JPS61271063A - 薄膜形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、板状物の表面に均一な厚さの薄膜を形成する
方法に係わる。

（従来の技術） 従来の主な薄膜形成方法としては、ホワイラー法とかけ
流し法が主なものであった。

このうちホワイラー法は、板状物を横に倒して薄膜とな
るべき液体を載せ、高速度で板状物乞回転させる事によ
り均一に液体を分布させて、横に薄さを求める事が出来
る。

一方、かけ流し法は、第３図に示した如く、板状物Ｉ１
１吊す事や横から支える事等の手段により立てかげて、
板状物（１１１の上端より液槽の等により液体を流し、
液体の自重と粘性と硬化の関係を用いて均一に液体を分
布させる。次に第５図で示した様に赤外線ランプ（２２
１等の乾燥手段を用いていち早く液体を乾燥させて薄膜
を作る。この方法は、人手や設備が少くても生産でき、
また巻き取り法などにより連続製造に用いる事が出来る
。

（発明が解決しようとする問題点） λ 先ず、ホワイラー安に於いては、板状物を一枚一枚横倒
しにして回転を行なわなければならず、固定のたびの手
間や回転の場所等の問題により、大量生産や大きな板状
物に対して対応できなかった。

また、かけ流し法に於いては、第４図に示した薄膜の厚
さの分布０１）に示される様に液体の自重により板状物
の上端部に於いて薄膜が薄いものとなり、均一な厚さと
ならなかった。

（問題を解決する為の手段） 弁板状物表面に液体層を設け、前記液体層へ乾燥手段を
施して乾燥させる事により前記板状物表面に薄膜を設げ
る薄膜形成方法に於いて、液体層を乾燥させるとき板状
物を立起させて板状物の上端部のみに直接乾燥手段を施
す事を特徴とする薄膜形成方法をとる。

（作　用） 第４図に示した曲線のように、従来のかげ流し法による
薄膜の厚さの分布Ｇ２と本発明の形成方法による薄膜の
厚さの；分布（３Ｄ？比べると、端部の膜厚も中央部と
ほぼ均一の厚さを持った板状物となった。

用いて詳細に説明する。

先ず第３図で示される様に板状物（１１１を立てて、こ
の状態で板状物（１１１の上端部へ液槽のより液体を上
端部の一端より他端へ移動しながら流す。この液体を流
すのは、上端部に於いて均一に流される様行なわれる。

次に第１図に示した様に板状物（ＩＢの上端部以外を遮
蔽板！２＋１で履い、この両側より第２図で示した様に
赤外線ランプのより発生する赤外線を照射する。これに
より主に板状物旧１の上端部から乾燥する事になり、液
体の自重による影響が少ない形で乾燥されろ。これによ
り第４図に示される様な薄膜の厚さの分布Ｇυとなり、
全体に均一な膜厚の薄膜が板状物（１１１上に形成され
る。

尚、本発明は上記の実施例に限らず、乾燥手段が赤外線
ならば液体の自重が重（、または粘性が低く、または乾
燥が遅いものの膜厚を均一にするのに適しており、まち
、乾燥手段が熱風の場合は、液体の自重が軽（、または
粘性が高く、または乾燥が早いものの膜厚を均一にする
のに適しており、乾燥手段が熱線の場合は、この中間性
の液体に適している。

また、本実施例の遮蔽板の場合、同厚の平板を用いたが
、遮蔽板の上端部をメツシュ状もしくは遮蔽板の厚さが
上端へ行く桿薄くなったものでもよい。また、乾燥手段
を遮蔽板を用いる事で板状物の上端に限定したが、乾燥
手段に指向性を持たせて板状物の上端部にのみ施す様に
してもよい。

また、本実施例は普通の大きさの板状物に一端より一端
へ向かって液体をかける場合に於いて説明したが、板状
物への液体のかけ流しを上端部で一斉に行なわれてもよ
い。

また、大型の板状物や巻物の板状物の場合、液体のかげ
流しと乾燥を一体の手順とし、液体のかけ流しを乾燥手
段が一定の間隔で後追いをする様板状物の上端部の一端
より他端へ向かって薄膜を形成してもよい事は当然であ
る。

（発明の効果） 本発明により、大型板状物や巻物板状物等の連続板状物
でも人手や装置があまりかからず、しかも均一な膜厚の
薄膜をかけ流し法であっても板状物上に形成する事が出
来る。これにより高速度でしかも安価に板状物を製造す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例の乾燥状態を表わす斜視図
であり、第２図は同側面図であり、第３図は、本発明の
液体層？形成するときの斜視図であり、第４図は完成し
た板状物上の薄膜の厚さの分布曲線であり、第５図は、
従来のかけ流し法の乾燥状態を表わす側面図である。 （１１１・・・板状物　　　　　Ｇｌ＋・・・遮蔽板（
２２１・・・赤外線ランプ　　ｃ２３ｉ・・・液　槽の
り・・・本発明による分布曲線 Ｏ３・・・従来のかげ流し法による分布曲線時　　許　
　出　　願　　人 第３図　　　　　第１図 ８脚の上部部からの距離 第２図 第５ｒ！！Ｊ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）板状物表面に液体層を設け、前記液体層へ乾燥手段
   を施して乾燥させる事により前記板状物表面に薄膜を設
   ける薄膜形成方法に於いて、液体層を乾燥させるとき板
   状物を立起させて板状物の上端部のみに直接乾燥手段を
   施す事を特徴とする薄膜形成方法。 ２）液体層を乾燥させるとき板状物を立起させて板状物
   の上端部以外に遮蔽を施した板状物に対して乾燥手段を
   施した事を特徴とする特許請求の範囲第一項記載の薄膜
   形成方法。 ３）乾燥手段が熱線の照射である事を特徴とする特許請
   求の範囲第一項記載の薄膜形成方法。 ４）乾燥手段が赤外線の照射である事を特徴とする特許
   請求の範囲第一項記載の薄膜形成方法。 ５）乾燥手段が熱風の照射である事を特徴とする特許請
   求の範囲第一項記載の薄膜形成方法。