JPS60202533A - 磁気デイスク媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、磁性膜を被覆する潤滑層がエポキシシラン化
合物膜を介して骸磁性膜上の無機シリコン化合物膜と化
学結合し、固定化すると共に更に固体化するヒとによ）
潤滑層の均一化および長期安定性を高めた磁気ディスク
媒体に関一般にスパッタディスクなどの磁気ディスクの
記録、再生においては；ンメクト・スタートストップ方
式（ＣＳＳ方式）が主に採用されている。＃ｃｓｓ方式
τＦ！操作開始時または停止時にはヘッドと磁気ディス
ク面とを接触状１１にし、磁気ディスクに所要の回転を
与えることによ）ヘッドに浮上刃を与え、磁気ディスク
面とヘッド間に空気層を形成し、この状態で記−１再生
を行う。そのため接触状態での摩耗と磁気ディスクとヘ
ッド間の姿勢の変化がヘッドにかかる荷重を不均一にさ
せヘッドおよび磁気ディスク表面に傷を生ずることがあ
る。また潤滑剤の種類によル、ないしはその塗布量が多
過ぎるとヘッドと磁気ディスク間の吸着力が異常に大き
くなシ、そのため回転開始時または停止時にヘッドの破
壊と磁気ディスクの表面の損傷を招くヘッドクラッシュ
を起ζす可能性がある。更に記録再生中に突発的にヘッ
ドが磁気ディスクの媒体に接触し、ヘッドと磁気ディス
ク媒体間に大きな摩擦力が働き、ヘッドおよび磁気ディ
スク媒体が破壊さｎることかしばしば起こる。

・　このような現象を防止しヘッドおよび磁気ディスク
媒体を保護するために磁性膜表面に潤滑層を形成するこ
とが行なゎｎている。鋏潤滑層として、従来スパッタデ
ィスクの潤滑Ｋｄ次のような潤滑層が形成さｎている。

即ち、磁性膜上に無機シリコン化合物膜が設けらｎ１骸
膜上にフッ素化カーボン系潤滑剤であるバー７＄２０ポ
リエーテル（例えば商品名タライトックス１４３ＡＣ’
又はＡＤ、７オンゾリンＹＲ，Ｚ）ｔたはカルボキシル
基含有バーフａｎポリエーテル（例えば商品名タライト
ックス１５７ＦＳ’）ｈ；ｂいハシリコーンオイルなど
を塗布していた。しかし、パー７０ロボリエーテル中シ
リコーンオイルに磁気ディスク媒体の高速回転時にとｎ
らの潤滑剤が磁気ディスク媒体の中央部から外周部へ移
行し、潤滑剤膜厚に儲よルが生じ、その九あ前述したヘ
ッドと磁気ディスク媒体間の摩耗、ヘッドクラッシュ、
衝突などを有効に防止できないという問題がある。また
、カルボキシル基含有フッ素化ポリエーテルの使用によ
っても無機シリコン化合物とカルボキシル基間が第ｆａ
ｉｌに示すようＫ１１ｈ水素結合によって結合されて−
るため、潤滑剤であるカルボキシル基含有フッ素化ポリ
エーテルの磁気ディスク媒体表面への固定が十分圧なさ
れず、そのため蒸発による潤滑剤の消失を防ぐことがで
き表かった。又、高速回転時潤滑剤膜厚に偏よシが生じ
、そのためヘッドと磁気ディスク媒体間の摩耗、衝突に
よる損傷を有効に防止することができなかった。

本発明ｉｉこのような従来の問題点を解消した磁気ディ
スク媒体を提供するものてあって、その構成は、磁性膜
の表面に無機シリコン化合物膜が形成さ九た磁気ディス
ク媒体において、骸無機シリコン化合物膜の表面にエポ
キシシラン化合物が塗布され咳エポキシシラン化合物と
無機シリコン化合物膜とが縮合反応によシ化学結合し。

ボ中ジシラン化合物膜が形成さｎると共に、更に骸エポ
キシシラン化合物農表面にカルしスルホ；ル基含有フッ
素化カーボン系潤滑剤が塗布＠ｎ１上記エポキシシラン
化合物トノ開積・反応によル化学結合した潤滑層が形成
されることを特徴とする。

以下に本発明を図面に基づｉて詳細に説明する。

第２図は本発明に係る磁気ディスク媒体の一例を示す断
面図であり、同図にお−て、磁気ディスタ媒体はアルミ
ニウム基板ｌと、その上に被覆されたアルマイト層２と
、腋アルマイト層２の研摩面上に被覆ｇｔＬ１ｔｐｓを
主成分とする磁性膜３と、この磁性膜３上にスピンコー
ティングおよび熱処理によって形成さｆした無機シリコ
ン化合物ｊ１４と、この無機シリーン化合物膜上に形成
されたエポキシシラン化合物膜５と、このエポキシシラ
ン化合物Ｍ５上ＫＩ布さｋたカルボキシル基含有フッ素
化カーボン系潤滑剤膜６とから構成され、該・潤滑剤膜
６が上記エポキシシラン化合物Ｈ５を介して無機シリコ
ン化合る。

アルマイト層２を有するアルミニウム基板ｌは均一かつ
平滑な表面に仕上げられておル、中心線平均粗さが０．
０２ｐｍ以下に加工されている。次に無機シリコン化合
物膜４はメト午ジシラン中エトキシシランなどのアルコ
キシシランのエタノールあるいはエタノール系混合溶剤
による滴液を磁気ディスク媒体にスピンコー）した後熱
処理して形成される。次に無機シリコン化合物膜４＃ｉ
メトキシシランヤエトキシシランなどのアルコキシシラ
ンのエタノール、イノプロピルアルコール、グロパノー
ル、フタノールあるいはこれらの混合溶剤による溶液を
磁気ディスク媒体にスピンコードした後熱処理して形成
される。骸無機シリコン化合物膜４の化学組成はＳｔＯ
，に近く、共有結合からなる５ｉ−０結合と、水素結合
からなる８ｌ−Ｇ（、−ｏ結合が三次元的に網状に連な
った無機高分子である。尚ことで実線祉共有結合を、破
線は水素結合をあられす。該無機シリコン化合物膜４の
表面にエポキシシラン化合物が塗布さｎ１骸無機シリコ
ン化合物とエポキシシラン化合物との脱水縮合反応によ
ルエボキシシラン化合物Ｈ５が形成さｎる。第３図は無
機シリコン膜上のエポキシシランの配向状態を示す説明
図である。エポキシシラン化合物と無機シリフンとの結
合は次式（１）　Ｋ示すようにエポキシアルコキシシラ
ン（ＥｐＳｉシ含有基、Ｒはアルキル基を示す。〕の加
水分解物と無機シリコンのシラノール基とが脱水縮合反
応し、５ｉ−０−８ｉ結合をなすととＫよシ形成さｎる
。この反応は常温でも起こるが１００℃〜２００℃に加
熱すｎばよ〕確実に反応が進む。

Ｅｐ−８４０Ｈ＋ＨＯ−Ｓ鳳　〈 夏 上記エポキシシラン化合物は次の一般式にて示さｎる。

ここでｎは０またはｌ 該エポキシシラン化合物の具体例として例えば次の化合
物が挙げられる。脂肪族エポキシシラン化合物としては
一般式においてｎ　＝　Ｑの例としてｒ−グリシドキシ
プレビルトリエトキシシラン、ｒ−グリシドキシプレビ
ルトリエトキシシラン、−一グリシドキシエテルトリメ
トキシシラン、−一グリシドキシエテルトリエトキシシ
ランが挙けらｎる。一般式において、Ｈ＝ｚｌのものと
して社、ｒ−グリシドキシプルピル・メチルＶ゛メトΦ
ジシラン、ｒ−グリシドキシプルピル・メチルジェトキ
シシラン、β−グリシドキシエテルメチルジメトキシシ
ラン、−一グリシドキシエテルメチルジエトキシシラン
などがある。更に脂環式エポキシシラン化合物としては
、一般式においてｎミ０の例として、−一（３，４−エ
ポキシシランへ午シル）エテルトリメトキシシラン、Ｊ
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エテルトリエト
キシシラン、ｒ−（３，４−エポキシシクロへ中シル）
プルピルトリメトキシシラン、ｒ−（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）プ四ピルトリエトキシシランなどがあ
ル、一般式ｎ−１の例として社、ｐ−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルジメトキシメチルシラン、−
一（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルジメトキ
シメチルシラン−ｒｃｓｅｔ−エポキシシクロヘキシル
）プロビルジメトキシメチルシランｓｒ　（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）プロビルジエトキシメチルシラ
νなどが挙けらｎるが、こ　。

ｎらに限定されるものでない。

次に上記エポキシシラン化合物膜５にカルボキシル基含
有フッ素化カーボン系潤滑剤ないしスルホニル基含有フ
ッ素化カーボン系潤滑剤の潤滑剤膜６が塗布さｎ１上記
工ポキシシラン化合物と鋏潤滑剤との開法反応にょ〕該
潤滑剤膜６とエポキシシラン化合物膜５とは化学的に結
合する。

カルボキシル基含有フッ素化カーボン系潤滑剤としては
１，１．２−）リフ四ｍ２−１ｍ２−１ｅトリフルオロ
エタン（商品名フレオン１ｕｌｌ）　。

パー７−四テトラヒト賞フラン（商品名）四すナー）Ｆ
Ｃ−７７、ＦＣ−７５，ＦＣ−１０４住友３Ｍ社製）ｌ
ｋどの速乾性のフッ素化溶剤中にカルボキシル基含有フ
ッ素化カーボン（例工ば商品名クライトツクス１５７　
Ｆ　ｇ　ｄｕｐｏｎｔ社製表と）を少量溶かした亀のを
用いればよい。

かかるカルボキシル基含有フッ素化カーボン系潤滑剤と
しては片末端カルボキシル基含有ノ（−７ｇａエテルポ
リエーテル、片末端カルボキシ４含有バーフ曹ロイソプ
ロビルポリエーテルなどのカルボキシル基含有）（−フ
ローポリエーテルが挙げらｎる。

次ｔｃｘルホニル基含有フッ素化カーＭｙｌｌ、潤滑剤
としては片末端スルホニル基含有）（−７四ロエテルボ
リエーテル、片末ｍスルホニル基含有バー７０ロイソプ
ロビルポリエーテルなどのスルホニル基含有パー７０ロ
ボリエーテル重合体などが挙げらｎる。尚該潤滑剤の塗
布方法としてはスピンコーティング法、スプレー法、潤
滑剤溶液へ浸漬する方法などにょシ行うことができる。

該絢滑剤の塗布にょ〕フッ素化カーボン中のカルボ中シ
ル基なｉしスルホニル基とエポキシシラン化合物が組積
反応によ）容易に化学結合し、強固に磁気ディスク媒体
上に固定される。

ことで［４図に、磁気ディスク媒体上のアンノシラン化
合物６１ｖ）に化学的に結番したカルボキシル基含有フ
ッ化カーボン（＋）の配向状態を示す。カルボン酸含有
フッ化カーボン系潤滑剤はこのように、エポキシ基との
組積反応によ〕化学結合するととによ〕固体化し、磁気
ディスク媒体の記録再生時の高速回転によって４周辺部
へ流れることＫよる偏よ〕を生ぜずそのため、長期間に
わたって安定な磁気ディスク媒体の走行を達成すること
ができる。また潤滑剤の化学的安定性も増し、潤滑剤劣
化によるＪ１１１Ｊ１！係数のの無機シリコン化合物膜
を有する磁気ディスク媒体上にスピンコーティングによ
ル塗布した。塗布後、該磁気ディスク媒体を１００ｃで
１５分間恒温榴中で加熱した。該磁気ディスクを室温下
にて冷却後、磁気ディスクの表面上にスピンコーティン
グによ、ｔｔｏ、ｏｉｗｔ饅湊度（溶剤：フロリナー）
ＰＣ−７７）のカルボキシル基含有パー７０誼アル中ル
ポリエーテル（商品名：クライトツクス１５７Ｆ８／Ｈ
）　、を塗布する。上記の方法によ〕作製した磁気ディ
スクについて摩擦係数を測定したとり５靜摩擦係数、動
摩擦係数は共に０．２以下でめった。この時使用した磁
気ヘッドはスライダ幅０．３０■ｔ）　Ｍｎ　−Ｚｎフ
ェライト形テーパフラットスライダ（荷１６．０ｇ）で
ある。

嘔らに８０℃、８０−相対湿度雰囲気の恒温槽中１００
日間保持した後の摩擦係数は約４０憾しか増加していな
かった。コンタクトスタートストップ（ＣＳＳと以下省
略する）試験において、５万回以上のＣ８Ｓ試験を行な
つた後に４、磁気ディスク上に磁気ヘッドの摩耗跡を全
く残さず、また磁気ヘッド上に摩耗痕は全く認められず
、記鍜再生特性にも初期値からの劣化は全くなかった。

８０″ｔｌ：、８０−相対湿度（以下ＲＨと省略する）
の恒温槽中１００日間の磁気ディスクを放置後も磁気デ
ィスクと磁気ヘッド間の吸着力紘初期値の吸着力からの
増加は全く認められなかった。

ｔたＳｌ−ウェハ上に上記エポキシシラン化合物を膜状
に塗布し、さらｋその上にクライトツクス１５７ＦＳを
薄く均一に塗布し、１０ＧＣＩ５分間加熱すると、両者
は化学的に結合し固体になる。紋固体状生成物の吸着力
は液状物であるタライトツクス１５７　Ｆ　Ｂ　ｔＤ１
／１〜１／４と小さい。以上のよ５に本方法によって形
成された磁気ディスク上の潤滑膜は固体てあシ、タライ
トツクス１５７ＦＳの液状物に比べ、吸着力が１７ａ〜
１／、に減少している。

実施例２ 一般式においてｆｉ−Ｉ　Ｋ和尚する脂肪族工ボキシシ
ラン化合物中の１つを０．０１１１〜０．５饅濃度ｎ−
ブチルアルコール中に溶解後、この溶液をｓｔｏｗ　の
無機シリコン化合物膜を有する磁気ディスクにスピンコ
ーティングで塗布する。骸磁気ディスクを１００℃で１
８分間加熱する。放冷後室温で０．０１Ｗｔｌ濃度のタ
ライトツクス１５７Ｆ８のフロリナート・に−７７溶液
をスピンコーティング法で塗布した。得らｎた磁気ディ
スクに対し、６ｇ荷重０Ｍｎ−Ｚｎ形テーパフラットス
ライダによる試験を行なった。その結果、磁気ディスク
との摩擦係数は０．２以下であシ、８０℃、８０１１Ｒ
Ｈ，１００日間の磁気ディスクのエージング試験後も摩
擦係数の増加は初期値の２５−以下であった。さらに７
万回のＣ８Ｓ試験もパスし、磁気ディスクと磁気ヘッド
の摩耗やヘッドクラツシエは全く認めらｎなかった。

更に上記エージング試験後においても、本実施例におい
ては上記のように潤滑層を形成した磁気ディスクの吸着
力は２６ｍＮ　と小さかつた。尚Ｓｉｎ、上で上記エポ
キシシラン化合物とカルボキシル基含有パーフルオロポ
リエーテルとの反応生成物は６０℃〜７０Ｃの加熱て容
易に半固体化した。

以上のように本ＩＪ！施例によって形成された磁気ディ
スクの潤滑層は半固体てＴｏシ、液状物であるカルボキ
シル基含有パーフルオロポリエーテル（商品名：クライ
トックス１５７Ｆ８　）Ｋ比べ、吸着力は初期値、エー
ジング試験後、いずれも、”／３　”””　”／４に減
少しているＯ ＊飽例３ 一般式においてｎ■Ｏの脂環式エポキシシラン化合物を
０．０１鳴〜ｏ、　ｓ　ｖｏｚ　＊の濃度にイソプルピ
ルアルコールに溶解すゐ。本溶液を無機シリコン化合物
膜付磁気ディスクにスピンコーティングする。該磁気デ
ィスクを１１０℃１５分間加熱する。室温に放冷後、０
．ＯＩＪＳｗｔ−のクライトックス１５７Ｆｇ（溶剤：
）ｑリナートＰＣ−７７）ｔ−塗布する。次ｉで荷重６
．３　ｇ　ＯＭｎ　−Ｚｎ形テーパ７ラツトスライダを
用いた試験を行なった。その結果、摩擦係数社０．２以
下であり、８０℃、８（ＩＲＨの雰囲気中１００日間磁
気ディスクを放置後も摩擦係数の初期値からの増加は３
０−以下であった。また吸着力は初期値、１００日後４
）１ｓｍＮ　と小さく、ｔた経時変化はほとんど無かっ
た。ｌＯ万回のＣ８Ｓ試験もパスし、磁気ディスク、ヘ
ッドいずｎも異常中記龜特性Ｏ性能劣化が認められなか
った。

実施例４ 上記、一般式においてｎ　＝＝　１の脂環式エポキシシ
ラン化合物を０．０１〜０．０５ｖｏＡ％１１度にエテ
ルアルコールに溶解する。こＯ溶液を無機シリコン化合
物膜付磁気ディスクにスピンコーティングする。該磁気
ディスク’１１３０℃、１５分間加熱する。室温に放冷
後、０．０２ｗｔ１（Ｄり５４　）ツ／ｘ１５７　ＦＳ
／Ｈ（溶剤：フロリナートＦＣ−７５）をワイプ法（潤
滑ｍ１１１溶液を含浸したティシュで数回、磁気ディス
ク面をディスクを回転させながらこする方法）で塗布す
る。次い″ｅ６．２ｇ荷重のＭｎ−Ｚｎ形テーパ７ラツ
トスライダーを用−て試験を行なｉ以下の結果を得た。

摩擦係数は０．２以下であった。８（１，８０優ｆＬＨ
雰囲気下に磁気ディスクを保った後、室内で摩擦係数を
測定したとζろ、初期値からの摩擦係数の増加はａＯ＊
以下であった。また８Ｇ’Ｃ，８０ｔｓＲＨ，１００日
後の吸着力ｔ！１５ｍＮ　であシ、この値は、初期値（
即ち８０℃、８Ｏ−ＲＨ，９日）の値からはとんど増加
していなかった。以上のように本実施例によ〕形成さｆ
′した磁気ディスクの潤滑層は半固体でＴｏシ、液状の
タライトツクス１５７Ｆ８に比べ、吸着力は約ｌ／３〜
ｌ／４に小さくなってｉる。ｌＯ万ｇＪｏｃｓｓ試験に
もパスし磁気ディスク。

磁気ヘッド共試験後厚耗痕や記鍮再生時の異常は全く認
めらｎなかりた。

実論例５ 脂肪族エポキシシラン化合物のうちの１つをエテルアル
コールに０．Ｏ１〜ｌ　ｖｏｊ−溶屏し、スパッタ形磁
気薄膜媒体上にスピンコーティングによｎｍ布した。塗
布後、該媒体を１００℃て１５分間恒温槽中で加熱する
。絨磁気薄膜媒体（以下磁気ディスクという）を室温に
冷却後、該磁気ディスクの表面上にスピンコーティング
によシ０．００１〜０．０１ｗｔ１濃度（溶剤＝）ｑリ
ナートＦＣ−７７）の両末端カルボキシル基含有バーフ
ルオａボｌ：Ｃ−チル〔構造式：　ＨＯＯＣＣＦｍ−（
０−Ｃ＊Ｆａ　）ｘ　−（０−ＣＦｍ　）ｙ　−ＯＣＦ
、Ｃ００Ｈ）を塗布する。上記の方法によシ作成し友磁
気ディスクについて、摩擦係数を測定したとζろ静摩擦
係数、動摩擦係数は共に０．２以下であった。この時、
使用した磁気ヘッドはスライダ幅０．２０閣の庵−Ｚｎ
形テーパフラットスライダである。

さらに８０℃、８０１１ＲＨ雰囲気の恒温恒湿槽中１０
０日後も摩擦係数は約１５−しか増加しなかった。

又、コンタクト・スタート・ストップ（（ＦＭＳ）試験
においても７万回以上のＣ８Ｓを行なった後にも、磁気
ディスク上に磁気ヘッドの摩耗跡を全く残さず、また磁
気ヘッド上に摩耗痕を全く認められなかった。８０Ｔ：
、８０優ＲＨの恒湿槽中に１００日澗磁気ディスクを放
置した後も充分に小さく、全く磁気ヘッドの吸着現象は
認められなかった。

またＳｌ−クエへ〜上に上記脂肪族エポキシシラン化合
物を比較的厚？Ｊ［Ｋ塗布し、さらに、その上に両末端
カルボキシル基ｔ、ｔパーフルオ四ポリエーテルを薄く
層状に塗布すると、この両化合物ｔｊ１５０℃で容易に
固体になる。この固体物の吸着力は液状のクライトツク
ス１５７Ｐ８の約ｌ／３〜ｌ／４と小さい。

このように本方法によって形成さｎた磁気ディスク上の
潤滑膜も固体であ〕、両末端カルボキシル基含有パーフ
ルオロポリエーテルの液状物に比べ、吸着力が１／３〜
１／４に小さくなっている。また吸着水分量も約−に減
少する。

以上説明したように１本発明によれば磁気ディスク媒体
上の無機シリーン膜にエポキシシラン化合物を結合させ
、さらにカルボキシル基含有フッ素化カーボンないしス
ルホニル基含有フッ素化カーボ決開壌反応によ〕化学結
合させて潤滑層を形成することによル、フッ素化カーボ
ン系潤滑剤を磁気ディスク表面に強固に結合させると共
に潤滑剤を固体化ないし半固体化場せる。このため潤滑
剤が高速回転によシ偏シを生ずる不都合がなく、高速安
定性が格段に向上する。さらに該潤滑剤の化学的安定性
を増し、潤滑剤劣化による潤滑性能の低下を押えること
ができる。このため、ヘッドと磁気ディスク媒体間の摩
耗が減少すると共にヘッドのディスクへの吸着が抑制さ
れ、ヘッドの衝５１！による破壊。

損傷を抑えることが出来るため、磁気ディスク媒体の長
期間にわたる高信頼性の走行および記録再生を行なうこ
とができる利点がある。

【図面の簡単な説明】 φ１−°１　％Ｉレセ　ふ　−　、龜Ｉ　１已　ンノ　
膳−１を一ト☆　ツ　−リ　慝ｌし　幽　−，１５ン系
掴滑剤の無機シリーン化合物膜上の配向状態を示す説明
図、第２図は本発明の磁気ディスク媒体の実施例を示す
断面図、第３図はエポキシシラン化合物の無機シリコン
化合物膜上の配向状態を示す説明図、第４図はエポキシ
シラン化合物上にカルボキシル基含有フッ素化カーボン
が開環反応によシ結合した無機シリコン化合物膜上の配
向状態を示す説明図、第５図は本発明に係る磁気ディス
ク媒体（１）とエポキシシラン化合物を塗布してなる比
較例の磁気ディスク媒体（ｎ）とを８０℃、８Ｇ９６相
対湿相対圧放置した時の摩擦係数の放置時間による変化
を示したグラフである。 図　中、 （１）はカルボキシル基含有フッ素化カーボン、（１１
）は無機シリコン化合物膜表面、４ｉＤ　Ｆｉ無機シリ
コン化合物、 Ｇｖ）はエポキシシラン化合物、 実線は共有結合、破線は水素結合、Ｅｐはエポキシ含膚
基な示す・ ｌ・・・アルミニウム基板、 ２・・・アルマイト層〜 ３０・磁性膜、 ４・・・無機シリーン化合物膜、 ５・・・エポキシシラン化合物膜、 ６・−・カルボキシル基含有フッ素化カーボン系潤滑剤
膜。 特許出願人 日本電信電話公社 代　理　人 弁理士　光　石　士　部 （他１名） 第１図 第２図 第３図 （ＣＨ２）３ 第５図 放置時間（日） 手続補正書 昭和５９年１２月３日 特許庁長官殿 １、　事件の表示 昭和５９年　特　許　願第５７４５３号昭和　年審　判
第　号 ２、発明の名称 磁気ディスク媒体 ３、！ｌｉ正をする者 事件との関係　特許出願人 東京都千代田区内幸町１丁目１番６号 （４２２）日本電信電話公社 ４、代理人 ６、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄。 ７、補正の内容 （１）　明細書の第１４ページ２枚のうち前のものを添
付別紙の通りに補正する。 ８、添付書類の目録 （１）明細書第１３ページ　１　通 増加、摩耗、衝突などによるヘッドおよび磁気ディスク
媒体の損傷を確実に防止できる。 因に、ヘッドと磁気ディスク媒体間の８０℃。 ８０％相対湿度下の放置時間による摩擦係数の変化を第
５図に示す。図中（１）は、エポキシシラン塗布後その
表面に更にカルボキシル基含有フッ化カーボン系潤滑剤
（商品名クライトツクス１５７ＦＳなど）を塗布した本
発明に係る磁気ディスク媒体であり、（ＩＩ）は無機シ
リコン層上に単にカルボキシル基含有フッ素化カーボン
系潤滑剤を塗布した磁気ディスクの媒体である。グラフ
から明らかなように（１）に比べて（１）の放置時間に
よる変化は非常に小さく、摩擦係数に影響するフッ素化
カーボン系潤滑剤の化学的安定性が顕著に増加している
ことが判る。 次に本発明の実施例を示す。 実　施　例　ｌ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１，磁性膜の表面に無機シリコン化合物膜が形成さｆ
   した磁気ディスク媒体において、該無機シリコン化合物
   層の表面にエポキシシラン化合物が論布され腋エポキシ
   シランと無機シリコン化合物層とが縮合反応にょシ化学
   結合したエポキシシラン化合物膜が形成さｎると共に１
   更に該エポキシシラン化合物膜表面にカルボキシル基含
   有フッ素化カーボン系潤滑剤ないしスルホチル基含有フ
   ッ素化カーボン系潤滑剤が塗布さｎ１上記工ポキシシラ
   ン化合物との開環反応によル化学結合した潤滑層が形成
   さｎることを特徴とする磁気ディスク媒体。 （２）上記カルボキシル基含有フッ素化カーボンＫ１１
   ａ播ｍｌ→−ｔ＾＊−−ふ２１−−レームーーーボン系
   潤滑剤とエポキシシラン化合物膜の開環反応によ〕潤滑
   層が固体状ないし半固体状であることを特徴とする特許
   請求の範８第１項記載の磁気ディスク媒体。 （３）カルボキシル基含有フッ素化カーボン系潤滑剤と
   してカルボ中シル基含有パー７ａｍ・ポリエーテル重合
   体を用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の磁気ディスク媒体。 （４）　スルホニル基含有フッ素化カーボン系潤滑剤と
   してスルホチル基含有バー７ｐロボリエーテル重合体を
   用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁
   気ディスク媒体。