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KR101204924B1 - Internal voltage generating circuit - Google Patents

Internal voltage generating circuit Download PDF

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KR101204924B1
KR101204924B1 KR1020100127904A KR20100127904A KR101204924B1 KR 101204924 B1 KR101204924 B1 KR 101204924B1 KR 1020100127904 A KR1020100127904 A KR 1020100127904A KR 20100127904 A KR20100127904 A KR 20100127904A KR 101204924 B1 KR101204924 B1 KR 101204924B1
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South Korea
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voltage
pumping
substrate bias
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power supply
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Inventor
이창렬
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에스케이하이닉스 주식회사
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Abstract

본 발명의 실시예는 내부 전압 생성 회로에 관한 것으로, 전원전압의 레벨에 대응하여 안정적인 내부 전압을 생성하는 회로에 관한 기술이다. 이러한 본 발명의 실시예는 기판 바이어스 전압의 레벨을 검출하여 검출신호를 출력하는 전압 검출기, 검출신호에 따라 발진신호를 출력하는 발진부, 및 발진신호에 따라 펌핑 동작을 수행하여 기판 바이어스 전압을 출력하되, 펌핑 동작시 펌핑 노드에 공급되는 펌핑 전압을 전원전압 레벨에 대응하여 클램핑시키는 펌핑부를 포함한다. Embodiments of the present invention relate to an internal voltage generation circuit, and a technique for generating a stable internal voltage corresponding to a level of a power supply voltage. The embodiment of the present invention detects the level of the substrate bias voltage and outputs a detection signal, an oscillator for outputting an oscillation signal according to the detection signal, and performing a pumping operation according to the oscillation signal to output the substrate bias voltage. And a pumping unit configured to clamp the pumping voltage supplied to the pumping node in response to the power supply voltage level during the pumping operation.

Description

내부 전압 생성 회로{Internal voltage generating circuit}Internal voltage generating circuit

본 발명의 실시예는 내부 전압 생성 회로에 관한 것으로, 반도체 장치의 내부 회로에 공급되는 내부 전압의 생성 회로에 관한 것이다. Embodiments of the present invention relate to an internal voltage generation circuit, and more particularly to an internal voltage generation circuit supplied to an internal circuit of a semiconductor device.

일반적으로 반도체 메모리 장치는 외부 공급전원(VDD) 및 그라운드 전원(VSS) 등의 전원을 칩의 외부로부터 공급받아 일정한 목표 값을 갖는 고전압(VPP) 및 기판 바이어스 전압(VBB) 등의 내부 전압을 자체적으로 생성하여 사용한다. In general, a semiconductor memory device receives power such as an external power supply (VDD) and a ground power supply (VSS) from the outside of a chip, and internally generates internal voltages such as a high voltage (VPP) and a substrate bias voltage (VBB) having a predetermined target value. Create and use as

또한, 네가티브 워드라인 스킴(negative wordline scheme)이란 워드라인(WL)의 비활성화 전압으로 접지전압(VSS, ground) 대신에 접지전압(VSS)보다 낮은 전압인 음전압(VBB,VBBW)을 사용하는 방식을 말한다. In addition, the negative wordline scheme is a method of using negative voltages VBB and VBBW, which are lower than the ground voltage VSS, instead of the ground voltage VSS as the inactive voltage of the word line WL. Say

네가티브 워드라인 스킴을 사용하는 경우 트랜지스터(T)의 문턱전압을 높이지 않으면서도 트랜지스터(T)의 Vgs(게이트-소스 간 전압) 관계를 이용하여 누설전류를 단속하기 때문에, 데이터를 저장하는데 걸리는 시간이 늘어나는 문제를 막을 수 있다는 장점이 있다.When the negative word line scheme is used, the time taken to store data is controlled by using the Vgs (gate-source-to-source) relationship of the transistor T to control the leakage current without increasing the threshold voltage of the transistor T. This has the advantage of preventing this growing problem.

이때, 반도체 메모리 장치는 내부 전압의 목표 레벨을 설정하여 현재 내부 전압의 목표 레벨 초과 여부를 감지하고 미달 되었을시 내부 전압을 펌핑하여 내부 전압이 일정한 목표 레벨을 유지하도록 제어한다. At this time, the semiconductor memory device sets a target level of the internal voltage to detect whether the current internal voltage exceeds the target level, and controls the internal voltage to maintain a constant target level by pumping the internal voltage when the target voltage is not reached.

이를 위해, 반도체 메모리 장치는 내부 전압 생성 회로를 구비하며, 내부 전압 생성 회로는 전압 감지부, 발진부 및 전압 펌핑부를 구비한다.To this end, the semiconductor memory device includes an internal voltage generation circuit, and the internal voltage generation circuit includes a voltage sensing unit, an oscillation unit, and a voltage pumping unit.

이와 같이 열거된 반도체 메모리 장치의 내부 전압 중 기판 바이어스 전압(VBB)은 주로 NMOS 트랜지스터의 벌크 전압으로 활용되어 누설 전류를 감소시키는 기능을 수행한다. Among the internal voltages of the semiconductor memory devices listed above, the substrate bias voltage VBB is mainly used as the bulk voltage of the NMOS transistor to reduce the leakage current.

또한, 기판 바이어스 전압(VBB)은 PMOS 트랜지스터의 게이트 단에 인가되어 PMOS 트랜지스터가 가지고 있는 문턱 전압(Threshold Voltage)을 극복하기 위해 사용되기도 한다. In addition, the substrate bias voltage VBB may be applied to the gate terminal of the PMOS transistor to be used to overcome the threshold voltage of the PMOS transistor.

이와 같은 기술은 반도체 메모리 장치의 서브 워드라인 드라이버와 같은 회로에서 활용되고 있다. 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 안정적일수록 반도체 메모리 장치의 전체적인 안정성이 담보될 수 있다.Such a technique is utilized in circuits such as sub word line drivers of semiconductor memory devices. As the level of the substrate bias voltage VBB is stable, the overall stability of the semiconductor memory device may be secured.

그런데, 전원전압(VDD)의 레벨이 상승하게 되면 전원전압(VDD)으로 구동되는 전압 펌핑부의 능력이 증가된다. 이에 따라, 전압 펌핑부가 과도하게 펌핑 동작을 수행하게 되어 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 변하게 되는 문제점이 있다. However, when the level of the power supply voltage VDD is increased, the capability of the voltage pumping unit driven by the power supply voltage VDD is increased. Accordingly, there is a problem that the voltage pumping unit performs an excessive pumping operation so that the level of the substrate bias voltage VBB changes.

즉, 전원전압(VDD)의 레벨이 상승하게 되면 1회 펌펑 동작시 공급되는 전하(Charge)가 증가하게 되어, 전원전압(VDD)이 증가할수록 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 더욱 낮아지게 된다. That is, when the level of the power supply voltage VDD increases, the charge supplied during one pumping operation increases, and as the power supply voltage VDD increases, the level of the substrate bias voltage VBB becomes lower. .

도 1은 전원전압(VDD)의 레벨에 따른 기판 바이어스 전압(VBB)의 변화를 나타낸 동작 파형도이다. 1 is an operating waveform diagram illustrating a change in the substrate bias voltage VBB according to the level of the power supply voltage VDD.

도 1의 동작 파형도를 참조하면, 전원전압(VDD)의 레벨이 높은 경우 기판 바이어스 전압(VBB)의 스윙(Swing) 폭이 증가하여 기판 바이어스 전압(VBB)의 전압 레벨이 더 낮아지게 됨을 알 수 있다. Referring to the operation waveform diagram of FIG. 1, when the level of the power supply voltage VDD is high, the swing width of the substrate bias voltage VBB increases, so that the voltage level of the substrate bias voltage VBB becomes lower. Can be.

기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 낮아지는 것을 억제하기 위해서는 전압 감지부의 감도를 높여서 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨 검출신호를 발진부에 즉각적으로 전달하여 발진부의 출력을 중지시켜야 한다. In order to suppress the level of the substrate bias voltage VBB from being lowered, the sensitivity of the voltage sensing unit should be increased to immediately transmit the level detection signal of the substrate bias voltage VBB to the oscillator to stop the output of the oscillator.

하지만, 전압 감지부의 성능을 높이게 되면 대기 전류(Standby current)가 증가하게 되고, 면적이 증가하게 되는 또 다른 문제점이 발생하게 된다. However, if the performance of the voltage sensing unit is increased, the standby current is increased and another problem occurs that the area is increased.

또한, 전압 감지부의 성능, 즉, 응답속도를 빠르게 할 경우 기판 바이어스 전압(VBB)이 목표 값을 넘어서서 과도하게 펌핑이 발생하는 경우가 있다. 이러한 경우 펌프의 동작을 멈추게 할 수 있으나, 기판 바이어스 전압(VBB)의 전원단에 유입되는 노이즈 성부에 너무 과도하게 반응하여 약간의 노이즈에 대해서도 펌프를 동작시키게 함으로써 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 과도하게 낮아질 수 있다. In addition, when the performance of the voltage sensing unit, that is, the response speed is increased, the substrate bias voltage VBB may exceed the target value, causing excessive pumping. In this case, the pump may be stopped, but the level of the substrate bias voltage VBB is increased by reacting the pump excessively to the noise portion flowing into the power supply terminal of the substrate bias voltage VBB to operate the pump even for a slight noise. Can be excessively low.

즉, 전압 감지부의 응답 속도를 너무 느리게 하면 과도한 펌핑 동작에 의해 기판 바이어스 전압(VBB)이 낮아지게 된다. 반면에, 전압 감지부의 응답 속도가 너무 빠르면 노이즈에 대해 너무 민감하게 반응하여 기판 바이어스 전압(VBB)이 낮아질 수 있게 되므로, 전압 감지부의 응답 속도를 조절하여 기판 바이어스 전압(VBB)을 안정되게 유지시키는 것은 매우 어렵다. That is, if the response speed of the voltage detector is too slow, the substrate bias voltage VBB is lowered due to excessive pumping operation. On the other hand, if the response speed of the voltage sensing unit is too fast, the substrate bias voltage VBB may be lowered by reacting too sensitively to noise, thereby controlling the response speed of the voltage sensing unit to keep the substrate bias voltage VBB stable. Is very difficult.

또한, 전원전압(VDD)의 레벨이 높아져 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 낮아지는 것을 방지하기 위해 발진부의 주기를 증가시키는 방법이 있다. 전압 감지부의 반응 속도가 느리더라도 발진부에서 초과적인 펄스가 생성되기 이전에 발진부를 디스에이블 시킴으로써 과도한 펌핑이 발생되는 것을 방지하는 방법이다. In addition, there is a method of increasing the period of the oscillation part in order to prevent the level of the substrate bias voltage VBB from decreasing because the level of the power supply voltage VDD is increased. Even if the response speed of the voltage sensing unit is slow, it is a method of preventing excessive pumping by disabling the oscillator before generating an excessive pulse in the oscillator.

하지만, 전원전압(VDD)이 낮아지면 발진부의 주기가 길어지게 되고 1회의 펌핑 동작시 공급되는 전하가 적어지므로 정상적으로 필요한 펌핑 전류를 공급하는데 문제가 발생할 수 있다. However, when the power supply voltage VDD is lowered, the cycle of the oscillation unit becomes longer and the charge supplied during one pumping operation decreases, which may cause a problem in supplying the necessary pumping current.

본 발명의 실시예는 다음과 같은 특징을 갖는다. Embodiments of the present invention have the following features.

첫째, 본 발명의 실시예는 전원전압의 상승시 클램프 다이오드에 의해 펌핑 전압을 제한시켜 전원전압이 증가 되더라도 기판 바이어스 전압의 평균값을 일정하게 유지할 수 있도록 하는데 그 특징이 있다. First, the embodiment of the present invention is characterized by limiting the pumping voltage by the clamp diode when the power supply voltage rises so that the average value of the substrate bias voltage can be kept constant even if the power supply voltage is increased.

둘째, 본 발명의 실시예는 전원전압의 상승시 기판 바이어스 전압의 피크-투-피크(Peak-to-Peak) 값을 일정 수준으로 제한하여 기판 바이어스 전압을 안정적으로 유지할 수 있도록 하는데 특징이 있다. Second, an embodiment of the present invention is characterized in that the peak-to-peak value of the substrate bias voltage is limited to a predetermined level when the power supply voltage rises to maintain the substrate bias voltage stably.

본 발명의 실시예에 따른 내부 전압 생성 회로는, 기판 바이어스 전압의 레벨을 검출하여 검출신호를 출력하는 전압 검출기; 검출신호에 따라 발진신호를 출력하되, 코아전압 레벨에 의해 구동되는 발진부; 및 발진신호에 따라 펌핑 동작을 수행하여 기판 바이어스 전압을 출력하되, 펌핑 동작시 펌핑 노드에 공급되는 펌핑 전압을 전원전압 레벨에 대응하여 클램핑시키는 펌핑부를 포함하고, 펌핑부는 발진신호에 따라 펌핑 동작을 수행하여 기판 바이어스 전압을 출력하는 기판 바이어스 전압 생성부; 및 펌핑 동작시 펌핑 노드에 공급되는 펌핑 전압을 전원전압 레벨에 대응하여 클램핑시키는 클램핑부를 포함하는 것을 특징으로 한다. An internal voltage generation circuit according to an embodiment of the present invention, a voltage detector for detecting a level of the substrate bias voltage and outputting a detection signal; An oscillator for outputting an oscillation signal according to the detection signal and being driven by a core voltage level; And a pumping unit configured to output a substrate bias voltage by performing a pumping operation according to the oscillation signal, and to clamp the pumping voltage supplied to the pumping node according to the power supply voltage level during the pumping operation, and the pumping unit performs the pumping operation according to the oscillation signal. A substrate bias voltage generator configured to output a substrate bias voltage; And a clamping unit configured to clamp the pumping voltage supplied to the pumping node corresponding to the power supply voltage level during the pumping operation.

본 발명의 실시예는 다음과 같은 효과를 갖는다. An embodiment of the present invention has the following effects.

첫째, 본 발명의 실시예는 전원전압의 상승시 클램프 다이오드에 의해 펌핑 전압을 제한시켜 전원전압이 증가 되더라도 기판 바이어스 전압의 평균값을 일정하게 유지할 수 있도록 한다. First, the embodiment of the present invention is to limit the pumping voltage by the clamp diode when the power supply voltage rises so that the average value of the substrate bias voltage can be kept constant even if the power supply voltage is increased.

둘째, 본 발명의 실시예는 전원전압의 상승시 기판 바이어스 전압의 피크-투-피크(Peak-to-Peak) 값을 일정 수준으로 제한하여 기판 바이어스 전압을 안정적으로 유지할 수 있도록 한다. Secondly, the embodiment of the present invention limits the peak-to-peak value of the substrate bias voltage to a predetermined level when the power supply voltage rises, thereby stably maintaining the substrate bias voltage.

셋째, 본 발명이 실시예는 전원전압이 증가하더라도 기판 바이어스 전압의 변동폭이 일정하게 유지되도록 하여 디램 셀의 리프레쉬 열화를 개선할 수 있도록 하는 효과를 제공한다. Third, the embodiment of the present invention provides an effect of improving the deterioration of refresh of the DRAM cell by maintaining a constant variation in the substrate bias voltage even when the power supply voltage increases.

아울러 본 발명의 실시예는 예시를 위한 것으로, 당업자라면 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상과 범위를 통해 다양한 수정, 변경, 대체 및 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정 변경 등은 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다. It will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. .

도 1은 전원전압(VDD)에 따른 기판 바이어스 전압(VBB)의 변화를 나타낸 동작 파형도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 내부 전압 생성 회로에 관한 구성도.
도 3은 도 2의 펌핑부에 관한 상세 회로도.
도 4a 및 도 4b는 종래기술과 본 발명의 실시예에 있어서 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨을 비교한 파형도.
도 5는 본 발명의 실시예에 있어서 전원전압(VDD)에 따른 기판 바이어스 전압의 레벨을 비교한 도면.
도 6은 본 발명의 실시예에 있어서 전원전압(VDD)에 따른 기판 바이어스 전압의 피크-투-피크(Peak-to-Peak) 값을 비교한 도면.
1 is an operation waveform diagram showing a change in the substrate bias voltage VBB according to the power supply voltage VDD.
2 is a block diagram of an internal voltage generation circuit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a detailed circuit diagram of the pumping part of FIG. 2. FIG.
4A and 4B are waveform diagrams comparing levels of the substrate bias voltage VBB in the prior art and the embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a diagram comparing levels of substrate bias voltages according to a power supply voltage VDD in an embodiment of the present invention. FIG.
6 is a view comparing peak-to-peak values of substrate bias voltages according to a power supply voltage VDD in an embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 내부 전압 생성 회로에 관한 구성도이다. 2 is a block diagram illustrating an internal voltage generation circuit according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 내부 전압 생성 회로는 전압 검출기(100)와, 발진부(200)와, 펌핑부(300) 및 출력 로드부(400)를 포함한다. The internal voltage generation circuit according to the embodiment of the present invention includes a voltage detector 100, an oscillator 200, a pumping unit 300 and an output rod unit 400.

여기서, 전압 검출기(100)는 기준전압(VREF)에 따라 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨을 검출하여 검출신호 DET를 출력한다. 전압 검출기(100)는 전원전압(VDD) 레벨과 접지전압(VSS) 레벨 사이에서 동작하게 된다. Here, the voltage detector 100 detects the level of the substrate bias voltage VBB according to the reference voltage VREF and outputs the detection signal DET. The voltage detector 100 operates between a power supply voltage VDD level and a ground voltage VSS level.

발진부(Oscillator)(200)는 전압 검출기(100)의 검출신호 DET에 응답하여 예정된 주기를 갖고 토글링 하는 발진신호 OSC를 출력한다. 발진부(200)는 코아전압(VCORE) 및 접지전압(VSS)에 의해 구동하게 된다. The oscillator 200 outputs an oscillation signal OSC that toggles with a predetermined period in response to the detection signal DET of the voltage detector 100. The oscillator 200 is driven by the core voltage VCORE and the ground voltage VSS.

메모리 소자 및 IC 칩 등에는 외부의 클록뿐만 아니라 내부 클록을 이용해야 하는 회로들이 존재한다. 특히, 플래시 메모리 등의 비휘발성 메모리에서는 마이크로 컨트롤러나 펌프 회로 등에 외부 클록의 입력 없이 내부 클록을 이용하는데, 이 클록을 발생시키는 회로가 오실레이터 회로이다.There are circuits that need to use an internal clock as well as an external clock in memory devices and IC chips. In particular, in a nonvolatile memory such as a flash memory, an internal clock is used without input of an external clock to a microcontroller, a pump circuit, or the like. An oscillator circuit is a circuit that generates this clock.

오실레이터로 쓰이는 회로의 기본은 링 오실레이터로써 홀수개의 인버터를 직렬로 연결하여 최종 단의 출력이 최초 인버터의 입력으로 피드백되는 구조로 이루어져 있다. The basis of the circuit used as an oscillator is a ring oscillator that connects an odd number of inverters in series so that the output of the final stage is fed back to the input of the first inverter.

즉, 오실레이터 회로는 트랜지스터의 조합에 따라 주기적으로 하이 또는 로우 레벨의 출력신호를 발생하게 된다. 그리고, CMOS (complementary metal-oxide-semiconductor : 상보형 금속 산화막 반도체)로 구성된 인버터 구조의 구동부를 소수 개만큼 연결하여 오실레이터 회로를 구성하게 된다.That is, the oscillator circuit periodically generates an output signal of high or low level depending on the combination of transistors. In addition, an oscillator circuit is formed by connecting a few driving units of an inverter structure composed of a complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS).

그리고, 펌핑부(300)는 발진신호 OSC에 응답하여 전하 펌핑 동작을 수행함으로 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨을 상승시킨다. 펌핑부(300)는 전원전압(VDD) 레벨과 접지전압(VSS) 레벨 사이에서 동작하게 된다.In addition, the pumping unit 300 increases the level of the substrate bias voltage VBB by performing a charge pumping operation in response to the oscillation signal OSC. The pumping unit 300 operates between a power supply voltage VDD level and a ground voltage VSS level.

출력 로드부(400)는 커패시터 C와 저항 R을 포함하여, RC 지연 효과에 의해 기판 바이어스 전압(VBB)의 출력 로드를 제어한다. 여기서, 커패시터 C와, 저항 R은 기판 바이어스 전압(VBB) 출력단과 접지전압단 사이에 병렬 연결된다. The output load unit 400 includes the capacitor C and the resistor R to control the output load of the substrate bias voltage VBB by the RC delay effect. Here, the capacitor C and the resistor R are connected in parallel between the substrate bias voltage VBB output terminal and the ground voltage terminal.

전술한 구성을 바탕으로 본 발명의 실시예에 따른 내부 전압 생성 회로의 동작을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the internal voltage generation circuit according to an embodiment of the present invention based on the above configuration as follows.

먼저, 전압 검출기(100)는 전원전압 VDD이 인가되면 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨과 기준전압(VREF)의 레벨을 비교하여 그 비교결과에 따라 검출신호 DET의 레벨을 결정한다.First, when the power supply voltage VDD is applied, the voltage detector 100 compares the level of the substrate bias voltage VBB with the level of the reference voltage VREF and determines the level of the detection signal DET according to the comparison result.

예를 들면, 피드백 입력되는 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 전압 검출기(100)로 입력되는 기준전압(VREF)의 레벨보다 높은 레벨이 될 때, 검출신호 DET의 레벨을 로직 '하이'(High)로 천이하여 출력한다.For example, when the level of the substrate bias voltage VBB inputted to the feedback becomes higher than the level of the reference voltage VREF input to the voltage detector 100, the level of the detection signal DET is set to logic 'high'. And print out.

마찬가지로, 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 전압 검출기(100)로 입력되는 기준전압(VREF)의 레벨보다 낮은 레벨이 될 때, 검출신호 DET의 레벨을 로직 '로우'(Low)로 천이하여 출력한다.Similarly, when the level of the substrate bias voltage VBB becomes lower than the level of the reference voltage VREF input to the voltage detector 100, the level of the detection signal DET is shifted to a logic 'low' and output. do.

이때, 기준전압(VREF)은, 반도체 소자의 밴드 갭(Band Gap) 회로 등에서 생성되는 전압으로써, 반도체 소자의 PVT(PROCESS, VOLTAGE, TEMPERATURE) 변동과 상관없이 항상 안정적인 전압레벨을 유지하는 전압이다.In this case, the reference voltage VREF is a voltage generated in a band gap circuit of the semiconductor device, and is a voltage that maintains a stable voltage level at all times regardless of variations in PVT (PROCESS, VOLTAGE, TEMPERATURE) of the semiconductor device.

그리고, 발진부(200)는 전압 검출기(100)의 검출신호 DET의 레벨에 응답하여 예정된 주기를 갖고 토글링하는 발진신호 OSC를 출력한다. The oscillator 200 outputs an oscillation signal OSC that toggles with a predetermined period in response to the level of the detection signal DET of the voltage detector 100.

또한, 펌핑부(300)는 발진신호 OSC의 토글링에 응답하여 전하 펌핑 동작을 수행함으로써 기판 바이어스 전압(VBB)을 생성한다.In addition, the pumping unit 300 generates a substrate bias voltage VBB by performing a charge pumping operation in response to toggling of the oscillation signal OSC.

예를 들면, 전압 검출기(100)의 검출신호 DET 레벨이 로직 '로우'(Low)인 경우 발진부(200)에서 출력되는 발진신호 OSC는 예정된 주기로 발진하지 않고, 로직 '로우'(Low) 또는 로직 '하이'(High)로 고정된다.For example, when the detection signal DET level of the voltage detector 100 is logic 'low', the oscillation signal OSC output from the oscillator 200 does not oscillate at a predetermined period, but the logic 'low' or logic. Fixed to 'High'.

따라서, 펌핑부(300)는 전하 펌핑 동작을 수행하지 않으며, 이로 인해 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨은 하강한다.Therefore, the pumping unit 300 does not perform the charge pumping operation, and as a result, the level of the substrate bias voltage VBB decreases.

반면에, 전압 검출기(100)의 검출신호 DET의 레벨이 로직 '하이'(High)인 경우 발진부(200)에서 출력되는 발진신호 OSC는 예정된 주기로 발진한다.On the other hand, when the level of the detection signal DET of the voltage detector 100 is logic 'high', the oscillation signal OSC output from the oscillator 200 oscillates at a predetermined period.

따라서, 펌핑부(300)는 전하 펌핑 동작을 수행하며, 이로 인해 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 상승한다.Therefore, the pumping unit 300 performs a charge pumping operation, thereby raising the level of the substrate bias voltage VBB.

도 3은 도 2의 펌핑부(300)에 관한 상세 회로도이다. 3 is a detailed circuit diagram illustrating the pumping unit 300 of FIG. 2.

펌핑부(300)는 클램핑부(310)와, 기판 바이어스 전압 생성부(320)를 포함한다. The pumping unit 300 includes a clamping unit 310 and a substrate bias voltage generation unit 320.

여기서, 클램핑부(310)는 복수의 NMOS트랜지스터 N1~N4를 포함한다. Here, the clamping unit 310 includes a plurality of NMOS transistors N1 to N4.

NMOS트랜지스터 N1,N2는 펌핑 노드 ND1,ND2 사이에 직렬 연결된다. 그리고, NMOS트랜지스터 N3,N4는 펌핑 노드 ND1,ND2 사이에 직렬 연결된다. NMOS transistors N1 and N2 are connected in series between the pumping nodes ND1 and ND2. NMOS transistors N3 and N4 are connected in series between the pumping nodes ND1 and ND2.

그리고, NMOS트랜지스터 N1,N2는 게이트 단자와 소스 단자(또는, 드레인 단자)가 펌핑 노드 ND1에 공통 연결된 다이오드 소자로 이루어진다. 그리고, NMOS트랜지스터 N3,N4는 게이트 단자와 드레인 단자(또는, 소스 단자)가 펌핑 노드 ND2에 공통 연결된 다이오드 소자로 이루어진다.In addition, the NMOS transistors N1 and N2 include a diode device in which a gate terminal and a source terminal (or drain terminal) are commonly connected to the pumping node ND1. The NMOS transistors N3 and N4 are formed of diode devices in which a gate terminal and a drain terminal (or source terminal) are commonly connected to the pumping node ND2.

또한, 기판 바이어스 전압 생성부(320)는 복수의 NMOS트랜지스터 N5,N6와, 모스 커패시터 MC1,MC2, 복수의 인버터 IV1~IV3, 및 복수의 PMOS트랜지스터 P1~P4를 포함한다. In addition, the substrate bias voltage generation unit 320 includes a plurality of NMOS transistors N5 and N6, MOS capacitors MC1 and MC2, a plurality of inverters IV1 to IV3, and a plurality of PMOS transistors P1 to P4.

NMOS트랜지스터 N5,N6는 펌핑 노드 ND1,ND2 사이에 연결된다. NMOS트랜지스터 N5는 게이트 단자가 펌핑 노드 ND2에 연결되고, NMOS트랜지스터 N6는 게이트 단자가 펌핑 노드 ND1에 연결된다. NMOS transistors N5 and N6 are connected between pumping nodes ND1 and ND2. The NMOS transistor N5 has its gate terminal connected to the pumping node ND2, and the NMOS transistor N6 has its gate terminal connected to the pumping node ND1.

모스 커패시터 MC1,MC2는 PMOS 커패시터로 이루어질 수 있다. 모스 커패시터 MC1는 인버터 IV1에 의해 반전 구동된 발진신호 OSC를 증폭하여 출력한다. 모스 커패시터 MC2는 인버터 IV2,IV3에 의해 비 반전 구동된 발진신호 OSC를 증폭하여 출력한다.The MOS capacitors MC1 and MC2 may be PMOS capacitors. The MOS capacitor MC1 amplifies and outputs the oscillation signal OSC driven inverted by the inverter IV1. The MOS capacitor MC2 amplifies and outputs the oscillation signal OSC driven by the inverted inverters IV2 and IV3.

PMOS트랜지스터 P1,P2는 NMOS트랜지스터 N5,N6과 접지전압단 사이에 연결되어 펌핑 노드 ND1,ND2와 노드 ND3,ND4 사이에 크로스 커플드 연결된다. The PMOS transistors P1 and P2 are connected between the NMOS transistors N5 and N6 and the ground voltage terminal and are cross-coupled between the pumping nodes ND1 and ND2 and the nodes ND3 and ND4.

PMOS트랜지스터 P3,P4는 펌핑 노드 ND1,ND2와 접지전압단 사이에 연결되어 게이트 단자가 접지전압단에 연결된다. PMOS트랜지스터 P3,P4는 게이트 단자를 통해 접지전압이 인가되어 항상 턴 온 상태를 유지하게 된다. The PMOS transistors P3 and P4 are connected between the pumping nodes ND1 and ND2 and the ground voltage terminal, and a gate terminal thereof is connected to the ground voltage terminal. The PMOS transistors P3 and P4 are always turned on by applying a ground voltage through the gate terminal.

이러한 구성을 갖는 펌핑부(300)의 동작을 설명하면 다음과 같다. Referring to the operation of the pumping unit 300 having such a configuration as follows.

클램핑부(310)는 펌핑 동작시 공급되는 전하를 적절한 값으로 조절하기 위해서 펌핑 노드 ND1,ND2의 양단에 연결된다. The clamping unit 310 is connected to both ends of the pumping nodes ND1 and ND2 to adjust the electric charge supplied during the pumping operation to an appropriate value.

다이오드 형태의 클램핑부(310)에 의해 펌핑 동작시 공급되는 전하가 일정 값으로 제한된다. The charge supplied in the pumping operation by the diode-type clamping part 310 is limited to a predetermined value.

즉, 전원전압(VDD)이 낮은 경우에는 클램핑부(310)가 동작하지 않고, 전원전압(VDD)이 높은 경우에는 클램핑부(310)가 동작하게 된다. That is, when the power supply voltage VDD is low, the clamping unit 310 does not operate. When the power supply voltage VDD is high, the clamping unit 310 operates.

이에 따라, 펌핑 동작시 공급되는 전하가 특정 값으로 제한되어 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 고 전원전압(VDD) 상태에서 낮아지는 것을 방지할 수 있도록 한다. Accordingly, the charge supplied during the pumping operation is limited to a specific value to prevent the level of the substrate bias voltage VBB from being lowered in the high power supply voltage VDD state.

한편, PMOS트랜지스터 P3,P4가 턴 온 되면 접지전압이 펌핑 노드 ND1,ND2에 공급되어 PMOS트랜지스터 P1,P2가 턴 온 된다. On the other hand, when the PMOS transistors P3 and P4 are turned on, the ground voltage is supplied to the pumping nodes ND1 and ND2 so that the PMOS transistors P1 and P2 are turned on.

이때, 0V 에서 전원전압(VDD) 사이의 레벨에서 토글링(Toggling) 하는 구형파 펄스의 발진신호 OSC가 발진부(200)로부터 공급된다. At this time, the oscillation signal OSC of the square wave pulse that toggles at a level between 0 V and the power supply voltage VDD is supplied from the oscillator 200.

발진신호 OSC가 0V 에서 전원전압(VDD) 레벨로 천이하면, 모스 커패시터 MC2에 의해 펌핑 노드 ND2의 전위가 순간적으로 상승하게 된다. 반면에, 모스 커패시터 MC1에 의해 펌핑 노드 ND1의 전위가 순간적으로 하강하게 된다. When the oscillation signal OSC transitions from 0V to the power supply voltage VDD level, the potential of the pumping node ND2 is momentarily raised by the MOS capacitor MC2. On the other hand, the potential of the pumping node ND1 drops instantaneously by the MOS capacitor MC1.

이때, 펌핑 노드 ND2의 전위가 전원전압(VDD) 레벨까지 상승할 수 있지만, PMOS트랜지스터 P2의 정션-웰(Junction to well)의 순방향 다이오드 턴 온 동작에 의해 전위의 상승이 제한된다. At this time, the potential of the pumping node ND2 may rise to the power supply voltage VDD level, but the increase of the potential is limited by the forward diode turn-on operation of the junction-well of the PMOS transistor P2.

마찬가지로, 펌핑 노드 ND1의 전위가 - 전원전압(-VDD) 까지 하강할 수 있지만, NMOS트랜지스터 N6의 정션-웰(Junction to well)의 순방향 다이오드 턴 온 동작에 의해 전위의 하강이 제한된다. Similarly, although the potential of the pumping node ND1 may drop to −VDD, the drop of the potential is limited by the forward diode turn-on operation of the junction-well of the NMOS transistor N6.

이후에, 발진신호 OSC가 하이 레벨로 유지되는 동안 펌핑 노드 ND2는 PMOS트랜지스터 P2에 의해 디스차지 되어 전위가 점차 하강하게 된다. 반면에, 펌핑 노드 ND1는 NMOS트랜지스터 N5에 의해 전하 트랜스퍼(기판 바이어스 전압 VBB의 출력단으로부터 펌핑 노드 ND1로)가 발생하면서 전위가 점차 상승하게 된다. Thereafter, while the oscillation signal OSC is maintained at the high level, the pumping node ND2 is discharged by the PMOS transistor P2 so that the potential gradually decreases. On the other hand, the pumping node ND1 gradually increases in potential as the charge transfer (from the output terminal of the substrate bias voltage VBB to the pumping node ND1) is generated by the NMOS transistor N5.

다음에, 펌핑 노드 ND1와 펌핑 노드 ND2의 전압 차이는 점차 줄어들어 PMOS트랜지스터 P2의 문턱전압(Vt)에 도달하게 되고 펌핑 노드 ND2의 전압 강하가 멈추게 된다. Next, the voltage difference between the pumping node ND1 and the pumping node ND2 gradually decreases to reach the threshold voltage Vt of the PMOS transistor P2 and the voltage drop of the pumping node ND2 stops.

또한, 펌핑 노드 ND1의 전압과 펌핑 노드 ND2의 전압 차이가 NMOS트랜지스터 N5의 문턱전압(Vt)에 도달하면, NMOS트랜지스터 N5가 턴 오프 되어 펌핑 노드 ND1의 전압 상승이 멈추게 된다. 즉, NMOS트랜지스터 N5에 의한 전하 트랜스퍼 동작이 중지된다. In addition, when the voltage difference between the voltage of the pumping node ND1 and the pumping node ND2 reaches the threshold voltage Vt of the NMOS transistor N5, the NMOS transistor N5 is turned off to stop the voltage rise of the pumping node ND1. That is, the charge transfer operation by the NMOS transistor N5 is stopped.

이어서, 구형파 펄스인 발진신호 OSC가 전원전압(VDD) 레벨에서 0V로 천이하게 되면, 펌핑 노드 ND2의 전위가 순간적으로 하강하게 되어 펌핑 노드 ND1의 전위가 순간적으로 상승하게 된다. Subsequently, when the oscillation signal OSC, which is a square wave pulse, transitions from the power supply voltage VDD level to 0 V, the potential of the pumping node ND2 is dropped momentarily, and the potential of the pumping node ND1 is raised instantaneously.

그리고, NMOS트랜지스터 N6에 의해 전하 트랜스퍼가 발생하게 되고, 위의 과정이 반복된다. 이때, 디스차지 트랜지스터는 PMOS트랜지스터 P2에서 PMOS트랜지스터 P1로 바뀌게 된다. 그리고, 차지 트랜스퍼 트랜지스터는 NMOS트랜지스터 N5에서 NMOS트랜지스터 N6으로 바뀌게 된다. The charge transfer is generated by the NMOS transistor N6, and the above process is repeated. At this time, the discharge transistor is changed from the PMOS transistor P2 to the PMOS transistor P1. The charge transfer transistor is then changed from NMOS transistor N5 to NMOS transistor N6.

위의 과정을 거쳐 발진신호 OSC가 0V에서 전원전압(VDD) 레벨로 천이하고 전원전압(VDD)에서 0V의 레벨로 천이하게 되면, 펌핑 노드 ND1,ND2에서 교대로 전하 트랜스퍼 현상이 발생하게 된다. When the oscillation signal OSC transitions from 0V to the power supply voltage VDD level and then from the power supply voltage VDD to 0V level, the charge transfer phenomenon occurs alternately at the pumping nodes ND1 and ND2.

이에 따라, 기판 바이어스 전압 VBB의 출력단으로부터 전하가 접지전압단으로 방출되어 기판 바이어스 전압 VBB 노드의 전압을 점차적으로 음의 값으로 낮아지게 된다. Accordingly, charge is discharged from the output terminal of the substrate bias voltage VBB to the ground voltage terminal, thereby gradually lowering the voltage of the substrate bias voltage VBB node to a negative value.

전원전압(VDD)의 레벨이 증가하게 되면, 1회 펌핑시 이동하는 전하가 증가하게 된다. 즉, 전원전압(VDD)의 레벨이 증가함에 따라 NMOS트랜지스터 N5 또는 NMOS트랜지스터 N6이 턴 온 될 때보다 많은 전류가 흐를 수 있게 되므로 전하 트랜스퍼 현상이 증가하게 된다. When the level of the power supply voltage VDD is increased, the charge that is transferred during one pumping is increased. That is, as the level of the power supply voltage VDD increases, more current can flow than when the NMOS transistor N5 or the NMOS transistor N6 is turned on, thereby increasing the charge transfer phenomenon.

NMOS트랜지스터 N5와 NMOS트랜지스터 N6에 순간적으로 걸릴 수 있는 게이트-소스 전압은 2×전원전압(VDD)이므로 전원전압(VDD)가 증가할수록 차지 전달 능력을 증가함을 알 수 있다. Since the gate-source voltage that can be instantaneously applied to the NMOS transistor N5 and the NMOS transistor N6 is 2 × power supply voltage VDD, the charge transfer capacity increases as the power supply voltage VDD increases.

본 발명의 실시예에서는 1회의 펌핑 동작시 이동하는 전하를 제한하기 위해 펌핑 노드 ND1,ND2 사이에 2 개의 직렬 다이오드를 구비하게 된다. In the embodiment of the present invention, two series diodes are provided between the pumping nodes ND1 and ND2 in order to limit the moving charge in one pumping operation.

예를 들면, 이 다이오드 타입의 NMOS트랜지스터 N1,N2 또는 NMOS트랜지스터 N3,N4는 약 2×0.7V = 1.4V의 클램핑 전압 특성을 갖는다. For example, this diode type NMOS transistor N1, N2 or NMOS transistors N3, N4 has a clamping voltage characteristic of about 2 x 0.7V = 1.4V.

이에 따라, 펌핑 노드 ND1,ND2 사이의 전압차가 ±1.4V 이상으로 벌어지게 되는 것을 방지할 수 있도록 한다. Accordingly, the voltage difference between the pumping nodes ND1 and ND2 can be prevented from spreading beyond ± 1.4V.

즉, 전원전압(VDD)이 증가하더라도 펌핑 노드 ND1,ND2 사이의 전압 차는 최대 2 개의 다이오드의 턴 온 전압으로 고정된다. 따라서, 전하의 과도한 전달에 의해 기판 바이어스 전압 VBB의 레벨이 낮아지는 현상을 방지하여 기판 바이어스 전압 VBB을 안정적으로 유지할 수 있게 된다. That is, even if the power supply voltage VDD increases, the voltage difference between the pumping nodes ND1 and ND2 is fixed to the turn-on voltage of up to two diodes. Accordingly, the phenomenon in which the level of the substrate bias voltage VBB is lowered due to excessive transfer of charges can be prevented, so that the substrate bias voltage VBB can be stably maintained.

본 발명의 실시예에서는 클램핑부(310)에 NMOS트랜지스터가 다이오드 타입으로 형성된 것을 그 예로 설명하였지만, 본 발명의 실시예는 이에 한정되는 것이 아니라 클램핑부(310)의 다이오드가 PMOS트랜지스터 타입 또는 기타 다른 다이오드 소자로 이루어질 수도 있다. In the embodiment of the present invention, the NMOS transistor is formed as a diode type in the clamping unit 310 as an example, but the embodiment of the present invention is not limited to this, but the diode of the clamping unit 310 is a PMOS transistor type or other It may be made of a diode element.

그리고, 클램핑부(310)에서 직렬 연결된 다이오드 소자의 연결 개수는 문턱전압 값을 고려하여 적절하게 선택할 수 있다. 즉, 본 발명의 실시예에서는 클램핑부(310)의 NMOS트랜지스터 N1,N2(또는, NMOS트랜지스터 N3,N4)가 2개 연결된 것을 그 예로 설명하였으나, 문턱 전압에 따라서 다이오드 소자가 2개가 아니라 3 개 또는 그 이상으로 직렬 연결될 수 있다. The number of connections of the diode elements connected in series in the clamping unit 310 may be appropriately selected in consideration of the threshold voltage value. That is, in the exemplary embodiment of the present invention, two NMOS transistors N1 and N2 (or NMOS transistors N3 and N4) of the clamping unit 310 are described as an example. However, three diode elements instead of two according to the threshold voltage are described. It can be connected in series or more.

도 4a 및 도 4b는 종래기술과 본 발명의 실시예에 있어서 시간에 따른 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨을 비교한 파형도이다. 4A and 4B are waveform diagrams comparing levels of the substrate bias voltage VBB with time according to the prior art and the exemplary embodiment of the present invention.

도 4a는 종래기술에서 전원전압(VDD)의 레벨을 변경하여 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 펌핑하는 파형을 나타내고, 도 4b는 본 발명의 실시예에서 전원전압(VDD)의 레벨을 변경하여 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨이 펌핑하는 파형을 나타낸다. FIG. 4A illustrates a waveform in which the level of the substrate bias voltage VBB is pumped by changing the level of the power supply voltage VDD in the prior art, and FIG. 4B illustrates a change in the level of the power supply voltage VDD in the embodiment of the present invention. The level of the substrate bias voltage VBB represents a waveform to be pumped.

도 4a에서 (A),(B),(C)는 각각 1.3V, 1.6V, 2.0V에서의 종래기술의 기판 바이어스 전압(VBB) 레벨을 나타낸 것이며, 도 4b에서 (D),(E),(F)는 각각 1.3V, 1.6V, 2.0V에서의 본 발명의 실시예에 따른 기판 바이어스 전압(VBB) 레벨을 나타낸 것이다. (A), (B), and (C) in FIG. 4A show prior art substrate bias voltage (VBB) levels at 1.3 V, 1.6 V, and 2.0 V, respectively, and (D) and (E) in FIG. 4B. (F) shows the substrate bias voltage (VBB) level according to the embodiment of the present invention at 1.3V, 1.6V, 2.0V, respectively.

도 4a 및 도 4b의 시뮬레이션(Simulation)에서 사용된 기판 바이어스 전압(VBB)의 로드(Load)는 접지전압단에 연결된 직렬 저항으로 모델링하여 일정한 전류가 지속적으로 빠져나가도록 하였다. The load of the substrate bias voltage VBB used in the simulations of FIGS. 4A and 4B is modeled as a series resistor connected to the ground voltage terminal so that a constant current is continuously discharged.

도 4a 및 도 4b의 파형을 비교해 보면 알 수 있듯이, 전원전압(VDD)의 레벨이 증가할수록 1회의 펌핑 동작시 이동하는 전하가 증가하여 기판 바이어스 전압(VBB)의 변동 폭이 점차적으로 커지게 되는 것을 알 수 있다. As can be seen by comparing the waveforms of FIGS. 4A and 4B, as the level of the power supply voltage VDD increases, charges that move during one pumping operation increase to gradually increase the variation of the substrate bias voltage VBB. It can be seen that.

도 4b의 시뮬레이션 결과에서 보는 바와 같이, 이러한 현상은 본 발명의 실시예에서 크게 개선되어 전원전압(VDD)이 증가하더라도 기판 바이어스 전압(VBB)의 출렁임이 별로 증가하지 않는 것을 알 수 있다. As shown in the simulation result of FIG. 4B, this phenomenon is greatly improved in the embodiment of the present invention, and it can be seen that the fluctuation of the substrate bias voltage VBB does not increase much even when the power supply voltage VDD is increased.

도 5는 본 발명의 실시예에 있어서 전원전압(VDD)의 변화에 따른 기판 바이어스 전압(VBB)의 레벨을 비교한 도면이다. 5 is a view comparing the level of the substrate bias voltage (VBB) according to the change in the power supply voltage (VDD) in the embodiment of the present invention.

도 5에서 보는 바와 같이 본 발명의 실시예는 전원전압(VDD)의 변화에 따라 기판 바이어스 전압(VBB)의 메디안(Median) 값이 증가하지 않는 것을 알 수 있다.As shown in FIG. 5, it can be seen that the embodiment of the present invention does not increase the median value of the substrate bias voltage VBB according to the change of the power supply voltage VDD.

도 6은 본 발명의 실시예에 있어서 전원전압(VDD)의 변화에 따른 기판 바이어스 전압의 피크-투-피크(Peak-to-Peak) 값을 비교한 도면이다. FIG. 6 is a view comparing peak-to-peak values of substrate bias voltages according to a change in power supply voltage VDD according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 6에서 보는 바와 같이 본 발명의 실시예는 전원전압(VDD)의 변화에 따라 기판 바이어스 전압(VBB)의 피크-투-피크(Peak-to-Peak, 변동 폭)가 증가하지 않는 것을 알 수 있다. As shown in FIG. 6, it can be seen that the embodiment of the present invention does not increase the peak-to-peak of the substrate bias voltage VBB according to the change of the power supply voltage VDD. have.

Claims (9)

기판 바이어스 전압의 레벨을 검출하여 검출신호를 출력하는 전압 검출기;
상기 검출신호에 따라 발진신호를 출력하되, 코아전압 레벨에 의해 구동되는 발진부; 및
상기 발진신호에 따라 펌핑 동작을 수행하여 상기 기판 바이어스 전압을 출력하되, 상기 펌핑 동작시 펌핑 노드에 공급되는 펌핑 전압을 전원전압 레벨에 대응하여 클램핑시키는 펌핑부를 포함하고,
상기 펌핑부는
상기 발진신호에 따라 펌핑 동작을 수행하여 상기 기판 바이어스 전압을 출력하는 기판 바이어스 전압 생성부; 및
상기 펌핑 동작시 상기 펌핑 노드에 공급되는 펌핑 전압을 전원전압 레벨에 대응하여 클램핑시키는 클램핑부를 포함하는 것을 특징으로 하는 내부 전압 생성 회로.
A voltage detector for detecting a level of the substrate bias voltage and outputting a detection signal;
An oscillator which outputs an oscillation signal according to the detection signal and is driven by a core voltage level; And
A pumping unit configured to output the substrate bias voltage by performing a pumping operation according to the oscillation signal, and to clamp a pumping voltage supplied to a pumping node in response to a power supply voltage level during the pumping operation;
The pumping unit
A substrate bias voltage generation unit configured to output the substrate bias voltage by performing a pumping operation according to the oscillation signal; And
And a clamping unit configured to clamp the pumping voltage supplied to the pumping node in response to a power supply voltage level during the pumping operation.
삭제delete 삭제delete 청구항 4은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 4 has been abandoned due to the setting registration fee. 제 1항에 있어서, 상기 클램핑부는
상기 펌핑 노드의 양단에 직렬 연결된 복수의 다이오드 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 내부 전압 생성 회로.
The method of claim 1, wherein the clamping portion
And a plurality of diode elements connected in series with both ends of the pumping node.
청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 5 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 4항에 있어서, 상기 전원전압의 레벨이 증가하는 경우 상기 펌핑 노드의 양단 전압 차는 상기 다이오드 소자의 턴 온 전압으로 고정되는 것을 특징으로 하는 내부 전압 생성 회로. The internal voltage generation circuit of claim 4, wherein the voltage difference across the pumping node is fixed to the turn-on voltage of the diode element when the level of the power supply voltage increases. 청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 6 has been abandoned due to the setting registration fee. 제 1항에 있어서, 상기 클램핑부는
상기 펌핑 노드의 양단에 직렬 연결되어 게이트 단자가 소스 단자와 공통 연결된 다이오드 타입의 복수의 제 1NMOS트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 내부 전압 생성 회로.
The method of claim 1, wherein the clamping portion
And a plurality of first NMOS transistors of a diode type connected in series with both ends of the pumping node, the gate terminals being commonly connected with the source terminals.
청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 7 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 6항에 있어서, 상기 클램핑부는
상기 펌핑 노드의 양단에 직렬 연결되어 게이트 단자가 드레인 단자와 공통 연결된 다이오드 타입의 복수의 제 2NMOS트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 내부 전압 생성 회로.
The method of claim 6, wherein the clamping portion
And a plurality of second NMOS transistors of a diode type connected in series with both ends of the pumping node, the gate terminals of which are commonly connected to the drain terminals.
청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 8 was abandoned when the registration fee was paid. 제 7항에 있어서, 상기 복수의 제 1NMOS트랜지스터는 상기 복수의 제 2NMOS트랜지스터와 병렬 연결된 것을 특징으로 하는 내부 전압 생성 회로. 8. The internal voltage generation circuit of claim 7, wherein the plurality of first NMOS transistors are connected in parallel with the plurality of second NMOS transistors. 청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 9 has been abandoned due to the setting registration fee. 제 1항에 있어서, 상기 클램핑부는 상기 전원전압이 기 설정된 전압보다 높은 경우에만 동작하는 것을 특징으로 하는 내부 전압 생성 회로. The internal voltage generation circuit of claim 1, wherein the clamping unit operates only when the power supply voltage is higher than a predetermined voltage.
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KR100885375B1 (en) * 2007-02-16 2009-02-25 매그나칩 반도체 유한회사 Semiconductor device with electrostatic protection circuits

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