JPS60104092A - スピロオルソエステル基を有する化合物 - Google Patents
スピロオルソエステル基を有する化合物Info
- Publication number
- JPS60104092A JPS60104092A JP58209905A JP20990583A JPS60104092A JP S60104092 A JPS60104092 A JP S60104092A JP 58209905 A JP58209905 A JP 58209905A JP 20990583 A JP20990583 A JP 20990583A JP S60104092 A JPS60104092 A JP S60104092A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規化合物に関するもので、本発明により提供
される化合物は、例えばその分子中のビニル基、エポキ
シ基およびスピロオルソエステル化合物である。
される化合物は、例えばその分子中のビニル基、エポキ
シ基およびスピロオルソエステル化合物である。
なお、この一般式〔1〕においてxlyおよび2は、各
構成単位のモル分率を表わし、またnは6.4または5
の整数である。
構成単位のモル分率を表わし、またnは6.4または5
の整数である。
前記一般式〔1〕で示される化合物(以下化合物〔1〕
という)は、下式〔2〕に示すような1,4−ポリブタ
ジェンのエポキシ化物(以下化合物〔2〕という)と、
γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトンまたはε−カ
グロラクトンとの、下記のごとき反応によって製造され
、その重量平均分子量(以下単に分子量という)は、原
料として使用される化合物〔2〕の分子量、同化合物の
エポキシ当量およびラクトンとエポキシ基の反応量に対
応して、300〜500000の広い範囲に及んでいる
。
という)は、下式〔2〕に示すような1,4−ポリブタ
ジェンのエポキシ化物(以下化合物〔2〕という)と、
γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトンまたはε−カ
グロラクトンとの、下記のごとき反応によって製造され
、その重量平均分子量(以下単に分子量という)は、原
料として使用される化合物〔2〕の分子量、同化合物の
エポキシ当量およびラクトンとエポキシ基の反応量に対
応して、300〜500000の広い範囲に及んでいる
。
モル分率X w Yおよび2の関係は、化合物〔1〕に
おけるスピロオルジエステル基導入率すなわち化合物〔
2〕のエポキシ基数に対する反応で消費されるエポキシ
基数の比率なαで表わすとき、y=こ−で!≦X<1.
0.01≦αイ1である。
おけるスピロオルジエステル基導入率すなわち化合物〔
2〕のエポキシ基数に対する反応で消費されるエポキシ
基数の比率なαで表わすとき、y=こ−で!≦X<1.
0.01≦αイ1である。
ρ
本発明において特に有用な化合物〔1〕は、パ〈X≦0
.9,0.1≦α41であって、分子量が500〜25
000のものである。
.9,0.1≦α41であって、分子量が500〜25
000のものである。
化合物〔1〕の製造に際しては、化合物〔2〕とγ−ブ
チロラクトン、−一バレロラクトンまたはε−カプロラ
クトンとを、例えば三フッ化ホウ素・エーテル錯体やp
−)ルエンスルホン酸等のルイス酸を触媒として、溶媒
を用いることなくまたは塩化メチレンやトルエン等の溶
媒中で反応させる。反応温度は特に制限はないが、一般
に一10℃〜60℃が適当であり、特に0℃−15℃が
好ましい。また反応仕込み当量比(ラクトン化合物/化
合物〔2〕のエポキシ基の当量数)については0.1〜
50が適当であり、特に0.5〜10が好ましい。次に
使用溶媒量に関しては、これも特に制限はないが、一般
にはO〜20(対仕込み化合物〔2〕重量比)が好まし
い。望ましい製造方法としを所定温度に維持しつつ、ラ
クトンと溶媒からなる溶液に対して通常0.02〜6重
量%(ラクトン化合物に対しては0.05〜10重量%
)の触媒を添加し、化合物〔2〕を10倍(重量比)程
度までの溶媒との溶液として滴下する方法があげられる
。
チロラクトン、−一バレロラクトンまたはε−カプロラ
クトンとを、例えば三フッ化ホウ素・エーテル錯体やp
−)ルエンスルホン酸等のルイス酸を触媒として、溶媒
を用いることなくまたは塩化メチレンやトルエン等の溶
媒中で反応させる。反応温度は特に制限はないが、一般
に一10℃〜60℃が適当であり、特に0℃−15℃が
好ましい。また反応仕込み当量比(ラクトン化合物/化
合物〔2〕のエポキシ基の当量数)については0.1〜
50が適当であり、特に0.5〜10が好ましい。次に
使用溶媒量に関しては、これも特に制限はないが、一般
にはO〜20(対仕込み化合物〔2〕重量比)が好まし
い。望ましい製造方法としを所定温度に維持しつつ、ラ
クトンと溶媒からなる溶液に対して通常0.02〜6重
量%(ラクトン化合物に対しては0.05〜10重量%
)の触媒を添加し、化合物〔2〕を10倍(重量比)程
度までの溶媒との溶液として滴下する方法があげられる
。
反応の進行度は反応液を液体クロマトグラフで分析する
ことによって容易に知ることができるほか、反応液のエ
ポキシ基を常法による滴定によってめることによっても
知ることができる。
ことによって容易に知ることができるほか、反応液のエ
ポキシ基を常法による滴定によってめることによっても
知ることができる。
反応液からの化合物〔1〕の分離取得は、まず反応終了
時にトリエチルアミン等の塩基を加えてルイス酸を失活
させた後、そのまま脱溶剤・脱ラクトンを行なうか、あ
るいはアルカリ洗浄によってラクトン化合物を除去した
後、脱溶剤することによって行なう。
時にトリエチルアミン等の塩基を加えてルイス酸を失活
させた後、そのまま脱溶剤・脱ラクトンを行なうか、あ
るいはアルカリ洗浄によってラクトン化合物を除去した
後、脱溶剤することによって行なう。
化合[1)におけるスピロオルジエステル基の導入率は
、二重結合炭素に結合しているメチレン基のプロトンと
、スピロオルジエステル基および未反応のエポキシ基の
炭素に結合しているメチレン基のプロトンの割合を、核
磁気共鳴スペクトルC以下NMRという)の積分曲線よ
り読み取り、そのプロトン比に基づいて算出することが
でき、後記の実施例における化合物(1)のスピロオル
ジエステル当量は、この方法による導入率に基づいて算
出した値である。
、二重結合炭素に結合しているメチレン基のプロトンと
、スピロオルジエステル基および未反応のエポキシ基の
炭素に結合しているメチレン基のプロトンの割合を、核
磁気共鳴スペクトルC以下NMRという)の積分曲線よ
り読み取り、そのプロトン比に基づいて算出することが
でき、後記の実施例における化合物(1)のスピロオル
ジエステル当量は、この方法による導入率に基づいて算
出した値である。
本発明の化合物〔1〕は、分子内にスピロオルジエステ
ル基およびビニル基を有しておりまたエポキシ基を有す
ることも可能であり、各官能基特有の反応、例えばラジ
カル重合やイオン重合反応を行なわせることによって架
橋重合物を得ることが可能である。特にスビロオルンエ
ステル化合物は開環重合の際体積収縮の小さいことが知
られており(USP4,368,314 、 USP4
,332,751 。
ル基およびビニル基を有しておりまたエポキシ基を有す
ることも可能であり、各官能基特有の反応、例えばラジ
カル重合やイオン重合反応を行なわせることによって架
橋重合物を得ることが可能である。特にスビロオルンエ
ステル化合物は開環重合の際体積収縮の小さいことが知
られており(USP4,368,314 、 USP4
,332,751 。
特開昭57−42724.特開昭57−67628等)
1本発明の化合物〔1〕はスピロオルジエステル基を利
用して架橋反応させることにより、体積収縮の小さい重
合物を与えることもできる。また本発明の化合物〔1〕
は例えば有機酸無水物等を硬化剤にして接着剤に利用す
ることもでき、その場合には、はく離強度が大きいとい
う特長を有して力による接着力の低下をきたす接着剤ま
たは剥離が問題となる塗料等の素材として、従来の収縮
性樹脂を代替しうる有用な物質である。
1本発明の化合物〔1〕はスピロオルジエステル基を利
用して架橋反応させることにより、体積収縮の小さい重
合物を与えることもできる。また本発明の化合物〔1〕
は例えば有機酸無水物等を硬化剤にして接着剤に利用す
ることもでき、その場合には、はく離強度が大きいとい
う特長を有して力による接着力の低下をきたす接着剤ま
たは剥離が問題となる塗料等の素材として、従来の収縮
性樹脂を代替しうる有用な物質である。
次に本発明を実施例によってさらに具体的に説明する。
実施例1
攪拌機、・・デルサン把度計および滴下・−トを取付け
た4つロフラスコ(、塩化メチレン40meとε−カプ
ロラクトン24.0g(0,21moe)を加え、この
反応混合物を氷水で約15℃に冷却した後、三ツ、化ホ
ウ素・エーテル錯体0.O’85meを加えた。この溶
液に、化合物〔2〕としてエポキシ化率30モル係で分
子量6500のエポキシ化ポリブタジェンであるEP−
LGB−り0〔日本ゼオン0菊製商品名)10.79g
(0,055グラム当量)と塩化メチレン20meの混
合溶液を1時間かけて滴下し、m滴下終了後さらに6時
間15℃で反応させた。反応はトリエチルアミンを0.
123m1!加えて触媒を失活させることによって停止
し、次に過剰のε−カプロラクトンを除くためこの反応
液を、水70meK水酸化ナトリウム12.611を溶
解させた水溶液に注ぎ、2硫酸マグネシウムで脱水後、
脱溶剤して10.8#の化合物〔1〕を得た。この生成
物は次式で表わされる分子量9500の化合物であり、
淡黄色の粘稠す液体でスピロオルジエステル当量は34
0I/ eq であり、エポキシ当量は2211g/e
qであった。
た4つロフラスコ(、塩化メチレン40meとε−カプ
ロラクトン24.0g(0,21moe)を加え、この
反応混合物を氷水で約15℃に冷却した後、三ツ、化ホ
ウ素・エーテル錯体0.O’85meを加えた。この溶
液に、化合物〔2〕としてエポキシ化率30モル係で分
子量6500のエポキシ化ポリブタジェンであるEP−
LGB−り0〔日本ゼオン0菊製商品名)10.79g
(0,055グラム当量)と塩化メチレン20meの混
合溶液を1時間かけて滴下し、m滴下終了後さらに6時
間15℃で反応させた。反応はトリエチルアミンを0.
123m1!加えて触媒を失活させることによって停止
し、次に過剰のε−カプロラクトンを除くためこの反応
液を、水70meK水酸化ナトリウム12.611を溶
解させた水溶液に注ぎ、2硫酸マグネシウムで脱水後、
脱溶剤して10.8#の化合物〔1〕を得た。この生成
物は次式で表わされる分子量9500の化合物であり、
淡黄色の粘稠す液体でスピロオルジエステル当量は34
0I/ eq であり、エポキシ当量は2211g/e
qであった。
その物性値は下記のとおりである。
赤外線吸収スペクトル(以下IRと略記する);(第1
図参照) 1075漏’$(c−o−c )。
図参照) 1075漏’$(c−o−c )。
1650漏1ノ(C=C)
NMR;(第2図参照)
δ(ppm )
1.62(エポキシ基あるいはスピロオルジエステル基
の炭素原子に結合して いる主鎖および側鎖のメチレン基 のプロトン) 2、08 (二重結合炭素に結合しているメチレン基の
プロトン) 2.9(エポキシ酸素に結合しているメチン基のプロト
ン) 3.5〜38 (スピロオルジエステル基の酸素原 子に結合している側鎖のメチレン 基のプロトン) 5.34(二重結合のメチン基のプロトン)実施例2 攪拌機、コンデンサー、温度計および滴下ロートを取伺
けた4つロフラスコに、塩化メチレン70m lとγ−
ブチロラクトy23.01 ([1,27moe)を加
え、この酩混合物を氷水で15℃に冷却した後、三フッ
化ホウ素・エーテル錯体0.167r+Vを加えた。次
に実施例1と同じエポキシ化ポリブタジェンgP−LC
13−30の24.019(0,12グラム当量)と塩
化メチレン50meの混合溶液を1時間かけて滴下し、
滴下終了後さらに2時間反応させた。トリエチルアミン
0.251−+teを加えて触媒を失活させることによ
り反応を停止した後、過剰のγ−ブチロラクトンを除く
ため、反応液な1otJh−NaoH水溶液ioomt
’中に注ぎ、3時間激しく攪拌した。次に遠心分離によ
って有機層を分取し、水洗3回、無水硫酸マグネシウム
による脱水、脱溶剤後266gの化合物〔1〕を得た。
の炭素原子に結合して いる主鎖および側鎖のメチレン基 のプロトン) 2、08 (二重結合炭素に結合しているメチレン基の
プロトン) 2.9(エポキシ酸素に結合しているメチン基のプロト
ン) 3.5〜38 (スピロオルジエステル基の酸素原 子に結合している側鎖のメチレン 基のプロトン) 5.34(二重結合のメチン基のプロトン)実施例2 攪拌機、コンデンサー、温度計および滴下ロートを取伺
けた4つロフラスコに、塩化メチレン70m lとγ−
ブチロラクトy23.01 ([1,27moe)を加
え、この酩混合物を氷水で15℃に冷却した後、三フッ
化ホウ素・エーテル錯体0.167r+Vを加えた。次
に実施例1と同じエポキシ化ポリブタジェンgP−LC
13−30の24.019(0,12グラム当量)と塩
化メチレン50meの混合溶液を1時間かけて滴下し、
滴下終了後さらに2時間反応させた。トリエチルアミン
0.251−+teを加えて触媒を失活させることによ
り反応を停止した後、過剰のγ−ブチロラクトンを除く
ため、反応液な1otJh−NaoH水溶液ioomt
’中に注ぎ、3時間激しく攪拌した。次に遠心分離によ
って有機層を分取し、水洗3回、無水硫酸マグネシウム
による脱水、脱溶剤後266gの化合物〔1〕を得た。
この生成物は次式で表わされる分子量7300の化合物
であり、淡黄色の粘稠な液体でスピロオルジエステル当
量は7399 / eq であり、エポキシ当量は3f
7#/eq であった。
であり、淡黄色の粘稠な液体でスピロオルジエステル当
量は7399 / eq であり、エポキシ当量は3f
7#/eq であった。
その物性値は下記のとおりである。
IRE(第6図参照)
1050crrL’(C−0−C) 。
1650crrL’(C=C)
NMR;(第4図参照)
δ(ppm)
1、55 (エポキシあるいはスピロオルンエステル基
の炭素原子に結合してい る主鎖および側鎖のメチレン基の プロトン) 2.0(二重結合炭素に結合しているメチレン基のプロ
トン) 2.84(エポキシ酸素に結合しているメチン基のプロ
トン) !1.84(スピロオルジエステル基の酸素原子に結合
している側鎖のメチレン 基のプロトン) 5、32 (二重結合のメチン基のプロトン)参考例1 実施例1で製造した化合物(1) 100重量部(以下
部と略記する)と硬化剤としてのメチルへキサヒドロ無
水フタル酸55部よりなる組成物を用いて、アルミ板(
厚さ0.6 wm )の接着を行なった。アルミ板とし
てアセトンで脱脂処理したものを用い、120℃におい
て2時間さらに150℃において2時間加熱した後、J
I8に6854−1977に準じてT型はく離強度を測
定したところ5kg/インチであった。
の炭素原子に結合してい る主鎖および側鎖のメチレン基の プロトン) 2.0(二重結合炭素に結合しているメチレン基のプロ
トン) 2.84(エポキシ酸素に結合しているメチン基のプロ
トン) !1.84(スピロオルジエステル基の酸素原子に結合
している側鎖のメチレン 基のプロトン) 5、32 (二重結合のメチン基のプロトン)参考例1 実施例1で製造した化合物(1) 100重量部(以下
部と略記する)と硬化剤としてのメチルへキサヒドロ無
水フタル酸55部よりなる組成物を用いて、アルミ板(
厚さ0.6 wm )の接着を行なった。アルミ板とし
てアセトンで脱脂処理したものを用い、120℃におい
て2時間さらに150℃において2時間加熱した後、J
I8に6854−1977に準じてT型はく離強度を測
定したところ5kg/インチであった。
第1図は実施例1で得た化合物〔1〕のIR,スペクト
ル図であり、第2図は同化合物のNM几スペクトル図で
ある。 第3図は実施例2で得た化合物〔1〕のIR,スペクト
ル図であり、第4図は同化合物のNMR,スペクトル図
である。 特許出願人の名称 東亜合成化学工業株式会社 第1頁の続き ■InJC1,4識別記号 0発 明 者 遠 藤 剛 庁内整理番号 横浜市旭区さちが丘143−13
ル図であり、第2図は同化合物のNM几スペクトル図で
ある。 第3図は実施例2で得た化合物〔1〕のIR,スペクト
ル図であり、第4図は同化合物のNMR,スペクトル図
である。 特許出願人の名称 東亜合成化学工業株式会社 第1頁の続き ■InJC1,4識別記号 0発 明 者 遠 藤 剛 庁内整理番号 横浜市旭区さちが丘143−13
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 下記一般式で示されるスピロオルジエステル基を
有する化合物。 (ここで、nはろ、4または5の整数を表わし、x、y
および2は各構成単位のモル分率を表わす)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58209905A JPS60104092A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | スピロオルソエステル基を有する化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58209905A JPS60104092A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | スピロオルソエステル基を有する化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60104092A true JPS60104092A (ja) | 1985-06-08 |
Family
ID=16580589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58209905A Pending JPS60104092A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | スピロオルソエステル基を有する化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60104092A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6433182A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-03 | Agency Ind Science Techn | Sparingly shrinking impregnating agent for porous body and sealing pore of porous body therewith |
JPH04330425A (ja) * | 1991-02-28 | 1992-11-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光波長変換装置 |
WO2005037818A1 (ja) * | 2003-10-16 | 2005-04-28 | Asahi Glass Company, Limited | 新規な含フッ素ジオキソラン化合物、および新規な含フッ素重合体 |
WO2005085303A1 (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Asahi Glass Company, Limited | 硬化性組成物および含フッ素硬化物の製造方法 |
-
1983
- 1983-11-10 JP JP58209905A patent/JPS60104092A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6433182A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-03 | Agency Ind Science Techn | Sparingly shrinking impregnating agent for porous body and sealing pore of porous body therewith |
JPH0412907B2 (ja) * | 1987-07-30 | 1992-03-06 | Kogyo Gijutsu Incho | |
JPH04330425A (ja) * | 1991-02-28 | 1992-11-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光波長変換装置 |
WO2005037818A1 (ja) * | 2003-10-16 | 2005-04-28 | Asahi Glass Company, Limited | 新規な含フッ素ジオキソラン化合物、および新規な含フッ素重合体 |
JPWO2005037818A1 (ja) * | 2003-10-16 | 2006-12-28 | 旭硝子株式会社 | 新規な含フッ素ジオキソラン化合物、および新規な含フッ素重合体 |
CN100412072C (zh) * | 2003-10-16 | 2008-08-20 | 旭硝子株式会社 | 含氟二氧戊环化合物及新型含氟聚合物 |
JP4696914B2 (ja) * | 2003-10-16 | 2011-06-08 | 旭硝子株式会社 | 新規な含フッ素ジオキソラン化合物、および新規な含フッ素重合体 |
WO2005085303A1 (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Asahi Glass Company, Limited | 硬化性組成物および含フッ素硬化物の製造方法 |
US7252886B2 (en) | 2004-03-08 | 2007-08-07 | Asahi Glass Company, Limited | Curable composition and process for producing cured fluorinated product |
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