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JPS61151097A - 平滑面をもつダイヤモンド薄膜の製法 - Google Patents

平滑面をもつダイヤモンド薄膜の製法

Info

Publication number
JPS61151097A
JPS61151097A JP28180484A JP28180484A JPS61151097A JP S61151097 A JPS61151097 A JP S61151097A JP 28180484 A JP28180484 A JP 28180484A JP 28180484 A JP28180484 A JP 28180484A JP S61151097 A JPS61151097 A JP S61151097A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diamond
base plate
thin film
diamond thin
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28180484A
Other languages
English (en)
Inventor
Shingo Morimoto
信吾 森本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP28180484A priority Critical patent/JPS61151097A/ja
Publication of JPS61151097A publication Critical patent/JPS61151097A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は平滑な面をもつダイヤモンド薄膜の製法に関す
る。
〔従来の技術〕
平滑な面をもつダイヤモンドは、耐摩耗性!l@面、耐
摩耗性摺動面9例えばビデオディスクのヘッド等として
使用されている。
従来、平滑なダイヤモンドの面ン得厚うと丁れば、希耀
の大きさの面が得られるダイヤモンド粒子を噴量研磨す
る。しかし、ダイヤモンドは最も硬い物質であり、研磨
は共摺が前提となり、長時間を要する。1また、大きな
面を得ようとすると。
それが得られるダイヤモンドは、それに見合う大ざさの
ものが必斐となり、極めて高1曲なものとなる。
ところで、近時1例えば特開昭58−91100゜58
−110494.59−3098等に記載されているよ
うに、高融点の8i、Mo、Cu等の連載、サファイヤ
、石英、WC等の化合物を基板としてこの上にダイヤモ
ンドな析出成長させる方法が開発されている。丁なわち
、上記基板を鏡面とし、それにダイヤモンド砥粒によっ
て微細な湯をつける表面処理をした後、水素又は水素と
Ar等の不活性ガスで希釈した炭比水索ガスをプラズマ
中で接触させると、基板表面にダイヤモンド微粒子が析
出し、2〜5時間後に上記fiI1.粒子の東貧した楔
状のダイヤモンドが得られる。この薄膜ダイヤモンドは
、製法が比較的簡単で基板囲と同じ面積の膜が得られろ
が、成長面は、(111)面。
(1003面がランダムな方向に成長して形成されるの
で、その結果、成浅面には1〜5μmの゛凹凸が出来、
平rRなlは得られないっ 〔発明が解決しようとする間趙点〕 T−発明は上記の事情に鑑み、CVD法によるダイヤモ
ンドの合成によって、安圃に有望の面積の平滑なダイヤ
モンド面の得られる#云を提供することを目的とてる。
〔問題点を解決するための手段〕
不発明は、上記問題点を解決するためになされたもので
、その特徴は基板の鏡面を生か丁所にある。丁なカち、
深さ、1嶋が0.1μm以下の微小な傷をつげzsiミ
ラーウェハー基板面上にCvL)云によってダイヤモン
ドを析出させて、ダイヤモンドの薄膜を形成し、このダ
イヤモンドの薄膜が形成されている基板をフッ1iS水
素改等によって溶解する平滑な而をもつダイヤモ〉/ド
薄膜の製法にある、〔作用〕 不発明は、ダイヤモンド薄膜が形成された基板をフッ1
ヒ水素酸によって溶解するので、基板と接しているダイ
ヤモンド膜の面が露出し、この露出した面は、基板面と
同じ平滑面となる。
〔発明の具体的偶成〕
本発明に用いる基板は、CVD法ダイヤモンド合成に3
いて使用される上記高融点の逮属ノ戎いは化合物がいず
れも丈用出釆るが、特にSiは、ダイヤモンドと熱膨張
係数の差が小さいため、耐却時クラックの発生がなく、
さらに、半導体用として鏡面仕上げされたウェハーが容
易に入手田米る等の利点があり好ましい。
Siウェハー面、上にダイヤモンドを析出させるには1
m常、1−10μmのダイヤモンド砥粒で表面を研磨し
小さい傷をつける事がM幼であると言われている。
しかしこの方法に工って作成し社材料のSi側をHFに
より溶解したσ〕ち長Itlを観察すると研磨時の傷が
原因の凹凸がレプリカ伏に残っているために、?tらか
な面とは言えない。したがつ【深(はないが、ダイヤモ
ンドの成長には有効な傷ぞつけることが必要である。そ
のためには1表面処理に工夫をする。平均粒径が1〜2
μ【n程度の細いダイヤモンド粒を水に分散させに液中
に8iミラーウェハーを入れ、全体に超音波振動を10
〜30分かける。この処理にエリ、高倍率のSEMでや
つと識別できる程度の微小な傷を全面につけることがで
きる。
マタ、ダイヤモンドを析出する装置tこ条件は通富のC
vL)@によるダイヤモンド合成法のものがそのまま採
用される。
合成条件はたとえば、原料ガスはC)1. /H。
:1vo1/99vol、基板温度850°C王刀:3
0Torr、マイクロ波励起で行なわれろ。5〜10時
間のダイヤモンド薄膜の成長後。
七〇基板−e )I Fによって溶解すると、基板と接
する面が基板のレプリかとなり平滑となるが、残留応力
σ)ためダイヤモンド膜は湾曲する。
平滑かつ湾曲のないダイヤモンド面を得るには。
ダイヤモンド膜の成長面にH1I’水で浸されない。
面の平らな基材を)lfI”で浸されない接着材で艦看
した後、上記基板をHFで#解重れば工い。
〔実施例〕
次に実施例を示して不発明を説明する。
「実施例1」 1〜2μσ?ダイヤモンド砥粒g (2w t%]内で
20分間超音波振動された8 t ミラーウエノ飄−を
マイクロ波プラズマ空間に入れ、C1−1,/H。
が容量でl/99の反応ガスを3QTorrで5時間流
したところ、厚さ=4μmU)ダイヤモンド膜が得られ
た。このダイヤモンド膜の面にフッ素系貞脂を塗り、S
iC仮を貼り付けた後、1−1F水で基板を溶解して、
SMMで観察しても平滑なダイヤモンド面が得らrした
「実施例2」。
表面処理に2いて使用するダイヤモンド砥粒として、平
均粒径:2μmのものを用いて1通常法で研磨した以外
は全く同じにしてダイヤモンド平面をつくった。この面
には、1隔0.1〜0.2μmの凸条が残り、外観は平
滑面に見えるが、SEM的な平滑面とはならなかつz0
明らかに、研磨時の傷カレプリカとして残っていた。
「実施例3」 ダイヤモンドの析出を20時間行なった外は、実施例1
と同じにしてダイヤモンド膜をつ(つた。
これをそのままHF水で基板?溶解し、厚さ=20μm
のダイヤモンド膜を得な。この膜は残留応力によって少
し湾曲してい念が、ウェハー側の面は、’am鏡的平滑
面であつな。
〔発明の効果〕
本発明の平滑な面をもつダイヤモンド#膜の製法は、C
VD法により置られるダイヤモンド薄膜を使用している
ので、容易かつ安i+liに所望の面積のものが得られ
る浸れた方法である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 深さ、幅が0.1μm以下の微小な傷をつけたSiミラ
    ーウェハー基板面上にダイヤモンドを析出させてダイヤ
    モンドの薄膜を形成し、このダイヤモンド薄膜が形成さ
    れている基板を溶解除去することを特徴とする平滑面を
    もつダイヤモンド薄膜の製法。
JP28180484A 1984-12-25 1984-12-25 平滑面をもつダイヤモンド薄膜の製法 Pending JPS61151097A (ja)

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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4984534A (en) * 1987-04-22 1991-01-15 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Method for synthesis of diamond
US5094915A (en) * 1990-05-16 1992-03-10 The Ohio State University Laser-excited synthesis of carbon films from carbon monoxide-containing gas mixtures
US5114745A (en) * 1989-05-31 1992-05-19 Jones Barbara L Method of producing a thin carbide layer on a carbon substrate, growing a diamond or diamond-like film on the carbide layer, and removing the carbon substrate
US5130111A (en) * 1989-08-25 1992-07-14 Wayne State University, Board Of Governors Synthetic diamond articles and their method of manufacture
US5180571A (en) * 1990-05-30 1993-01-19 Idemitsu Petrochemical Company Limited Process for the preparation of diamond
US5314652A (en) * 1992-11-10 1994-05-24 Norton Company Method for making free-standing diamond film
US5527559A (en) * 1994-07-18 1996-06-18 Saint Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. Method of depositing a diamond film on a graphite substrate
JP2007526974A (ja) * 2004-03-05 2007-09-20 ウオーターズ・インベストメンツ・リミテツド 低摩擦コーティングを備えた弁
WO2009101695A1 (ja) * 2008-02-14 2009-08-20 Shimadzu Corporation 流路切換バルブ
WO2018012529A1 (ja) * 2016-07-14 2018-01-18 並木精密宝石株式会社 単結晶ダイヤモンド基板
WO2018150541A1 (ja) * 2017-02-17 2018-08-23 三菱重工コンプレッサ株式会社 圧縮機モジュール

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4984534A (en) * 1987-04-22 1991-01-15 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Method for synthesis of diamond
US5114745A (en) * 1989-05-31 1992-05-19 Jones Barbara L Method of producing a thin carbide layer on a carbon substrate, growing a diamond or diamond-like film on the carbide layer, and removing the carbon substrate
US5130111A (en) * 1989-08-25 1992-07-14 Wayne State University, Board Of Governors Synthetic diamond articles and their method of manufacture
US5094915A (en) * 1990-05-16 1992-03-10 The Ohio State University Laser-excited synthesis of carbon films from carbon monoxide-containing gas mixtures
US5180571A (en) * 1990-05-30 1993-01-19 Idemitsu Petrochemical Company Limited Process for the preparation of diamond
US5314652A (en) * 1992-11-10 1994-05-24 Norton Company Method for making free-standing diamond film
US5527559A (en) * 1994-07-18 1996-06-18 Saint Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. Method of depositing a diamond film on a graphite substrate
JP2007526974A (ja) * 2004-03-05 2007-09-20 ウオーターズ・インベストメンツ・リミテツド 低摩擦コーティングを備えた弁
JP4768709B2 (ja) * 2004-03-05 2011-09-07 ウオーターズ・テクノロジーズ・コーポレイシヨン 低摩擦コーティングを備えた弁
WO2009101695A1 (ja) * 2008-02-14 2009-08-20 Shimadzu Corporation 流路切換バルブ
JPWO2009101695A1 (ja) * 2008-02-14 2011-06-02 株式会社島津製作所 流路切換バルブ
WO2018012529A1 (ja) * 2016-07-14 2018-01-18 並木精密宝石株式会社 単結晶ダイヤモンド基板
JPWO2018012529A1 (ja) * 2016-07-14 2019-05-09 アダマンド並木精密宝石株式会社 単結晶ダイヤモンド基板
WO2018150541A1 (ja) * 2017-02-17 2018-08-23 三菱重工コンプレッサ株式会社 圧縮機モジュール

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