KR100791073B1 - 난류 날개들을 갖는 배기 배관 및 배기 시스템 - Google Patents
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Abstract
난류 날개들을 갖는 배기 배관 및 배기 시스템을 제공한다. 상기 배기 배관은 외측 배관 및 내측 배관을 구비한다. 상기 외측 배관에 가스 주입구가 배치된다. 상기 내측 배관은 상기 외측 배관의 내부에 장착된다. 상기 내측 배관은 복수의 난류 날개들 및 가스 분출구들을 구비한다. 상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 안쪽으로 돌출되며 상기 가스 분출구들에 인접하게 배치된다. 상기 내측 배관의 내부에 배출가스 통로(exhaust gas passage)가 제공된다. 상기 외측 배관 및 상기 내측 배관 사이에 틈(gap)이 존재한다. 상기 가스 분출구들은 상기 틈(gap)을 경유하여 상기 가스 주입구에 연통된다. 상기 배기 배관은 상기 배기 시스템의 가스 정화기에 연결될 수 있다.
Description
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 배기 배관을 갖는 배기 시스템을 설명하기 위한 블록도이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 설명하기 위한 부분 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 배기 배관을 설명하기 위하여 도 2의 배기 배관을 장축 방향으로 절단한 단면도이다.
도 4는 도 3의 E부분을 상세히 보여주는 확대 단면도이다.
도 5 내지 도 7은 본 발명의 다른 실시 예들에 따른 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 설명하기 위한 부분 사시도들이다.
도 8 내지 도 10은 본 발명의 또 다른 실시 예들에 따른 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 설명하기 위한 부분 확대 단면도들이다.
**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**
10 : 공정 챔버(process chamber)
13 : 진공 배관
20 : 진공 펌프(vacuum pump)
30 : 가스 정화기(scrubber)
33 : 정화가스 배기관
40 : 불활성 가스 공급기
43 : 가스 공급 배관
50 : 배기 배관
50' : 배출가스 통로(exhaust gas passage)
53 : 외측 배관
55 : 가스 주입구
57 : 틈(gap)
63 : 내측 배관
63W : 난류 날개(turbulence wing)
65 : 제 1 가스 분출구 67, 67' : 제 2 가스 분출구
71 : 분사가스층(jet layer)
본 발명은 배기 배관에 관한 것으로, 특히 난류 날개들을 갖는 배기 배관 및 배기 시스템에 관한 것이다.
반도체소자 또는 평판 디스플레이(flat panel display)의 제조에 이용되는 공정 챔버(process chamber)는 공정 가스와 같은 다양한 종류의 화학물질들을 사용 한다. 상기 공정 챔버에서 생성되는 공정 부산물들 및 잉여 가스는 진공 펌프와 같은 배출장치를 이용하여 가스 정화기(scrubber)로 보내진다. 상기 가스 정화기(scrubber)는 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스를 세정/분리한 후 배출하는 역할을 한다.
상기 공정 챔버, 상기 진공 펌프 및 상기 가스 정화기는 배기 배관들을 이용하여 상호 연결한다. 즉, 상기 배기 배관들은 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스가 이동하는 통로를 제공하는 역할을 한다. 이에 따라, 상기 배기 배관들은 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스를 배출할 수 있는 충분한 수송능력을 가져야 한다. 그런데 공정 수행 시간의 경과에 따라 상기 배기 배관의 내부에 상기 공정 부산물들이 흡착되는 현상이 발생한다.
상기 공정 부산물들의 흡착은 상기 배기 배관의 수송능력을 급격히 저하시킨다. 또한, 상기 공정 부산물들의 흡착은 상기 배기 배관의 막힘 및 상기 진공 펌프의 고장과 같은 각종 장애를 유발하기도 한다. 결과적으로, 상기 공정 부산물들의 흡착은 분해정비 주기를 단축시킨다. 상기 분해정비 주기의 단축은 상기 공정 챔버의 유효 가동률을 저하시킨다.
배기 배관에 공정 부산물들의 흡착을 방지하는 기술이 미국공개특허 US2003/0136365A1호에 "반응성 부산물 흡착방지 수단을 갖는 배기 배관 및 흡착방지 방법(Exhaust pipe with reactive by-product adhesion preventing means and method of preventing the adhesion)" 이라는 제목으로 고마이(Komai) 등에 의해 개시된 바 있다.
고마이(Komai) 등에 따르면, 외측 실린더 및 내측 실린더를 구비하는 배기 배관이 제공된다. 상기 외측 실린더에는 가스 주입구가 배치된다. 상기 외측 실린더 및 상기 내측 실린더 사이에 틈(gap)이 존재한다. 상기 내측 실린더에는 복수의 미세한 구멍들(pore)이 배치된다. 상기 내측 실린더 내에 배출가스 통로(exhaust gas passage)가 제공된다.
상기 가스 주입구를 통하여 질소(N2) 가스를 공급한다. 상기 질소(N2) 가스는 상기 미세한 구멍들(pore)을 통하여 상기 내측 실린더 내부로 분사된다. 상기 분사된 질소(N2) 가스는 상기 내측 실린더 내벽을 따라 분사가스층(jet layer)을 형성한다.
상기 외측 실린더의 일단은 공정 챔버에 연결된다. 상기 외측 실린더의 타단은 진공 펌프에 연결된다. 상기 공정 챔버에서 생성된 반응성 부산물은 상기 배출가스 통로를 경유하여 배출된다. 여기서, 상기 분사가스층(jet layer)은 상기 반응성 부산물이 상기 내측 실린더의 내벽과 접촉하는 것을 방지하는 역할을 하여야 한다. 즉, 상기 분사가스층(jet layer)은 상기 내측 실린더의 내벽을 치밀하게 감싸도록 형성되어야 한다.
그런데 상기 분사가스층은 상기 가스 주입구를 통하여 공급되는 상기 질소(N2) 가스의 압력 및 상기 미세한 구멍들(pore)의 배치에 의존하여 제어된다. 상기 질소(N2) 가스의 압력이 부족할 경우 상기 분사가스층은 부분적으로 형성될 수 있다.
이와 반대로, 상기 질소(N2) 가스의 압력이 과도하게 높을 경우 상기 분사가스층에 의하여 상기 배출가스 통로가 좁아질 수 있다. 이 경우에, 상기 분사가스층은 상기 반응성 부산물의 원활한 배출을 방해한다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 종래기술의 문제점을 개선하기 위한 것으로서, 공정 부산물의 흡착을 방지할 수 있는 배기 배관을 제공하는 데 있다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는, 배기 배관 내부에 공정 부산물의 흡착을 방지할 수 있는 배기 시스템을 제공하는 데 있다.
본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는, 배기 배관 내부에 공정 부산물의 흡착을 방지할 수 있는 배기 방법을 제공하는 데 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 제공한다. 상기 배기 배관은 외측 배관 및 내측 배관을 구비한다. 상기 외측 배관에 가스 주입구가 배치된다. 상기 내측 배관은 상기 외측 배관의 내부에 장착된다. 상기 내측 배관은 복수의 난류 날개들 및 가스 분출구들을 구비한다. 상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 안쪽으로 돌출되며 상기 가스 분출구들에 인접하게 배치된다. 상기 내측 배관의 내부에 배출가스 통로(exhaust gas passage)가 제공된다. 상기 외측 배관 및 상기 내측 배관 사이에 틈(gap)이 존재한다. 상기 가스 분출구들은 상기 틈(gap)을 경유하여 상기 가스 주입구에 연통된다.
본 발명의 몇몇 실시 예에 있어서, 상기 난류 날개들은 서로 이격되고 상기 내측 배관의 내주표면을 따라 나선 정렬될 수 있다. 또한, 상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 내주표면을 따라 환형 정렬될 수 있다.
다른 실시 예에 있어서, 상기 난류 날개들은 상기 내측 배관과 같은 두께를 갖는 것일 수 있다. 상기 난류 날개들은 판금가공에 의하여 형성된 것일 수 있다. 상기 난류 날개 및 상기 내측 배관 사이의 교각은 1도 내지 179도인 것일 수 있다.
또 다른 실시 예에 있어서, 상기 난류 날개들은 상기 제 1 가스 분출구를 기준하여 상기 배출가스 통로의 입구 쪽, 출구 쪽, 또는 양 쪽에 배치될 수 있다.
또 다른 실시 예에 있어서, 상기 내측 배관에 상기 제 1 가스 분출구와 이격된 제 2 가스 분출구가 배치될 수 있다. 상기 제 2 가스 분출구는 상기 난류 날개들과 어긋나게 정렬될 수 있다.
또한, 본 발명은, 배기 시스템을 제공한다. 이 시스템은 가스 주입구를 갖는 외측 배관을 구비한다. 상기 외측 배관의 일단에 가스 정화기(scrubber)가 연결된다. 상기 외측 배관의 타단에 공정 챔버(process chamber)가 연결된다. 상기 외측 배관의 내부에 내측 배관이 장착된다. 상기 내측 배관은 복수의 난류 날개들 및 가스 분출구들을 구비한다. 상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 안쪽으로 돌출되며 상기 가스 분출구들에 인접하게 배치된다. 상기 내측 배관의 내부에 배출가스 통로(exhaust gas passage)가 제공된다. 상기 외측 배관 및 상기 내측 배관 사이에 틈(gap)이 존재한다. 상기 가스 분출구들은 상기 틈(gap)을 경유하여 상기 가스 주 입구에 연통된다.
몇몇 실시 예에 있어서, 상기 공정 챔버 및 상기 외측 배관 사이에 진공 펌프(vacuum pump)가 배치될 수 있다.
다른 실시 예에 있어서, 상기 난류 날개들은 서로 이격되고 상기 내측 배관의 내주표면을 따라 나선 정렬될 수 있다. 또한, 상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 내주표면을 따라 환형 정렬될 수 있다.
또 다른 실시 예에 있어서, 상기 내측 배관에 상기 제 1 가스 분출구와 이격된 제 2 가스 분출구가 배치될 수 있다.
또 다른 실시 예에 있어서, 상기 가스 주입구는 불활성 가스 공급기에 연결될 수 있다. 상기 불활성 가스 공급기는 가열된 불활성 가스를 공급하기 위한 발열장치를 구비할 수 있다. 상기 가열된 불활성 가스는 20℃ 내지 300℃ 인 것일 수 있다.
이에 더하여, 본 발명은, 배기 방법을 제공한다. 이 방법은 배기 배관의 일단을 가스 정화기(scrubber)에 연결하는 것을 포함한다. 상기 배기 배관은 외측 배관 및 상기 외측 배관의 내부에 장착된 내측배관을 구비한다. 상기 외측 배관은 측벽에 가스 주입구를 구비한다. 상기 내측 배관은 복수의 난류 날개들 및 가스 분출구들을 구비한다. 상기 외측 배관 및 상기 내측 배관 사이에 틈(gap)이 존재한다. 상기 가스 주입구는 상기 틈(gap)을 경유하여 상기 가스 분출구들과 연통된다. 상기 가스 주입구에 불활성 가스를 공급하여 상기 내측 배관의 내부에 상기 불활성 가스의 분사가스층을 형성한다. 상기 배기 배관의 타단에 공정 챔버(process chamber)를 연결한다. 상기 공정 챔버에서 발생하는 공정 부산물들 및 잉여 가스를 상기 배기 배관의 내부에 형성된 배출가스 통로(exhaust gas passage)를 경유하여 상기 가스 정화기(scrubber)로 이송한다.
몇몇 실시 예에 있어서, 상기 난류 날개들은 서로 이격되고 상기 내측 배관의 내부로 돌출되며 상기 내측 배관의 내주표면을 따라 나선 정렬된 것일 수 있다.
다른 실시 예에 있어서, 상기 공정 챔버 및 상기 배기 배관 사이에 진공 펌프(vacuum pump)가 배치될 수 있다.
또 다른 실시 예에 있어서, 상기 가스 주입구는 불활성 가스 공급기에 연결될 수 있다. 상기 불활성 가스는 20℃ 내지 300℃ 로 가열하여 공급할 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 도면들에 있어서, 층 및 영역들의 두께는 명확성을 기하기 위하여 과장되어진 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 의미한다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 배기 배관을 갖는 배기 시스템을 설명하기 위한 블록도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 배기 시스템은 공정 챔버(process chamber; 10), 진공 펌프(vacuum pump; 20), 및 가스 정화기(scrubber; 30)를 구비할 수 있다.
상기 공정 챔버(10)는 열처리 장치, 박막 증착 장치, 또는 식각 장치와 같이 반도체소자 및 평판 디스플레이(flat panel display)의 제조에 사용되는 것일 수 있다. 상기 공정 챔버(10)에는 공정 가스들을 주입하기 위한 공정가스 배관들(도시하지 않음)이 부설될 수 있으나 간략한 설명을 위하여 생략하기로 한다.
상기 공정 챔버(10) 및 상기 진공 펌프(20) 사이에 진공 배관(13)이 연결될 수 있다. 상기 진공 배관(13)은 130mm 내지 300mm 구경일 수 있다. 예를 들면, 상기 진공 배관(13)은 150mm 구경을 갖는 스테인리스 스틸(stainless steel) 배관일 수 있다.
상기 진공 펌프(20) 및 상기 가스 정화기(30) 사이에 배기 배관(50)이 연결될 수 있다. 상기 배기 배관(50)은 30mm 내지 140mm 구경일 수 있다. 예를 들면, 상기 배기 배관(50)은 50mm 구경을 갖는 스테인리스 스틸(stainless steel) 배관일 수 있다.
상기 진공 펌프(20)는 상기 진공 배관(13) 및 상기 배기 배관(50)을 통하여 상기 공정 챔버(10) 내의 공정 부산물들 및 잉여 가스를 상기 가스 정화기(30)로 이송하는 역할을 할 수 있다. 즉, 상기 진공 펌프(20)는 상기 공정 챔버(10) 내의 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스를 배출하는 역할을 할 수 있다. 다른 실시 예에 있어서, 상기 진공 펌프(20)는 상기 가스 정화기(30) 내에 부설될 수도 있다.
상기 가스 정화기(30)에는 정화가스 배기관(33)이 연결될 수 있다. 상기 가스 정화기(30)는 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스를 세정/분류한 후 상기 정 화가스 배기관(33)을 통하여 배출하는 역할을 할 수 있다.
상기 배기 배관(50)은 가스 공급 배관(43)을 통하여 불활성 가스 공급기(40)에 연결될 수 있다. 상기 불활성 가스 공급기(40)는 질소(N2) 가스와 같은 불활성 가스를 공급하는 장치일 수 있다. 또한, 상기 불활성 가스 공급기(40)는 상기 불활성 가스를 가열하기 위한 발열장치(도시하지 않음)를 구비할 수 있다. 상기 발열장치는 상기 불활성 가스를 20℃ 내지 300℃로 가열할 수 있는 히터일 수 있다. 예를 들면, 상기 불활성 가스 공급기(40)에서 상기 배기 배관(50)에 공급되는 상기 불활성 가스는 250℃로 가열된 상기 질소(N2) 가스일 수 있다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 설명하기 위한 부분 사시도이고, 도 3은 도 2의 상기 제 1 실시 예에 따른 배기 배관을 장축 방향으로 절단한 단면도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 배기 배관(50)은 외측 배관(53) 및 내측 배관(63)을 구비할 수 있다. 상기 내측 배관(63)은 상기 외측 배관(53)의 내부에 장착될 수 있다. 상기 외측 배관(53) 및 상기 내측 배관(63) 사이에 틈(gap; 57)이 제공될 수 있다. 상기 내측 배관(63)은 난류 날개들(turbulence wing; 63W)을 구비할 수 있다.
상기 외측 배관(53)은 가스 주입구들(55)을 구비할 수 있다. 상기 가스 주입구(55)는 가스 공급 배관(43)에 연통될 수 있다. 또한, 상기 가스 주입구(55)는 상기 외측 배관(53)의 측벽을 관통하여 상기 틈(gap; 57)에 연통될 수 있다. 상기 가 스 주입구(55)는 상기 외측 배관(53)에 다수 개 배치될 수 있다.
상기 내측 배관(63)은 제 1 가스 분출구들(65) 및 제 2 가스 분출구들(67)을 구비할 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65)은 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 환상으로 배치될 수 있다. 상기 제 2 가스 분출구들(67) 또한 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 환상으로 배치될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65) 및 상기 제 2 가스 분출구들(67)은 평행하게 정렬될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구(65) 및 상기 제 2 가스 분출구(67)는 상기 배기 배관(50)의 장축방향으로 보여 질 때 일직선상에 정렬될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65) 및 상기 제 2 가스 분출구들(67)은 상기 틈(gap; 57) 및 상기 가스 주입구(55)를 경유하여 상기 가스 공급 배관(43)에 연통될 수 있다.
상기 난류 날개들(63W)은 상기 내측 배관(63)의 내부로 돌출되도록 배치될 수 있다. 상기 내측 배관(63)의 내부에 배출가스 통로(exhaust gas passage; 50')가 제공될 수 있다. 상기 난류 날개들(63W)은 상기 제 1 가스 분출구들(65)에 인접하게 배치될 수 있다. 이 경우에, 상기 난류 날개(63W)는 상기 제 1 가스 분출구(65)를 기준으로 상기 배출가스 통로(50')의 입구 쪽에 배치될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65)이 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 환상으로 정렬된 경우, 상기 난류 날개들(63W) 또한 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 환상으로 정렬될 수 있다.
상기 외측 배관(53)은 상기 배출가스 통로(50')를 이용하여 배출되는 공정 부산물 및 잉여 가스의 누설을 방지할 수 있는 충분한 강도와 내구성을 가져야한 다. 예를 들면, 상기 외측 배관(53)은 스테인리스 스틸 파이프(stainless steel pipe)일 수 있다. 상기 내측 배관(63)은 상기 외측 배관(53)에 비하여 상대적으로 얇은 재질일 수 있다. 예를 들면, 상기 내측 배관(63)은 상기 외측 배관(53)에 비하여 상대적으로 얇은 스테인리스 스틸 파이프일 수 있다.
도 4는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 설명하기 위하여 도 3의 E부분을 상세히 보여주는 확대 단면도이다.
도 4를 참조하면, 상기 난류 날개들(63W)은 상기 내측 배관(63)에 대하여 다양한 각도 및 형상으로 배치될 수 있다. 상기 난류 날개(63W) 및 상기 내측 배관(63) 사이의 교각(θ)은 1도 내지 179도일 수 있다. 또한, 상기 난류 날개들(63W)은 판금가공에 의하여 형성된 것일 수 있다. 이에 더하여, 상기 난류 날개들(63W)은 상기 내측 배관(63)과 같은 두께의 것일 수 있다. 더 나아가서, 상기 난류 날개들(63W)은 다중 절곡된 모양일 수 있다.
이제 도 1 내지 도 4를 다시 참조하여 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 배기 배관을 갖는 배기 시스템의 동작을 설명하기로 한다.
도 1 내지 도 4를 다시 참조하면, 상기 불활성 가스 공급기(40)는 상기 가스 공급 배관(43)을 통하여 질소(N2) 가스와 같은 불활성 가스를 공급할 수 있다. 상기 불활성 가스는 상기 가스 주입구(55) 및 상기 틈(gap; 57)을 경유하여 상기 제 1 가스 분출구들(65) 및 상기 제 2 가스 분출구들(67)에서 상기 내측 배관(63) 내부로 분사될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65) 및 상기 제 2 가스 분출구들(67) 에서 분사된 상기 불활성 가스는 상기 내측 배관(63)의 내측표면을 따라 분사가스층(jet layer; 도 3의 71)을 형성할 수 있다.
한편, 상기 공정 챔버(10)에는 다수의 공정 가스들과 같은 화학물질들이 주입될 수 있다. 그 결과, 상기 공정 챔버(10)의 내부에는 반응성 부산물과 같은 공정 부산물들 및 잉여 가스가 발생할 수 있다. 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스는 상기 진공 펌프(20)를 이용하여 상기 가스 정화기(30)로 이송할 수 있다. 상기 가스 정화기(30)는 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스를 세정/분류한 후 상기 정화가스 배기관(33)을 통하여 배출할 수 있다. 여기서, 상기 배기 배관(50)은 상기 진공 펌프(20) 및 상기 가스 정화기(30) 사이에 배치되어 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스가 이송되는 통로의 역할을 할 수 있다.
상기 배기 배관(50)은 상기 외측 배관(53) 및 상기 외측 배관(53)의 내부에 배치된 상기 내측 배관(63)을 구비할 수 있다. 상기 내측 배관(63)의 내부에 상기 배출가스 통로(50')가 형성될 수 있다. 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스는 상기 배출가스 통로(50')를 경유하여 상기 가스 정화기(30)로 이송될 수 있다.
상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스가 상기 배기 배관(50)의 내벽에 접촉될 경우, 상기 배기 배관(50)의 내벽에 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스의 흡착층이 형성될 수 있다. 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스의 흡착층은 상기 배기 배관(50)의 수송능력을 급격히 저하시킬 수 있다. 그러나 본 발명의 제 1 실시 예에 따르면 상기 분사가스층(71)은 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스가 상기 배기 배관(50)의 내벽에 접촉되는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다. 이에 따 라, 상기 배기 배관(50)의 내벽에 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스의 흡착층이 형성되는 것을 예방할 수 있다.
그런데 상기 분사가스층(71)은 상기 배기 배관(50)의 내벽을 치밀하게 덮도록 형성하는 것이 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스가 상기 배기 배관(50)에 접촉되는 것을 차단하는 측면에서 유리하다. 상기 내측 배관(63)의 내부로 돌출된 상기 난류 날개들(63W)은 상기 불활성 가스의 흐름을 제어하는 역할을 할 수 있다. 즉, 상기 난류 날개들(63W)의 배치 및 모양에 따라 상기 분사가스층(71)의 두께 및 분포를 제어할 수 있다. 이에 따라, 소량의 상기 불활성 가스만으로도 치밀한 상기 분사가스층(71)을 형성할 수 있다.
상기 분사가스층(71)의 유속, 방향, 및 두께는 상기 배기 배관(50)의 수송능력에 영향을 줄 수 있다. 상기 난류 날개들(63W), 상기 제 1 가스 분출구들(65) 및 상기 제 2 가스 분출구들(67)의 크기, 형태, 및 배치를 조절하여 상기 분사가스층(71)을 제어할 수 있다. 상기 난류 날개들(63W)은 상기 분사가스층(71)에 와류를 발생시킬 수 있다. 상기 분사가스층(71)의 와류는 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스의 배출속도를 증가시킬 수 있다. 상기 배출속도의 증가는 상기 배기 배관(50)의 수송능력을 배가시키며 상기 공정 부산물들의 흡착 기회를 상대적으로 감소시킬 수 있다.
상기 난류 날개들(63W)은 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 환상 정렬 또는 나선 정렬될 수 있다. 상기 난류 날개들(63W)은 판금 가공 기술을 이용하여 다양한 크기 및 모양으로 가공될 수 있다. 예를 들면, 상기 난류 날개들(63W)은 구 부림, 이중 절곡, 부채꼴, 또는 이들의 조합과 같이 다양한 모양으로 가공될 수 있다.
상기 난류 날개들(63W), 상기 제 1 가스 분출구들(65) 및 상기 제 2 가스 분출구들(67)은 상기 배기 배관(50)의 장축을 기준하여 일직선상에 정렬될 수 있으며 서로 어긋나게 배치될 수도 있다.
다른 한편, 상기 공정 챔버(10)의 내부에서 생성되는 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스는 높은 온도를 보일 수 있다. 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스는 상 변태점을 가질 수 있다. 즉, 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스는 소정온도를 상 변태점으로 하여 기체와 고체 상태를 전이하는 것일 수 있다.
그런데 상기 고온의 공정 부산물들은 상기 배출가스 통로(50')를 통과하는 동안 냉각될 수 있다. 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스가 상기 상 변태점 이하로 냉각될 경우 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스의 덩어리들이 발생할 수 있다. 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스의 덩어리들은 상기 배기 배관(50)의 내벽에 흡착되기 쉽다.
본 발명의 제 1 실시 예에 따르면, 상기 불활성 가스 공급기(40)는 20℃ 내지 300℃로 가열된 상기 불활성 가스를 공급할 수 있다. 이 경우에, 상기 분사가스층(71)은 가열된 상기 불활성 가스로 이루어질 수 있다. 이에 따라, 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스는 상기 상 변태점 이상의 온도를 유지한 채 이송될 수 있다. 즉, 상기 불활성 가스 공급기(40)가 가열된 상기 불활성 가스를 공급하는 경우, 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스가 상기 배기 배관(50)의 내벽에 흡착되 는 것을 보다 효율적으로 방지할 수 있다. 상기 불활성 가스는 질소(N2) 가스 일 수 있다.
예를 들면, 상기 공정 부산물들 중에는 200℃의 상기 상 변태점을 갖는 것들이 있다. 이 경우에, 상기 공정 부산물들은 200℃ 이하로 냉각되면 상기 배기 배관(50)의 내벽에 흡착되기 쉬운 상태로 전이할 수 있다. 그러나 상기 불활성 가스 공급기(40)가 250℃로 가열된 상기 불활성 가스를 공급하는 경우 상기 공정 부산물들의 흡착은 효율적으로 방지될 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 분사가스층(71)은 상기 250℃로 가열된 상기 불활성 가스로 이루어질 수 있다. 이 경우에, 상기 분사가스층(71)은 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스가 상기 배기 배관(50)의 내벽에 접촉되는 것을 방지하며, 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스를 상기 상 변태점 이상의 온도로 유지시키는 역할을 할 수 있다. 이에 따라, 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스는 가스 상태를 유지하게 되며 상기 배출가스 통로(50')를 따라 쉽게 배출될 수 있다.
더 나아가서, 상기 250℃로 가열된 상기 불활성 가스는 상기 배기 배관(50)의 내부를 가열해 주는 역할을 할 수 있다. 이 경우에, 상기 배기 배관(50)의 내부에 미리 부착되어있을 수 있는 상기 공정 부산물들의 흡착층 까지 제거해 주는 역할을 할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 배기 배관(50)의 내부에 상기 공정 부산물들의 흡착을 효율적으로 방지할 수 있다. 이에 따라, 상기 배 기 배관(50)의 수송효율을 극대화 할 수 있으며, 분해정비 주기를 현저히 늘릴 수 있다. 결과적으로, 높은 유효가동률을 갖는 배기 시스템을 구현할 수 있다.
도 5는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 설명하기 위한 부분 사시도이다.
도 1 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 배기 배관(50)은 외측 배관(53) 및 상기 외측 배관(53)의 내부에 장착된 내측 배관(63)을 구비할 수 있다. 상기 외측 배관(53) 및 상기 내측 배관(63) 사이에 틈(gap; 57)이 제공될 수 있다. 상기 외측 배관(53)의 측벽을 관통하는 가스 주입구(55)가 배치될 수 있다. 상기 외측 배관(53)은 가스 공급 배관들(43)과 연결될 수 있다. 상기 가스 주입구(55)는 상기 가스 공급 배관(43)과 연통될 수 있다. 상기 내측 배관(63)은 난류 날개들(turbulence wing; 63W)을 구비할 수 있다.
상기 내측 배관(63)은 제 1 가스 분출구들(65) 및 제 2 가스 분출구들(67')을 구비할 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65)은 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 환상으로 배치될 수 있다. 상기 제 2 가스 분출구들(67') 또한 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 환상으로 배치될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구(65) 및 상기 제 2 가스 분출구(67')는 상기 배기 배관(50)의 장축 방향을 기준하여 서로 어긋나게 배치될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65) 및 상기 제 2 가스 분출구들(67')은 상기 틈(gap; 57) 및 가스 주입구(55)를 경유하여 상기 가스 공급 배관(43)에 연통될 수 있다.
도 6은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 설 명하기 위한 부분 사시도이다.
도 1 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 배기 배관(50)은 외측 배관(53) 및 상기 외측 배관(53)의 내부에 장착된 내측 배관(63)을 구비할 수 있다. 상기 외측 배관(53) 및 상기 내측 배관(63) 사이에 틈(gap; 57)이 제공될 수 있다. 상기 외측 배관(53)의 측벽을 관통하는 가스 주입구(55)가 배치될 수 있다. 상기 외측 배관(53)은 가스 공급 배관들(43)과 연결될 수 있다. 상기 가스 주입구(55)는 상기 가스 공급 배관(43)과 연통될 수 있다. 상기 내측 배관(63)은 난류 날개들(turbulence wing; 63W)을 구비할 수 있다.
상기 내측 배관(63)은 제 1 가스 분출구들(65) 및 제 2 가스 분출구들(67)을 구비할 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65)은 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 나선형으로 정렬될 수 있다. 상기 제 2 가스 분출구들(67) 또한 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 나선형으로 정렬될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구(65) 및 상기 제 2 가스 분출구(67)는 일직선상에 정렬될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65) 및 상기 제 2 가스 분출구들(67)은 상기 틈(gap; 57) 및 상기 가스 주입구(55)를 경유하여 상기 가스 공급 배관(43)에 연통될 수 있다.
상기 난류 날개들(63W)은 상기 내측 배관(63)의 내부로 돌출되도록 배치될 수 있다. 상기 난류 날개들(63W)은 상기 제 1 가스 분출구들(65)에 인접하게 배치될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65)이 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 나선형으로 정렬된 경우, 상기 난류 날개들(63W) 또한 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 나선형으로 정렬될 수 있다.
상기 나선형으로 정렬된 상기 난류 날개들(63W), 상기 제 1 가스 분출구들(65) 및 상기 제 2 가스 분출구들(67)은 회오리 모양의 분사가스층을 형성할 수 있다. 상기 회오리 모양의 분사가스층은 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스의 이송속도를 상대적으로 빠르게 해주는 역할을 할 수 있다. 상기 회오리 모양의 분사가스층은 상기 공정 부산물들 및 상기 잉여 가스가 상기 배기 배관(50)의 내벽에 접촉되는 것을 보다 효율적으로 방지해주는 역할을 할 수 있다.
도 7은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 설명하기 위한 부분 사시도이다.
도 1 및 도 7을 참조하면, 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 배기 배관(50)은 외측 배관(53) 및 상기 외측 배관(53)의 내부에 장착된 내측 배관(63)을 구비할 수 있다. 상기 외측 배관(53) 및 상기 내측 배관(63) 사이에 틈(gap; 57)이 제공될 수 있다. 상기 외측 배관(53)의 측벽을 관통하는 가스 주입구(55)가 배치될 수 있다. 상기 외측 배관(53)은 가스 공급 배관들(43)과 연결될 수 있다. 상기 가스 주입구(55)는 상기 가스 공급 배관(43)과 연통될 수 있다. 상기 내측 배관(63)은 난류 날개들(turbulence wing; 63W)을 구비할 수 있다.
상기 내측 배관(63)은 제 1 가스 분출구들(65) 및 제 2 가스 분출구들(67)을 구비할 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65)은 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 나선형으로 정렬될 수 있다. 상기 제 2 가스 분출구들(67) 또한 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 나선형으로 정렬될 수 있다. 상기 제 2 가스 분출구(67)는 상기 제 1 가스 분출구(65)의 일직선상 후방에 정렬될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65) 및 상기 제 2 가스 분출구들(67)은 상기 틈(gap; 57) 및 상기 가스 주입구(55)를 경유하여 상기 가스 공급 배관(43)에 연통될 수 있다.
상기 난류 날개들(63W)은 상기 내측 배관(63)의 내부로 돌출되도록 배치될 수 있다. 상기 난류 날개들(63W)은 상기 제 1 가스 분출구들(65)에 인접하게 배치될 수 있다. 상기 난류 날개(63W)는 상기 제 1 가스 분출구(65)를 기준으로 배출가스 통로(exhaust gas passage)의 출구 쪽에 배치될 수 있다. 상기 제 1 가스 분출구들(65)이 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 나선형으로 정렬된 경우, 상기 난류 날개들(63W) 또한 상기 내측 배관(63)의 내주표면을 따라 나선형으로 정렬될 수 있다. 즉, 상기 난류 날개들(63W)은 상기 내측 배관(63)의 내주표면에 대하여 경사지게 배열될 수 있다.
도 8은 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 설명하기 위한 부분 확대 단면도이다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 배기 배관은 외측 배관(53) 및 상기 외측 배관(53)의 내부에 장착된 내측 배관(63)을 구비할 수 있다. 상기 외측 배관(53) 및 상기 내측 배관(63) 사이에 틈(gap; 57)이 제공될 수 있다. 상기 외측 배관(53)의 측벽을 관통하는 가스 주입구(55)가 배치될 수 있다. 상기 외측 배관(53)은 가스 공급 배관(43)과 연결될 수 있다. 상기 가스 주입구(55)는 상기 가스 공급 배관(43)과 연통될 수 있다. 상기 내측 배관(63)은 난류 날개(turbulence wing; 63W)를 구비할 수 있다.
상기 난류 날개(63W)는 상기 내측 배관(63)에 대하여 다양한 각도 및 형상으 로 배치될 수 있다. 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 난류 날개(63W)는 구부러지게 가공된 것일 수 있다. 상기 난류 날개(63W)는 판금가공에 의하여 형성된 것일 수 있다.
도 9는 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 설명하기 위한 부분 확대 단면도이다.
도 9를 참조하면, 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 배기 배관은 외측 배관(53) 및 상기 외측 배관(53)의 내부에 장착된 내측 배관(63)을 구비할 수 있다. 상기 외측 배관(53) 및 상기 내측 배관(63) 사이에 틈(gap; 57)이 제공될 수 있다. 상기 외측 배관(53)의 측벽을 관통하는 가스 주입구(55)가 배치될 수 있다. 상기 외측 배관(53)은 가스 공급 배관(43)과 연결될 수 있다. 상기 가스 주입구(55)는 상기 가스 공급 배관(43)과 연통될 수 있다. 상기 내측 배관(63)은 난류 날개(turbulence wing; 63W)를 구비할 수 있다.
상기 난류 날개(63W)는 상기 내측 배관(63)에 대하여 다양한 각도 및 형상으로 배치될 수 있다. 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 난류 날개(63W)는 이중 절곡된 모양일 수 있다. 상기 난류 날개(63W)는 판금가공에 의하여 형성된 것일 수 있다. 더 나아가서, 상기 난류 날개(63W)는 다중 절곡된 모양일 수 있다.
도 10은 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 난류 날개들을 갖는 배기 배관을 설명하기 위한 부분 확대 단면도이다.
도 10을 참조하면, 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 배기 배관은 외측 배관(53) 및 상기 외측 배관(53)의 내부에 장착된 내측 배관(63)을 구비할 수 있다. 상기 외측 배관(53) 및 상기 내측 배관(63) 사이에 틈(gap; 57)이 제공될 수 있다. 상기 외측 배관(53)의 측벽을 관통하는 가스 주입구(55)가 배치될 수 있다. 상기 외측 배관(53)은 가스 공급 배관(43)과 연결될 수 있다. 상기 가스 주입구(55)는 상기 가스 공급 배관(43)과 연통될 수 있다. 상기 내측 배관(63)은 난류 날개들(turbulence wing; 63W)을 구비할 수 있다.
상기 내측 배관(63)은 제 1 가스 분출구(65) 및 제 2 가스 분출구(67)를 구비할 수 있다. 상기 난류 날개들(63W)은 상기 제 1 가스 분출구(65)의 양측에 각각 배치될 수 있다. 이 경우에, 상기 난류 날개들(63W)은 상기 제 1 가스 분출구(65)를 기준으로 배출가스 통로(exhaust gas passage)의 입구 쪽 및 출구 쪽에 각각 배치될 수 있다.
상술한 실시 예들은 상기 배기 배관(50)이 배기 시스템의 상기 진공 펌프(20) 및 상기 가스 정화기(scrubber; 30) 사이에 장착된 경우를 기술하고 있다. 그러나 또 다른 실시 예에서 상기 배기 배관(50)은 상기 공정 챔버(10) 및 상기 진공 펌프(20) 사이와 같이 다양한 장소에 적용될 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 외측 배관 및 내측 배관을 구비하는 배기배관이 제공된다. 상기 내측 배관은 가스 분출구들을 구비할 수 있다. 상기 가스 분출구들에 인접하고 상기 내측 배관의 내부로 돌출된 난류 날개들(turbulence wing)이 배치된다. 상기 가스 분출구들에서 분사되는 불활성 가스는 상기 내측 배관의 내측표면을 따라 분사가스층(jet layer)을 형성할 수 있다. 상기 난류 날개들 은 상기 분사가스층의 두께 및 분포를 제어하는 역할을 할 수 있다.
상기 배기배관은 공정 챔버 및 가스 정화기(scrubber) 사이에 장착될 수 있다. 상기 공정 챔버에서 발생하는 공정 부산물들은 상기 배기배관을 통하여 상기 가스 정화기로 이송될 수 있다. 여기서, 상기 분사가스층은 상기 배기 배관의 내벽에 상기 공정 부산물들이 흡착되는 것을 방지해주는 역할을 할 수 있다. 결과적으로, 배기 배관 내부에 공정 부산물의 흡착을 방지할 수 있는 배기 시스템을 구현할 수 있다.
Claims (26)
- 가스 주입구를 갖는 외측 배관; 및상기 외측 배관의 내부에 장착되고, 복수의 난류 날개들 및 상기 각각의 난류 날개들에 인접한 제 1 가스 분출구들을 갖는 내측 배관을 포함하되, 상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 안쪽으로 돌출되고, 상기 내측 배관의 내부에 배출가스 통로(exhaust gas passage)가 제공되며, 상기 외측 배관 및 상기 내측 배관 사이에 틈(gap)이 존재하고, 상기 제 1 가스 분출구들은 상기 틈(gap)을 경유하여 상기 가스 주입구에 연통 되며, 상기 내측 배관은 서로 떨어진 2개 이상 다수의 상기 난류 날개들을 구비하는 일체형인 배기 배관.
- 제 1 항에 있어서,상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 내주표면을 따라 나선정렬되는 것을 특징으로 하는 배기 배관.
- 제 1 항에 있어서,상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 내주표면을 따라 환형 정렬되는 것을 특징으로 하는 배기 배관.
- 제 1 항에 있어서,상기 난류 날개들은 상기 내측 배관과 같은 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 배기 배관.
- 제 1 항에 있어서,상기 난류 날개들은 판금가공에 의하여 형성된 것을 특징으로 하는 배기 배관.
- 제 1 항에 있어서,상기 난류 날개 및 상기 내측 배관 사이의 교각은 1도 내지 179도인 것을 특징으로 하는 배기 배관.
- 제 1 항에 있어서,상기 난류 날개들은 상기 제 1 가스 분출구를 기준하여 상기 배출가스 통로의 입구 쪽, 출구 쪽, 또는 양 쪽에 배치된 것을 특징으로 하는 배기 배관.
- 제 1 항에 있어서,상기 내측 배관에 배치되고 상기 제 1 가스 분출구와 이격된 제 2 가스 분출구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기 배관.
- 제 8 항에 있어서,상기 제 2 가스 분출구는 상기 난류 날개들과 어긋나게 정렬된 것을 특징으 로 하는 배기 배관.
- 가스 주입구를 갖는 외측 배관;상기 외측 배관의 일단에 연결된 가스 정화기(scrubber);상기 외측 배관의 타단에 연결된 공정 챔버(process chamber); 및상기 외측 배관의 내부에 장착되고, 복수의 난류 날개들 및 상기 각각의 난류 날개들에 인접한 제 1 가스 분출구들을 갖는 내측 배관을 포함하되, 상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 안쪽으로 돌출되고, 상기 내측 배관의 내부에 배출가스 통로(exhaust gas passage)가 제공되며, 상기 외측 배관 및 상기 내측 배관 사이에 틈(gap)이 존재하고, 상기 제 1 가스 분출구들은 상기 틈(gap)을 경유하여 상기 가스 주입구에 연통 되며, 상기 내측 배관은 서로 떨어진 2개 이상 다수의 상기 난류 날개들을 구비하는 일체형인 배기 시스템.
- 제 10 항에 있어서,상기 공정 챔버 및 상기 외측 배관 사이에 배치된 진공 펌프(vacuum pump)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기 시스템.
- 제 10 항에 있어서,상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 내주표면을 따라 나선정렬되는 것을 특징으로 하는 배기 시스템.
- 제 10 항에 있어서,상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 내주표면을 따라 환형 정렬되는 것을 특징으로 하는 배기 시스템.
- 제 10 항에 있어서,상기 난류 날개들은 상기 내측 배관과 같은 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 배기 시스템.
- 제 10 항에 있어서,상기 난류 날개들은 판금가공에 의하여 형성된 것을 특징으로 하는 배기 시스템.
- 제 10 항에 있어서,상기 난류 날개 및 상기 내측 배관 사이의 교각은 1도 내지 179도인 것을 특징으로 하는 배기 시스템.
- 제 10 항에 있어서,상기 난류 날개들은 상기 제 1 가스 분출구를 기준하여 상기 배출가스 통로의 입구 쪽, 출구 쪽, 또는 양 쪽에 배치된 것을 특징으로 하는 배기 시스템.
- 제 10 항에 있어서,상기 내측 배관에 배치되고 상기 제 1 가스 분출구와 이격된 제 2 가스 분출구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기 시스템.
- 제 10 항에 있어서,상기 가스 주입구는 불활성 가스 공급기에 연결된 것을 특징으로 하는 배기 시스템.
- 제 19 항에 있어서,상기 불활성 가스 공급기는 가열된 불활성 가스를 공급하기 위한 발열장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 배기 시스템.
- 제 20 항에 있어서,상기 가열된 불활성 가스는 20℃ 내지 300℃ 인 것을 특징으로 하는 배기 시스템.
- 배기 배관의 일단을 가스 정화기(scrubber)에 연결하고 상기 배기 배관의 타단을 공정 챔버(process chamber)에 연결하되, 상기 배기 배관은 외측 배관 및 상기 외측 배관의 내부에 장착된 내측 배관을 구비하며, 상기 외측 배관은 측벽에 가스 주입구를 갖고, 상기 내측 배관은 복수의 난류 날개들 및 가스 분출구들을 구비하며, 상기 외측 배관 및 상기 내측 배관 사이에 틈(gap)이 존재하고, 상기 가스 주입구는 상기 틈(gap)을 경유하여 상기 가스 분출구들과 연통 되며, 상기 내측 배관은 서로 떨어진 2개 이상 다수의 상기 난류 날개들을 구비하는 일체형이고,상기 가스 주입구에 불활성 가스를 공급하여 상기 내측 배관의 내주표면에 인접한 곳에 상기 불활성 가스의 분사가스층을 형성하고,상기 공정 챔버에서 발생하는 공정 부산물들 및 잉여 가스를 상기 배기 배관에 형성된 배출가스 통로(exhaust gas passage)를 경유하여 상기 가스 정화기(scrubber)로 이송하는 것을 포함하되, 상기 배출가스 통로는 상기 분사가스층에 의하여 상기 배기 배관의 내주표면으로부터 떨어진 곳에 존재하는 배기 방법.
- 제 22 항에 있어서,상기 난류 날개들은 상기 내측 배관의 내부로 돌출시키고 상기 내측 배관의 내주표면을 따라 나선정렬시키는 것을 포함하는 배기 방법.
- 제 22 항에 있어서,상기 공정 챔버 및 상기 배기 배관 사이에 진공 펌프(vacuum pump)를 연결하는 것을 더 포함하는 배기 방법.
- 제 22 항에 있어서,상기 가스 주입구는 불활성 가스 공급기에 연결하는 것을 포함하는 배기 방법.
- 제 22 항에 있어서,상기 불활성 가스는 20℃ 내지 300℃ 로 가열하여 공급하는 것을 포함하는 배기 방법.
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