JPS62182724A - リ−ド端子付きエレクトロクロミツク表示素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はリード端子イ１きエレクトロクロミック表示素
子の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

エレクトロクロミック表示素子の表示極のエレクトロク
ロミック物質に発色反応を起こさせるには、外部の駆動
用電源からエレクトロクロミック表示素子に電気を供給
する必要がある。

この駆動用電源とエレクトロクロミック表示素子との接
続は、一般にリード端子をエレクトロクロミック表示素
子の表示極基板に取り付けることによって行われている
。

そして、表示極基板への表示極側のリード端子の取り付
けは、第９図に示すように、リード端子４の挟持部４ａ
の上片４ａ１と下片４ａ２との間に表示極基１反ｌの端
部を入れ、該挾持部４ａの上片４ａ１と下片４ａ２の復
元力によって表示極基板１の端部を挟み込むことにより
行い、さらに導電ペースト（図示せず）を塗布してリー
ド端子４と表示極基板１との隙間を埋め、その上から硬
化型の液状樹脂（図示せず）を塗布し、該樹脂の硬化に
よりリード端子４を表示極基板１に固定するようにして
いた（例えば実願昭６０−１２４０９０号）。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、上記のようにリード端子４の挟持部４ａ
で直接表示極基板１の端部を決み込む場合、リード端子
４とエレクトロクロミック表示素子との電気的１ｔ−、
Ｎは、リード端子４の挟持部４ａと表示極基板１の透明
導電膜１ｂ、つまりＩＴＯ（インジウム錫酸化物）膜、
錫酸化物膜などの金属酸化物膜との接触によって行われ
るため、接触抵抗が大きく、そのためエレクＩ・ロクロ
ミノク物質への注入電気量が少なくなり、エレクトロク
ロミック物質の発色が少なくなって、鮮明な表示が得ら
れないという問題があった。

そこで、表示鴇基板のリード端子取付部の透明導電膜上
に金属メッキ屓を設け、該金属メッキＨとリード端子と
を接触させることにより、リード端子４と表示極基板１
との接触抵抗を低減することが考えられる。

ところで、上記のように表示極基板のリード端子取付部
の透明４電膜上に金属メッキ層を設けるにあたっては、
種々の方法が考え得るが、このエレクトロクロミック表
示素子という特定の構造を有するものに対して、他の分
野で従来から採用されているメッキ方法をそのまま通用
しただけでは、品質面での問題発生や、能率面での問題
発生があり、必ずしも良好な結果が得られない。

例えば、化学メッキによりメッキ層を形成しようとする
と、透明導？！！膜が金属体でないことから、活性化処
理がａ・要になるが、透明導電膜だけの選択的活性化が
むつかしく、その結果、リード端子取付部の透明導電膜
とそれに隣り合うリード端子取付部の透明導電膜との間
に設けられている絶縁部にもメッキが行われ、隣り合う
透明導電膜間がメッキで結合してしまって、それらを導
電経路とするそれぞれのセグメントを独立して駆動する
ことができないという問題があり、また、従来から他の
分野で採用されているメッキ手段を適用しただけでは、
多数個のリード端子取付部のそれぞれにメッキ電源の陰
極を−々取り付けることとなって非常に手間がかかると
いう問題があった。

〔問題点を解決するための手段〕

そこで、本発明者らは、エレクトロクロミック表示素子
の持つ特性を生かし、簡単でかつ能率よくメンキしうる
方法を見出すべく種々研究を重ねた結果、エレクトロク
ロミック表示素子に電気を注入し、該エレクトロクロミ
ック表示素子に在入した電気をメッキ電源として、表示
極基板のリード端子取付部の透明導電膜上に電気メッキ
するときは、外部からのメッキ電源が不要であり、した
かって多数個あるリード端子取付部に−々メッキ電源の
陰極を接続しなくても、メッキが行え、しかもリード端
子取付部の透明４電膜上に選択的にメッキができ、簡単
な操作でかつ能率よく所望部分にメッキ層を形成するこ
とができることを見出し、特許請求の範囲第１項に記載
の発明を完成した。

透明導電膜上に形成するメッキ厚みとしては、０．１μ
ｍ以上、好ましくは０．５μｍ以上あればよく、上記の
ようにエレクトロクロミック表示素子に注入した電気を
メッキ電源として電気メッキする場合も厚さが１μｍ程
度のメッキをすることができ、それによって一応の目的
が達成できるが、リード端子と表示極基板との接触抵抗
をより確実に低くするには、メッキ層をよりｊ７＜形成
することが望ましい。

ところが、前記方法により表示極基板のリード端子取付
部の透明導電膜上に形成しうるメッキ量は、エレクトロ
クロミック表示素子に注入した電気量によって制限を受
け、またエレクトロクロミツク表示素子に注入できる電
気量は表示極のエレクトロクロミック物質の量によって
制限を受けるので、メッキ層を厚くするにはエレクトロ
クロミック物質層を厚く形成することが必要になるが、
エレクトロクロミック物質層は主として蒸着によって形
成されており、エレクトロクロミック物質を厚く形成す
るには蒸着に長時間をかけなければならず、エレクトロ
クロミック表示素子の生産性において問題が発生する。

そこで、本発明者らはさらに研究を重ねた結果、前記の
ようにエレクトロクロミック表示素子に注入した電気を
メッキ電源として、電気メッキにより表示極基板の表示
極側のリード端子取付部の透明導電膜上に第１のメッキ
層を形成したのち、上記メッキ層上に化学メッキにより
第２のメッキ層を形成するときは、被メツキ部分が金属
体であることから、活性化が不要であり、したがって、
化学メッキが所望の部分のみに選択的に行うことができ
、かつ厚み形成が容易であるという化学メッキの特徴を
生かして、所望厚みのメッキ層を容易にかつ効率よく形
成しうろことを見出し、特許請求の範囲第２項に記載の
発明を完成した。

メッキ金属としては、例えばニッケル、錫、金、半田（
鉛−錫系合金など）などが採用される。

そして、形成されるメッキ層を利用して、リード端子の
挟持部の下片を上記メッキ層に／′ｇ接またはロウ付け
して、リード端子を表示極基板に固定したり、あるいは
樹脂によりリード☆Ｈ３１子を表示極基板に固定すれば
、リード端子の取付安定性が向上する。

また、リード端子の構成金属との適合性などの関係から
、形成されたメッキ層上にさらに異種金属のメッキをし
てもよい。

なお、本発明においては表示極側のリード端子取付部の
透明１電膜上に金属メッキ層を形成することを要件とし
ているが、対向極側のリード端子取付部にも他の手段に
よりメッキ層を形成してもよいことはもちろんであり、
対向極側のリード端子取付部にもメ・７キ層を形成する
ことを排除するものではない。

〔実施例〕

つぎに本発明の実施例を必要に応じ図面を参照にして説
明する。

実施例１ 表示部が２つのパターン（２Ｄ、Ｄ＝Ｄｉｇｉｔ　（数
字）　）を持つエレクトロクロミック表示素子にあらか
じめ試験用端子を用いて、３０ｍＣ／ｃｄの電気を注入
した。

上記のように電気を注入したエレクトロクロミック表示
素子を第１図に示すようにメッキ浴２１中に浸漬し、上
記エレクトロクロミック表示素子２０に注入された電気
量を利用して、ニッケルメッキを行った。上記エレクト
ロクロミック表示素子は注入電気量により約０．４ｖ程
度の電圧を持っており、メッキ浴２１へのエレクトロク
ロミック表示素子２０の浸漬直後からメッキ浴中のニッ
ケルイオンが表示極基板１の表示極側のリード端子取付
部の透明導電膜上に金属ニッケルとして析出し、メッキ
時間５０分で厚さ０．５μｍのニッケルメッキ層が形成
された。なお、エレクトロクロミック表示素子の詳細は
第６図に、また表示極基板のリード端子取付部の詳細は
第８図に示すとおりであり、それらについては後で詳細
に説明する。

メッキ浴は硫酸ニッケル３００ｇ／ｌ、塩化ニッケ／Ｌ
ｚ４５ｇ　／　１　、硼酸４５ｇ／Ｌ’を含んでなり、
ｐＨ５に調整されている。

上記のようにして、表示極基板の表示極側のリード端子
取付部に二、ケルメッキを施した後、リード端子の挟持
部の下片が上記ニッケルメッキ層に接触するようにして
、リード端子を表示極基板に取り付け、さらにその取付
安定性を高めるために、リード端子を取り付けた部分に
導電ペーストを塗布し、さらにその上からエポキシ樹脂
を塗布してリード端子を表示極基板に固定した。

このようにして製造されたリード端子付きエレクトロク
ロミック表示素子では、リード端子４と表示極基板ｌと
の接触抵抗は０．３Ωであり、従来品に比べて接触抵抗
が低かった。なお、第９図に示すように表示極側のリー
ド端子・１の挟持部４ａの下片４ａ２を表示極基板１の
透明導電１ｆ！ｔ！　１　ｂに直接接触させた従来のリ
ード端子付きエレクトロクロミ７り表示素子（つまり、
表示極基板１のリード端子取付部の透明溝Ｔ１膜上に本
発明のような金属メッキ層５を設けていないリード端子
付きエレクトロクロミック表示素子）では、リード端子
４と表示極基板１との接触抵抗は２Ωであった。そして
、これら２種類のリード端子付きエレクトロクロ＜　’
７り表示素子にそれぞれ１．ＯＶ、０．５秒間電圧印加
をしたところ、本発明のエレクトロクロミック表示素子
は従来品に比べてエレクトロクロミ。

り物質層の発色濃度が高（、より鮮明な表示をすること
ができた。

なお、前記のようにして製造されたリード端子付きエレ
クトロクロミック表示素子の表示極側のリード端子取付
状態を第２〜３図に、全体の概略斜視図と概略平面図を
第４図と第５図に、エレクトロクロミック表示素子部分
の断面図を第６図に、表示部分の拡大平面図を第７図に
、また表示極基板のリード端子取付部を第８図にそれぞ
れ模式これらについて、まず、第２〜３図に基づいて説
明すると、図中、■は表示極基板であり、透明ガラス１
及１ａ上にＩＴＯ（インジウム！易酸化１勿）の６明導
電膜１ｂを形成してなり、この第２〜３図では図示して
いないが、エレクトロクロミック物質層は上記表示極基
板ｌの透明導電膜１ｂ上に複数のセグメントの集合体で
表示パターンを形成するように設けられ、それによって
表示極が形成されている。

２はり１向極基板で、この対向極基板２も上記表示極基
板１と同様にガラス扱２ａ上にＩＴＯの透明４電膜２ｂ
を形成してなり、この第２〜３図には図示していないが
、上記透明導電膜２ｂ上に対向極物質層が設けられ、そ
れによって対向極が形成される。そして、３はポリエス
テル製のスペーサである。

４は表示極側のリード端子であり、５は前記のように電
気メッキにより表示極基板のリード端子取付部の透明導
電膜Ｉｂ上に設けられたニッケルのメッキ層である。そ
して、上記リード端子４は、その挟持部４ａの下片４ａ
２が上記ニッケルのメッキ層５に当接するようにして、
挾持部４ａを表示極基板１の端部に嵌め込んで表示極基
板１に取り付け、該リード端子４を取り付けた部分に導
電ペーストを塗布し、さらにその上からエポキシ樹脂を
塗布して、リード端子４を表示極基板ｌに固定している
。

上記のような表示極側のリード端子４は、第４〜５図に
示すように、表示極基板１の両（ｊ、ｌ＋端にそって複
数取り付けられる。具体的には、１つの表示パターンを
構成するセグメントの数および表示パターンの数に応じ
て好要な個数のリード端子４が表示極基板ｌに取り付け
られる。つまり、エレクトロクロミック物質層７は、第
７図に詳示するようにセグメント化され、セグメント７
８〜７ｇの集合体で表示パターンを構成しており、それ
らのセグメント７８〜７ｇをそれぞれ独立して駆動する
ために透明導電膜１ｂはエツチングにより適宜切断され
、それぞれ独立した導電経路１５ａ〜１５ｇを形成して
いる。そして、上記リード端子４はそれぞれ独立した導
電経路を構成する各透明導電膜１ｂに電気を供給できる
ような態様で表示極基板１に取り付けられ、それによっ
て、エレクトロクコミック物質の各セグメント７ａ〜７
ｇはそれぞれ独立して発色、ｌ白色できるようになって
いる。なお、′１５４〜５図中の６は対向極側のリード
端子であり、この対向極側のリード端子６も前記表示極
側のリード端子４と同様に、その挾持部６ａを表示極基
Ｆｊ、１の端部に嵌め込むことによって表示極基板ｌに
取り付けられている。ただし、この対向極のリード品１
子６とそれに隣接する表示極側のリード端子６とは透明
導電膜１ｂにエツチングにより絶縁部分１ｃ　（第５図
参照）を設け、対向極側のリード端子６と表示極側のリ
ード端子４とは、電気的に絶縁されるようになっている
。

第６図は本発明のリード端子付きエレクトロクロミック
表示素子のエレクトロクロミック表示素子部分を模式的
に示す断面図で、前記のように、表示極基板ｌは透明ガ
ラス坂１ａにＩＴＯの透明導電膜１ｂを形成してなり、
この表示極基板１の透明導電膜ｌｂ上にエレクトロクロ
ミック物質ｒｆ５１を形成することによって表示極９が
形成されている。

なお、図示していないが、上記透明ガラス板１ａ上には
透明導電膜１ｂの形成前に二酸化ケイ素（Ｓｉ０２）の
アンダーコートをしておいてもよい。そして、上記透明
導電膜１ｂのエレクトロクロミック物質Ｍ７が形成され
ていない部分には二酸化ケイ素の保護膜８が形成されて
いる。なお、エレクトロクロミック物質Ｉ′５７は第４
図、第５図および第７図に示すように、セグメント状に
形成され、透明導電膜ｔｂはエツチングにより適宜切断
されて、エレクトロクロミック物質の各セグメント７８
〜７ｇ（第７図参照）が独立して駆動できるように、そ
れぞれ独立した導電経路１５ａ〜１５ｇを形成している
。エレクトロクロミック物質としては、通常、酸化タン
グステン（ＷＯ３）、酸化イリジウム（ｌｒ０２）、酸
化モリブデン（ＭｏＣ２）などの遷移金属酸化物、プル
シアンブルー、テトラチアフルバレン誘導体、ビオロゲ
ン誘導体などが用いられ、本実施例では酸化タングステ
ンが用いられている。

χ１同極基扱２は透明ガラス１反２ａにＩＴＯの透明導
電膜２ｂを形成してなり、咳透明導電股２ｂ上にタング
ステン酸鉄（Ｆ　０２　　（ＷＯ４）　３　）を対向極
材料とし、これに導電助剤と結着剤とを配合してなる対
向極物質層１０を形成することによって対向Ｊｆｆｉｌ
ｌが形成されている。この対向極基板２は表示極基板１
のような透明性を必要としないので、金属坂でもよいし
、また透明導電膜２ｂに相当するような導電部分さえ設
けてあればセラミック坂やプラスチック板で基板を構成
してもよい。

なお、本発明においては、エレクトロクロミック物質、
対向極材料とも上記例示のもの以外でもよいが、表示極
側が負極側になるようにエレクトロクロミック物質と対
向極材料との組合せを選定する必要がある。

１２は上記表示極９のエレクトロクロミック物質層７と
対向極１）の対向極物質層１０との間に間近された背景
材で、この背景材１２は二酸化チタンを分散含有させた
イオン透過性の多孔性ポリテトラフルオロエチレンシー
トからなるものであり、１３はプロピレンカーボネート
に過塩素酸リチウムを１．０ｍｏｌ／ｊ！溶解した液状
電解質である。

スペーサ３は、リング状をしており、その上面および下
面はそれぞれ表示極基板１および対向極基板２にエポキ
シ樹脂などの接着剤で固定され、表示極基板１と対向極
基板２とを絶縁すると共に、このスペーサ３と表示極基
板１と対向極基板２とで前記の電解質１３、エレクトロ
クロミック物質層７、対向極物質層１０、背景材１２な
どの素子内容物を収容するためのセルを形成している。

第７図は、表示部分を模式的に示すもので、表示極をエ
レクトロクロミック物質層７を設けた側から見た拡大平
面図であり、エレクトロクロミ。

り物′Ｒ屓は７つのセグメン１〜７ａ〜７ｇで８の字か
らなる表示パターンを形成するように設けられている。

１５ａ〜１５ｇは上記エレクトロクロミック物質のセグ
メント７ａ〜７ｇが発色反応を起こすのに必要な電気を
流す導電部分で、この導電部分１５ａ〜１５ｇはガラス
仮ｌａ上に形成された透明導電膜１ｂを適宜切断するこ
とによって形成されたもので、この導電部分１５ａ〜１
５ｇの抵抗はエレクトロクロミック物質の各セグメント
７ａ〜７ｇの面積に反比例するように調整されている。

１６ａ〜１６ｈは導電部分１５８〜１５ｇが短絡しない
ように設けである絶縁部で、上記透明導電膜１ｂをエツ
チングにより部分的に除去することによって設けられた
ものである。なお、１６ｉ　と１６３　はセグメント７
ａ、７ｄに電流が早く流れて他のセグメントとの間に応
答速度の相違が生じるのを防止するために設けられた絶
縁バリヤーである。そして、前述したように表示極基板
１の表示極側のリード端子取付部は、表示パターンを構
成するエレクトロクコミックのセグメントの数、つまり
透明導電膜１ｂよりなる導電部分の数に応し、さらには
表示パターン数に応じて多数偏設けられ、該部分にリー
ド端子４が取り付けられる。

第８図はエレクトロクロミック表示素子の表示極基板の
リード端子取付部を概略的に示すもので、エレクトロク
ロミック表示素子を対向極側から見た平面図であり、図
中、１４は表示極側のリード端子取付部で、この段階で
はその表面層は透明導電膜１ｂで構成されており、ちょ
うど、前記第７図における導電部分の端部に該当する。

なお、この第８図からも明らかなように、表示極側のリ
ード端子取付部１４は、表示パターンを構成するセグメ
ントの数、さらには表示パターンの数に応じて、多数段
けられ、このリード端子取付部１４の透明導電膜ｌｂ上
に前記のような電気メッキにより金属メッキ層５が形成
される。そして、１７は上記リード端子取付部１４の間
の絶縁部であり、透明導電膜１ｂをエツチングにより部
分的に除去することによって形成されたものであって、
前記第８図における絶縁部の端部に該当する。なお、１
８は対向極側のリード端子取付部である。

実施例２ 実施例１と同様にエレクトロクロミック表示素子に注入
した電気量をメッキ電源として、表示極基板の表示極側
のリード端子取付部に厚さ０．１μｍのニッケルメッキ
を施したのち、化学ニッケルメッキを行った。

化学ニッケルメッキ浴は、硫酸ニッケル２０ｇ／ｌ、次
亜りん酸ナトリウムｌＯｇ／１２、乳酸３ｇ／β、クエ
ン酸すトリウム５　ｇ／（！、酢酸すＩ・リウム５ｇ／
ｌを含有したもので、ｐ　Ｉ−１は５に調整されている
。

メッキ温度は５０゛Ｃで、メッキ時間は５０分間であり
、前記電気メッキにより形成したニッケルメッキ層上に
厚さ３μｍの化学ニッケルメッキ層が形成された。

上記のようにして、表示極基板の表示極側のリード端子
取付部の透明導電膜上にニッケルのメッキ眉を形成した
のち、リード端子を実施例１と同様に表示極基板に取り
付け、固定した。

上記のようにして装造されたリード端子付きエレクトロ
クロミック表示素子は、リード端子４と表示極基板１と
の接触抵抗が０．２Ωであって、従来のリード端子付き
エレクトロクロミック表示素子に比べて接触抵抗が低く
、また、同条件下での電圧印加で、従来品に比べて発色
濃度の高い鮮明な表示をすることができた。

なお、上記実施例ではニッケルメッキの場合を示したが
、ニッケル以外の金属メッキによる場合でも実施例と同
様の効果が奏されるものである。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明では表示極基板のリード端
子取付部の透明導電膜上に、独立した導電経路を確保し
つつ、またエレクトロクロミック物質などの素子内容物
を汚損することもなく、簡単な操作で能率よく金属メッ
キ層を形成し、それによってリード端子と表示極基板と
の接触抵抗を低減して、発色濃度の高い鮮明な表示を実
現することができた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明においてエレクトロクロミ、り表示素子
の表示極基板の表示極側のリード端子取付部の透明導電
膜上に金属メッキする状態を模式的に示す図である。第
２〜７図は本発明に係るリード端子付きエレクトロクロ
ミック表示素子の一例を示すものであり、第２図は表示
極側のリード端子の取付状態を示す部分拡大断面図、第
３図は表示極側のリード端子の取付状態を部分的に拡大
して示す概略Ｉ１）面図、第４図は概略斜視図、第５図
は概略平面図、第６図はエレクトロクロミック表示素子
の断面図、第７図は表示部分を模式的に示す拡大平面図
で、表示極をエレクトロクロミック物質層を設けた側か
ら見た図である。第８図はエレクトロクロミック表示素
子の表示極基板のリード端子取付部を概略的に示す平面
図で、エレクトロクロミック表示素子を対向極側から見
た図である。第９図は従来のリード端子付きエレクトロ
クロミック表示素子の表示極側のリード端子の取付状態
を示す部分拡大断面図である。 ■・・・表示極基板、　１ｂ・・・透明導電膜、４・・
・表示極側のリード端子、 ５・・・金属メッキ層、　　９・・・表示極、１）・・
・対向極、　１３・・・ＴＬ解質、１４・・・表示極側
のリート端子取（１部、２０・・・エレクトロクロミッ
ク表示素子、２１・・・メッキ浴 第　１　閃 第２区 第４図 第６　図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）表示極、対向極および電解質を備えたエレクトロ
   クロミック表示素子にリード端子を取り付けてなるリー
   ド端子付きエレクトロクロミック表示素子の製造にあた
   り、エレクトロクロミック表示素子に電気を注入し、上
   記エレクトロクロミック表示素子に注入した電気をメッ
   キ電源として、表示極基板の表示極側のリード端子取付
   部の透明導電膜上に電気メッキにより金属メッキ層を形
   成することを特徴とするリード端子付きエレクトロクロ
   ミック表示素子の製造方法。
2. （２）表示極、対向極および電解質を備えたエレクトロ
   クロミック表示素子にリード端子を取り付けてなるリー
   ド端子付きエレクトロクロミック表示素子の製造にあた
   り、エレクトロクロミック表示素子に電気を注入し、上
   記エレクトロクロミック表示素子に注入した電気をメッ
   キ電源として、表示極基板の表示極側のリード端子取付
   部の透明導電膜上に電気メッキしたのち、上記電気メッ
   キによる金属メッキ層上に化学メッキにより金属メッキ
   層を形成することを特徴とするリード端子付きエレクト
   ロクロミック表示素子の製造方法。