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JPS62175757A - Liquid developer and developing method for photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Liquid developer and developing method for photosensitive lithographic printing plate

Info

Publication number
JPS62175757A
JPS62175757A JP1839586A JP1839586A JPS62175757A JP S62175757 A JPS62175757 A JP S62175757A JP 1839586 A JP1839586 A JP 1839586A JP 1839586 A JP1839586 A JP 1839586A JP S62175757 A JPS62175757 A JP S62175757A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
developer
lithographic printing
photosensitive lithographic
printing plate
development
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1839586A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH07113777B2 (en
Inventor
Akira Nogami
野上 彰
Masabumi Uehara
正文 上原
Minoru Kiyono
清野 実
Mieji Nakano
中野 巳恵治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP61018395A priority Critical patent/JPH07113777B2/en
Publication of JPS62175757A publication Critical patent/JPS62175757A/en
Publication of JPH07113777B2 publication Critical patent/JPH07113777B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To satisfactorily and quickly develop negative type and positive type photosensitive lithographic printing plates with one developing soln. by incorporating a cationic surface active agent in a specific range into the liquid developer. CONSTITUTION:The cationic surface active agent is incorporated at 0.001-10wt% into the liquid developer and the liquid developer is used in a 11.5-13.5pH range in the case of using the aq. alkaline liquid developer and commonly processing the negative type photosensitive lithographic printing plate and positive type photosensitive lithographic printing plate each having an image forming layer on a base. The amt. of the cationic surface active agent to be added is particularly preferably in a 0.01-1wt% range. The effect is low if the amt. of <0.001wt%. The development is suppressed and good performance is not obtainable if the content exceeds 10wt%. The more adequate common development is executed by incorporating 0.1-10wt% org. solvent having <=10wt% solubility with water at 20 deg.C into said liquid developer. The performance of the common development is further improved by adding a sulfite and/or anionic surface active agent to the liquid developer.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性平版印刷版の現像液及び現像方法に関
するものであり、特に、ネガ型感光性平版印刷版とポジ
型感光性平版印刷版を共通して、良好に現像することの
できる現像液及び現像方法に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a developer and a developing method for photosensitive lithographic printing plates, and in particular to negative-working photosensitive lithographic printing plates and positive-working photosensitive lithographic printing plates. The present invention relates to a developer and a developing method that can commonly develop a plate well.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、ネが型感光性平版印刷版とポジ型感光性平版印刷
版とでは、現像液の組成が異なり、それぞれの現像液で
のみ、好適に現像が可能であった。
Conventionally, negative-type photosensitive lithographic printing plates and positive-type photosensitive lithographic printing plates have different developer compositions, and suitable development has been possible only with the respective developers.

かりに専用現像液でない現像液を用いて現像ができたと
しても、十分な性能を有する平版印刷版は得られず、ネ
が型感光性平版印刷版とポジ型感光性平版印刷版を同一
処方の現像液で良好に共通処理することは実質的にはで
きないのが現状である。
Even if development could be performed using a developer other than a dedicated developer, a lithographic printing plate with sufficient performance could not be obtained, and a negative-type photosensitive lithographic printing plate and a positive-type photosensitive lithographic printing plate with the same formulation could not be obtained. At present, it is virtually impossible to carry out common processing using a developing solution.

特開昭60−64351号には、一台の自動現像機でネ
ガ型感光性平服印刷版とポジ型感光性平版印刷版を共に
現像処理する共通現像方法が記載されている。しかし、
この技術はそれぞれの専用現像液を並べた別の現像浴に
入れて、ネが型感光性平版印刷版用の現像とポジ型感光
性平版印刷版用の現像を連続して行なうものであり、同
一処方の現像液で現像するものではない。
JP-A No. 60-64351 describes a common developing method in which both a negative-working photosensitive plain printing plate and a positive-working photosensitive lithographic printing plate are developed using one automatic developing machine. but,
In this technology, development for negative-type photosensitive lithographic printing plates and development for positive-type photosensitive lithographic printing plates are performed sequentially by placing each developer in a separate developing bath. They are not developed with the same developer solution.

従って、それぞれの専用現像液を使用するので、液管理
が面倒であり、安定した現像を長時間行なうのが困難で
ある。
Therefore, since dedicated developing solutions are used for each, solution management is troublesome and it is difficult to perform stable development for a long time.

一方、1つの現像液で共通現像を行なう技術が特開昭6
0−130741号公報に開示されている。この現像液
は、エチレングリコールモノフェニルエーテルまたはエ
チレングリコールモノベンノルエーテルの有機溶剤、珪
酸塩、アルカリ金属水酸化物、アニオン界面活性剤及び
四ホウ酸塩からなるものである。しかし、このような現
像液で共通現像した場合、ネガ型感光性平版印刷版で印
刷時にインキ汚れが発生することがあった。また、ポジ
型感光性平版印刷版では現像結果がきわめて変動しやす
く、また画像部の一部が現像時に侵されて欠落しやすい
状態であった。この傾向は、現像時間が少し延びた場合
や、現像温度が所定の温度よりもわずかに高くなった場
合に、より顕著であり、その結果、画像の細部が欠けて
しまったり、また、印刷時の耐刷性不良の原因になるこ
とがあった。
On the other hand, a technology to perform common development using one developer was introduced in Japanese Patent Application Laid-open No. 6
It is disclosed in Japanese Patent No. 0-130741. This developer consists of an organic solvent of ethylene glycol monophenyl ether or ethylene glycol monobennorether, a silicate, an alkali metal hydroxide, an anionic surfactant, and a tetraborate. However, when common development is performed with such a developer, ink stains may occur during printing with a negative photosensitive lithographic printing plate. Furthermore, in the case of positive-working photosensitive lithographic printing plates, the development results were extremely variable, and a portion of the image area was easily eroded and chipped during development. This tendency is more pronounced when the development time is slightly extended or when the development temperature is slightly higher than the predetermined temperature, resulting in loss of detail in the image or when printing This may cause poor printing durability.

本発明者らは先に特願昭60−166250号に記載の
技術により共通現像を成し得たが、前述のようなポジ型
感光性平版印刷版の画像部の劣化しゃすい現象は充分に
は解決されてぃなかった。
The inventors of the present invention were able to achieve common development using the technique described in Japanese Patent Application No. 166250/1982, but the above-mentioned phenomenon of deterioration of the image area of a positive-working photosensitive lithographic printing plate was sufficiently prevented. was not resolved.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、ネガ型及びポジ型感光性平版印刷版を
ひとつの現像液で良好に現像することのできるすぐれた
現像液と現像方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an excellent developer and developing method that can satisfactorily develop negative-working and positive-working photosensitive lithographic printing plates with a single developer.

本発明の他の目的は、現像安定性にすぐれ、処理ラチチ
ニードの広い現像液と現像方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a developer and a developing method that have excellent development stability and a wide range of processing latitude needs.

本発明の他の目的は、印刷性能にすぐれた版が得られる
現像液と現像方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a developer and a developing method that allow a plate with excellent printing performance to be obtained.

本発明の他の目的は、ネガ型及びポジ型の感光性平版印
刷版を迅速に現像することのできるすぐれた現像液と現
像方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an excellent developing solution and developing method that can rapidly develop negative-working and positive-working photosensitive lithographic printing plates.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明者らは、鋭意検討の結果、支持体上に画像形成層
を有するネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版
印刷版を水系アルカリ性現像液を用いて共通して処理す
る場合、現像液中にカチオン型界面活性剤を0.001
〜10重量%含有させることにより、さらには、この現
像液をpllll、5〜13.5の範囲で用いることに
より上記本発明の目的を達することができた。
As a result of extensive studies, the present inventors found that when negative-working photosensitive lithographic printing plates and positive-working photosensitive lithographic printing plates having an image forming layer on a support are commonly processed using an aqueous alkaline developer, 0.001 cationic surfactant in developer
By containing the developer in an amount of ~10% by weight, and by using this developer in a pllll range of 5 to 13.5, the above object of the present invention could be achieved.

更に、上記現像液に20℃において水に対する溶解度が
10重量%以下の有機溶剤を0.1〜10重量%含有さ
せることでより好適な共通現像を行なうことができた。
Furthermore, more suitable common development could be carried out by adding 0.1 to 10% by weight of an organic solvent having a solubility in water of 10% by weight or less at 20° C. to the developer.

また、上記現像液に亜硫酸塩及び/又はアニオン界面活
性剤を添加することによっても共通現像の性能をさらに
向上することができた。
Furthermore, the performance of common development could be further improved by adding a sulfite salt and/or an anionic surfactant to the developer.

本発明における現像液は、カチオン型界面活性剤を0.
001〜10重量%の範囲の量、及びアルカリ剤を含有
し、かっpuが11.5〜13.5の範囲にある水を主
な溶媒とするアルカリ性現像液である。ここで、[水を
主たる溶媒とする」とは現像液の溶媒の少なくとも50
重量%が水であることをいう。
The developer in the present invention contains a cationic surfactant at 0.00%.
001 to 10% by weight, and an alkaline agent, and has a kpu in the range of 11.5 to 13.5. Here, "having water as the main solvent" means that at least 50% of the solvent of the developer is
% by weight is water.

本発明に用いられるカチオン型界面活性剤は種々のもの
が使用できる。カチオン型界面活性剤はアミン型と第四
アンモニウム塩型に大別されるが、これらの何れをも本
発明に用いることができる。
Various cationic surfactants can be used in the present invention. Cationic surfactants are broadly classified into amine type and quaternary ammonium salt type, and any of these can be used in the present invention.

アミン型の例としては、ポリオキシエチレンアルキルア
ミン、N−アルキルプロピレンアミン、N−フルキルポ
リエチレンポリアミン、N−アルキルポリエチレンポリ
アミンツメチル硫酸塩、アルキルビグアニド、長鎖アミ
ンオキシド、アルキルビグアニド、1−ヒドロキシエチ
ル−2−フルキルイミグゾリン、1−7セチルアミノエ
チル−2−フルキルイミグゾリン、2−フルキル−4−
メチル−4−ヒドロキシメチルオキサゾリン等がある。
Examples of amine types include polyoxyethylene alkylamine, N-alkylpropyleneamine, N-furkylpolyethylenepolyamine, N-alkylpolyethylenepolyamine trimethyl sulfate, alkyl biguanide, long chain amine oxide, alkyl biguanide, 1-hydroxy Ethyl-2-furkylimigzolin, 1-7cetylaminoethyl-2-furkylimigzolin, 2-furkyl-4-
Examples include methyl-4-hydroxymethyloxazoline.

また、第四アンモニウム塩型の例としては、氏鎖第1ア
ミン塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ノアルキ
ルノメチルエチルアンモニウム塩、アルキルノメチルア
ンモニワム塩、アルキルジメチルベンノルアンモニウム
塩、アルキルピリジニウム塩、アルキルキノリニウム塩
、アルキルイソキノリニウム塩、アルキルピリジニウム
硫酸塩、ステアラミドメチルピリジニウム塩、アシルア
ミ/エチルジエチルアミン塩、アシルアミノエチルメチ
ルノエチルアンモニウム塩、アルキルアミドプロピルジ
メチルベンジルアンモニウム塩、脂肪酸ポリエチレンポ
リアミド、アシル7ミ/エチルピリジニウム塩、アシル
コラミノホルミルメチルビリゾニウム塩、ステアロオキ
シメチルピリジニウム塩、脂肪酸トリエタ/−ルアミン
、脂肪酸トリエタ/−ルアミンギ酸塩、トリオキシエチ
レン脂肪酸トリエタノールアミン、脂肪酸ジブチルアミ
7エタノール、セチルオキシメチルピリジニウム塩、p
−インオクチル7二/キシエトキシエチルジメチルベン
ジルアンモニウム塩等がある。(上記化合物の例の中の
「アルキル」とは炭素数6〜20の、直鎖または一部置
換されたアルキルを示し、具体的には、ヘキシル、オク
チル、セチル、ステアリル等の直鎖アルキルが好ましく
用いられる。) これらの中では、特に水溶性の第四アンモニウム塩型の
カチオン型界面活性剤が有効で、その中でも、アルキル
トリメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベンノル
アンモニウム塩、エチレンオキシド付加アンモニウム塩
等が好適である。また、カチオン成分を(り返し単位と
して有する重合体も広い意味ではカチオン型界面活性剤
であり、本発明のカチオン型界面活性剤に金色される。
Examples of quaternary ammonium salts include chain primary amine salts, alkyltrimethylammonium salts, noalkylnomethylethylammonium salts, alkylnomethylammonium salts, alkyldimethylbennolammonium salts, alkylpyridinium salts, Alkylquinolinium salt, alkylisoquinolinium salt, alkylpyridinium sulfate, stearamidemethylpyridinium salt, acylamide/ethyldiethylamine salt, acylaminoethylmethylnoethylammonium salt, alkylamidopropyldimethylbenzylammonium salt, fatty acid polyethylene polyamide , acyl 7-mi/ethylpyridinium salt, acylcolaminoformylmethylbirizonium salt, stearoxymethylpyridinium salt, fatty acid triethylamine, fatty acid triethylamine formate, trioxyethylene fatty acid triethanolamine, fatty acid dibutylamine 7 ethanol, cetyloxymethylpyridinium salt, p
-Inoctyl 72/xyethoxyethyldimethylbenzyl ammonium salt and the like. ("Alkyl" in the above compound examples refers to a straight chain or partially substituted alkyl having 6 to 20 carbon atoms, and specifically, straight chain alkyl such as hexyl, octyl, cetyl, stearyl, etc.) Among these, water-soluble quaternary ammonium salt type cationic surfactants are particularly effective, and among them, alkyltrimethylammonium salts, alkyldimethylbennolammonium salts, ethylene oxide addition ammonium salts, etc. suitable. Further, a polymer having a cationic component as a repeating unit is also a cationic surfactant in a broad sense, and the cationic surfactant of the present invention has a golden color.

特に、親油性モアマーと共重合して得られた第四アンモ
ニウム塩を含む重合体は好適に用いることができる。
In particular, a polymer containing a quaternary ammonium salt obtained by copolymerizing with a lipophilic moamer can be suitably used.

上記、カチオン型界面活性剤の添加量は0.001〜1
0爪量%の範囲であり、さらには0.01〜1重量%の
範囲が特に好ましい。この添加量が0.001重量%未
満では本発明の効果が弱く、10重量%を越えると現像
が抑制され、良好な性能が得られない。また、重量乎均
分子呈は300〜50,000の範囲であり、特に好ま
しくは500〜5,000の範囲である。これらのカチ
オン型界面活性剤は単独で使用するほか、2種以上を併
用しても良い。
The amount of the above cationic surfactant added is 0.001 to 1
The range is 0% by weight, more preferably 0.01% to 1% by weight. If the amount added is less than 0.001% by weight, the effect of the present invention will be weak, and if it exceeds 10% by weight, development will be suppressed and good performance will not be obtained. Further, the weight average molecular weight is in the range of 300 to 50,000, particularly preferably in the range of 500 to 5,000. These cationic surfactants may be used alone or in combination of two or more.

本発明に係る現像液は、ネガ型感光性平版印刷版とポジ
型感光性平版印刷版の現像バランスをそろえたり、現像
を更に迅速に行うため、さらに、現像性等において相互
に差異が大−きいより広範囲の品種の感光性平版印刷版
を共通の現像液で処理することを可能にするために下記
の添加剤を含有することが好ましい。
The developer according to the present invention is used to align the development balance between a negative-working photosensitive lithographic printing plate and a positive-working photosensitive lithographic printing plate, and to perform the development more quickly. In order to make it possible to process a wider variety of photosensitive lithographic printing plates with a common developer, it is preferable to contain the following additives.

先ず、好ましい添加剤として20℃における水に対する
溶解度が10重量%以下の有機溶剤が挙げられる。この
添加剤を含有させることにより、上記の効果を高めるこ
とができる。
First, preferred additives include organic solvents having a solubility in water of 10% by weight or less at 20°C. By including this additive, the above effects can be enhanced.

本発明に用いる20℃における水に対する溶解度が10
重量%以下の有機溶剤としては、例えば酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンノル、
エチレングリフールモノブチルアセテート、乳酸ブチル
、レブリン酸ブチルのようなカルボン酸エステル;エチ
ルブチルケトンツブチルケトン、シクロヘキサノンのよ
うなケトン類;エチレングリフールモ/ブチルエーテル
チレングリフールベンジルエーテル、エチレングリコ−
ホモ/フェニルエーテル、ベンジルアルコール、メチル
フェニルカルビ/−ル、n−7ミルアルコール、メチル
アミルアルコールのようなアルコール類;キシレンのよ
うなアルキル置換芳香族炭化水素;メチレンツクロライ
ド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼンのよう
なハロゲン化炭化水素などがある。これら有機溶媒は一
種以上用いてもよい。これらの有機溶媒の中では、エチ
レンクリコーホモ/フェニルエーテル、エチレングリコ
ールベンジルエーテル及びベンジルアルコールが特に好
ましい。
The solubility in water at 20°C used in the present invention is 10
Examples of organic solvents with a weight percent or less include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benyl acetate,
Carboxylic acid esters such as ethylene glyfur monobutyl acetate, butyl lactate, butyl levulinate; Ketones such as ethyl butyl ketone butyl ketone, cyclohexanone; ethylene glycol mo/butyl ether thylene glycol benzyl ether, ethylene glycol
Alcohols such as homo/phenyl ether, benzyl alcohol, methylphenylcarbyl, n-7 methyl alcohol, methyl amyl alcohol; alkyl-substituted aromatic hydrocarbons such as xylene; methylene chloride, ethylene dichloride, monochlorobenzene There are halogenated hydrocarbons such as One or more of these organic solvents may be used. Among these organic solvents, ethylene crico homo/phenyl ether, ethylene glycol benzyl ether and benzyl alcohol are particularly preferred.

該有機溶剤は、ネガ型とポジ型の両板に対して現像性を
向上するためのすぐれた添加剤であるが、同時にポジ型
感光性平版印刷版に対しては画像部の皮膜を劣化させま
た画像を軟調化させるる欠点をも有している。ポジ型感
光性平版印刷版は露光時にネガ型感光性平版印刷版のよ
うな架橋反応を起こさないため、もともと現像が過度に
なった場合の劣化が大きく、有機溶剤の存在下ではさら
に劣化の程度が大きくなる。本発明者らは、鋭.f.検
討の結果、上記のごとき、ボン型感光性平版印刷版の現
像時の劣化を防ぎ、かつネガ型感光性平版印刷版を良好
に現像するために、現像液中にカチオン型界面活性剤を
o.ooi〜10重量%の範囲で含有せしめることを見
い出した。
This organic solvent is an excellent additive for improving the developability of both negative and positive plates, but at the same time it degrades the film in the image area of positive photosensitive planographic printing plates. It also has the disadvantage of softening the image. Because positive-working photosensitive lithographic printing plates do not undergo a crosslinking reaction during exposure like negative-working photosensitive lithographic printing plates, they are subject to significant deterioration when development is excessive, and the degree of deterioration is even greater in the presence of organic solvents. becomes larger. The inventors of the present invention f. As a result of the study, we found that in order to prevent deterioration during development of bond-type photosensitive lithographic printing plates and to improve development of negative-type photosensitive lithographic printing plates, a cationic surfactant was added to the developer solution. .. It has been found that the content can be in the range of ooi to 10% by weight.

特に、カチオン型界面活性剤は、水に対する溶解度力1
0重量%以下の有機溶剤の存在下で、ポジ型感光性平版
印刷版の皮膜劣化と画像の軟調化を防ぐ働きが顕者であ
り、またネガ型感光性平版印刷版への悪影響がほとんど
なく両板を共通して現像する場合にすぐれた効果を示す
In particular, cationic surfactants have a solubility power of 1 in water.
In the presence of 0% by weight or less of an organic solvent, it is effective in preventing film deterioration and image softening of positive-working photosensitive lithographic printing plates, and has almost no adverse effect on negative-working photosensitive lithographic printing plates. Shows excellent effects when both plates are developed in common.

本発明に係る現像液のpllは11.5から13.5の
範囲であるが、このような高いpHでネガ型感光性平版
印刷版を現像した場合、ある品種の版では現像されてい
ながら印刷時に汚れを生じることがある。
The pll of the developer according to the present invention is in the range of 11.5 to 13.5, but when a negative photosensitive lithographic printing plate is developed at such a high pH, some types of plates may not print even after being developed. Sometimes stains may occur.

その汚れの程度はp1目二依存性がありpiが高いほど
汚れやすい.このような高pH(pH11.5以上)で
ネガ型感光性平版印刷版を良好に現像し、印刷時の汚れ
をなくすためには、亜硫酸塩が非常に効果的であり、ま
た、アニオン界面活性剤はネガ型感光性平版印刷版の現
像促進に大きな効果を示す。
The degree of contamination is p1 dependent, and the higher the pi, the more likely it is to be contaminated. In order to develop negative photosensitive lithographic printing plates well at such high pH (pH 11.5 or higher) and to eliminate stains during printing, sulfites are very effective, and anionic surfactants are also used. The agent is highly effective in accelerating the development of negative-working photosensitive lithographic printing plates.

亜硫酸塩は、水溶液で水不溶性ジアゾ樹脂を溶解する働
きを有し、特に疎水性樹脂と組合せた感光層から成不平
版印刷版の現像に於いて、製造後長時間経時した版材で
も汚れのない印刷板を作ることができる。また、特にネ
ガ型感光性平版印刷版を高piで現像した場合の現像性
を改良する。亜硫酸塩としては、ナトリウム、カリウム
、リチウムの如きアルカリ金属およびマグネシウムの如
きアルカリ土類金属塩あるいはアンモニウム塩等が有用
である。
Sulfites have the function of dissolving water-insoluble diazo resins in aqueous solutions, and are particularly effective in developing non-lithographic printing plates from photosensitive layers combined with hydrophobic resins, preventing stains even on plate materials that have been manufactured for a long time. You can make a printing board without any printing board. It also improves the developability especially when a negative photosensitive lithographic printing plate is developed at high pi. As the sulfite, alkali metal salts such as sodium, potassium, lithium, alkaline earth metal salts such as magnesium, or ammonium salts are useful.

亜硫酸の濃度は0.1〜10重量%、特に0.2〜5重
量%の範囲が好ましい。
The concentration of sulfite is preferably in the range of 0.1 to 10% by weight, particularly 0.2 to 5% by weight.

アニオン型界面活性剤としては、高級アルコール(C.
〜02□)硫酸エステル塩類〔例えば、ラウリルアルコ
ールサルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコール
サルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサル
フェートのアンモニウム塩、[ティーボールB−81J
(商品名・シェル化学製)、第二ナトリウムフルキルサ
ルフェートなど〕、脂肪族アルコールリン酸エステル塩
類(例えば、セチルアルコールリン酸エステルのナトリ
ウム塩など)、アルキルアリールスルホン酸塩!(例え
ば、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、インプ
ロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、シナ7タ
リンジスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベンゼン
スルホン酸のナトリウム塩など)、アルキルアミドのス
ルホン酸塩類 (例えば、C+ tH*zcONcHzcllzsOJ
aなど)、二塩基性CH。
Examples of anionic surfactants include higher alcohols (C.I.
~02□) Sulfuric ester salts [e.g., sodium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, [T-Ball B-81J
(Product name: Shell Chemical), Sodium Furkyl Sulfate, etc.], Aliphatic alcohol phosphate ester salts (e.g., sodium salt of cetyl alcohol phosphate ester, etc.), Alkylaryl sulfonates! (e.g., sodium dodecylbenzenesulfonic acid, sodium salt of inpropylnaphthalenesulfonic acid, sodium salt of cina7talin disulfonic acid, sodium salt of metanitrobenzenesulfonic acid, etc.), sulfonic acid salts of alkylamides (e.g., C+ tH* zcONcHzcllzsOJ
a), dibasic CH.

脂肪酸エステルのスルホン酸塩類(例えば、ナトリウム
スルホフハク酸りオクチルエステル、ナトリウムスルホ
フハク酸ジヘキシルエステルなど)がある。これらの中
で特にアルキルナフタレンスルホン酸塩類が好適に用い
られる。
There are sulfonic acid salts of fatty acid esters (eg, sodium sulfosuccinate octyl ester, sodium sulfosuccinate dihexyl ester, etc.). Among these, alkylnaphthalene sulfonates are particularly preferably used.

アニオン界面活性剤の濃度は0.2〜10重量%、特に
1〜5重量の範囲が好ましい。
The concentration of anionic surfactant is preferably in the range of 0.2 to 10% by weight, particularly 1 to 5% by weight.

本発明の現像液に用いるアルカリ剤としては、珪酸ナト
リウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチ
ウム、第三リン酸ナトリウム、第ニリン酸ナトリウム、
第三リン酸カリウム、第ニリン酸カリウム、第三リン酸
アンモニウム、第ニリン酸7モニウム、メタ珪酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸アンモニウムなどのような無機アルカリ剤、モ
ノ−、シーまたはトリエタノールアミンおよび水酸化テ
トラアルキルアンモニアのような有機アルカリ剤および
有191t酸アンモニウム等が有用である。これらの中
で、珪酸塩アルカリが現像安定良く、最も好ましい。ア
ルカリ剤の現像液組成物中における含有量は0.05〜
20重量%の範囲で用いるのが好適であり、より好まし
くは0.1〜10重量%である。
Examples of alkaline agents used in the developer of the present invention include sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate,
Inorganic alkaline agents, such as tribasic potassium phosphate, dibasic potassium phosphate, tribasic ammonium phosphate, heptadmonium diphosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, etc. Organic alkaline agents such as triethanolamine and tetraalkylammonium hydroxide and ammonium 191t acids are useful. Among these, alkali silicate is most preferable because it has good development stability. The content of the alkaline agent in the developer composition is 0.05~
It is suitable to use it in a range of 20% by weight, more preferably from 0.1 to 10% by weight.

本発明の最も好ましい態様は、現像液が前記非イオン型
界面活性剤及びpHに関する条件を満たした上で、更に
アルカリ剤としてケイ酸塩、20℃における水に対する
溶解度が10重量%以下の有機溶剤、亜硫酸塩、及びア
ニオン界面活性剤を含有する態様である。この態様によ
って、現像性がより広範に異なる多品種の感光性平版印
刷版を一つの現像液でより良好にかつより迅速に現像す
ことができる。
The most preferred embodiment of the present invention is that the developer satisfies the conditions regarding the nonionic surfactant and pH, and further includes a silicate as an alkaline agent and an organic solvent having a solubility in water of 10% by weight or less at 20°C. , a sulfite, and an anionic surfactant. With this embodiment, a wide variety of photosensitive lithographic printing plates having widely different developability can be developed better and more quickly with one developer.

本発明に係る現像液には更に現像性能を高めるために以
下のような添加剤を加えることができる。
The following additives can be added to the developer according to the present invention in order to further improve development performance.

例えば、vf開昭58−75152号記載のNaC(!
、KCZ、KBr等の中性塩、特開昭58−19095
2号記載のEDT^、NT八等のキレート削、特開昭5
9−121336号記載の(Co(Nl(3)s )C
1,等の錯体、特開昭50−51324号記載のフルキ
ルナフタレンスルホン酸ナトリウム、N−テトラデシル
−N r N−ジヒドロキシエチルベタイン等のアニオ
ンまたは両性界面活性剤、特開昭56−142528号
記載のビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライ
ドとアクリル酸テトリワムの共重合体等の両性高分子電
解質、特開昭57−192952号記載の還元性無機塩
、特開昭58−59444号記載の塩化リチウム等の無
fi +7チウム化合物、特公昭50−34442号記
載の安息香酸リチウム等の有機リチウム化合物、特開昭
59−75255号記載のSi、Ti等を含む有機金I
fG界面活性剤、特開昭59−84241号記載の有機
硼素化合物等が挙げられる。
For example, NaC (!
, KCZ, KBr and other neutral salts, JP-A-58-19095
EDT^ described in No. 2, chelate cutting of NT 8, etc., JP-A-1989-5
(Co(Nl(3)s)C described in No. 9-121336
1, etc., sodium flukylnaphthalene sulfonate described in JP-A-50-51324, anionic or amphoteric surfactants such as N-tetradecyl-N r N-dihydroxyethylbetaine, and JP-A-56-142528. ampholytic polymer electrolytes such as a copolymer of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and tetrawham acrylate, reducing inorganic salts described in JP-A-57-192952, non-fi such as lithium chloride described in JP-A-58-59444; +7 tium compounds, organic lithium compounds such as lithium benzoate described in Japanese Patent Publication No. 50-34442, organic gold I containing Si, Ti, etc. described in Japanese Patent Publication No. 59-75255
Examples include fG surfactants and organic boron compounds described in JP-A-59-84241.

本発明に係る感光性平版印刷版の画像形成層は必須成分
として感光性物質を含んでおり、感光性物質として露光
またはその後の現像処理により、その物理的、化学的性
質が変化するもので、例えば露光により現像液に対する
溶解性に差が生じるもの、露光の前後で分子間の接着力
に差が生じるもの、露光またはその後の現像処理により
水および油に対する親和性に差が生じるもの、更に電子
写真方式により画像部を形成できるもの、また特開昭5
5−166645号に記載されている多層構成のもの等
が使用できる。
The image forming layer of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention contains a photosensitive substance as an essential component, and the physical and chemical properties of the photosensitive substance change upon exposure or subsequent development treatment. For example, there is a difference in solubility in a developer due to exposure, a difference in intermolecular adhesion between before and after exposure, a difference in affinity for water and oil due to exposure or subsequent development, and A device that can form an image area using a photographic method, and
A multilayer structure described in Japanese Patent No. 5-166645 can be used.

感光性物質の代表的なものとしては、例えば感光性ジア
ゾ化合物、感光性アット化合物、エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物、酸触媒で重合を起こすエポキシ化
合物、酸で分解するC−0−C−基、あるいはシリルエ
ーテルやシリルエステルを有する化合物等が挙げられる
。露光によりアルカリ可溶性に変化する代表的なボン型
のものとして0−キノンノアシト化合物や酸分解性のニ
ーチル化合物、エステル化合物が挙げられる。露光によ
り溶解性が減少するネガ型のものとして芳香族ジアゾニ
ウム塩等が挙げられる。
Typical photosensitive substances include, for example, photosensitive diazo compounds, photosensitive at compounds, compounds with ethylenically unsaturated double bonds, epoxy compounds that polymerize with acid catalysts, and C-0- that decomposes with acids. Examples include compounds having a C-group, silyl ethers, and silyl esters. Typical Bon-type compounds that become alkali-soluble upon exposure to light include 0-quinonenoacite compounds, acid-decomposable nityl compounds, and ester compounds. Aromatic diazonium salts are examples of negative-type compounds whose solubility decreases upon exposure to light.

0−キノンノアシト化合物の具体例としては、例えば特
開昭47−5303号、同48−63802号、同48
−63803号、同49−38701号、同56−10
44号、同56−1045号、特公昭41−11222
号、同43−28403号、同45−9610号、同4
9−17481号、米国特許2,797,213号、同
3,046,120号、同3,188,210号、同3
,454,400号、同3,544.323号、同3.
573,917号、同3,674,495号、同3,7
85.825号、英国特許1,227.602号、同1
,251,345号、同1,267.005号、同1,
329.888号、同1,330,932号、ドイツ特
許854゜890号、特開昭60−37549号、同8
0−10247号、同60−3625号などに記載され
ているものを挙げることができ、これらの化合物を単独
あるいは組合せて感光成分として用いた感光性平版印刷
版に対して少なくとも本発明を好ましく適用するこがで
きる。
Specific examples of 0-quinonenoasite compounds include, for example, Japanese Patent Application Publication Nos. 47-5303, 48-63802, and 48
-63803, 49-38701, 56-10
No. 44, No. 56-1045, Special Publication No. 41-11222
No. 43-28403, No. 45-9610, No. 4
No. 9-17481, U.S. Pat. No. 2,797,213, U.S. Pat. No. 3,046,120, U.S. Pat.
, No. 454,400, No. 3,544.323, No. 3.
No. 573,917, No. 3,674,495, No. 3,7
No. 85.825, British Patent No. 1,227.602, No. 1
, No. 251,345, No. 1,267.005, No. 1,
329.888, German Patent No. 1,330,932, German Patent No. 854゜890, Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-37549, German Patent No. 854.
0-10247, No. 60-3625, etc., and the present invention is preferably applied at least to photosensitive lithographic printing plates using these compounds alone or in combination as photosensitive components. I can do it.

これらの感光成分には芳香族ヒドロキシ化合物の0−キ
ノンジアジドスルホン酸エステルまたは。
These photosensitive components include 0-quinonediazide sulfonic acid esters of aromatic hydroxy compounds or.

−キ/ンジアノドカルボン酸エステルおよび芳香族アミ
ノ化合物の0−キノンジアジドスルホン酸または0−キ
ノンノアノドカルボン酸アミドが包含され、また、これ
ら0−キノンジアット化合物を単独で使用したもの、お
よびアルカリ可溶性樹脂と混合し、この混合物を感光層
として設けたものが包含される。
- Includes quinonediazide sulfonic acid or 0-quinonediazidecarboxylic acid amide of aromatic amino compounds, as well as those using these 0-quinonediat compounds alone, and alkali-soluble resins. This includes those in which the mixture is mixed with the photosensitive layer and this mixture is provided as a photosensitive layer.

アルカリ可溶性樹脂には、/ボラック型7ヱ/−ル樹脂
が含まれ、具体的にはフェノールホルムアルデヒド樹脂
、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、7エ/−ルクレゾ
ール混合ホルムアルデヒドI(111t 、クレゾール
キシレノール混合ホルムアルデヒド樹脂などが含まれる
。更に特開昭50−125806号に記載されているよ
うに、上記のような7エ7−ル0)脂に共に、L−ブチ
ルフェノールホルムアルデヒド0(脂のような炭素数3
〜8のアルキル基で置換された7エ7−ルまたはクレゾ
ールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用したものも
適用できる。0−キノンジアット化合物を感光成分とす
る感光層には、必要に応じて更に染料、可塑剤、プリン
トアウト性能を与え、る成分などの添加剤を加えること
ができる。
Alkali-soluble resins include /borac type 7ヱ/-l resins, and specifically, phenol formaldehyde resin, cresol formaldehyde resin, 7ケ/-l cresol mixed formaldehyde I (111t), cresol xylenol mixed formaldehyde resin, etc. Furthermore, as described in JP-A-50-125806, L-butylphenol formaldehyde (such as a fat with a carbon number of 3
A combination of 7er7-yl substituted with an alkyl group of -8 or a condensate of cresol and formaldehyde can also be used. If necessary, additives such as dyes, plasticizers, and components imparting printout performance can be added to the photosensitive layer containing the 0-quinonediat compound as a photosensitive component.

0−キノンジアット化合物を感光成分とする感光層の単
位面積当りの量は好ましくは約0.5〜72/&2の範
囲について本発明を適用できる。
The present invention is applicable to the amount per unit area of the photosensitive layer containing the 0-quinonediat compound as a photosensitive component, preferably in the range of about 0.5 to 72/&2.

本発明の方法を適用するポジ型感光性平版印刷版の画像
露光は特に変える必要はなく常法に従えばよい。
The image exposure of the positive photosensitive lithographic printing plate to which the method of the present invention is applied does not need to be particularly changed and may be carried out in accordance with a conventional method.

ネガ型感光層の感光成分の代表的ならのはジアゾ化合物
であり、例えばジアゾニウム塩および/またはp−ジア
ゾフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物である
ジアゾ樹脂、特公昭52−7364号に記載されている
p−ジアゾフェニルアミンのフェノール塩またはフルオ
ロカプリン酸塩等、特公昭49−48001号に記載さ
れている3−メトキシジフェニルアミン−4−ノアゾニ
ウムクロライドと4−ニトロジフェニルアミンとホルム
アルデヒドとの共重縮合物の有機溶媒可溶性塩からなる
ジアゾat Wfl 、p−ジアゾフェニルアミンとホ
ルムアルデヒドとの縮合物の2−メトキシ−4−ヒドロ
キシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩、p−ジア
ゾフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物のテト
ラブルオロホウ酸塩、ヘキサフルオロリン酸塩等が挙げ
られる。これらを感光成分とするネガ型感光性平版印刷
版に対して少なくとも本発明を好ましく適用できる。
A typical photosensitive component of the negative photosensitive layer is a diazo compound, such as a diazo resin which is a condensate of diazonium salt and/or p-diazophenylamine and formaldehyde, as described in Japanese Patent Publication No. 7364/1983. Copolycondensation of 3-methoxydiphenylamine-4-noazonium chloride, 4-nitrodiphenylamine, and formaldehyde, which are described in Japanese Patent Publication No. 49-48001, such as phenol salt or fluorocaprate of p-diazophenylamine. 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzene sulfonate of a condensate of p-diazophenylamine and formaldehyde, condensation of p-diazophenylamine and formaldehyde Examples include tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, and the like. The present invention can be preferably applied at least to negative photosensitive planographic printing plates containing these as photosensitive components.

これらのジアゾ化合物を単独で使用したもののほかに感
光層の物性を向上させるため、種々の樹脂と混合して用
いたものに対しても本発明を適用できる。かかる樹脂と
しては、シェラツク、ポリビニルアルコールの誘導体の
ほか特開昭50−118802号中に記載されているS
頻にアルコール性水酸基を有する共重合体、特開昭55
−155355号に記載されているフェノール性水酸基
を側鎖に持つ共重合体が挙げられる。
In addition to those in which these diazo compounds are used alone, the present invention can also be applied to those in which they are used in combination with various resins in order to improve the physical properties of the photosensitive layer. Such resins include shellac, polyvinyl alcohol derivatives, and S described in JP-A-50-118802.
Copolymers frequently containing alcoholic hydroxyl groups, JP-A-1983-1987
A copolymer having a phenolic hydroxyl group in a side chain as described in No. 155355 may be mentioned.

これらの4II III]には下記一般式で示される構
造単位を少なくとも50重量%含む共重合体、一般式 
     R1 ÷CH2−C+ COO(CH2CHO) n H し (式中、R6は水素原子またはメチル基を示し、R2は
水素原子、メチル基、エチル基またはクロルメチル基を
示し、nは1〜10の整数である。)および芳香族性水
酸基を有する単量体単位を1〜80モル%、ならびにア
クリル酸エステルおよび/またはメタクリル酸エステル
単量体単位を5〜90モル%有し、10〜200の酸価
を持つ高分子化合物が包含される。
These 4II III] include copolymers containing at least 50% by weight of structural units represented by the following general formula,
R1 ÷ CH2-C+ COO(CH2CHO) n H (wherein, R6 represents a hydrogen atom or a methyl group, R2 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a chloromethyl group, and n is an integer from 1 to 10. ) and 1 to 80 mol% of monomer units having an aromatic hydroxyl group, and 5 to 90 mol% of acrylic ester and/or methacrylic ester monomer units, and an acid value of 10 to 200. Includes polymer compounds with

本発明の現像液及び現像方法が適用されるネガ型感光性
平版印刷版の感光層には、更に染料、可塑剤、プリント
アウト性能を与える成分等の添加剤を加えることができ
るゆ 上記感光層の単位面積当りの量は少なくとも0.1〜7
1F/31”の@囲について本発明を適用できる6前記
の感光性平版印刷版に使用される支持体としては、紙、
プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレンなど)ラミネート紙、アルミニウム(アル
ミニウム合金も含む)、亜鉛、銅などのような金属の板
、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸
セルロース、ポリエチレンテレ7タレート、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタールなどのようなプラスチックのフィルム、上記の
如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプ
ラスチックフィルム、アルミニウムもしくはクロームメ
ッキが施された鋼板などが挙げられ、これらのうち特に
アルミニウムおよびアルミニウム被覆された複合支持体
が好ましい。
The photosensitive layer of the negative photosensitive lithographic printing plate to which the developer and developing method of the present invention are applied may further contain additives such as dyes, plasticizers, and components that provide printout performance. The amount per unit area of is at least 0.1 to 7
The present invention can be applied to a frame of 1F/31'' 6. Supports used in the photosensitive lithographic printing plate include paper,
Plastics (e.g. polyethylene, polypropylene,
(polystyrene, etc.) laminated paper, plates of metals such as aluminum (including aluminum alloys), zinc, copper, etc., cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, polyethylene teretalate, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal Examples include plastic films such as, paper or plastic films laminated or vapor-deposited with metals such as those mentioned above, steel plates plated with aluminum or chrome, and among these, aluminum and aluminum-coated composite supports are particularly suitable. is preferred.

また、アルミニウム材の表面は、保水性を高め感光層と
密着性を向上させる目的で粗面化処理されていることが
望ましい。
Further, the surface of the aluminum material is preferably roughened for the purpose of increasing water retention and improving adhesion to the photosensitive layer.

粗面化方法としては、一般に公知のブラシ研磨法、ボー
ル研磨法、電解エツチング、化学的エツチング、液体ホ
ーニング、サンドブラスト等の方法およびこれらの組合
せが挙げられ、好ましくはブラシ研磨法、電解エツチン
グ、化学的エツチングおよび液体ホーニングが挙げられ
、これらのうちで特に電解エツチングの使用を含む粗面
化方法が好ましい。また、電解エツチングの際に用いら
れる電解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を
含む水溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ
、これらのうちで特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含
む電M8Iが好ましい。さらに粗面化処理の施されたア
ルミニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶
液にてデスマット処理される。
Examples of surface roughening methods include generally known methods such as brush polishing, ball polishing, electrolytic etching, chemical etching, liquid honing, and sandblasting, and combinations thereof. Preferably, brush polishing, electrolytic etching, and chemical Target etching and liquid honing are mentioned, among which roughening methods involving the use of electrolytic etching are particularly preferred. The electrolytic bath used in electrolytic etching is an aqueous solution containing an acid, an alkali, or a salt thereof, or an aqueous solution containing an organic solvent. M8I is preferred. Further, the roughened aluminum plate is desmutted with an acid or alkali aqueous solution, if necessary.

こうして得られたアルミニウム板は陽極酸化処理される
ことが望ましく、特に好ましくは、硫酸またはリン酸を
含む浴で処理する方法が挙げられる。
It is desirable that the aluminum plate thus obtained be anodized, and particularly preferably, a method of treatment in a bath containing sulfuric acid or phosphoric acid can be mentioned.

また、さらに必要に応じて封孔処理、その他律化ジルコ
ニウム酸カリウム水溶液への浸漬などによる表面処理を
行うことができる。
Furthermore, if necessary, a sealing treatment and other surface treatments such as immersion in a regulated potassium zirconate aqueous solution can be performed.

また、本発明に係る現像液を用いる現像処理方法は現像
処理工程の他に必要ならば現像処理工程後、現像停止処
理工程(停止処理液は使い捨て方式や循環使用の方式を
含む)、不感脂化処理工程の各々個々の処理工程、現像
停止処理工程とそれに引継ぐ不感脂化処理工程、現像処
理工程と不感脂化処理と組合せた処理工程、或いは現像
停止処理工程と不感脂化処理工程とを組合せた例えば特
開昭54−8001号公報の処理工程等を含んでいても
よい。
In addition, the development method using the developer according to the present invention includes, in addition to the development process, if necessary, after the development process, a development stop process (the stop process solution includes a disposable method or a recycle method), an insensitive resin. Each individual treatment step of the chemical treatment step, a development stop treatment step followed by a desensitization treatment step, a treatment step that combines a development treatment step and a desensitization treatment, or a development stop treatment step and a desensitization treatment step. For example, a combination of the processing steps disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-8001 may be included.

なお、本発明におけるネガ型とポジ型の感光性平版印刷
版を同じ現像液で共通に現像する場合、現像液組成以外
の条件(例えば現像温度、現像時間等)はネガ型とポジ
型とで変える等任意である。
In addition, when developing the negative type and positive type photosensitive lithographic printing plates in the present invention with the same developer, conditions other than the developer composition (e.g., development temperature, development time, etc.) are different between the negative type and positive type. Changing it is optional.

〔実施例〕〔Example〕

以下、具体的実施例により本発明を更に詳細に説明する
が、本発明はこれらにより限定されるも ′のではない
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to specific examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1〜7、 比較例1〜2 厚さ0.24zzのアルミニウム板を20%リン酸す)
リウム水溶液に浸漬して脱脂し、これを0.2N塩酸浴
中で3^/ 、w 2の電流密度で電解研磨したのち、
硫酸浴中で陽極酸化した。このとき陽極酸化量は4g/
x2であった。更にメタ珪酸ナトリウム水溶液で封孔処
理し、平版印刷版に用いるアルミニウム板を作成した。
Examples 1-7, Comparative Examples 1-2 20% phosphoric acid on an aluminum plate with a thickness of 0.24zz)
After degreasing by immersing in a lithium aqueous solution and electrolytically polishing it in a 0.2N hydrochloric acid bath at a current density of 3^/, w2,
Anodized in a sulfuric acid bath. At this time, the amount of anodization was 4g/
It was x2. Further, the aluminum plate was sealed with an aqueous sodium metasilicate solution to prepare an aluminum plate for use in a lithographic printing plate.

次に、このアルミニウム根上に次の感光液晶を塗布して
、ネガ型感光性平版印刷版を、感光液Bを塗布してポジ
型感光性平版印刷版を得た。塗布は回転塗布機により行
い、100℃で4分間乾燥した。
Next, the following photosensitive liquid crystal was coated on this aluminum base to obtain a negative photosensitive lithographic printing plate, and photosensitive liquid B was coated to obtain a positive photosensitive lithographic printing plate. Coating was performed using a spin coater and dried at 100° C. for 4 minutes.

塗布膜厚重量はどちらの版も2.5g/x2であった。The coating film thickness weight was 2.5 g/x2 for both plates.

(感光液晶) ・N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド:
7クリロニトリル:エチルアクリルレート:メタクリル
酸=27:33:41:6 (重量比)の共重合体く酸
価80)   ・・・・・・5.0g・p−ノ7ゾノフ
ェニルアミンのパラホルムアルデヒド縮合物のヘキサフ
ルオロリン酸塩                  
 ・・・・・・0.sy・ジュリマーAC−1OL(商
品名、日本純薬(株)製、 アクリル酸ポリマー) ・・・・・・0.05g ・酒石酸          ・・・・・・0.05゜
・ビクトリアピュアプル−BOH (商品名、採土ケ谷化学工業(株)製、染料)・・・・
・・0.1g ・ノボラック樹脂(pp−:3121)(郡栄化学(株
)製)   ・・・・・・0.15g・ブルロニックし
−64 (商品名、旭電化(株)製、界面活性剤)・・・・・・
0,005g ・メチルセロソルブ     ・・・・・・100z1
(感光液B) ・す7トキノンー(1,2)−ノアノド−(2)−5−
X /l、 ホン酸クロライドとレゾルシン−ベンズア
ルデヒド樹脂との綜合物 ・・・・・・3.5g ・…−クレゾールーホルムアルデヒド/ボラック樹脂“
M P −707”(郡栄化学工業(株)製)・・・・
・・9g ・す7トキノンー(1,2)−ノアシト−(2)−4−
スルホン酸クロライド ・・・・・・0.159・ビク
トリアピュアブルーBOH (商品名、保止ケ谷化学工業(株)製、染料)・・・・
・・0.2g ・メチルセロソルブ    ・・・・・・100gこの
ようにして得られた版を濃度差0.15のステップウェ
ッジを通して2Kwメタルハライドランプを用いて露光
した。その後、表−1の現像液を用い、自動現像機にて
25℃で現像時間を変化させて現像処理したところ表−
2の結果を得た。
(Photosensitive liquid crystal) ・N-(4-hydroxyphenyl) methacrylamide:
Copolymer of 7 Acrylonitrile: Ethyl acrylate: Methacrylic acid = 27:33:41:6 (weight ratio) Acid value: 80) 5.0 g/P-7 Zono phenylamine para Hexafluorophosphate of formaldehyde condensate
...0. sy Julimar AC-1OL (trade name, manufactured by Nippon Pure Chemical Industries, Ltd., acrylic acid polymer) ・・・0.05g ・Tartaric acid ・・・0.05° ・Victoria Purepur-BOH ( Product name, manufactured by Odugaya Chemical Industry Co., Ltd., dye)...
...0.1g - Novolac resin (pp-:3121) (manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd.) ...0.15g - Bluronic Shi-64 (product name, manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., surface active agent)...
0,005g ・Methyl cellosolve ・・・・・・100z1
(Photosensitive liquid B) ・S7toquinone-(1,2)-noanod-(2)-5-
X/l, fused product of phonic acid chloride and resorcinol-benzaldehyde resin...3.5g ・...-cresol-formaldehyde/borac resin"
M P-707” (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd.)...
・・9g ・Su7toquinone-(1,2)-noacyto-(2)-4-
Sulfonic acid chloride・・・0.159・Victoria Pure Blue BOH (Product name, manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd., dye)・・・・
0.2 g Methyl cellosolve 100 g The plate thus obtained was exposed to light using a 2 Kw metal halide lamp through a step wedge with a density difference of 0.15. Thereafter, using the developing solution shown in Table 1, development was carried out in an automatic processor at 25°C for various developing times.
2 results were obtained.

なお、現像液のpl+は添加剤を加えた後、使用面iI
町に10%N a OIIあるいはlN−11CNで調
整した。
In addition, the pl+ of the developer is determined by the use surface iI after adding the additive.
The solution was adjusted with 10% NaOII or 1N-11CN.

22−2および後記表−3において、N版はネガ型感光
性平版印刷版を、P版はポジ型感光性平版印刷版を表し
、また階調性は現像インキ5PO−1(小西六写真工業
(株)製)をのせて評価した結果である。
22-2 and Table 3 below, the N plate represents a negative photosensitive lithographic printing plate, the P plate represents a positive photosensitive lithographic printing plate, and the gradation properties are developed using developing ink 5PO-1 (Konishiroku Photo Industry Co., Ltd.). These are the results of an evaluation using a product manufactured by Co., Ltd.

−・、 以′:F奈白 表−2かられかるように、実施例1〜7の現像液は、比
較例1及び2の現像液に比べて、現像ラチチュードが広
く、ポジ型平版印刷版の階調性が硬113N(ペタ一段
数とクリア一段数の差が小さい。)で、すぐれた現像性
能を示した。また実施例1〜7の現像液の中でもアミン
型のカチオン型界面活性剤を使用したものよりも、第四
アンモニウム塩型のカチオン型界面活性剤を使用したも
のはよりすぐれた現像ラチチュードと階調性を示した。
As can be seen from Table 2, the developers of Examples 1 to 7 have a wider development latitude than the developers of Comparative Examples 1 and 2, and are effective for positive planographic printing plates. The gradation property was 113N hard (the difference between the number of one step of peta and the number of one step of clear was small), and it showed excellent developing performance. Furthermore, among the developing solutions of Examples 1 to 7, those using a quaternary ammonium salt type cationic surfactant have better development latitude and gradation than those using an amine type cationic surfactant. showed his sexuality.

実施例8 窒素気流下にエチレングリコールモノメチルエーテル3
00重i部を100℃に加熱し、この中へ2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート150重量部、アクリロニトリ
ル90重量部、メチルメタクリレ−) 79.5重量部
、メタクリル酸10.5重量部及び過酸化ベンゾイル1
.2重量部の混合液を2時間かけて滴下した。
Example 8 Ethylene glycol monomethyl ether 3 under nitrogen flow
150 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, 90 parts by weight of acrylonitrile, 79.5 parts by weight of methyl methacrylate, 10.5 parts by weight of methacrylic acid, and benzoyl peroxide. 1
.. 2 parts by weight of the mixed solution was added dropwise over 2 hours.

滴下終了15分後にエチレングリコールモアメチルエー
テル300重量部と過酸化ベンゾイル0.3重量部を加
えて、そのまま4時間反応させた。反応終了後メタノー
ルで希釈して水中に投じて共重合体を沈澱させ、70℃
で真空乾燥させた。
15 minutes after the completion of the dropwise addition, 300 parts by weight of ethylene glycol more methyl ether and 0.3 parts by weight of benzoyl peroxide were added, and the mixture was allowed to react for 4 hours. After the reaction was completed, the copolymer was diluted with methanol and poured into water to precipitate it at 70°C.
It was dried in vacuum.

この2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体(1
)の酸価は21であった。
This 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (1
) had an acid value of 21.

厚さ0.1511の23アルミニウム板を80’Cに保
たれた第3りん酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸
漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立て後、60”C
のアルミン酸ナトリウム3%水溶液でデスマットした。
A 23 aluminum plate with a thickness of 0.1511 was degreased by immersing it in a 10% aqueous solution of tertiary sodium phosphate maintained at 80'C for 3 minutes, then grained with a nylon brush, and then heated to 60'C.
It was desmutted with a 3% aqueous solution of sodium aluminate.

このアルミニウム板を20%硫酸中で2^/dz2の電
流密度で2分間陽極酸化し、その後70’Cの珪酸ナト
リウムの25%水溶液で1分間処理した。
The aluminum plate was anodized in 20% sulfuric acid at a current density of 2^/dz2 for 2 minutes and then treated with a 25% aqueous solution of sodium silicate at 70'C for 1 minute.

このアルミニウム板にっぎの感光液を塗布し、100℃
で2分間乾燥してネが型感光性平版印刷版を得た。
This aluminum plate was coated with Niggi's photosensitive liquid and heated to 100°C.
The mixture was dried for 2 minutes to obtain a negative-type photosensitive lithographic printing plate.

・2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体(1)
          ・・・・・・87重量部・p−ノ
アゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドの縮合物
の2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベン
ゼンスルホン酸塩         ・・・・・・10
重量部・オイルブルー#603 (オリエント化学工業株式会社製、トリフェニルメタン
系油溶性染料) ・・・・・・3重量部 ・2−メトキシエタノール ・・・・・・600重量部
・メタノール      ・・・・・・600m fi
 1トエチレンシクロライド  ・・・・・・6001
i ft 部乾燥塗布重量は2.陣/、2であった。こ
の感光性平版印刷版にステップウニフンと網点の入った
ネガ原画を密着させ30アンペアのカーボンアーク灯で
70cmの距離から40秒間画像露光した。
・2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (1)
...87 parts by weight 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate of condensate of p-noazodiphenylamine and paraformaldehyde ...10
Parts by weight: Oil Blue #603 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd., triphenylmethane oil-soluble dye) 3 parts by weight 2-methoxyethanol 600 parts by weight Methanol ...600m fi
1-ethylene cyclolide 6001
i ft part dry coating weight is 2. It was jin/, 2. A negative original image containing a step film and halftone dots was brought into close contact with this photosensitive lithographic printing plate, and image exposure was carried out for 40 seconds from a distance of 70 cm using a 30 ampere carbon arc lamp.

一方ボノ型感光性平版印刷版として米国特許第3.63
5,709号明細書の実施例1に記載されているアセト
ンとピロガロールの縮重合によって得られるポリヒドロ
キシフェニルのす7トキノンー1.2−ノアノド−5−
スルホン酸エステル1重量部と7ボラツク型クレゾ一ル
ホルムアルデヒド樹脂2重量部、オイルプル#603の
0.03重量部を20重量部の酢酸−2−メトキシエチ
ルと20重量部のメチルエチルケトンに溶解して作製し
た感光液を、砂目立て後陽極酸化されたアルミニウム板
に塗布し80℃で2分間乾燥させ乾燥塗布重量2.5y
/z2の感光性平版印刷版を得た。この感光性平版印刷
版にステ、プウエッジと網点の入った透明ポジ原画を密
着させ30アンペアのカーボンアーク灯で70cmの距
離から60秒間画像露光した。
On the other hand, as a Bono-type photosensitive lithographic printing plate, U.S. Patent No. 3.63
Polyhydroxyphenyl 7-toquinone-1,2-noanodo-5- obtained by condensation polymerization of acetone and pyrogallol as described in Example 1 of No. 5,709
Produced by dissolving 1 part by weight of sulfonic acid ester, 2 parts by weight of 7-borac type cresol formaldehyde resin, and 0.03 parts by weight of Oil Pull #603 in 20 parts by weight of 2-methoxyethyl acetate and 20 parts by weight of methyl ethyl ketone. The photosensitive solution was applied to a grained and anodized aluminum plate and dried at 80°C for 2 minutes to give a dry coating weight of 2.5y.
A photosensitive lithographic printing plate of /z2 was obtained. A transparent positive original image containing a step, wedge and halftone dots was brought into close contact with this photosensitive lithographic printing plate and imagewise exposed for 60 seconds from a distance of 70 cm using a 30 ampere carbon arc lamp.

上記のごとく、露光したネガ型及びボン型感光性平版印
刷版を下記現像液〔^〕を用い、自動現像fiPsP−
860(小西六写真工業(株)製)にて現像処理を行な
った。結果を表−3に示す。
As mentioned above, the exposed negative type and Bong type photosensitive lithographic printing plates were automatically developed using the following developer [^].
860 (manufactured by Konishiroku Photo Industry Co., Ltd.) was used for development. The results are shown in Table-3.

現像条件は25℃と30℃でそれぞれ30秒と27℃で
20秒と40秒の4点で行なった。なお、現像液のpl
+は使用時にN a OIIで12.60にg9した。
Development was performed at four points: 25°C and 30°C for 30 seconds, and 27°C for 20 seconds and 40 seconds, respectively. In addition, the pl of the developer
+ was adjusted to 12.60 g9 with NaOII at the time of use.

現像液〔^、〕 ・ケイ酸ナトリツム        250g(日本工
業規格ケイ酸ソー73号) ・水酸化ナトリウム        30g・エチレン
グリフールモノフェニルエーテル00g ・ペレックスNB−L (化工アトラス(株)社製アニオン界面活性剤)1.7
14y ・亜硫酸ナトリウム        200g・サニゾ
ールC(化工アトラス(株)社製カチオン型界面活性剤
、ドテシルベンノルシメチルアンモニウムクロライド) oy ・ツルフィツト(3−メチル−メトキシブタ7−ル) 200゜ ・水            1o1 なお、比較の現像液として上記現像液〔^〕からカチオ
ン型界面活性剤「サニゾールCJを除いた現像液[8)
を調製した。現像液(11)も使用時にpuを12.5
0に調整した。
Developer [^,] - Sodium silicate 250g (Japanese Industrial Standards Silicate So No. 73) - Sodium hydroxide 30g - Ethyleneglyfur monophenyl ether 00g - Perex NB-L (Anionic surfactant manufactured by Kako Atlas Co., Ltd.) agent) 1.7
14y ・Sodium sulfite 200g ・Sanisol C (cationic surfactant manufactured by Kako Atlas Co., Ltd., dotecylbenyl methyl ammonium chloride) oy ・Tulfite (3-methyl-methoxybutal 7-ol) 200° ・Water 1:1 As a comparative developer, a developer [8] obtained by removing the cationic surfactant "Sanisol CJ" from the above developer [^]
was prepared. The developer (11) also has a pu of 12.5 when used.
Adjusted to 0.

以下余・白゛ 表−3から明らかなように、本発明の現像液〔^〕は、
25”C30秒ないし27°C20秒が現像遠点であり
、この現像条件より時間、温度の増加で多少現像過度に
なた場合でも、現像結果に大きな変化はなく、150線
/インキの網点は良好に再現され、現像ラチチュードの
広いすぐれた現像液である。一方、現像液〔Δ〕からカ
チオン型界面活性剤を除いた比較の現像液CB)は、同
様に25℃30秒と27℃20秒が現像遠点であるが、
現像遠点であってもポジ型平版印刷版の画像は軟調(ク
リア一段数とベタ段数の差が大きい。)で好ましくない
ものであった。さらに、現像液の温度が少し高くなった
り、現像時間がのびて現像が過度になった場合に性能劣
化が太き(、画像は軟調化傾向がさらに大きくなり、網
点画像の中の3%や5%の小点が細くなったり、消失し
たりして、充分な性能を得ることができなかった。
As is clear from Table 3 below, the developer of the present invention [^]
The far point of development is between 30 seconds at 25"C and 20 seconds at 27°C, and even if the development becomes slightly excessive due to an increase in time and temperature from this development condition, there is no major change in the development result, and the halftone dot of 150 lines/ink is an excellent developer with good reproducibility and a wide development latitude.On the other hand, a comparative developer CB) obtained by removing the cationic surfactant from the developer [Δ] was similarly developed at 25°C for 30 seconds and at 27°C. 20 seconds is the far point of development,
Even at the far point of development, the image of the positive planographic printing plate was unfavorable due to its soft tone (the difference between the number of clear and solid steps was large). Furthermore, when the temperature of the developer becomes a little high or the development time becomes too long and the development becomes excessive, the performance deterioration increases (the image tends to become softer, and 3% of the halftone image The small dots of 5% and 5% became thinner or disappeared, making it impossible to obtain sufficient performance.

また、ネガ型平版印刷版についても、わずかではあるが
、本発明の現像液〔^〕は比較の現像液[8]よりも現
像ラチチュードにおいてすぐれていた。
In addition, for negative planographic printing plates, the developer of the present invention [^] was superior to the comparative developer [8] in development latitude, albeit slightly.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明により、ネガ型感光性平版印刷版とポジ型感光性
平版印刷版を一つの現像液で現像する場合(例えば、自
動現像機を用いて同じ現像液でネが型とボン型の感光性
平版印刷版を無差別に現像する場合)の現像性、印刷性
能及び現像速度が改良される。
According to the present invention, when a negative-working photosensitive lithographic printing plate and a positive-working photosensitive lithographic printing plate are developed with one developer (for example, when developing a negative-working photosensitive lithographic printing plate and a positive-working photosensitive lithographic printing plate with the same developer, When lithographic printing plates are developed indiscriminately), the developability, printing performance and development speed are improved.

なお、通常、迅速現像には、現像液を濃くしたり、処理
温度を高くしで行なうか、あるいは有機溶剤のような現
像促進効果のある添加剤を加える方法があるが、どの方
法をとっても現像ラチチュードが狭く、安定した良好な
lI像を得るのが従来は困難であった。しかし、本発明
では従来の約2倍の速さの現像を行なっても安定して良
好な画像を得ることができる。
Normally, rapid development can be achieved by making the developer thicker, increasing the processing temperature, or adding additives such as organic solvents that have a development accelerating effect, but no matter which method is used, the development Conventionally, it has been difficult to obtain a stable and good II image due to the narrow latitude. However, in the present invention, even if development is performed at about twice the speed of the conventional method, stable and good images can be obtained.

なお、20℃における水に対する溶解度が10重量%以
下の有機溶剤を現像液に用いると、通常ポジ型感光性平
版印刷版の現像において画像部が侵されることがしばし
ばあり、わずかな現像過多においても画像が欠落したり
皮膜かうすくなったりすることが起こるが、本発明によ
れば、前記のようなカチオン型界面活性剤の添加により
、上記の有機溶剤の存在下でも良好に共通現像すること
が可能になる。
Note that if an organic solvent with a solubility in water of 10% by weight or less at 20°C is used in the developer, the image area will often be attacked during the development of a normal positive-working photosensitive lithographic printing plate, and even a slight amount of overdevelopment will cause damage to the image area. However, according to the present invention, by adding the above-mentioned cationic surfactant, good common development can be achieved even in the presence of the above-mentioned organic solvents. It becomes possible.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)支持体上に画像形成層を有するネガ型感光性平版
印刷版及びポジ型感光性平版印刷版を水系アルカリ性現
像液を用い、共通して処理する方法において、該現像液
がカチオン型界面活性剤を0.001〜10重量%の範
囲で含有し、pHが11.5〜13.5の範囲であるこ
とを特徴とする感光性平版印刷版の現像液。
(1) In a method in which a negative photosensitive lithographic printing plate having an image forming layer on a support and a positive photosensitive lithographic printing plate having an image forming layer on a support are commonly processed using an aqueous alkaline developer, the developer is A developer for a photosensitive lithographic printing plate, which contains an activator in a range of 0.001 to 10% by weight and has a pH in a range of 11.5 to 13.5.
(2)20℃における水に対する溶解度が10重量%以
下の有機溶剤を0.1〜10重量%含むことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の現像液。
(2) The developer according to claim 1, which contains 0.1 to 10% by weight of an organic solvent having a solubility in water of 10% by weight or less at 20°C.
(3)亜硫酸塩を含むことを特徴とする特許請求の範囲
第1項又は第2項記載の現像液。
(3) The developer according to claim 1 or 2, which contains a sulfite.
(4)アニオン界面活性剤を含むことを特徴とする特許
請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の現像液。
(4) The developer according to claim 1, 2, or 3, which contains an anionic surfactant.
(5)カチオン型界面活性剤が水溶性の第四アンモニウ
ム塩型構造を有する界面活性剤であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項、第2項、第3項又は第4項記載
の現像液。
(5) Claim 1, 2, 3, or 4, characterized in that the cationic surfactant is a surfactant having a water-soluble quaternary ammonium salt structure. developer solution.
(6)支持体上に画像形成層を有するネガ型感光性平版
印刷版及びポジ型感光性平版印刷版を水系アルカリ性現
像液を用い、共通して処理する方法において、該現像液
がカチオン型界面活性剤を0.001〜10重量%含有
し、pHが11.5〜13.5の範囲であることを特徴
とする感光性平版印刷版の現像方法。
(6) In a method in which a negative photosensitive lithographic printing plate having an image forming layer on a support and a positive photosensitive lithographic printing plate having an image forming layer on a support are commonly processed using an aqueous alkaline developer, the developer is A method for developing a photosensitive lithographic printing plate, comprising 0.001 to 10% by weight of an activator and a pH in the range of 11.5 to 13.5.
(7)上記現像液が20℃における水に対する溶解度が
10重量%以下の有機溶剤を0.1〜10重量%含むこ
とを特徴とする特許請求の範囲第6項記載の現像方法。
(7) The developing method according to claim 6, wherein the developer contains 0.1 to 10% by weight of an organic solvent having a solubility in water of 10% by weight or less at 20°C.
(8)上記現像液が亜硫酸塩を含むことを特徴とする特
許請求の範囲第6項又は第7項記載の現像方法。
(8) The developing method according to claim 6 or 7, wherein the developer contains a sulfite.
(9)上記現像液がアニオン界面活性剤を含むことを特
徴とする特許請求の範囲第6項、第7項又は第8項記載
の現像方法。
(9) The developing method according to claim 6, 7, or 8, wherein the developer contains an anionic surfactant.
(10)上記カチオン界面活性剤が水溶性の第四アンモ
ニウム塩型構造を有する界面活性剤であることを特長と
する特許請求の範囲第6項、第7項、第8項又は第9項
記載の現像方法。
(10) Claims 6, 7, 8, or 9, characterized in that the cationic surfactant is a water-soluble surfactant having a quaternary ammonium salt structure. development method.
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