 홀로 제공된다. 예컨대, 일벽은 측벽으로 제공될 수 있다. 삽입홀(414)들은 탱크(410)의 하부 영역에 위치된다. 일 예에 의하면, 삽입홀(414)들을 수평 방향으로 따라 배열될 수 있다. 삽입홀(414)들은 서로 상이한 높이를 가지는 2 열로 배열될 수 있다. 삽입홀(414)들 각각에는 열 처리 부재(500)가 삽입된다. 탱크(410)의 하부면에는 드레인 포트(416)가 형성된다. 수용 공간(412)에 채워진 처리액은 드레인 포트(416)를 통해 외부로 드레인될 수 있다.
열 처리 부재(500)는 탱크(410) 내에 채워진 처리액을 열 처리한다. 열 처리 부재(500)는 처리액을 공정 온도로 가열 처리한다. 열 처리 부재(500)는 복수 개로 제공되며, 각각은 삽입홀(414)과 일대일 대응되는 개수로 제공된다. 열 처리 부재(500)는 바디(510), 히터(520), 캡(530), 케이블(540), 그리고 고정 부재(550)를 포함한다.
바디(510)는 일 방향을 따라 길게 연장되는 원형의 관 형상으로 제공된다. 바디(510)의 내부에는 히터(520)가 위치되는 공간이 형성된다. 바디(510)의 직경은 탱크(410)의 삽입홀(414)과 대응되거나 조금 작게 제공된다. 바디(510)는 삽입홀(414)에 삽입되어 수용 공간(412)에 위치된다. 바디(510)는 일부가 탱크(410)의 외부에 위치되도록 삽입홀(414)에 삽입된다. 일 예에 의하면, 바디(510)는 일단이 탱크(410)의 외측에 위치되고, 타단이 수용 공간(412)에 위치되도록 삽입홀(414)에 삽입될 수 있다. 바디(510)의 일단은 개방되고, 타단은 차단되게 제공될 수 있다. 따라서 바디(510) 내에 위치되는 히터(520)는 바디(510)의 일단을 통해 바디(510) 내에 위치될 수 있다. 바디(510)는 석영 재질로 제공될 수 있다. 히터(520)는 바디(510) 내에 위치된다. 히터(520)는 처리액을 가열한다. 히터(520)는 바디(510)에 의해 그 둘레가 감싸진다. 이에 따라 히터(520)는 처리액과 비접촉 상태에서 처리액을 가열할 수 있다. 예컨대, 히터(520)는 열선일 수 있다.
캡(530)은 바디(510)의 개방된 일단을 실링한다. 캡(530)은 바디(510)의 일단에 탈착 가능하도록 결합된다. 캡(530)은 탱크(410)의 외측에 위치된다. 캡(530)은 탱크(410)의 일벽과 이격되게 위치된다. 캡(530)의 내부에는 통로가 형성된다. 통로는 히터(520)와 케이블(540)이 전기적으로 연결되기 위해 케이블(540)이 위치되는 공간으로 제공된다. 케이블(540)은 캡(530)을 통해 히터(520)에 전기적으로 연결된다. 케이블(540)은 외부의 전류를 히터(520)에 제공한다.
고정 부재(550)는 바디(510)를 탱크(410)에 고정시킨다. 고정 부재(550)는 바디(510)를 감싸는 링 형상으로 제공된다. 고정 부재(550)의 내측면은 바디(510)의 외측면과 대응되는 형상으로 제공된다. 고정 부재(550)는 바디(510)와 대응되는 내경을 가지도록 제공된다. 또한 고정 부재(550)는 삽입홀(414)보다 큰 외경을 가지도록 제공된다. 고정 부재(550)는 탱크(410)의 일벽에 결합된다. 이에 따라 바디(510)와 삽입홀(414) 간에 틈이 발생되더라도, 고정 부재(550)는 그 틈을 실링하여 처리액의 누수을 방지할 수 있다. 고정 부재(550)는 탱크(410)의 외측에서 캡(530)과 이격되게 위치된다. 일 예에 의하면, 바디(510)는 고정 부재(550)에 강제 끼움되어 탱크(410)와의 상대 위치가 고정될 수 있다. 선택적으로 고정 부재(550)와 바디(510)는 일체로 제공되어 탱크(410)와의 상대 위치가 고정될 수 있다.
다음은 상술한 열 처리 부재(500)의 히터(520)를 교체하는 과정을 설명한다. 복수 개의 열 처리 부재(500)들 중 일부의 히터(520)가 불량이라고 판단되면, 작업자는 그 불량 열 처리 부재(500)에 해당되는 캡(530)을 바디(510)로부터 분리하여 바디(510)의 일단을 개방한다. 이후, 불량 히터(520)를 바디(510)로부터 제거하고, 양호 히터(520)를 바디(510) 내에 삽입시킨다. 양호 히터(520)가 바디(510) 내에 삽입되면, 바디(510)의 일단을 캡(530)으로 실링한다.
상술한 실시예에는 캡(530)이 바디(510)의 일단을 개폐하는 기능을 수행하며, 고정 부재(550)가 바디(510)와 탱크(410) 간에 상대 위치를 고정시키는 기능을 수행한다. 이에 따라 캡(530)을 바디(510)로부터 결합 및 분리하는 과정 중에 바디(510)의 위치가 변경되는 것을 방지할 수 있다.
또한 고정 부재(550)는 바디(510)와 탱크(410) 간에 틈을 실링하는 기능을 수행하므로, 캡(530)을 바디(510)로부터 결합 및 분리하는 중에 처리액이 누수되는 것을 방지할 수 있다.
또한 상술한 실시예에는 열 처리 부재(500)가 처리액을 가열 처리하는 히터(520)를 포함하는 것으로 설명하였다. 그러나 열 처리 부재(500)는 처리액을 냉각 처리하는 쿨러를 포함할 수 있다.
400: 액 공급 유닛 500:열 처리 부재
510: 바디 520: 히터
530: 캡 550: 고정 부재

Claims (11)

  1. 내부에 처리액이 채워지는 수용 공간을 가지는 탱크와;
    상기 탱크 내에 제공된 처리액을 열 처리하는 열 처리 부재를 포함하되,
    상기 열 처리 부재는,
    바디와;
    상기 바디 내에 위치되는 히터와;
    상기 바디의 일단에 결합되는 캡과;
    상기 히터를 상기 탱크에 고정시키는 고정 부재를 포함하고,
    상기 탱크의 일벽에는 상기 바디가 삽입되는 삽입홀이 형성되고,
    상기 바디는 상기 일단이 상기 탱크의 외부에 위치되고, 상기 일단과 반대되는 타단이 상기 수용 공간에 위치되며,
    상기 캡은 상기 탱크의 외부에 상기 탱크의 일벽과 이격되게 위치되며,
    상기 캡은 상기 바디의 일단에 탈착 가능하도록 제공되는 액 공급 유닛.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 고정 부재는 상기 바디를 감싸는 링 형상을 가지며, 상기 탱크의 일벽에 결합되는 액 공급 유닛.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 바디는 상기 고정 부재에 강제 끼움되는 액 공급 유닛.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 바디는 상기 고정 부재와 일체로 제공되는 액 공급 유닛.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 삽입홀은 상기 탱크의 일벽에 복수로 형성되고,
    각각의 상기 삽입홀에는 상기 바디가 삽입되는 액 공급 유닛.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 고정 부재는 상기 삽입홀보다 큰 직경을 가지는 액 공급 유닛.
  8. 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
    상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 처리액을 공급하는 노즐과;
    상기 노즐에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되,
    상기 액 공급 유닛은,
    내부에 처리액이 채워지는 수용 공간을 가지는 탱크와;
    상기 수용 공간에 채워진 처리액을 상기 노즐에 공급하는 액 공급 라인과;
    상기 탱크 내에 제공된 처리액을 열 처리하는 열 처리 부재를 포함하되,
    상기 열 처리 부재는,
    바디와;
    상기 바디 내에 위치되는 히터와;
    상기 바디의 일단에 결합되는 캡과;
    상기 히터를 상기 탱크에 고정시키는 고정 부재를 포함하고,
    상기 탱크의 일벽에는 상기 바디가 삽입되는 삽입홀이 형성되고,
    상기 바디는 상기 일단이 상기 탱크의 외부에 위치되고, 상기 일단과 반대되는 타단이 상기 수용 공간에 위치되며,
    상기 캡은 상기 탱크의 외부에 상기 탱크의 일벽과 이격되게 위치되며,
    상기 캡은 상기 바디의 일단에 탈착 가능하도록 제공되는 기판 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 고정 부재는 상기 바디를 감싸는 링 형상을 가지며, 상기 탱크의 일벽에 결합되는 기판 처리 장치.
  10. 제8항 또는 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 삽입홀은 복수개로 형성되고, 각각의 상기 삽입홀에는 상기 바디가 삽입되는 기판 처리 장치.
  11. 탱크에 채워진 처리액을 열 처리하는 히터를 교체하는 방법에 있어서,
    바디는 상기 히터와 상기 처리액이 비접촉되도록 상기 탱크 내에서 상기 히터를 감싸고, 상기 탱크의 외부에 위치된 상기 바디의 일단을 실링하는 캡을 개방하여 상기 히터를 교체하되,
    상기 바디를 감싸는 고정 부재는 상기 바디의 위치가 고정되도록 상기 탱크에 결합되며,
    상기 탱크의 일벽에는 상기 바디가 삽입되는 삽입홀이 형성되고,
    상기 바디는 상기 일단이 상기 탱크의 외부에 위치되고, 상기 일단과 반대되는 타단이 상기 탱크의 내부에 위치되며,
    상기 캡은 상기 탱크의 외부에 상기 탱크의 일벽과 이격되게 위치되며,
    상기 캡은 상기 바디의 일단에 탈착 가능하도록 제공되는 히터 교체 방법.
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