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KR102087645B1 - 압력식 유량 제어 장치 - Google Patents

압력식 유량 제어 장치 Download PDF

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KR102087645B1
KR102087645B1 KR1020187026983A KR20187026983A KR102087645B1 KR 102087645 B1 KR102087645 B1 KR 102087645B1 KR 1020187026983 A KR1020187026983 A KR 1020187026983A KR 20187026983 A KR20187026983 A KR 20187026983A KR 102087645 B1 KR102087645 B1 KR 102087645B1
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control valve
passage
control
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타카시 히로세
토시히데 요시다
아츠시 마츠모토
카오루 히라타
노부카즈 이케다
코지 니시노
료스케 도히
카츠유키 스기타
Original Assignee
가부시키가이샤 후지킨
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Abstract

본 발명은 유량 스위칭 시의 하강 응답 시간의 단축을 도모하여 하강 응답 특성을 높이는 것을 가능하게 한 압력식 유량 제어 장치를 제공한다. 본 발명의 압력식 유량 제어 장치는 유체 입구(2)와 유체 출구(3) 사이를 연통하는 유체 통로(4)를 형성한 본체(5)와, 본체(5)에 고정되어서 유체 통로(4)를 개폐하는 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)와, 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)의 하류측의 유체 통로(4)에 개재시킨 오리피스(OL)와, 본체(5)에 고정되어서 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)와 오리피스(OL) 사이의 유체 통로(4)의 내압을 검출하는 압력 센서(P1)를 구비하고, 유체 통로(4)는 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)와 압력 센서(P1)의 압력 검지면 (P1a) 상의 압력 검지실(4b)을 접속하는 제 1 통로부(4a)와, 제 1 통로부(4a)와 이간되어 압력 검지실(4b)과 오리피스(OL)를 접속하는 제 2 통로부(4c)를 구비한다.

Description

압력식 유량 제어 장치{PRESSURE-TYPE FLOW RATE CONTROL DEVICE}
본 발명은 압력식 유량 제어 장치의 개량에 관한 것이며, 특히 하강 시의 응답성을 높임으로써 반도체 제조 장치용 등의 원료 가스 공급 장치의 작동 성능을 대폭으로 높인 압력식 유량 제어 장치에 관한 것이다.
종전부터 반도체 제조 장치용 등의 원료 가스 공급 장치에 있어서는 공급 가스의 유량 제어에 열식 유량 제어 장치나 압력식 유량 제어 장치가 널리 이용되고 있다. 특히, 도 6에 나타내는 바와 같이 압력식 유량 제어 장치(FCS)는 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV), 온도 검출기(T), 압력 센서(P), 오리피스(OL), 온도 보정·유량 연산 회로(CDa)와 비교 회로(CDb)와 입출력 회로(CDc)와 출력 회로(CDd) 등으로 이루어지는 연산 제어부(CD) 등으로 구성되어 있고, 1차측 공급압이 크게 변동해도 안정된 유량 제어가 행해진다는 우수한 유량 특성을 구비하고 있다.
즉, 도 6의 압력식 유량 제어 장치(FCS)에서는 압력 센서(P) 및 온도 검출기(T)로부터의 검출값이 온도 보정·유량 연산 회로(CDa)에 입력되고, 여기에서 검출 압력의 온도 보정과 유량 연산이 행해져 유량 연산값(Qt)이 비교 회로(CDb)에 입력된다. 또한, 설정 유량에 대응하는 입력 신호(QS)가 단자(In)로부터 입력되어 입출력 회로(CDc)를 통해 비교 회로(CDb)에 입력되고, 여기에서 온도 보정·유량 연산 회로(CDa)로부터의 유량 연산값(Qt)과 비교된다. 비교의 결과, 설정 유량 입력 신호(Qs)가 유량 연산값(Qt)보다 작을 경우에는 컨트롤 밸브(CV)의 구동부에 제어 신호(Pd)가 출력된다. 이에 따라 컨트롤 밸브(CV)가 폐쇄 방향으로 구동되어 설정 유량 입력 신호(Qs)와 연산 유량값(Qt)의 차(Qs-Qt)가 0이 될 때까지 폐쇄 밸브 방향으로 구동된다.
압력식 유량 제어 장치(FCS)에서는 오리피스(OL)의 하류측 압력(P2)과 상류측 압력(P1) 사이에 P1/P2≥약 2의 소위 임계 팽창 조건이 유지되어 있으면 오리피스(OL)를 유통하는 가스 유량(Q)이 Q=KP1(단, K는 정수)이 되고, 또한 임계 팽창 조건이 만족되어 있지 않으면 오리피스(OL)를 유통하는 가스 유량(Q)이 Q=KP2 m(P1-P2)n(단, K, m, n은 정수)이 된다.
따라서, 압력(P1)을 제어함으로써 유량(Q)을 고정밀도로 제어할 수 있고, 게다가 컨트롤 밸브(CV)의 상류측 가스(Go)의 압력이 크게 변화해도 제어 유량값이 거의 변화되지 않는다는 우수한 특성을 발휘할 수 있다.
가스 유량(Q)을 Q=KP1(단, K는 정수)로서 연산하는 방식의 압력식 유량 제어 장치는 FCS-N형이라고 불리는 것이 있고, 또한 가스 유량(Q)을 Q=KP2 m(P1-P2)n(단, K, m, n은 정수)으로서 연산하는 방식의 압력식 유량 제어 장치는 FCS-WR형이라고 불리는 것이 있다.
또한, 이 종류의 압력식 유량 제어 장치에는 이밖에 복수의 오리피스(OL)를 병렬형상으로 연결하고, 스위칭 밸브에 의해 적어도 1개의 오리피스에 가스를 유통시키도록 한 오리피스 기구, 예를 들면 2개의 오리피스를 병렬형상으로 접속하고, 1개의 오리피스의 입구측에 스위칭 밸브를 설치해서 그것을 열림 또는 닫힘으로 함으로써 유량 제어 범위를 변경할 수 있도록 한 오리피스 기구를 상기 FCS-N형의 오리피스로서 사용한 FCS-SN형이나, 동일한 오리피스 기구를 상기 FCS-WR형의 오리피스로서 사용한 FCS-SWR형이라고 불리고 있는 것도 있다.
또한, 상기 FCS-N형, FCS-SN형, FCS-WR형 및 FCS-SWR형의 각 압력식 유량 제어 장치 그것의 구성이나 작동 원리 등은 이미 공지이기 때문에 여기에서는 그 상세한 설명을 생략한다(일본 특허공개 평 8-338546호, 일본 특허공개 2003-195948호 등).
또한, 압력식 유량 제어 장치(FCS)에는 도 7에 나타내는 바와 같이 (a)와 같은 구성의 임계 조건 하의 가스 유체를 대상으로 하는 압력식 유량 제어 장치(FCS)(이하, FCS-N형이라고 칭한다. 일본 특허공개 평 8-338546호 등), (b)의 임계 조건 하와 비임계 조건 하의 양쪽 가스 유체를 대상으로 하는 FCS-WR형(일본 특허공개 2003-195948호 등), (c)의 임계 조건 하의 가스 유체를 대상으로 하는 유량 스위칭형의 FCS-S형(일본 특허공개 2006-330851호 등), 및 (d)의 임계 조건 하와 비임계 조건 하의 양쪽 가스 유체를 대상으로 하는 유량 스위칭형의 FCS-SWR형(국제 공개 WO 2009/141947호 팸플릿 등)이 존재한다.
또한, 도 7에 있어서, P1, P2는 압력 센서, CV는 컨트롤 밸브, OL은 오리피스, OL1은 소구경 오리피스, OL2는 대구경 오리피스, ORV는 오리피스 스위칭 밸브이다.
도 8은 종래의 압력식 유량 제어 장치(FCS-WR형)를 나타내는 단면도이며, 5A는 본체, 2는 유체 입구, CV는 압력 제어용 컨트롤 밸브, P1, P2는 압력 센서, OL은 오리피스, 3은 유체 출구이다.
그러나, 이 종류의 압력식 유량 제어 장치(FCS)에서는 미소한 구멍 지름의 오리피스(OL)를 사용하고 있기 때문에 가스의 치환성이 나빠 압력식 유량 제어 장치(FCS)의 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)를 폐쇄해서 출력측을 개방했을 경우에 컨트롤 밸브(CV)와 오리피스(OL) 사이의 공간부의 가스 배출에 많은 시간이 걸려 소위 가스의 하강 응답성이 매우 나쁘다는 문제가 있다.
도 9는 종래의 압력식 유량 제어 장치(FCS-N형)의 연속 스텝 시의 하강 응답 특성의 일례를 나타내는 것이며, 오리피스(OL)의 하류측의 공기압 작동 밸브(도시 생략)를 개방해서 일정 유량의 가스를 압력식 유량 제어 장치를 통해 공급 중에 가스 공급량을 스텝형상으로 하강했을 경우, 대유량용의 압력식 유량 제어 장치의 경우(선(A))에 비교해서 소류량용의 압력식 유량 제어 장치의 경우(선(B))에는 소정의 유량까지 하강하는데에 1.5초 이상의 시간을 필요로 하는 것이 현상황이다.
보다 구체적으로는 FCS-N형 및 FCS-WR형의 경우, 오리피스(OL)의 하류측 압력이 100Torr이며, 유량을 100%로부터 1% 및 100%로부터 4%로 낮추기 위해서는 각각 약 1초 이상을 필요로 하지만, 반도체 제조 장치(예를 들면, 엣쳐) 쪽으로부터는 1초 이하의 시간 내에 유량을 100%로부터 1%로 낮추는 것이 요구되어 있다.
또한, FCS-S형 및 FCS-SWR형의 경우, 오리피스(OL1)의 하류측 압력이 100Torr이며, 유량을 100%로부터 10% 및 100%로부터 0.16%로 낮추기 위해서는 각각 약 1.2초 이상을 필요로 하지만, 반도체 제조 장치(예를 들면, 엣쳐) 쪽으로부터는 1. 2초 이하의 시간 내에 유량을 100%로부터 10%로 낮추는 것이 요구되어 있다.
일본 특허공개 평 8-338546호 일본 특허 공개 평 10-55218호 일본 특허공개 2003-195948호 일본 특허공개 2006-330851호 국제 공개 제 WO 2009/141947호 팸플릿
본원발명은 종래의 압력식 유량 제어 장치에 있어서의 상술과 같은 문제를 개선하기 위해서 유량 제어에 있어서의 하강 응답성의 향상, 즉 유량 제어에 있어서의 하강 시간을 한층 더 단축할 수 있는 압력식 유량 제어 장치를 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명에 의한 압력식 유량 제어 장치는 유체 입구와 유체 출구 사이를 연통하는 유체 통로를 형성한 본체와, 상기 본체에 고정되어서 상기 유체 통로를 개폐하는 압력 제어용 컨트롤 밸브와, 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브의 하류측의 상기 유체 통로에 개재시킨 오리피스와, 상기 본체에 고정되어서 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브와 상기 오리피스 사이의 상기 유체 통로의 내압을 검출하는 압력 센서를 구비하고, 상기 유체 통로는 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브와 상기 압력 센서의 압력 검지면 상의 압력 검지실을 접속하는 제 1 통로부와, 상기 제 1 통로부와 이간되어 상기 압력 검지실과 상기 오리피스를 접속하는 제 2 통로부를 구비함으로써 상기 압력 검지실을 경유하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 한다.
상기 압력 제어용 컨트롤 밸브의 하방에 상기 압력 센서가 배치되고, 상기 제 1 통로부는 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브로부터 상기 압력 검지실로 수하(垂下)하도록 구성되어 있는 것이 바람직하다.
상기 압력 제어용 컨트롤 밸브가 금속제 다이어프램 밸브체를 구비하고, 상기 제 1 통로부는 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브의 상기 금속제 다이어프램 밸브체의 중심부로부터 수하하도록 구성되어 있는 것이 바람직하다.
상기 제 1 통로부가 상기 압력 검지실의 단부에 접속되어 있는 것이 바람직하다.
상기 제 2 통로부가 상기 압력 검지실의 단부에 접속되어 있는 것이 바람직하다.
상기 제 2 통로부가 상기 압력 검지실의 상기 제 1 통로부와는 반대측의 단부에 접속되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 의한 압력식 유량 제어 장치는 유체 입구와 유체 출구 사이를 연통하는 유체 통로를 형성한 본체와, 상기 본체에 고정되어서 상기 유체 통로를 개폐하는 압력 제어용 컨트롤 밸브와, 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브의 하류측의 상기 유체 통로에 개재시킨 오리피스와, 상기 본체에 고정되어서 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브와 상기 오리피스 사이의 상기 유체 통로의 내압을 검출하는 압력 센서를 구비하고, 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브의 하방에 상기 압력 센서가 배치되고, 상기 유체 통로는 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브로부터 상기 압력 센서의 압력 검지면 상의 압력 검지실로 수하하는 제 1 통로부와, 상기 제 1 통로부와 상기 오리피스를 접속하는 제 3 통로부를 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기 압력 센서는 상기 본체의 저면에 형성된 오목부에 링 개스킷을 개재하여 삽입 부착되고, 상기 압력 검지실은 상기 오목부의 내저면과 상기 링 개스킷과 상기 압력 센서의 압력 검지면으로 둘러싸여 있으며, 상기 링 개스킷은 양측의 실링면이 내주면측으로 치우쳐서 형성되어 있는 것이 바람직하다.
상기 링 개스킷은 양측의 실링면, 내주면, 외주면, 상기 내주면과 양측의 실링면 사이의 내측 테이퍼면, 및 상기 외주면과 양측의 실링면 사이의 외측 테이퍼면을 구비하고, 상기 내측 테이퍼면이 상기 외측 테이퍼면보다 작게 형성되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 의한 압력식 유량 제어 장치는 유체 입구와 유체 출구 사이를 연통하는 유체 통로를 형성한 본체와, 상기 본체에 고정되어서 상기 유체 통로를 개폐하는 압력 제어용 컨트롤 밸브와, 상기 본체에 고정되어서 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브의 하류측의 상기 유체 통로의 내압을 검출하는 압력 센서와, 상기 압력 센서의 하류측의 상기 유체 통로에 개재시킨 오리피스를 구비하고, 상기 압력 센서는 상기 본체 저면에 형성된 오목부에 링 개스킷을 개재하여 삽입 부착되고, 압력 검지실은 상기 오목부의 내저면과 상기 링 개스킷과 상기 압력 센서의 압력 검지면으로 둘러싸여 있으며, 상기 링 개스킷은 양측의 실링면이 내주면측으로 치우쳐서 형성되어 있는 것이 바람직하다.
상기 오목부의 내저면과 상기 압력 검지면의 거리가 0.13~0.30㎜인 것이 바람직하다.
본원발명에 의하면 유체 통로가 압력 검지실을 경유하는 구성으로 함으로써 압력 제어용 컨트롤 밸브와 오리피스 사이의 유체 통로의 내용적을 종래에 비해 작게 할 수 있고, 그 결과 하강 특성을 향상시킬 수 있다.
또한, 압력 센서를 압력 제어용 컨트롤 밸브의 하방에 배치하고, 양자를 연결한 유체 통로(제 1 유로부)를 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브로부터 상기 압력 검지실로 수하시킴으로써 양자 최단 거리로 연결하여 압력 제어용 컨트롤 밸브와 오리피스 사이의 유체 통로의 내용적을 작게 할 수 있다.
또한, 제 1 유로부 및 제 2 유로부는 압력 검지실의 단부에 형성함으로써 유체 통로로서 이용하는 압력 검지실을 효율적으로 이용하여 압력 제어용 컨트롤 밸브와 오리피스 사이의 유체 통로의 내용적 축소에 기여할 수 있다.
또한, 압력 검지실의 높이 치수를 규정하는 링 개스킷을 실링면을 내주면측으로 치우치게 한 단면형상으로 함으로써 실링 능력 확보를 위해 필요로 되는 실링면의 면적을 유지하면서 내주면을 평탄면에 가까이하여 내주면으로 둘러싸이는 공간 용적을 축소하고, 압력 제어용 컨트롤 밸브와 오리피스 사이의 유체 통로의 내용적 축소에 기여할 수 있다.
도 1은 본 발명에 의한 압력식 유량 제어 장치의 제 1 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1의 일점 쇄선원으로 둘러싼 부분의 확대도이다.
도 3은 도 1의 압력식 유량 제어 장치에 장착되어 있는 링 개스킷의 확대 단면도이다.
도 4는 본 발명에 의한 압력식 유량 제어 장치와 종래의 압력식 유량 제어 장치의 압력 강하 시간(하강 시간)을 나타내는 그래프이다.
도 5는 본 발명에 의한 압력식 유량 제어 장치의 제 2 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 6은 종래의 압력식 유량 제어 장치를 나타내는 기본 구성도이다.
도 7은 종래의 각종 형식의 압력식 유량 제어 장치를 나타내는 개략 구성도이다.
도 8은 종래의 압력식 유량 제어 장치를 나타내는 요부 단면도이다.
도 9는 종래의 압력식 유량 제어 장치(FCS-N형)의 연속 스텝 시의 하강 응답 특성의 일례를 나타내는 그래프이다.
도 10은 종래의 압력식 유량 제어 장치에 장착되어 있는 링 개스킷의 확대 단면도이다.
본 발명에 의한 압력식 유량 제어 장치의 실시형태에 대해서 이하에 도 1~도 5를 참조해서 설명한다.
도 1은 본 발명에 의한 압력식 유량 제어 장치의 제 1 실시형태의 단면도를 나타내고, 도 2는 도 1의 일점 쇄선의 원으로 둘러싼 부분의 확대도를 나타내고 있다. 압력식 유량 제어 장치(1)는 유체 입구(2)와 유체 출구(3) 사이를 연통하는 유체 통로(4)를 형성한 본체(5)와, 본체(5)에 고정되어서 유체 통로(4)를 개폐하는 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)와, 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)의 하류측의 유체 통로(4)에 개재시킨 오리피스(OL)와, 본체(5)에 고정되어서 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)와 오리피스(OL) 사이의 유체 통로(4)의 내압을 검출하는 압력 센서(P1)를 구비하고, 유체 통로(4)는 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)와 압력 센서(P1)의 압력 검지면(P1a)(도 2) 상의 압력 검지실(4b)을 접속하는 제 1 통로부(4a)와, 제 1 통로부(4a)와 이간되어 압력 검지실(4b)과 오리피스(OL)를 접속하는 제 2 통로부(4c)를 구비함으로써 유체 통로(4)가 압력 검지실을 경유하도록 구성되어 있다.
도 1에 나타내어진 제 1 실시형태의 압력식 유량 제어 장치(1)는 상술한 소위 FCS-WR형이며, 오리피스(OL)의 하류측의 유체 통로(4)의 내압을 검출하는 제 2 압력 센서(P2)가 장착되어 있다. 또한, 도 1에 있어서 10은 프린트 배선판에 전자 부품이 실장된 제어판, 11은 케이싱, 12는 접속용 커넥터이다.
본체(5)는 입구측 블록(5a), 본체 블록(5b), 및 출구측 블록(5c)을 볼트로 연결해서 일체화되어 있다. 입구측 블록(5a)에 유체 입구(2)가 형성되어 있다. 입구측 블록(5a)과 본체 블록(5b) 사이의 유체 통로(4)의 연결 개소에는 금속제 개스킷(13)이 개재되어 있다. 또한, 본체 블록(5b)과 출구측 블록(5c) 사이의 유체 통로(4)의 연결 개소에는 오리피스(OL)(미소 구멍이기 때문에 도면상에는 명확하게 드러나 있지 않음)가 중심부에 형성된 오리피스 플레이트(7)를 협지하고 있는 금속제 개스킷(14, 15)이 개재되어 있다. 출구측 블록(5c)에 유체 출구(3)가 형성되어 있다.
압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)는 공지의 금속제 다이어프램 밸브체(CVa)와 피에조 구동 소자(CVb)를 사용한 개폐 밸브이며, 피에조 구동 소자(CVb)로의 통전에 의해 이것이 신장되어 원통체(CVc)를 탄성체(CVd)의 탄력에 저항해서 상방으로 밀어올림으로써 밸브체 받침(CVe)이 상방으로 이동하고, 다이어프램 밸브체(CVa)가 자기 탄성력에 의해 만곡 형상으로 복원되어 밸브 시트(5e)로부터 이탈하여, 밸브가 개방된다. 또한, 밸브 개도는 정도는 피에조 구동 소자(CVb)로의 인가 전압을 변동함으로써 조절된다.
압력 센서(P1)는 반도체 스트레인 게이지가 표면에 형성된 다이어프램을 구비하고, 그 표면이 압력 검지면(수압면)이 되고, 거기에 가해지는 압력에 의해 변형해서 발생하는 피에조 저항 효과에 의한 전기 저항의 변화를 전기 신호로 변환함으로써 압력을 검출한다.
압력 센서(P1)는 본체 블록(5b)의 저면에 형성된 오목부(5d)에 링 개스킷(16)을 개재해서 삽입되고, 누름 나사(17)에 의해 고정되어 있다. 이와 같이 압력 센서(P1)를 오목부(5d)에 삽입 부착함으로써 오목부(5d)의 내저면과 링 개스킷(16)과 압력 센서(P1)의 수압면인 압력 검지면(P1a)에 의해 둘러싸인 압력 검지실(4b)이 형성되어 있다.
압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)의 금속제 다이어프램 밸브체(CVa)가 접리하는 밸브 시트(5e)는 다이어프램 밸브체(CVa)의 중앙부의 위치에 형성된다. 도시예에 있어서는 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)의 다이어프램 밸브체(CVa)의 외주 가장자리부와 밸브 시트(5e)의 간극(4e)을 통해 가스를 유입시켜 밸브 시트(5e)의 중앙으로부터 가스를 유출시키는 구조로 하고 있다. 이것은 도 8에 나타낸 종래의 압력 제어용 컨트롤 밸브의 유체의 흐름 방향과는 반대 방향으로 되어 있고, 이러한 구조로 함으로써 다이어프램 밸브체(CVa)를 닫은 상태로 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)와 오리피스(OL) 사이의 유체 통로(4)의 내용적을 종래 구조보다 감소시킬 수 있다.
압력 센서(P1)는 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)의 하방에 배치되어 있고, 제 1 통로부(4a)는 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)로부터 압력 검지실(4b)로 수하하도록 구성되어 있다. 그에 따라 제 1 통로부(4a)는 최단 거리로 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)와 압력 검지실(4b)을 연결할 수 있으므로 제 1 통로부(4a)의 내용적이 축소될 수 있다.
또한, 제 1 통로부(4a)는 그 내용적을 가능한 한 작게 하기 위해서는 가능한 한 작은 구멍 지름으로 하는 것이 바람직하고, 예를 들면 직경 0.5~1.0㎜로 할 수 있다. 또한, 제 1 통로부(4a)는 그 내용적을 가능한 한 작게 하기 위해서는 제 1 통로부(4a)의 길이는 가능한 한 짧은 편이 바람직하고, 압력 센서(P1)를 다이어프램 밸브체(CVa)에 가능한 한 가까이해서 배치함으로써 짧게 할 수 있다.
제 1 통로부(4a)와 제 2 통로부(4c)는 압력 검지실(4b)의 양단부에 접속되어 있다. 그렇게 함으로써 압력 검지실(4b)을 유체 통로(4)로서 최대한 이용함으로써 유체 통로(4)의 내용적을 작게 할 수 있다. 즉, 압력 검지실(4b)의 공간 용적은 불가피하기 때문에 이것을 유체 통로로서 이용함으로써 유체 통로(4)의 내용적을 감소시킬 수 있다.
압력 검지실(4b)의 내용적도 가능한 한 작게 하는 것이 요망되지만, 압력 센서(P1)의 수압면을 구성하는 다이어프램은 스테인리스 등으로 형성되어 있어 고온이 되면 팽창하고, 오목부(5d)의 내저면측으로 팽창하여 솟아오르므로 압력 센서(P1)의 다이어프램의 열팽창을 압력 검지실(4b)이 허용할 수 있는 정도의 깊이 치수로 할 필요가 있다. 예를 들면, 어느 종류의 압력 센서의 다이어프램은 100℃에서 0.13㎜ 정도 팽창하고, 압력 검지실(4b)의 깊이 치수, 즉 오목부(5d)의 내저면과 압력 검지면(P1a)(비변형 시)의 거리는, 예를 들면 0.13~0.30㎜가 된다. 링 개스킷(16)은 스테인레스 등으로 형성되어 경면 처리, 진공로에서의 고용화 열처리 등이 실시되어 고정밀도로 마무리된다.
링 개스킷(16)은 개스킷으로서의 실링성을 담보하기 위해서 실링면이 일정 이상의 면압을 확보할 필요가 있지만, 실링면의 면적을 크게 하면 압력 센서(P1)의 고정에 필요한 토크도 커진다. 압력 검지실(P1a)의 내용적을 조금이라도 작게 하면서 소요 면적의 실링면을 유지하고, 또한 재료비가 오르지 않도록 하기 위해서 도 3에 나타내는 바와 같이 양측의 실링면(16a, 16b)이 내주면(16c)의 측에 치우쳐서 형성되어 있다.
도시예에서는 링 개스킷(16)은 내주면(16c)과 양측의 실링면(16a, 16b) 사이의 내측 테이퍼면(16d, 16e)이 외주면(16f)과 양측의 실링면(16a, 16b) 사이의 외측 테이퍼면(16g, 16h)보다 작아져 있다. 내측 테이퍼면(16d, 16e)은 없애고, 내주면(16c)과 양측의 실링면(16a, 16b)을 직각으로 해도 좋다.
이와 같이 실링면(16a, 16b)을 내주면(16c)의 측으로 치우친 단면형상으로 함으로써 종래의 링 개스킷(도 10 참조)에 비해 압력 검지실(4b)의 내용적을 작게 할 수 있다.
도 4는 도 1에 나타낸 구조의 압력식 유량 제어 장치와, 도 8에 나타낸 종래 타입의 압력식 유량 제어 장치에서 유체 출구의 진공 챔버에 접속하고, 질소 가스를 소정 유량으로 제어하고 있는 도중에 압력 제어용 컨트롤 밸브를 닫고, 유량이 100%로부터 1%가 될 때까지의 하강 시간을 각각의 내용적으로부터 산출하여 비교한 막대그래프이다. 도 4의 그래프에 있어서, 가로축은 유량 레인지이며, 우측으로 갈수록 유량이 큰 타입의 것이고, 세로축은 하강 시간이다. 이 막대그래프로부터 본 발명의 압력식 유량 제어 장치는 종래의 압력식 유량 제어 장치에 비교해서 대폭으로 하강 시간을 단축할 수 있는 것을 알 수 있다. 또한, 본 발명의 압력식 유량 제어 장치에서는 대부분의 유량 레인지에 있어서 하강 시간을 1초 이하로 단축하는 것이 가능하게 되는 것으로 생각된다.
도 5는 본 발명에 의한 압력식 유량 제어 장치의 제 2 실시형태를 나타내는 단면도이다. 도 1의 실시형태와 동일한 구성 부분에는 동일 부호를 붙여 중복 설명을 생략한다.
제 2 실시형태의 압력식 유량 제어 장치(1)는 상기 제 1 실시형태의 제 2 통로부(4c) 대신에 제 1 통로부(4a)에 접속된 제 3 통로부(4f)를 구비하고 있는 점이 상기 제 1 실시형태와 상위하고, 그 밖의 구성은 상기 제 1 실시형태와 마찬가지이다. 제 2 실시형태에 있어서도 압력 제어용 컨트롤 밸브(CV)와 압력 센서(P1)의 배치 및 제 1 통로부(4a)의 배치 구성을 제 1 실시형태와 마찬가지로 함으로써 하강 시간에 관여하는 유체 통로(4)의 내용적을 작게 할 수 있다.
본 발명은 상기 실시형태에 한정하여 해석되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에 있어서 여러 가지 변경이 가능하다.
1 : 압력식 유량 제어 장치 2 : 유체 입구
3 : 유체 출구 4 : 유체 통로
4a : 제 1 통로부 4b : 압력 검지실
4c : 제 2 통로부 4f : 제 3 통로부
5 : 본체 5d : 오목부
CV : 압력 제어용 컨트롤 밸브 CVa : 금속제 다이어프램 밸브체
OL : 오리피스 P1 : 압력 센서
P1a : 압력 검지면 16 : 링 개스킷

Claims (17)

  1. 유체 입구와 유체 출구 사이를 연통하는 유체 통로를 형성한 본체와,
    상기 본체에 고정되어서 상기 유체 통로를 개폐하는 압력 제어용 컨트롤 밸브와,
    상기 압력 제어용 컨트롤 밸브의 하류측의 상기 유체 통로에 개재시킨 오리피스와,
    상기 본체에 고정되어서 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브와 상기 오리피스 사이의 상기 유체 통로의 내압을 검출하는 압력 센서를 구비하고,
    상기 압력 센서는 상기 본체의 저면에 형성된 오목부에 링 개스킷을 개재하여 삽입 부착되고, 상기 압력 센서의 압력 검지면 상에 형성된 압력 검지실은, 상기 오목부의 내저면과 상기 링 개스킷과 상기 압력 센서의 압력 검지면으로 둘러싸여 있으며,
    상기 압력 센서는 상기 링 개스킷의 내측으로 삽입되는 돌출부를 가지며, 상기 돌출부의 표면에 설치된 상기 압력 검지면이 상기 링 개스킷의 내측에 배치되어 있고,
    상기 압력 센서의 상기 돌출부의 외주면과 상기 링 개스킷의 내주면 사이에 간극이 설치되어 있고,
    상기 유체 통로는, 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브와 상기 압력 검지실을 접속하는 제 1 통로부와, 상기 제 1 통로부와 이간되어 상기 압력 검지실과 상기 오리피스를 접속하는 제 2 통로부를 구비하고, 상기 압력 검지실을 경유하도록 구성되어 있는 압력식 유량 제어 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 압력 제어용 컨트롤 밸브의 하방에 상기 압력 센서가 배치되고, 상기 제 1 통로부는 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브로부터 상기 압력 검지실로 수하하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 압력식 유량 제어 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 압력 제어용 컨트롤 밸브가 금속제 다이어프램 밸브체를 구비하고, 상기 제 1 통로부는 상기 압력 제어용 컨트롤 밸브의 상기 금속제 다이어프램 밸브체의 중심부로부터 수하하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 압력식 유량 제어 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 통로부는 상기 압력 검지실의 단부에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 압력식 유량 제어 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 통로부는 상기 압력 검지실의 단부에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 압력식 유량 제어 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 통로부는 상기 압력 검지실의 상기 제 1 통로부와는 반대측의 단부에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 압력식 유량 제어 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 링 개스킷은 양측의 실링면이 내주면측에 치우쳐서 형성되어 있는 압력식 유량 제어 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 링 개스킷은 양측의 실링면, 내주면, 외주면, 상기 내주면과 양측의 실링면 사이의 내측 테이퍼면, 및 상기 외주면과 양측의 실링면 사이의 외측 테이퍼면을 구비하고, 상기 내측 테이퍼면은 상기 외측 테이퍼면보다 작은 것을 특징으로 하는 압력식 유량 제어 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 압력 검지실에 있어서, 상기 오목부의 내저면과 상기 압력 검지면의 거리는 0.13~0.30㎜가 되는 압력식 유량 제어 장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 통로부와 상기 제 2 통로부는 상기 압력 검지실의 대향하는 단부에 접속되고, 상기 압력 검지실은 상기 본체의 저면에 형성된 상기 오목부의 평면 형상을 이루는 내저면과 상기 링 개스킷의 내주면과 상기 압력 센서의 압력 검지면에 의해 둘러싸인 층 형상의 공간을 포함하고, 상기 층 형상의 공간을 경유하여 상기 제 1 통로부에서 상기 제 2 통로부로 유체가 흐르도록 구성되어 있는 압력식 유량 제어 장치.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 통로부 및 상기 제 2 통로부의 지름은, 상기 유체 입구와 상기 컨트롤 밸브의 주연부를 접속하는 유입측 통로부의 지름보다 작은 압력식 유량 제어 장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 유입측 통로부가 상기 본체에 설치되어 상기 컨트롤 밸브의 주연부에 대해서 비스듬히 접속되어 있는 압력식 유량 제어 장치.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 통로부는 상기 압력 검지실의 단부에서 수직 상방으로 연장되는 수직부와 상기 수직부에서 수평 방향으로 연장되는 수평부를 포함하고, 상기 제 1 통로부의 지름은 상기 제 2 통로부의 상기 수직부의 지름보다 작고, 상기 제 1 통로부는 상기 제 2 통로부의 상기 수직부보다 짧은 압력식 유량 제어 장치.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 오리피스와 상기 유체 출구를 연통하는 유출측 통로부의 지름은 상기 제 2 통로부의 수평부의 지름보다 큰 압력식 유량 제어 장치.
  17. 제 1 항에 있어서,
    상기 압력 검지실의 단부는 상기 컨트롤 밸브의 밸브체의 중심부의 직하에 위치하고, 상기 압력 검지실의 반대측 단부는 상기 밸브체의 외측에 위치하는 압력식 유량 제어 장치.
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9904299B2 (en) * 2015-04-08 2018-02-27 Tokyo Electron Limited Gas supply control method
JP6777659B2 (ja) * 2015-06-25 2020-10-28 イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド ピエゾアクチュエータ型バルブ
US10385998B2 (en) 2015-08-24 2019-08-20 Fujikin Incorporated Fixing structure for seal member in fluid control apparatus, joint, and fluid control apparatus
WO2017073038A1 (ja) 2015-10-28 2017-05-04 株式会社フジキン 流量信号補正方法およびこれを用いた流量制御装置
CN108780332B (zh) * 2016-02-29 2021-10-01 株式会社富士金 流量控制装置
US10665430B2 (en) * 2016-07-11 2020-05-26 Tokyo Electron Limited Gas supply system, substrate processing system and gas supply method
JP6786096B2 (ja) * 2016-07-28 2020-11-18 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
WO2018070464A1 (ja) * 2016-10-14 2018-04-19 株式会社フジキン 流体制御装置
JP7245600B2 (ja) 2016-12-15 2023-03-24 株式会社堀場エステック 流量制御装置、及び、流量制御装置用プログラム
JP6968429B2 (ja) * 2016-12-26 2021-11-17 株式会社フジキン 圧電素子駆動式バルブおよび流量制御装置
CN106876304B (zh) * 2017-02-24 2019-09-10 成都京东方光电科技有限公司 一种湿法刻蚀排气系统及湿法刻蚀装置
WO2019102882A1 (ja) * 2017-11-24 2019-05-31 株式会社フジキン バルブ装置およびその制御装置を用いた制御方法、流体制御装置および半導体製造装置
JP7529664B2 (ja) * 2019-07-08 2024-08-06 株式会社堀場エステック 流量制御装置、流量測定方法、及び、流量制御装置用プログラム
CN114364907B (zh) * 2019-09-05 2024-10-11 株式会社堀场Stec 流量控制阀和流量控制装置
KR102771310B1 (ko) 2019-12-25 2025-02-24 가부시키가이샤 후지킨 압력 제어 장치
WO2021176864A1 (ja) 2020-03-05 2021-09-10 株式会社フジキン 流量制御装置および流量制御方法
JP2022029854A (ja) * 2020-08-05 2022-02-18 株式会社堀場エステック 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御プログラム
KR102776034B1 (ko) 2021-03-11 2025-03-07 가부시키가이샤 후지킨 기화기 및 기화 공급 장치
JP7045738B1 (ja) * 2021-03-23 2022-04-01 株式会社リンテック 常時閉型流量制御バルブ
KR20230000975A (ko) * 2021-06-25 2023-01-03 가부시키가이샤 호리바 에스텍 유체 제어 장치, 유체 제어 시스템, 유체 제어 장치용 프로그램 및 유체 제어 방법
CN113977451B (zh) * 2021-10-25 2023-08-25 长鑫存储技术有限公司 半导体设备的检测系统及检测方法
CN119103392B (zh) * 2024-11-08 2025-01-28 陕西星环聚能科技有限公司 一种用于可控核聚变装置的压电阀和可控核聚变装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001296198A (ja) * 2000-04-14 2001-10-26 Nagano Keiki Co Ltd 圧力センサ
KR101662586B1 (ko) 2009-01-28 2016-10-05 하이닥 플루이드테크닉 게엠베하 비례 압력 제어 밸브

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63115970A (ja) * 1986-10-31 1988-05-20 Motoyama Seisakusho:Kk ダイヤフラム弁
JP3291161B2 (ja) * 1995-06-12 2002-06-10 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
ZA974797B (en) * 1996-05-31 1998-12-30 Sastech Pty Ltd Catalyst
JP3580645B2 (ja) 1996-08-12 2004-10-27 忠弘 大見 圧力式流量制御装置
US5851004A (en) * 1996-10-16 1998-12-22 Parker-Hannifin Corporation High pressure actuated metal seated diaphragm valve
JP3522535B2 (ja) * 1998-05-29 2004-04-26 忠弘 大見 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備
CN1128395C (zh) * 1999-06-25 2003-11-19 富准精密工业(深圳)有限公司 散热装置扣件
DE60029838T2 (de) * 2000-06-05 2007-08-30 Ohmi, Tadahiro, Sendai Ventil mit integrierten öffnung
JP4102564B2 (ja) * 2001-12-28 2008-06-18 忠弘 大見 改良型圧力式流量制御装置
JP4195819B2 (ja) * 2003-01-17 2008-12-17 忠弘 大見 弗化水素ガスの流量制御方法及びこれに用いる弗化水素ガス用流量制御装置
KR20060097012A (ko) * 2003-10-03 2006-09-13 스와겔로크 컴패니 유량 제어 장치의 모니터링용 다이어프램
JP4298476B2 (ja) * 2003-11-14 2009-07-22 株式会社フジキン 流体制御装置
JP4572139B2 (ja) 2005-05-23 2010-10-27 株式会社フジキン 改良型圧力式流量制御装置
JP4690827B2 (ja) * 2005-08-26 2011-06-01 株式会社フジキン ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置
JP4743763B2 (ja) * 2006-01-18 2011-08-10 株式会社フジキン 圧電素子駆動式金属ダイヤフラム型制御弁
JP4605790B2 (ja) * 2006-06-27 2011-01-05 株式会社フジキン 原料の気化供給装置及びこれに用いる圧力自動調整装置。
JP4971030B2 (ja) * 2007-05-21 2012-07-11 シーケーディ株式会社 流体制御弁
WO2009054848A1 (en) * 2007-10-23 2009-04-30 Brooks Instrument Llc Pressure retaining sleeve
KR101162546B1 (ko) 2008-05-21 2012-07-05 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치를 이용한 유체의 비연속식 유량 스위칭 제어 방법
JP5177864B2 (ja) * 2008-06-04 2013-04-10 株式会社フジキン 熱式質量流量調整器用自動圧力調整器
JP4977669B2 (ja) * 2008-09-05 2012-07-18 忠弘 大見 差圧式流量計
JP5669384B2 (ja) * 2009-12-01 2015-02-12 株式会社フジキン 圧電駆動式バルブ及び圧電駆動式流量制御装置
JP5395193B2 (ja) * 2009-12-01 2014-01-22 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
JP5508875B2 (ja) * 2010-01-26 2014-06-04 株式会社フジキン 流体制御器および流量制御装置
JP5501806B2 (ja) * 2010-03-05 2014-05-28 サーパス工業株式会社 圧力センサ、差圧式流量計及び流量コントローラ
TW201234155A (en) * 2010-07-09 2012-08-16 Entegris Inc Flow controller
CN103827560B (zh) 2011-09-30 2016-06-22 株式会社富士金 气体供给装置
JP5665793B2 (ja) * 2012-04-26 2015-02-04 株式会社フジキン 可変オリフィス型圧力制御式流量制御器
KR101887360B1 (ko) * 2013-10-31 2018-08-10 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치
JP6321972B2 (ja) * 2014-01-21 2018-05-09 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法
TWM489440U (en) * 2014-06-27 2014-11-01 Cheng-Yu Huang Portable cylinder audio speaker
JP6336345B2 (ja) * 2014-06-30 2018-06-06 株式会社フジキン ダイヤフラム弁、流体制御装置、半導体製造装置および半導体製造方法
JP6416529B2 (ja) * 2014-07-23 2018-10-31 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
JP6475441B2 (ja) * 2014-09-01 2019-02-27 株式会社フジキン 圧電素子駆動式バルブ及び圧電素子駆動式バルブを備えた流量制御装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001296198A (ja) * 2000-04-14 2001-10-26 Nagano Keiki Co Ltd 圧力センサ
KR101662586B1 (ko) 2009-01-28 2016-10-05 하이닥 플루이드테크닉 게엠베하 비례 압력 제어 밸브

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