JPS62178920A - 光ビ−ム走査装置 - Google Patents
光ビ−ム走査装置Info
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- JPS62178920A JPS62178920A JP61021727A JP2172786A JPS62178920A JP S62178920 A JPS62178920 A JP S62178920A JP 61021727 A JP61021727 A JP 61021727A JP 2172786 A JP2172786 A JP 2172786A JP S62178920 A JPS62178920 A JP S62178920A
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- 238000002347 injection Methods 0.000 claims 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 23
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000001454 recorded image Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の分野）
本発明は光ビーム走査装置、特に詳細には光ビーム走査
用回転多面鏡の面反射率のハラつきによる画像濃度ムラ
の発生を防止できるようにした光ビーム走査装置に関す
るものである。
用回転多面鏡の面反射率のハラつきによる画像濃度ムラ
の発生を防止できるようにした光ビーム走査装置に関す
るものである。
（弁明の技術的背景および先行技術）
従来より、光ビームを光偏向器により偏向して被走査面
上に主走査させるとともに、この被走査面と光ビームと
を上記主走査の方向と略直角な方向に相対移動させて副
走査を行なうようにした光ビーム走査装置が、例えば各
種走査記録装置、走査読取装置等において広く実用に供
されている。
上に主走査させるとともに、この被走査面と光ビームと
を上記主走査の方向と略直角な方向に相対移動させて副
走査を行なうようにした光ビーム走査装置が、例えば各
種走査記録装置、走査読取装置等において広く実用に供
されている。
このような光ビーム走査装置においては、上記光偏向器
として回転多面鏡（ポリゴンミラー）が用いられること
が多い。この回転多面鏡は、例えばガルバノメータミラ
ー等その他の光偏向器に比べ、走査安定性の点で優れて
いる。
として回転多面鏡（ポリゴンミラー）が用いられること
が多い。この回転多面鏡は、例えばガルバノメータミラ
ー等その他の光偏向器に比べ、走査安定性の点で優れて
いる。
しかしその反面この回転多面鏡にあっては、一般に各鏡
面の面反射率が僅かずつ異なるので、同一強度の光ビー
ムを回転多面鏡に入射させても、実際に被走査面上を走
査する光ビームの強度は鏡面毎に異なってしまう、とい
う問題かある。このように走査ビームの強度が回転多面
鏡の鏡面毎に変動すると、例えば光走査記録装置におい
ては記録画像に濃度ムラが生じる。また光走査読取装置
においては読取画像信号に歪みが生じ、結局、後にこの
読取画像信号に基づいて再生される画像において濃度ム
ラか生じる。上記面反射率のハラつきは、鏡面どうしの
間で比較的顕著に認められる他、１つの鏡面においても
僅かながら認められることがある。このように１つの鏡
面において部分的に面反射率バラつきがあっても、同様
に上記の問題が生じることになる。
面の面反射率が僅かずつ異なるので、同一強度の光ビー
ムを回転多面鏡に入射させても、実際に被走査面上を走
査する光ビームの強度は鏡面毎に異なってしまう、とい
う問題かある。このように走査ビームの強度が回転多面
鏡の鏡面毎に変動すると、例えば光走査記録装置におい
ては記録画像に濃度ムラが生じる。また光走査読取装置
においては読取画像信号に歪みが生じ、結局、後にこの
読取画像信号に基づいて再生される画像において濃度ム
ラか生じる。上記面反射率のハラつきは、鏡面どうしの
間で比較的顕著に認められる他、１つの鏡面においても
僅かながら認められることがある。このように１つの鏡
面において部分的に面反射率バラつきがあっても、同様
に上記の問題が生じることになる。
（発明の目的）
本発明は上記のような事情に鑑みてなされたものであり
、回転多面鏡の面反射率のバラつきによって走査ビーム
強度が変動することを防止できる光ビーム走査装置を提
供することを目的とするものである。
、回転多面鏡の面反射率のバラつきによって走査ビーム
強度が変動することを防止できる光ビーム走査装置を提
供することを目的とするものである。
（弁明の溝底）
本発明の光ビーム走査装置は、前述のようにして光ビー
ムの主走査と副走査を行なうようにした光ビーム走査装
置において、 強度一定の基準ビームを発生して回転多面鏡に入射させ
る基準ビーム射出系と、 回転多面鏡によって偏向された上記基準ビームの強度を
測定する光検出器と、 この光検出器の出力を受け、該出力が示す上記基準ビー
ムの強度の大小に応じて上記光ビームの強度を減増させ
る制御手段とを設けたことを特徴とするもので市る。
ムの主走査と副走査を行なうようにした光ビーム走査装
置において、 強度一定の基準ビームを発生して回転多面鏡に入射させ
る基準ビーム射出系と、 回転多面鏡によって偏向された上記基準ビームの強度を
測定する光検出器と、 この光検出器の出力を受け、該出力が示す上記基準ビー
ムの強度の大小に応じて上記光ビームの強度を減増させ
る制御手段とを設けたことを特徴とするもので市る。
なお上記制御手段による前記光ビームの強度制御は、回
転多面鏡の各鏡面毎に測定した基準ビーム強度に基づい
て鏡面毎に行なうようにしてもよいし、あるいは連続的
に測定し続ける基準ビーム強度に基づいて通読的に１１
なうようにしてもよい。
転多面鏡の各鏡面毎に測定した基準ビーム強度に基づい
て鏡面毎に行なうようにしてもよいし、あるいは連続的
に測定し続ける基準ビーム強度に基づいて通読的に１１
なうようにしてもよい。
曲者の場合、回転多面鏡の面反則率バラつきによる走査
ビーム強度変動は各鏡面単位で補正され、！！２者の場
合は、１つの鏡面にあける部分的な面反射率バラつきに
よる微細な走査ビーム強度変動も補正されることになる
。
ビーム強度変動は各鏡面単位で補正され、！！２者の場
合は、１つの鏡面にあける部分的な面反射率バラつきに
よる微細な走査ビーム強度変動も補正されることになる
。
（実施態様）
以下、図面に示す実施態様に基づいて本発明の詳細な説
明する。
明する。
第１図は本発明の第１実施態様による光ビーム走査装置
を示すものでおる。走査ビーム発生手段としての半導体
レーザ１０から射出された光ビーム１１は、コリメータ
レンズ１２によって平行ビームとされた上で回転多面鏡
１３に入射する。光ビーム１１はこの回転多面鏡１３に
よって反射（偏向され、通常ｆ・θレンズからなる集束
レンズ１４に通され、長尺のミラー１５において反射し
て被走査体１６上を矢印Ｘ方向に走査（主走査）する。
を示すものでおる。走査ビーム発生手段としての半導体
レーザ１０から射出された光ビーム１１は、コリメータ
レンズ１２によって平行ビームとされた上で回転多面鏡
１３に入射する。光ビーム１１はこの回転多面鏡１３に
よって反射（偏向され、通常ｆ・θレンズからなる集束
レンズ１４に通され、長尺のミラー１５において反射し
て被走査体１６上を矢印Ｘ方向に走査（主走査）する。
それとともに被走査体１６は、駆動装置１７によって駆
動されるエンドレスベルト１８により、上記主走査方向
Ｘと略直角な矢印Ｙ方向に搬送されて副走査がなされ、
したがって該被走査体１６上には光ビーム１１か２次元
的に照射される。なお本実施態様装置は光走査記録装置
として形成されたものであり、したがって上記被走査体
１６は感光フィルム等の記録媒体であり、また光ビーム
１１は後）ホするように画像信号に基づいて変調される
。
動されるエンドレスベルト１８により、上記主走査方向
Ｘと略直角な矢印Ｙ方向に搬送されて副走査がなされ、
したがって該被走査体１６上には光ビーム１１か２次元
的に照射される。なお本実施態様装置は光走査記録装置
として形成されたものであり、したがって上記被走査体
１６は感光フィルム等の記録媒体であり、また光ビーム
１１は後）ホするように画像信号に基づいて変調される
。
ここで、前述したように回転多面鏡１３の各鏡面毎に面
反射率の差が有ると、被走査体（記録媒体）１６上を走
査する光ビーム１１の強度が各鏡面毎に変動することに
なる。このような光ビーム１１の強度変動が生じると、
記録媒体１６に記録される画像に濃度ムラが生じる。以
下、このような走査ビームの強度変動を解消する点につ
いて説明する。前記コリメータレンズ１２から回転多面
鏡１３に至る光ビーム１１の光路には、例えばハーフミ
ラ−１偏光ビームスプリツタ等の光ビーム合成手段２０
が配されている。そしてこの光ビーム合成手段２０の側
方には基準ビーム射出用半導体レーザ２１が配されてお
り、この基準ビーム射出用半導体レーザ２１から射出さ
れコリメータレンズ２３によって平行ビームとされた基
準ビーム２２は、上記光ビーム合成手段２０によって光
ビーム１１と合成される。なお基準ビーム射出用半導体
レーザ２１は、基準ど−ム２２が光ビーム１１に対して
僅かに光軸かすれるように配されており、したかって回
転多面鏡１３によって反射１％向された基準ビーム２？
は前記ミラー１５から外れて、集光ロッド２４に入射す
る。この集光ロッド２４には光検出器としてのフォトダ
イオード２５か結合されている。半導体レーザ１０は、
上記フォトダイオード２５の出力を受ける制御回路２６
によって制御され、反９Ａ幅向されｔ−光ビーム１１に
強度変動か生じないように駆動する。以下この点につい
て、上記制御回路２６等の電気回路を詳しく示す第２図
を参照して説明する。基準ビーム射出用半導体レーザ２
１は、光ビーム１１によって画像記録がなされている間
中作動される。そして該基準ビーム射出用半導体レーザ
２１は、そのケース内に粗み込まれたフォトダイオード
３０、電流−電圧変換器３１および差動増幅器３２から
なるＡＰＣ（Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｐ。
反射率の差が有ると、被走査体（記録媒体）１６上を走
査する光ビーム１１の強度が各鏡面毎に変動することに
なる。このような光ビーム１１の強度変動が生じると、
記録媒体１６に記録される画像に濃度ムラが生じる。以
下、このような走査ビームの強度変動を解消する点につ
いて説明する。前記コリメータレンズ１２から回転多面
鏡１３に至る光ビーム１１の光路には、例えばハーフミ
ラ−１偏光ビームスプリツタ等の光ビーム合成手段２０
が配されている。そしてこの光ビーム合成手段２０の側
方には基準ビーム射出用半導体レーザ２１が配されてお
り、この基準ビーム射出用半導体レーザ２１から射出さ
れコリメータレンズ２３によって平行ビームとされた基
準ビーム２２は、上記光ビーム合成手段２０によって光
ビーム１１と合成される。なお基準ビーム射出用半導体
レーザ２１は、基準ど−ム２２が光ビーム１１に対して
僅かに光軸かすれるように配されており、したかって回
転多面鏡１３によって反射１％向された基準ビーム２？
は前記ミラー１５から外れて、集光ロッド２４に入射す
る。この集光ロッド２４には光検出器としてのフォトダ
イオード２５か結合されている。半導体レーザ１０は、
上記フォトダイオード２５の出力を受ける制御回路２６
によって制御され、反９Ａ幅向されｔ−光ビーム１１に
強度変動か生じないように駆動する。以下この点につい
て、上記制御回路２６等の電気回路を詳しく示す第２図
を参照して説明する。基準ビーム射出用半導体レーザ２
１は、光ビーム１１によって画像記録がなされている間
中作動される。そして該基準ビーム射出用半導体レーザ
２１は、そのケース内に粗み込まれたフォトダイオード
３０、電流−電圧変換器３１および差動増幅器３２から
なるＡＰＣ（Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｐ。
Ｗｅｒ Ｃｏｎｔｒｏｌ＞回路３３によって駆動制御
され、基準ビーム２２は基準電圧Ｅｒｌに塞づく一定強
度に維持される。この基準ビーム２２は前述のように回
転多面１ｉ１３により反射偏向され、この反射した基準
ビーム２２が前記フォトダイオード２５によって検出さ
れる。、該フォトダイオード２５の出力は電流−電圧変
換器３４によって電圧信号Ｅ１に変換され、この電圧信
号Ｅ！は差動増幅器３５の−（マイナス）側に入力され
る。差動増幅器３５はその＋（プラス）側に入力される
基準電圧Ｅｒ２と、基準ビーム２２の強度を示す上記電
圧信号Ｅ１とを比較し、その差分に応じた出力Ｅ２を発
する。すなわちこの出力Ｅ２は、上記電圧信号Ｅ！が大
きいほど（基準ビーム２２の強度が高いほど）小ざく、
該電圧信号Ｅ１が小さいほど（基準ビーム２２の強度が
低いほど）大きいものとなる。この出力Ｅ２はマルチプ
ライヤＤ ／ Ａコンバータ（乗算型Ｄ／Ａコンバータ
）３６に入力される。このマルチプライヤＤ、／Ａコン
バータ３６には画像情報を担うデジタルの変調信号ＭＯ
Ｄが入力され、該マルチプライヤＤ ／ Ａコンバータ
３６はこの変調信号ＭＯＤに対応したアナログ電圧出力
Ｅ３を差動増幅器３７の＋側に入力する。この差動増幅
器３７は、半導体レーザ１０のケース内に組み込まれた
フォトダイオード３８および電流−電圧変換器３９とと
もに半導体レーザ１０のＡ Ｐ Ｃ回路を構成するもの
でめり、このＡＰＣ回路により上記出力Ｅ３に応じて半
導体レーザ１０の駆動電流が制御されるので、結局該半
導体レーザ１０から発せられる光ビーム１１の強度か変
調信号ＭＯＤに基づいて変調され、記録媒体１６上に画
像記録がなされる。
され、基準ビーム２２は基準電圧Ｅｒｌに塞づく一定強
度に維持される。この基準ビーム２２は前述のように回
転多面１ｉ１３により反射偏向され、この反射した基準
ビーム２２が前記フォトダイオード２５によって検出さ
れる。、該フォトダイオード２５の出力は電流−電圧変
換器３４によって電圧信号Ｅ１に変換され、この電圧信
号Ｅ！は差動増幅器３５の−（マイナス）側に入力され
る。差動増幅器３５はその＋（プラス）側に入力される
基準電圧Ｅｒ２と、基準ビーム２２の強度を示す上記電
圧信号Ｅ１とを比較し、その差分に応じた出力Ｅ２を発
する。すなわちこの出力Ｅ２は、上記電圧信号Ｅ！が大
きいほど（基準ビーム２２の強度が高いほど）小ざく、
該電圧信号Ｅ１が小さいほど（基準ビーム２２の強度が
低いほど）大きいものとなる。この出力Ｅ２はマルチプ
ライヤＤ ／ Ａコンバータ（乗算型Ｄ／Ａコンバータ
）３６に入力される。このマルチプライヤＤ、／Ａコン
バータ３６には画像情報を担うデジタルの変調信号ＭＯ
Ｄが入力され、該マルチプライヤＤ ／ Ａコンバータ
３６はこの変調信号ＭＯＤに対応したアナログ電圧出力
Ｅ３を差動増幅器３７の＋側に入力する。この差動増幅
器３７は、半導体レーザ１０のケース内に組み込まれた
フォトダイオード３８および電流−電圧変換器３９とと
もに半導体レーザ１０のＡ Ｐ Ｃ回路を構成するもの
でめり、このＡＰＣ回路により上記出力Ｅ３に応じて半
導体レーザ１０の駆動電流が制御されるので、結局該半
導体レーザ１０から発せられる光ビーム１１の強度か変
調信号ＭＯＤに基づいて変調され、記録媒体１６上に画
像記録がなされる。
ここで上記マルチプライヤＤ 、／ 、Ａコンバータ３
６の出力Ｅ３は、変調信号ＭＯＤに前記差動増幅器３５
からの出力Ｅ２を乗じた値とされる。この出力Ｅ２は％
Ｑビーム２２の強度に対して前述のように対応している
から、結局面反射率が低い回転多面鏡１３の鏡面によっ
て基準ビーム２２が（すなわち光ビーム１１が）反射偏
向される際には光ビーム１１０強度か高められ、面反射
率が高い回転多面ｖ１１３の鏡面によって光ビーム１１
が反射偏向される際には光ビーム１１の強度が落とされ
ることになるヤしたがって、記録媒体１６上を走査する
光ビーム１１が、回転多面鏡１３の面反射率バラつきに
よって強度変動を生じることが防止される。なお本実施
態様装置において、マルチプライヤＤ／Ａコンバータ３
６の出力Ｅ３による半導体レーザ１０の駆動制御は、該
半導体レーザ１０が作動されている間中実行される。し
たかって、回転多面鏡１３の各鏡面毎の面反射率バラつ
きによる光ビーム１１の強度変動は勿論、１つの鏡面内
に存在する微細な面反射率バラつきによる光ビーム１１
の強度変動も防止される。
６の出力Ｅ３は、変調信号ＭＯＤに前記差動増幅器３５
からの出力Ｅ２を乗じた値とされる。この出力Ｅ２は％
Ｑビーム２２の強度に対して前述のように対応している
から、結局面反射率が低い回転多面鏡１３の鏡面によっ
て基準ビーム２２が（すなわち光ビーム１１が）反射偏
向される際には光ビーム１１０強度か高められ、面反射
率が高い回転多面ｖ１１３の鏡面によって光ビーム１１
が反射偏向される際には光ビーム１１の強度が落とされ
ることになるヤしたがって、記録媒体１６上を走査する
光ビーム１１が、回転多面鏡１３の面反射率バラつきに
よって強度変動を生じることが防止される。なお本実施
態様装置において、マルチプライヤＤ／Ａコンバータ３
６の出力Ｅ３による半導体レーザ１０の駆動制御は、該
半導体レーザ１０が作動されている間中実行される。し
たかって、回転多面鏡１３の各鏡面毎の面反射率バラつ
きによる光ビーム１１の強度変動は勿論、１つの鏡面内
に存在する微細な面反射率バラつきによる光ビーム１１
の強度変動も防止される。
次に第３図および第４図を参照して、本発明の第２実施
態様装置について説明する。なおこの第３．４図におい
て、前記第１．２図中の要素と同等の要素には同番号を
付し、それらについての説明は省略する。第３図に示さ
れるように記録媒体１６の側方にはフォトダイオード２
５が配され、有効走査領域外（有効走査前）の光ビーム
１１の強度がこのフォトダイオード２５によって検出さ
れる。第４図に示される制御回路４０においては、画像
記録がなされる前（光ビーム１１が有効走査領域から外
れているとき）アナログスイッチ４１は開放状態とされ
、アナログスイッチ４２は基準電圧発生器４３を差動増
幅器３７の＋側に接続する状態とされる。したがって半
導体レーザ１０はこの間、上記基準電圧発生器４３から
の基準電圧Ｅｒｚに対応する所定電流によって駆動され
る。回転多面鏡１３の回転により光ビーム１１はフォト
ダイオード２５に入射するようになり、このとき該光ビ
ーム１１の強度がフォトダイオード２５によって検出さ
れる。したがって電流−電圧変換回路３４からは光ビー
ム１１０強度を示す電圧信号Ｅ１か出力される。この電
圧信号Ｅ１はサンプルホールド回路４４に入力されると
ともに、コンパレータ４５に入力される。コンパレータ
４５はこの電圧信＠Ｅ１を受けるとＲＥ Ｓ Ｅ Ｔｔ
パルスを発する。このパルスの立上りにより、前記アナ
ログスイッチ４１は差動増幅器３７の一側とサンプルホ
ールド回路４４を接続する状態とされる。同時にワンシ
ョットマルチバイブレータ４６からＳＡＭＰＬＥパルス
が発生され、このＳ Ａ Ｍ Ｐ Ｌ Ｅパルスによっ
て上記サンプルホールド回路４４がサンプル状態に設定
される。この状態では、回転多面鏡１３において反射偏
向された光ビーム１１の強度を示す電圧信号Ｅ１が差動
増幅器３７の一側に入力されるので、回転多面鏡１３の
各鏡面の面反射率に係りなくフォトダイオード２５上で
（すなわち記録媒体１６上で）一定のビーム強度が得ら
れるように、半導体レーザ１０が駆動制御される。すな
わち半導体レーザ１０には回転多面鏡１３の面反射率が
低いほど大電流が供給されるようになり、回転多面鏡１
３で反射した光ビーム１１の強度は、回転多面鏡１３の
各鏡面の面反射率に係りなく一定となる。こうしてサン
プルホールド回路４４にはある値に安定した電圧信号Ｅ
１が入力されるようになり、またワンショットマルチバ
イブレータ４６において設定された所定時間が経過する
と前記Ｓ 、Ａ Ｍ Ｐ Ｌ ＥパルスがＯＦＦにされ
、サンプルホールド回路４４は上記安定した電圧信号Ｅ
１の値をホールドする。このホールドされたＥｌの値は
、マルチプライヤＤ、／Ａコンバータ３６のＲＥＦ端子
に、その最高電圧として入力されるユ 偏向された光ビーム１１がフォトダイオード２５から外
れるとコンパレータ４５の一側入力が所定値を下回るの
で、ＲＥＳＥＴｌパルスがＯＦＦにされる。ワンショッ
トマルチバイブレータ４７はこのパルスの立下りを受け
て５ＴＡＲＴパルスを発し、またフリップフロップ４８
を介してＲＥＳＥＴ２パルスをＯＦＦにする。それによ
りアナログスイッチ４１． ／１２はそれぞれ差動増幅
器３７の−、＋側に、電流−電圧変換器３９の出力、マ
ルチプライヤＤ／Ａコンバータ３６の電圧出力Ｅ３を入
力させる状態に設定される。そこで前記第１実施態様に
おけるのと同様に、マルチプライヤＤ／Ａコンバータ３
６に入力される変調信号ＭＯＤに対応した駆動Ｎ流が半
導体レーザ１０に供給され、光ビーム１１が強度変調さ
れる。この場合もマルチプライヤＤ 、／ Ａコンバー
タ３６の出力Ｅ３は、変調信号ＭＯＤに前記ホールドさ
れた値Ｅｓを乗じたものとされるので、光ビーム１１は
回転多面鏡１３の各鏡面毎の面反射率バラつきを補正し
て（つまりそれによる強度変動を防止して）変調される
ことになる。
態様装置について説明する。なおこの第３．４図におい
て、前記第１．２図中の要素と同等の要素には同番号を
付し、それらについての説明は省略する。第３図に示さ
れるように記録媒体１６の側方にはフォトダイオード２
５が配され、有効走査領域外（有効走査前）の光ビーム
１１の強度がこのフォトダイオード２５によって検出さ
れる。第４図に示される制御回路４０においては、画像
記録がなされる前（光ビーム１１が有効走査領域から外
れているとき）アナログスイッチ４１は開放状態とされ
、アナログスイッチ４２は基準電圧発生器４３を差動増
幅器３７の＋側に接続する状態とされる。したがって半
導体レーザ１０はこの間、上記基準電圧発生器４３から
の基準電圧Ｅｒｚに対応する所定電流によって駆動され
る。回転多面鏡１３の回転により光ビーム１１はフォト
ダイオード２５に入射するようになり、このとき該光ビ
ーム１１の強度がフォトダイオード２５によって検出さ
れる。したがって電流−電圧変換回路３４からは光ビー
ム１１０強度を示す電圧信号Ｅ１か出力される。この電
圧信号Ｅ１はサンプルホールド回路４４に入力されると
ともに、コンパレータ４５に入力される。コンパレータ
４５はこの電圧信＠Ｅ１を受けるとＲＥ Ｓ Ｅ Ｔｔ
パルスを発する。このパルスの立上りにより、前記アナ
ログスイッチ４１は差動増幅器３７の一側とサンプルホ
ールド回路４４を接続する状態とされる。同時にワンシ
ョットマルチバイブレータ４６からＳＡＭＰＬＥパルス
が発生され、このＳ Ａ Ｍ Ｐ Ｌ Ｅパルスによっ
て上記サンプルホールド回路４４がサンプル状態に設定
される。この状態では、回転多面鏡１３において反射偏
向された光ビーム１１の強度を示す電圧信号Ｅ１が差動
増幅器３７の一側に入力されるので、回転多面鏡１３の
各鏡面の面反射率に係りなくフォトダイオード２５上で
（すなわち記録媒体１６上で）一定のビーム強度が得ら
れるように、半導体レーザ１０が駆動制御される。すな
わち半導体レーザ１０には回転多面鏡１３の面反射率が
低いほど大電流が供給されるようになり、回転多面鏡１
３で反射した光ビーム１１の強度は、回転多面鏡１３の
各鏡面の面反射率に係りなく一定となる。こうしてサン
プルホールド回路４４にはある値に安定した電圧信号Ｅ
１が入力されるようになり、またワンショットマルチバ
イブレータ４６において設定された所定時間が経過する
と前記Ｓ 、Ａ Ｍ Ｐ Ｌ ＥパルスがＯＦＦにされ
、サンプルホールド回路４４は上記安定した電圧信号Ｅ
１の値をホールドする。このホールドされたＥｌの値は
、マルチプライヤＤ、／Ａコンバータ３６のＲＥＦ端子
に、その最高電圧として入力されるユ 偏向された光ビーム１１がフォトダイオード２５から外
れるとコンパレータ４５の一側入力が所定値を下回るの
で、ＲＥＳＥＴｌパルスがＯＦＦにされる。ワンショッ
トマルチバイブレータ４７はこのパルスの立下りを受け
て５ＴＡＲＴパルスを発し、またフリップフロップ４８
を介してＲＥＳＥＴ２パルスをＯＦＦにする。それによ
りアナログスイッチ４１． ／１２はそれぞれ差動増幅
器３７の−、＋側に、電流−電圧変換器３９の出力、マ
ルチプライヤＤ／Ａコンバータ３６の電圧出力Ｅ３を入
力させる状態に設定される。そこで前記第１実施態様に
おけるのと同様に、マルチプライヤＤ／Ａコンバータ３
６に入力される変調信号ＭＯＤに対応した駆動Ｎ流が半
導体レーザ１０に供給され、光ビーム１１が強度変調さ
れる。この場合もマルチプライヤＤ 、／ Ａコンバー
タ３６の出力Ｅ３は、変調信号ＭＯＤに前記ホールドさ
れた値Ｅｓを乗じたものとされるので、光ビーム１１は
回転多面鏡１３の各鏡面毎の面反射率バラつきを補正し
て（つまりそれによる強度変動を防止して）変調される
ことになる。
ワンショットマルチバイブレータ４７は前記ＳＴＡ Ｒ
Ｔパルスを発した後、光ビーム１１が有効走査領域を走
査し切る所定時間が経過したならば該ＳＴ Ａ ＲＴパ
ルスをＯＦＦにし、またフリップフロップ４８を介して
前記ＲＥＳＥＴ２パルスを発生させる。それにより前記
アナログスイッチ４１は次回のビーム走査に備えて開放
状態に設定され、一方アナログスイッチ４２は％準電圧
発生器４３を差動増幅器３７の＋側に接続する状態に設
定される。
Ｔパルスを発した後、光ビーム１１が有効走査領域を走
査し切る所定時間が経過したならば該ＳＴ Ａ ＲＴパ
ルスをＯＦＦにし、またフリップフロップ４８を介して
前記ＲＥＳＥＴ２パルスを発生させる。それにより前記
アナログスイッチ４１は次回のビーム走査に備えて開放
状態に設定され、一方アナログスイッチ４２は％準電圧
発生器４３を差動増幅器３７の＋側に接続する状態に設
定される。
以上の操作が操り返されることにより、回転多面鏡１３
の各鏡面毎にマルチプライヤＤ／Ａコンバータ３６に入
力される電圧信号Ｅ１の値が変更され、各鏡面の面反射
率バラつきが補正される。このように本実施態様装置に
おいては、回転多面鏡１３の各鏡面毎に面反射率バラつ
きの補正がなされるから、１つの鏡面内に存在する微細
な面反射率バラつきを補正することはできない。しかし
本実施態様装置においては、走査ビーム射出系を基準ビ
ーム射出系として兼用できるという利点がある。
の各鏡面毎にマルチプライヤＤ／Ａコンバータ３６に入
力される電圧信号Ｅ１の値が変更され、各鏡面の面反射
率バラつきが補正される。このように本実施態様装置に
おいては、回転多面鏡１３の各鏡面毎に面反射率バラつ
きの補正がなされるから、１つの鏡面内に存在する微細
な面反射率バラつきを補正することはできない。しかし
本実施態様装置においては、走査ビーム射出系を基準ビ
ーム射出系として兼用できるという利点がある。
なお以上、光走査配録装置として形成された実施態様に
ついて説明したが、本発明の光ビーム走査装置は、光走
査読取装置に適用することも勿論可能である。その場合
は、前記第２．４図の制御回路２６．４０においてそれ
ぞれマルチプライヤＤ、／Ａコンバータ３６を除けばよ
い。
ついて説明したが、本発明の光ビーム走査装置は、光走
査読取装置に適用することも勿論可能である。その場合
は、前記第２．４図の制御回路２６．４０においてそれ
ぞれマルチプライヤＤ、／Ａコンバータ３６を除けばよ
い。
（発明の効果）
以上詳ＩＩＩに説明した通り本発明の光ビーム走査装置
においては、走査ビームを反則偏向する回転多面鏡の面
反則率パラつきによる走査ビームの光量変動を確実に防
止できるので、本発明装置によれば極めて高精度の光走
査配録あるいは読取りを行なうことが可能になる。
においては、走査ビームを反則偏向する回転多面鏡の面
反則率パラつきによる走査ビームの光量変動を確実に防
止できるので、本発明装置によれば極めて高精度の光走
査配録あるいは読取りを行なうことが可能になる。
第１図は本発明の第１実施態様装置を示す概略斜税図、
第２図は上記第１実施態様装置の電気回路を示す回路図
、 第３図は本発明の第２実施態様装置を示す概略斜視図、 第４図は上記第２実施態様装置の電気回路を示す回路図
である。 １０・・・半導体レーザ １１・・・光ビーム１３・
・・回転多面鏡 １６・・・被走査体１８・・・エ
ンドレスベルト ２１・・・基準ビーム射出用半導体レーザ？？・・・基
準ビーム ２５・・・フォトダイオード２６、４０
・・・制御回路 第１図
、 第３図は本発明の第２実施態様装置を示す概略斜視図、 第４図は上記第２実施態様装置の電気回路を示す回路図
である。 １０・・・半導体レーザ １１・・・光ビーム１３・
・・回転多面鏡 １６・・・被走査体１８・・・エ
ンドレスベルト ２１・・・基準ビーム射出用半導体レーザ？？・・・基
準ビーム ２５・・・フォトダイオード２６、４０
・・・制御回路 第１図
Claims (4)
- （１）回転多面鏡によって偏向させた光ビームを被走査
面上に主走査させるとともに、被走査面を前記光ビーム
に対して相対移動させて副走査を行なうようにした光ビ
ーム走査装置において、強度一定の基準ビームを発生し
前記回転多面鏡に入射させる基準ビーム射出系と、 前記回転多面鏡によって偏向された前記基準ビームの強
度を測定する光検出器と、 この光検出器の出力を受け、該出力が示す前記基準ビー
ムの強度の大小に応じて前記光ビームの強度を減増させ
る制御手段とが設けられたことを特徴とする光ビーム走
査装置。 - （２）前記制御手段による前記光ビームの強度制御を、
連続的に測定した基準ビーム強度に基づいて、連続的に
行なうように構成されたことを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の光ビーム走査装置。 - （３）前記制御手段による前記光ビームの強度制御を、
前記回転多面鏡の各鏡面毎に測定した基準ビーム強度に
基づいて、該鏡面毎に行なうように構成されたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の光ビーム走査装置
。 - （４）前記基準ビームとして、前記被走査面の有効走査
領域から外れた前記光ビームを兼用するように構成され
たことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の光ビー
ム走査装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61021727A JPH077152B2 (ja) | 1986-02-03 | 1986-02-03 | 光ビーム走査装置 |
| US07/010,527 US4831247A (en) | 1986-02-03 | 1987-02-03 | Light beam scanning apparatus employing rotating polygon mirror |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61021727A JPH077152B2 (ja) | 1986-02-03 | 1986-02-03 | 光ビーム走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62178920A true JPS62178920A (ja) | 1987-08-06 |
| JPH077152B2 JPH077152B2 (ja) | 1995-01-30 |
Family
ID=12063105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61021727A Expired - Fee Related JPH077152B2 (ja) | 1986-02-03 | 1986-02-03 | 光ビーム走査装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4831247A (ja) |
| JP (1) | JPH077152B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0258973A (ja) * | 1988-08-24 | 1990-02-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像情報読取装置のシェーディング補正方法 |
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| JPH02275430A (ja) * | 1989-04-17 | 1990-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線画像情報読取装置 |
| JP2815183B2 (ja) * | 1989-08-01 | 1998-10-27 | 株式会社リコー | レーザビーム走査位置検知装置 |
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-
1986
- 1986-02-03 JP JP61021727A patent/JPH077152B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-02-03 US US07/010,527 patent/US4831247A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH077152B2 (ja) | 1995-01-30 |
| US4831247A (en) | 1989-05-16 |
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