JPS6071597A - 摺動用機構部品 - Google Patents
摺動用機構部品Info
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- JPS6071597A JPS6071597A JP58177706A JP17770683A JPS6071597A JP S6071597 A JPS6071597 A JP S6071597A JP 58177706 A JP58177706 A JP 58177706A JP 17770683 A JP17770683 A JP 17770683A JP S6071597 A JPS6071597 A JP S6071597A
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- JP
- Japan
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- sliding
- hard carbon
- filament
- carbon film
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/04—Diamond
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Sliding-Contact Bearings (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は耐アブレツシプ性、耐凝着性に優九、摩耗如よ
る精度劣化が少なく、摺動抵抗が小さくかつ信頼性の高
い摺動用機構部品に関するものである。
る精度劣化が少なく、摺動抵抗が小さくかつ信頼性の高
い摺動用機構部品に関するものである。
従来ｍ構部品の氷面処理として硬質膜、固体詞滑膜等が
用いられている。例えば硬質膜としテＦＪ、 ＴｊＮ
、 ＴｊＣ、ＢａＣ、ＳｊＣ、Ｓｊ ｌＮ４ 、 Ａｔ
ｘＯｓ’Ｊ ノｆ質材料がスパッタ、ＣＶＤ、イオンブ
レーテインク等により形成されている。、シかし、こノ
しらを俵′４ｉ４郡品の摺動面に適用した場合に姐と７
Ｌら硬質膜自体に麹層性がないため献財が生じ、かつ応
力集中のため下地−膜界面で脱離する等の欠点がめった
。
用いられている。例えば硬質膜としテＦＪ、 ＴｊＮ
、 ＴｊＣ、ＢａＣ、ＳｊＣ、Ｓｊ ｌＮ４ 、 Ａｔ
ｘＯｓ’Ｊ ノｆ質材料がスパッタ、ＣＶＤ、イオンブ
レーテインク等により形成されている。、シかし、こノ
しらを俵′４ｉ４郡品の摺動面に適用した場合に姐と７
Ｌら硬質膜自体に麹層性がないため献財が生じ、かつ応
力集中のため下地−膜界面で脱離する等の欠点がめった
。
また固体詞滑股を機構部品に適用することも試みられて
いるが、面精度化のため、薄くすると膜破断による寿命
が問題になり、厚くすると摩耗による粘度低下が部組に
なっている１、また、下地材の硬度を大きくし、ん１ｏ
８２． Ｗｂｚ停の８り」滑性膜を形成することが柑度
上望筐しいが、と７Ｌも２つの処理を別々に行っている
ため、下：Ｉ４Ｌ＋ＩＪと膜の密層性の問題、固体叫滑
剤の損耗の問題等があり、長寿命潤滑を実現していると
はいい難かった。
いるが、面精度化のため、薄くすると膜破断による寿命
が問題になり、厚くすると摩耗による粘度低下が部組に
なっている１、また、下地材の硬度を大きくし、ん１ｏ
８２． Ｗｂｚ停の８り」滑性膜を形成することが柑度
上望筐しいが、と７Ｌも２つの処理を別々に行っている
ため、下：Ｉ４Ｌ＋ＩＪと膜の密層性の問題、固体叫滑
剤の損耗の問題等があり、長寿命潤滑を実現していると
はいい難かった。
本発明はこれらの欠点を除去するため、摺動用機構部品
を提供するものであって、その構成は下地との密着強度
が強くかつ硬質なダイヤモンド構造と潤滑性に優れたグ
ラファイトを混在芒せた薄膜をｍ動面に形成したことを
特徴とする。
を提供するものであって、その構成は下地との密着強度
が強くかつ硬質なダイヤモンド構造と潤滑性に優れたグ
ラファイトを混在芒せた薄膜をｍ動面に形成したことを
特徴とする。
以下に本発明の詳細な説明する。
硬質カーボンを形成する方法には、ＣＶＤ法。
イオンビーム形成性スパッタリング等がある。
第１図に硬質カーボン族を形成する方法の一例としてプ
ラズマＣＶＤによる場合の装置例の概略を示す３．同図
に３いて、ｌは真壁容器、２ｔｊ基板ホルダー、３は基
板、４は高圧電源、５はシャッタ、６ｔ／′ｉ放′Ｆ４
ｆ、維持用電極、７は電子放出用フィラメント、８は直
流電源、９は直流電源。
ラズマＣＶＤによる場合の装置例の概略を示す３．同図
に３いて、ｌは真壁容器、２ｔｊ基板ホルダー、３は基
板、４は高圧電源、５はシャッタ、６ｔ／′ｉ放′Ｆ４
ｆ、維持用電極、７は電子放出用フィラメント、８は直
流電源、９は直流電源。
１０．１１はガス尋人用可変バルブ、１２は排気路、１
３は永久磁石である。真空容器ｌ内の基板ホルダー２に
基板３をセットし該真空容器を５ Ｘ １０−’Ｔｏｒ
ｒ以上丑で排気した後、ガス尋人用可変バルブ１１から
Ａｒガスを導入し、１０−”Ｔｏｒｒ程度に設定する３
、延子放出用フィラメント７を直流電源９により加熱す
る。次いで、放電維持用電極６に正の電圧（５０〜１０
０Ｖ）を直流電源８によって印加し、前記の′電子放出
用フィラメント７と放電維持用電極６との間に、Ａｒガ
スプラズマを生成する。次に基板３に間圧電源４により
負の高電圧（−１〜−３ＫＶ）を印加してＡｒ＋イオン
によるスパンタクリーニンｙ ＊ １０〜３０変パルプ
ｌＯから導入し、ガス圧を１０−”Ｔｏｒｒ程度に設定
する。次にＡｒガスによるスパッタクリーニングの場合
と同−手ｊｉＩで、放電維持用を極６と電子放出用フィ
ラメント７との間に、 Ｃ，Ｈ。
３は永久磁石である。真空容器ｌ内の基板ホルダー２に
基板３をセットし該真空容器を５ Ｘ １０−’Ｔｏｒ
ｒ以上丑で排気した後、ガス尋人用可変バルブ１１から
Ａｒガスを導入し、１０−”Ｔｏｒｒ程度に設定する３
、延子放出用フィラメント７を直流電源９により加熱す
る。次いで、放電維持用電極６に正の電圧（５０〜１０
０Ｖ）を直流電源８によって印加し、前記の′電子放出
用フィラメント７と放電維持用電極６との間に、Ａｒガ
スプラズマを生成する。次に基板３に間圧電源４により
負の高電圧（−１〜−３ＫＶ）を印加してＡｒ＋イオン
によるスパンタクリーニンｙ ＊ １０〜３０変パルプ
ｌＯから導入し、ガス圧を１０−”Ｔｏｒｒ程度に設定
する。次にＡｒガスによるスパッタクリーニングの場合
と同−手ｊｉＩで、放電維持用を極６と電子放出用フィ
ラメント７との間に、 Ｃ，Ｈ。
ガスプラズマを生成する。次いで基板３に負の高電圧（
−２〜−３，５ＫＶ）を印加した後、シャツタ５ｆｔ曲
！、基板上にダイヤモンドとダイヤモンドとグラファイ
トの混晶からなる硬質カーボン膜を形成する。
−２〜−３，５ＫＶ）を印加した後、シャツタ５ｆｔ曲
！、基板上にダイヤモンドとダイヤモンドとグラファイ
トの混晶からなる硬質カーボン膜を形成する。
以上により得られた硬質カーボン膜は六方晶系のダイヤ
モンドとグラファイトとの混晶によって形成されている
。
モンドとグラファイトとの混晶によって形成されている
。
次に本発明に係る拮動郡品の抽ＭｖＪ性について説明す
る。
る。
第２図に上記特性試験に用いた試験装置の概略を示す。
図示するように試験片２１を載置する移動台２」が設け
られ該、ｇ動台２６の上方にはφ６ ｒｒａ径の銅球圧
子２２を保持するアーム部２７が配設されると共に該ア
ーム部２７には負荷荷車を与えるだめの３もり２３がそ
の上面に載置さｎる一方、その後端にバランスｌ１Ｉ４
整用のおもり２５が装着されている。更にアーム部２７
には抵抗を測定する歪ゲージ２４が設けられている。、
上記装置構成において、本発明の硬質カーボン膜を形成
した試験片２１に鋼球圧子２２を所定の負荷を加えて圧
接し、移動台２６を往復動する。
られ該、ｇ動台２６の上方にはφ６ ｒｒａ径の銅球圧
子２２を保持するアーム部２７が配設されると共に該ア
ーム部２７には負荷荷車を与えるだめの３もり２３がそ
の上面に載置さｎる一方、その後端にバランスｌ１Ｉ４
整用のおもり２５が装着されている。更にアーム部２７
には抵抗を測定する歪ゲージ２４が設けられている。、
上記装置構成において、本発明の硬質カーボン膜を形成
した試験片２１に鋼球圧子２２を所定の負荷を加えて圧
接し、移動台２６を往復動する。
上記試験結果を第３図（ａ） （ｂ）ないし第７図に示
ｔ、２Ｘ３図（ａｌ（ｂ）に示すように、ヌテンレス銅
Ｓ１．ｌ５４４ＱＣを下地材とする試験片について本発
明の硬質カーボン族を有しないものＡｏと有するものＡ
１についてそのＭ線抵抗全比較すると、硬質カーボン膜
を有しないものＡｏｌＺ）摩擦抵抗が大きいことが判る
。
ｔ、２Ｘ３図（ａｌ（ｂ）に示すように、ヌテンレス銅
Ｓ１．ｌ５４４ＱＣを下地材とする試験片について本発
明の硬質カーボン族を有しないものＡｏと有するものＡ
１についてそのＭ線抵抗全比較すると、硬質カーボン膜
を有しないものＡｏｌＺ）摩擦抵抗が大きいことが判る
。
又第４図は同様の試験片Ａ０．Ａ、、にっｈて摩擦距離
と摩擦係数の変化を比較して示すグラフである。第４図
から明らかなように硬質カーボン膜を形成した場合、Ｉ
ｊｉ１擦係数は著しく減少する。
と摩擦係数の変化を比較して示すグラフである。第４図
から明らかなように硬質カーボン膜を形成した場合、Ｉ
ｊｉ１擦係数は著しく減少する。
すなわち摩嶽係数μ；０．２〜０．４のものがμ＝０．
１程度に下がる。さらに摩擦抵抗の変動、スティックス
リップも減少する。これらは硬質カーボン族のグラファ
イト部の固体潤滑効果と凝涜防止効果によると考えられ
る３、さらに摩擦面を観察すると・硬質カーボンｍｋ有
しない試験片ＡのＳ［ＪＳ４４ＯＣ面には摩擦面に凝着
痕が生じて、面が租れている。これに対し試験片ＢＯｄ
質カーボン膜を形成した面には摩擦痕は観察されず、硬
質カーボン膜の剥離も観察されなかった。即ち５Ｏ８４
４００の与からなる試験片との摩擦では銅球圧子ｌｌ１
ｌｌ／ｌｉ不規則な凝着痕から成るＭ線面となるが、硬
質カーボン膜を形成し′ｆｃ向と厚慨させた場合には、
指動方向の原性変形が生じ平滑な面が形成され、（−の
後、摩耗は進行しない。
１程度に下がる。さらに摩擦抵抗の変動、スティックス
リップも減少する。これらは硬質カーボン族のグラファ
イト部の固体潤滑効果と凝涜防止効果によると考えられ
る３、さらに摩擦面を観察すると・硬質カーボンｍｋ有
しない試験片ＡのＳ［ＪＳ４４ＯＣ面には摩擦面に凝着
痕が生じて、面が租れている。これに対し試験片ＢＯｄ
質カーボン膜を形成した面には摩擦痕は観察されず、硬
質カーボン膜の剥離も観察されなかった。即ち５Ｏ８４
４００の与からなる試験片との摩擦では銅球圧子ｌｌ１
ｌｌ／ｌｉ不規則な凝着痕から成るＭ線面となるが、硬
質カーボン膜を形成し′ｆｃ向と厚慨させた場合には、
指動方向の原性変形が生じ平滑な面が形成され、（−の
後、摩耗は進行しない。
即ち、硬質カーボン族は下地面を相手向から保題する七
ともに相手面を滑らかにし凝着によるスティックスリッ
プお′よび摩擦抵抗変動のない非’ｌ’ｊｒに円滑な励
振を実現させることが可能である。また、硬質カーボン
膜を形成する場合ステンレス鏑に直接被成形成すると硬
質カーボン膜との蜜右力か小さくなジ易いが、形成前に
ＡｒＫよるスパッタクリーニングをていねいに行うと“
とにより、密府力は著しく改善され、フレンチング摩耗
等に対しても耐久性が著しく向上する。
ともに相手面を滑らかにし凝着によるスティックスリッ
プお′よび摩擦抵抗変動のない非’ｌ’ｊｒに円滑な励
振を実現させることが可能である。また、硬質カーボン
膜を形成する場合ステンレス鏑に直接被成形成すると硬
質カーボン膜との蜜右力か小さくなジ易いが、形成前に
ＡｒＫよるスパッタクリーニングをていねいに行うと“
とにより、密府力は著しく改善され、フレンチング摩耗
等に対しても耐久性が著しく向上する。
次に下地材として石英およびシリコン単結晶を用いた場
合の特性試映結来を８５図に示す。
合の特性試映結来を８５図に示す。
ｆｆＪ５図は硬脆材料である石英（５ｊ０２）およびシ
リコン単結晶について硬質カーボン膜を形成しないもの
Ｂ。、ｃｏと形成するものＢ、 、 Ｃ１とについて、
その九に擦係数を比較して示したものである３゜石英、
シリコンのみのＢｏ、Ｃ，に比べ硬質カーボン膜を形成
したＢ１．Ｃ，の場合には、摩擦係数が著しく減少する
ことが判る。特に摩擦距離が大きくなった条件で効果が
大きい。さらに高負荷条件でも摩擦係数低減の効果が大
きい。
リコン単結晶について硬質カーボン膜を形成しないもの
Ｂ。、ｃｏと形成するものＢ、 、 Ｃ１とについて、
その九に擦係数を比較して示したものである３゜石英、
シリコンのみのＢｏ、Ｃ，に比べ硬質カーボン膜を形成
したＢ１．Ｃ，の場合には、摩擦係数が著しく減少する
ことが判る。特に摩擦距離が大きくなった条件で効果が
大きい。さらに高負荷条件でも摩擦係数低減の効果が大
きい。
第６図はシリコン単結晶の試験片についてその摩擦面の
顕微鏡写真である１、摩擦面を観察するとシリコン単結
晶のみの場合には荷重が１００ｇになると、周辺に微小
なりランクが発生し、同図（ｆ）に示すよ５ Ｋ １０
００ｇでは抽動面に著しく大きなりラックが発生してい
る。これに対し一１呪質カーボン膜を形成した面には同
図（ロ）に示すように荷重ｉｏｏｏｇでも触線面に変化
は見られず摩耗痕は１１とんど検出でき表い程度である
。即ち集中荷重に対しても硬質カーホ゛ンを形成するこ
とにより、１便脆材料でめる石英、シリコンのクランク
の発生を押え、光面を保睦する効果〃；ある。
顕微鏡写真である１、摩擦面を観察するとシリコン単結
晶のみの場合には荷重が１００ｇになると、周辺に微小
なりランクが発生し、同図（ｆ）に示すよ５ Ｋ １０
００ｇでは抽動面に著しく大きなりラックが発生してい
る。これに対し一１呪質カーボン膜を形成した面には同
図（ロ）に示すように荷重ｉｏｏｏｇでも触線面に変化
は見られず摩耗痕は１１とんど検出でき表い程度である
。即ち集中荷重に対しても硬質カーホ゛ンを形成するこ
とにより、１便脆材料でめる石英、シリコンのクランク
の発生を押え、光面を保睦する効果〃；ある。
さらに銅球圧子も硬質カーボン膜を形成【７ない場合に
は同図（ハ）に示すようにｈす擦で発生したクラックの
破面でアブレンシブに除去され摩耗量が増大する。これ
に対し硬質カーボン膜を形成した時にはな）二み効果の
ため同図に）に示すように初期摩耗の後、摩耗量はとん
ど進行１．ない。
は同図（ハ）に示すようにｈす擦で発生したクラックの
破面でアブレンシブに除去され摩耗量が増大する。これ
に対し硬質カーボン膜を形成した時にはな）二み効果の
ため同図に）に示すように初期摩耗の後、摩耗量はとん
ど進行１．ない。
これは石英を下地材とする場合も同様である。。
このように硬質カーボン膜は下地材である硬脆狗科を保
設するだけでなく、相手面の損耗を減少させるメり来が
ある。
設するだけでなく、相手面の損耗を減少させるメり来が
ある。
次に下地相としてアルミ、チタン、チタン合金を用いた
場合の特性試験結果ｔ−第７因に示す１゜第７図はアル
ミ、チタン、チタン合金の下地旧に硬質カーボン膜を形
成しないものＤｏ、 Ｅｏ、 Ｆ。
場合の特性試験結果ｔ−第７因に示す１゜第７図はアル
ミ、チタン、チタン合金の下地旧に硬質カーボン膜を形
成しないものＤｏ、 Ｅｏ、 Ｆ。
と形成するものＤｌ、 Ｅ、 、 Ｆｌとについてその
摩擦係数の変化を比較したグラフである。この場合も第
７図から明らかなように本発明のカーボン股を形成する
ものり、、Ｂ１．Ｆ、は形成しないもの１）ｏ、Ｅｏ、
Ｆｏに比べＰＡ際係数が大幅に低下している。ここで、
純アルミ、Ｍチタンは硬度が小さいため硬質カーボン膜
を形成しない場合には焼入れした倉°・１球と摩擦させ
ると塑性変形して圧子が喰い込みさらに接触部で凝着と
ぜん所が生じるため大きな傷が形成される。これに対し
硬質カーボン膜を形成した場合には、低倚重では。
摩擦係数の変化を比較したグラフである。この場合も第
７図から明らかなように本発明のカーボン股を形成する
ものり、、Ｂ１．Ｆ、は形成しないもの１）ｏ、Ｅｏ、
Ｆｏに比べＰＡ際係数が大幅に低下している。ここで、
純アルミ、Ｍチタンは硬度が小さいため硬質カーボン膜
を形成しない場合には焼入れした倉°・１球と摩擦させ
ると塑性変形して圧子が喰い込みさらに接触部で凝着と
ぜん所が生じるため大きな傷が形成される。これに対し
硬質カーボン膜を形成した場合には、低倚重では。
下地面にほとんど変化がない。また＾荷重では下地面に
塑性変形を生じたが、この場合でも硬質カーボン換は下
地面と剥離することがなかった。また、アルミ合金、チ
タン合金は比強度の大きい材料であるが、摩優、摩耗特
性ｋｉあまり良くないという点を有している。ところが
このように硬質カーボン膜を形成することにより下地材
を硬化するだけでなくグラファイトによる狗滑性を付与
するので相手材料に刺傷を与えることもない。
塑性変形を生じたが、この場合でも硬質カーボン換は下
地面と剥離することがなかった。また、アルミ合金、チ
タン合金は比強度の大きい材料であるが、摩優、摩耗特
性ｋｉあまり良くないという点を有している。ところが
このように硬質カーボン膜を形成することにより下地材
を硬化するだけでなくグラファイトによる狗滑性を付与
するので相手材料に刺傷を与えることもない。
さらに軟質である筒分子材料および汎分子複合材料ある
いは特に極性のないＰ Ｔ ｌ” Ｅについても形成す
ることができ、比較的大きな密増力を示した。
いは特に極性のないＰ Ｔ ｌ” Ｅについても形成す
ることができ、比較的大きな密増力を示した。
このように従来比較的硬度が小さくて檀動用機溝部品と
して用いられなかった材料についても母Ｉのすぐれた特
性を維持したｆ −ｆ好適な硬度、飼滑性を有する摺動
部品を得ることができる。さらに硬質カーボンＰａは耐
薬品性がすぐ九て２り、アルカリ酸等の腐食液、各桓溶
剤活性ガス等によって侵されなｈので、こｎらの薬品。
して用いられなかった材料についても母Ｉのすぐれた特
性を維持したｆ −ｆ好適な硬度、飼滑性を有する摺動
部品を得ることができる。さらに硬質カーボンＰａは耐
薬品性がすぐ九て２り、アルカリ酸等の腐食液、各桓溶
剤活性ガス等によって侵されなｈので、こｎらの薬品。
溶剤ガス等が作用する部分の機構部品として用いること
が可能である１、 以上述べたように本発明の摺動部品は硬ｊＸなダイヤモ
ンドと＠滑性のあるグツ７アイトの混晶から成る硬質カ
ーボン膜を機構部品の摺動部六面に形成しであるので％
摩擦抵抗が小さく摺ＭＪＪＪ時に下地材を保睦し、相手
面を平滑にさせるので長期間安定した摺動特性が得られ
る。従ってｍ受ａｍ車、モータ、シール、パルプ、ねじ
。
が可能である１、 以上述べたように本発明の摺動部品は硬ｊＸなダイヤモ
ンドと＠滑性のあるグツ７アイトの混晶から成る硬質カ
ーボン膜を機構部品の摺動部六面に形成しであるので％
摩擦抵抗が小さく摺ＭＪＪＪ時に下地材を保睦し、相手
面を平滑にさせるので長期間安定した摺動特性が得られ
る。従ってｍ受ａｍ車、モータ、シール、パルプ、ねじ
。
摺動案内面、′＃ｋＬ気接点、ジヨイント、ベーンチェ
ーン、内燃機関シリンダ、ビヌトンロンド。
ーン、内燃機関シリンダ、ビヌトンロンド。
リンク等の機構部品に適用すれば、精度劣化の小さい長
期間信頼性のある部品が得られる。
期間信頼性のある部品が得られる。
第１図は本発明に係る硬質カーボン膜形成の装置構成を
示す概略図、第２図は摺動による摩擦、Ｄ耗試験装櫨の
概略図、第３図（（転）い）は摩擦抵抗の測定結果を示
すグラフ、第４図および第５図は摩擦係数の測定結果を
示すグラフ、第６図（イ）（りはシリコン単結晶の摩擦
面を示す顕微鏡写真、第６図（ハ）に）は銅球圧子の摩
擦面を示す顕グラフである。 図 中、 ｌ、真空容器 ２、基板ホルダー ３、基板 ４、高圧電線 ５、シャッタ ６、放電維持用電極 ７．１［予成出用フィラメント ８、＠流電掠 ９、直流ｉｋＬ源 １０．１１．ガス導入用可変バルブ １２・排気路 １３、永久磁石 ２１、試験片 ２２、銅球圧子 ２３、おも９ ２４、歪ゲージ ２５、バランスおもり ２６、移動台 ２７、アーム部でろる。 特許出願人 日本電信電話公社 代 理 人 弁理士光 石 士 部 （他１名） 第１図 第４図 ＃ネ距離 （ｍ） 第５図 Ｒ１塾距難（ｍ） 第７図 庫 糟距酊ｉ（ｍ）
示す概略図、第２図は摺動による摩擦、Ｄ耗試験装櫨の
概略図、第３図（（転）い）は摩擦抵抗の測定結果を示
すグラフ、第４図および第５図は摩擦係数の測定結果を
示すグラフ、第６図（イ）（りはシリコン単結晶の摩擦
面を示す顕微鏡写真、第６図（ハ）に）は銅球圧子の摩
擦面を示す顕グラフである。 図 中、 ｌ、真空容器 ２、基板ホルダー ３、基板 ４、高圧電線 ５、シャッタ ６、放電維持用電極 ７．１［予成出用フィラメント ８、＠流電掠 ９、直流ｉｋＬ源 １０．１１．ガス導入用可変バルブ １２・排気路 １３、永久磁石 ２１、試験片 ２２、銅球圧子 ２３、おも９ ２４、歪ゲージ ２５、バランスおもり ２６、移動台 ２７、アーム部でろる。 特許出願人 日本電信電話公社 代 理 人 弁理士光 石 士 部 （他１名） 第１図 第４図 ＃ネ距離 （ｍ） 第５図 Ｒ１塾距難（ｍ） 第７図 庫 糟距酊ｉ（ｍ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１ン 摺動面にダイヤモンドとグラファイトの混晶か
らなるイλ質カーボン膜を有することを特徴とする摺動
用機構部品、。 （２〕 上記摺動面をなす下地材料が、セラミックない
し石英結晶、シリコン結晶等の硬脆材料であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の摺ルｂ用機楊郡品
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58177706A JPS6071597A (ja) | 1983-09-26 | 1983-09-26 | 摺動用機構部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58177706A JPS6071597A (ja) | 1983-09-26 | 1983-09-26 | 摺動用機構部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6071597A true JPS6071597A (ja) | 1985-04-23 |
Family
ID=16035678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58177706A Pending JPS6071597A (ja) | 1983-09-26 | 1983-09-26 | 摺動用機構部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6071597A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60135564A (ja) * | 1983-12-23 | 1985-07-18 | Nippon Seiko Kk | 耐摩耗性金属摺動部材 |
| JPH01261570A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-18 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | メカニカルシール |
| JPH0510417A (ja) * | 1991-07-04 | 1993-01-19 | Juki Corp | 機械部品の結合構造 |
| JPH08500187A (ja) * | 1992-12-14 | 1996-01-09 | コンバッション エンヂニアリング インコーポレーテッド | 燃料集合体及び制御集合体の部品用の耐摩耗性コーティング及び耐摩耗性コーティングの形成法 |
-
1983
- 1983-09-26 JP JP58177706A patent/JPS6071597A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60135564A (ja) * | 1983-12-23 | 1985-07-18 | Nippon Seiko Kk | 耐摩耗性金属摺動部材 |
| JPH01261570A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-18 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | メカニカルシール |
| JPH0510417A (ja) * | 1991-07-04 | 1993-01-19 | Juki Corp | 機械部品の結合構造 |
| JPH08500187A (ja) * | 1992-12-14 | 1996-01-09 | コンバッション エンヂニアリング インコーポレーテッド | 燃料集合体及び制御集合体の部品用の耐摩耗性コーティング及び耐摩耗性コーティングの形成法 |
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