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JP3291161B2 - 圧力式流量制御装置 - Google Patents

圧力式流量制御装置

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Publication number
JP3291161B2
JP3291161B2 JP14472295A JP14472295A JP3291161B2 JP 3291161 B2 JP3291161 B2 JP 3291161B2 JP 14472295 A JP14472295 A JP 14472295A JP 14472295 A JP14472295 A JP 14472295A JP 3291161 B2 JP3291161 B2 JP 3291161B2
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pressure
flow rate
orifice
control
valve
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功二 西野
信一 池田
明弘 森本
幸男 皆見
幸司 川田
亮介 土肥
浩幸 福田
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Fujikin Inc
Original Assignee
Fujikin Inc
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は気体等の流量制御装置の
改良に関するものであり、主として半導体製造設備や化
学品製造設備等に於いて利用されるものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造設備等のガス流量制御装置と
しては、従前から所謂マスフローコントローラーが多く
利用されている。
【０００３】しかし、このマスフローコントローラーに
は熱式流量センサの場合は、応答速度が比較的遅いこ
と、低流量域に於ける制御精度が悪いうえ製品毎に精
度のバラツキがあること、作動上トラブルが多くて安
定性に欠けること、製品価格が高いうえ、交換用部品
も高価であってランニングコストが高くつくこと等の様
々な不都合が存在する。
【０００４】一方、上述の如きマスフローコントローラ
ーの問題点を避けるものとして、図１２に示す如き構成
の差圧式流量制御装置が多く用いられている。
【０００５】即ち、当該差圧式流量制御装置は、オリフ
ィス３０の上・下流側の流体差圧△Ｐを圧力検出器３
１、３２の検出値から求め、検出流量Ｑｃ＝Ｋ√△Ｐ及
び検出流量Ｑｃと設定流量Ｑｓとの差Ｑｙ＝Ｑｃ−Ｑｓ
をＣＰＵで演算すると共に、前記流量差Ｑｙを制御信号
として流量制御弁３３へ出力し、前記流量偏差Ｑｙを零
にする方向に流量制御弁３３を開・閉制御するものであ
る。
【０００６】しかし、当該差圧式流量制御装置には、
検出流量Ｑｃのレンジ範囲が圧力検出器３１、３２のレ
ンジ範囲の１／２乗となるため、検出流量Ｑｃの検出精
度が低下すること、流量測定精度を高めるためには、
オリフィス上・下流側に比較的長い直管路を設けて流体
の流れを層流にする必要があり、必然的に装置が大型化
すること、圧力検出器を２基必要とするため、製造コ
ストの引下げを計り難いこと等の問題が残されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本願発明は、前記マス
フローコントローラーや差圧式流量制御装置に於ける上
述の如き問題、即ち装置としての総合的な検出精度が
低いこと、及び装置の小型化や製造コストの低減が困
難なこと等の問題の解決を直接の目的とするものであ
り、一基の圧力検出器の検出圧力を基準にし、当該検出
圧力値に正比例する形で検出流量を演算することによ
り、高精度な流量制御が行え、しかも小型で且つ安価に
製造できるようにした圧力式流量制御装置を提供するも
のである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】而して、ノズルを通る気
体流の特徴の一つとして、ノズル前後の気体の圧力比Ｐ
2 ／Ｐ1 が気体の臨界圧力比（空気や窒素等の場合は約
０．５）以下になると、ノズルを通る気体の流速が音速
となってノズル下流側の圧力変動が上流側に伝播しない
ため、ノズル上流側の状態に相応した安定した質量流量
を得ることができると云う事象がある。
【０００９】但し、ノズルの場合には、気体のもつ粘性
のためにノズル断面積と音速の積が直接に実際の気体流
量を表すことにはならず、気体の流量演算を行うにはノ
ズルの形態によって定まる流出係数を求めなければなら
ないことは勿論である。
【００１０】そのため、本願発明者等は、各種のノズル
形態と流体（ガス）について、その流出係数を求める試
験を繰り返し行って来たが、その試験過程に於いて、前
記気体の圧力比Ｐ2 ／Ｐ1 が気体の臨界圧力比以下の場
合には下流側の圧力変動が上流側に伝播しないと云う特
性に着目し、気体流通路をノズルに代えて微小オリフィ
スとした場合のオリフィス形態と気体流量及びオリフィ
ス上流側の気体圧力Ｐ 1 と気体流量の関係について、各
種の測定試験を行った。その結果、気体圧力比Ｐ2 ／Ｐ
1 が気体の臨界圧力比以下である場合には、板状の微小
オリフィスを流通する気体流量は、微小オリフィスの径
が一定の場合には気体の種類に拘わらず、オリフィス上
流側の気体圧力Ｐ1 に正比例して変化することを見出し
た。
【００１１】即ち、微小オリフィスを流通する気体流量
Ｑｃはオリフィス上流側の圧力Ｐ1に正比例することに
なり、オリフィス上流側圧力Ｐ1 を自動制御することに
より、オリフィスを流通する流量のフィードバック制御
を行なうことができる。
【００１２】また、オリフィスを流通する気体流量は、
オリフィス上流側の流速分布やオリフィス下流側の圧力
変動の影響を受けないため、オリフィス上流側に直管路
を必要とせず、装置の大幅な小形化が計れると共に、圧
力検出器も１基でよく、流量制御装置の製造コストの引
下げが可能となる。
【００１３】更に、流量と圧力の関係が一次関数となる
ため、圧力検出器のレンジと流量のレンジとが同一とな
り、従前の差圧式流量形の場合に比較して測定精度が著
しく向上することになる。
【００１４】ところで、従来から、ディスクタッチ型の
流量制御弁等の製作に於いても、気体圧力比Ｐ2 ／Ｐ1
が臨界圧力比以下の場合のバルブを通過する気体流量Ｑ
ｃを、Ｑｃ＝ＫＳＰ1 （但し、Ｓは最小流路面積、Ｐ1
は一次側圧力、Ｋは常数）として演算することが経験的
に行なわれている。
【００１５】しかし、当該流量制御弁に於ける実際の気
体流量Ｑは、Ｑｃ＝ＫＳＰ1 で演算した流量の±２０％
位いの値となり、前記Ｑｃ＝ＫＳＰ1 の関係を気体流量
の精密な測定に応用することは困難な状態にある。
【００１６】本願発明は、上述の如き本願発明者等の知
見に基づいて創作されたものであり、オリフィスの上流
側圧力Ｐ1 を下流側圧力Ｐ2 の約２倍以上に保持した状
態で流体の流量制御を行なう圧力式流量制御装置に於い
て、金属薄板に微小な孔を穿設して形成され、上流側と
下流側の気体の圧力比が前記約２倍以上で且つ前記孔の
径が一定の場合には、気体の種類に拘わらず前記孔を通
過する気体の流量が上流側圧力Ｐ 1 に正比例する流量特
性を具備したオリフィス５と，オリフィス５の上流側に
設けたコントロール弁２と，コントロール弁２とオリフ
ィス５間に設けた圧力検出器３と，圧力検出器３の検出
圧力Ｐ1 から流量ＱｃをＱｃ＝ＫＰ1 （但しＫは定数）
として演算すると共に、流量指令信号Ｑｓと前記演算し
た流量信号Ｑｃとの差を制御信号Ｑｙとして前記コント
ロール弁２の駆動部１４へ出力する演算制御装置６とか
ら構成され、コントロール弁２の開閉によりオリフィス
上流側圧力Ｐ1 を調整し、オリフィス下流側流量を制御
することを発明の基本構成とするものである。
【００１７】
【作用】圧力検出器３によりオリフィス５の上流側の流
体圧力Ｐ1 が検出され、演算制御装置６へ入力される。
【００１８】演算制御装置６ではＱｃ＝ＫＰ1 の演算式
を用いて流量Ｑｃが演算されると共に、流量指令値Ｑｓ
とＱｃの比較が行なわれ、両者の差Ｑｃ−Ｑｓに相当す
る制御信号Ｑｙがコントロール弁２の駆動部１４へ入力
される。
【００１９】即ち、コントロール弁２は、前記制御信号
Ｑｙによって前記両者の差Ｑｃ−Ｑｓが零になる方向に
開閉制御され、これによってオリフィス下流側の流量Ｑ
ｃが設定流量（流量指令値）Ｑｓに常時保持される。
【００２０】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。図１は本発明に係る流量制御装置のブロック構成
図であり、当該流量制御装置１はコントロール弁２、圧
力検出器３、温度検出器４、オリフィス５、演算制御装
置６、増幅器７ａ・７ｂ、Ａ／Ｄ変換８ａ・８ｂ、オリ
フィス対応弁９、ガス取出し用継手１１等から形成され
ている。
【００２１】前記コントロール弁２には、後述する如き
所謂ダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラム弁が使用
されており、また、その駆動部には、圧電素子形駆動装
置が使用されている。尚、コントロール弁２の駆動部と
してはこの他に、磁歪素子形駆動装置やソレノイド型駆
動装置、モータ型駆動装置、空気圧形駆動装置、熱膨張
型駆動装置等の使用が可能である。
【００２２】前記圧力検出器３には半導体歪形圧力セン
サーが使用されているが、圧力検出器３としてはこの他
に、金属箔歪形圧力センサーや静電容量形圧力センサ
ー、磁気抵抗形圧力センサー等の使用も可能である。
【００２３】また、前記温度検出器４には、熱電対形温
度センサーが使用されているが、測温抵抗形温度センサ
ー等の使用も可能である。
【００２４】前記オリフィス５には、板状の金属薄板製
ガスケットに放電加工によって孔部を設けたオリフィス
が使用されているが、オリフィス５としてはこの他に、
極細パイプやエッチングにより金属膜に孔を形成したオ
リフィスを使用することができる。
【００２５】前記演算制御装置６は所謂制御回路基板か
ら形成されており、温度補正回路６ａ、流量演算回路６
ｂ、比較回路６ｃ、増幅回路６ｄ等が具備されている。
【００２６】次に、本発明に係る流量制御装置１の作動
について説明する。
【００２７】図１を参照して、コントロール弁２の出口
側、即ちオリフィス５の上流側の気体圧力Ｐ1 が圧力検
出器３によって検出され、増幅器７ａ及びＡ／Ｄ変換器
８ａを経て、ディジタル化された信号が流量演算回路６
ｂへ入力される。
【００２８】同様に、オリフィス上流側の気体温度Ｔ1
が温度検出器４で検出され、増幅器７ｂ及びＡ／Ｄ変換
器８ｂを経てディジタル化された信号が温度補正回路６
ａへ入力される。
【００２９】前記演算制御回路６では、圧力信号Ｐ1 を
用いて流量Ｑ′＝ＫＰ1 が演算されると共に、前記温度
補正回路６ａからの補正信号を用いて前記流量Ｑ′の温
度補正が行なわれ、演算流量信号Ｑｃが比較回路６ｃへ
入力される。
【００３０】一方、比較回路６ｃへは流量指令信号Ｑｓ
が入力されており、ここで前記演算流量信号Ｑｃとの比
較が行なわれると共に、両者の差信号Ｑｙ＝Ｑｃ−Ｑｓ
が、制御信号としてコントロール弁２の駆動部１４へ出
力される。
【００３１】即ち、演算流量信号Ｑｃが流量指令信号Ｑ
ｓより大きい場合には、コントロール弁２を閉鎖する方
向に、また、前記ＱｃがＱｓより小さい場合にはコント
ロール弁２を開放する方向に弁駆動部１４が作動され、
Ｑｃ＝Ｑｓとなるようにコントロール弁２の開度が自動
制御される。
【００３２】尚、本発明に於いては、前記オリフィス５
の上流側の気体圧力Ｐ1 と下流側の圧力Ｐ2 との間に、
Ｐ2 ／Ｐ1 が約０．５より小さいこと、即ちオリフィス
５の上流側圧力Ｐ1 が下流側圧力Ｐ2 の約２倍より大き
いと云う条件が、常に成立していなければならないこと
は勿論である。
【００３３】そのため、図１の点線で示す如く、オリフ
ィス５の上流側気体圧力Ｐ1 と下流側気体圧力Ｐ2 とを
反転増幅器１０へ入力し、圧力Ｐ1 と圧力Ｐ2 の大きさ
が逆転したような場合（即ち、逆流を生じる状態になっ
た場合）や、或いはＰ2 ／Ｐ 1 ＞０．５の状態になった
場合（即ち、逆流は生じないものの高精度な流量制御が
できなくなった場合）には、コントロール弁２を自動的
に閉鎖するようにしてもよい。
【００３４】図２及び図３は、本発明に係る装置の演算
制御装置６を除いた部分の一例を示す縦断面図と横断面
図であり、また、図４及び図５は圧電素子型駆動部の縦
断面図と横断面図である。尚、図２乃至図４に於いて、
２はコントロール弁、３は圧力検出器、５はオリフィ
ス、９はオリフィス対応弁、１１はガス取出し用継手、
１２は弁本体、１３はダイヤフラム、１４は駆動部であ
る。
【００３５】前記コントロール弁２は、流体入口１２
ａ、弁座１２ｂ、弁室１２ｃ、圧力検出器取付孔１２
ｃ、流体出口１２ｅ等を備えたステンレス鋼製の弁本体
１２と、ステンレス鋼やニッケル、コバルト合金製のダ
イヤフラム１３と、ダイヤフラム１３を下方へ押圧する
圧電素子型駆動部１４等から形成されている。
【００３６】また、前記ダイヤフラム１３は皿バネ１５
の弾性によって常時下方へ押圧されており、弁座２ｂへ
接当した状態となっている。
【００３７】更に、圧電素子１４ａへの入力によりこれ
が伸長すると、圧電素子支持材１９を介してダイヤフラ
ム押え１６が上方へ引き上げられる。その結果、ダイヤ
フラム１３が上方へ弾性復帰し、弁座２ｂから離間する
ことにより、弁が開状態となる。
【００３８】尚、本実施例では図４に示すように変位量
１６μｍ、５ｍｍ×５ｍｍ×１８ｍｍのピエゾ素子ユニ
ット１４ａを３個直列状に組み合せることにより、圧電
素子駆動部１４を形成しており、図４及び図５に於い
て、１６はダイヤフラム押え、１７はベース体、１８は
ボール、１９は圧電素子支持材（スーパーインバー
材）、２０はストローク調整ねじである。
【００３９】また、前記圧電素子支持材１９の熱膨張率
は圧電素子（ピエゾ素子）の熱膨張率にほぼ近いスーパ
ーインバー材により形成されている。
【００４０】図６は圧力検出器３の取付部の詳細を示す
ものであり、本実施例では弁本体１２の下面側に設けた
取付孔１２ｄ内へ半導体歪ゲージから成る圧力検出器３
が、押えナット２１によりメタルＯリング２２を介して
気密状に取付けされている。
【００４１】尚、図６に於いて、２３はスリーブ、２４
はベアリングであり、また前記メタルＯリング２２に代
えてメタルＣリングやメタルガスケットを用いることが
できる。
【００４２】更に、本実施例では、前記圧力検出器取付
孔１２ｄを弁本体１２の弁室１２ｃより僅かに下流側寄
りの底面に形成するようにしているが、図７に示す如く
弁本体１２の下面側に弁室１２ｃと対向状に取付孔１２
ｄを穿設するようにしてもよい。
【００４３】前記オリフィス５は図２に示す如く、前記
圧力検出器３より下流側に設けられており、本実施例で
は、メタルダイヤフラム型のオリフィス対応弁９の弁本
体９ａに形成した流体入口９ｂ内に配設され、取付ねじ
２５を締込むことによりベアリング２４を介して固定さ
れている。尚、図２及び図３に於いて、９ｃはオリフィ
ス対応弁９の流体出口である。
【００４４】図８は、オリフィス５の取付位置をコント
ロール弁２の弁本体１２側に設けた例を示すものであ
り、取付構造そのものは、前記オリフィス対応弁９の弁
本体９ａ側に設けるようにした図２の場合と、全く同一
である。
【００４５】図９はオリフィス５の更に他の取付例を示
すものであり、オリフィス５そのものを交換自在に取付
けしたものである。
【００４６】即ち、弁本体１２のオリフィス取付孔１２
ｆ内にリング状の当り面を形成すると共に、オリフィス
挿入孔１２ｇを流体通路と垂直方向に形成し、プレート
状のオリフィス５を挿入孔１２ｇを通して上方より取付
孔１２ｆ内へ挿入すると共に、締付押え体２６を締込む
ことにより、ベアリング２７を介してオリフィス５を固
定するように形成されている。
【００４７】また、流量範囲に応じてオリフィス５を取
り替える場合には、前記押え体２６をゆるめ、オリフィ
ス５を差し替えたあと、再度押え体２６を締込みする。
【００４８】本発明では、コントロール弁２の弁本体１
２をブロック化し、これにオリフィス取付孔１２ｆや圧
力検出器取付孔１２ｄを夫々一体的に形成する構成とし
ているため、所謂流量調整装置１の内部に於ける流体通
路空間の容積を大幅に少なくすることができ、ガスの置
換性等が向上する。
【００４９】図１０及び図１１は本発明に係る圧力式流
量制御装置の気体を窒素ガスとした場合の流量制御特性
を示すものであり、図１０はオリフィス５の下流側を約
１０ｔｏｒｒの真空とした場合、また、図１１はオリフ
ィス５の下流側を大気圧とした場合を夫々示すものであ
る。
【００５０】図１０及び図１１からも明らかなように、
上流側圧力Ｐ1 が下流側圧力Ｐ2 の約２倍を越える範囲
に於いては、流量ＱｃとＰ1 とはリニアな関係に保持さ
れている。尚、図１０及び図１１に於いて曲線Ａ、Ｂ、
Ｃは夫々オリフィス内径を０．３７ｍｍφ、０．２０ｍ
ｍφ、０．０７ｍｍφとした場合を示すものである。
【００５１】表１は、本発明に係る圧力式流量制御装置
と従前の差圧式流量制御装置の精度等を、圧力検出器の
測定範囲と精度を同一と仮定して比較したものである。
【００５２】
【表１】
【００５３】この表からも明らかなように、本件発明は
差圧式流量制御装置に比較して、流量測定精度や測定可
能範囲の点で優れていると共に、装置をより小形化でき
ることが判る。
【００５４】また、表２は、従前の標準的なマスフロー
コントローラと本願発明の特性等を比較したものであ
る。この表からも明らかなように、本願発明は低流量域
に於ける測定精度及び製造コスト等の点で、マスフロー
コントローラに優るものであることが判る。
【００５５】
【表２】
【００５６】
【発明の効果】本発明では上述の通り、オリフィスの上
流側圧力Ｐ1 をオリフィスの下流側圧力Ｐ2 の約２倍以
上に保持することにより、前記圧力Ｐ1 とオリフィス下
流側流量との間に一次函数関係を成立させ、これに基づ
いて前記上流側圧力Ｐ1 を調整することにより、下流側
流量Ｑｃを設定値に自動制御する構成としている。
【００５７】その結果、従前のマスフローコントローラ
に比較して、低流量域に於ける測定精度を高めることが
できると共に、故障も少なくすることができ、しかも、
製造コストの大幅な引下げを図り得る等の優れた効用が
得られる。
【００５８】また、本願発明では、従前の差圧式流量制
御装置に比較してより高い流量検出精度が得られると共
に、装置の小形化並びに製造コストの引下げを図ること
ができる。
【００５９】更に、本発明では、オリフィス上流側の圧
力Ｐ1 を制御することにより、オリフィス下流側流量を
圧力Ｐ1 の一次関数の型で得る構成としているため、所
謂流量のフィードバック制御が容易となり、制御装置の
安定性の向上や製造コストの引下げが可能となる。
【００６０】本発明は上述の通り、優れた実用的効用を
奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る圧力式流量制御装置の構成を示す
ブロック図である。
【図２】圧力式流量制御装置の縦断面図である。
【図３】圧力式流量制御装置の横断面図である。
【図４】コントロール弁の圧電素子形駆動部の縦断面図
である。
【図５】図４のイ−イ視断面図である。
【図６】圧力式流量制御装置の圧力検出器の取付部を示
す部分縦断面図である。
【図７】圧力式流量制御装置の他の実施例を示す縦断面
図である。
【図８】オリフィスをコントロール弁の弁本体に設けた
場合の他の例を示す部分縦断面図である。
【図９】オリフィスをコントロール弁の弁本体に設けた
場合の更に他の例を示す部分縦断面図である。
【図１０】本発明に係る圧力式流量制御装置の流量制御
特性を示すものである（オリフィスの下流側圧力が真空
の場合）。
【図１１】本発明に係る圧力式流量制御装置の流量制御
特性を示すものである（オリフィスの下流側圧力が大気
圧の場合）。
【図１２】従前の差圧式流量制御装置のブロック線図で
ある。
【符号の説明】 １は流量制御装置、２はコントロール弁、３は圧力検出
器、４は温度検出器、５はオリフィス、６は演算制御装
置、７ａ・７ｂは増幅器、８ａ・８ｂはＡ／Ｄ変換器、
９はオリフィス対応弁、９ａは弁本体、９ｂは流体入
口、９ｃは流体出口、１０は反転増幅器、１１はガス取
出し用継手、１２は弁本体、１２ａは流体入口、１２ｂ
は弁座、１２ｃは弁室、１２ｄは圧力検出器取付孔、１
２ｅは流体出口、１２ｆはオリフィス取付孔、１２ｇは
オリフィス挿入孔、１３はダイヤフラム、１４は駆動
部、１４ａは圧電素子、１５は皿バネ、１６はダイヤフ
ラム押え、１７はベース本体、１８はボール、１９は圧
電素子支持材、２０はストローク調整ねじ、２１は押え
ナット、２２はＯリング、２３はスリーブ、２４・２７
はベアリング、２５は取付ねじ、２６は締付押え体。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 皆見 幸男 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 川田 幸司 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 土肥 亮介 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 福田 浩幸 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (56)参考文献 特開 平８−335117（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−52035（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−98217（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−192810（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−131663（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−108670（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭61−176609（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭63−130806（ＪＰ，Ｕ) 米国特許5148829（ＵＳ，Ａ) 米国特許5365795（ＵＳ，Ａ) 米国特許5146941（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G05D 7/00 - 7/06 G05D 16/00 F16K 31/00 - 31/04 F16K 17/20 - 17/34 F16K 37/00

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 オリフィスの上流側圧力Ｐ1 を下流側圧
    力Ｐ2 の約２倍以上に保持した状態で流体の流量制御を
    行なう圧力式流量制御装置に於いて、金属薄板に微小な
    孔を穿設して形成され、上流側と下流側の気体の圧力比
    が前記約２倍以上で且つ前記孔の径が一定の場合には、
    気体の種類に拘わらず前記孔を通過する気体の流量が上
    流側圧力Ｐ 1 に正比例する流量特性を具備したオリフィ
    ス（５）と，オリフィス（５）の上流側に設けたコント
    ロール弁（２）と，コントロール弁（２）とオリフィス
    （５）間に設けた圧力検出器（３）と，圧力検出器
    （３）の検出圧力Ｐ1 から流量ＱｃをＱｃ＝ＫＰ1 （但
    しＫは定数）として演算すると共に、流量指令信号Ｑｓ
    と前記演算した流量信号Ｑｃとの差を制御信号Ｑｙとし
    て前記コントロール弁（２）の駆動部（１４）へ出力す
    る演算制御装置（６）とから構成され、コントロール弁
    （２）の開閉によりオリフィス上流側圧力Ｐ1を調整
    し、オリフィス下流側流量を制御することを特徴とする
    圧力式流量制御装置。
  2. 【請求項２】 演算制御装置（６）を、圧力検出器
    （３）の検出圧力Ｐ 1 から流量ＱｃをＱｃ＝ＫＰ 1 （但
    しＫは定数）として演算すると共に、演算した前記流量
    Ｑｃの値をオリフィス（５）の上流側の気体温度Ｔ 1 に
    応じて補正するための温度補正回路（６ａ）を備え、流
    量指令信号Ｑｓと前記温度補正回路（６ａ）からの演算
    した流量信号Ｑｃとの差を制御信号Ｑｙとして前記コン
    トロール弁（２）の駆動部（１４）へ出力する演算制御
    装置（６）とした請求項１に記載の圧力式流量制御装
    置。
  3. 【請求項３】 オリフィス（５）を交換自在に取付けす
    る構成とした請求項１に記載の圧力式流量制御装置。
  4. 【請求項４】 コントロール弁（２）の弁本体（１２）
    に圧力検出器（３）の取付孔（１２ｄ）及びオリフィス
    （５）の取付孔（１２ｆ）を夫々設け、コントロール弁
    （２）の弁本体（１２）をブロック化して成る請求項１
    に記載の圧力式流量制御装置。
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IL11858696A IL118586A (en) 1995-06-12 1996-06-05 Fluid pressure flow rate control apparatus
US08/661,181 US5669408A (en) 1995-06-12 1996-06-10 Pressure type flow rate control apparatus
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7363810B2 (en) 2003-04-16 2008-04-29 Fujikin Incorporated Corrosion resistant metal made thermal type mass flow rate sensor and a fluid supply device using the same
US7654137B2 (en) 2004-02-24 2010-02-02 Fujikin Incorporated Corrosion-resistant metal made sensor for fluid and a fluid supply device for which the sensor is employed
TWI488017B (zh) * 2011-05-10 2015-06-11 Fujikin Kk Pressure flow control device with flow monitor, and its memory method and actual gas monitoring flow output confirmation method
US9556518B2 (en) 2011-07-08 2017-01-31 Fujikin Incorporated Raw material gas supply apparatus for semiconductor manufacturing equipment
KR20170033237A (ko) 2015-09-16 2017-03-24 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 가스 공급계를 검사하는 방법
US9631777B2 (en) 2011-09-06 2017-04-25 Fujikin Incorporated Raw material vaporizing and supplying apparatus equipped with raw material concentration
US10274972B2 (en) 2015-09-16 2019-04-30 Tokyo Electron Limited Method of inspecting gas supply system

Families Citing this family (134)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2837112B2 (ja) * 1995-06-09 1998-12-14 株式会社平井 音速ノズルを用いた質量流量制御方法および装置
JP3580645B2 (ja) * 1996-08-12 2004-10-27 忠弘 大見 圧力式流量制御装置
US6062256A (en) * 1997-02-11 2000-05-16 Engineering Measurements Company Micro mass flow control apparatus and method
JPH10268942A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Nippon Aera Kk 音速ノズルを用いた流量制御弁
JPH10275018A (ja) * 1997-03-31 1998-10-13 Hitachi Metals Ltd マスフローコントローラ
DE59807194D1 (de) * 1997-04-18 2003-03-20 Zahnradfabrik Friedrichshafen Druckregelventil
JP3586075B2 (ja) * 1997-08-15 2004-11-10 忠弘 大見 圧力式流量制御装置
EP0931941B1 (en) 1997-08-15 2005-12-28 Fujikin Inc. Orifice for pressure type flow rate control unit and process for manufacturing orifice
JPH11212653A (ja) * 1998-01-21 1999-08-06 Fujikin Inc 流体供給装置
JPH11265216A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Omi Tadahiro 圧力式流量制御装置
JPH11265217A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Omi Tadahiro 圧力式流量制御装置
US6076637A (en) * 1998-03-23 2000-06-20 Tranergy Corporation Top-of-rail lubrication rate control by the hydraulic pulse width modulation method
JPH11280932A (ja) * 1998-03-31 1999-10-15 Taiheiyo Cement Corp 駆動装置
SE9801588D0 (sv) * 1998-05-05 1998-05-05 Swiss Fed Inst Of Tech Zuerich Electromagnetic valve for gaseous fluids
JP3522535B2 (ja) * 1998-05-29 2004-04-26 忠弘 大見 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備
EP0973080B1 (en) * 1998-07-17 2004-06-09 Horiba, Ltd. Gas flow rate control apparatus
JP3604059B2 (ja) * 1998-07-17 2004-12-22 株式会社堀場製作所 部分希釈方式のガス希釈システム
JP3604060B2 (ja) * 1998-07-17 2004-12-22 株式会社堀場製作所 希釈用ガス流量制御装置
JP3522544B2 (ja) * 1998-08-24 2004-04-26 忠弘 大見 流体可変型流量制御装置
US6302130B1 (en) * 1998-08-24 2001-10-16 Fujikin Incorporated Method and apparatus for detection of orifice clogging in pressure-type flow rate controllers
JP2000075931A (ja) * 1998-08-31 2000-03-14 Stec Kk 流路絞りノズルを備えた制御バルブ
US6152162A (en) * 1998-10-08 2000-11-28 Mott Metallurgical Corporation Fluid flow controlling
JP3684307B2 (ja) * 1998-10-19 2005-08-17 シーケーディ株式会社 ガス供給制御装置
JP4287935B2 (ja) * 1999-01-14 2009-07-01 株式会社堀場エステック ピエゾ方式の流量調整弁駆動部構造
JP3577236B2 (ja) * 1999-03-11 2004-10-13 シーケーディ株式会社 ガス供給制御装置
JP3387849B2 (ja) * 1999-05-10 2003-03-17 株式会社フジキン フローファクターによる流体可変型流量制御方法およびその装置
JP3626874B2 (ja) * 1999-04-16 2005-03-09 忠弘 大見 並列分流型の流体供給装置
WO2000063756A1 (fr) * 1999-04-16 2000-10-26 Fujikin Incorporated Dispositif d'alimentation en fluide du type derivation parallele, et procede et dispositif de commande du debit d'un systeme de pression du type a fluide variable utilise dans ledit dispositif
US6210482B1 (en) * 1999-04-22 2001-04-03 Fujikin Incorporated Apparatus for feeding gases for use in semiconductor manufacturing
US6155289A (en) * 1999-05-07 2000-12-05 International Business Machines Method of and system for sub-atmospheric gas delivery with backflow control
US6192922B1 (en) 1999-06-01 2001-02-27 Synetics Solutions Inc. Airflow control valve for a clean room
US6302139B1 (en) 1999-07-16 2001-10-16 Advanced Technology Materials, Inc. Auto-switching gas delivery system utilizing sub-atmospheric pressure gas supply vessels
US6581623B1 (en) 1999-07-16 2003-06-24 Advanced Technology Materials, Inc. Auto-switching gas delivery system utilizing sub-atmospheric pressure gas supply vessels
JP3554509B2 (ja) * 1999-08-10 2004-08-18 忠弘 大見 圧力式流量制御装置における流量異常検知方法
JP2001147722A (ja) * 1999-11-22 2001-05-29 Ace:Kk ガス流量制御装置
JP2001201414A (ja) * 2000-01-20 2001-07-27 Smc Corp 複合センサ及び複合センサを備えたフローコントローラ
US6830060B2 (en) * 2000-06-27 2004-12-14 Siemens Vdo Automotive, Inc. Air mass flow controller valve
US20040025598A1 (en) * 2000-09-21 2004-02-12 Festo Ag & Co. Integrated fluid sensing device
US6832628B2 (en) * 2000-10-11 2004-12-21 Flowmatrix, Inc. Variable pressure regulated flow controllers
US6631334B2 (en) * 2000-12-26 2003-10-07 Mks Instruments, Inc. Pressure-based mass flow controller system
US6564824B2 (en) 2001-04-13 2003-05-20 Flowmatrix, Inc. Mass flow meter systems and methods
AU2002307547A1 (en) 2001-04-24 2002-11-05 Unit Instruments, Inc. System and method for configuring and asapting a mass flow controller
US6711956B2 (en) * 2001-10-31 2004-03-30 Macronix International Co., Ltd. Method and apparatus for regulating exhaust pressure in evacuation system of semiconductor process chamber
JP4082901B2 (ja) * 2001-12-28 2008-04-30 忠弘 大見 圧力センサ、圧力制御装置及び圧力式流量制御装置の温度ドリフト補正装置
JP2003270010A (ja) * 2002-03-19 2003-09-25 Ckd Corp 流量設定装置及び流量計測器
JP3856730B2 (ja) 2002-06-03 2006-12-13 東京エレクトロン株式会社 流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給方法。
EP1523701A2 (en) * 2002-07-19 2005-04-20 Celerity Group, Inc. Methods and apparatus for pressure compensation in a mass flow controller
JP4669193B2 (ja) * 2002-10-16 2011-04-13 忠弘 大見 圧力式流量制御装置の温度測定装置
JP4137612B2 (ja) * 2002-12-02 2008-08-20 株式会社フジキン レイノルズ数と流出係数の対応関係の測定方法
US6769299B2 (en) * 2003-01-08 2004-08-03 Fetso Corporation Integral dual technology flow sensor
JP4195819B2 (ja) * 2003-01-17 2008-12-17 忠弘 大見 弗化水素ガスの流量制御方法及びこれに用いる弗化水素ガス用流量制御装置
JP3863505B2 (ja) 2003-06-20 2006-12-27 忠弘 大見 圧力センサ及び圧力制御装置並びに圧力式流量制御装置の自動零点補正装置
JP4195837B2 (ja) 2003-06-20 2008-12-17 東京エレクトロン株式会社 ガス分流供給装置及びガス分流供給方法
JP4351495B2 (ja) * 2003-07-16 2009-10-28 株式会社堀場エステック 流量比率制御装置
JP4331539B2 (ja) * 2003-07-31 2009-09-16 株式会社フジキン チャンバへのガス供給装置及びこれを用いたチャンバの内圧制御方法
JP2005079141A (ja) * 2003-08-28 2005-03-24 Asm Japan Kk プラズマｃｖｄ装置
JP4399227B2 (ja) 2003-10-06 2010-01-13 株式会社フジキン チャンバの内圧制御装置及び内圧被制御式チャンバ
US6901794B2 (en) * 2003-10-16 2005-06-07 Festo Corporation Multiple technology flow sensor
US6973375B2 (en) * 2004-02-12 2005-12-06 Mykrolis Corporation System and method for flow monitoring and control
JP2005307233A (ja) * 2004-04-19 2005-11-04 Tokyo Electron Ltd 成膜装置及び成膜方法及びプロセスガスの供給方法
JP4421393B2 (ja) * 2004-06-22 2010-02-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
US7117104B2 (en) * 2004-06-28 2006-10-03 Celerity, Inc. Ultrasonic liquid flow controller
US7216019B2 (en) * 2004-07-08 2007-05-08 Celerity, Inc. Method and system for a mass flow controller with reduced pressure sensitivity
JP4560394B2 (ja) * 2004-12-13 2010-10-13 長州産業株式会社 薄膜形成用分子供給装置
US20060219301A1 (en) * 2005-04-05 2006-10-05 Reid Kenneth E Ii System and method for maintaining pressure and flow in a vent header
US9921089B2 (en) 2005-06-27 2018-03-20 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
US9383758B2 (en) 2005-06-27 2016-07-05 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
JP4856905B2 (ja) 2005-06-27 2012-01-18 国立大学法人東北大学 流量レンジ可変型流量制御装置
US7360448B2 (en) * 2005-08-12 2008-04-22 Celerity, Inc. Ultrasonic flow sensor having reflecting interface
JP4690827B2 (ja) 2005-08-26 2011-06-01 株式会社フジキン ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置
JP4911933B2 (ja) * 2005-08-31 2012-04-04 サーパス工業株式会社 圧力計および圧力計組立体
JP4866682B2 (ja) 2005-09-01 2012-02-01 株式会社フジキン 圧力センサを保有する流量制御装置を用いた流体供給系の異常検出方法
JP2007102754A (ja) * 2005-09-09 2007-04-19 Advance Denki Kogyo Kk 流量制御装置
US7814936B2 (en) * 2005-11-16 2010-10-19 Fisher Controls International Llc Sound pressure level feedback control
JP4820698B2 (ja) 2006-07-03 2011-11-24 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置の絞り機構下流側バルブの作動異常検出方法
US20080029170A1 (en) * 2006-08-02 2008-02-07 O'reilly Edward Three-in-one valve and control system
JP5372353B2 (ja) 2007-09-25 2013-12-18 株式会社フジキン 半導体製造装置用ガス供給装置
JP5054500B2 (ja) * 2007-12-11 2012-10-24 株式会社フジキン 圧力制御式流量基準器
US20100269924A1 (en) * 2007-12-27 2010-10-28 Horiba Stec, Co., Ltd. Flow rate ratio controlling apparatus
JP5461786B2 (ja) 2008-04-01 2014-04-02 株式会社フジキン 気化器を備えたガス供給装置
JP5027729B2 (ja) 2008-04-25 2012-09-19 株式会社フジキン 流量自己診断機能を備えた圧力式流量制御装置の圧力制御弁用駆動回路
JP5430007B2 (ja) * 2008-05-21 2014-02-26 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置を用いた流体の非連続式流量切替制御方法
US7826986B2 (en) * 2008-09-26 2010-11-02 Advanced Energy Industries, Inc. Method and system for operating a mass flow controller
EP2335126A1 (en) * 2008-10-14 2011-06-22 Circor Instrumentation Technologies, Inc. Method and apparatus for low powered and/or high pressure flow control
DE102008055854B4 (de) * 2008-11-04 2011-05-12 Abb Technology Ag Elektropneumatischer Wandler mit einem pneumatischen Druckregelventil
WO2011067877A1 (ja) 2009-12-01 2011-06-09 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
JP5669384B2 (ja) 2009-12-01 2015-02-12 株式会社フジキン 圧電駆動式バルブ及び圧電駆動式流量制御装置
US20110226354A1 (en) * 2010-03-17 2011-09-22 Petur Thordarson Flow Controller
US9157643B2 (en) * 2010-10-14 2015-10-13 Fimcim S.P.A. Conditioning plant
GB201109290D0 (en) * 2011-06-02 2011-07-20 Linde Ag A flow apparatus and monitoring system relating thereto
US9958302B2 (en) 2011-08-20 2018-05-01 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US9188989B1 (en) 2011-08-20 2015-11-17 Daniel T. Mudd Flow node to deliver process gas using a remote pressure measurement device
JP5754853B2 (ja) * 2012-01-30 2015-07-29 株式会社フジキン 半導体製造装置のガス分流供給装置
JP5665793B2 (ja) * 2012-04-26 2015-02-04 株式会社フジキン 可変オリフィス型圧力制御式流量制御器
JP5868815B2 (ja) * 2012-09-03 2016-02-24 株式会社堀場エステック 流量制御装置
US9454158B2 (en) 2013-03-15 2016-09-27 Bhushan Somani Real time diagnostics for flow controller systems and methods
JP5775110B2 (ja) 2013-03-26 2015-09-09 株式会社フジキン 流量制御装置用の流量制御弁
JP6306286B2 (ja) 2013-04-25 2018-04-04 株式会社フジキン 流量制御用のオリフィスプレート及びこれを用いた圧力式流量制御装置
KR102155810B1 (ko) * 2013-09-04 2020-09-14 가부시키가이샤 호리바 에스텍 인터레이스 리프팅 기구
US20150101677A1 (en) * 2013-10-15 2015-04-16 Continental Automotive Systems, Inc. Integrated pressure transducer in a latching valve
JP6216389B2 (ja) 2013-10-31 2017-10-18 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
JP6372998B2 (ja) 2013-12-05 2018-08-15 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
JP6321972B2 (ja) * 2014-01-21 2018-05-09 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法
US10156295B2 (en) 2014-02-24 2018-12-18 Fujikin Incorporated Piezoelectric linear actuator, piezoelectrically driven valve, and flow rate control device
CN106104222B (zh) * 2014-03-20 2018-10-26 日立金属株式会社 热式质量流量计和使用该热式质量流量计的质量流量控制装置
US9605346B2 (en) * 2014-03-28 2017-03-28 Lam Research Corporation Systems and methods for pressure-based liquid flow control
CN105204532A (zh) * 2014-06-18 2015-12-30 中国科学院大连化学物理研究所 一种用于离子迁移谱的气体流量控制装置
JP6416529B2 (ja) 2014-07-23 2018-10-31 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
US9904299B2 (en) * 2015-04-08 2018-02-27 Tokyo Electron Limited Gas supply control method
KR102371907B1 (ko) * 2015-07-10 2022-03-08 피포탈 시스템즈 코포레이션 가스 흐름 제어 방법 및 장치
CN107925368B (zh) 2015-08-21 2019-06-18 株式会社富士金 压电式线性致动器、压电驱动阀以及流量控制装置
KR102152048B1 (ko) * 2016-03-29 2020-09-04 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치 및 유량 자기 진단 방법
US10303189B2 (en) 2016-06-30 2019-05-28 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US10838437B2 (en) 2018-02-22 2020-11-17 Ichor Systems, Inc. Apparatus for splitting flow of process gas and method of operating same
US11144075B2 (en) 2016-06-30 2021-10-12 Ichor Systems, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US10679880B2 (en) 2016-09-27 2020-06-09 Ichor Systems, Inc. Method of achieving improved transient response in apparatus for controlling flow and system for accomplishing same
JP6600854B2 (ja) 2016-08-24 2019-11-06 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置、その流量算出方法および流量制御方法
WO2018047644A1 (ja) * 2016-09-12 2018-03-15 株式会社堀場エステック 流量比率制御装置、流量比率制御装置用プログラム、及び、流量比率制御方法
US10663337B2 (en) 2016-12-30 2020-05-26 Ichor Systems, Inc. Apparatus for controlling flow and method of calibrating same
EP3566107A1 (en) 2017-01-09 2019-11-13 Saudi Arabian Oil Company Gas assisted chemical injection system
US10983538B2 (en) 2017-02-27 2021-04-20 Flow Devices And Systems Inc. Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller
US11073215B2 (en) * 2017-07-31 2021-07-27 Fujikin Incorporated Gas supply system
JP7217742B2 (ja) 2018-04-19 2023-02-03 株式会社堀場エステック 流量制御装置、診断方法、及び、流量制御装置用プログラム
JP2020067689A (ja) 2018-10-22 2020-04-30 東京エレクトロン株式会社 検査方法及び検査装置
JP2020067690A (ja) 2018-10-22 2020-04-30 東京エレクトロン株式会社 検査方法及び流量制御器
KR102436497B1 (ko) * 2019-11-01 2022-08-26 주식회사 엘지화학 폴리이미드 공중합체 및 이를 포함하는 폴리이미드 필름
US11927273B2 (en) 2019-11-18 2024-03-12 Swagelok Company Arrangements and methods for controlled valve flow rate
KR20220047806A (ko) 2019-12-27 2022-04-19 가부시키가이샤 후지킨 유량 제어 장치 및 유량 제어 방법
RU198735U1 (ru) * 2020-06-02 2020-07-24 Общество с ограниченной ответственностью "Промавтоматика-Саров" Клапан отсекатель
JP7424322B2 (ja) * 2021-01-19 2024-01-30 Smc株式会社 流体圧力制御装置
KR20230150309A (ko) 2021-03-03 2023-10-30 아이커 시스템즈, 인크. 매니폴드 조립체를 포함하는 유체 유동 제어 시스템
US11585206B2 (en) 2021-03-09 2023-02-21 Saudi Arabian Oil Company Injection of additives into a produced hydrocarbon line
US11920784B2 (en) 2021-05-10 2024-03-05 Saudi Arabian Oil Company Total flare gas recovery system
KR20240010031A (ko) * 2021-08-31 2024-01-23 가부시키가이샤 후지킨 다이어프램 밸브 및 유량 제어장치

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2045177B (en) * 1979-03-16 1982-10-20 Lucas Industries Ltd High pressure hydraulic systems
US4431020A (en) * 1981-10-08 1984-02-14 Marotta Scientific Controls, Inc. Flow-control system having a wide range of flow-rate control
DE3247325C2 (de) * 1982-12-21 1990-02-15 Grünbeck Wasseraufbereitung GmbH, 8884 Höchstädt Rohrtrenner
US4508127A (en) * 1983-03-30 1985-04-02 The Garrett Corporation Fuel mass flow measurement and control system
SE8801299L (sv) * 1988-04-08 1989-10-09 Bertil Hoeoek Mikromekanisk envaegsventil
US4836233A (en) * 1988-06-06 1989-06-06 Eclipse Ion Technology, Inc. Method and apparatus for venting vacuum processing equipment
US5146941A (en) * 1991-09-12 1992-09-15 Unitech Development Corp. High turndown mass flow control system for regulating gas flow to a variable pressure system
US5148829A (en) * 1991-10-25 1992-09-22 Deville Wayne E Multi-orifice plate and fitting with positioner and differential selector
GB9212122D0 (en) * 1992-06-09 1992-07-22 Technolog Ltd Water supply pressure control apparatus
US5190068A (en) * 1992-07-02 1993-03-02 Brian Philbin Control apparatus and method for controlling fluid flows and pressures

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7363810B2 (en) 2003-04-16 2008-04-29 Fujikin Incorporated Corrosion resistant metal made thermal type mass flow rate sensor and a fluid supply device using the same
US7654137B2 (en) 2004-02-24 2010-02-02 Fujikin Incorporated Corrosion-resistant metal made sensor for fluid and a fluid supply device for which the sensor is employed
TWI488017B (zh) * 2011-05-10 2015-06-11 Fujikin Kk Pressure flow control device with flow monitor, and its memory method and actual gas monitoring flow output confirmation method
TWI492014B (zh) * 2011-05-10 2015-07-11 Fujikin Kk And a method of detecting a flow abnormality when the flow rate is abnormally detected by the flow rate monitoring device and the fluid supply system using the flow control device
US9494947B2 (en) 2011-05-10 2016-11-15 Fujikin Incorporated Pressure type flow control system with flow monitoring
US9632511B2 (en) 2011-05-10 2017-04-25 Fujikin Incorporated Pressure type flow control system with flow monitoring, and method for detecting anomaly in fluid supply system and handling method at abnormal monitoring flow rate using the same
US9870006B2 (en) 2011-05-10 2018-01-16 Fujikin Incorporated Pressure type flow control system with flow monitoring
US10386861B2 (en) 2011-05-10 2019-08-20 Fujikin Incorporated Pressure type flow control system with flow monitoring, and method for detecting anomaly in fluid supply system and handling method at abnormal monitoring flow rate using the same
US9556518B2 (en) 2011-07-08 2017-01-31 Fujikin Incorporated Raw material gas supply apparatus for semiconductor manufacturing equipment
US9631777B2 (en) 2011-09-06 2017-04-25 Fujikin Incorporated Raw material vaporizing and supplying apparatus equipped with raw material concentration
KR20170033237A (ko) 2015-09-16 2017-03-24 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 가스 공급계를 검사하는 방법
US10274972B2 (en) 2015-09-16 2019-04-30 Tokyo Electron Limited Method of inspecting gas supply system

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