KR100407096B1 - N-치환３-히드록시피라졸의제조방법 - Google Patents
N-치환３-히드록시피라졸의제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100407096B1 KR100407096B1 KR10-1998-0700243A KR19980700243A KR100407096B1 KR 100407096 B1 KR100407096 B1 KR 100407096B1 KR 19980700243 A KR19980700243 A KR 19980700243A KR 100407096 B1 KR100407096 B1 KR 100407096B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mixture
- mmol
- substituted
- formula
- pyrazolidin
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- -1 N-Substituted 3-Hydroxypyrazoles Chemical class 0.000 title description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 4
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 claims description 3
- GRFNBEZIAWKNCO-UHFFFAOYSA-N 3-pyridinol Chemical class OC1=CC=CN=C1 GRFNBEZIAWKNCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 claims 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 12
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 12
- XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydropyrazol-3-one Chemical class OC=1C=CNN=1 XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QEWLOWAUHUOAEK-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1N1NC(=O)CC1 QEWLOWAUHUOAEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- FDQPOAPDBKEYFF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dichlorophenyl)pyrazolidin-3-one Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1N1NC(=O)CC1 FDQPOAPDBKEYFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- XEJYXZBPDMFFMG-UHFFFAOYSA-N 1-(6-chloropyridin-2-yl)pyrazolidin-3-one Chemical compound ClC1=CC=CC(N2NC(=O)CC2)=N1 XEJYXZBPDMFFMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004201 2,4-dichlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(Cl)C([H])=C1Cl 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Natural products CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- ZTPAUBJZUBGGEY-UHFFFAOYSA-N (2,4-dichlorophenyl)hydrazine Chemical compound NNC1=CC=C(Cl)C=C1Cl ZTPAUBJZUBGGEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFTSPKIAXHZROA-UHFFFAOYSA-N (6-chloropyridin-2-yl)hydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC(Cl)=N1 HFTSPKIAXHZROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXNOGQJZAOXWAQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=C(Cl)C=C1 XXNOGQJZAOXWAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910000336 copper(I) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- WIVXEZIMDUGYRW-UHFFFAOYSA-L copper(i) sulfate Chemical compound [Cu+].[Cu+].[O-]S([O-])(=O)=O WIVXEZIMDUGYRW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D231/18—One oxygen or sulfur atom
- C07D231/20—One oxygen atom attached in position 3 or 5
- C07D231/22—One oxygen atom attached in position 3 or 5 with aryl radicals attached to ring nitrogen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
대응하는 피라졸리딘-3-온의 산화에 의한 화학식 I의 N-치환 3-히드록시피라졸류를 제조하는 방법을 제공한다.
〈화학식 I〉
상기 식에서,
R1은 임의의 치환 알킬, 아릴 또는 헤테로아릴이고,
R2, R3은 수소, 시아노, 할로겐 또는 비치환 또는 치환 알킬, 아릴 또는 헤테로아릴이다.
Description
본 발명은 화학식 II의 피라졸리딘-3-온을 산화시킴으로써 화학식 I의 N-치환 3-히드록시피라졸을 제조하는 방법에 관한 것이다.
상기 식에서,
R1은 비치환 또는 치환 알킬, 아릴 또는 헤테로아릴이고,
R2, R3은 수소, 시아노, 할로겐 또는 비치환 또는 치환 알킬, 아릴 또는 헤테로아릴이다.
N-치환 3-히드록시피라졸류를 대응하는 피라졸리디논류의 산화에 의해 얻는것은 문헌에 공지되어 있다 (예를 들면, 문헌 [J. Gen. Chem. USSR, Engl. Trans.31, 1770 (1961); Chem. Heterocycl. Comp.5, 527 (1969); J. Prakt. Chem.313, 115 (1971); J. Prakt. Chem.318, 253 (1976); J. Med. Chem.34, 1560 (1991); J. Prakt. Chem.313, 1118 (1971)] 및 독일 특허 공개 제34 15 385호 참조).
사용된 산화제는 다음과 같다.
1) 황 원소 (문헌 [J. Gen. Chem. USSR, Engl. Trans.31, 1770 (1961)]을 참조),
2) 할로겐 원소 (문헌 [Chem. Heterocycl. Comp.5, 527 (1969); J. Prakt. Chem.318, 253 (1976); J. Prakt. Chem.313, 1118 (1971)]을 참조),
3) 과산화물 (문헌 [J. Med. Chem.34, 1560 (1991)] 및 독일 특허 공개 제34 15 385호를 참조), 및
4) 대기 산소 (문헌 [J. Prakt. Chem.313, 115 (1971)] 및 [J. Prakt. Chem.313, 1118 (1971)]을 참조).
3-히드록시피라졸류의 공업 제조용으로 황 원소를 사용한 산화에서는, 상당량의 황 환원 생성물이 형성되고, 그러한 것들이 반응이나 처리를 복잡하게 하는 단점을 가지고 있다.
마찬가지로, 할로겐 원소의 사용도 목적하는 수율을 얻기 어려워 3-히드록시피라졸류의 공업적 합성에는 적당치 않다. 또한, 산화제로서 다량의 할로겐 원소를 사용하는 것은 환경 측면뿐 아니라 경비면에서도 결점이 있다.
과산화물을 사용한 공지된 산화 방법은 한편으로는 정제가 어려우며, 또 다른 한편으로는 고가 시약인 것에 반해 불만족스러운 수율이 얻어지므로, 이들을 공업적인 합성에 이용하는 것은 적당치 않다.
산화제로서 대기 산소를 사용하는 것만이 현명한 대안이다. 그러나, 이 유형의 공지된 방법은 반응을 강산 중에서 수행해야 하는 단점을 가지고 있다. 반응 중, 상당한 염기의 소비를 초래하여 생태학적 견지에서 볼 때 바람직하지 않는 많은 염을 형성한다. 문헌에 따르면, 대기 산소를 이용한 산화는 철염류의 2배 몰량 또는 구리염류의 촉매량 존재하에서 수행되며, 후자의 경우 촉매 환경하에서는 철염류가 구리염류에 비해 하위임을 언급하고 있다. .
본 발명의 목적은 3-히드록시피라졸류를 제조하기 위한 경제적 및 공업적으로 안전하고 간단한 공정을 제공하는 것이다.
상기 목적은 금속염 존재하에 산화제로서 대기 산소를 사용하여 화학식 II의 피라졸리딘-3-온을 산화시킴으로써 화학식 I의 N-치환 3-히드록시피라졸을 제조하는 방법으로 달성되었다.
〈화학식 I〉
상기 식에서,
R1은 비치환 또는 치환 알킬, 아릴 또는 헤테로아릴이고,
R2, R3은 수소, 시아노, 할로겐 또는 비치환 또는 치환 알킬, 아릴 또는 헤테로아릴이다.
화학식 II의 피라졸리디논류의 산화에서는, 우선 촉매량의 금속염과 화학식 II의 본질적으로 중성인 용액을 혼합하고, 이어서 이 혼합액에 공기를 통과시키는 것이 일반적인 방법이다.
구체적으로는 적당한 금속염에는 산화 상태 II 또는 III의 철염류 (예를 들면, 염화 철 (II), 염화 철 (III), 황산 철 (II), 황산 철 (III)), 산화 상태 I 또는 II의 구리 염류 (예를 들면, 염화 구리 (I), 염화 구리 (II), 황산 구리 (I), 황산 구리 (II)) 및 주요기 또는 전이 금속류의 대응하는 염이다.
일반적으로는, 화학식 Ⅱ를 기준으로 0.01 몰% 내지 20 몰%, 바람직하게는 0.5 몰% 내지 10 몰%, 특히 바람직하게는 1 몰% 내지 5 몰%의 금속 염류가 사용된다.
상기 산화는 대개 0 ℃ 내지 사용된 용매의 비등점, 바람직하게는 20 ℃ 내지 100 ℃에서 수행된다.
적당한 용매에는 물 및 지방족 탄화 수소류 (예를 들면, 펜탄, 헥산, 시클로헥산 및 석유 에테르), 방향족 탄화 수소류 (예를 들면, 톨루엔, o-, m-, p-크실렌), 할로겐화 탄화 수소류 (예를 들면, 염화 메틸렌, 클로로포름 및 클로로벤젠), 알콜류 (예를 들면, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소-프로판올, n-부탄올 및tert-부탄올), 카르복실산 에스테르류 (예를 들면, 에틸 아세테이트)가 있으며, 또한 N-메틸피롤리돈 및 디메틸포름아미드이며, 특히 바람직하게는 디메틸포름아미드 및 N-메틸피롤리돈이 있다.
또한, 상기 용매의 혼합물을 사용할 수도 있다.
반응 혼합물을 공지된 방법, 예를 들면 물과 혼합하거나, 상 분리시키고, 필요하다면 크로마토그래피에 의해 조생성물을 정제하는 방법으로 처리할 수 있다. 때때로 중간 및 최종 생성물들은 감압 및 적당한 승온하에서 휘발 성분을 정제하거나 유리시켜 무색 또는 연한 갈색의 점성유 형태로 얻는다. 만일 중간 및 최종 생성물이 고체로 얻어지면, 재결정이나 온침에 의한 정제를 수행할 수도 있다.
본 발명의 방법에 따라 얻을 수 있는 3-히드록시피라졸류는 제약 또는 작물 보호 분야에서 염료 또는 활성 성분 제조용 중간 물질로서 적당하다.
〈비교 실시예〉
1. FeCl3를 사용한 피라졸리디논류의 산화 (문헌 [J. Prakt. Ch. 313, 1118 (1991)]을 참조).
H2O 40 ml 중의 FeCl323 g (0.142 mol) 용액을 1-(4-클로로페닐)피라졸리딘-3-온 14 g (0.071 mol)과 1N의 HCl 100 ml의 혼합액에 상온에서 적가하였다. 밤새 교반한 후, NaOH 24g을 부분적으로 가하고, 혼합액을 90 ℃로 가열하고, 뜨거울 동안 흡입하여 여과하였다 침전물을 끓는물로 세척하였다.
여과액을 pH 5-6으로 산성화 시킨 후, CHCl3로 추출하고, 소량의 흑색 잔류물을 유기층으로부터 얻었다. 이 잔류물 중에는 생성물을 검출할 수 없었다.
또한, 수성층 및 여과로 얻은 고체로부터 정량적 또는 정성적 특성화에 충분한 순도를 갖는 특정 생성물의 분리가 불가능하였다.
2. CuCl2를 사용한 피라졸리디논류의 산화 (문헌 [J. Prakt. Ch. 213, 115 (1971)]을 참조).
2.1. 1-(4-클로로페닐)피라졸리딘-3-온 19.6 g (0.1 mol), 1N의 HCl 200ml 및 CuCl2·2H2O 0.05 g (0.293 mmol)의 혼합액에 산소를 50 ℃에서 8시간 동안 통과시켰다. 이어서 혼합물을 밤새 교반하고, 형성된 갈색 고체를 흡입하여 여과하였다. 피라졸리논 및 피라졸리디논의 비가 4:1인 혼합물 17.7 g을 수득하였다.
이론 수율 : 73%
2.2. 산소를 50 ℃에서 24시간 동안 통과시키는 것외, 동일한 방법으로 2.1하에서 얻어진 것과 동일한 분광학적 및 물리적 데이터를 갖는 혼합물 17.8 g을 얻었다. 반응 중에 수행한 박막 크로마토그래피는 부산물의 양이 반응 시간에 따라 안정적으로 증가함을 보였다. 따라서, 추가의 반응시간 연장은 시험하지 않았다.
본 발명에 따른 방법의 실시예는 하기와 같다.
1. 1-치환 피라졸리딘-3-온의 합성
1.1. 1-(4-클로로페닐)피라졸리딘-3-온
에틸 아크릴레이트 90 g (0.9 mol)을 나트륨 에톡시드 15.9 g (234 mmol),에탄올 110 ml, 톨루엔 110 ml 및 4-클로로페닐히드라진 25.7 g (180 mmol)의 혼합물에 40-45 ℃에서 적가하고, 이어서 혼합물을 40 ℃에서 1시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물이 100 ml로 되도록 증발시키고, 잔류물을 물에 녹였다. 생성된 혼합물을 톨루엔으로 수회 세척하고, 합친 유기층을 5% 농도 NaOH로 추출하였다. 합친 수성층을 pH 6.5로 조정하고, 10 ℃로 냉각하였다. 형성된 고체를 흡입하여 여과하고, 물로 세척한 뒤, 감압하에서 건조시켰다.
수율 : 26.4 g (이론치의 75%)
융점 : 117-120 ℃ (분해)
1.2. 1-(2,4-디클로로페닐)피라졸리딘-3-온
에틸 아크릴레이트 105.0 g (1.05 mol)을 2,4-디클로로페닐히드라진 37.3 g (211 mmol), 나트륨 에톡시드 18.6 g (273 mmol), 에탄올 150 ml 및 톨루엔 150 ml의 혼합액에 적가하고, 이어서 혼합물을 1 시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물이 100 ml로 되도록 증발시키고, 잔류물을 물에 녹였다. 유기층을 분리하고, 5% 농도 NaOH로 추출하였다. 합친 수성층을 pH 6.5로 조정하고, 형성된 고체를 흡입으로 여과하고, 물로 세척한 뒤, 감압하에서 건조시켰다.
수율 : 39.1 g (이론치의 81%)
융점 : 197-199 ℃ (분해)
1.3. 1-(6-클로로-2-피리딜)피라졸리딘-3-온
6-클로로-2-피리딜-히드라진 (합성법: 문헌 [Chem. Ber.103, (1970) 1960]참조) 20.1 g (140 mmol) 용액을 나트륨 에톡시드 12.4 g (182 mmol), 에탄올 100ml 및 톨루엔 100 ml 혼합액에 15-20 ℃에서 적가하였다. 25 ℃에서 2시간 교반한 후에, 반응 혼합물을 증발시키고, 잔류물을 물에 녹이고, MTBE로 추출하였다. 수성층을 pH 6.5로 조정하고, 5℃로 냉각하였다. 형성된 침전물을 여과하여, 40 ℃ 감압하에서 건조시켰다.
수율 : 21.6 g (이론치의 78%)
융점 : 116-118 ℃ (분해)
2. FeCl
3
를 사용한 피라졸리디논의 산화
2.1. 1-(4-클로로페닐)-2H-피라졸린-3-온
1-(4-클로로페닐)피라졸리딘-3-온 29.5 g (150 mmol)을 디메틸포름아미드 100 ml 중에 용해시키고, FeCl32.4 g (15 mmol)와 혼합하였다. 공기 중으로 통과시키면서, 혼합물을 80 ℃로 가열하였고, 이 온도를 1 시간 동안 유지한 뒤, 이어서 혼합물을 추가의 12 시간 동안 가열하지 않고 교반하였다.
반응 혼합물을 물 1L에 붓고, 형성된 침전물을 여과하고, 물로 세척한 뒤, 감압하에서 건조시켰다.
수율 : 27.0 g (이론치의 92%)
융점 : 181-182 ℃ (분해)
2.2. 1-(2,4-디클로로페닐)-2H-피라졸린-3-온
1-(2,4-디클로로페닐)피라졸리딘-3-온 39.0 g (169 mmol) 및 FeCl31.4 g (8.6 mmol)을 N-메틸피롤리돈 220 ml에 용해시키고, 80 ℃로 가열하고, 반응 혼합물에 공기를 18시간 동안 통과시켰다. 이어서, 혼합물을 얼음물에 부었다. 형성된 고체를 흡입으로 여과하고, 물로 세척한 뒤, 40 ℃ 감압하에서 건조시켰다.
수율 : 33.5 g (이론치의 87%)
융점 : 236-237 ℃
2.3. 1-(6-클로로-2-피리딜)-2H-피라졸린-3-온
1-(6-클로로-2-피리딜)피라졸리딘-3-온 10.1 g (51 mmol) 및 FeCl30.41 g (2.5 mmol)을 디메틸포름아미드 50 ml에 용해시켰다. 공기를 통과시키면서, 혼합물을 우선 25 ℃에서 1 시간 동안 교반한 뒤, 50 ℃에서 3시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 얼음물 300 ml에 붓고, 형성된 침전물을 여과하고, 물로 세척한 뒤, 40 ℃ 감압하에서 건조시켰다.
수율 : 9.6 g (이론치의 96%)
융점 : 196-199 ℃
3. CuCl을 사용한 피라졸리디논의 산화
3.1. 1-(4-클로로페닐)-2H-피라졸린-3-온
디메틸포름아미드 50 ml 중의 1-(4-클로로페닐)피라졸리딘-3-온 9.8 g (50 mmol) 및 CuCl 0.25 g (2.5 mmol) 용액에 공기를 25 ℃에서 2시간 동안 통과시켰다. 반응 혼합물을 물에 붓고, 1시간 동안 교반하였다. 형성된 침전물을 여과하고, 물로 세척한 뒤, 50 ℃ 감압하에서 건조시켰다. 융점 및1H NMR 스펙트럼에 의하면, 생성물이 2.1.에 기재한 것과 동일하였다. 수율 : 이론치의 86%.
3.2. 1-(2,4-디클로로페닐)-2H-피라졸린-3-온
1-(2,4-디클로로페닐)피라졸리딘-3-온 23.1 g (100 mmol) 및 CuCl 0.5 g (5 mmol)을 디메틸포름아미드 230 ml에 용해시키고, 80 ℃로 가열한 뒤, 반응 혼합물에 공기를 9시간 동안 통과시켰다. 가열이나 공기 통과없이, 15시간 동안 교반한 후에, 혼합물에 공기를 80 ℃에서 2시간 및 100 ℃에서 2시간 동안 통과시키면서 가열하였다. 반응 혼합물을 증발시키고, 잔류물을 H2O 500 ml와 함께 3시간 동안 교반하였다. 고체를 흡입하여 여과하고, n-헥산 및 물로 세척한 뒤, 60 ℃ 감압하에서 건조시켰다. 융점 및1H NMR 스펙트럼에 의하면, 생성물이 2.2.에 기재한 것과 동일하였다. 수율 : 이론치의 85%.
Claims (3)
- pH가 중성인 매질 중에서 화학식 II를 기준으로 0.01 내지 20 mol%의 금속염 존재하에 산화제로서 대기 산소를 사용하여 화학식 II의 피라졸리딘-3-온을 산화시킴으로써 화학식 I의 N-치환 3-히드록시피라졸을 제조하는 방법.〈화학식 I〉〈화학식 II〉상기 식에서,R1은 비치환 또는 치환 알킬, 아릴 또는 헤테로아릴이고,R2, R3은 수소, 시아노, 할로겐 또는 비치환 또는 치환 알킬, 아릴 또는 헤테로아릴이다.
- 제1항에 있어서, 사용된 금속염이 철염인 방법.
- 제1항에 있어서, 사용된 금속염이 구리염인 방법.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19525680.8 | 1995-07-14 | ||
| DE19525680 | 1995-07-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19990028941A KR19990028941A (ko) | 1999-04-15 |
| KR100407096B1 true KR100407096B1 (ko) | 2004-02-18 |
Family
ID=7766816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR10-1998-0700243A KR100407096B1 (ko) | 1995-07-14 | 1996-07-02 | N-치환３-히드록시피라졸의제조방법 |
Country Status (26)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5922886A (ko) |
| EP (1) | EP0839138B1 (ko) |
| JP (1) | JP3981153B2 (ko) |
| KR (1) | KR100407096B1 (ko) |
| CN (1) | CN1070185C (ko) |
| AR (1) | AR002829A1 (ko) |
| AT (1) | ATE267812T1 (ko) |
| AU (1) | AU704553B2 (ko) |
| BR (1) | BR9609533A (ko) |
| CA (1) | CA2223634C (ko) |
| CZ (1) | CZ288966B6 (ko) |
| DE (1) | DE59611017D1 (ko) |
| DK (1) | DK0839138T3 (ko) |
| EA (1) | EA000351B1 (ko) |
| ES (1) | ES2222481T3 (ko) |
| HU (1) | HU228564B1 (ko) |
| IL (2) | IL122607A0 (ko) |
| MX (1) | MX9800412A (ko) |
| NZ (1) | NZ313165A (ko) |
| PL (1) | PL185614B1 (ko) |
| PT (1) | PT839138E (ko) |
| SK (1) | SK281659B6 (ko) |
| TW (1) | TW416950B (ko) |
| UA (1) | UA48189C2 (ko) |
| WO (1) | WO1997003969A1 (ko) |
| ZA (1) | ZA965922B (ko) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19652516A1 (de) * | 1996-12-17 | 1998-06-18 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von N-substituierten 3-hydroxypyrazolen |
| US6103536A (en) | 1997-05-02 | 2000-08-15 | Silver Lake Research Corporation | Internally referenced competitive assays |
| KR100470435B1 (ko) * | 2004-11-04 | 2005-02-07 | 새턴정보통신(주) | 누전차단기용 조작노브의 자동 리턴 장치 |
| EP2815647A1 (en) | 2013-06-18 | 2014-12-24 | Basf Se | Novel strobilurin-type compounds for combating phytopathogenic fungi |
| CN103588708B (zh) * | 2013-11-12 | 2016-01-06 | 京博农化科技股份有限公司 | 一种1-(4-氯苯基)-3-吡唑醇的制备方法 |
| JP6372560B2 (ja) * | 2014-02-28 | 2018-08-15 | 住友化学株式会社 | ピラゾール化合物の製造方法 |
| CN104592117A (zh) * | 2015-01-13 | 2015-05-06 | 安徽国星生物化学有限公司 | 一种吡唑醚菌酯的合成方法 |
| CN106167484B (zh) | 2015-05-18 | 2020-03-17 | 沈阳中化农药化工研发有限公司 | 含嘧啶的取代吡唑类化合物及其制备方法和用途 |
| CN105061322B (zh) * | 2015-07-27 | 2018-07-24 | 北京颖泰嘉和生物科技股份有限公司 | N-取代的3-羟基吡唑化合物的制备方法 |
| CN106008348B (zh) * | 2016-06-07 | 2019-03-05 | 四川福思达生物技术开发有限责任公司 | 一种合成吡唑醚菌酯中间体的方法 |
| CN105968048B (zh) * | 2016-06-07 | 2019-04-19 | 四川福思达生物技术开发有限责任公司 | 一种合成吡唑醚菌酯中间体1-（4-氯苯基）-3-吡唑醇的方法 |
| CN106117142A (zh) * | 2016-06-27 | 2016-11-16 | 安徽国星生物化学有限公司 | 一种1‑(4‑氯苯基)‑3‑吡唑醇的制备方法 |
| EP3541788B1 (en) * | 2016-11-17 | 2020-09-02 | Basf Se | Process for the purification of 1-(4-chlorophenyl)pyrazol-3-ol |
| CN107935931A (zh) * | 2017-12-23 | 2018-04-20 | 杨向党 | 1‑（4‑氯苯基）吡唑烷‑3‑酮不提纯直接制取1‑（4‑氯苯基）‑3‑吡唑醇 |
| CN110105287B (zh) * | 2019-05-23 | 2022-04-26 | 江苏禾本生化有限公司 | 一种吡唑醚菌酯的合成工艺 |
| WO2021078979A1 (en) | 2019-10-24 | 2021-04-29 | Syngenta Crop Protection Ag | Process for the preparation of (z,2e)-5-[1-(4-chlorophenyl)pyrazol-3-yl]oxy-2-methoxyimino-n,3-dimethyl-pent-3-enamide derivatives |
-
1996
- 1996-02-07 UA UA98020773A patent/UA48189C2/uk unknown
- 1996-07-02 EP EP96924848A patent/EP0839138B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-02 AT AT96924848T patent/ATE267812T1/de active
- 1996-07-02 PT PT96924848T patent/PT839138E/pt unknown
- 1996-07-02 ES ES96924848T patent/ES2222481T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-02 EA EA199800123A patent/EA000351B1/ru not_active IP Right Cessation
- 1996-07-02 CA CA002223634A patent/CA2223634C/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-02 CN CN96195539A patent/CN1070185C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-02 NZ NZ313165A patent/NZ313165A/xx unknown
- 1996-07-02 PL PL96324497A patent/PL185614B1/pl unknown
- 1996-07-02 DE DE59611017T patent/DE59611017D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-02 US US08/981,637 patent/US5922886A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-02 IL IL12260796A patent/IL122607A0/xx active IP Right Grant
- 1996-07-02 JP JP50622397A patent/JP3981153B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-02 MX MX9800412A patent/MX9800412A/es unknown
- 1996-07-02 DK DK96924848T patent/DK0839138T3/da active
- 1996-07-02 KR KR10-1998-0700243A patent/KR100407096B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-07-02 HU HU9901339A patent/HU228564B1/hu not_active IP Right Cessation
- 1996-07-02 AU AU65173/96A patent/AU704553B2/en not_active Ceased
- 1996-07-02 CZ CZ199874A patent/CZ288966B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1996-07-02 WO PCT/EP1996/002891 patent/WO1997003969A1/de active IP Right Grant
- 1996-07-02 SK SK25-98A patent/SK281659B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1996-07-02 BR BR9609533A patent/BR9609533A/pt not_active IP Right Cessation
- 1996-07-11 TW TW085108382A patent/TW416950B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-07-12 ZA ZA9605922A patent/ZA965922B/xx unknown
- 1996-07-12 AR ARP960103571A patent/AR002829A1/es active IP Right Grant
-
1997
- 1997-12-15 IL IL122607A patent/IL122607A/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100407096B1 (ko) | N-치환３-히드록시피라졸의제조방법 | |
| EP1828164B1 (en) | Method for preparing n-phenylpyrazole-1-carboxamides | |
| MXPA98000412A (en) | Preparation of 3-hidroxipirazoles n-substitui | |
| CN113382984A (zh) | N-苯基吡唑-1-甲酰胺的制备方法 | |
| IL182421A (en) | Process for the substitution of pyrazoles | |
| JP4465048B2 (ja) | Ｎ−置換３−ヒドロキシピラゾールの製造方法 | |
| KR950002157B1 (ko) | 1-아릴-5-아미노-피라졸의 제조방법 | |
| JPH0841030A (ja) | １−（ヘテロ）アリール−３−ヒドロキシピラゾールの製造方法 | |
| JP2527587B2 (ja) | Ｏ−スルホニル−ｎ−（クロロピラゾリル）アミドオキシムの製造方法 | |
| JP2003523341A (ja) | （ピリジニリデン）−フタリド類の製造法 | |
| JPS5922710B2 (ja) | １−アルキル−３−ヒドロキシ−５−クロロ−１，２，４−トリアゾ−ルの製造方法 | |
| JPH072718B2 (ja) | Ｎ−（４−クロロピラゾリル）アミドオキシム化合物とその製造方法 | |
| KR900001081B1 (ko) | 4-아실-5-피라졸릴 4-톨루엔 술포네이트 유도체의 제법 | |
| JP2003155275A (ja) | ５−アミノ−４−ニトロソピラゾール誘導体又はその酸塩の製法 | |
| CA2138065A1 (en) | Process for preparing 5-aminodihydropyrrole, intermediate thereof and process for preparing said intermediate | |
| WO2003062207A1 (fr) | Processus de production de compose 5-amino-4-nitrosopyrazole 3-non substitue et de compose 2-hydroxyimino-3-oxopropionitrile, 3-hydrazono-2-hydroxyiminopropionitrile et processus de production de ces composes | |
| JPH0759561B2 (ja) | １．３−ジアルキルピラゾール−４−カルボン酸誘導体の製造方法 | |
| JPH061774A (ja) | ３（２ｈ）−ピリダジノン誘導体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0105 | International application |
Patent event date: 19980113 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20010406 Comment text: Request for Examination of Application |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20030303 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20030929 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20031113 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20031114 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration | ||
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20061110 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20071106 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20081110 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20091110 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20101112 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20111111 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121026 Year of fee payment: 10 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20121026 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131028 Year of fee payment: 11 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20131028 Start annual number: 11 End annual number: 11 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141027 Year of fee payment: 12 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20141027 Start annual number: 12 End annual number: 12 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20161009 |