JPS62251757A - 正帯電型電子写真感光体 - Google Patents
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- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical group O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 55
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 33
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 33
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims abstract description 20
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- -1 carboxylic acid compound Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- MSYLJRIXVZCQHW-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 MSYLJRIXVZCQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 92
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 65
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 29
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims description 21
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 35
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 19
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 18
- 235000019256 formaldehyde Nutrition 0.000 description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 17
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- JMHCCAYJTTWMCX-QWPJCUCISA-M sodium;(2s)-2-amino-3-[4-(4-hydroxy-3,5-diiodophenoxy)-3,5-diiodophenyl]propanoate;pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Na+].IC1=CC(C[C@H](N)C([O-])=O)=CC(I)=C1OC1=CC(I)=C(O)C(I)=C1 JMHCCAYJTTWMCX-QWPJCUCISA-M 0.000 description 13
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical group CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 102100028728 Bone morphogenetic protein 1 Human genes 0.000 description 3
- 108090000654 Bone morphogenetic protein 1 Proteins 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C)C(C)=CC=C21 QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- UJMDYLWCYJJYMO-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O UJMDYLWCYJJYMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- KQTIIICEAUMSDG-UHFFFAOYSA-N tricarballylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CC(O)=O KQTIIICEAUMSDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XVOUMQNXTGKGMA-OWOJBTEDSA-N (E)-glutaconic acid Chemical compound OC(=O)C\C=C\C(O)=O XVOUMQNXTGKGMA-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- UBJNPHAYKBNFOC-XNWCZRBMSA-N (e)-2-phenylbut-2-enoic acid Chemical compound C\C=C(\C(O)=O)C1=CC=CC=C1 UBJNPHAYKBNFOC-XNWCZRBMSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUMARJCOGCIM-UHFFFAOYSA-N 1,5-dichloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=C(Cl)C=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl MQIUMARJCOGCIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBQNYYXVDQUKIU-UHFFFAOYSA-N 1,8-dichloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC(Cl)=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl VBQNYYXVDQUKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCFAKBRKTKVJPO-UHFFFAOYSA-N 1-anthroic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C(=O)O)=CC=CC3=CC2=C1 CCFAKBRKTKVJPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDFKURANQKCOAI-UHFFFAOYSA-N 1-nitrofluoren-9-one Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2[N+](=O)[O-] VDFKURANQKCOAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNXVNZRYYHFMEY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichlorocyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound ClC1=CC(=O)C(Cl)=CC1=O LNXVNZRYYHFMEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCARTGJGWCGSSU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichlorobenzoquinone Chemical compound ClC1=CC(=O)C=C(Cl)C1=O JCARTGJGWCGSSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 2-Methyl-2-butenoic acid Natural products C\C=C(\C)C([O-])=O UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYNDYESLUKWOEE-UHFFFAOYSA-N 2-benzylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)CC1=CC=CC=C1 RYNDYESLUKWOEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUPIBABKNUSXAH-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-nitronaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(C)=C([N+]([O-])=O)C(=O)C2=C1 KUPIBABKNUSXAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical compound O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 description 1
- ILYSAKHOYBPSPC-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ILYSAKHOYBPSPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFAUCRRGILHLPG-UHFFFAOYSA-N 3,6-dioxocyclohexa-1,4-diene-1-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(=O)C=CC1=O DFAUCRRGILHLPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 3-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFIRODWJCYBBHY-UHFFFAOYSA-N 3-nitrophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1C(O)=O KFIRODWJCYBBHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpropionic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=CC=C1 XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLEBCZSWVARRML-UHFFFAOYSA-N 4-(2,5-diphenyl-1,3-oxazol-4-yl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C1=C(C=2C=CC=CC=2)OC(C=2C=CC=CC=2)=N1 MLEBCZSWVARRML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZKRKPGZABEOSM-XMHGGMMESA-N 4-[(e)-2-[3-[4-(diethylamino)phenyl]-2-phenyl-3,4-dihydropyrazol-5-yl]ethenyl]-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1\C=C\C1=NN(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC)C1 BZKRKPGZABEOSM-XMHGGMMESA-N 0.000 description 1
- ADCUEPOHPCPMCE-UHFFFAOYSA-N 4-cyanobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C#N)C=C1 ADCUEPOHPCPMCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 5,5-Dimethyl-4-(3-oxobutyl)dihydro-2(3H)-furanone Chemical compound CC(=O)CCC1CC(=O)OC1(C)C AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUUXPEFVVCANJR-UHFFFAOYSA-N 5,8-dioxonaphthalene-1-carboxylic acid Chemical compound O=C1C=CC(=O)C2=C1C=CC=C2C(=O)O AUUXPEFVVCANJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005789 ACRONAL® acrylic binder Polymers 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N Angelic acid Natural products CC=C(C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCFGGAKDAXZIAM-VKHMYHEASA-N Apionic acid Chemical compound OCC(O)(CO)[C@@H](O)C(O)=O WCFGGAKDAXZIAM-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRSMWKLPSNHDHA-UHFFFAOYSA-N Naphthalic anhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=CC3=C1 GRSMWKLPSNHDHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UATJOMSPNYCXIX-UHFFFAOYSA-N Trinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1 UATJOMSPNYCXIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCLZFATZLYVHHC-UHFFFAOYSA-N [N+](=O)([O-])C1=C(C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C=C1)C(=O)O Chemical compound [N+](=O)([O-])C1=C(C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C=C1)C(=O)O JCLZFATZLYVHHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUANQJMORZSBEK-UHFFFAOYSA-N anthracene-1,9-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(O)=O)=C3C(C(=O)O)=CC=CC3=CC2=C1 RUANQJMORZSBEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- GAUZCKBSTZFWCT-UHFFFAOYSA-N azoxybenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1[N+]([O-])=NC1=CC=CC=C1 GAUZCKBSTZFWCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- GWZCCUDJHOGOSO-UHFFFAOYSA-N diphenic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1C(O)=O GWZCCUDJHOGOSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 210000004709 eyebrow Anatomy 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 1
- 238000013035 low temperature curing Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDHQTWZKAJOZQL-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4,5-tricarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O DDHQTWZKAJOZQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJXNLGUENUIIRW-UHFFFAOYSA-N naphtho[2,3-f][2]benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C=C(C=C3C(=O)OC(=O)C3=C3)C3=CC2=C1 AJXNLGUENUIIRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound C=12C3=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C=CC=1C1=CC=C(C(O)=O)C2=C1C3=CC=C2C(=O)O FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDKNTQGTAEZGC-UHFFFAOYSA-N phenanthrene-1-carboxylic acid Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(C(=O)O)=CC=C2 KFDKNTQGTAEZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMFJKKGDLAICPF-UHFFFAOYSA-N phenanthrene-9-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC3=CC=CC=C3C2=C1 LMFJKKGDLAICPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VBHKTXLEJZIDJF-UHFFFAOYSA-N quinalizarin Chemical compound C1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(O)C(O)=CC=C3C(=O)C2=C1O VBHKTXLEJZIDJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- VOBWLFNYOWWARN-UHFFFAOYSA-N thiophen-3-one Chemical compound O=C1CSC=C1 VOBWLFNYOWWARN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N tiglic acid Chemical compound C\C=C(/C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N tiglic acid Natural products CC(C)=C(C)C(O)=O UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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-
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- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、耐久性に優れ、高湿下でも良好な画像を提供
する正帯iIi型電子電子写真感光体する。
する正帯iIi型電子電子写真感光体する。
(従来の技術)
光導電性物質ヲ感光材料として利用する電子写真感光体
において、光導電性物質としては、従来。
において、光導電性物質としては、従来。
セレン、酸化亜鉛、酸化チタン、(iilC化カドミウ
ム等の無機系光導電性物質が主に用いられてきた。
ム等の無機系光導電性物質が主に用いられてきた。
しかしこれらの多くは一般に毒性が強く廃棄する方法に
も問題がある。
も問題がある。
一方、有機光導電性化合物を使用すれば、無機系光導電
性物質を利用する場合に比べて、一般に毒性が弱く、更
に透明性、町とり性、軽量性2価格等の点において有利
であるので近年広く研究され、実用化されつつある。
性物質を利用する場合に比べて、一般に毒性が弱く、更
に透明性、町とり性、軽量性2価格等の点において有利
であるので近年広く研究され、実用化されつつある。
その中で電荷の発生と輸送という機aヒを分離した複合
型感光体は、従来、有機光導電性化合物を使用した感光
体の大きな欠点であった感度を大幅に向上させることが
できるため、近年急速な進歩を遂げつつある。
型感光体は、従来、有機光導電性化合物を使用した感光
体の大きな欠点であった感度を大幅に向上させることが
できるため、近年急速な進歩を遂げつつある。
これらの複合型感光体をカールソン法による電子写真装
置に適用した場合には、まず感光体表面に静電潜像を形
成し2次に異符号に帯電した一般にトナーと称する現像
剤により現塚し、トナー画像を他の基体9例えば紙等に
転写、定着し、コピーを得ることができる。
置に適用した場合には、まず感光体表面に静電潜像を形
成し2次に異符号に帯電した一般にトナーと称する現像
剤により現塚し、トナー画像を他の基体9例えば紙等に
転写、定着し、コピーを得ることができる。
従来の有機光導電性化合物を使用した電子写真感光体は
、一般に導電層の上に電荷発生層及び正孔移動型電荷輸
送層をllTh次積層しているため、感光体表面を負に
帯電して使用する。コロナ放電により負帯電を行うと、
正帯電の場合に比べてオゾンの発生量が多く、帯電も不
均一になりやすい。
、一般に導電層の上に電荷発生層及び正孔移動型電荷輸
送層をllTh次積層しているため、感光体表面を負に
帯電して使用する。コロナ放電により負帯電を行うと、
正帯電の場合に比べてオゾンの発生量が多く、帯電も不
均一になりやすい。
その点で、できれば正帯電で機能しうる感光体。
即ち正帯を型電子写真感光体が望ましい。
また、前記の電子写真装置では、感光体表面に残存して
いるトナーをブラシやブレード等を用いて除去(クリー
ニング)する工程が必要で、視像。
いるトナーをブラシやブレード等を用いて除去(クリー
ニング)する工程が必要で、視像。
転写、クリーニングの工程を繰り返すことによシ感光体
の表面は摩耗し損傷を受け、その結果、転写画像が不鮮
明になり、感光体の寿命は著しく短くなるという問題が
ある。したがって感光体には強固な耐久性が必要になる
。
の表面は摩耗し損傷を受け、その結果、転写画像が不鮮
明になり、感光体の寿命は著しく短くなるという問題が
ある。したがって感光体には強固な耐久性が必要になる
。
このように、正帯電で使用でき、かつ耐久性の高い電子
写真感光体への要求が近年急速に高まっている。
写真感光体への要求が近年急速に高まっている。
正帯電型電子写真感光体には(1)導電層の上に電荷発
生層及び電子受容性電荷輸送性物質を含む電荷輸送層を
順次積層した感光体、(2)導電層の上に電子供与性電
荷輸送性物質を含む電荷輸送層及び電荷発生層を順次積
層した感光体、(3)導電層の上に電荷発生材料単独又
は電荷発生材料と電荷輸送材料等を混合した一層のみの
感光層を設けた感光体(この場合には正負両帯電性を示
す)などがあるが、これら感光体の耐久性は現在のとこ
ろまだ十分ではない。したがって耐久性を向上させるた
めに表面に保護層を設けることが考えられる。
生層及び電子受容性電荷輸送性物質を含む電荷輸送層を
順次積層した感光体、(2)導電層の上に電子供与性電
荷輸送性物質を含む電荷輸送層及び電荷発生層を順次積
層した感光体、(3)導電層の上に電荷発生材料単独又
は電荷発生材料と電荷輸送材料等を混合した一層のみの
感光層を設けた感光体(この場合には正負両帯電性を示
す)などがあるが、これら感光体の耐久性は現在のとこ
ろまだ十分ではない。したがって耐久性を向上させるた
めに表面に保護層を設けることが考えられる。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、従来の保護層のように熱可塑性樹脂を用いた場
合には耐摩耗性向上の効果が十分でなく。
合には耐摩耗性向上の効果が十分でなく。
また熱硬化性樹脂を用いると保獲層形成時に高温。
長時間の硬化反応が必要なため、その間に下層の感光層
が熱劣化し、電子写真特性が低下してしまうこと、更に
耐摩耗性を向上するため保護層の膜厚をわずかでも厚く
すると、電子写真特性の低下。
が熱劣化し、電子写真特性が低下してしまうこと、更に
耐摩耗性を向上するため保護層の膜厚をわずかでも厚く
すると、電子写真特性の低下。
特に残留電位の増加や感度の低下を招きやすいこと、ま
たウレタン樹脂に代表されるように保護層の吸湿性が高
く、高湿ドで画像のぼけ、流れ及び消失など画像欠陥が
生じやすいという欠点がある。
たウレタン樹脂に代表されるように保護層の吸湿性が高
く、高湿ドで画像のぼけ、流れ及び消失など画像欠陥が
生じやすいという欠点がある。
このように電子写真特性を損わずに耐摩耗性が高く、か
つ耐湿性の良好な正帯電型電子写真感光体用の保護層の
開発が望まれている。
つ耐湿性の良好な正帯電型電子写真感光体用の保護層の
開発が望まれている。
したがって本発明は前記のような要求を満足し。
電子写真特性、耐久性及び耐湿性の優れた正帯電型電子
写真感光体を提供することを目的とする。
写真感光体を提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、正帯電で機能しつる電子写真感光体において
、その表面に (al 数平均分子量1,500以下で、メラミン核
1個当りに結合ホルムアルデヒド数が2〜4個及びメチ
ロール基数が1〜2個であるプチルエーテル化メラミン
・ホルムアルデヒド樹脂 fbl 数平均分子量が400〜2.oooのアルキ
ルエーテル化ヘンソクアナミンeホルムアルデヒド樹脂 並びに fc) 電子受容性カルボン酸化合物及び/又は′成
子受容性ポリカルボン酸無水物 を成分として含む硬化皮膜を含有する保護層を有してな
る正帯電型電子写真感光体に関する。
、その表面に (al 数平均分子量1,500以下で、メラミン核
1個当りに結合ホルムアルデヒド数が2〜4個及びメチ
ロール基数が1〜2個であるプチルエーテル化メラミン
・ホルムアルデヒド樹脂 fbl 数平均分子量が400〜2.oooのアルキ
ルエーテル化ヘンソクアナミンeホルムアルデヒド樹脂 並びに fc) 電子受容性カルボン酸化合物及び/又は′成
子受容性ポリカルボン酸無水物 を成分として含む硬化皮膜を含有する保護層を有してな
る正帯電型電子写真感光体に関する。
本発明に係る正帯電型電子写真感光体は、導電層の上に
、光導電層及び上記保護層を順次積層してなるものであ
る。
、光導電層及び上記保護層を順次積層してなるものであ
る。
本発明の導電層としては、導電処理し九紙又はプラスチ
ックフィルム、アルミニウムのような金属箔を積層した
プラスチックフィルム、アル2ニウム等の導電性金属か
らなる金属板又は金属ドラム等の導電体である。
ックフィルム、アルミニウムのような金属箔を積層した
プラスチックフィルム、アル2ニウム等の導電性金属か
らなる金属板又は金属ドラム等の導電体である。
本発明の光導電層は、それ自体、正帯電で機能しうるも
のであって、一層でその機能をは死すものでも、主に電
荷発生機能を有する層と主に電荷輸送機能を有する層か
らなる機能分離型の複合型光導電層でもよい。以下に1
本発明の光導電層の態様について説明する。
のであって、一層でその機能をは死すものでも、主に電
荷発生機能を有する層と主に電荷輸送機能を有する層か
らなる機能分離型の複合型光導電層でもよい。以下に1
本発明の光導電層の態様について説明する。
(1)本発明の光導電層の一例は、を荷を発生する有機
顔料を含有する電荷発生層及び電子受容性電荷輸送性物
質を含有する電荷輸送層を順次、導電層の上に積層した
ものである。
顔料を含有する電荷発生層及び電子受容性電荷輸送性物
質を含有する電荷輸送層を順次、導電層の上に積層した
ものである。
電荷発生層に含まれる電荷を発生する有機顔料としては
、アゾキシベンゼン系、ジスアゾ系、トリスアゾ系、ベ
ンズイミダゾール系、多環式キノリン系、インジゴイド
系、キナクリドン系、フタoクアニン系、ペリレン系、
メチン系等の電荷全発生することが知られている顔料を
使用できる。
、アゾキシベンゼン系、ジスアゾ系、トリスアゾ系、ベ
ンズイミダゾール系、多環式キノリン系、インジゴイド
系、キナクリドン系、フタoクアニン系、ペリレン系、
メチン系等の電荷全発生することが知られている顔料を
使用できる。
これらの顔料は2例えば、特開昭47−37453号、
特開昭47−37544号、特開昭47−18543号
、特開昭47−18544号、特開昭48−43942
号、特開昭48−70538号、特開昭49−1231
号、特開昭49−105536号、特開昭50−752
14号2%開昭50−92738号公報等に開示されて
いる。
特開昭47−37544号、特開昭47−18543号
、特開昭47−18544号、特開昭48−43942
号、特開昭48−70538号、特開昭49−1231
号、特開昭49−105536号、特開昭50−752
14号2%開昭50−92738号公報等に開示されて
いる。
特に特開昭58−182640号公報及びヨーロッパ特
許出願公開92,255号公報に記載されているτ、τ
tη及びη′型型金金属フタロシアニン長波長にまで高
感度を有し、ダイオードレーザ−を搭載したプリンター
用の電子写真感光体としても有効である。このようなも
ののほか光照射により電荷担体を発生する任意の有機顔
料を使用することができる。
許出願公開92,255号公報に記載されているτ、τ
tη及びη′型型金金属フタロシアニン長波長にまで高
感度を有し、ダイオードレーザ−を搭載したプリンター
用の電子写真感光体としても有効である。このようなも
ののほか光照射により電荷担体を発生する任意の有機顔
料を使用することができる。
また電荷発生層に、電子写真感光体に通常使用される結
合剤、可塑剤、流動性付与剤、ピンホール抑制剤等の添
加剤を必要に応じて用いることができる。結合剤として
は、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂
、ポリカーボイ、−ト樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメ
タクリル酸メチル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等が挙
げられる。また、熱及び/又は光硬化性樹脂も使用でき
る。いずれにしても電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形
成しつる樹脂であれば特に制限はない。
合剤、可塑剤、流動性付与剤、ピンホール抑制剤等の添
加剤を必要に応じて用いることができる。結合剤として
は、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂
、ポリカーボイ、−ト樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメ
タクリル酸メチル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等が挙
げられる。また、熱及び/又は光硬化性樹脂も使用でき
る。いずれにしても電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形
成しつる樹脂であれば特に制限はない。
電荷発生層中、結合剤は、前記有機顔料に対して300
重tチ以下の量で使用する。300重量%を越えると、
電子写真特性が低下する。
重tチ以下の量で使用する。300重量%を越えると、
電子写真特性が低下する。
可塑剤としては・・ロゲン化パラフィン、ジメチルナフ
タリン、ジブチルフタレート等が挙ケラレる。流動性付
与剤としては、モダフロー(モンサントケミカル社製)
、アクロナール4F(バス7社判)等が挙げられ、ピン
ホール抑制剤としては。
タリン、ジブチルフタレート等が挙ケラレる。流動性付
与剤としては、モダフロー(モンサントケミカル社製)
、アクロナール4F(バス7社判)等が挙げられ、ピン
ホール抑制剤としては。
ベンゾイン、ジメチルフタレート等が挙げられる。
これらは、各々、前記有機顔料に対して5重量%以下で
使用するのが好ましい。
使用するのが好ましい。
前記電荷輸送層に用いる電子受容性電荷輸送性物質は、
電子輸送の機能を有するもので、具体的には、フルオレ
ン、フルオレノン、2.7−)ニトロ−9−フルオレノ
ン、2,4.7−)リニトロー9−7リレオレノン、4
H−インデノ(1,2,f3)チオフェン−4−オン、
3.7−シニトロージベンソチオフエンー5−オキシド
、テトラクロルフタル酸無水物、2,5−ジクロル−1
,4−ベンゾキノン。
電子輸送の機能を有するもので、具体的には、フルオレ
ン、フルオレノン、2.7−)ニトロ−9−フルオレノ
ン、2,4.7−)リニトロー9−7リレオレノン、4
H−インデノ(1,2,f3)チオフェン−4−オン、
3.7−シニトロージベンソチオフエンー5−オキシド
、テトラクロルフタル酸無水物、2,5−ジクロル−1
,4−ベンゾキノン。
2.6−ジクロル−1,4−ベンゾキノン、2,3,5
.6−テトラクロルー1.4−ベンゾキノン、アントラ
キノン、2−クロルアントラキノン、1.8−ジクロル
アントラキノン、1.5−ジクロルアントラキノン、1
,2,5.8−テトラヒドロキシアントラキノン、2−
メチルアントラキノン、l、4−ナフトキノン、2.3
−ジクロル−1,4−ナフトキノン、ス&5−トリクロ
ル−1,4−す7トキノン、ス3−ジクロルー5−ブロ
ム−1,4−ナフトキノン、2−ニトロ−3−メチル−
1,4−ナフトキノン、2+3−ジブロム−5−メチル
−1,4−ナフトキノン。
.6−テトラクロルー1.4−ベンゾキノン、アントラ
キノン、2−クロルアントラキノン、1.8−ジクロル
アントラキノン、1.5−ジクロルアントラキノン、1
,2,5.8−テトラヒドロキシアントラキノン、2−
メチルアントラキノン、l、4−ナフトキノン、2.3
−ジクロル−1,4−ナフトキノン、ス&5−トリクロ
ル−1,4−す7トキノン、ス3−ジクロルー5−ブロ
ム−1,4−ナフトキノン、2−ニトロ−3−メチル−
1,4−ナフトキノン、2+3−ジブロム−5−メチル
−1,4−ナフトキノン。
2.3−ジブロム−5−エチル−1,4−す7トキノン
、テトラシアノエチレン、トリニトロベンゼン。
、テトラシアノエチレン、トリニトロベンゼン。
テトラシアノキノジメタン等並びにこれらの154体な
どの電子受容性化合物である。
どの電子受容性化合物である。
電荷輸送層にも電荷発生層と同様な結合剤、可塑剤、流
動性付与剤、ピンホール抑制剤等を必要に応じて用いる
ことができる。この中で結合剤は電荷輸送性物質に対し
、電子写真特性が低下しないように400重量−以下が
好ましく、低分子電荷輸送性物質に対しては被膜特性の
関係上50重i%以上が好ましい。その他の添加剤は、
各々。
動性付与剤、ピンホール抑制剤等を必要に応じて用いる
ことができる。この中で結合剤は電荷輸送性物質に対し
、電子写真特性が低下しないように400重量−以下が
好ましく、低分子電荷輸送性物質に対しては被膜特性の
関係上50重i%以上が好ましい。その他の添加剤は、
各々。
電荷輸送性物質に対して5重量係以下が好ましい。
光導電層のこの態様において、電子供与性電荷輸送性物
質を含有する電荷輸送層を前記電荷発生層のすぐ下に積
層してもよい。
質を含有する電荷輸送層を前記電荷発生層のすぐ下に積
層してもよい。
ここで、電子供与性電荷輸送性物質は、正孔輸送の機能
を有するもので、具体的には、ボIJ−N−ビニルカル
バゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルピラゾリン等
の高分子化合物、カルバゾール、3−フェニルカルバゾ
ール、2−フェニルイア )” −k、 オdt t
ジアゾール、1−フェニル−3−(4−ジエチルアミノ
スチリル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル)ピラ
ゾリン、ヒドラゾン、2−フェニル−4−(4−ジエチ
ルアミノフェニル)−5−フェニルオキサソール、トリ
フェニルアミン、イミダゾール等の低分子化合物及びこ
れらの誘導体等の電子供与性化合物である。この電荷輸
送層には、前記した結合剤及び可塑剤。
を有するもので、具体的には、ボIJ−N−ビニルカル
バゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルピラゾリン等
の高分子化合物、カルバゾール、3−フェニルカルバゾ
ール、2−フェニルイア )” −k、 オdt t
ジアゾール、1−フェニル−3−(4−ジエチルアミノ
スチリル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル)ピラ
ゾリン、ヒドラゾン、2−フェニル−4−(4−ジエチ
ルアミノフェニル)−5−フェニルオキサソール、トリ
フェニルアミン、イミダゾール等の低分子化合物及びこ
れらの誘導体等の電子供与性化合物である。この電荷輸
送層には、前記した結合剤及び可塑剤。
流動性付与剤、ピンホール抑制剤等の添加剤を前記した
電子受容性電荷輸送性物質を含有する電荷輸送層の場合
と同様に使用することができる。ただし、電子供与性電
荷輸送性物質が高分子化合物の場合は、結合剤は使用し
なくてもよい。
電子受容性電荷輸送性物質を含有する電荷輸送層の場合
と同様に使用することができる。ただし、電子供与性電
荷輸送性物質が高分子化合物の場合は、結合剤は使用し
なくてもよい。
(2)本発明の光導電層の他の例は、電子供与性電荷輸
送性物質を含有する電荷輸送層及び電荷を発生する有機
顔料を含有する電荷発生層を順次。
送性物質を含有する電荷輸送層及び電荷を発生する有機
顔料を含有する電荷発生層を順次。
導電層の上に積層したものである。
ここで、電子供与性電荷輸送性物質、これを含有する電
荷輸送層、電荷を発生する有機顔料及びこれを含有する
電荷発生層については、前記(1)項と同じでちる。
荷輸送層、電荷を発生する有機顔料及びこれを含有する
電荷発生層については、前記(1)項と同じでちる。
(3) 本発明の光導電層について、さらに他の例は
、i!!荷を発生する有機顔料を含有する層の一層又は
これの積層体からなる。ま念、該層は、電荷輸送性物質
を含んでいてもよい。
、i!!荷を発生する有機顔料を含有する層の一層又は
これの積層体からなる。ま念、該層は、電荷輸送性物質
を含んでいてもよい。
ここで、電荷を発生する有機顔料及びこれを含む層に含
有させてもよい結合剤及び可塑剤、流動性付与剤、ピン
ホール抑制剤等の添加剤は、前記(1)の電荷発生層に
使用できるものと同様のものが使用できる。また、電荷
輸送性物質としては、前記(1)項に記載した電子供与
性電荷輸送性物質及び/又は電子受容性電荷輸送性物質
が使用できる。
有させてもよい結合剤及び可塑剤、流動性付与剤、ピン
ホール抑制剤等の添加剤は、前記(1)の電荷発生層に
使用できるものと同様のものが使用できる。また、電荷
輸送性物質としては、前記(1)項に記載した電子供与
性電荷輸送性物質及び/又は電子受容性電荷輸送性物質
が使用できる。
この例において、光導電層は、電荷を発生する有機顔料
に対して、該有機顔料を電荷輸送性物質と共に使用しな
いときは、結合剤を100〜900重量%使用するのが
好ましく、特に200〜400重i%使用するのが好ま
しい。このとき、結合剤が多すぎると感光体の感度が低
下しやすくなり。
に対して、該有機顔料を電荷輸送性物質と共に使用しな
いときは、結合剤を100〜900重量%使用するのが
好ましく、特に200〜400重i%使用するのが好ま
しい。このとき、結合剤が多すぎると感光体の感度が低
下しやすくなり。
少なすぎると帯電性が低下しやすくなる。
また、この例において、光導電層中に、電荷を発生する
有機顔料と電荷輸送性物質を共に含有させる場合、結合
剤の使用量は、電荷輸送性物質に対して450重1逢チ
以下が好ましく、特に300重量%以下が好ましい。結
合剤が多すぎると感光体の感度が低下しやすくなる。ま
た、結合剤の使用量は、電荷輸送性物質が低分子化合物
のときは。
有機顔料と電荷輸送性物質を共に含有させる場合、結合
剤の使用量は、電荷輸送性物質に対して450重1逢チ
以下が好ましく、特に300重量%以下が好ましい。結
合剤が多すぎると感光体の感度が低下しやすくなる。ま
た、結合剤の使用量は、電荷輸送性物質が低分子化合物
のときは。
該化合物に対して、80重量%以上が好ましく。
特に100重をチリ上が好ましい。このとき、結合剤が
少なすぎると光導電層が十分に強度を保持できず、また
、帯電性が低下する傾向がある。電荷輸送性物質が高分
子化合物のときも、帯電性の点から、結合剤を該化合物
に対して80重f%以上使用するのが好ましく、特に1
00重量%以上使用するのが好ましい。電荷を発生する
有機顔料は、電荷輸送性物質及び結合剤の化量に対して
。
少なすぎると光導電層が十分に強度を保持できず、また
、帯電性が低下する傾向がある。電荷輸送性物質が高分
子化合物のときも、帯電性の点から、結合剤を該化合物
に対して80重f%以上使用するのが好ましく、特に1
00重量%以上使用するのが好ましい。電荷を発生する
有機顔料は、電荷輸送性物質及び結合剤の化量に対して
。
0、1〜20重it′%使用するのが好ましく、特に0
.5〜5重i%使用するのが好ましい。これが少なすぎ
ると感光体の感度が低下しやすくなり、多すぎると帯電
性が低下する傾向がある。さらに。
.5〜5重i%使用するのが好ましい。これが少なすぎ
ると感光体の感度が低下しやすくなり、多すぎると帯電
性が低下する傾向がある。さらに。
他の添加剤は、光導電層中に0〜5重量%の範囲で使用
されるのが好ましい。
されるのが好ましい。
これらの各層の膜厚は(11及び(2)め光導電層の場
合、!荷発生層が0.001〜10μmが好ましく。
合、!荷発生層が0.001〜10μmが好ましく。
特に0.2〜5μfTlが好ましい。電荷輸送層は、い
ずれのものも5〜50μmが好ましく、特に8〜20μ
mが好ましい。電荷発生層の膜厚が0.001μm未満
では感度が劣る傾向があり、10μmを越えると残留電
位が増加する傾向がある。また電荷輸送層の膜厚が5μ
m未満では帯電性が劣る傾向がある。50 Amを越え
ると感度が低下する傾向がある。(3)の感光体の光導
電層の膜厚は5〜50μmが好ましく、特に8〜20μ
mが好ましい。5μm未満では帯電性が劣りやすくなり
、50μmを越えると感度が低下する傾向がある。
ずれのものも5〜50μmが好ましく、特に8〜20μ
mが好ましい。電荷発生層の膜厚が0.001μm未満
では感度が劣る傾向があり、10μmを越えると残留電
位が増加する傾向がある。また電荷輸送層の膜厚が5μ
m未満では帯電性が劣る傾向がある。50 Amを越え
ると感度が低下する傾向がある。(3)の感光体の光導
電層の膜厚は5〜50μmが好ましく、特に8〜20μ
mが好ましい。5μm未満では帯電性が劣りやすくなり
、50μmを越えると感度が低下する傾向がある。
次に各層の形成法について述べる。
(1)及び(2)の光導電層の場合、電荷発生層を形成
する方法として、有機顔料のみを用いる場合には。
する方法として、有機顔料のみを用いる場合には。
真空蒸着で行うこともできるが、有機顔料、結合剤及び
場合によシ添加剤をアセトン、メチルエチルケトン、テ
トラヒドロフラン、トルエン、キシレン、塩化メチレン
、トリクロルエタン等の溶剤に均一に溶解又は分散させ
た後、塗布し乾燥して形成することもできる。
場合によシ添加剤をアセトン、メチルエチルケトン、テ
トラヒドロフラン、トルエン、キシレン、塩化メチレン
、トリクロルエタン等の溶剤に均一に溶解又は分散させ
た後、塗布し乾燥して形成することもできる。
電荷輸送層を形成する場合には、いずれのものも電荷輸
送性物質、結合剤及び添加剤等を前記の電荷発生層の場
合と同様な溶剤に均一に溶解した後、塗布し乾燥して形
成することができる。
送性物質、結合剤及び添加剤等を前記の電荷発生層の場
合と同様な溶剤に均一に溶解した後、塗布し乾燥して形
成することができる。
また、(3)の光導電層の場合には、!荷発生材料並び
に場合により電荷輸送性物質、結合剤及び添加剤等を前
記の電荷発生層の場合と同様な溶剤に均一に溶解又は分
散させた後、塗布し乾燥して形成することができる。
に場合により電荷輸送性物質、結合剤及び添加剤等を前
記の電荷発生層の場合と同様な溶剤に均一に溶解又は分
散させた後、塗布し乾燥して形成することができる。
本発明の感光体は導電層のすぐ上に薄い接着層又はバリ
ヤ層を有していてもよい。
ヤ層を有していてもよい。
次に、保護層について説明する。
本発明の保鰻層は、特定のブチルエーテル化メラミン・
ホルムアルデヒド樹脂、アルキルエーテル化ベンゾグア
ナミン・ホルムアルデヒド樹脂並びに電子受容性カルボ
ン酸化合物及び/又は電子受容性ポリカルボン酸無水物
の硬化皮膜によって主に形成されるが、この硬化皮膜は
これらを含む塗膜を加熱により硬化させて得ることがで
きる。
ホルムアルデヒド樹脂、アルキルエーテル化ベンゾグア
ナミン・ホルムアルデヒド樹脂並びに電子受容性カルボ
ン酸化合物及び/又は電子受容性ポリカルボン酸無水物
の硬化皮膜によって主に形成されるが、この硬化皮膜は
これらを含む塗膜を加熱により硬化させて得ることがで
きる。
本発明において用いられるブチルエーテル化メラミン・
ホルムアルデヒド樹脂の数平均分子量は1500以下で
あり、数平均分子量が1500を越えると反応性が低下
する。また該樹脂はメラミン核1個当り結合ホルムアル
デヒドを2〜4個有する。4個を越えると反応性が低下
し、2個未満では該樹脂の貯蔵安定性が悪くなり、硬化
塗膜がもろくなる。更に該樹脂はメラミン核1個あたり
メチロール基を1〜2個有するものである。メチロール
基の数が2個を越えると該樹脂の貯蔵安定性が劣り、硬
化塗膜がもろくなる。また、1個未満では反応性が劣る
。
ホルムアルデヒド樹脂の数平均分子量は1500以下で
あり、数平均分子量が1500を越えると反応性が低下
する。また該樹脂はメラミン核1個当り結合ホルムアル
デヒドを2〜4個有する。4個を越えると反応性が低下
し、2個未満では該樹脂の貯蔵安定性が悪くなり、硬化
塗膜がもろくなる。更に該樹脂はメラミン核1個あたり
メチロール基を1〜2個有するものである。メチロール
基の数が2個を越えると該樹脂の貯蔵安定性が劣り、硬
化塗膜がもろくなる。また、1個未満では反応性が劣る
。
このようなブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂は、メラミンをブタノールに溶解し、これにホル
ムアルデヒドを滴下することによって付加反応及びブチ
ルエーテル化反応を行う方法、或いはメラミン及びホル
ムアルデヒドをブタノールに溶解させ、この溶液を加熱
して付加反応及びブチルエーテル化反応を行う方法によ
って製造できる。これらの方法において反応は硝酸、塩
酸、硫酸、燐酸、p−)ルエンスルホン酸等の酸性触媒
を添加し、酸性下、好ましくはpH3〜6で行うのが好
ましく2反応温度はブタノールの還流温度、好ましくは
約90〜100℃であるのが好ましい。また、配合とし
ては、メラミン1モルに対してブタノール4〜5モル及
びホルムアルデヒド3〜7モルを使用するのが好ましい
。
ド樹脂は、メラミンをブタノールに溶解し、これにホル
ムアルデヒドを滴下することによって付加反応及びブチ
ルエーテル化反応を行う方法、或いはメラミン及びホル
ムアルデヒドをブタノールに溶解させ、この溶液を加熱
して付加反応及びブチルエーテル化反応を行う方法によ
って製造できる。これらの方法において反応は硝酸、塩
酸、硫酸、燐酸、p−)ルエンスルホン酸等の酸性触媒
を添加し、酸性下、好ましくはpH3〜6で行うのが好
ましく2反応温度はブタノールの還流温度、好ましくは
約90〜100℃であるのが好ましい。また、配合とし
ては、メラミン1モルに対してブタノール4〜5モル及
びホルムアルデヒド3〜7モルを使用するのが好ましい
。
本発明の保護層に用いられるブチルエーテル化メラミン
・ホルムアルデヒド樹脂は、従来のメラミン樹脂に比べ
て低温硬化が可能になるため保護層形成前に電子写真感
光体を熱劣化させることなく、かつ、耐摩耗性の高い保
護層が形成できる。
・ホルムアルデヒド樹脂は、従来のメラミン樹脂に比べ
て低温硬化が可能になるため保護層形成前に電子写真感
光体を熱劣化させることなく、かつ、耐摩耗性の高い保
護層が形成できる。
一方、保藤層の他の一成分であるアルキルエーテル化ベ
ンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂は、数平均分子
量が400−2,000で、好ましくは800〜1.5
00の樹脂が用いられる。数平均分子量が400未満で
は硬化塗膜がもろくなシ。
ンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂は、数平均分子
量が400−2,000で、好ましくは800〜1.5
00の樹脂が用いられる。数平均分子量が400未満で
は硬化塗膜がもろくなシ。
スOOOを越えると反応性が低rする。ま九ベンゾグア
ナミン樹脂のメチロール基が全てアルキルエーテル化さ
れていてもよいが、一部、メチロール基のままで存在し
ていてもよい。この場合のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基
、イソブチル基等があげられる。
ナミン樹脂のメチロール基が全てアルキルエーテル化さ
れていてもよいが、一部、メチロール基のままで存在し
ていてもよい。この場合のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基
、イソブチル基等があげられる。
このようなアルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホル
ムアルデヒド樹脂は、ベンゾグアナミンをメタノール、
プロパツール、イソプロパツール。
ムアルデヒド樹脂は、ベンゾグアナミンをメタノール、
プロパツール、イソプロパツール。
ブタノール、イソブタノール等のアルコールに溶解し、
これにホルムアルデヒドを滴下することによって付加反
応及びアルキルエーテル化を行う方法、あるいはベンゾ
グアナミン及びホルムアルデヒドをアルコールに溶解さ
せ、この溶液を加熱して付加反応及びアルキルエーテル
化反応を行うことによって製造できる。これらの方法に
おいて反応は硝酸、塩酸、硫酸、燐酸、 p−)ルエン
スルホン酸等の酸性触媒を冷加し、前記したブチルエー
テル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂と同様な方法で
製造できる。
これにホルムアルデヒドを滴下することによって付加反
応及びアルキルエーテル化を行う方法、あるいはベンゾ
グアナミン及びホルムアルデヒドをアルコールに溶解さ
せ、この溶液を加熱して付加反応及びアルキルエーテル
化反応を行うことによって製造できる。これらの方法に
おいて反応は硝酸、塩酸、硫酸、燐酸、 p−)ルエン
スルホン酸等の酸性触媒を冷加し、前記したブチルエー
テル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂と同様な方法で
製造できる。
本発明の保護層に用いられるアルキルエーテル化ベンゾ
グアナミン・ホルムアルデヒド樹脂単独の硬化皮膜は硬
く2強じんで、かつ吸水性が低いという特長を有してい
る。したがって、前記の特定のブチルエーテル化メラミ
ン・ホルムアルデヒド樹脂とアルキルエーテル化ベンゾ
グアナミン・ホルムアルデヒド樹脂を組み合わせると1
両者の特長が加わり、熱硬化性が速く、かつ耐湿性の良
好な強じんな皮膜が得られる。
グアナミン・ホルムアルデヒド樹脂単独の硬化皮膜は硬
く2強じんで、かつ吸水性が低いという特長を有してい
る。したがって、前記の特定のブチルエーテル化メラミ
ン・ホルムアルデヒド樹脂とアルキルエーテル化ベンゾ
グアナミン・ホルムアルデヒド樹脂を組み合わせると1
両者の特長が加わり、熱硬化性が速く、かつ耐湿性の良
好な強じんな皮膜が得られる。
本発明になる保護層を形成するには前記のブチルエーテ
ル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂トアルキルエーテ
ル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂は重量比
で前者/後者が90/10〜20/80になるように配
合するのが好ましく。
ル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂トアルキルエーテ
ル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂は重量比
で前者/後者が90/10〜20/80になるように配
合するのが好ましく。
特に75/25〜40/60の比率が最適である。
この重量比が大きすぎると耐湿性が低下し、小さすぎる
と熱硬化性が鳴る。
と熱硬化性が鳴る。
以上説明した特定のブチルエーテル化メラミン・ホルム
アルデヒド樹脂とアルキルエーテル化ベンゾグアナミン
・ホルムアルデヒド樹脂からなる硬化皮膜でも、従来知
られている保護層と比較して、比較的低温で短時間の硬
化条件によシ耐摩耗性と耐湿性に優れ、硬化中に生じる
光導電層の熱劣化による電子写真特性の低下を防ぐこと
ができる。
アルデヒド樹脂とアルキルエーテル化ベンゾグアナミン
・ホルムアルデヒド樹脂からなる硬化皮膜でも、従来知
られている保護層と比較して、比較的低温で短時間の硬
化条件によシ耐摩耗性と耐湿性に優れ、硬化中に生じる
光導電層の熱劣化による電子写真特性の低下を防ぐこと
ができる。
しかし1本発明は、さらに、電子受容性カルボン酸化合
物及び/又は電子受容性ポリカルボン酸無水物を使用す
ることにより、下記の特長を付加するものである。
物及び/又は電子受容性ポリカルボン酸無水物を使用す
ることにより、下記の特長を付加するものである。
(1)電子受容性カルボン酸化合物及び/又は電子受容
性ポリカルボン酸無水物が硬化反応を促進するので、よ
り低温、短時間で硬化反応を完了させることができる。
性ポリカルボン酸無水物が硬化反応を促進するので、よ
り低温、短時間で硬化反応を完了させることができる。
この結果、硬化反応中の加熱による光導電層の熱劣化に
伴う感光体の電子写真特性の低下を著しく小さくできる
。
伴う感光体の電子写真特性の低下を著しく小さくできる
。
(2)上記のように硬化反応が促進されるため。
保護層の耐摩耗性がさらに向上し、感光体を長寿命にで
きる。
きる。
(3)上記カルボン酸及び酸無水物は電子受容性である
ため、この性質が保護層に導入される。この結果として
保護層への電子の注入が効率よく行われ1g度の低下及
び光照射後の残留電位の増加を極めて小さくできる。従
って、保護層を厚くすることができ、感光体の寿命をよ
シ長くすることができる。
ため、この性質が保護層に導入される。この結果として
保護層への電子の注入が効率よく行われ1g度の低下及
び光照射後の残留電位の増加を極めて小さくできる。従
って、保護層を厚くすることができ、感光体の寿命をよ
シ長くすることができる。
前記電子受容性カルボン酸化合物としては、カルボキシ
ル基を1個以上有する化合物で、電子受容性を示す化合
物であり、該化合物中に、ニトロ基、ニトリル基、カル
ボニル基等の電子吸引基を有していてもよい。具体的に
は、酪酸、吉草酸。
ル基を1個以上有する化合物で、電子受容性を示す化合
物であり、該化合物中に、ニトロ基、ニトリル基、カル
ボニル基等の電子吸引基を有していてもよい。具体的に
は、酪酸、吉草酸。
ヘプタン酸、アクリル酸、メタクリル酸、チグリン酸、
コハク酸、アジピン酸、グルタル酸、セバシン酸、ウン
デカンニ酸、マレイン酸、グルタコン酸、プロパン−1
,2,3−トリカルボン酸、ブタン−1,1,4−)リ
カルボン酸、ペンタン−1,3,3゜5−テトラカルボ
ン酸、キノバ酸、フェニルプロピオン酸、フェニル酢酸
、安息香酸、フタル酸。
コハク酸、アジピン酸、グルタル酸、セバシン酸、ウン
デカンニ酸、マレイン酸、グルタコン酸、プロパン−1
,2,3−トリカルボン酸、ブタン−1,1,4−)リ
カルボン酸、ペンタン−1,3,3゜5−テトラカルボ
ン酸、キノバ酸、フェニルプロピオン酸、フェニル酢酸
、安息香酸、フタル酸。
イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸。
ヘミメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸。
ピロメリット酸、ケイ皮酸、ンンナミリデン酸。
ベンジルアクリル酸、α−フェニルクロトン酸。
ペンザルプaピオン酸、ビフェニル−2−カルボン酸、
ジフェン酸、α−ナフトエ酸、β−す7トエ酸、ナフタ
リン−1,2−ジカルボン酸、す7タル酸、ナフタリン
−1,4,5−トリカルボン酸、ナフタリン−1,4,
5,8−テトラカルボン酸、アントラセン−1−カルボ
ン酸、アントラセン−1,9−ジカルボン酸、アントラ
セン−43−ジカルボン酸、フェナントレン−1−カル
ボン酸、フェナントレン−9−カルボン酸、ジベンゾチ
オ7エンー1−カルボン酸、チアナフテン−23−ジカ
ルボン酸、ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボ
ン酸。
ジフェン酸、α−ナフトエ酸、β−す7トエ酸、ナフタ
リン−1,2−ジカルボン酸、す7タル酸、ナフタリン
−1,4,5−トリカルボン酸、ナフタリン−1,4,
5,8−テトラカルボン酸、アントラセン−1−カルボ
ン酸、アントラセン−1,9−ジカルボン酸、アントラ
セン−43−ジカルボン酸、フェナントレン−1−カル
ボン酸、フェナントレン−9−カルボン酸、ジベンゾチ
オ7エンー1−カルボン酸、チアナフテン−23−ジカ
ルボン酸、ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボ
ン酸。
3−ニトロへブタン酸、2−二トロアシヒン酸。
4−ニトロ安息香酸、2.3−ンニトロ安息香酸。
2.4.6−1リニトロ安息香酸、3−ニトロフタル酸
、4.6−ンニトロイソフタル酸、2.6−シニトロテ
レフタル酸、4−シアン安息香酸、4.6−ンシアノイ
ソフタル酸、ベンゾフェノン−42′−ジカルボン酸、
ベンゾフェノン−2,4,2:4’−テトラカルボン酸
、4−ニトロ−2−す7トエ酸、8−ニトロ−1−−?
−フトエ酸、アントロンー9−カルボン酸、2−ニトロ
−アントラセン−1−カルボン酸、2−カルボキシ−1
,4−ベンゾキノン、p−ベンゾキノイル酢酸、5−カ
ルボキシ−1,4−ナフトキノン、2−ニトロ−5−カ
ルボキン−1゜4−ナフトキノン、】−カルボキン−ア
ントラキノン、2−カルボキン−4,7−シニトロフル
オレノンなどがある。
、4.6−ンニトロイソフタル酸、2.6−シニトロテ
レフタル酸、4−シアン安息香酸、4.6−ンシアノイ
ソフタル酸、ベンゾフェノン−42′−ジカルボン酸、
ベンゾフェノン−2,4,2:4’−テトラカルボン酸
、4−ニトロ−2−す7トエ酸、8−ニトロ−1−−?
−フトエ酸、アントロンー9−カルボン酸、2−ニトロ
−アントラセン−1−カルボン酸、2−カルボキシ−1
,4−ベンゾキノン、p−ベンゾキノイル酢酸、5−カ
ルボキシ−1,4−ナフトキノン、2−ニトロ−5−カ
ルボキン−1゜4−ナフトキノン、】−カルボキン−ア
ントラキノン、2−カルボキン−4,7−シニトロフル
オレノンなどがある。
前記電子受容性ポリカルボン酸無水物とは、上記電子受
容性カルボン酸化合物のうち、カルボキシル基を2個以
上有するものの酸無水物であり。
容性カルボン酸化合物のうち、カルボキシル基を2個以
上有するものの酸無水物であり。
具体的には、コ・・り酸無水物、グルタル酸無水物。
マレイン酸無水物、フタル酸無水物、トリメリド酸無水
物、ビロメIJ )酸無水物、ナフタル酸無水物、ナフ
タリン−1,4,5−hリカルボン酸無水物。
物、ビロメIJ )酸無水物、ナフタル酸無水物、ナフ
タリン−1,4,5−hリカルボン酸無水物。
ナフタリン−1,4,5,8−テトラカルボン酸無水物
。
。
アントラセン−2,3−ジカルボン酸無水m、3−二ト
ロフタル酸無水物などがある。
ロフタル酸無水物などがある。
前記電子受容性カルボン酸化合物及び電子供与性ポリカ
ルボン酸無水物は、これらのうち1種以上が使用され、
その使用量は、前記ブチルエーテル化メラミン・ホルム
アルデヒド樹脂及びアルキk ニーfル化ヘンゾグアナ
ミン・ホルムアルデヒド樹脂の総量に対して0.1〜4
0重量%が好ましく、%に1〜20重t%が好ましい。
ルボン酸無水物は、これらのうち1種以上が使用され、
その使用量は、前記ブチルエーテル化メラミン・ホルム
アルデヒド樹脂及びアルキk ニーfル化ヘンゾグアナ
ミン・ホルムアルデヒド樹脂の総量に対して0.1〜4
0重量%が好ましく、%に1〜20重t%が好ましい。
この使用量が少なすぎると前記特長を発揮しがたくなり
、多すぎると保護層の耐湿性が低下する傾向がある。
、多すぎると保護層の耐湿性が低下する傾向がある。
本発明の保護層には、前記光導電層の説明の(1)項に
記載した添加剤を適宜含有させてもよい。
記載した添加剤を適宜含有させてもよい。
本発明の保護層の厚さは0.01〜10μmが好ましく
、特に0.1〜5μmが好ましい。0.01μm未満で
は保護層としての効果が小さくなりやすく。
、特に0.1〜5μmが好ましい。0.01μm未満で
は保護層としての効果が小さくなりやすく。
10μmを越えると感度の低下及び残留電位の増大の傾
向がある。
向がある。
保護層を形成するには、前記のブチルエーテル化メラミ
ン・ホルムアルデヒド樹脂、アルキルエーテル化ベンゾ
グアナミン・ホルムアルデヒド樹脂並びに電子受容性カ
ルボン酸化合物及び/又は電子受容性ポリカルボン酸無
水物、さらに場合により添加剤をアセトン、テトラヒド
ロフラン、メタノール、インプロパツール等の溶剤に均
一に溶解した後、光導を眉の上に塗布し、加熱乾燥して
行うことができる。加熱は90〜140℃になるように
されるのが好ましい。
ン・ホルムアルデヒド樹脂、アルキルエーテル化ベンゾ
グアナミン・ホルムアルデヒド樹脂並びに電子受容性カ
ルボン酸化合物及び/又は電子受容性ポリカルボン酸無
水物、さらに場合により添加剤をアセトン、テトラヒド
ロフラン、メタノール、インプロパツール等の溶剤に均
一に溶解した後、光導を眉の上に塗布し、加熱乾燥して
行うことができる。加熱は90〜140℃になるように
されるのが好ましい。
本発明に係る電子写真感光体を用いて複写又は印部りを
行う場合には、従来と同様に表面に正帯電。
行う場合には、従来と同様に表面に正帯電。
露光を施した後、現像を行い、−f通紙等の被転写物上
に画像を転写し、定着すればよい。
に画像を転写し、定着すればよい。
(実施例)
次に実施例に基づいて本発明を詳述するが1本発明はこ
れに限定されるものではない。
れに限定されるものではない。
以下の例中に用いる各材料を次に列記する。括弧内には
略号を示す。
略号を示す。
(1)電荷を発生する有機顔料
τ型無金属フタロシアニン(τ−H*Pc)(2)電荷
輸送性物質 O電子受容性化合物 :15− )リクロルー1.4−ナフトキノンQ電子供
与性化合物 2−(p−ジメチルアミノ)フェニル−4−(p−ジメ
チルアミン)フェニル−5−(0−クロロフェニル)
−1,3−F*f1−ル(OXZI (3)結合剤 Oシリコーンフェス:KR−255 〔信越化学工業(掬商品名〕 07リコーンワニス:トスブードT510〔東芝シリコ
ーン■商品名〕 Oポリエステル樹脂:バイロン200 〔東洋紡績■商品名〕 (4)保護層用材料 tA) ブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂(BMF’1 (BMF−1の合成) 攪拌機、R流冷却器、温度計を装着したフラスコ中にメ
ラミン1269.n−ブタノール4449及び61%硝
酸水溶液0.2gを入れ、100℃に昇温した後、パラ
ホルムアルデヒド169gを30分間に6回に分けて等
間隔で添加し、その後還流温度で30分間反応させ、水
分を除去し、加熱残分が50%になるように脱溶剤を行
った。得られた樹脂溶液の粘度は、ガードナー(25℃
)でBであった。
輸送性物質 O電子受容性化合物 :15− )リクロルー1.4−ナフトキノンQ電子供
与性化合物 2−(p−ジメチルアミノ)フェニル−4−(p−ジメ
チルアミン)フェニル−5−(0−クロロフェニル)
−1,3−F*f1−ル(OXZI (3)結合剤 Oシリコーンフェス:KR−255 〔信越化学工業(掬商品名〕 07リコーンワニス:トスブードT510〔東芝シリコ
ーン■商品名〕 Oポリエステル樹脂:バイロン200 〔東洋紡績■商品名〕 (4)保護層用材料 tA) ブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂(BMF’1 (BMF−1の合成) 攪拌機、R流冷却器、温度計を装着したフラスコ中にメ
ラミン1269.n−ブタノール4449及び61%硝
酸水溶液0.2gを入れ、100℃に昇温した後、パラ
ホルムアルデヒド169gを30分間に6回に分けて等
間隔で添加し、その後還流温度で30分間反応させ、水
分を除去し、加熱残分が50%になるように脱溶剤を行
った。得られた樹脂溶液の粘度は、ガードナー(25℃
)でBであった。
(BMF−2の合成)
BMP−1の合成と同様の装置を用い、メラミン126
9.n−ブタノール4449,61チ硝酸水溶液0.2
g及びパラホルムアルデヒド1699を混合して仕込み
、100℃に昇温後、30分間反応させた。その後、還
流脱水を30分行い。
9.n−ブタノール4449,61チ硝酸水溶液0.2
g及びパラホルムアルデヒド1699を混合して仕込み
、100℃に昇温後、30分間反応させた。その後、還
流脱水を30分行い。
水分を除去すると共に、加熱残分が50俤になるように
脱溶剤を行った。得られた樹脂溶液の粘度は、ガードナ
ー(25℃)でCであつ念。
脱溶剤を行った。得られた樹脂溶液の粘度は、ガードナ
ー(25℃)でCであつ念。
(BMF−3の合成)
BMF−1の合成と同様の装置を用い、パラホルムアル
デヒド217.59.n−ブタノール4449及びメラ
ミン126gを秤り取り、90〜100℃で30分間付
加反応を行った。その後40〜45℃に冷却しフタル酸
0.1gを加え、酸性条件下で還流脱水及び脱溶を行っ
た。この後、加熱残分が5Oqbになるよう調整した。
デヒド217.59.n−ブタノール4449及びメラ
ミン126gを秤り取り、90〜100℃で30分間付
加反応を行った。その後40〜45℃に冷却しフタル酸
0.1gを加え、酸性条件下で還流脱水及び脱溶を行っ
た。この後、加熱残分が5Oqbになるよう調整した。
このときの粘度は(ガードナー725℃)Bでめった。
BMF−1,BMF−2及びBMF−aのメラミン核1
個当りの結合ホルムアルデヒド数、ブチルエーテル基数
及びメチロール基数並びに数平均分子量を下記の表IK
示す。
個当りの結合ホルムアルデヒド数、ブチルエーテル基数
及びメチロール基数並びに数平均分子量を下記の表IK
示す。
但し、結合ホルムアルデヒド数は、仕込み量と亜硫酸ソ
ーダ法による未反応ホルムアルデヒド量の測定により求
め、ブチルエーテル基数はブタノールの仕込み量と内部
標準液として5ec−ブチルアルコールを使用したガス
クロマトグラフィーによる未反応のブタノールの測定に
より求め、メチロール基は、上記ブチルエーテル基数と
N M Rスペクトルから求めた。また、数平均分子量
はゲル透過クロマトグラフィーによシ標準ポリスチレン
の検111mを利用して行った。
ーダ法による未反応ホルムアルデヒド量の測定により求
め、ブチルエーテル基数はブタノールの仕込み量と内部
標準液として5ec−ブチルアルコールを使用したガス
クロマトグラフィーによる未反応のブタノールの測定に
より求め、メチロール基は、上記ブチルエーテル基数と
N M Rスペクトルから求めた。また、数平均分子量
はゲル透過クロマトグラフィーによシ標準ポリスチレン
の検111mを利用して行った。
表1 ブチルエーテル化メラミン・
ホルムアルデヒド樹脂の特性
(Bl アルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホル
ムアルデヒド樹脂(BBF) B M P −1の合成と同様の装置を用い、フラスコ
中にパラホルムアルデヒド1129.1−ブタノール2
22g及びベンゾグアナミン187gを加え、90℃で
1時間付加反応を行い、その後硫酸を用いてp)15に
調整後、再び加熱し還流脱水しながら2時間行い、その
後脱溶を行った。この後、加熱残分が50%になるよう
調整した。このときの粘度はガードナー(25℃)でL
であシ。
ムアルデヒド樹脂(BBF) B M P −1の合成と同様の装置を用い、フラスコ
中にパラホルムアルデヒド1129.1−ブタノール2
22g及びベンゾグアナミン187gを加え、90℃で
1時間付加反応を行い、その後硫酸を用いてp)15に
調整後、再び加熱し還流脱水しながら2時間行い、その
後脱溶を行った。この後、加熱残分が50%になるよう
調整した。このときの粘度はガードナー(25℃)でL
であシ。
前記ブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂
と巨j様にして求めた数平均分子量は1,300であっ
た。
と巨j様にして求めた数平均分子量は1,300であっ
た。
fcl カルボン酸及び酸無水物
クビロメリト酸無水物
03−ニトロフタル酸
Qナフタリン−1,4,5,8−テトラカルボン酸比較
例1 τ−H,Po2.09. シリコーンフェス(K几−2
5574、Og及びテトラヒドロ7ラン949をボール
ミル(日本化学陶業製3寸ボットミル)を用いて8[P
l−間混練した。得られた顔料分散液をアプリケーター
によりアルミニウム板(厚さ0.1 m )上に塗工し
、90℃で1時間乾燥して厚さ約1.0μmの電荷発生
層を形成した。
例1 τ−H,Po2.09. シリコーンフェス(K几−2
5574、Og及びテトラヒドロ7ラン949をボール
ミル(日本化学陶業製3寸ボットミル)を用いて8[P
l−間混練した。得られた顔料分散液をアプリケーター
によりアルミニウム板(厚さ0.1 m )上に塗工し
、90℃で1時間乾燥して厚さ約1.0μmの電荷発生
層を形成した。
次に2.3.5−トリクロル−1,4−ナフトキノン4
9、パイロン200 sg及びジクロルメタン/ジク
ミルエタン=1/1の混合溶媒889を完全に溶解させ
た。得られた溶液をアプリケーターにより前記の電荷発
生層の上に塗工し、90°Cで1時間乾燥して15μm
の電荷輸送層を形成した。
9、パイロン200 sg及びジクロルメタン/ジク
ミルエタン=1/1の混合溶媒889を完全に溶解させ
た。得られた溶液をアプリケーターにより前記の電荷発
生層の上に塗工し、90°Cで1時間乾燥して15μm
の電荷輸送層を形成した。
比較例2
0XZ109とパイロン200.10gをテトラヒドロ
フラン809に混合し、完全に溶解させた。得られた溶
液をアプリケーターによりアルミニウム板上に塗工し、
90℃で1時間乾燥して15μmの電荷輸送層を形成し
た。
フラン809に混合し、完全に溶解させた。得られた溶
液をアプリケーターによりアルミニウム板上に塗工し、
90℃で1時間乾燥して15μmの電荷輸送層を形成し
た。
次にτ−H2P (Z Oge シリコーンフェス(
トスガードT510)6.7g及びトルエン/イソプロ
パツール=4/6 (重量比)の混合溶媒94gをボー
ルミルを用いて15時間混練して得られた顔料分散液を
前記の電荷輸送層の上にアプリケーターにより塗工し、
110℃で15分乾燥して厚さ約1.0μmの電荷発生
層を形成し念。
トスガードT510)6.7g及びトルエン/イソプロ
パツール=4/6 (重量比)の混合溶媒94gをボー
ルミルを用いて15時間混練して得られた顔料分散液を
前記の電荷輸送層の上にアプリケーターにより塗工し、
110℃で15分乾燥して厚さ約1.0μmの電荷発生
層を形成し念。
比較例3
τ−)IzP (0,6g 、 OXZ 5. O
g、パイロン20014.49及びテトラヒドロ7ラン
sagをボールミルを用いて10時間混練した。得られ
た分散液をアプリケーターによりアルミニウム板上に塗
工し、100℃で15時間乾燥して厚さ15μmの一層
型電子写X感光体を作製した。
g、パイロン20014.49及びテトラヒドロ7ラン
sagをボールミルを用いて10時間混練した。得られ
た分散液をアプリケーターによりアルミニウム板上に塗
工し、100℃で15時間乾燥して厚さ15μmの一層
型電子写X感光体を作製した。
比較例4〜5
比較例1と同様な方法で作製した感光体の上に13MF
−3,4og (固形分で20g)及びインプロパツー
ル60gからなる溶液をアプリケーターにより塗工しな
。保護層の乾燥条件及び膜厚を表2に示す。
−3,4og (固形分で20g)及びインプロパツー
ル60gからなる溶液をアプリケーターにより塗工しな
。保護層の乾燥条件及び膜厚を表2に示す。
比較例6〜7
比較例2と同様な方法で作製した感光体の上にBM’F
’−3,30g (固形分で15g)、BBFlog(
固形分で5g)及びインプロパツール609からなる溶
液をアプリケーターにより塗工した。保護層の乾燥条件
及び膜厚を表2に示す。
’−3,30g (固形分で15g)、BBFlog(
固形分で5g)及びインプロパツール609からなる溶
液をアプリケーターにより塗工した。保護層の乾燥条件
及び膜厚を表2に示す。
比較例8〜9
比較例3と同様な方法で作製した感光体の上に。
BMI+”−1,409(固形分で20g)及びインプ
ロパツール6Qgからなる溶液をアプリケーターにより
塗工した。保護層の乾燥条件及び膜厚を表2に示す。
ロパツール6Qgからなる溶液をアプリケーターにより
塗工した。保護層の乾燥条件及び膜厚を表2に示す。
比較例10〜11
比較例2と同様な方法で作製し友感光体の上に。
BMP−1+30g<固形分で151)、BBI”10
g(固形分で591及びインプロパツール60gからな
る溶液をアプリケーターにより塗工した。保護層の乾燥
条件及び膜厚を表2に示す。
g(固形分で591及びインプロパツール60gからな
る溶液をアプリケーターにより塗工した。保護層の乾燥
条件及び膜厚を表2に示す。
実施例1〜9
比較例1〜3と同様な方法で作製した感光体の上に1表
3に示す組成比率の保護層溶液(テトラヒドロフラン/
イソプロパツール=1/1の混合溶剤を使用)をアプリ
ケーターにより塗工した。
3に示す組成比率の保護層溶液(テトラヒドロフラン/
イソプロパツール=1/1の混合溶剤を使用)をアプリ
ケーターにより塗工した。
保護層の乾燥条件及び膜厚を表2に示す。
得られた電子写真感光体の電子写真特性を静電記録紙試
験装置tt川用電機製5P−428)を用いて測定し、
結果を表3に示す。
験装置tt川用電機製5P−428)を用いて測定し、
結果を表3に示す。
なお表中の初期電位’Vo(Vlはダイナミック測定で
正5KVのコロナを10秒間放電したときの帯電電位を
示し、暗減衰VKはその後暗所において30秒間放置し
たときの電位保持率を示しe E50p Enは10I
!uxの白色光を照射し電位がそれぞれ50チ、75チ
低下するに要した光量値Rx−5)を示す。残留電位V
i(Vlは10 luxの白色光を30秒間照射したの
ちの表面電位を示す。
正5KVのコロナを10秒間放電したときの帯電電位を
示し、暗減衰VKはその後暗所において30秒間放置し
たときの電位保持率を示しe E50p Enは10I
!uxの白色光を照射し電位がそれぞれ50チ、75チ
低下するに要した光量値Rx−5)を示す。残留電位V
i(Vlは10 luxの白色光を30秒間照射したの
ちの表面電位を示す。
また摩擦試験機(スガ試験機製)を用いて電子写真感光
体の表面をガーゼで摺動し1表面の摩耗傷が保護層を通
ってその下の層に達するまでの摺動回数で耐摩耗性を評
価した。尚、比較例1〜3の感光体の揚台は、ガーゼの
繊維跡が目視で確認できるまでの摺動回数を測定した。
体の表面をガーゼで摺動し1表面の摩耗傷が保護層を通
ってその下の層に達するまでの摺動回数で耐摩耗性を評
価した。尚、比較例1〜3の感光体の揚台は、ガーゼの
繊維跡が目視で確認できるまでの摺動回数を測定した。
結果を表3に示す。
保穫層の吸水率は、保饅層のみの皮膜を25℃。
91チ几Hの雰囲気に48時間さらし1重さの増加から
吸水率を求めた。
吸水率を求めた。
また2画像評価機を用いて高湿下での画質の評価と連続
印字テストを行い、1iili質が低下するまでの耐刷
寿命を評価した。その結果も表3に示す。
印字テストを行い、1iili質が低下するまでの耐刷
寿命を評価した。その結果も表3に示す。
以下余白
比較例1〜3の感光体は正帯電で機能し、特に比較例2
及び3の感光体は電子写真特性も優れているが、保護層
が設けられていない九めに耐摩耗性が200回以下と極
めて劣り、耐刷寿命も短い。
及び3の感光体は電子写真特性も優れているが、保護層
が設けられていない九めに耐摩耗性が200回以下と極
めて劣り、耐刷寿命も短い。
また比較例1の感光体の表面に本発明の範囲外のメラミ
ン樹脂(BMF−3)を単独で保6層材料として用いた
場合(比較例4.5)、 熱硬化性が悪く、低温(1
10℃)、短時間(1時間)の乾燥条件では硬化不足の
之め、耐摩耗性向上の効果はない(比較例4)。硬化温
度を高温(160℃)にし、@!化待時間3時間と長く
シ、また保護層の膜厚を3μmnに厚くした場合(比較
例5)、耐摩耗性はやや向上した。しかし電子写真特性
の低下。
ン樹脂(BMF−3)を単独で保6層材料として用いた
場合(比較例4.5)、 熱硬化性が悪く、低温(1
10℃)、短時間(1時間)の乾燥条件では硬化不足の
之め、耐摩耗性向上の効果はない(比較例4)。硬化温
度を高温(160℃)にし、@!化待時間3時間と長く
シ、また保護層の膜厚を3μmnに厚くした場合(比較
例5)、耐摩耗性はやや向上した。しかし電子写真特性
の低下。
すなわちE50+ E7s+ v、の増大が著しく、こ
の感光体を画像評価機を用いて評価すると地肌汚れが著
しく、耐刷寿命の評価ができなかつ次。また保護層の吸
水率も高く高湿下では画像濃度の低下や白抜は等の画像
欠陥が発生した。
の感光体を画像評価機を用いて評価すると地肌汚れが著
しく、耐刷寿命の評価ができなかつ次。また保護層の吸
水率も高く高湿下では画像濃度の低下や白抜は等の画像
欠陥が発生した。
比較例2の感光体の上に本発明の範囲外にあるメラミン
樹脂(BMF’−31と本発明の範囲内のベンゾグアナ
ミン樹脂(I3BF)からなる保護層を形成した場合(
比較例6.7)、低温硬化ではやはシ硬化不十分で耐摩
耗性が低く(比較例6)。
樹脂(BMF’−31と本発明の範囲内のベンゾグアナ
ミン樹脂(I3BF)からなる保護層を形成した場合(
比較例6.7)、低温硬化ではやはシ硬化不十分で耐摩
耗性が低く(比較例6)。
高温長時間かつ厚膜化して耐摩耗性をあげると比較例5
の場合と同様、を子写真特性の低下が大きく画像に地肌
汚れが発生し友(比較例7)。しかしながら保護層の吸
水率は本発明の範囲内のベンゾグアナミン樹脂を含有し
ていない比較例4及び5の場合に比べると減少した。
の場合と同様、を子写真特性の低下が大きく画像に地肌
汚れが発生し友(比較例7)。しかしながら保護層の吸
水率は本発明の範囲内のベンゾグアナミン樹脂を含有し
ていない比較例4及び5の場合に比べると減少した。
比較例3の感光体の表面に本発明の範囲内のメラミン樹
脂(BMF−1+を単独で保護層として形成した場合(
比較例8.9)、低温短時間でも十分に硬化し、耐摩耗
性及びそれに伴う耐刷寿命は大きく向上した(比較例8
)。保護層を形成していない比較例3の感光体と比較し
ても′電子写真特性の低下は少ない。しかし保護層の吸
水率が高く、高湿下では画像欠陥が発生した。また耐刷
寿命を向上すべく保護層の膜厚を3μmとJソくすると
やはり電子写真特性は低下し画像に地肌汚れが発生した
(比較例9)。
脂(BMF−1+を単独で保護層として形成した場合(
比較例8.9)、低温短時間でも十分に硬化し、耐摩耗
性及びそれに伴う耐刷寿命は大きく向上した(比較例8
)。保護層を形成していない比較例3の感光体と比較し
ても′電子写真特性の低下は少ない。しかし保護層の吸
水率が高く、高湿下では画像欠陥が発生した。また耐刷
寿命を向上すべく保護層の膜厚を3μmとJソくすると
やはり電子写真特性は低下し画像に地肌汚れが発生した
(比較例9)。
比較例2の感光体の表面に本発明の範囲内にあるメラミ
ン樹脂(BMF−1)とベンゾグアナミン樹脂(Bll
’)を保d層に併用した場合(比較例10.11)は、
比較例8及び9に比べて、耐摩耗性は同等であるが、保
護層の吸水率が低下し。
ン樹脂(BMF−1)とベンゾグアナミン樹脂(Bll
’)を保d層に併用した場合(比較例10.11)は、
比較例8及び9に比べて、耐摩耗性は同等であるが、保
護層の吸水率が低下し。
高湿下の画像にも画像欠陥は発生しなかった(比較例1
0)。しかし更に耐刷寿命を向上させるべく保護層の膜
厚を厚くすると電子写真特性は低下し、地肌汚れが発生
した(比較例11)。
0)。しかし更に耐刷寿命を向上させるべく保護層の膜
厚を厚くすると電子写真特性は低下し、地肌汚れが発生
した(比較例11)。
しかるに保護層に更に第3成分のカルボン酸又は酸無水
物を加えた本発明に係る実施例1〜9の感光体は、比較
例に比べ更に低温短時間で保護層が形成でき、かつ比較
例1〜3の保護層を設けていない感光体とほぼ同等の電
子写真特性を維持しながら、耐摩耗性は著しく向上し、
それに伴い耐刷寿命が大きく向上した(耐刷寿命向上の
ために膜厚を3μmと厚くしても電子写真特性の低下は
見られない)。また保護層の吸水率も低いために高湿下
でも画像欠陥は発生せず良好な画像を得ることができた
。
物を加えた本発明に係る実施例1〜9の感光体は、比較
例に比べ更に低温短時間で保護層が形成でき、かつ比較
例1〜3の保護層を設けていない感光体とほぼ同等の電
子写真特性を維持しながら、耐摩耗性は著しく向上し、
それに伴い耐刷寿命が大きく向上した(耐刷寿命向上の
ために膜厚を3μmと厚くしても電子写真特性の低下は
見られない)。また保護層の吸水率も低いために高湿下
でも画像欠陥は発生せず良好な画像を得ることができた
。
(発明の効果)
本発明に係る正帯電で機能しうる電子写真感光体の表面
に特定のブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド
樹脂、アルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホルムア
ルデヒド樹脂及び電子受容性のカルボン酸又はその酸無
水物を成分として含む硬化皮膜を含有する保護層を有し
てなる電子写真感光体は、優れた電子写真特性を有し、
耐環境性や耐久性に優れた電子写真感光体である。
に特定のブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド
樹脂、アルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホルムア
ルデヒド樹脂及び電子受容性のカルボン酸又はその酸無
水物を成分として含む硬化皮膜を含有する保護層を有し
てなる電子写真感光体は、優れた電子写真特性を有し、
耐環境性や耐久性に優れた電子写真感光体である。
代理人 弁理士 若 林 邦 彦 1−一、′
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、正帯電で機能しうる電子写真感光体において、その
表面に (a)数平均分子量1,500以下で3メラミン核1個
当りに結合ホルムアルデヒド数が2〜4個及びメチロー
ル基数が1〜2個であるブチルエーテル化メラミン・ホ
ルムアルデヒド樹脂 (b)数平均分子量が400〜2,000のアルキルエ
ーテル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂並び
に (c)電子受容性カルボン酸化合物及び/又は電子受容
性ポリカルボン酸無水物 を成分として含む硬化皮膜を含有する保護層を有してな
る正帯電型電子写真感光体。 2、正帯電で機能しうる電子写真感光体が、導電層の上
に、電子供与性電荷輸送性物質を含有する電荷輸送層、
電荷を発生する有機顔料を含有する電荷発生層及び保護
層を順次積層したものである特許請求の範囲第1項記載
の正帯電型電子写真感光体。 3、正帯電で機能しうる電子写真感光体が、導電層の上
に電荷を発生する有機顔料を含有する電荷発生層、電子
受容性電荷輸送性物質を含有する電荷輸送層及び保護層
を順次積層したものである特許請求の範囲第1項記載の
正帯電型電子写真感光体。 4、正帯電で機能しうる電子写真感光体が、導電層の上
に、電荷を発生する有機顔料を含有する光導電層及び保
護層を順次積層したものである特許請求の範囲第1項記
載の正帯電型電子写真感光体。 5、光導電層が、電荷を発生する有機顔料及び電荷輸送
性物質を含有するものである特許請求の範囲第4項記載
の正帯電型電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9534086A JPS62251757A (ja) | 1986-04-24 | 1986-04-24 | 正帯電型電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9534086A JPS62251757A (ja) | 1986-04-24 | 1986-04-24 | 正帯電型電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62251757A true JPS62251757A (ja) | 1987-11-02 |
JPH0431579B2 JPH0431579B2 (ja) | 1992-05-26 |
Family
ID=14134966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9534086A Granted JPS62251757A (ja) | 1986-04-24 | 1986-04-24 | 正帯電型電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62251757A (ja) |
Cited By (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0655654A1 (en) * | 1993-11-24 | 1995-05-31 | Fuji Electric Co., Ltd. | Photosensitive body for electrophotography |
JPH1090932A (ja) * | 1996-09-18 | 1998-04-10 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体 |
JP2003084474A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-03-19 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体及びその製造方法、並びに該電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、及び画像形成用プロセスカートリッジ |
JP2009156996A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成方法、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
EP2202582A1 (en) | 2008-12-25 | 2010-06-30 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, manufacturing method of eletrcophotographic photoreceptor, processing cartridge, and image forming apparatus |
US8268521B2 (en) | 2008-12-16 | 2012-09-18 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8404416B2 (en) | 2009-06-26 | 2013-03-26 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8524433B2 (en) | 2010-06-28 | 2013-09-03 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8609310B2 (en) | 2009-03-16 | 2013-12-17 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8652716B2 (en) | 2011-03-28 | 2014-02-18 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and process cartridge |
US8655220B2 (en) | 2008-03-19 | 2014-02-18 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and image forming apparatus |
US8669029B2 (en) | 2011-08-22 | 2014-03-11 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Reactive compound, charge transporting film, photoelectric conversion device, electrophotographic photoreceptor and method of producing the same, process cartridge, and image forming apparatus |
US8679709B2 (en) | 2007-06-28 | 2014-03-25 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, image forming apparatus, and film forming coating solution |
US8685600B2 (en) | 2009-06-26 | 2014-04-01 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus and process cartridge |
US8703373B2 (en) | 2011-09-08 | 2014-04-22 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, method of producing electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and process cartridge |
US8795933B2 (en) | 2010-06-28 | 2014-08-05 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor, method for preparing the same, process cartridge, and image forming apparatus |
US8808952B2 (en) | 2012-03-28 | 2014-08-19 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Composition for forming charge transporting film, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8846280B2 (en) | 2011-08-22 | 2014-09-30 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Compound, charge transporting film, photoelectric conversion device, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8962225B2 (en) | 2012-09-12 | 2015-02-24 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Charge transporting film, photoelectric conversion device, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9005855B2 (en) | 2012-09-12 | 2015-04-14 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9034543B2 (en) | 2013-03-26 | 2015-05-19 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9034544B2 (en) | 2011-08-22 | 2015-05-19 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Compound, charge transporting film, photoelectric conversion device, and electrophotographic photoreceptor using the compound, method of producing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9182687B2 (en) | 2012-09-12 | 2015-11-10 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9235145B2 (en) | 2013-01-21 | 2016-01-12 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9310702B2 (en) | 2014-03-26 | 2016-04-12 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9389525B2 (en) | 2011-03-09 | 2016-07-12 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Fluorine-containing resin particle dispersion, method for preparing fluorine-containing resin particle dispersion, coating liquid which contains fluorine-containing resin particles, method for preparing coating film which contains fluorine-containing resin particles, coating film which contains fluorine-containing resin particles, molded body, electrophotographic photoreceptor, method for preparing electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and process cartridge |
US9535343B2 (en) | 2014-09-26 | 2017-01-03 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Image forming method, image forming apparatus, and process cartridge |
JP2018072475A (ja) * | 2016-10-26 | 2018-05-10 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体保護層用塗布液 |
-
1986
- 1986-04-24 JP JP9534086A patent/JPS62251757A/ja active Granted
Cited By (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0655654A1 (en) * | 1993-11-24 | 1995-05-31 | Fuji Electric Co., Ltd. | Photosensitive body for electrophotography |
US5456989A (en) * | 1993-11-24 | 1995-10-10 | Fuji Electric Co., Ltd. | Photosensitive body for electrophotography |
JPH1090932A (ja) * | 1996-09-18 | 1998-04-10 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体 |
JP2003084474A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-03-19 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体及びその製造方法、並びに該電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、及び画像形成用プロセスカートリッジ |
US8679709B2 (en) | 2007-06-28 | 2014-03-25 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, image forming apparatus, and film forming coating solution |
JP2009156996A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成方法、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
US8655220B2 (en) | 2008-03-19 | 2014-02-18 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and image forming apparatus |
US8268521B2 (en) | 2008-12-16 | 2012-09-18 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8273511B2 (en) | 2008-12-25 | 2012-09-25 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, manufacturing method of electrophotographic photoreceptor, processing cartridge, and image forming apparatus |
EP2202582A1 (en) | 2008-12-25 | 2010-06-30 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, manufacturing method of eletrcophotographic photoreceptor, processing cartridge, and image forming apparatus |
US8609310B2 (en) | 2009-03-16 | 2013-12-17 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8404416B2 (en) | 2009-06-26 | 2013-03-26 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8685600B2 (en) | 2009-06-26 | 2014-04-01 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus and process cartridge |
US8524433B2 (en) | 2010-06-28 | 2013-09-03 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8795933B2 (en) | 2010-06-28 | 2014-08-05 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor, method for preparing the same, process cartridge, and image forming apparatus |
US9829813B2 (en) | 2011-03-09 | 2017-11-28 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Fluorine-containing resin particle dispersion, method for preparing fluorine-containing resin particle dispersion, coating liquid which contains fluorine-containing resin particles, method for preparing coating film which contains fluorine-containing resin particles, coating film which contains fluorine-containing resin particles, molded body, electrophotographic photoreceptor, method for preparing electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and process cartridge |
US9389525B2 (en) | 2011-03-09 | 2016-07-12 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Fluorine-containing resin particle dispersion, method for preparing fluorine-containing resin particle dispersion, coating liquid which contains fluorine-containing resin particles, method for preparing coating film which contains fluorine-containing resin particles, coating film which contains fluorine-containing resin particles, molded body, electrophotographic photoreceptor, method for preparing electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and process cartridge |
US8652716B2 (en) | 2011-03-28 | 2014-02-18 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and process cartridge |
US9034544B2 (en) | 2011-08-22 | 2015-05-19 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Compound, charge transporting film, photoelectric conversion device, and electrophotographic photoreceptor using the compound, method of producing electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8669029B2 (en) | 2011-08-22 | 2014-03-11 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Reactive compound, charge transporting film, photoelectric conversion device, electrophotographic photoreceptor and method of producing the same, process cartridge, and image forming apparatus |
US8846280B2 (en) | 2011-08-22 | 2014-09-30 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Compound, charge transporting film, photoelectric conversion device, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8703373B2 (en) | 2011-09-08 | 2014-04-22 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, method of producing electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and process cartridge |
US8808952B2 (en) | 2012-03-28 | 2014-08-19 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Composition for forming charge transporting film, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8951701B2 (en) | 2012-03-28 | 2015-02-10 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Composition for forming charge transporting film, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9005855B2 (en) | 2012-09-12 | 2015-04-14 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9182687B2 (en) | 2012-09-12 | 2015-11-10 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US8962225B2 (en) | 2012-09-12 | 2015-02-24 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Charge transporting film, photoelectric conversion device, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9235145B2 (en) | 2013-01-21 | 2016-01-12 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9034543B2 (en) | 2013-03-26 | 2015-05-19 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9310702B2 (en) | 2014-03-26 | 2016-04-12 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus |
US9535343B2 (en) | 2014-09-26 | 2017-01-03 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Image forming method, image forming apparatus, and process cartridge |
JP2018072475A (ja) * | 2016-10-26 | 2018-05-10 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体保護層用塗布液 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0431579B2 (ja) | 1992-05-26 |
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