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KR101814843B1 - The printed circuit board and the method for manufacturing the same - Google Patents

The printed circuit board and the method for manufacturing the same Download PDF

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KR101814843B1
KR101814843B1 KR1020130014549A KR20130014549A KR101814843B1 KR 101814843 B1 KR101814843 B1 KR 101814843B1 KR 1020130014549 A KR1020130014549 A KR 1020130014549A KR 20130014549 A KR20130014549 A KR 20130014549A KR 101814843 B1 KR101814843 B1 KR 101814843B1
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KR
South Korea
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layer
insulating layer
layers
insulating
adhesive layer
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KR1020130014549A
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Inventor
박충식
김덕남
안재현
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엘지이노텍 주식회사
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    • HELECTRICITY
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

본 발명은 제1 절연층, 상기 제1 절연층 위의 제2 절연층, 상기 제1 절연층 아래의 제3 절연층, 상기 제2 절연층 위의 제4 절연층, 그리고 상기 제1 내지 제4 절연층을 관통하며, 층상구조를 가지는 적어도 하나의 비아를 포함하며, 상기 비아는 제1 절연층을 관통하는 제1 비아층, 상기 제2 절연층을 관통하며 상기 제1 비아층 위에 형성되는 제2 비아층, 상기 제3 절연층을 관통하며 상기 제1 비아층 아래에 형성되는 제3 비아층, 상기 제4 절연층을 관통하며 상기 제2 비아층 위에 형성되는 제4 비아층, 그리고 상기 제1 내지 제4 비아층 사이에 각각 형성되는 복수의 접착층
을 포함하며, 상기 제1 및 제3 비아층은 상기 제2 및 제4 비아층과 대칭적으로 형성되며, 상기 제1 및 제3 비아층의 형상이 동일하고, 상기 제2 및 제4 비아층의 형상이 동일한 인쇄회로기판에 대한 것이다. 따라서, 구리층과 절연층의 접착성이 향상되고, 복수의 절연층 사이에서 층간 회로 연결을 위한 비아를 레이저 또는 연마 공정으로 진행하지 않고 식각으로 진행함으로써 공정성이 향상되고 원가가 절감된다.
The present invention provides a semiconductor device comprising a first insulating layer, a second insulating layer on the first insulating layer, a third insulating layer below the first insulating layer, a fourth insulating layer on the second insulating layer, 4 at least one via through the insulating layer, the via having a layered structure, the via comprising a first via layer through the first insulating layer, a second via layer extending through the second insulating layer and formed over the first via layer A second via layer, a third via layer formed through the third insulating layer and below the first via layer, a fourth via layer extending through the fourth insulating layer and formed over the second via layer, A plurality of adhesive layers respectively formed between the first to fourth via layers
Wherein the first and third via layers are symmetrically formed with the second and fourth via layers, wherein the first and third via layers have the same shape, and the second and fourth via layers For the same printed circuit board. Therefore, the adhesion between the copper layer and the insulating layer is improved, and the vias for interlayer circuit connection between the plurality of insulating layers are etched without proceeding to the laser or polishing process, thereby improving the processability and reducing the cost.

Description

인쇄회로기판 및 그의 제조 방법{The printed circuit board and the method for manufacturing the same}[0001] The present invention relates to a printed circuit board and a method of manufacturing the same,

본 발명은 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a printed circuit board and a method of manufacturing the same.

회로 기판은 전기 절연성 기판에 회로 패턴을 포함하는 것으로서, 전자 부품 등을 탑재하기 위한 기판이다.The circuit board includes a circuit pattern on an electrically insulating substrate, and is a substrate for mounting electronic components or the like.

근래 회로 기판 중 박막 다층 회로 기판이 제안되고 있으며, 이를 위하여 중심 절연층, 즉 공정 중 휨을 지지할 수 있는 지지기판을 얇게 형성하는 다양한 시도가 제안되고 있다.In recent years, a thin film multilayer circuit board has been proposed. For this purpose, various attempts have been made to form a thinner support substrate capable of supporting a central insulation layer, that is, a bending in the process.

도 1은 종래의 인쇄회로기판을 나타낸 것이다.1 shows a conventional printed circuit board.

종래의 인쇄회로기판(10)은 복수의 다층 절연층(1) 사이에 다층의 회로 패턴(4, 5)이 형성되어 있으며, 상기 회로 패턴(4, 5)을 서로 연결하기 위한 비아(2, 3)가 형성되어 있다.The conventional printed circuit board 10 has multilayered circuit patterns 4 and 5 formed between a plurality of multilayered insulating layers 1 and has vias 2 and 3 for connecting the circuit patterns 4 and 5 to each other, 3 are formed.

이때, 상기 비아(2, 3)는 기계적인 홀 가공 후 전도성 페이스트를 채워 넣거나 레이저 드릴 방식으로 홀 가공 후 도금 등을 통하여 형성한다.At this time, the vias 2 and 3 are formed by filling the conductive paste after the mechanical hole processing, or by hole-processing by the laser drilling method and plating or the like.

이때, 전도성 페이스트에 의한 비아(2)는 비아(2)의 크기가 커 도금으로 형성하기 어려운 경우 적용되나 상기 전도성 페이스트에 의해 형성된 비아(2)는 전기저항이 커 전달 신호에 노이즈를 포함하게 되어 신뢰성이 떨어진다.At this time, the via 2 formed by the conductive paste is applied when it is difficult to form the via 2 because of the large size of the via 2, but the via 2 formed by the conductive paste has a high electrical resistance, Reliability is poor.

한편, 레이져 드릴링에 의해 형성되는 비아(3)는 복수의 절연층(1)에 대하여 각 절연층(1)마다 홀 공정을 수행하여야 하는 경제적인 문제가 있다.On the other hand, the via 3 formed by laser drilling has an economical problem in that a hole process must be performed for each insulating layer 1 with respect to a plurality of insulating layers 1.

실시예는 새로운 구조를 가지는 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법을 제공한다.An embodiment provides a printed circuit board having a new structure and a method of manufacturing the same.

실시예는 단순한 공정으로 비아를 형성하는 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법을 제공한다.The embodiments provide printed circuit boards that form vias in a simple process and methods of making the same.

실시예는 제1 절연층, 상기 제1 절연층 위의 제2 절연층, 그리고 상기 제1 및 제2 절연층을 관통하며, 층상구조를 가지는 적어도 하나의 비아를 포함하며, 상기 비아는 제1 절연층을 관통하는 제1 비아층, 상기 제2 절연층을 관통하며 상기 제1 비아층 위에 형성되는 제2 비아층, 상기 제1 및 제2 비아층 사이에 형성되는 접착층을 포함하며, 상기 제1 및 제2 비아층은 서로 다른 단면을 가지는 인쇄회로기판을 청구한다.An embodiment includes a first insulating layer, a second insulating layer over the first insulating layer, and at least one via through the first and second insulating layers and having a layered structure, A first via layer passing through the insulating layer, a second via layer passing through the second insulating layer and formed on the first via layer, and an adhesive layer formed between the first and second via layers, 1 and the second via layer have different cross-sections.

한편, 실시예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법은 복수의 벌크 금속층의 비아 영역에 비아홈을 각각 형성하여 비아층을 형성하는 단계, 하나의 상기 벌크 금속층의 비아홈에 제1 절연층을 매립하는 단계, 하나의 상기 벌크 금속층의 복수의 상기 비아층 위에 접착층을 형성하는 단계, 상기 접착층 위에 다른 하나의 상기 벌크 금속층의 상기 비아층이 정렬하도록 배치하고, 상기 비아홈에 제2 절연층을 매립하면서 복수의 상기 벌크 금속층을 부착하는 단계, 상기 제1 및 제2 절연층이 노출되도록 상기 벌크 금혹층을 식각하는 단계를 포함한다.Meanwhile, a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention includes the steps of forming a via layer in a via region of a plurality of bulk metal layers to form a via layer, filling a via hole of one of the bulk metal layers with a first insulating layer Forming an adhesive layer on the plurality of via layers of one of the bulk metal layers so as to align the via layers of the other bulk metal layer on the adhesive layer while filling the via holes with a second insulating layer Depositing a plurality of the bulk metal layers, and etching the bulk gold layer to expose the first and second insulating layers.

본 발명에 따르면, 구리층과 절연층의 접착성이 향상되고, 벌크 구리를 사용함으로써 방열 특성이 향상된다.According to the present invention, the adhesion between the copper layer and the insulating layer is improved, and the use of the bulk copper improves the heat radiation characteristic.

또한, 복수의 절연층 사이에서 층간 회로 연결을 위한 비아를 레이저 또는 연마 공정으로 진행하지 않고 식각으로 진행함으로써 공정성이 향상되고 원가가 절감된다.In addition, the vias for interlayer circuit connection between a plurality of insulating layers are etched without proceeding to a laser or a polishing process, thereby improving the processability and reducing the cost.

도 1은 종래의 인쇄회로기판의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 인쇄회로기판이 적용되어 있는 소자 칩 패키지의 단면도이다.
도 3 내지 도 16은 도 2의 인쇄회로기판을 제조하기 위한 방법을 나타내는 단면도이다.
도 17은 도 2의 인쇄회로기판을 이용한 소자 칩 패키지를 나타내는 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of a conventional printed circuit board.
2 is a cross-sectional view of a device chip package to which a printed circuit board according to an embodiment of the present invention is applied.
Figs. 3 to 16 are cross-sectional views showing a method for manufacturing the printed circuit board of Fig.
FIG. 17 is a cross-sectional view showing a device chip package using the printed circuit board of FIG. 2;

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. Throughout the specification, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements as well, without excluding other elements unless specifically stated otherwise.

그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하고, 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.In order to clearly illustrate the present invention in the drawings, thicknesses are enlarged in order to clearly illustrate various layers and regions, and parts not related to the description are omitted, and like parts are denoted by similar reference numerals throughout the specification .

층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.Whenever a portion of a layer, film, region, plate, or the like is referred to as being "on" another portion, it includes not only the case where it is "directly on" another portion, but also the case where there is another portion in between. Conversely, when a part is "directly over" another part, it means that there is no other part in the middle.

본 발명은 비아홀 형성 시 레이저 드릴링을 사용하지 않는 인쇄회로기판을 제공한다.The present invention provides a printed circuit board that does not use laser drilling during via hole formation.

이하에서는 도 2 내지 도 16을 참고하여 본 발명의 실시예에 따른 방열회로 기판을 설명한다. Hereinafter, a heat radiation circuit board according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 to 16. FIG.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판이 적용된 패키지(100)의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a package 100 to which a printed circuit board and a printed circuit board according to an embodiment of the present invention are applied.

도 2를 참고하면, 본 발명에 따른 소자 칩 패키지(100)는 인쇄회로기판 및 상기 인쇄회로기판 상에 탑재되어 잇는 소자 칩(200)을 포함한다.Referring to FIG. 2, the device chip package 100 according to the present invention includes a printed circuit board and a device chip 200 mounted on the printed circuit board.

상기 인쇄회로기판은 복수의 절연층(120, 150, 176, 186), 상기 복수의 절연층(120, 150, 176, 186) 사이를 관통하는 복수의 비아 및 상기 비아를 덮는 커버레이(195)를 포함한다.The printed circuit board includes a plurality of insulating layers 120, 150, 176 and 186, a plurality of vias passing between the plurality of insulating layers 120, 150, 176 and 186, and a coverlay 195 covering the vias. .

상기 복수의 절연층(120, 150, 176, 186)은 제1 절연층(120) 및 상기 제1 절연층(120)의 상부에 형성되어 있는 제2 절연층(150), 상기 제1 및 제2 절연층(120, 150)의 상부 및 하부에 각각 형성되어 있는 제3 및 제4 절연층(176, 186)을 포함한다. The plurality of insulating layers 120, 150, 176 and 186 may include a first insulating layer 120 and a second insulating layer 150 formed on the first insulating layer 120, And third and fourth insulating layers 176 and 186 formed on upper and lower portions of the first and second insulating layers 120 and 150, respectively.

상기 제1 내지 제4 절연층(120, 150, 176, 186)은 열전도도(약 0.2 ~ 0.4W/mk)가 낮은 에폭시계 절연 수지를 포함할 수 있으며, 이와 달리 열전도도가 상대적으로 높은 폴리 이미드계 수지를 포함할 수도 있다. 또한 상기 제1 내지 제4 절연층(120, 150, 176, 186)은 동일한 물질로 형성될 수 있으며, 이와 달리 서로 다른 물질로 형성될 수 있다.The first to fourth insulating layers 120, 150, 176, and 186 may include an epoxy-based insulating resin having a low thermal conductivity (about 0.2 to 0.4 W / mK) Imide-based resin. Also, the first to fourth insulating layers 120, 150, 176, and 186 may be formed of the same material or different materials.

또한, 제1 절연층 내지 제4 절연층(120, 150, 176, 186)은 이웃한 비아 사이를 충진하며 형성되며, 상기 비아의 형상에 따라 단면이 서로 다른 형상을 가진다.In addition, the first to fourth insulating layers 120, 150, 176, and 186 are formed by filling between adjacent vias, and have different shapes in cross section depending on the shape of the vias.

상기 복수의 비아는 서로 이격되어 있으며, 인쇄회로기판의 상면으로부터 하면까지 관통되어 있는 쓰루 비아일 수 있다.The plurality of vias are spaced apart from each other and may be through vias penetrating from the upper surface to the lower surface of the printed circuit board.

각각의 비아는 복수의 층을 포함하는 층상 구조를 가진다. Each via has a layered structure comprising a plurality of layers.

각각의 비아는 제1 절연층(120)을 관통하며 형성되는 제1 비아층(110), 제2 절연층(150)을 관통하며 제1 비아층(110)과 정렬하는 제2 비아층(140), 제1 및 제2 비아층(110, 140)의 상하부에 제3 및 제4 절연층(176, 186)을 각각 관통하며 형성되어 있는 제3 및 제4 비아층(170, 180)을 포함한다.Each via comprises a first via layer 110 formed through the first insulating layer 120, a second via layer 140 through the second insulating layer 150 and aligned with the first via layer 110, And third and fourth via layers 170 and 180 formed through the third and fourth insulating layers 176 and 186 on the upper and lower portions of the first and second via layers 110 and 140 do.

이때, 상기 인쇄회로기판이 4개의 절연층(120, 150, 176, 186)을 가지는 다층 구조로 형성되는 것으로 한정하여 기재함으로서 상기 비아가 4개의 층상구조를 가지는 것으로 설명하였으나, 이와 달리 상기 절연층(120, 150, 176, 186)의 수효와 동일한 수효를 갖도록 설계될 수 있으며, 또는 상기 절연층(120, 150, 176, 186)보다 작은 층의 수효를 가지는 층상 구조를 가짐으로써 쓰루비아가 아닌 매립 비아의 형상을 가질 수도 있다.In this case, the printed circuit board is described as being formed in a multi-layered structure having four insulating layers 120, 150, 176, and 186 so that the vias have four layered structures. Alternatively, Or a number of layers smaller than the number of the insulating layers 120, 150, 176, 186, so that the number of layers of the insulating layer 120, 150, 176, It may have the shape of the buried vias.

이하에서는 상기 비아가 4개의 층상구조를 가지는 것으로 한정하여 설명한다. Hereinafter, the vias will be limited to having four layered structures.

상기 제1 비아층(110)은 인쇄회로기판의 중심영역에 형성되어 있으며, 하부로 갈수록 단면이 확장되는 형상을 가질 수 있다. The first via layer 110 is formed in a central region of the printed circuit board and may have a shape in which a cross section is expanded toward the bottom.

제2 비아층(140)은 제1 비아층(110)의 상면으로부터 연장되며, 상부로 갈수록 단면이 확장되는 형상을 가질 수 있다.The second via layer 140 may extend from the top surface of the first via layer 110 and may have a shape in which the cross section is enlarged toward the top.

상기 제3 비아층(170)은 제2 비아층(140) 상부에 형성되며 제2 비아층(140)과 동일한 형상을 가질 수 있고, 제4 비아층(180)은 제1 비아층(110) 하부에 형성되며 제1 비아층(110)과 동일한 형상을 가질 수 있다.The third via layer 170 may be formed on the second via layer 140 and may have the same shape as the second via layer 140 and the fourth via layer 180 may be formed on the first via layer 110, And may have the same shape as the first via layer 110.

즉, 상기 복수의 층상 구조는 중심영역을 기준으로 서로 대칭되도록 형성될 수 있다.That is, the plurality of layered structures may be formed to be symmetrical with respect to the center region.

상기 제1 및 제4 비아층(110, 140, 170, 180)은 동일한 물질로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 방열성이 좋은 전도성 물질인 구리를 포함하는 물질로 형성될 수 있다.The first and fourth via layers 110, 140, 170, and 180 may be formed of the same material, and preferably, a material including copper, which is a conductive material having good heat dissipation.

한편, 상기 비아의 각 층 사이에는 복수의 접착층(131, 161, 191)이 형성될 수 있다.Meanwhile, a plurality of adhesive layers 131, 161, and 191 may be formed between the respective layers of the vias.

상기 복수의 접착층(131, 161, 191)은 제1 및 제2 비아층(110, 140) 사이에 형성되어 있는 제1 접착층(131), 상기 제2 및 제3 비아층(140, 170) 사이 및 제1 및 제4 비아층(110, 180) 사이에 형성되어 있는 제2 접착층(161) 및 상기 인쇄회로기판의 상면에 노출되는 제3 비아층(170)의 표면 및 인쇄회로기판의 하면에 노출되는 제4 비아층(180)의 표면에 형성되는 제3 접착층(191)을 포함한다.The plurality of adhesive layers 131, 161, and 191 may be disposed between the first adhesive layer 131 and the second and third via layers 140 and 170 formed between the first and second via layers 110 and 140, The second adhesive layer 161 formed between the first and fourth via layers 110 and 180 and the third via layer 170 exposed on the upper surface of the printed circuit board and the lower surface of the printed circuit board And a third adhesive layer 191 formed on the exposed surface of the fourth via layer 180.

상기 복수의 접착층(131, 161, 191)은 동일한 물질로 형성될 수 있으며, 서로 다른 공정으로 형성되는 복수의 비아층을 서로 접착시키기 위한 것으로 상기 비아층과 동일한 물질로 형성될 수 있다.The plurality of adhesive layers 131, 161, and 191 may be formed of the same material, and may be formed of the same material as the via layer to adhere a plurality of via layers formed by different processes to each other.

즉, 상기 접착층(131, 161, 191)은 구리를 포함하는 합금으로 형성될 수 있다.That is, the adhesive layers 131, 161, and 191 may be formed of an alloy including copper.

상기 인쇄회로기판은 상면 및 하면에 커버레이(195)를 포함하며, 상기 커버레이(195)로부터 비아의 일부면이 노출되어 패드(198, 199)를 형성한다.The printed circuit board includes a cover layer 195 on the upper and lower surfaces and a portion of the via from the cover layer 195 is exposed to form pads 198 and 199.

상기 패드(198, 199)는 은, 금, 니켈 또는 팔라듐 등의 금속을 포함하는 합금으로 형성될 수 있으며, 칩이 형성될 면에 형성되는 이너리드(198) 및 칩이 형성될 면의 배면에 형성되는 아우터리드(199)를 포함한다. The pads 198 and 199 may be formed of an alloy including a metal such as silver, gold, nickel, or palladium, and may include an inner lead 198 formed on a surface on which chips are to be formed, And an outer lead 199 formed.

상기 노출되어 있는 비아의 상면에 솔더 페이스트(220)가 도포되어 있으며, 상기 솔더 페이스트(220) 위에 소자 칩(200)이 실장된다.
A solder paste 220 is applied to the upper surface of the exposed vias and the device chip 200 is mounted on the solder paste 220.

*45상기 소자 칩(200)은 반도체 칩, 발광 다이오드 칩 기타 구동칩을 포함할 수 있으며, 상기 이너리드(198)와 와이어(210)를 통하여 전기적으로 연결된다.The device chip 200 may include a semiconductor chip, a light emitting diode chip, or other driving chip, and is electrically connected to the inner lead 198 through the wire 210.

상기 소자 칩(200)은 상기 인쇄회로기판 위에서 수지 몰딩(230)되어 있어 외부로부터 보호된다.The device chip 200 is resin molded 230 on the printed circuit board to be protected from the outside.

이하에서는 도 3 내지 도 16을 참고하여 도 2의 인쇄회로기판을 제조하는 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the printed circuit board of FIG. 2 will be described with reference to FIGS. 3 to 16. FIG.

먼저, 도 3과 같이, 벌크 제1 금속판(111)을 준비한다.First, as shown in Fig. 3, a bulk first metal plate 111 is prepared.

상기 벌크 제1 금속판(111)은 비아의 각 층의 두께보다 큰 두께를 가지는 구리판일 수 있다.The bulk first metal plate 111 may be a copper plate having a thickness greater than the thickness of each layer of the via.

다음으로, 도 4와 같이 비아가 형성될 영역을 제외하고 상기 비아와 비아 사이를 식각하여 제1 절연홈(115)을 형성한다.Next, except for a region where a via is to be formed, the first insulating groove 115 is formed by etching the via between the via and the via as shown in FIG.

상기 제1 절연홈(115) 형성은 상기 구리판(111) 위에 레지스트 패턴을 형성한 뒤 습식식각함으로써 형성될 수 있으며, 단면에 곡선을 가질 수 있다. The first insulation groove 115 may be formed by forming a resist pattern on the copper plate 111 and then wet-etching the copper plate 111, and may have a curved section.

따라서, 상기 제1 절연홈(115)과 제1 절연홈(115) 사이에 제1 비아층(110)을 이루는 돌기가 형성된다.Therefore, a protrusion forming the first via layer 110 is formed between the first insulation groove 115 and the first insulation groove 115.

다음으로 도 6과 같이 제1 절연층(120)에 상기 제1 비아층(110)과 대응되는 홀을 형성한 뒤 상기 제1 금속판(111) 위에 가압하여 상기 제1 금속판(111)의 제1 절연홈(115) 내에 상기 제1 절연층(120)을 매립한다. 6, holes corresponding to the first via layer 110 are formed in the first insulating layer 120, and then the first insulating layer 120 is pressed onto the first metal plate 111, The first insulating layer 120 is buried in the insulating trench 115.

다음으로, 도 7과 같이 상기 제1 비아층(110) 및 제1 절연층(120) 위에 제1 금속층(130)을 형성한다.Next, a first metal layer 130 is formed on the first via layer 110 and the first insulating layer 120, as shown in FIG.

상기 제1 금속층(130)은 구리를 에어로졸 증착(Aerosol deposition)함으로써 형성할 수 있으며, 즉, 상기 구리를 가스와 혼합하여 에어로졸화 한 뒤 노즐을 통하여 상기 제1 비아층(110) 및 제1 절연층(120) 위에 분사함으로써 제1 금속층(130)을 형성한다.The first metal layer 130 may be formed by aerosol deposition of copper. That is, the copper may be aerosolized by mixing with the gas, and then the first via layer 110 and the first insulation layer The first metal layer 130 is formed.

이와 같이 금속층(130)을 형성 시 에어로졸 증착을 수행하는 경우, 고온에서 증착하지 않고, 실온에서 증착이 가능하다.When aerosol deposition is performed in the formation of the metal layer 130, deposition at room temperature is possible without deposition at a high temperature.

다음으로, 도 8과 같이 상기 제1 금속층(130) 중 상기 제1 비아층(110) 위의 영역만 남기도록 식각함으로써 도 2의 제1 접착층(131)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 8, the first adhesive layer 131 of FIG. 2 is formed by etching the first metal layer 130 so as to leave only the region above the first via layer 110.

이때, 제1 금속층(130) 식각은 레지스트 패턴을 형성한 뒤 습식식각하여 진행할 수 있으며, 이때, 제1 접착층(131)은 제1 비아층(110)의 상면보다 넓은 면을 갖도록 상기 제1 절연층(120) 위까지 일부 확장된 면을 갖는다.At this time, the first metal layer 130 may be etched by wet etching after the resist pattern is formed. At this time, the first adhesive layer 131 may have a larger surface than the upper surface of the first via layer 110, Lt; RTI ID = 0.0 > 120 < / RTI >

다음으로, 도 9와 같이, 도 2 내지 도 4의 공정을 반복하여 제2 금속판(141)에 제2 절연홈(145)을 형성하고 상기 제1 절연홈(115)과 제2 절연홈(145)이 마주하도록 배치 후 상기 제2 절연홈(145)에 대응하도록 제2 절연층(150)을 배치하여 제1 및 제2 금속판(111, 141)을 열 및 압력을 가하면, 도 10의 형상이 완성된다.Next, as shown in FIG. 9, the steps of FIGS. 2 to 4 are repeated to form a second insulating groove 145 in the second metal plate 141, and the first insulating groove 115 and the second insulating groove 145 The second insulating layer 150 is disposed so as to correspond to the second insulating groove 145 so that the first and second metal plates 111 and 141 are heated and pressed so that the shape of FIG. Is completed.

다음으로, 11과 같이 제1 및 제2 금속판(111, 141)의 양 면을 제1 및 제2 절연층(120, 150)이 노출될 때까지 식각하면, 도 2의 제1 및 제2 비아층(110, 140)이 형성된다.Next, as shown in FIG. 11, if both surfaces of the first and second metal plates 111 and 141 are etched until the first and second insulating layers 120 and 150 are exposed, the first and second via- Layers 110 and 140 are formed.

다음으로, 도 12와 같이, 상기 제1 및 제2 비아층(110, 140) 및 노출된 제1 및 제2 절연층(120, 150) 위에 제2 금속층(160)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 12, a second metal layer 160 is formed on the first and second via layers 110 and 140 and the exposed first and second insulating layers 120 and 150.

제2 금속층(160)은 도 7과 같이 에어로졸 증착법을 이용하여 구리층을 형성하며, 도 13과 같이 상기 제2 금속층(160) 중 일부를 식각하여 상기 제1 및 제2 비아층(110, 140) 위에 제2 접착층(161)을 형성한다.As shown in FIG. 13, the second metal layer 160 may be formed by etching a part of the second metal layer 160 to form the first and second via layers 110 and 140 The second adhesive layer 161 is formed.

상기 제2 접착층(161)은 상기 제1 및 제2 비아층(140)의 형상에 의해 제1 접착층(131)보다 더 넓은 면적을 가진다.The second adhesive layer 161 has a larger area than the first adhesive layer 131 due to the shape of the first and second via layers 140.

다음으로 도 3 내지 도 13의 공정을 반복함으로써 도 14의 다층구조를 형성한다.Next, the processes of Figs. 3 to 13 are repeated to form the multilayer structure of Fig.

도 14의 다층 구조는 상기 제2 비아층(140) 상부에 제3 비아층(170)이 형성되고, 제1 비아층(110) 하부에 제4 비아층(180)이 형성되며, 제1 비아층(110) 및 제4 비아층(180)의 노출된 면에는 제3 접착층(191)을 형성한다.14, a third via layer 170 is formed on the second via layer 140, a fourth via layer 180 is formed under the first via layer 110, A third adhesive layer 191 is formed on the exposed surfaces of the layer 110 and the fourth via layer 180.

제3 접착층(191)은 제2 접착층(161)과 동일한 형상을 가질 수 있으며, 상기 제3 및 제4 절연층(186) 상부로 확장되는 영역을 가진다.The third adhesive layer 191 may have the same shape as the second adhesive layer 161 and have a region extending over the third and fourth insulating layers 186.

다음으로, 상기 이너리드(198), 아우터리드(199) 및 소자 칩(200)이 형성될 영역을 노출하며 커버레이(195)를 형성한다.Next, a coverlay 195 is formed by exposing an area where the inner lead 198, the outer lead 199, and the device chip 200 are to be formed.

상기 커버레이(195)는 솔더 레지스트 또는 드라이 필름으로 형성될 수 있다.The coverlay 195 may be formed of a solder resist or a dry film.

다음으로, 상기 커버레이(195)에 노출된 면에 도금하여 이너리드(198) 및 아우터리드(199)를 형성한다. 상기 이너리드(198) 및 아우터리드(199)는 은, 금, 니켈, 팔라듐 등의 금속을 포함하는 합금으로 형성될 수 있으며 다층 구조를 갖도록 도금될 수 있다.Next, an inner lead 198 and an outer lead 199 are formed by plating the surface exposed to the coverlay 195. The inner leads 198 and the outer leads 199 may be formed of an alloy including a metal such as silver, gold, nickel, and palladium, and may be plated to have a multi-layer structure.

도 16과 같이 이너리드(198) 및 아우터리드(199)의 패드가 형성되면 상기 인쇄회로기판이 완성된다.When the pads of the inner leads 198 and the outer leads 199 are formed as shown in FIG. 16, the printed circuit board is completed.

상기 도 16의 인쇄회로기판의 도 17과 같이 소자 칩(200) 실장 영역에 솔더 페이스트(220)를 도포한 뒤 소자 칩(200)을 실장하고 와이어(210)를 통하여 소자 칩(200)과 이너리드(198)를 전기적으로 도통시키면 소자 칩(200) 패키지(100)가 완성된다.17, the solder paste 220 is applied to the mounting area of the device chip 200, the device chip 200 is mounted, and the device chip 200 and the inner When the leads 198 are electrically connected to each other, the device chip 200 package 100 is completed.

이와 같이, 다층의 절연층을 가지는 상기 인쇄회로기판의 다층 비아 형성 시에 상기 비아를 식각을 통해 형성함으로써 비용을 절감할 수 있으며, 비아층 간에 접착층을 형성하여 접착력 및 신호 특성을 확보할 수 있다.As described above, the formation of the vias through etching during the formation of the multilayer via of the printed circuit board having the multilayer insulating layer can reduce the cost, and the adhesive layer can be formed between the via layers to secure the adhesive force and the signal characteristics .

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It belongs to the scope of right.

소자 칩 패키지 100
소자 칩 200
절연층 120, 150, 176, 186
커버레이 195
Device chip package 100
Device chip 200
The insulating layer 120, 150, 176, 186
Coverlay 195

Claims (15)

제1 절연층, 상기 제 1 절연층 위의 제 2 절연층, 상기 제 2 절연층 위의 제 3 절연층 및 상기 제 1 절연층 아래의 제 4 절연층을 포함하는 복수의 절연층;
상기 제1 절연층을 관통하며 측면이 곡면을 가지는 제1 비아층, 상기 제 1 비아층 위에 상기 제2 절연층을 관통하며 배치되고 측면이 곡면을 가지는 제2 비아층, 상기 제 2 비아층 위에 상기 제3 절연층을 관통하며 배치되고 측면이 곡면을 가지는 제 3 비아층, 및 상기 제 1 비아층 아래에 상기 제 4 절연층을 관통하며 배치되고 측면이 곡면을 가지는 제 4 비아층을 포함하며, 상호 층상 구조를 가지는 복수의 비아층;
상기 제1 및 제2 비아층 사이에 형성되어 있는 제1 접착층, 상기 제2 및 제3 비아층 사이 및 제1 및 제4 비아층 사이에 각각 형성되어 있는 제2 접착층, 및 상기 제 3 절연층의 상면에 노출되는 제3 비아층의 표면에 형성되는 제 3 접착층, 및 상기 제 4 절연층의 하면에 노출되는 제4 비아층의 표면에 형성되는 제4 접착층을 포함하는 복수의 접착층;
상기 제 3 접착층 위에 배치된 이너 리드;
상기 제 4 접착층 아래에 배치된 아우터 리드;
상기 제 3 절연층 및 상기 제 3 접착층 위에 배치되며, 소자 칩의 형성 영역에 배치된 솔더 페이스트; 및
상기 제 3 절연층 및 상기 제 3 접착층 위에 배치되며, 상기 이너 리드 및 상기 솔더 페이스트의 형성 영역을 노출하는 커버 레이를 포함하며,
상기 제 1 비아층 내지 상기 제 4 비아층은 서로 동일한 금속 물질로 형성되고,
상기 제 1 내지 제 4 접착층은, 상기 제 1 비아층과 동일한 금속 물질로 형성되며,
상기 금속 물질은 구리를 포함하고,
상기 제 2 접착층, 상기 제 3 접착층 및 상기 제 4 접착층 각각은 서로 동일한 폭을 가지면서,상기 제 1 접착층의 폭보다 넓은 폭을 가지며,
상기 제1 및 제4 비아층은 상기 제2 및 제3 비아층과 대칭적으로 형성되며, 상기 제1 및 제4 비아층의 형상이 동일하고, 상기 제2 및 제3 비아층의 형상이 동일하며,
상기 제 1 비아층의 상면은, 상기 제 1 절연층의 상면과 동일 평면 상에 위치하고,
상기 제 2 비아층의 상면은, 상기 제 2 절연층의 상면과 동일 평면 상에 위치하고,
상기 제 3 비아층의 하면은, 상기 제 3 절연층의 하면과 동일 평면 상에 위치하고,
상기 제 4 비아층의 하면은 상기 제 4 절연층의 하면과 동일 평면 상에 위치하며,
상기 이너 리드의 상면은 상기 솔더 페이스트의 상면 및 상기 커버 레이의 상면과 각각 동일 평면 상에 위치하며,
상기 솔더 페이스트는,
상기 소자 칩의 폭보다 넓은 폭을 가지며 상기 제 3 접착층 및 상기 제 3 절연층 위에 배치되며,
상기 인쇄회로기판은,
상기 제1 비아층 및 제2 비아층의 서로 마주하는 단면이 상기 제3 비아층 및 제4 비아층과 마주하는 단면보다 작은 면적을 가지며,
상기 제1 내지 제4 비아층은 양 단면 사이를 연결하는 측면이 곡면을 가지는 인쇄회로기판.
A plurality of insulating layers including a first insulating layer, a second insulating layer on the first insulating layer, a third insulating layer on the second insulating layer, and a fourth insulating layer below the first insulating layer;
A first via layer passing through the first insulating layer and having a curved side, a second via layer disposed through the second insulating layer on the first via layer and having a curved side surface, A third via layer disposed through the third insulating layer and having a curved side surface and a fourth via layer disposed below the first via layer and disposed through the fourth insulating layer and having a curved side surface, A plurality of via layers having a mutually layered structure;
A first adhesive layer formed between the first and second via layers, a second adhesive layer formed between the second and third via layers and between the first and fourth via layers respectively, A third adhesive layer formed on the surface of the third via layer exposed on the upper surface of the fourth insulating layer, and a fourth adhesive layer formed on the surface of the fourth via layer exposed on the lower surface of the fourth insulating layer;
An inner lead disposed on the third adhesive layer;
An outer lead disposed under the fourth adhesive layer;
A solder paste disposed on the third insulating layer and the third adhesive layer and disposed in a formation region of the device chip; And
And a coverlay disposed on the third insulating layer and the third adhesive layer and exposing a formation region of the inner lead and the solder paste,
Wherein the first via layer to the fourth via layer are formed of the same metal material,
The first to fourth adhesive layers are formed of the same metal material as the first via layer,
Wherein the metallic material comprises copper,
Wherein the second adhesive layer, the third adhesive layer and the fourth adhesive layer have the same width and a width larger than the width of the first adhesive layer,
Wherein the first and fourth via layers are symmetrically formed with the second and third via layers, the first and fourth via layers have the same shape, and the second and third via layers have the same shape In addition,
The upper surface of the first via layer is located on the same plane as the upper surface of the first insulating layer,
The upper surface of the second via layer is located on the same plane as the upper surface of the second insulating layer,
The lower surface of the third via layer is located on the same plane as the lower surface of the third insulating layer,
The lower surface of the fourth via layer is located on the same plane as the lower surface of the fourth insulating layer,
The upper surface of the inner lead is located on the same plane as the upper surface of the solder paste and the upper surface of the cover lay,
In the solder paste,
A third adhesive layer disposed on the third adhesive layer and having a width larger than the width of the device chip,
Wherein the printed circuit board includes:
Wherein a cross section of the first via layer and the second via layer facing each other has an area smaller than a cross section of the third via layer and the fourth via layer,
Wherein the first to fourth via layers have a curved side surface connecting between both end faces.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1 내지 제4 벌크 금속층의 비아 영역에 비아홈을 각각 형성하여 측면이 곡면을 가지는 제1 내지 제4 비아층을 각각 형성하는 단계,
상기 제1 벌크 금속층의 비아홈에 제1 절연층을 매립하는 단계,
상기 제1 벌크 금속층의 상기 제1 비아층 및 상기 제 1 절연층 위에 제 1 금속층을 형성하는 단계,
상기 제 1 금속층을 식각하여 상기 제 1 비아층과 접촉하는 제 1 접착층을 형성하는 단계;
상기 제 1 접착층 위에 상기 제2 벌크 금속층의 상기 제2 비아층이 정렬하도록 배치하고, 상기 제 2 벌크 금속층의 비아홈에 제2 절연층을 매립하면서 상기 제1 및 제2 벌크 금속층을 부착하는 단계,
상기 제1 및 제2 절연층이 노출되도록 상기 제1 및 제2 벌크 금속층을 식각하는 단계,
상기 제 2 비아층의 상면, 상기 제 2 절연층의 상면, 상기 제 1 절연층의 하면 및 상기 제 1 절연층의 하면에 각각 제 2 금속층을 형성하는 단계;
상기 제 2 금속층을 식각하여, 상기 제 1 비아층 및 상기 제 2 비아층과 각각 연결되는 제 2 접착층을 형성하는 단계;
상기 제 2 비아층 위의 상기 제 2 접착층 위에 상기 제 3 벌크 금속층의 상기 제 3 비아층이 정렬되도록 배치하고, 상기 제 3 벌크 금속층의 비아 홈에 제 3 절연층을 매립하면서 상기 제 3 벌크 금속층을 부착하는 단계;
상기 제 1 비아층 아래의 상기 제 2 접착층 아래에 상기 제 4 벌크 금속층의 상기 제 4 비아층이 정렬되도록 배치하고, 상기 제 4 벌크 금속층의 비아 홈에 상기 제 4 절연층을 매립하면서 상기 제 4 벌크 금속층을 부착하는 단계;
상기 제 3 및 제 4 절연층이 노출되도록 상기 제 3 및 4 벌크 금속층을 식각하는 단계,
상기 제 3 비아층 및 상기 제 3 절연층 위에 제 3 금속층을 형성하는 단계;
상기 제 4 비아층 및 상기 제 4 절연층 아래에 제 4 금속층을 형성하는 단계;
상기 제 3 금속층을 식각하여 상기 제 3 비아층과 연결되는 제 3 접착층을 형성하고, 상기 제 4 금속층을 식각하여 상기 제 4 비아층과 연결되는 제 4 접착층을 형성하는 단계;
상기 제 3 절연층 위에 이너 리드의 형성 영역 및 소자 칩의 형성 영역을 노출하는 커버 레이를 형성하는 단계;
상기 커버 레이를 통해 노출된 상기 이너 리드의 형성 영역에 상기 제 3 접착층과 연결되는 이너 리드를 형성하는 단계; 및
상기 커버 레이를 통해 노출된 상기 소자 칩의 형성 영역에 솔더 페이스트를 형성하는 단계를 포함하고,
상기 제 2 접착층, 상기 제 3 접착층 및 상기 제 4 접착층 각각은 서로 동일한 폭을 가지면서,상기 제 1 접착층의 폭보다 넓은 폭을 가지며
상기 제1 및 제4 비아층은 상기 제2 및 제3 비아층과 대칭적으로 형성하며, 상기 제1 및 제4 비아층의 형상이 동일하고, 상기 제2 및 제3 비아층의 형상이 동일하며,
상기 제 1 비아층의 상면은, 상기 제 1 절연층의 상면과 동일 평면 상에 위치하고,
상기 제 2 비아층의 상면은, 상기 제 2 절연층의 상면과 동일 평면 상에 위치하고,
상기 제 3 비아층의 하면은, 상기 제 3 절연층의 하면과 동일 평면 상에 위치하고,
상기 제 4 비아층의 하면은 상기 제 4 절연층의 하면과 동일 평면 상에 위치하며,
상기 이너 리드의 상면은 상기 솔더 페이스트의 상면 및 상기 커버 레이의 상면과 각각 동일 평면 상에 위치하며,
상기 솔더 페이스트는,
상기 소자 칩의 폭보다 넓은 폭을 가지며 상기 제 3 접착층 및 상기 제 3 절연층 위에 배치되며,
상기 제1 비아층 및 제2 비아층은 서로 마주하는 단면이 상기 제3 비아층 및 제4 비아층과 마주하는 단면보다 작은 면적을 가지며,
상기 제1 내지 제4 비아층은 양 단면 사이를 연결하는 측면이 곡면을 갖는 인쇄회로기판의 제조 방법.
Forming via holes in the via regions of the first to fourth bulk metal layers to form first to fourth via layers each having a curved side surface,
Filling a first insulating layer in a via groove of the first bulk metallic layer,
Forming a first metal layer over the first via layer and the first insulating layer of the first bulk metal layer,
Etching the first metal layer to form a first adhesive layer in contact with the first via layer;
Depositing the first and second bulk metal layers on the first adhesive layer so that the second via layer of the second bulk metal layer is aligned and burying a second insulating layer in the via groove of the second bulk metal layer ,
Etching the first and second bulk metal layers to expose the first and second insulating layers,
Forming a second metal layer on the upper surface of the second via layer, the upper surface of the second insulating layer, the lower surface of the first insulating layer, and the lower surface of the first insulating layer, respectively;
Etching the second metal layer to form a second adhesive layer connected to the first via layer and the second via layer, respectively;
The third via layer of the third bulk metallic layer is arranged on the second adhesive layer on the second via layer and the third insulating layer is buried in the via groove of the third bulk metallic layer, ;
The fourth via layer of the fourth bulk metallic layer is arranged below the second adhesive layer below the first via layer and the fourth insulating layer is buried in the via groove of the fourth bulk metallic layer, Attaching a bulk metal layer;
Etching the third and fourth bulk metal layers to expose the third and fourth insulating layers,
Forming a third metal layer on the third via layer and the third insulating layer;
Forming a fourth metal layer below the fourth via layer and the fourth insulating layer;
Etching the third metal layer to form a third adhesive layer connected to the third via layer and etching the fourth metal layer to form a fourth adhesive layer connected to the fourth via layer;
Forming a coverlay exposing the formation area of the inner leads and the formation area of the device chips on the third insulating layer;
Forming an inner lead in the formation region of the inner lead exposed through the coverlay, the inner lead being connected to the third adhesive layer; And
Forming a solder paste in a formation region of the device chip exposed through the coverlay,
Wherein the second adhesive layer, the third adhesive layer and the fourth adhesive layer each have the same width and a width wider than the width of the first adhesive layer
Wherein said first and fourth via layers are symmetrically formed with said second and third via layers, wherein said first and fourth via layers have the same shape and said second and third via layers have the same shape In addition,
The upper surface of the first via layer is located on the same plane as the upper surface of the first insulating layer,
The upper surface of the second via layer is located on the same plane as the upper surface of the second insulating layer,
The lower surface of the third via layer is located on the same plane as the lower surface of the third insulating layer,
The lower surface of the fourth via layer is located on the same plane as the lower surface of the fourth insulating layer,
The upper surface of the inner lead is located on the same plane as the upper surface of the solder paste and the upper surface of the cover lay,
In the solder paste,
A third adhesive layer disposed on the third adhesive layer and having a width larger than the width of the device chip,
Wherein the first via layer and the second via layer have a smaller cross-section than the cross-section of the third via layer and the fourth via layer,
Wherein the first through fourth via layers have a curved side surface connecting both end surfaces.
제10항에 있어서,
상기 비아홈을 형성하는 단계는 상기 비아 영역을 제외한 영역을 습식식각하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the forming of the via groove comprises wet etching the region except the via region.
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