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KR101390809B1 - Apparatus and Method of rotating substrate - Google Patents

Apparatus and Method of rotating substrate Download PDF

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KR101390809B1
KR101390809B1 KR1020120093721A KR20120093721A KR101390809B1 KR 101390809 B1 KR101390809 B1 KR 101390809B1 KR 1020120093721 A KR1020120093721 A KR 1020120093721A KR 20120093721 A KR20120093721 A KR 20120093721A KR 101390809 B1 KR101390809 B1 KR 101390809B1
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South Korea
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substrate
support
reversal
present
inverted
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KR1020120093721A
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Inventor
유재현
구세훈
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세메스 주식회사
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Publication date
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Abstract

기판 반전 장치 및 방법는 패턴 형성을 위한 기판의 일면이 상부를 향하면서 상기 기판의 일면과 반대면인 상기 기판의 타면이 정전척의 일면에 파지되는 반전 대상물을 반입받아 상기 기판의 일면 또는 상기 정전척의 일면과 반대면인 상기 정전척의 타면을 지지하도록 구비되는 제1 지지부; 상기 제1 지지부의 반대 부분에 배치되고, 상기 제1 지지부가 상기 기판의 일면을 지지할 경우에는 상기 정전척의 타면을 지지하고, 상기 제1 지지부가 상기 정전척의 타면을 지지할 경우에는 상기 기판의 일면을 지지하도록 구비되는 제2 지지부; 및 상기 기판의 일면이 하부를 향하게 상기 반전 대상물이 반전되도록 상기 제1 지지부 및 상기 제2 지지부를 회전시키는 회전부를 포함한다.A substrate reversing apparatus and method are provided for reversing an object to be patterned, with one side of the substrate facing upward and the other side of the substrate opposite to the one side of the substrate being held on one side of the electrostatic chuck, A first supporting part provided to support the other surface of the electrostatic chuck opposite to the first supporting part; Wherein the first supporting part supports the other surface of the electrostatic chuck when the first supporting part supports one side of the substrate and the second supporting part supports the other side of the electrostatic chuck when the first supporting part supports the other surface of the substrate, A second support portion provided to support the one surface; And a rotating unit that rotates the first supporting unit and the second supporting unit such that the one side of the substrate faces downward and the inverted object is inverted.

Description

기판 반전 장치 및 방법{Apparatus and Method of rotating substrate}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate reversing apparatus,

본 발명은 기판 반전 장치 및 방법에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 패턴 형성을 위한 기판의 일면이 하부 방향인 아래쪽을 향하도록 기판을 반전시키기 위한 기판 반전 장치 및 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate reversing apparatus and method, and more particularly, to a substrate reversing apparatus and method for reversing a substrate such that one side of the substrate for pattern formation faces downward in a downward direction.

일반적으로, 유기 발광 디스플레이 소자 등의 제조에서는 주로 기판의 일면이 하부 방향인 아래쪽을 향하도록 배치시킨 상태에서 기판의 일면에 박막을 증착한다. 이에, 언급한 유기 발광 디스플레이 소자 등의 제조에서는 기판의 일면이 하부 방향인 아래쪽을 향하도록 기판을 반전시키기 위한 기판 반전 장치를 사용한다.Generally, in the manufacture of an organic light emitting display device, a thin film is deposited on one surface of a substrate, with one surface of the substrate facing downward in a downward direction. In the manufacturing of the organic light emitting display device, the substrate reversing device is used for reversing the substrate so that one side of the substrate faces downward.

도 1a 및 도 1b는 종래의 기판 반전 장치를 나타내는 개략적인 구성도들이다.FIGS. 1A and 1B are schematic structural views showing a conventional substrate reversing apparatus.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 기판 반전 장치는 주로 기판(10)의 일면(10a)이 상부 방향인 위쪽을 향하도록 반입이 이루어지는 기판(10)의 타면(10b)을 지지하도록 핀(pin) 구조로 구비되는 지지핀(12) 및 언급한 지지핀(12)에 의해 지지되는 기판(10)의 일면(10a)을 부분적으로 지지한 상태에서 지지핀(12)과 함께 반전시킴으로써 기판(10)의 일면(10a)이 하부 방향인 아래쪽을 향하도록 구비되는 반전부(14)를 포함한다. 그리고 언급한 바와 같이 기판(10)의 일면(10a)이 하부 방향인 아래쪽을 향하도록 반전시킨 후, 기판(10)의 반출이 이루어질 수 있다.1A and 1B, a substrate inverting apparatus is mainly composed of a pin to support the other surface 10b of the substrate 10 on which the substrate 10 is carried so that one surface 10a of the substrate 10 faces upward, The substrate 10 is reversed with the support pin 12 in a state in which the support pin 12 having the structure and the one surface 10a of the substrate 10 supported by the support pin 12 are partially supported, And an inverting portion 14 provided on one side 10a of the first housing 10 so as to face downward in a downward direction. As described above, the substrate 10 can be taken out after the one side 10a of the substrate 10 is inverted downward.

그러나 종래의 기판 반전 장치는 기판(10)을 반전시킬 때 지지핀(12) 및 반전부(14)가 기판을 국부적으로 지지하는 구조를 갖기 때문에 기판(10)에 스크레치, 스트레스 등을 가할 수 있고, 심할 경우 기판(10)을 파손시키는 원인으로 작용할 수 있다. 또한, 종래의 기판 반전 장치는 기판(10)을 반전시킨 후 지지핀(12) 및 반전부(14)를 원위치 시키기 위하여 재반전을 수행하기 때문에 기판(10)의 반전을 위한 공정 수행 시간이 길어지는 문제점이 있다.However, since the conventional substrate reversing apparatus has a structure in which the support pins 12 and the inverting unit 14 support the substrate locally when the substrate 10 is inverted, it is possible to apply scratches, stress, etc. to the substrate 10 , Which may cause the substrate 10 to be damaged. In addition, since the conventional substrate inverting apparatus performs the re-inversion to invert the substrate 10 and then the support pins 12 and the inverting unit 14, the process time for inverting the substrate 10 is long .

본 발명의 목적은 기판에 가해지는 손상을 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 기판의 반입 및 반출을 동시에 진행할 수 있는 기판 반전 장치 및 방법을 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a substrate reversing apparatus and method capable of minimizing damage to a substrate and simultaneously carrying in and out of the substrate.

언급한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치는 패턴 형성을 위한 기판의 일면은 상부를 향하면서 상기 기판의 일면과 반대면인 상기 기판의 타면은 하부를 향하는 반전 대상물이 반입될 때 상기 기판의 타면에 면접하여 지지하도록 구비되는 제1 지지부; 상기 제1 지지부의 반대 부분에 배치되고, 상기 반전 대상물이 반입될 때 상기 기판의 일면을 지지하도록 구비되는 제2 지지부; 및 상기 기판의 일면이 상기 하부를 향하게 상기 반전 대상물이 반전되도록 상기 제1 지지부 및 상기 제2 지지부를 회전시키는 회전부를 포함한다.In order to accomplish the above object, a substrate reversing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a substrate for pattern formation, the substrate having a first surface facing upward and a second surface opposite to the first surface, A first support portion provided to be in contact with the other surface of the substrate when the substrate is carried in; A second support portion disposed at an opposite portion of the first support portion and adapted to support one surface of the substrate when the inverted object is carried; And a rotating unit that rotates the first supporting unit and the second supporting unit such that one side of the substrate faces downward and the inverted object is inverted.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치에서, 상기 반전 대상물이 상기 기판의 타면을 면접하여 파지하는 파지부를 더 포함할 수 있고, 상기 제1 지지부는 상기 파지부의 일면과 반대면인 상기 파지부의 타면을 면접하여 지지하도록 구비될 수 있다.The substrate reversing device according to an embodiment of the present invention may further include a gripping portion for holding the reversing object by inserting the other surface of the substrate in an interfacial manner, And to support the other surface of the grip portion.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치에서, 상기 파지부는 상기 기판의 타면을 정전기력에 의해 파지하는 정전척을 포함할 수 있다.In the substrate reversing apparatus according to an embodiment of the present invention, the holding unit may include an electrostatic chuck for gripping the other surface of the substrate by an electrostatic force.

언급한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 반전 장치는 패턴 형성을 위한 기판의 일면은 상부를 항하면서 상기 기판의 일면과 반대면인 상기 기판의 타면은 파지부의 일면에 파지되는 반전 대상물이 반입될 때 상기 파지부의 일면과 반대면인 상기 파지부의 타면을 지지하도록 구비되는 제1 지지부; 상기 제1 지지부의 반대 부분에 배치되고, 상기 반전 대상물이 반입될 때 상기 기판의 일면을 지지하도록 구비되는 제2 지지부; 및 상기 기판의 일면이 하부를 향하게 상기 반전 대상물이 반전되도록 상기 제1 지지부 및 상기 제2 지지부를 회전시키는 회전부를 포함한다.In accordance with another aspect of the present invention, there is provided a substrate reversing apparatus for pattern formation, comprising: a first substrate having a first surface and a second surface opposite to the first surface, A first support unit configured to support the other surface of the grip unit, which is a surface opposite to the one surface of the grip unit, when the inverted object is loaded; A second support portion disposed at an opposite portion of the first support portion and adapted to support one surface of the substrate when the inverted object is carried; And a rotating unit that rotates the first supporting unit and the second supporting unit such that the one side of the substrate faces downward and the inverted object is inverted.

언급한 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 반전 장치에서, 상기 제1 지지부는 상기 파지부의 타면을 면접하여 지지하도록 구비될 수 있다.In the substrate reversing apparatus according to another embodiment of the present invention, the first support portion may be provided to support the other surface of the grip portion by intervening.

언급한 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 반전 장치에서, 상기 파지부는 상기 기판의 타면을 정전기력에 의해 파지하는 정전척을 포함할 수 있다.In the substrate reversing apparatus according to another embodiment of the present invention, the holding unit may include an electrostatic chuck for gripping the other surface of the substrate by an electrostatic force.

언급한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 반전 장치는 패턴 형성을 위한 기판의 일면이 상부를 향하면서 상기 기판의 일면과 반대면인 상기 기판의 타면이 파지부의 일면에 파지되는 반전 대상물이 반입될 때 상기 기판의 일면 또는 상기 파지부의 일면과 반대면인 상기 파지부의 타면을 지지하도록 구비되는 제1 지지부; 상기 제1 지지부의 반대 부분에 배치되고, 상기 제1 지지부가 상기 기판의 일면을 지지할 경우에는 상기 파지부의 타면을 지지하고, 상기 제1 지지부가 상기 파지부의 타면을 지지할 경우에는 상기 기판의 일면을 지지하도록 구비되는 제2 지지부; 및 상기 기판의 일면이 하부를 향하게 상기 반전 대상물이 반전되도록 상기 제1 지지부 및 상기 제2 지지부를 회전시키는 회전부를 포함한다.In order to achieve the above-mentioned object, a substrate reversing apparatus according to another embodiment of the present invention includes a substrate reversing unit for reversing a surface of a substrate, A first support unit configured to support one surface of the substrate or the other surface of the grip unit, which is a surface opposite to one surface of the grip unit, when the inverted object to be gripped is carried; Wherein when the first supporting part supports one side of the substrate, the second supporting part supports the other side of the holding part, and when the first supporting part supports the other side of the holding part, A second support portion provided to support one surface of the substrate; And a rotating unit that rotates the first supporting unit and the second supporting unit such that the one side of the substrate faces downward and the inverted object is inverted.

언급한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 반전 장치에서, 상기 제1 지지부는 상기 파지부의 타면을 면접하여 지지하도록 구비될 수 있다.In the substrate reversing apparatus according to another embodiment of the present invention, the first support portion may be provided to support the other surface of the grip portion by intervening.

언급한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 반전 장치에서, 상기 파지부는 상기 기판의 타면을 정전기력에 의해 파지하는 정전척을 포함할 수 있다.In the substrate reversing apparatus according to another embodiment of the present invention, the holding unit may include an electrostatic chuck for gripping the other surface of the substrate by an electrostatic force.

언급한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 방법은 패턴 형성을 위한 기판의 일면이 상부를 향하면서 상기 기판의 일면과 반대면인 상기 기판의 타면이 하부를 향하는 제1 반전 대상물을 반입하는 단계; 상기 기판의 일면 및 상기 기판의 타면을 지지하는 단계; 상기 기판의 일면이 하부를 향하게 상기 제1 반전 대상물을 반전시키는 단계; 및 상기 기판의 일면이 하부를 향하게 반전이 이루어진 상기 제1 반전 대상물을 반출시킴과 동시에 상기 패턴 형성을 위한 기판의 일면이 상기 상부를 향하면서 상기 기판의 일면과 반대면인 상기 기판의 타면이 상기 하부를 향하는 제2 반전 대상물을 반입하는 단계를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of reversing a substrate, the method comprising: forming a first reverse of the substrate for pattern formation, the first reverse of which faces one side of the substrate, Bringing in an object; Supporting one side of the substrate and the other side of the substrate; Inverting the first reversal object with one side of the substrate facing downward; And a second step of carrying out the first reversal object in which the one surface of the substrate is inverted with the one surface facing downward, and the other surface of the substrate, which is the surface opposite to the one surface of the substrate, And bringing the second inversion object facing downward.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 방법에서, 상기 제1 반전 대상물 및 상기 제2 반전 대상물 각각은 상기 기판의 타면을 면접하여 지지하는 파지부에 의해 파지될 수 있다.In the substrate reversal method according to an embodiment of the present invention, each of the first reversal object and the second reversal object may be gripped by a gripper holding the other surface of the substrate in contact with each other.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 방법에서, 상기 파지부는 상기 기판의 타면을 정전기력에 의해 파지하는 정전척을 포함할 수 있다.In the substrate reversal method according to an embodiment of the present invention, the holding unit may include an electrostatic chuck for gripping the other surface of the substrate by an electrostatic force.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 방법에서, 상기 기판의 일면 및 상기 기판의 타면 중 어느 하나는 면접에 의해 지지될 수 있다.In the substrate inversion method according to an embodiment of the present invention, one of the substrate and the other surface of the substrate may be supported by an interfacial contact.

본 발명에 따른 기판 반전 장치 및 방법에 따르면, 기판의 일면 또는 타면 중 어느 하나에 면접하는 구조로 기판의 반입 및 반출을 달성할 수 있고, 아울러 기판 자체가 아닌 기판과 함께 정전척 등과 같은 파지부를 반전 대상물로 적용하는 구조로 기판의 반입 및 반출을 달성할 수 있다. 이에, 제1 지지부 및 제2 지지부 각각을 사용하여 기판의 일면 및 기판의 타면 각각을 지지하고, 회전부를 사용하여 기판의 일면이 아래쪽을 향하도록 반전시킬 수 있다.According to the substrate reversing apparatus and method according to the present invention, it is possible to achieve a substrate loading / unloading operation by a structure in which a substrate is brought into contact with one of the one surface or the other surface of the substrate, The substrate can be brought in and out of the structure that is applied as a reversal object. By using each of the first and second support portions, one surface of the substrate and each of the other surfaces of the substrate are supported, and the substrate can be reversed such that one side of the substrate faces downward.

따라서 본 발명의 경우 기판의 반전시 기판의 일면 또는 타면 중 어느 하나를 면접하는 구조를 갖기 때문에 기판에 가해지는 손상을 최소화할 수 있다. 또한, 기판의 반전시 반전 대상물의 반입 및 반출이 동시에 이루어지기 때문에 기판의 반전에 소요되는 공정 시간을 줄일 수 있는 효과를 기대할 수 있다.Therefore, according to the present invention, when the substrate is reversed, any one of the one surface or the other surface of the substrate is interposed, so that the damage to the substrate can be minimized. In addition, since the carry-in and carry-out of the reversal object are simultaneously performed when the substrate is reversed, the effect of reducing the processing time required for reversing the substrate can be expected.

도 1a 및 도 1b는 종래의 기판 반전 장치를 나타내는 개략적인 구성도들이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치를 나타내는 개략적인 구성도들이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 반전 장치를 나타내는 개략적인 구성도들이다.
도 4a 내지 도 4e는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
FIGS. 1A and 1B are schematic structural views showing a conventional substrate reversing apparatus.
FIGS. 2A and 2B are schematic structural views showing a substrate inverting apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 3A and 3B are schematic structural views showing a substrate inverting apparatus according to another embodiment of the present invention. FIG.
4A to 4E are views for explaining a substrate reversal method according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.While the present invention has been described in connection with certain exemplary embodiments, it is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the term "comprises" or "comprising ", etc. is intended to specify that there is a stated feature, figure, step, operation, component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치를 나타내는 개략적인 구성도들이고, 도 3a 및 도 3b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 반전 장치를 나타내는 개략적인 구성도들이다.FIGS. 2A and 2B are schematic configuration diagrams showing a substrate inversion apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 3A and 3B are schematic configuration diagrams showing a substrate inversion apparatus according to another embodiment of the present invention.

언급하는 기판 반전 장치는 주로 유기 발광 디스플레이 소자 등의 제조에 사용될 수 있다. 이는, 유기 발광 디스플레이 소자의 경우 기판의 일면이 하부 방향인 아래쪽을 향하도록 배치시킨 상태에서 기판의 일면에 박막을 증착하는 공정을 수행하기 때문이다. 따라서 본 발명의 기판 반전 장치는 유기 발광 디스플레이 소자의 제조에서 증착 공정을 수행하기 위한 증착 장치 전단에 구비될 수 있다.The substrate reversing device mentioned can be used mainly for the production of organic light emitting display devices and the like. This is because, in the case of an organic light emitting display device, a process for depositing a thin film on one surface of a substrate is performed in a state where one surface of the substrate is oriented downwardly downward. Therefore, the substrate reversing device of the present invention can be provided in front of the deposition apparatus for performing the deposition process in the manufacture of the organic light emitting display device.

그리고 도 2a 및 도 2b 그리고 도 3a 및 도 3b는 반전 대상물(25)을 제외하고는 동일한 구조를 갖는다. 그러므로 동일 부품에 대해서는 동일 부호를 사용하고 동일한 설명에 대해서는 생략하기로 한다.2A and 2B and FIGS. 3A and 3B have the same structure except for the reversal object 25. FIG. Therefore, the same reference numerals are used for the same parts and the same description will be omitted.

도 2 및 도 2b 그리고 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 도 2a 및 도 2b의 경우에는 기판(27) 자체가 반전 대상물(25)에 해당할 수 있고, 도 3a 및 도 3b의 경우에는 기판(27) 및 기판(27)의 타면(27b)을 파지하는 파지부(29)를 포함하는 구조가 반전 대상물(25)에 해당할 수 있다.2A and 2B, the substrate 27 itself may correspond to the reversal object 25, and in the case of FIGS. 3A and 3B, the substrate 27 27 and the grip portion 29 for gripping the other surface 27b of the substrate 27 may correspond to the reversal object 25.

특히, 도 2a 및 도 2b에서와 같이 기판(27) 자체가 반전 대상물(25)일 경우 기판(27)의 일면(27a) 또는 기판(27)의 타면(27b) 중 어느 하나는 면접에 의해 지지되는 구조를 가질 수 있다. 이에, 도 2a 및 도 2b에 도시된 본 발명의 기판 반전 장치(200)에서는 제2 지지부(23)가 기판(27)의 타면(27b)을 면접에 의해 지지되는 구조를 갖도록 구비할 수 있다.2A and 2B, any one of the one surface 27a of the substrate 27 or the other surface 27b of the substrate 27 when the substrate 27 itself is the reversal object 25, . ≪ / RTI > In the substrate reversing apparatus 200 of the present invention shown in FIGS. 2A and 2B, the second support portion 23 may be provided so as to have a structure in which the other surface 27b of the substrate 27 is supported by an intervening contact.

또한, 도 3a 및 도 3b에서와 같이 기판(27) 및 기판(27)의 타면(27b)을 파지하는 파지부(29)를 포함하는 구조가 반전 대상물(25)일 경우에도 기판(27)의 일면(27a) 또는 파지부(29)의 타면(29b) 중 어느 하나는 면접에 의해 지지되는 구조를 가질 수 있다. 이에, 도 3a 및 도 3b에 도시된 본 발명의 기판 반전 장치(200)에서도 제2 지지부(23)가 파지부(29)의 타면(29b)을 면접에 의해 지지되는 구조를 갖도록 구비할 수 있다.3A and 3B, even when the structure including the substrate 27 and the grip portion 29 for gripping the other surface 27b of the substrate 27 is the reversal object 25, Any one of the one surface 27a of the grip portion 29 and the other surface 29b of the grip portion 29 may have a structure supported by an interview. In the substrate inverting apparatus 200 of the present invention shown in Figs. 3A and 3B, the second support portion 23 may be provided so as to have a structure in which the other surface 29b of the grip portion 29 is supported by an interfacial contact .

그리고 언급한 파지부(29)의 경우에는 기판(27)의 타면(27b)을 정전기력에 의해 파지할 수 있는 정전척을 포함할 수 있다. 따라서 후술하는 파지부(29)는 정전척으로 표현하기로 한다.The grip portion 29 may include an electrostatic chuck capable of gripping the other surface 27b of the substrate 27 by an electrostatic force. Therefore, the grip portion 29 to be described later is represented by an electrostatic chuck.

아울러, 도 2a 및 도 2b의 기판 반전 장치(200)에 파지부(29)를 더 부가할 경우 도 3a 및 도 3b의 기판 반전 장치(200)와 동일한 구조를 갖기 때문에 이하에서는 도 3a 및 도 3b를 참조하여 본 발명의 기판 반전 장치(200)에 대하여 설명하기로 한다.3A and 3B, since the substrate inverting apparatus 200 of FIGS. 2A and 2B has the same structure as that of the substrate inverting apparatus 200 of FIGS. 3A and 3B, The substrate inverting apparatus 200 of the present invention will be described.

실시예Example

도 3a 및 도 3b를 참조하면, 기판 반전 장치(200)는 반전 대상물(25)을 반입될 때 반전 대상물(25)을 반입받아 지지하는 제1 지지부(21) 및 제2 지지부(23)를 구비하고, 그리고 반전 대상물(25)이 반전되도록 제1 지지부(21) 및 제2 지지부(23)를 회전시키는 회전부(31)를 구비한다.3A and 3B, the substrate inverting apparatus 200 includes a first supporter 21 and a second supporter 23 which carry the inverted object 25 when the inverted object 25 is carried in, And a rotation part 31 for rotating the first support part 21 and the second support part 23 so that the reversal object 25 is reversed.

본 발명에서의 반전 대상물(25)은 기판(27) 및 기판(27)을 정전기력을 파지하는 정전척(29)을 포함한다. 즉, 언급한 반전 대상물(25)을 기판(27) 자체가 아닌 기판(27) 및 정전척(29)을 함께 포함하는 것이다. 그리고 반전 대상물(25)은 박막 증착과 같은 패턴 형성을 위한 기판(27)의 일면(27a)이 상부를 향하도록 배치되는 상태로 기판 반전 장치(200)로 반입이 이루어진다. 즉, 기판 반전 장치(200)로 반입되는 반전 대상물(25)은 패턴 형성을 위한 기판(27)의 일면(27a)이 상부를 향하면서 기판(27)의 일면(27a)과 반대면인 기판(27)의 타면(27b)이 정전척(29)의 일면(29a)에 파지되는 구조를 갖는다.The reversal object 25 in the present invention includes an electrostatic chuck 29 for gripping the substrate 27 and the substrate 27 by electrostatic force. That is, the above-mentioned reversal object 25 includes the substrate 27 and the electrostatic chuck 29, not the substrate 27 itself. The reversal object 25 is brought into the substrate reversing device 200 in a state in which one surface 27a of the substrate 27 for forming a pattern such as thin film deposition is arranged to face upward. That is, the reversal object 25 brought into the substrate inverting apparatus 200 is moved in the reverse direction to the substrate 27 opposite to the one surface 27a of the substrate 27 with one surface 27a of the substrate 27 for pattern formation facing upward. 27 is held on one surface 29a of the electrostatic chuck 29. As shown in Fig.

제1 지지부(21)는 언급한 반전 대상물(25)을 반입받아 기판(27)의 일면(27a)을 지지하도록 구비된다. 그리고 제2 지지부(23)는 언급한 반전 대상물(25)을 반입받아 정전척(29)의 타면(29b)을 지지하도록 구비된다. 이에, 제1 지지부(21)는 반전 대상물(25)을 기준으로 반전 대상물(25) 상부에 배치되고, 제2 지지부(23)는 반전 대상물(25)을 기준으로 반전 대상물(25) 하부에 배치된다.The first support portion 21 is provided to support the one surface 27a of the substrate 27 by carrying the mentioned inverting object 25 thereinto. The second support portion 23 is provided to support the other surface 29b of the electrostatic chuck 29 by bringing the above mentioned reversal object 25 into place. The first support portion 21 is disposed on the inversion object 25 with respect to the inversion object 25 and the second support portion 23 is disposed under the inversion object 25 with respect to the inversion object 25 do.

이와 반대로, 제1 지지부(21)는 언급한 반전 대상물(25)을 반입받아 정전척(29)의 타면(29b)을 지지하도록 구비될 수 있다. 그리고 제2 지지부(23)는 언급한 반전 대상물(25)을 반입받아 기판(27)의 일면(27a)을 지지하도록 구비될 수 있다. 이에, 제1 지지부(21)는 반전 대상물(25)을 기준으로 반전 대상물(25) 하부에 배치될 수 있고, 제2 지지부(23)는 반전 대상물(25)을 기준으로 반전 대상물(25) 상부에 배치될 수 있다.Conversely, the first support portion 21 may be provided to support the other surface 29b of the electrostatic chuck 29 by bringing the above described reversal object 25 into contact. The second support portion 23 may be provided to support the one surface 27a of the substrate 27 by carrying the inverted object 25 mentioned above. The first support part 21 may be disposed below the reversal object 25 with respect to the reversal object 25 and the second support part 23 may be disposed below the reversal object 25 with respect to the reversal object 25. [ As shown in FIG.

그러므로 본 발명의 기판 반전 장치(200)는 제1 지지부(21)가 기판(27)의 일면(27a)을 지지하도록 구비될 경우 제2 지지부(23)는 정전척(29)의 타면(29b)을 지지하도록 구비될 수 있거나, 또는 제1 지지부(21)가 정전척(29)의 타면(29b)을 지지하도록 구비될 경우 제2 지지부(23)는 기판(27)의 일면(27a)을 지지하도록 구비될 수 있는 것이다.Therefore, when the first support portion 21 is provided to support the one surface 27a of the substrate 27, the second support portion 23 is provided on the other surface 29b of the electrostatic chuck 29, Or when the first support portion 21 is provided to support the other surface 29b of the electrostatic chuck 29, the second support portion 23 supports the one surface 27a of the substrate 27 As shown in FIG.

회전부(31)는 제1 지지부(21) 및 제2 지지부(23)를 사용하여 반전 대상물(25)을 지지한 상태에서 제1 지지부(21) 및 제2 지지부(23)를 회전시킨다. 이와 같이, 회전부(31)의 회전에 따른 제1 지지부(21) 및 제2 지지부(23)의 회전에 의해 반전 대상물(25)의 반전이 이루어진다. 여기서, 기판(27)의 일면(27a)이 상부를 향하도록 반전 대상물(25)이 반입되기 때문에 언급한 바와 같이 반전 대상물(25)의 반전이 이루어짐으로써 기판(27)의 일면(27a)이 하부를 향하게 된다. 그리고 회전부(31)의 예로서는 제1 지지부(21) 및 제2 지지부(23)를 약 180°로 회전 구동할 수 있는 로터리 모터 등을 들 수 있다. 또한, 언급한 회전부(31)는 제2 지지부(23)에 일체 구조를 갖도록 구비할 수도 있다.The rotation unit 31 rotates the first support unit 21 and the second support unit 23 while supporting the reversal object 25 using the first support unit 21 and the second support unit 23. As described above, the reversal of the reversal object 25 is performed by the rotation of the first support portion 21 and the second support portion 23 in accordance with the rotation of the rotation portion 31. [ Since the reversal object 25 is brought in such that the one surface 27a of the substrate 27 is directed upwardly, the reversal of the reversal object 25 is performed, As shown in FIG. Examples of the rotation unit 31 include a rotary motor capable of rotating the first support unit 21 and the second support unit 23 by about 180 degrees. The rotation unit 31 may be provided integrally with the second support unit 23.

언급한 바에 따르면, 본 발명의 기판 반전 장치(200)는 기판(27) 자체가 아닌 기판(27)과 함께 정전척(29)을 반전 대상물(25)로 적용함으로써 기판(27)의 반전시 정전척(29)의 타면(29b)을 지지하는 구조를 갖기 때문에 기판(27)에 가해지는 손상을 최소화할 수 있다. 이에, 본 발명의 기판 반전 장치(200)를 사용한 기판(27)의 반전을 보다 안정적으로 수행할 수 있다.The substrate inverting apparatus 200 of the present invention applies the electrostatic chuck 29 as the reversal object 25 together with the substrate 27 instead of the substrate 27 itself as a reversal object 25, And the other surface 29b of the chuck 29 is supported, the damage to the substrate 27 can be minimized. Thus, the substrate 27 using the substrate inverting apparatus 200 of the present invention can be reversed more stably.

그리고 제1 지지부(21) 및 제2 지지부(23) 각각은 반전 대상물(25)의 반입 및 반출이 이루어질 때 반전 대상물(25)의 상부 및 하부로 업/다운 구동할 수 있다. 이에, 제1 지지부(21) 및 제2 지지부(23) 각각은 업/다운 구동을 위한 구동 부재(도시되지 않음)와 연결될 수 있다.Each of the first support portion 21 and the second support portion 23 can be driven up and down to the upper and lower portions of the reversal object 25 when the reversal object 25 is carried in and out. Thus, each of the first supporting portion 21 and the second supporting portion 23 can be connected to a driving member (not shown) for up / down driving.

또한, 반전 대상물(25)의 반입 및 반출은 주로 로봇암, 블레이드 등과 같은 이송 부재(도시되지 않음)에 의해 이루어질 수 있다.In addition, the carrying-in and carrying-out of the reversal object 25 can be carried out mainly by a carrying member (not shown) such as a robot arm, a blade or the like.

이하, 언급한 본 발명의 기판 반전 장치(200)를 사용한 기판 반전 방법에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, the substrate inversion method using the substrate inversion apparatus 200 of the present invention will be described.

도 4a 내지 도 4e는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 방법을 설명하기 위한 도면들이다.4A to 4E are views for explaining a substrate reversal method according to an embodiment of the present invention.

도 4a를 참조하면, 패턴 형성을 위한 기판(27)의 일면(27a)이 상부를 향하면서 기판(27)의 일면(27a)과 반대면인 기판(27)의 타면(27b)이 정전척(29)의 일면(29a)에 파지되는 제1 반전 대상물(25)이 기판 반전 장치(200)로 반입된다. 그리고 제1 지지부(21) 및 제2 지지부(23)를 사용하여 제1 반전 대상물(25)을 지지한다. 이때, 제1 지지부(21)는 기판(27)의 일면(27a)을 지지하도록 배치되고, 제2 지지부(23)는 정전척(29)의 타면(29b)을 지지하도록 배치된다.4A, the other surface 27b of the substrate 27, which is the surface opposite to the one surface 27a of the substrate 27, faces upward while one surface 27a of the substrate 27 for pattern formation faces upward, The first reversal object 25 gripped by the one surface 29a of the first substrate 29 is carried into the substrate reversing device 200. [ The first and second support portions 21 and 23 are used to support the first reversal object 25. At this time, the first support portion 21 is arranged to support one side 27a of the substrate 27, and the second support portion 23 is arranged to support the other side 29b of the electrostatic chuck 29.

도 4b를 참조하면, 언급한 제1 반전 대상물(25)을 반전시킨다. 이에, 제1 반전 대상물(25)의 기판(27)의 일면(27a)이 아래쪽을 향하게 된다.Referring to FIG. 4B, the above-mentioned first reversal object 25 is reversed. Thus, one surface 27a of the substrate 27 of the first reversal object 25 faces downward.

도 4c를 참조하면, 언급한 반전이 이루어짐에 따라 기판(27)의 일면(27a)이 아래쪽을 향하는 제1 반전 대상물(25)의 반출이 이루어진다. 그리고 제2 반전 대상물(45)의 반입이 이루어진다. 즉, 기판(27)의 일면(27a)이 하부를 향하게 반전이 이루어진 제1 반전 대상물(25)에 대한 반출이 이루어짐과 동시에 패턴 형성을 위한 기판(47)의 일면(47a)이 상부를 향하면서 기판(47)의 일면(47a)과 반대면인 기판(47)의 타면(47b)이 정전척(49)의 일면(49a)에 파지되는 제2 반전 대상물(45)에 대한 반입이 이루어지는 것이다.Referring to FIG. 4C, as the above mentioned inversion is performed, the first reversal object 25 whose one surface 27a of the substrate 27 faces downward is carried out. Then, the second inverted object 45 is carried in. That is, the first reversing object 25 on which the one surface 27a of the substrate 27 is reversed is carried out and the one surface 47a of the substrate 47 for pattern formation is directed upward The other surface 47b of the substrate 47 opposite to the one surface 47a of the substrate 47 is carried into the second reversal object 45 held by the one surface 49a of the electrostatic chuck 49. [

도 4d를 참조하면, 제1 반전 대상물(25)의 반출 및 제2 반전 대상물(45)의 반입이 이루어진 후, 제1 지지부(21) 및 제2 지지부(23)를 사용하여 제2 반전 대상물(45)을 지지한다. 이때, 제1 지지부(21)는 정전척(49)의 타면(49b)을 지지하도록 배치되고, 제2 지지부(23)는 기판(47)의 일면(47a)을 지지하도록 배치된다. 그리고 언급한 제2 반전 대상물(45)을 반전시킨다. 이에, 제2 반전 대상물(45)의 기판(47)의 일면(47a)이 아래쪽을 향하게 된다.4D, after the first inverted object 25 is taken out and the second inverted object 45 is carried in, the first and second support portions 21 and 23 are used to move the second reversal object 45). The first support portion 21 is disposed to support the other surface 49b of the electrostatic chuck 49 and the second support portion 23 is disposed to support the one surface 47a of the substrate 47. [ And inverts the second reversal object 45 mentioned above. Thus, one surface 47a of the substrate 47 of the second reversal object 45 faces downward.

도 4e를 참조하면, 언급한 반전이 이루어짐에 따라 기판(47)의 일면(47a)이 아래쪽을 향하는 제2 반전 대상물(45)의 반출이 이루어진다. 그리고 제3 반전 대상물(55)의 반입이 이루어진다. 즉, 기판(47)의 일면(47a)이 하부를 향하게 반전이 이루어진 제2 반전 대상물(45)에 대한 반출이 이루어짐과 동시에 패턴 형성을 위한 기판(57)의 일면(57a)이 상부를 향하면서 기판(57)의 일면(57a)과 반대면인 기판(57)의 타면(57b)이 정전척(49)의 일면(49a)에 파지되는 제3 반전 대상물(55)에 대한 반입이 이루어지는 것이다.Referring to FIG. 4E, as the above-mentioned inversion is performed, the second inverted object 45 whose one surface 47a of the substrate 47 faces downward is carried out. Then, the third inverted object 55 is carried in. That is, the substrate 47 is taken out of the second inversion object 45, which has the one surface 47a of the substrate 47 inverted downward, and the one surface 57a of the substrate 57 for pattern formation faces upward The other surface 57b of the substrate 57 opposite to the one surface 57a of the substrate 57 is carried to the third reversal object 55 held by the one surface 49a of the electrostatic chuck 49. [

이와 같이, 본 발명에서의 기판 반전 장치(200)를 사용할 경우 반전을 위한 반전 대상물(25, 45, 55)의 반입 및 반출이 동시에 이루어질 수 있기 때문에 기판(27, 47, 57)의 반전에 소요되는 공정 시간을 줄일 수 있다. 실제로, 종래의 재반전을 위한 시간을 생략할 수 있기 때문에 반전을 위한 공정 소요 시간을 약 50%까지 줄일 수 있다.As described above, when the substrate inverting apparatus 200 according to the present invention is used, since the inversion and the removal of the inversion objects 25, 45, 55 for inversion can be performed at the same time, Thereby reducing the processing time. In fact, since the time for the conventional re-inversion can be omitted, the time required for the inversion can be reduced to about 50%.

본 발명의 기판 반전 장치 및 방법에 따르면, 기판의 반전시 기판에 가해지는 손상을 최소화할 수 있고, 기판의 반전에 소요되는 공정 시간을 줄일 수 있다. 이에, 본 발명의 기판 반전 장치 및 방법을 유기 발광 디스플레이 소자의 제조 등에 적용할 경우 공정 신뢰도 및 생산성의 향상을 도모할 수 있고, 그 결과 제품 경쟁력 및 가격 경쟁력의 향상을 기대할 수 있다.According to the substrate reversing apparatus and method of the present invention, it is possible to minimize the damage to the substrate during the reversal of the substrate, and to reduce the processing time required for reversing the substrate. Accordingly, when the substrate reversing apparatus and method of the present invention are applied to the manufacture of an organic light emitting display device, the reliability and productivity of the organic EL display device can be improved. As a result, the product can be improved in competitiveness and price competitiveness.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as defined by the following claims. It can be understood that it is possible.

21 : 제1 지지부 23 : 제2 지지부
25, 45, 55 : 반전 대상물 31 : 회전부
200 : 기판 반전 장치
21: first support portion 23: second support portion
25, 45, 55: Inversion object 31:
200: substrate reversing device

Claims (13)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 패턴 형성을 위한 기판의 일면이 상부를 향하면서 상기 기판의 일면과 반대면인 상기 기판의 타면이 파지부의 일면에 파지되도록 상기 기판 및 상기 파지부로 이루어지는 반전 대상물이 반입 또는 반출될 때 상기 기판의 일면 또는 상기 파지부의 일면과 반대면인 상기 파지부의 타면을 지지하도록 구비되는 제1 지지부;
상기 제1 지지부의 반대 부분에 배치되고, 상기 제1 지지부가 상기 기판의 일면을 지지할 경우에는 상기 파지부의 타면을 지지하고, 상기 제1 지지부가 상기 파지부의 타면을 지지할 경우에는 상기 기판의 일면을 지지하도록 구비되는 제2 지지부; 및
상기 기판의 일면이 하부를 향하게 상기 반전 대상물이 반전되도록 상기 제1 지지부 및 상기 제2 지지부를 회전시키는 회전부를 포함하는 기판 반전 장치.
When the object to be reversed including the substrate and the gripper is carried in or out so that one surface of the substrate for pattern formation faces upward and the other surface of the substrate opposite to the one surface of the substrate is held on one surface of the gripper, A first support portion provided to support one surface of the grip portion or the other surface of the grip portion opposite to the one surface of the grip portion;
Wherein when the first supporting part supports one side of the substrate, the second supporting part supports the other side of the holding part, and when the first supporting part supports the other side of the holding part, A second support portion provided to support one surface of the substrate; And
And a rotating unit that rotates the first supporting unit and the second supporting unit such that the one surface of the substrate faces downward and the inverted object is inverted.
제7 항에 있어서, 상기 제1 지지부는 상기 파지부의 타면을 면접하여 지지하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.The substrate reversing apparatus according to claim 7, wherein the first support portion is provided to face and support the other surface of the grip portion. 제7 항에 있어서, 상기 파지부는 상기 기판의 타면을 정전기력에 의해 파지하는 정전척을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.The substrate inverting apparatus according to claim 7, wherein the holding section includes an electrostatic chuck for holding the other surface of the substrate by an electrostatic force. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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