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JPS6261617A - 排ガス洗浄装置 - Google Patents

排ガス洗浄装置

Info

Publication number
JPS6261617A
JPS6261617A JP60202580A JP20258085A JPS6261617A JP S6261617 A JPS6261617 A JP S6261617A JP 60202580 A JP60202580 A JP 60202580A JP 20258085 A JP20258085 A JP 20258085A JP S6261617 A JPS6261617 A JP S6261617A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
piping
tower
gas
pipe
main
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60202580A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0628694B2 (ja
Inventor
Hideo Koufuku
幸福 秀雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Power Ltd
Original Assignee
Babcock Hitachi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Babcock Hitachi KK filed Critical Babcock Hitachi KK
Priority to JP60202580A priority Critical patent/JPH0628694B2/ja
Publication of JPS6261617A publication Critical patent/JPS6261617A/ja
Publication of JPH0628694B2 publication Critical patent/JPH0628694B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

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  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、気液接触塔と、該気液接触塔内に配設されて
洗浄液を供給する供給配管と、該供給配管に設けられた
スプレーノズルと、供給配管を支持する配管サポートと
からなる排ガス洗浄装置に関する。
〔従来技術〕
例えば湿式脱硫装置の気液接触塔内には、流入する排ガ
ス中のSO,分を吸収除去する為に、洗浄液を供給する
供給配管が通常複数段設置されている。この配管及び支
持構造の従来技術を第6図乃至第8図により説明する。
洗浄液の供給配管11は同図に示す如く、主配管1、枝
管2及びスプレーノズル9より構成されている。各配管
1.2は内部流体ρrスラリー液である為、固形分の沈
積防止や高流速時の管材料の摩耗を考慮して、管内の流
速がどの位置vcおいでも適切な流速値となる様に管径
を順次変化させて形成されて−る。
一方、供給配管11の支持構造として製鋼等の配管サポ
ー)8t−設置し、これに枝管2を固定するのが一般的
で6る◎5は気液接触塔を示す。動作を説明すれは、供
給配管lt内を流れて色た洗浄液は、スプレーノズル9
から噴霧され、気液接触塔5内におりて、80.ガス金
吸収する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところが、上記従来の構造では枝管2は単なる液流路で
あり、配管サポー)8によって支持される為に、次の欠
点を有する。
(1)気液接触塔5内の全面に配管サポート8が縦、横
に必要であり(第8図)、気液接触塔5の断面の開口面
積がこの配管サポート8によって減少する。
(2+  大容量化によって気液接触塔5の径が大きく
なった場合、供給液量が増えることから枝管2の口径が
大きくなり、これに伴い配管サポート8への荷重も増加
する。又、配管サポート8の支持スパンも長くなり配管
サポート8自体も大型化する。この為、各段の構成高さ
、すなわち(配管口径)+(梁せい)が増大し、スプレ
ー特性より決定される適正な段間隔が守れなくなる。
(3)梁せいの増大は第7図に示す如く、スプレーノズ
ル9より噴霧された洗浄液の分散を阻止する為、気液接
触塔5の有効断面を減少させると共に:咳塔5の性能を
低下させる原因となり好ましくない。
他の従来例として各配管をウェブ材にて接続して、トラ
ス構造にて支持する構造龜提案されている(実開昭58
−116025号公報)が、この構造でも、各段を接続
する部材は必要であり、スプレー限外を皆sには出来な
い。又、このトラス構成とする為には、上下間を接続す
る配管が同一縦断面上に配置されなければならず、各段
毎の主配管lの挿入角度を90’  変化させてスプレ
ーノズル9の配置を完全千鳥型とする事が困難である。
本発明の目的は、配管サボー)8による気液接触塔5の
開口面積の減少やSO,吸収性能の低下を防止すると共
に、上下の配管の配置を任意に設定することがで勃る排
ガス洗浄装置を提供するニする。
〔問題点を解決するため0手段及び作用〕本発明は、洗
浄液の供給配管と配管サポートのいずれか一方の本体に
他方の本体を一体1こ併設することにより、供給配管自
体に配管サポートの機能を兼備させ、おるいは配管サポ
ート自体に供給配管の機能を兼備させたもっである。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を、脱硫装置に使用される吸収
塔内のスプレー配管を例に説明する。第5図に示す様に
、脱硫装置では、SO3を含む排ガスが冷却塔6にて冷
却された後、気液接触塔5内で循環配管7を経て供給さ
れる洗浄液と気液接触して、排ガス中の803分が吸収
除去される。この気液接触塔5内にはSO,吸収に必要
な段数の供給配管11が複数段設置されるのが通常であ
り、均一な液膜を形成する様、第3図に示す如くスプレ
ーノズル9が気液接触塔5内の全面に配置されている。
紙種5内の主配管1、枝管2は前述の理由により、管内
流速を適正値に保つべく、流量に合せ管径1ブ先端に向
って順次小さくなっている。この構造から、従来の配管
は、単独では応力的にも、又たわみの面からも強度的に
弱く、供給配管11をサポートする為の構造物が必要で
あった。
本発明では、第1図及び第2図に示すように配管サポー
ト8自体に主配管1の液流路4としての機能を兼備させ
ることにより、第3図に示す様に、供給配管11と配管
サポートとを別個に設けることを不要としている。この
構造によりまた従来の配管サポート8(図7)Kよるス
ラリの噴霧できないところがなくなる。第1図の主配管
1は、その形状は2枚のウェブ材を持つH形鋼でちゃ、
その強度は気液接触塔5内で変化することなく十分なも
のとなっている。又、洗浄液は2枚りクエプ材の間を流
れるが、極度な長方形断面となってスラリーによる閉塞
が起らない様、適宜仕切り板10が設けられている。枝
管2は主配管1より左右に胤出形成され、この光層にス
プレーノズル9が取り付けられている。
次に、上記実施例の作用を説明する4、主配管1の液流
路4内を流れてきた洗浄液が枝管2を通りスプレーノズ
ル9より噴霧される。ζ、のとき、主配管1は配管サポ
ート80本体により形成されているため、それだけで充
分な強度があり、たわむこともない。また、クエプ材間
の間隔調整及び仕切り板10の使用により適切な液流速
も得ることが可能である。尚、本実施例では、枝管2の
延出部の取り付は構造も、主配管1側が平板である為に
、穴明は作業や枝管2の接続溶接作業も円管同志の場合
に比べて平面作業となって容易となる0更に、この構造
とした場合の、構造上の信頼性に関しても、液圧により
各フランジ材及びウェブ材に発生する応力と、11量支
持の為に長手方向に働く応力が、方向的に直交して重な
らないことから、余分な応力が働かず問題とはならない
第4図は本発明の他実施例を示す要部斜視図でおる。こ
の構造は、従来の主配管lに、強度不足分を補償する為
の補強材すなわち、配管サポート8を取り付けたもり〕
で、主配管lと配管サポート8の合成断面性能により、
荷重を支持するものである。この実施例によれば、従来
の配管構造をほとんど変更することなく、支持能力のみ
を向上させることができる。
〔発明の効果〕
本発明によれは、別個の配管サポートが無い為、気液接
触塔の開口面積の減少が防げると共に、第2図と第7図
の比較から明らかな様に、噴霧液の噴射方向が限外され
ることがなく気液接触塔内の全域に均一な液膜が形成で
きる。この事は気液接触塔の有効断面の増加、吸収効率
の向上を4たらす。
又、6只の高さが主配管のみの高さとなったことで、大
型塔においても、枝管間の段間隔が短かくなり、気液接
触塔の大型化に伴う高さもそれだけ低くすることができ
る。
一方、従来の配管サポートの削除は塔内構造を簡素化さ
せ、非常に経済的な塔を提供できる。
前述のトラス構造の場合に問題となった主配管の方向性
の問題も、本発明では各配管が単独に成立することから
任意に配置でき、最適なスプレー配置が可能となってい
る。
又、本発明では、主配管及び配管サポート8の上面を平
担とした為、メンテナンス時の作業足場としても利用で
き、足場の設置が不要となる。又その足場の一部として
利用することも可能であり、メンテナンス作業に好都合
な構造と言える。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示すVIs斜視図であり
、気液接触塔内の主配管の構造を示し、第2図は第1図
の主配管の断面図を示し、第3図は第1図の配管を使用
する場合の気液接触塔の要部平面図を示し、第4図は、
本発明の他の実施例を示す要部斜視図で、第5図は、湿
式脱硫装置の気液接触塔廻すの概略フロー図を示し、第
6図は、気液接触塔内の洗浄液供給配管の従来構造を示
し、第7図は、第6図のうちスプレーノズル付近の様子
を示す構成図でおり、第8図は、第6図の配管の平面図
を示す。 5・・・気液接触塔、   8・・・配管サポート、9
・・・スプレーノズル、11・・・供給配管。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 気液接触塔と、該気液接触塔内に配設されて洗浄液を供
    給する供給配管と、該供給配管に設けられたスプレーノ
    ズルと、供給配管を支持する配管サポートからなる排ガ
    ス洗浄装置において、前記供給配管と配管サポートのい
    ずれか一方の本体に他方の本体を一体に併設したことを
    特徴とする排ガス洗浄装置。
JP60202580A 1985-09-13 1985-09-13 排ガス洗浄装置 Expired - Fee Related JPH0628694B2 (ja)

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JPH0628694B2 JPH0628694B2 (ja) 1994-04-20

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