[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JPS6162739A - クリ−ントンネル - Google Patents

クリ−ントンネル

Info

Publication number
JPS6162739A
JPS6162739A JP59182734A JP18273484A JPS6162739A JP S6162739 A JPS6162739 A JP S6162739A JP 59182734 A JP59182734 A JP 59182734A JP 18273484 A JP18273484 A JP 18273484A JP S6162739 A JPS6162739 A JP S6162739A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tunnel
section
clean
separators
transport
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59182734A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirokuni Tanaka
田中 博國
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanki Engineering Co Ltd
Original Assignee
Sanki Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanki Engineering Co Ltd filed Critical Sanki Engineering Co Ltd
Priority to JP59182734A priority Critical patent/JPS6162739A/ja
Priority to US06/771,225 priority patent/US4649830A/en
Publication of JPS6162739A publication Critical patent/JPS6162739A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B61RAILWAYS
    • B61BRAILWAY SYSTEMS; EQUIPMENT THEREFOR NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B61B13/00Other railway systems
    • B61B13/10Tunnel systems
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B61RAILWAYS
    • B61CLOCOMOTIVES; MOTOR RAILCARS
    • B61C13/00Locomotives or motor railcars characterised by their application to special systems or purposes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706Mechanical details, e.g. roller, belt
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67724Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations by means of a cart or a vehicule
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/14Wafer cassette transporting

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Transportation (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Ventilation (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野J この発明は、クリーントンネル搬送装置におけるクリー
ントンネルの構造に関する。
「従来の技術」 一般に、半導体ウエノ・−などの高い清浄度を要求され
る搬送物を輸送するには、クリーンルーム内のみを運行
するように、蓋付き収納ケースを有する自走台車を用い
た軽量コンテナ搬送装置が設けられていたが、第5図に
示すように、離れた場所に位置するクリーンルーム8間
を輸送したり、或いは第6図に見られるようなエンバイ
ロメンタルチャンバーEやライン型りリーンベンチL、
簡易型クリーンブースBなどにそれぞれ連結されて、ク
リーンルーム以外の通常の室内、又は室外を運行させる
ために、装置内全体を清浄空気で充満したクリーントン
ネル搬送装置が、提案されており、この従来のクリーン
トンネル搬送装置としては、例えば第3図及び第4図に
示すようなものがある。
その構成を述べると、1は、クリーントンネルで、横断
面方形の筒状に形成した本体2において、上部に全幅全
長にわたり給気区画2kVC続き下方にHBPAフィル
タ3が設置されており、一方、底板2b中央に長手方向
に敷設した走行レール4の間に、公知の信号用給電レー
ル及び動力供給用給電レール(共に図示省略)が設けで
ある。そして、前記給気区画2kには、一方の側壁2S
に適当な間隔をもって複数個の給気孔5が穿設ブれ、ま
た、該給気孔5に対応した底@2bのめ所に排気孔6が
設けである。なお、7は、搬送用自走台車、8の走行状
況などを外部から視認できるように両側壁2Sの中央部
に取り付けられた透明な合成樹脂板である。
搬送用の自走台、屯8は、第4図に示すように、前記給
電レールからの電力により走行レール今に沿って車輪8
Wを転動して自走する走行駆動部8rと、前記信号レー
ルからの信号により所定位置に停止し、又は発進する機
能を具備した機器部8にと、iBfを有する搬送物収納
ケース8Cとが、一体的に重合して構成されたものであ
る。
セして、図外の送風機から給気孔5に送られた空気は、
空気区画2kからHEPAフィルタ3を通って濾過きれ
、清浄空気の層流となって、はぼ0、5 rn / s
の気迷で下方へ吹き出し、クリーントンネル1の搬送用
トンネル部2tの中を清浄空気で充慴させるが、図示省
略の排風機により、排気孔6を介して吸出式れ、外部へ
排出される。
[発明が解決しようとする問題点J しかしながら、単に搬送物を輸送するだけでなく、加工
ステージに配達し、該ステージにおいて搬送物を自動的
に取り出して加工し、また、次のステージへ発送するよ
うにロボット技術を駆使する自動加工装置に対する搬送
用自走台車としては、これらの動作に備えて搬送物収納
ケースを蓋のないものとする必要がある。この場合、前
記のような従来のクリーントンネル搬送装置にあってに
、自走台車の速力が大きいと、その後方に渦流が発生し
、車輪や走行レールから生ずる微細な粉塵を巻き上げて
トンネル内の清浄度を低下し、ひいては搬送物を汚染す
ることとなるので、渦流を発生しないように、例えば7
.5(至)/S程度に速力を抑制しなければならず、し
たがって輸送効率が極めて低くなるため、前記自動加工
装置には適用しがたいという問題点がある。
[問題点を解決するための手段」 この発明は、叙上の問題点に着目してなされたもので、
自走台車を走行駆動部の中央に立設した支柱筒に、機器
部支び搬送物蓋なし収納ケースを載設した構成とし、前
記支承筒に対応するりIJ −ントンネルの位置に、該
支柱筒の通行する通路を兼ねた中央空気路と一対の側方
空気路とを形成するように七パレータを配設してクリー
ントンネル内を搬送物用トンネルと走行駆動部用トンネ
ルとに分離することにより、蓋なし収納ケースを有する
自走台車の使用を可能にして、この問題点を解決したも
のである。
「作用」 叙上の構成としたため、HgPAフィルタから吹き下り
た・清浄空気層流は、中央空気路および側方空気路にお
いて流路を絞られるため、搬送物用トンネル内の清浄空
気圧に、走行駆動部用トンネル内よりも高い圧力となる
ため、自走台車の走行駆動部後方に渦流が発生しても走
行に基づく摩擦部分からの粉塵は、搬送物用トンネル部
へ侵入することはないので、峻トンネル部の清浄度は高
いまま維持され、蓋なしでも搬送物は汚染されることは
なく、したがって、自走台車の速力も渦流の発生を考慮
せずに所望の高さに選定することができる。
「実施例」 以下、この発明の一実施例を第1図及び第2図に基づい
て説明する。なお、従来例と同一の対応部分は同一の符
号を用い、その説明は省略する。
まず、構成を述べる。
このクリーントンネル搬送装置は、この実施例のクリー
ントンネルII及び搬送用自走台車18並びに図外の送
風手段とから主要構成されている。
クリーントンネル11鉱、第1図及び第2図に示すより
に、角筒状に形成した本体12において、上部に給気区
画12kに続き下方にHEPAフィルタ3を設置し、底
板12b中夫に走行レール4及び図示省略の給電レール
、信号用給電レールが敷設しである。なお、給気区画1
2kには、一方の側壁+25に適当な間隔をおいて複数
個の給気孔5が設けられておシ、また、同じ側壁12s
の下°部には該給気孔5に対応した位置で、後述の走行
駆動部用トンネル部22rから排気する排気孔16が設
けられている。
そして、後述の搬送用の自走台車18の支柱筒18sを
通行させる中央空気路19cと、一対の側方空気路19
sとを形成するように、一対の中部セパレータ20c及
び側部セパレータ20sからなるセパレータ20が、前
記本体12の両側壁12s内面に、互いに対向し、かつ
適当な間隔をもって付設てれた複数組の支持板21に載
設され、搬送用トンネル部22を、搬送物用トンネル部
22hと走行駆動部用トンネル部22rとに区分してい
る。
また、搬送用自走台車18は、走行駆動部18rの中央
に立設した支柱筒18sに機器部18k及び搬送物蓋な
し収納ケース18cを載設して構成したものである。
次に、作用を述べる。
半導体ウェハーなどの搬送物Wは、裸のまま搬送物蓋な
し収納ケース18cに搭載されてクリーントンネル11
内を通り、自動加工装置の各ステージ(図示せず)に順
送りされるわけであるが、。
この際、予め送風手段によシ給気孔5及び給気区画12
kを経てHEPAフィルタ3に至り、濾過式れた清浄空
気は、層流となって搬送物用トンネル部22hにほぼQ
、5m/Sの気運をもって吹き込まれるがζセパレータ
20により大部分の進路を阻まれているため空気圧は上
昇する。しかし、中央空気路19c及び側方空気路19
sからこの清浄空気はほぼ4 nl / Sの気運で走
行駆動部用トンネル部22rへ吹き出し、次いで排気孔
16から外部へ排出される。すなわち、走行駆動部用ト
ンネル部22「の空気圧は、搬送物用トンネル部22i
よシも常に低く、シかも仕切られたセパレータ20の間
の前記空気路19c、19sからは絶えず清浄空気が吹
き込んで来るので、走行駆動部用トンネル部22rの空
気が搬送物用トンネル部22i1に侵入することはあシ
得ない。したがって、自走台車18の走行に伴う粉塵や
渦流の発生があっても搬送物用トンネル部22h内の清
浄度は、全熱影響を受けることがなく高く維持されるた
め、自走台車18は、速度を制限されず、所望の、例え
ばほぼ60 cm/ sの速力をもって走行し、しかも
搬送物Wを蓋なしの裸のままで自動加工装置へ配送する
ことができる。
「発明の効果」 以上説明してきたように、この発明は、走行駆動部に立
設した支柱筒に機器部及び搬送物蓋なし収納ケースを載
設して構成した自走台車を走行させるクリーントンネル
搬送装置において、クリーントンネルの搬送用トンネル
部を、前記支柱筒の通る中央空気路と一対の側方空気路
とを形成するセパレータにより搬送物用トンネル部と走
行駆動部用トンネル部とに区分した構成としたため、該
走行駆動部用トンネル部内で発生する粉塵が搬送物用ト
ンネル部内へ侵入することがないので、蓋なし収納ケー
スにより搬送物を裸のまま輸送することが可能となった
ばかりか、自走台車の速力も所望のものに選定できるた
め、ロボット技術を駆使する自動加工装置への適用が効
率よ〈実施し得るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
8F!1図は、この発明の一実施例の横断面図、第2図
は、同じく一部の斜視図、第3図は、従来のクリーント
ンネルの横断面図、第4図は、同じく搬送用自走台車の
側面図、第5図及び第6図は、クリーントンネルの配設
状態を示す説明斜視図である。 11・・・・・・・・・クリーントンネル18・・・・
・・・・・自走台車 18s・・・・・・支柱筒 18「・・・・・・走行駆動部 18k・・・・・・機器部 18c・・・・・・搬送物蓋なし収納ケース19c・・
・・・・中央空気路 19s・・・・・・側方空気路 20・・・・・・・・・セパレータ 22・・・・・・・・・搬送用トンネル部22h・・・
・・・搬送物用トンネル部22r・・・・・・走行駆動
部用トンネル部第1図 υ 第20

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 走行駆動部に立設した支柱筒に機器部及び搬送物蓋なし
    収納ケースを載設して構成した自走台車を走行させるク
    リーントンネル搬送装置において、搬送用トンネル部を
    、前記支柱筒の通る中央空気路と側方空気路とを形成し
    たセパレータにより、搬送物用トンネル部と走行駆動部
    用トンネル部とに区分する構成としたことを特徴とする
    クリーントンネル。
JP59182734A 1984-09-03 1984-09-03 クリ−ントンネル Pending JPS6162739A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59182734A JPS6162739A (ja) 1984-09-03 1984-09-03 クリ−ントンネル
US06/771,225 US4649830A (en) 1984-09-03 1985-08-30 Clean tunnel conveying structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59182734A JPS6162739A (ja) 1984-09-03 1984-09-03 クリ−ントンネル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6162739A true JPS6162739A (ja) 1986-03-31

Family

ID=16123501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59182734A Pending JPS6162739A (ja) 1984-09-03 1984-09-03 クリ−ントンネル

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4649830A (ja)
JP (1) JPS6162739A (ja)

Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2580262B1 (fr) * 1985-04-12 1987-05-22 Efcis Installation de manutention d'objets fragiles en atmosphere a empoussierement controle
CA1282729C (en) * 1986-01-27 1991-04-09 Toshiyuki Takeuchi Conveyor system utilizing linear motor
US4826360A (en) * 1986-03-10 1989-05-02 Shimizu Construction Co., Ltd. Transfer system in a clean room
US4699555A (en) * 1986-05-08 1987-10-13 Micrion Limited Partnership Module positioning apparatus
DE3637880C2 (de) * 1986-11-06 1994-09-01 Meissner & Wurst Transportierbares Behältnis zur Handhabung von Halbleiterelementen während ihrer Herstellung sowie Verfahren zur partikelfreien Übergabe von Produkten
FR2620049B2 (fr) * 1986-11-28 1989-11-24 Commissariat Energie Atomique Procede de traitement, stockage et/ou transfert d'un objet dans une atmosphere de haute proprete, et conteneur pour la mise en oeuvre de ce procede
US4981436A (en) * 1988-08-08 1991-01-01 Tel Sagami Limited Vertical type heat-treatment apparatus
US5059079A (en) * 1989-05-16 1991-10-22 Proconics International, Inc. Particle-free storage for articles
US5254170A (en) * 1989-08-07 1993-10-19 Asm Vt, Inc. Enhanced vertical thermal reactor system
US5245405A (en) * 1990-05-11 1993-09-14 Boc Health Care, Inc. Constant pressure gas cell
US5135304A (en) * 1990-05-11 1992-08-04 Boc Health Care, Inc. Gas analysis system having buffer gas inputs to protect associated optical elements
US5153671A (en) * 1990-05-11 1992-10-06 Boc Health Care, Inc. Gas analysis system having buffer gas inputs to protect associated optical elements
IT1254106B (it) * 1991-11-13 1995-09-07 Prosit Di Poletto Luigi E C Impianto per la distribuzione di prodotti da una unita' centrale a piu' unita' periferiche
US5454328A (en) * 1992-11-13 1995-10-03 Daifuku Co., Ltd. Cleanroom transport system
DE4309092C2 (de) * 1993-03-22 1998-11-12 Joachim Dr Scheerer Verfahren und Vorrichtung zur Handhabung und zum Transport von Wafern in Reinst-Räumen
US5451133A (en) * 1993-03-31 1995-09-19 Eastman Kodak Company Docking apparatus
US5413450A (en) * 1993-03-31 1995-05-09 Eastman Kodak Company Apparatus for transporting a load
KR100221983B1 (ko) * 1993-04-13 1999-09-15 히가시 데쓰로 처리장치
US5344365A (en) * 1993-09-14 1994-09-06 Sematech, Inc. Integrated building and conveying structure for manufacturing under ultraclean conditions
JPH11111809A (ja) * 1997-10-07 1999-04-23 Innotech Corp 搬送装置
US6215897B1 (en) 1998-05-20 2001-04-10 Applied Komatsu Technology, Inc. Automated substrate processing system
US6517303B1 (en) 1998-05-20 2003-02-11 Applied Komatsu Technology, Inc. Substrate transfer shuttle
US6213704B1 (en) * 1998-05-20 2001-04-10 Applied Komatsu Technology, Inc. Method and apparatus for substrate transfer and processing
US6206176B1 (en) 1998-05-20 2001-03-27 Applied Komatsu Technology, Inc. Substrate transfer shuttle having a magnetic drive
US6145444A (en) * 1998-12-16 2000-11-14 Wilkinson; Kerry E. Micro clean sealed tubular transporter apparatus
WO2000051921A1 (en) * 1999-03-05 2000-09-08 Pri Automation, Inc. Material handling and transport system and process
JP2000294615A (ja) * 1999-04-09 2000-10-20 Miyagi Oki Electric Co Ltd 搬送システムおよび搬送方法
US6354781B1 (en) * 1999-11-01 2002-03-12 Chartered Semiconductor Manufacturing Company Semiconductor manufacturing system
US6298685B1 (en) 1999-11-03 2001-10-09 Applied Materials, Inc. Consecutive deposition system
JP3998386B2 (ja) * 2000-01-26 2007-10-24 三菱電機株式会社 液晶表示装置の製造装置および液晶表示装置の製造方法
US6582178B2 (en) 2000-08-14 2003-06-24 Daniel G. Petruccelli Mini-modual manufacturing environmental
CN1996553A (zh) * 2001-08-31 2007-07-11 阿赛斯特技术公司 用于半导体材料处理系统的一体化机架
US7959395B2 (en) 2002-07-22 2011-06-14 Brooks Automation, Inc. Substrate processing apparatus
US7988398B2 (en) 2002-07-22 2011-08-02 Brooks Automation, Inc. Linear substrate transport apparatus
US7513822B2 (en) * 2005-06-18 2009-04-07 Flitsch Frederick A Method and apparatus for a cleanspace fabricator
US9159592B2 (en) 2005-06-18 2015-10-13 Futrfab, Inc. Method and apparatus for an automated tool handling system for a multilevel cleanspace fabricator
US10651063B2 (en) 2005-06-18 2020-05-12 Frederick A. Flitsch Methods of prototyping and manufacturing with cleanspace fabricators
US11024527B2 (en) 2005-06-18 2021-06-01 Frederick A. Flitsch Methods and apparatus for novel fabricators with Cleanspace
US9339900B2 (en) * 2005-08-18 2016-05-17 Futrfab, Inc. Apparatus to support a cleanspace fabricator
US10627809B2 (en) 2005-06-18 2020-04-21 Frederick A. Flitsch Multilevel fabricators
US9457442B2 (en) * 2005-06-18 2016-10-04 Futrfab, Inc. Method and apparatus to support process tool modules in a cleanspace fabricator
US8229585B2 (en) 2005-09-18 2012-07-24 Flitsch Frederick A Methods and apparatus for vertically orienting substrate processing tools in a clean space
US9059227B2 (en) 2005-06-18 2015-06-16 Futrfab, Inc. Methods and apparatus for vertically orienting substrate processing tools in a clean space
WO2007025199A2 (en) * 2005-08-26 2007-03-01 Flitsch Frederick A Multi-level cleanspace fabricator elevator system
US8602706B2 (en) * 2009-08-17 2013-12-10 Brooks Automation, Inc. Substrate processing apparatus
CN109435973B (zh) * 2018-12-18 2023-08-22 黄朝一 一种无源风力悬浮列车系统

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US886627A (en) * 1907-03-27 1908-05-05 Henry O Neebe Amusement device.
US4133255A (en) * 1977-03-21 1979-01-09 Guice John J Paint spray booth and method of painting an article therein
US4338958A (en) * 1980-07-10 1982-07-13 Junji Fujita Spray booth assembly for washing or chemically treating objects of desired kind
US4540326A (en) * 1982-09-17 1985-09-10 Nacom Industries, Inc. Semiconductor wafer transport system

Also Published As

Publication number Publication date
US4649830A (en) 1987-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6162739A (ja) クリ−ントンネル
JP4688000B2 (ja) 物品収納設備
JPH0756879B2 (ja) 半導体の無塵化製造装置
JP4378659B2 (ja) 物品保管庫及びクリーンルーム用の物品保管設備
TWI408090B (zh) 物品保管庫
JP4688001B2 (ja) 物品収納設備
JPS60140035A (ja) クリ−ンル−ム内の荷搬送設備
JPH03177732A (ja) 半導体の無塵化製造システム
JP5656003B2 (ja) カセットストッカ
JPH03192005A (ja) クリーンルーム内の荷保管設備
JPS60166554A (ja) クリ−ンル−ム用運搬車
JPS63304640A (ja) クリ−ンル−ム内搬送装置
JP2009184786A (ja) 物品収納設備
JP2610526B2 (ja) クリーンルーム内の荷取扱い設備
JP2009007125A (ja) 物品搬送車
JPS61133640A (ja) ウヱハ搬送装置
JPH027392Y2 (ja)
KR101184320B1 (ko) 물품 수납 설비
JPH0318407Y2 (ja)
JPH0310128Y2 (ja)
JPH03172221A (ja) クリーン搬送装置
JP4067703B2 (ja) 搬送台車
JPS62116349A (ja) 搬送装置
JPH0318406Y2 (ja)
JPS6222830B2 (ja)