JPS62251755A - 電子写真感光体 - Google Patents
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- VOBWLFNYOWWARN-UHFFFAOYSA-N thiophen-3-one Chemical compound O=C1CSC=C1 VOBWLFNYOWWARN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は耐久性に優れ、高湿下でも良好な画像を提供す
る電子写真感光体に関する。
る電子写真感光体に関する。
(従来の技術)
光導電性物質を感光材料として利用する電子写真感光体
において、光導電性物質としては、従来セレン、酸化亜
鉛、酸化チタン、硫化カドミウム等の無機系光導電性物
質が主に用いられてきた。
において、光導電性物質としては、従来セレン、酸化亜
鉛、酸化チタン、硫化カドミウム等の無機系光導電性物
質が主に用いられてきた。
しかしこれらの多くは一般に毒性が強く廃棄する方法に
も問題がある。
も問題がある。
一方、有機光導電性化合物を使用すれば、無機系光導電
性物質を利用する場合に比べて、一般に毒性が弱く、更
に透明性、可とう性、軽量性1価格等の点において有利
であるので最近広く研究されてきている。
性物質を利用する場合に比べて、一般に毒性が弱く、更
に透明性、可とう性、軽量性1価格等の点において有利
であるので最近広く研究されてきている。
有機光導電性化合物を用いた電子写真感光体をカールソ
ン法による電子写真装置に適用した場合には、まず感光
体表面に静電潜像を形成1y +次に異符号に帯電した
一般にトナーと称する現像剤により、トナー画像を他の
基体1例えば紙等に転写。
ン法による電子写真装置に適用した場合には、まず感光
体表面に静電潜像を形成1y +次に異符号に帯電した
一般にトナーと称する現像剤により、トナー画像を他の
基体1例えば紙等に転写。
定着し、コピーを得ることができる。この際感光体表面
にわずかに残存しているトナーをブラシやブレード等を
用いて除去(クリーニング)する必要がある。
にわずかに残存しているトナーをブラシやブレード等を
用いて除去(クリーニング)する必要がある。
このように現像、転写、りIJ −ニングの工程を繰り
返すことにより、感光体の表面は摩耗し、損傷を受け、
その結果、転写画像が不鮮明になり。
返すことにより、感光体の表面は摩耗し、損傷を受け、
その結果、転写画像が不鮮明になり。
場合により感光層の剥離を生じることにより、感光体の
寿命は著[7く短くなる。このような問題から感光体に
は強固な耐久性が要求されている。
寿命は著[7く短くなる。このような問題から感光体に
は強固な耐久性が要求されている。
そこで耐久性を向上させるため、特開昭52−7692
8号公報、I¥j開昭54−17732号公報などで開
示されているように表面に保護層を設けることが提案さ
れてい石。
8号公報、I¥j開昭54−17732号公報などで開
示されているように表面に保護層を設けることが提案さ
れてい石。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし従来の保護ノーのように熱可塑性樹脂を用いた場
合には耐摩耗性の効果も十分でなく、また熱硬化性樹脂
を用いると保護層形成に高温、長時間が必要なため、そ
の間に下層の感光層の材料が熱劣化するため電子写真特
性が低下してしまう。
合には耐摩耗性の効果も十分でなく、また熱硬化性樹脂
を用いると保護層形成に高温、長時間が必要なため、そ
の間に下層の感光層の材料が熱劣化するため電子写真特
性が低下してしまう。
そこで低温、短時間の硬化条件で耐摩耗性の高い皮膜が
得られる熱硬化性樹脂が必須となる。その点で、ウレタ
ン樹脂、エポキシ樹脂及びメラミン樹脂等が好適となる
。特に、ウレタン樹脂やエポキシ樹脂は硬化剤や硬化触
媒を選択することにより常温でも硬化が可能な熱硬化性
の高い樹脂である。しかし、ウレタン樹脂の硬化皮膜を
感光体の保護層に用いた場合、吸湿性が高く、高湿下で
画像のぼけ、流れ及び消失など画像欠陥が発生するため
感光体の保ff1I−材料としては適さない。
得られる熱硬化性樹脂が必須となる。その点で、ウレタ
ン樹脂、エポキシ樹脂及びメラミン樹脂等が好適となる
。特に、ウレタン樹脂やエポキシ樹脂は硬化剤や硬化触
媒を選択することにより常温でも硬化が可能な熱硬化性
の高い樹脂である。しかし、ウレタン樹脂の硬化皮膜を
感光体の保護層に用いた場合、吸湿性が高く、高湿下で
画像のぼけ、流れ及び消失など画像欠陥が発生するため
感光体の保ff1I−材料としては適さない。
また、ユ°ボキシ樹脂の硬化皮膜は吸湿性は低いが、エ
ポキシ樹脂を溶解する溶媒に限界がある。
ポキシ樹脂を溶解する溶媒に限界がある。
一般に保護層を感光体の表面に形成する場合、用いる材
料を一旦溶剤に溶解12.その溶液を浸@塗工や各種の
フィルム塗工技術を用いて塗工する。
料を一旦溶剤に溶解12.その溶液を浸@塗工や各種の
フィルム塗工技術を用いて塗工する。
その際、下層の感光層を侵さないために保!INの塗液
には1通常、脂肪族炭化水素系溶剤又はアルコール系溶
剤が用いられる。しかしエポキシ樹脂は一般に上記の溶
剤類には極めて難溶なため均一に溶解した塗液が得られ
ず、l、たがってそれらの塗液を用いると保護層の膜厚
むらや各種の塗膜欠陥が発生する。また最近開発さねで
いる低分子量のエポキシ樹脂の中には、アルコール可溶
なエポキシ樹脂も見い出されているが、これらの硬化皮
膜を保護層に用いると機械強度が弱く保護層の役目をな
さない。このようにエポキシ樹脂も保護層に適用するこ
とは難しい。
には1通常、脂肪族炭化水素系溶剤又はアルコール系溶
剤が用いられる。しかしエポキシ樹脂は一般に上記の溶
剤類には極めて難溶なため均一に溶解した塗液が得られ
ず、l、たがってそれらの塗液を用いると保護層の膜厚
むらや各種の塗膜欠陥が発生する。また最近開発さねで
いる低分子量のエポキシ樹脂の中には、アルコール可溶
なエポキシ樹脂も見い出されているが、これらの硬化皮
膜を保護層に用いると機械強度が弱く保護層の役目をな
さない。このようにエポキシ樹脂も保護層に適用するこ
とは難しい。
一方、メラミン樹脂は前二者の樹脂に比べ熱硬化性が劣
り、従来140℃以上の高温が必要であった。しかるに
本発明になる保護層材料の一成分である。数平均分子量
が1,500以下であり、メラミン核1個あたりの結合
ホルムアルデヒド数が2〜4個で、メチロール数が1〜
2個である特定のブチルエーテル化メラミン・ホルムア
ルデヒド樹脂は、従来のメラミン樹脂に比べて著しく低
温。
り、従来140℃以上の高温が必要であった。しかるに
本発明になる保護層材料の一成分である。数平均分子量
が1,500以下であり、メラミン核1個あたりの結合
ホルムアルデヒド数が2〜4個で、メチロール数が1〜
2個である特定のブチルエーテル化メラミン・ホルムア
ルデヒド樹脂は、従来のメラミン樹脂に比べて著しく低
温。
短時間の硬化が可能となったため、前述の高温硬化の際
に問題になった保護層の硬化時の材料劣化による電子写
真特性の低下を防止できる。またこの樹脂はアルコール
にも可溶なため均一なアルコール塗液が得られ、下層の
感光層を侵さずに保護層を均一に形成できるという特長
をも有している。
に問題になった保護層の硬化時の材料劣化による電子写
真特性の低下を防止できる。またこの樹脂はアルコール
にも可溶なため均一なアルコール塗液が得られ、下層の
感光層を侵さずに保護層を均一に形成できるという特長
をも有している。
しかし、この特定のメラミン樹脂単独の硬化皮膜を保護
層に用いると、前記のポリウレタン樹脂はどではないが
吸湿性が高いため、高湿下で画像欠陥が発生するという
問題があった。
層に用いると、前記のポリウレタン樹脂はどではないが
吸湿性が高いため、高湿下で画像欠陥が発生するという
問題があった。
そこで、その特定のメラミン樹脂がもつ熱硬化性や塗工
性の長所を生かし、かつ硬化皮膜の耐湿性を向上する方
法が見い出されれば、従来にない優れた保護層を有した
電子写真感光体を得ることができる。
性の長所を生かし、かつ硬化皮膜の耐湿性を向上する方
法が見い出されれば、従来にない優れた保護層を有した
電子写真感光体を得ることができる。
(問題点を解決するための手段)
本発明は1%定のブチルエーテル化メラミン・ホルムア
ルデヒド樹脂にアルキルエーテル化ベンゾグアナミン・
ホルムアルデヒド樹脂を併用17た保護層により前記の
問題点を解決(7たものである。
ルデヒド樹脂にアルキルエーテル化ベンゾグアナミン・
ホルムアルデヒド樹脂を併用17た保護層により前記の
問題点を解決(7たものである。
すなわち9本発明は、感光層の表面に、数平均分子量が
t、soo以下であり、メラミン核1個あたりの結合ホ
ルムアルデヒド数が2〜4個及びメチロール基数が1〜
2個であるブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂(A>及び数千均分−0tが400−2,000
のアルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデ
ヒド樹脂(B)を成分として含む硬化皮膜を含有する保
護層を有1.てなる電子写真感光体に関する。
t、soo以下であり、メラミン核1個あたりの結合ホ
ルムアルデヒド数が2〜4個及びメチロール基数が1〜
2個であるブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂(A>及び数千均分−0tが400−2,000
のアルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデ
ヒド樹脂(B)を成分として含む硬化皮膜を含有する保
護層を有1.てなる電子写真感光体に関する。
本発明になる電子写真感光体に用いられる材料について
以下に詳述する。
以下に詳述する。
本発明になる電子写真感光体は、導電層の上に感光層及
び保護層を頭に積層して得られる。
び保護層を頭に積層して得られる。
ここでいう導電層とは、導電処理した紙又はプラスチッ
クフィルム、アルミニウムのような金属箔を積層したプ
ラスチックフィルム、アルミニウム等の導電性金属の板
又はドラム等の導電体である。
クフィルム、アルミニウムのような金属箔を積層したプ
ラスチックフィルム、アルミニウム等の導電性金属の板
又はドラム等の導電体である。
次に感光層には、基本的には電荷の発生と輸送という機
能を分離し、電荷発生層と電荷輸送層を有する複合型光
導電層及びこのような機能分離のない一層型光導電層が
ある。
能を分離し、電荷発生層と電荷輸送層を有する複合型光
導電層及びこのような機能分離のない一層型光導電層が
ある。
先ず、複合型光導電層について説明する。
電荷発生層には、電荷を発生する有機顔料が含まれる。
該有機顔料としては、アゾキシベンゼン系、ジスアゾ系
、トリスアゾ系、ベンズイミダゾール系、多項式キノリ
ン系、インジゴイド系、キナクリドン系、フタロシア二
ノ系、ペリレン系。
、トリスアゾ系、ベンズイミダゾール系、多項式キノリ
ン系、インジゴイド系、キナクリドン系、フタロシア二
ノ系、ペリレン系。
メチン系等の電荷を発生する顔料を使用できる。
これらの顔料は9例えば9%開昭47−37453号9
%開昭47−37544号、特開昭47−18543号
2%開昭47−18544号、特開昭48−43942
号、特開昭48−70538号、特開昭49−1231
号、特開昭49−105536号、特開昭50−752
14号、特開昭50−92738号公報等に開示されて
いる。
%開昭47−37544号、特開昭47−18543号
2%開昭47−18544号、特開昭48−43942
号、特開昭48−70538号、特開昭49−1231
号、特開昭49−105536号、特開昭50−752
14号、特開昭50−92738号公報等に開示されて
いる。
特に特開昭58−182640号公報及びヨーロッパ特
許出願公開第92”255号公報に記載されているτ、
τ′、マ及びη′型型金金属フタロシアニン長波長にま
で高感度を有し、ダイオードレーザ−を搭載し7たプリ
ンター用の電子写真感光体としても有効である。このよ
う々もののほか光照射により電荷担体を発生する任意の
有機顔料を使用することができる。
許出願公開第92”255号公報に記載されているτ、
τ′、マ及びη′型型金金属フタロシアニン長波長にま
で高感度を有し、ダイオードレーザ−を搭載し7たプリ
ンター用の電子写真感光体としても有効である。このよ
う々もののほか光照射により電荷担体を発生する任意の
有機顔料を使用することができる。
また電荷発生層に、電子写真感光体に通常使用される結
合剤及び/又は可塑剤、流動性付与剤。
合剤及び/又は可塑剤、流動性付与剤。
ピンホール抑制剤等の添加剤を必要に応じて含有させる
ことができる。結合剤としてQJ、シリコーン樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
エホキシ樹脂、ポリヶトノ樹脂。
ことができる。結合剤としてQJ、シリコーン樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
エホキシ樹脂、ポリヶトノ樹脂。
ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタク
リル酸メチル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等が挙げら
れる。また、熱及び/又は光硬化性樹脂も使用できる。
リル酸メチル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等が挙げら
れる。また、熱及び/又は光硬化性樹脂も使用できる。
いずれにしても電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形成し
うる樹脂であれば特に制限はない。電荷発生層中に結合
剤は、前記有機顔料に対して300重量%以下の量で使
用する。
うる樹脂であれば特に制限はない。電荷発生層中に結合
剤は、前記有機顔料に対して300重量%以下の量で使
用する。
300重量%を越えると電子写真特性が低下する。
可塑剤としてはハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタ
レン、ジブチルフタレート等が挙げられる。流動性付与
剤と17では、モダフロー(モノサンドケミカル社製)
等が挙げられ、ピンホール抑制剤としては、ベンゾイン
、ジメチルフタレート等が挙げられる。これらの添加剤
は、各々、前記有機顔料に対して5重i%以下で使用す
るのが好ましい。
レン、ジブチルフタレート等が挙げられる。流動性付与
剤と17では、モダフロー(モノサンドケミカル社製)
等が挙げられ、ピンホール抑制剤としては、ベンゾイン
、ジメチルフタレート等が挙げられる。これらの添加剤
は、各々、前記有機顔料に対して5重i%以下で使用す
るのが好ましい。
電荷輸送層には、電荷輸送性物質が含まれる。
該電荷輸送性物質としては、3−フェニルカルバゾール
、2−フェニルインドール、オキサジアゾール、オキサ
) IJアゾール、1−フェニル−3−(4−ジエチル
アミノスチリル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル
)ピラゾリン、2−フェニル−4−(4−ジエチルアミ
ノフェニル)−5−フェニルオキサゾール、2−(p−
ジメチルアミノフェニル)−4−(p−ジメチルアミノ
)フェニル−5−(0−クロロフェニル)−1,3−オ
キサゾール、トリフェニルアミン、イミダゾール。
、2−フェニルインドール、オキサジアゾール、オキサ
) IJアゾール、1−フェニル−3−(4−ジエチル
アミノスチリル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル
)ピラゾリン、2−フェニル−4−(4−ジエチルアミ
ノフェニル)−5−フェニルオキサゾール、2−(p−
ジメチルアミノフェニル)−4−(p−ジメチルアミノ
)フェニル−5−(0−クロロフェニル)−1,3−オ
キサゾール、トリフェニルアミン、イミダゾール。
2.7−シニトロー9−フルオレノン、Z4.7−ドリ
ニトロー9−フルオレノン、4H−インデノ(1,2,
6)チオフェン−4−オン、1−ブロモピレン、2−フ
ェニルピレン、ポリ−N−ビニルカルバソール、ポリビ
ニルピレン、ポリビニルベンゾチオフェン、ポリビニル
アントラセン、ポリビニルピラゾリン等並びにこれらの
誘導体等がある。
ニトロー9−フルオレノン、4H−インデノ(1,2,
6)チオフェン−4−オン、1−ブロモピレン、2−フ
ェニルピレン、ポリ−N−ビニルカルバソール、ポリビ
ニルピレン、ポリビニルベンゾチオフェン、ポリビニル
アントラセン、ポリビニルピラゾリン等並びにこれらの
誘導体等がある。
電荷輸送層にも電荷発生層と同様な結合剤及び可塑剤、
流動性付与剤、ピンホール抑制剤等の添加剤を必要に応
じて含有させることができる。結合剤は電荷輸送性物質
に対し、を子写真特性が低下しないように400重tS
以下が好ましく、低分子電荷輸送性物質に対しては皮膜
特性の関係上50重量%以上が好ましい。前記の添加剤
は、各々、電荷輸送性物質に対17て5重量%以下が好
ましい。
流動性付与剤、ピンホール抑制剤等の添加剤を必要に応
じて含有させることができる。結合剤は電荷輸送性物質
に対し、を子写真特性が低下しないように400重tS
以下が好ましく、低分子電荷輸送性物質に対しては皮膜
特性の関係上50重量%以上が好ましい。前記の添加剤
は、各々、電荷輸送性物質に対17て5重量%以下が好
ましい。
複合型光導電層は、電荷発生層及び電荷輸送層を順次積
層したものでもよく、逆に電荷輸送層及び電荷発生層を
順次積層したものでもよい。また。
層したものでもよく、逆に電荷輸送層及び電荷発生層を
順次積層したものでもよい。また。
電荷発生層を二層の電荷輸送層ではさむサンドインチ構
造のものでもよい。電荷発生層の膜厚は。
造のものでもよい。電荷発生層の膜厚は。
0.001〜10.!1mが好IL<、%に0.2〜5
μmが好ましい。電荷輸送層の膜厚は、5〜50μmが
好−!L<、%に8〜20μmが好ましい。
μmが好ましい。電荷輸送層の膜厚は、5〜50μmが
好−!L<、%に8〜20μmが好ましい。
電荷発生層の膜厚が0.001μm未満では感度が劣る
傾向にあり、10μmを越えると残留電位が増加する傾
向がある。また電荷輸送層の膜厚が5μm未満では帯電
性が劣る傾向があり、50μmを越えると感度が低下す
る傾向がある。
傾向にあり、10μmを越えると残留電位が増加する傾
向がある。また電荷輸送層の膜厚が5μm未満では帯電
性が劣る傾向があり、50μmを越えると感度が低下す
る傾向がある。
電荷発生層を形成する方法として、前記有機顔料のみを
用いる場合には真空蒸着で行うことができ、有機顔料、
結合剤及び必要に応じ添加剤をアセトン、メチルエチル
ケトン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、塩
化メチレン、トリクロルエタン等の溶剤に均一に溶解又
は分散させ九後、塗布し7乾燥して形成することもでき
る。
用いる場合には真空蒸着で行うことができ、有機顔料、
結合剤及び必要に応じ添加剤をアセトン、メチルエチル
ケトン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、塩
化メチレン、トリクロルエタン等の溶剤に均一に溶解又
は分散させ九後、塗布し7乾燥して形成することもでき
る。
電荷輸送j−を形成する場合には、電荷輸送性物質、結
合剤及び必要に応じ添加剤を前記の電荷発生層の場合と
同様な溶剤に均一に溶解又は分散させた後、塗布し、乾
燥して形成することができる。
合剤及び必要に応じ添加剤を前記の電荷発生層の場合と
同様な溶剤に均一に溶解又は分散させた後、塗布し、乾
燥して形成することができる。
次に、一層型光導電層について説明する。
一層型光導電層には、!荷発生材料又は該を荷発生材料
と電荷輸送性物質が含有される。該電荷発生材料と[7
ては前記電荷発生層に用いられる有機顔料を使用するこ
とができ、′1!た該電荷輸送性物質は前記電荷輸送層
に用いられる電荷輸送性物質と同じものが使用できる。
と電荷輸送性物質が含有される。該電荷発生材料と[7
ては前記電荷発生層に用いられる有機顔料を使用するこ
とができ、′1!た該電荷輸送性物質は前記電荷輸送層
に用いられる電荷輸送性物質と同じものが使用できる。
一層型光導[層の中にはこれら以外に前記複合型光導電
層の電荷発生層や電荷輸送層に用いたものと同様な結合
剤及び可塑剤、流動性付与剤、ビンホール抑制剤等の添
加剤を使用することができる。この中で結合剤の役割は
重要である。一層型光導電層において、電荷輸送性物質
を用いない場合には、結合剤は、!荷発生材料に対し、
100〜900重量%用いられるのが好ましく9%に2
00〜400重量%用いられるのが好ましい。結合剤が
100重量%未溝であると帯電性が劣る傾向があり、9
00重量%を越えると感度が低下する傾向がある。また
電り1発生材料と1!荷輸送材料を併用する場合には。
層の電荷発生層や電荷輸送層に用いたものと同様な結合
剤及び可塑剤、流動性付与剤、ビンホール抑制剤等の添
加剤を使用することができる。この中で結合剤の役割は
重要である。一層型光導電層において、電荷輸送性物質
を用いない場合には、結合剤は、!荷発生材料に対し、
100〜900重量%用いられるのが好ましく9%に2
00〜400重量%用いられるのが好ましい。結合剤が
100重量%未溝であると帯電性が劣る傾向があり、9
00重量%を越えると感度が低下する傾向がある。また
電り1発生材料と1!荷輸送材料を併用する場合には。
結合剤は電荷輸送材料に対して80〜450重量%用い
るのが好°士しく2%に10Q〜300重量う用いるの
が好ましい。結合剤が少なすぎると帯電性が劣り、多す
ぎると感度が低下する。また。
るのが好°士しく2%に10Q〜300重量う用いるの
が好ましい。結合剤が少なすぎると帯電性が劣り、多す
ぎると感度が低下する。また。
この場合、電荷発生材料は、電荷輸送材料及び結合剤の
総量に対し、好ましくは0.1〜20重量%。
総量に対し、好ましくは0.1〜20重量%。
特に好ま1.<は0.5〜5重tILチ使用きれる。電
荷発生材料が少なすぎると感度が低下り、多すぎると帯
電性が劣る。その他、可塑剤、流動性付与剤。
荷発生材料が少なすぎると感度が低下り、多すぎると帯
電性が劣る。その他、可塑剤、流動性付与剤。
ピンホール抑制剤叫の添加剤は一層型光導電層中に5市
量チ以ドで適宜選択して使用される。一層型光導電層の
膜厚Fi5〜50μmが好ましく、特に8〜20μmが
好ましい。5μIlk未満では帯電性が劣る傾向があり
、50μn1を越えると感度が低下する傾向がある。一
層型光導電層を形成するIKAま、?l!荷発生材料、
電荷輸送材料、結合剤及び必要に応じ添加剤を前記の電
荷発生層の場合と同様な溶剤に均一に溶解又は分散させ
た後、塗布し乾燥して形成することができる。
量チ以ドで適宜選択して使用される。一層型光導電層の
膜厚Fi5〜50μmが好ましく、特に8〜20μmが
好ましい。5μIlk未満では帯電性が劣る傾向があり
、50μn1を越えると感度が低下する傾向がある。一
層型光導電層を形成するIKAま、?l!荷発生材料、
電荷輸送材料、結合剤及び必要に応じ添加剤を前記の電
荷発生層の場合と同様な溶剤に均一に溶解又は分散させ
た後、塗布し乾燥して形成することができる。
本発明の感光層としては、前記一層型の光導層のすぐ上
に若しくはすぐ下に又は両方に前記複合型光導電層にお
ける電荷輸送層と同じ電荷輸送層を形成[、た多層型の
光導電層を採用することができる。
に若しくはすぐ下に又は両方に前記複合型光導電層にお
ける電荷輸送層と同じ電荷輸送層を形成[、た多層型の
光導電層を採用することができる。
本発明に係る電子写真感光体において、導電層と感光層
の間であって導電層のすぐ上に、薄い接着層又はバリヤ
層を有していてもよい。
の間であって導電層のすぐ上に、薄い接着層又はバリヤ
層を有していてもよい。
次に感光層の表面に形成する保護層について詳述する。
該保護層は特定のブチルエーテル化メラミン・ホルムア
ルデヒド樹脂囚及び数平均分子量が400〜2,000
のアルキルエーテル化ペンツグアナミン・ホルムアルデ
ヒド樹脂(Bl tl−含む組成物を加熱により硬化さ
せて得ることができる。
ルデヒド樹脂囚及び数平均分子量が400〜2,000
のアルキルエーテル化ペンツグアナミン・ホルムアルデ
ヒド樹脂(Bl tl−含む組成物を加熱により硬化さ
せて得ることができる。
本発明において用いられるブチルエーテル化メラミン・
ホルムアルデヒド樹脂囚の数平均分子量は1,500以
下である。数平均分子量が1,500を越えると反応性
が低下する。また該樹脂はメラミン核1個当り結合ホル
ムアルデヒドを2〜4個有する。4個を越えると反応性
が低下l7,2個未満では該樹脂の貯蔵安定性が悪くな
り、硬化塗膜がもろくなる。史に樹脂はメラミン核1個
あたりメチロール基を1〜2個有するものである。メチ
ロール基の数が2個を越えると該樹脂の貯蔵安定性が劣
り、硬化塗膜がもろくなる。壕だ、1個未満では反応性
が劣る。
ホルムアルデヒド樹脂囚の数平均分子量は1,500以
下である。数平均分子量が1,500を越えると反応性
が低下する。また該樹脂はメラミン核1個当り結合ホル
ムアルデヒドを2〜4個有する。4個を越えると反応性
が低下l7,2個未満では該樹脂の貯蔵安定性が悪くな
り、硬化塗膜がもろくなる。史に樹脂はメラミン核1個
あたりメチロール基を1〜2個有するものである。メチ
ロール基の数が2個を越えると該樹脂の貯蔵安定性が劣
り、硬化塗膜がもろくなる。壕だ、1個未満では反応性
が劣る。
このようなブチルニーデル化メラミン・ホルムアルデヒ
ド樹脂は、メラミンをブタノールに溶解し、これにホル
ムアルデヒドを滴下することによって付加反応及びブチ
ルエーテル化を行う方法。
ド樹脂は、メラミンをブタノールに溶解し、これにホル
ムアルデヒドを滴下することによって付加反応及びブチ
ルエーテル化を行う方法。
あるいはメラミン及びホルムアルデヒドをブタノールに
溶解させ、この溶液を加熱1.て付加反応及びブチルエ
ーテル化反応を行う方法によって製造できる。これらの
方法において反応は硝酸、塩酸。
溶解させ、この溶液を加熱1.て付加反応及びブチルエ
ーテル化反応を行う方法によって製造できる。これらの
方法において反応は硝酸、塩酸。
硫酸、燐酸、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒を添
加し、酸性下(好ましくはpH3〜6)で行うのが好ま
j−<2反応温度はブタノールの還流温度、好廿しくe
ユ約90〜100°Cであるのが好捷しい。−壬だ、配
合としでは、メラミン1モルに対17てブタノール4〜
5モル及びホルムアルデヒド3〜7モルを使用するのが
好捷しい。
加し、酸性下(好ましくはpH3〜6)で行うのが好ま
j−<2反応温度はブタノールの還流温度、好廿しくe
ユ約90〜100°Cであるのが好捷しい。−壬だ、配
合としでは、メラミン1モルに対17てブタノール4〜
5モル及びホルムアルデヒド3〜7モルを使用するのが
好捷しい。
本発明の保護層に用いられるブチルエーテル化メラミン
・ホルムアルデヒド樹脂(A)は、従来のメラミン樹脂
に比べて低温硬化が可能になるため保膜層形成時に電子
写真感光体を熱劣化させることなく、かつ、Mll耗性
の高い保護層が形成できる。
・ホルムアルデヒド樹脂(A)は、従来のメラミン樹脂
に比べて低温硬化が可能になるため保膜層形成時に電子
写真感光体を熱劣化させることなく、かつ、Mll耗性
の高い保護層が形成できる。
一方、保護層の他の一成分であるアルキルエーテル化ベ
ンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂(Ll)は、数
平均分子量が400〜λoooで、好壕しくは800〜
1.500の樹脂が用いられる。数平均分子量が400
未満では硬化塗膜がもろくな))、2,000を越える
と反応性が低下する。またベンゾグアナミン樹脂のメチ
ロール基が全てアルキルエーテル化されていてもよいが
、一部、メチロール基のままで存在していてもよい。こ
の場7゜−のアルキル基としては、メチル基、エチル基
、70ビル基、イソプロピル基、ブチル基、インブブル
基等があげられる。
ンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂(Ll)は、数
平均分子量が400〜λoooで、好壕しくは800〜
1.500の樹脂が用いられる。数平均分子量が400
未満では硬化塗膜がもろくな))、2,000を越える
と反応性が低下する。またベンゾグアナミン樹脂のメチ
ロール基が全てアルキルエーテル化されていてもよいが
、一部、メチロール基のままで存在していてもよい。こ
の場7゜−のアルキル基としては、メチル基、エチル基
、70ビル基、イソプロピル基、ブチル基、インブブル
基等があげられる。
このようなアルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホル
ムアルデヒド樹脂は、べ/ゾグアナミンをアルコールに
溶解し、これにホルムアルデヒド樹脂を滴下することに
よって付加反応及びアルキルエーテル化を行う方法、あ
るいはベンゾグアナミン及びホルムアルデヒドをアルコ
ールに各駒させ、この溶液を加熱1.て付加反応及びア
ルキルエーテル化反応を行うことによって製造できる。
ムアルデヒド樹脂は、べ/ゾグアナミンをアルコールに
溶解し、これにホルムアルデヒド樹脂を滴下することに
よって付加反応及びアルキルエーテル化を行う方法、あ
るいはベンゾグアナミン及びホルムアルデヒドをアルコ
ールに各駒させ、この溶液を加熱1.て付加反応及びア
ルキルエーテル化反応を行うことによって製造できる。
これらの方法ンこおいて反応は硝酸、塩酸、硫酸、燐酸
、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒を添加し、前記
1.たブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹
脂(A)と同様な方法で製造できる。
、p−トルエンスルホン酸等の酸性触媒を添加し、前記
1.たブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹
脂(A)と同様な方法で製造できる。
前記のブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹
脂(A)とアルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホル
ムアルデヒド樹脂(B)は重量比でtAl/IB)が9
0710〜20/80になるように配合されるのが好ま
しく1%に75/25〜40/60の比率が最適である
。この重量比が大きすきると耐湿性が低下し、小さすぎ
ると熱硬化性が劣り、高温、長時間の硬化条件が必要と
なり、そのために材料の熱劣化によって電子写真特性が
低下する。
脂(A)とアルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホル
ムアルデヒド樹脂(B)は重量比でtAl/IB)が9
0710〜20/80になるように配合されるのが好ま
しく1%に75/25〜40/60の比率が最適である
。この重量比が大きすきると耐湿性が低下し、小さすぎ
ると熱硬化性が劣り、高温、長時間の硬化条件が必要と
なり、そのために材料の熱劣化によって電子写真特性が
低下する。
前記のブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹
脂(A)とアルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホル
ムアルデヒド樹脂(B)は、上記のような配合で、W3
剤に溶解又は分散1.た後、前記感光71−の上に塗布
1−1加熱硬化させることKよって保護層とすることが
できる。この場合、塩酸、硫酸。
脂(A)とアルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホル
ムアルデヒド樹脂(B)は、上記のような配合で、W3
剤に溶解又は分散1.た後、前記感光71−の上に塗布
1−1加熱硬化させることKよって保護層とすることが
できる。この場合、塩酸、硫酸。
硝酸、 p−)ルエンスルホン酸等の硬化触媒+ A
ir記感光感光層ける添加剤等を適宜、上記溶剤に溶解
又は分散させることができる2、ここで、上記耐剤とし
ては、アセトン、テトラヒドロフラン、メチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール等があり、上記加熱は90
〜140℃が好ましく、ri!化触媒は保護層の固形分
に対して10重量%以下使用されるのが好ま17い。
ir記感光感光層ける添加剤等を適宜、上記溶剤に溶解
又は分散させることができる2、ここで、上記耐剤とし
ては、アセトン、テトラヒドロフラン、メチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール等があり、上記加熱は90
〜140℃が好ましく、ri!化触媒は保護層の固形分
に対して10重量%以下使用されるのが好ま17い。
保護層の膜厚は0.01〜10μmになるように調整さ
れるのが好ましい。膜厚が小さすぎると保、iI層とし
て耐久性付与の効果が小さく、大きすぎると感度の低下
、残留電位の増大が起こりやすくなる。
れるのが好ましい。膜厚が小さすぎると保、iI層とし
て耐久性付与の効果が小さく、大きすぎると感度の低下
、残留電位の増大が起こりやすくなる。
本発明に係る電子写真感光体は、一般に良く知られた方
法により、その表面に帯電、露光を施こ]2て静電潜像
を形成L7た後現FIL、普通紙等の転写体に画像を転
写するために使用される。
法により、その表面に帯電、露光を施こ]2て静電潜像
を形成L7た後現FIL、普通紙等の転写体に画像を転
写するために使用される。
(作用)
本発明の保護層は、その原料と1.て、それ自身比較的
低温熱硬化が可能で耐摩耗性に優れる前記ブチルエーテ
ル化メラミン・ホルムアルデヒト樹脂囚及びそれ自身吸
湿性が低く硬い塗膜となる前記アルキルエーテル化ベン
ゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂[Blを用いるこ
とにより、保護層の形成を比較的低温、短時間で行うこ
とができるため寛子写i<感光体の熱による電子写真特
性の劣化が小さく、保護I−自自体及皮膜して強じんで
吸湿性が低い、すなわち、耐久性が高く2本発明になる
電子写真感光体によれば高湿度下においても良好な画像
が得られる。
低温熱硬化が可能で耐摩耗性に優れる前記ブチルエーテ
ル化メラミン・ホルムアルデヒト樹脂囚及びそれ自身吸
湿性が低く硬い塗膜となる前記アルキルエーテル化ベン
ゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂[Blを用いるこ
とにより、保護層の形成を比較的低温、短時間で行うこ
とができるため寛子写i<感光体の熱による電子写真特
性の劣化が小さく、保護I−自自体及皮膜して強じんで
吸湿性が低い、すなわち、耐久性が高く2本発明になる
電子写真感光体によれば高湿度下においても良好な画像
が得られる。
(実施例)
次に、実施例Vこ基づいて本発明を詳述するが。
本発明はこれに限定されるものではない。
以下の例中に用いる各材料を次に列記する。括弧内には
以下に用いる略号を示す。
以下に用いる略号を示す。
(1)電荷を発生する有機顔料
τmm金tsフタロシアニン(τ−H*Pc)+21
1!荷輸送性物質 2−fp−ジメチルアミノフェニル)−4−(p−ジメ
チルアミノ)フェニル−5−(o−クロロフェニル)−
1,3−オキサゾール((’)XZ)(3)結合剤 Oシリコーンワニス:KR−255C信越化学工業■商
品名〕 固形分50重i% 0ポリエステル樹脂:バイロン200[:東洋紡績■商
品名〕 (4)保護層用材料 囚 ブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂
(BMF) (BMF−1の合成) 攪拌機、還流冷却器、温度計を装着[、たフラスコ中に
メラミン1269.n−ブタノール4449及び61?
1rlt%硝酸水溶液0.29を入れ、100℃rC昇
温1.た後、パラホルムアルデヒド169gを6分割し
、30分間F46同に分けて等間隔で添加12.その後
還流温度で30分間反応させ、水分を除去し、加熱残分
が50f量係になるように脱溶剤を行った。得られた樹
脂浴液の粘度は、ガードナー(25℃)でBであった1
゜ (BMF−2の合成) B M F −1の合成と同様の装置を用い、フラスコ
中にパラホルムアルデヒド217.59.n−ブタノー
ル44 =19及びメラミン126gを加え。
1!荷輸送性物質 2−fp−ジメチルアミノフェニル)−4−(p−ジメ
チルアミノ)フェニル−5−(o−クロロフェニル)−
1,3−オキサゾール((’)XZ)(3)結合剤 Oシリコーンワニス:KR−255C信越化学工業■商
品名〕 固形分50重i% 0ポリエステル樹脂:バイロン200[:東洋紡績■商
品名〕 (4)保護層用材料 囚 ブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂
(BMF) (BMF−1の合成) 攪拌機、還流冷却器、温度計を装着[、たフラスコ中に
メラミン1269.n−ブタノール4449及び61?
1rlt%硝酸水溶液0.29を入れ、100℃rC昇
温1.た後、パラホルムアルデヒド169gを6分割し
、30分間F46同に分けて等間隔で添加12.その後
還流温度で30分間反応させ、水分を除去し、加熱残分
が50f量係になるように脱溶剤を行った。得られた樹
脂浴液の粘度は、ガードナー(25℃)でBであった1
゜ (BMF−2の合成) B M F −1の合成と同様の装置を用い、フラスコ
中にパラホルムアルデヒド217.59.n−ブタノー
ル44 =19及びメラミン126gを加え。
90〜100℃で30分間付加反応を行った。その後4
0〜45℃に冷却E7フタル酸0.19を加え。
0〜45℃に冷却E7フタル酸0.19を加え。
酸性条件下で還流脱水及び脱溶を行った。この後。
加熱残分が50重#L%になるよう調整[7た。このと
きの粘度はガードナー(25℃)でBであった。
きの粘度はガードナー(25℃)でBであった。
BMF−1及び13MF−2のメラミン核1個当りの結
合ホルムアルデヒド数、ブチルエーテル基数及びメチロ
ール基数並ひに数平均分子量を下記表1に示す。
合ホルムアルデヒド数、ブチルエーテル基数及びメチロ
ール基数並ひに数平均分子量を下記表1に示す。
但[7,結合ホルムアルデヒド数は、仕込み量と亜硫酸
ソーダ法による未反応ホルムアルデヒド量の測定により
求め、ブチルエーテル基数はブタノールの仕込み量と内
部標準液として5ec−ブチルアルコールを使用【−九
ガスクロマトグラフィーによる未反応のブタノールの測
定により求め、メチロール基は、上記ブチルエーテル基
数とNMRスペクトルから求めた。また、数平均分子量
はゲル透過クロマトグラフィーにより標準ポリスチレン
の検量線を利用して求めた。
ソーダ法による未反応ホルムアルデヒド量の測定により
求め、ブチルエーテル基数はブタノールの仕込み量と内
部標準液として5ec−ブチルアルコールを使用【−九
ガスクロマトグラフィーによる未反応のブタノールの測
定により求め、メチロール基は、上記ブチルエーテル基
数とNMRスペクトルから求めた。また、数平均分子量
はゲル透過クロマトグラフィーにより標準ポリスチレン
の検量線を利用して求めた。
表1 ブチルエーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹
脂の特性 (B) アルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホル
ムアルデヒド樹脂(BBFI (BBFの合成) BMF−1の合成と同様の装置を用い、フラスコ中にバ
ラホルムアルデヒド112g、n−ブタノール222g
及びベンゾグアナミン1879−i加え、90℃で1時
間付加反応を行い、その後硫酸を用いてpH5に調整後
再び加熱し、還流脱水しながら2時間反応を行い、その
後脱溶剤を行った。この後、加熱残分が501℃%にな
るよう調整した。このときの粘度はガードナー(25℃
)でLであり、数平均分子量は前記のブチルエーテル化
メラミン・ホルムアルデヒド樹脂の場合と同様な方法で
求めると1,300であった。
脂の特性 (B) アルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホル
ムアルデヒド樹脂(BBFI (BBFの合成) BMF−1の合成と同様の装置を用い、フラスコ中にバ
ラホルムアルデヒド112g、n−ブタノール222g
及びベンゾグアナミン1879−i加え、90℃で1時
間付加反応を行い、その後硫酸を用いてpH5に調整後
再び加熱し、還流脱水しながら2時間反応を行い、その
後脱溶剤を行った。この後、加熱残分が501℃%にな
るよう調整した。このときの粘度はガードナー(25℃
)でLであり、数平均分子量は前記のブチルエーテル化
メラミン・ホルムアルデヒド樹脂の場合と同様な方法で
求めると1,300であった。
比較例1
r H*Pc 2−0 ’;j+ シリコーンワ=ス
4.Og及びテトラヒドロフラン94gをホ゛−ルミル
(日本化学陶業製3寸ボットミル)を用いて8時間混練
1−た。得られた顔料分散液をアプリケーターによりア
ルミニウム板(厚さ0.1 mm J上に塗工し、90
℃で1時間乾燥して厚さ約1.0μmの電荷発生層を形
成した。
4.Og及びテトラヒドロフラン94gをホ゛−ルミル
(日本化学陶業製3寸ボットミル)を用いて8時間混練
1−た。得られた顔料分散液をアプリケーターによりア
ルミニウム板(厚さ0.1 mm J上に塗工し、90
℃で1時間乾燥して厚さ約1.0μmの電荷発生層を形
成した。
次に0XZ59と°ポリエステル樹脂159をテトラヒ
ドロフラン140gに混合し、完全に溶解させた。得ら
7′1.た浴液を前記の電荷発生層上Vこアプリケータ
ーにより塗工し、90°Cで20分乾燥して15μIn
の電荷輸送J−を形成[2,複合型電子写真感光体を作
製した。
ドロフラン140gに混合し、完全に溶解させた。得ら
7′1.た浴液を前記の電荷発生層上Vこアプリケータ
ーにより塗工し、90°Cで20分乾燥して15μIn
の電荷輸送J−を形成[2,複合型電子写真感光体を作
製した。
比較例2
0XZ 109とポリエステル樹脂109をテトラヒド
ロフラン809に混合し7完全に溶解させた。
ロフラン809に混合し7完全に溶解させた。
得られた溶液をアプリケーターによりアルミニウム板上
に塗工し、90℃で1時間乾燥して15μnlの電荷輸
送層を形成[また。
に塗工し、90℃で1時間乾燥して15μnlの電荷輸
送層を形成[また。
次に、τ−H* Pc 2. Og、シリコーンワニス
4.09及びトルエン/イソプロパツール= 476(
重量比)の混合溶媒949をボールミルを用いて15時
間混線(〜で得られた顔料分散液を前記の電荷輸送層の
上にアプリケーターにより塗工し。
4.09及びトルエン/イソプロパツール= 476(
重量比)の混合溶媒949をボールミルを用いて15時
間混線(〜で得られた顔料分散液を前記の電荷輸送層の
上にアプリケーターにより塗工し。
110℃で15分間乾燥して膜厚約1.0μmの電荷発
生層を形成し、複合型電子写真感光体を作製した。
生層を形成し、複合型電子写真感光体を作製した。
比較例3
r−142PC0,6g、 OXZ 5.0 g、ポリ
エステル樹脂14.49及びテトラヒドロフラン809
iボールミルを用いて10時間混練した。得られた分散
液をアプリケーターによりアルミニウム板上に塗工り、
、100°Cで15分間乾燥して膜厚15/j mの−
JfIi′)i電子写真感光体を作製l−た。
エステル樹脂14.49及びテトラヒドロフラン809
iボールミルを用いて10時間混練した。得られた分散
液をアプリケーターによりアルミニウム板上に塗工り、
、100°Cで15分間乾燥して膜厚15/j mの−
JfIi′)i電子写真感光体を作製l−た。
比較例4〜5
比較例1と同様な方法で作製した感光体(下地の感光体
)の上に13MF−2,409(固形分で20g)及び
イソプロパツール609からなル?n液をアプリケータ
ーにより塗工し9表2に示す硬化条件で加熱1.保議層
を形成し7た。保護j@の膜厚を表2に示す。
)の上に13MF−2,409(固形分で20g)及び
イソプロパツール609からなル?n液をアプリケータ
ーにより塗工し9表2に示す硬化条件で加熱1.保議層
を形成し7た。保護j@の膜厚を表2に示す。
比較例6
比較例1と同様な方法で作製(−た感光体(下地の感光
体)の上にBMF’−1,409(固形分で209)及
びインプロパツール609からなる溶液をアプリケータ
ーにより塗工り、、110℃で1時間加熱(2,保護層
を形成(また。保a層の膜厚を表2に示す。
体)の上にBMF’−1,409(固形分で209)及
びインプロパツール609からなる溶液をアプリケータ
ーにより塗工り、、110℃で1時間加熱(2,保護層
を形成(また。保a層の膜厚を表2に示す。
実施例1〜6
比較例1〜3と同様な方法で作製した感光体(下地の感
光体)の上に表2に示す組成の材料をテトラヒドロフラ
ン/イノブタノール=1/1(重量比)の混合溶媒に固
形分で20重量%溶解してなる溶液をアプリケーターに
より塗工し79表2に示す硬化条件で加熱して保護H4
を形成1.た。
光体)の上に表2に示す組成の材料をテトラヒドロフラ
ン/イノブタノール=1/1(重量比)の混合溶媒に固
形分で20重量%溶解してなる溶液をアプリケーターに
より塗工し79表2に示す硬化条件で加熱して保護H4
を形成1.た。
各保護層の膜厚を表2に示す。
以下全自
比較例1〜6及び実施例1〜6で得られた電子写真感光
体の電子写真特性をfD電記録試験装置(■用nt機製
作所製5P−428)を用いて測定した結県を表3に示
す。
体の電子写真特性をfD電記録試験装置(■用nt機製
作所製5P−428)を用いて測定した結県を表3に示
す。
なお2表3中の初期電位Vo(V)はダイナミック測定
で5kVのコロナを10秒間放電したときの帯電電位を
示し、暗減衰VKはその後暗所において30秒間放置し
たときの電位保持率を示し。
で5kVのコロナを10秒間放電したときの帯電電位を
示し、暗減衰VKはその後暗所において30秒間放置し
たときの電位保持率を示し。
E駒、Etsは10 luxの白色光を照射1.電位が
それぞれ50チ、75%低下するに要した光量値(/x
−s)を示す。残留電位Vn(V)は10 luxの白
色光を30秒間照射したのちの表面電位を示す。
それぞれ50チ、75%低下するに要した光量値(/x
−s)を示す。残留電位Vn(V)は10 luxの白
色光を30秒間照射したのちの表面電位を示す。
また、摩擦試験機(スガ試験機■製)を用いて電子写真
感光体の表面をガーゼで摺動り、表面の摩耗傷が保護層
を通ってその下の層に達するまでの摺動回数で耐摩耗性
を評価した。結果を表3に示す。
感光体の表面をガーゼで摺動り、表面の摩耗傷が保護層
を通ってその下の層に達するまでの摺動回数で耐摩耗性
を評価した。結果を表3に示す。
保護層の吸水率は、保護層のみの皮膜を25℃。
91SRHの雰囲気下に48時間さらし9重さの増加か
ら吸水率を求めた(表3)。
ら吸水率を求めた(表3)。
また9画像評価機を用いて高湿下での画質のt価と連続
印写テストを行い9画質が低下するま−Cの印刷枚数を
数え、耐刷寿命を評価した。その舶来も表3に示す。
印写テストを行い9画質が低下するま−Cの印刷枚数を
数え、耐刷寿命を評価した。その舶来も表3に示す。
以下仝自
比較例1〜3の感光体は電子写真特性及び高湿下の画像
も良好であるが、耐摩耗性が低く耐刷寿命も2. OO
0枚未満しかない。また比較例1の感光体の表面に保護
層として本発明の範囲外のメラミン樹脂(BMF−2’
)を単独で用いると、低温(110°C1,短時間(1
時間)では硬化が不十分で耐摩耗性の向上は見られない
(比較例4)。
も良好であるが、耐摩耗性が低く耐刷寿命も2. OO
0枚未満しかない。また比較例1の感光体の表面に保護
層として本発明の範囲外のメラミン樹脂(BMF−2’
)を単独で用いると、低温(110°C1,短時間(1
時間)では硬化が不十分で耐摩耗性の向上は見られない
(比較例4)。
硬化温度を高温(160″C)にE7.硬化時間を3時
間と長くすると、耐摩耗性はやや向上するが。
間と長くすると、耐摩耗性はやや向上するが。
材料の熱劣化に伴う電子写真特性の低下、特に半減露光
量と残留電位の増加が著L2<2画像に地肌汚れが生じ
た(比較例5)。また保護層の吸水率も高く、高湿下で
の画像は画像濃度の低下及び白抜けが発生I、た(比較
例4〜5)。
量と残留電位の増加が著L2<2画像に地肌汚れが生じ
た(比較例5)。また保護層の吸水率も高く、高湿下で
の画像は画像濃度の低下及び白抜けが発生I、た(比較
例4〜5)。
比較例6の感光体は、保護ノーに本発明におけるブチル
エーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂(BMF−
1)を単独で用いた場合であるが。
エーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂(BMF−
1)を単独で用いた場合であるが。
低温、短時間で硬化し、耐1晴耗性は比較例1〜5に比
べて著し7く高< 1llit刷寿命も長い。また低温
。
べて著し7く高< 1llit刷寿命も長い。また低温
。
短時間の硬化条件で硬化が光子するため、その間の材料
の劣化も無視でき保護層を設けたことによる電子写真特
性の低下は比較例1と比べても殆んど見られない。し7
か1.保聯層の吸水率が高いため高湿下の画像には比較
例4〜5と同じような画像欠陥が発生また。。
の劣化も無視でき保護層を設けたことによる電子写真特
性の低下は比較例1と比べても殆んど見られない。し7
か1.保聯層の吸水率が高いため高湿下の画像には比較
例4〜5と同じような画像欠陥が発生また。。
それに対(7,特定のブチルエーテル化メラミン・ホル
ムアルデヒド樹脂とアルキルエーテル化ベンゾグアナミ
ン・ホルムアルデヒド樹脂を保護J−の原料に用いた実
施例1〜6の感光体は、低温、短時間で硬化するため保
詩層形成時の熱劣化による電子写真特性の低下もなく、
シたがって良好;’z ′ii子写真特性を維持1.つ
つ、耐摩耗性、そ′hに伴う耐刷寿命も高い。また保護
層の吸水率も低減I。
ムアルデヒド樹脂とアルキルエーテル化ベンゾグアナミ
ン・ホルムアルデヒド樹脂を保護J−の原料に用いた実
施例1〜6の感光体は、低温、短時間で硬化するため保
詩層形成時の熱劣化による電子写真特性の低下もなく、
シたがって良好;’z ′ii子写真特性を維持1.つ
つ、耐摩耗性、そ′hに伴う耐刷寿命も高い。また保護
層の吸水率も低減I。
その結果、高湿下でも画像欠陥の:ない良好な画像が得
られた1゜ (発明の効果) 本発明に係わる表面に特定のブチルエーテル化メラミン
・ホルムアルデヒド樹脂1脂[A)及びアルキルエーテ
ル化ベンゾグアナミン画ホルムアルデヒド樹脂(1()
を成分と12で含む硬化皮膜を含有する保護層を有して
なる電子写1(感光体は、優tした電子方墳易性と耐刷
スを命を有し、かつ高湿下でも良好な画像全提供する電
子写真感光体である。
られた1゜ (発明の効果) 本発明に係わる表面に特定のブチルエーテル化メラミン
・ホルムアルデヒド樹脂1脂[A)及びアルキルエーテ
ル化ベンゾグアナミン画ホルムアルデヒド樹脂(1()
を成分と12で含む硬化皮膜を含有する保護層を有して
なる電子写1(感光体は、優tした電子方墳易性と耐刷
スを命を有し、かつ高湿下でも良好な画像全提供する電
子写真感光体である。
Claims (1)
- 1、感光層の表面に、数平均分子量が1,500以下で
あり、メラミン核1個あたりの結合ホルムアルデヒド数
が2〜4個及びメチロール基数が1〜2個であるブチル
エーテル化メラミン・ホルムアルデヒド樹脂(A)及び
数平均分子量が400〜2,000のアルキルエーテル
化ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂(B)を成
分として含む硬化皮膜を含有する保護層を有してなる電
子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9533886A JPS62251755A (ja) | 1986-04-24 | 1986-04-24 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9533886A JPS62251755A (ja) | 1986-04-24 | 1986-04-24 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62251755A true JPS62251755A (ja) | 1987-11-02 |
JPH0431578B2 JPH0431578B2 (ja) | 1992-05-26 |
Family
ID=14134916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9533886A Granted JPS62251755A (ja) | 1986-04-24 | 1986-04-24 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62251755A (ja) |
-
1986
- 1986-04-24 JP JP9533886A patent/JPS62251755A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0431578B2 (ja) | 1992-05-26 |
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