JPS5978194A - ２−フエニルイミダゾ〔２，１−ｂ〕ベンゾチアゾ−ルの新規誘導体およびその製造法 - Google Patents
２−フエニルイミダゾ〔２，１−ｂ〕ベンゾチアゾ−ルの新規誘導体およびその製造法Info
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- JPS5978194A JPS5978194A JP57188866A JP18886682A JPS5978194A JP S5978194 A JPS5978194 A JP S5978194A JP 57188866 A JP57188866 A JP 57188866A JP 18886682 A JP18886682 A JP 18886682A JP S5978194 A JPS5978194 A JP S5978194A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は下記一般式（Ｉ）で示される２−フェニルイミ
ダゾ［２，１−ｂ］ベノゾチアゾールの新規誘導体及び
その塩並びにそれらの製造法に関するものである。
ダゾ［２，１−ｂ］ベノゾチアゾールの新規誘導体及び
その塩並びにそれらの製造法に関するものである。
（式中、Ａは低級アルキレン基又は低級アルケニレン基
を、ｎは０又は１を、Ｒは低級アルキル基を意味する。
を、ｎは０又は１を、Ｒは低級アルキル基を意味する。
以下同様）
本明細書中の一般式の基の定義において。
２低級、なる語は炭素数が１〜５個（低級アルケニレン
基におし・ては２〜５個）の直鎖状又は分枝状の炭素鎖
を意味する。従って、Ｒが示す低級アルキル基としては
メチル基、エチル基２プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、 ５ｅｅ−ブチル基ｒ ｔ
ｅ ｒ ｔ−ブチル基。
基におし・ては２〜５個）の直鎖状又は分枝状の炭素鎖
を意味する。従って、Ｒが示す低級アルキル基としては
メチル基、エチル基２プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、 ５ｅｅ−ブチル基ｒ ｔ
ｅ ｒ ｔ−ブチル基。
ペノチル基、イソアミル基、ネオペンチル基等が挙げら
れる。また、Ａの低級アルキレフ基としてはメチレン基
、メチルメチレ／基、エチレン基、トリメチレン基、プ
ロピレノ基、エチルメチレン基、テトラメチレフ基、メ
チルトリメチレノ基、エチルエチレン基、プロビルメチ
レ／基、イソプロピルメチレン基、ジメチルエチレン基
、エチルメチルメチレン基、ペンタメチレン基、メチル
テトラメチレン基、エチルトリメチレノ基、プロピルエ
チレン基、ブチルメチレン基、ジメチルトリメチレン基
、イソプロピルエチレン基、エチルメチルエチレン基、
ジエチルメチレ／基、メチルプロピルメチレン基等が、
更に低級アルケニレン基としては、ビニレン基、メチル
ビニレン基、フロペニレン基、ブテニレン基、メチルグ
ロペニレン基、エチルビニレン基、ジメチルビニレン基
、ペンテニレン基、メチルブテニレン基、エチルプロペ
ニレン基、プロピルビニレン基、ジメチルプロペニレン
基、エチルメチルビニレン基等が挙げられる。
れる。また、Ａの低級アルキレフ基としてはメチレン基
、メチルメチレ／基、エチレン基、トリメチレン基、プ
ロピレノ基、エチルメチレン基、テトラメチレフ基、メ
チルトリメチレノ基、エチルエチレン基、プロビルメチ
レ／基、イソプロピルメチレン基、ジメチルエチレン基
、エチルメチルメチレン基、ペンタメチレン基、メチル
テトラメチレン基、エチルトリメチレノ基、プロピルエ
チレン基、ブチルメチレン基、ジメチルトリメチレン基
、イソプロピルエチレン基、エチルメチルエチレン基、
ジエチルメチレ／基、メチルプロピルメチレン基等が、
更に低級アルケニレン基としては、ビニレン基、メチル
ビニレン基、フロペニレン基、ブテニレン基、メチルグ
ロペニレン基、エチルビニレン基、ジメチルビニレン基
、ペンテニレン基、メチルブテニレン基、エチルプロペ
ニレン基、プロピルビニレン基、ジメチルプロペニレン
基、エチルメチルビニレン基等が挙げられる。
本発明によって提供される前記一般式（Ｉ）の化合物は
酸付加塩を形成する。本発明は薬理学上許容される一般
式（Ｉ）の化合物の塩をも包含するものであり、かかる
塩としては、たとえば塩化水素酸、臭化水素酸、硫酸等
の鉱酸やメタンスルホン酸、ハラトルエンスル＊ ７
Ｈ等ノ有機酸との酸付加塩が挙げられる。
酸付加塩を形成する。本発明は薬理学上許容される一般
式（Ｉ）の化合物の塩をも包含するものであり、かかる
塩としては、たとえば塩化水素酸、臭化水素酸、硫酸等
の鉱酸やメタンスルホン酸、ハラトルエンスル＊ ７
Ｈ等ノ有機酸との酸付加塩が挙げられる。
また、上記一般式（Ｄで示される化合物中には幾何異性
体等の異性体が存在する。本発明はこれらの全ての異性
体につ℃・て包含するものである。
体等の異性体が存在する。本発明はこれらの全ての異性
体につ℃・て包含するものである。
本発明化合物（Ｉ）は免疫系に作用する。たとえばタフ
バク抗原に対する細胞性免疫の代表でる遅延型アレルギ
ー反応を抑制するので、抗アレルギー剤、抗すューマチ
剤、自己免疫疾患の治療剤および臓器移植や皮ふ移植の
際の拒絶反応抑制剤として有用である。殊に、遅延型ア
レルギー抑制剤、抗リューマチ剤として有用である。す
なわち、従来、抗アレルギー剤殊に遅延型アレルギー抑
制剤としてはステロイド剤が知られて℃・るに過ぎな℃
・。抗り２．−マチ剤につし・でも同様である。しかし
、ステロイド剤は長期連用すると重篤な副作用いわゆる
ステロイド依存性を発現するため、副作用の少ない非ス
テロイド系の抗アレルギー剤、抗ＩＪ、−マチ剤の開発
が望まれて℃・る。強力な遅延型アレルギー抑制作用を
有する本発明化合物は、これらステロイドの代替として
またステロイドと併用することによりステロイドの使用
量を軽減することができろ。
バク抗原に対する細胞性免疫の代表でる遅延型アレルギ
ー反応を抑制するので、抗アレルギー剤、抗すューマチ
剤、自己免疫疾患の治療剤および臓器移植や皮ふ移植の
際の拒絶反応抑制剤として有用である。殊に、遅延型ア
レルギー抑制剤、抗リューマチ剤として有用である。す
なわち、従来、抗アレルギー剤殊に遅延型アレルギー抑
制剤としてはステロイド剤が知られて℃・るに過ぎな℃
・。抗り２．−マチ剤につし・でも同様である。しかし
、ステロイド剤は長期連用すると重篤な副作用いわゆる
ステロイド依存性を発現するため、副作用の少ない非ス
テロイド系の抗アレルギー剤、抗ＩＪ、−マチ剤の開発
が望まれて℃・る。強力な遅延型アレルギー抑制作用を
有する本発明化合物は、これらステロイドの代替として
またステロイドと併用することによりステロイドの使用
量を軽減することができろ。
そして１本発明化合物（Ｉ）は毒性が極めて弱し・ので
上述した種々の用途の医薬として用℃・ることか出来る
。
上述した種々の用途の医薬として用℃・ることか出来る
。
本発明化合物（１）は２本願出願人の先行出願（特願昭
５４−１０６４３８号、特開昭５６−３０９９０号）に
開示した２−ヒドロキシフェニルイ ミダゾ［２，１−ｂ’３ベンゾチアゾールの水酸基が低
級アルコキシカルボニル基を有スるカルボン酸でアシル
化された新規な誘導体であって。
５４−１０６４３８号、特開昭５６−３０９９０号）に
開示した２−ヒドロキシフェニルイ ミダゾ［２，１−ｂ’３ベンゾチアゾールの水酸基が低
級アルコキシカルボニル基を有スるカルボン酸でアシル
化された新規な誘導体であって。
遅延型アレルギー抑制作用等の薬理作用がそのヒドロキ
シ化合物よりも優れて（・る点に特徴がある。
シ化合物よりも優れて（・る点に特徴がある。
本発明化合物（１）やその酸付加塩を主成分として含有
する薬剤は任意慣用の製薬用担体や。
する薬剤は任意慣用の製薬用担体や。
賦形剤を用いて任意慣用の方法で調製される。
投与は錠剤、火剤、カプセル剤、顆粒剤等の経口投与あ
るいは静注、筋注等の注射剤、エアゾール剤、半開等の
非経口投与のいずれの形態であってもよい。投与量は症
状や投与対象の年令。
るいは静注、筋注等の注射剤、エアゾール剤、半開等の
非経口投与のいずれの形態であってもよい。投与量は症
状や投与対象の年令。
性別等を考慮して個々の場合に応じて適宜決定されるが
２通常成人１日当り経口投与の場合５〜５００ｍｇ、非
経口投与の場合２〜３００■であり。
２通常成人１日当り経口投与の場合５〜５００ｍｇ、非
経口投与の場合２〜３００■であり。
これを１日２〜３回に分けて投与する。
本発明は上記一般式（１）で示される化合物及びその塩
の製造法をも包含するものであり、以下にその代表的な
製造法を例示する。
の製造法をも包含するものであり、以下にその代表的な
製造法を例示する。
第１製造法
（ＩＩ）
本発明化合物（Ｉ）は式（ＴＩ）で示される ２−ヒド
ロキシフェニルイミダゾ〔２，１−ｂ〕ベンゾチアゾー
ルと、一般式（ＩＩＩ）で示されるモノエステル化ジカ
ルボン酸又はそのカルボキシ基における反応性誘導体と
の反応（アシル化）により製造される。
ロキシフェニルイミダゾ〔２，１−ｂ〕ベンゾチアゾー
ルと、一般式（ＩＩＩ）で示されるモノエステル化ジカ
ルボン酸又はそのカルボキシ基における反応性誘導体と
の反応（アシル化）により製造される。
ここに、原料化合物（Ｉｌ［）のカルボキシ基における
反応性誘導体としては、酸クロライド、酸ブロマイド等
の酸ノ・ライド；酸アジド；酸無水物；アルキル炭酸、
アルキルリン酸、ジアルキル亜すン酸、硫酸等との混酸
無水物；イミダゾ−ル等トノ酸アミＦ” ； ｐ−ニト
ロフェニルエステル、２．４−ジニトロフェニルエステ
ル等ノ活性エステルが挙げられる。
反応性誘導体としては、酸クロライド、酸ブロマイド等
の酸ノ・ライド；酸アジド；酸無水物；アルキル炭酸、
アルキルリン酸、ジアルキル亜すン酸、硫酸等との混酸
無水物；イミダゾ−ル等トノ酸アミＦ” ； ｐ−ニト
ロフェニルエステル、２．４−ジニトロフェニルエステ
ル等ノ活性エステルが挙げられる。
この反応は化合物（ｎ）とそれに対し等モルまたは過剰
モルの化合物（Ｉ）またはその反応性誘導体を有機溶媒
中で冷却下、室温または加温下に行うのが好ましい。有
機溶媒の例としては。
モルの化合物（Ｉ）またはその反応性誘導体を有機溶媒
中で冷却下、室温または加温下に行うのが好ましい。有
機溶媒の例としては。
アセトン、テトラヒドロフラノ、ジクロロメタン、クロ
ロホルム、ビリジ／、ジメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラノあるし・はジクロルメタンとピリジンとの混
合液等が挙げられる。
ロホルム、ビリジ／、ジメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラノあるし・はジクロルメタンとピリジンとの混
合液等が挙げられる。
化合物（ＩＩ）を遊離の状態で使用する場合には。
Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド、 Ｎ、Ｎ
’−カルボニルイミダゾール等の縮合剤を用いてピリジ
ン、 Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の塩基の存在下反応
を行うのが好ましい。この場合、縮合剤と共ＫＮ−ヒド
ロキシベンツトリアゾールを使用してもよし・。
’−カルボニルイミダゾール等の縮合剤を用いてピリジ
ン、 Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の塩基の存在下反応
を行うのが好ましい。この場合、縮合剤と共ＫＮ−ヒド
ロキシベンツトリアゾールを使用してもよし・。
第２製造法
（ＴＶ） 誘導体 （Ｖ）（１）
本発明化合物（１）は、また一般式（ＩＶ）で示される
カルボン酸化合物又はその反応性誘導体と。
カルボン酸化合物又はその反応性誘導体と。
一般式（Ｖ）で示される低級アルコールとを反応させる
ことによっても製造することができる。
ことによっても製造することができる。
一般式（ＩＶ）のカルボン酸化合物の反応性誘導体とし
ては第１製造法と同様、酸クロライド、酸ブロマイド等
の酸ハライド；酸アジド；酸無水物；アルキル炭酸、ア
ルキルリン酸、ジアルキル亜すン酸、硫酸等との混酸無
水物；イミダゾール等トの酸アミド；ｐ−ニトロフェニ
ルエステル、２．４−ジニトロフェニルエステル等トの
活性エステルが挙げられる。
ては第１製造法と同様、酸クロライド、酸ブロマイド等
の酸ハライド；酸アジド；酸無水物；アルキル炭酸、ア
ルキルリン酸、ジアルキル亜すン酸、硫酸等との混酸無
水物；イミダゾール等トの酸アミド；ｐ−ニトロフェニ
ルエステル、２．４−ジニトロフェニルエステル等トの
活性エステルが挙げられる。
この反応は、第１製造法とほぼ同様の条件下に実施する
ことができる。すなわち、原料化合物（１’Ｖ）又はそ
の反応性誘導体とそれに対し等モルまたは過剰モルの原
料化合物（Ｖ）とを有機溶媒中冷却下、室温乃至加温下
に反応させることによって本発明化合物（１）を製造す
ることができる。
ことができる。すなわち、原料化合物（１’Ｖ）又はそ
の反応性誘導体とそれに対し等モルまたは過剰モルの原
料化合物（Ｖ）とを有機溶媒中冷却下、室温乃至加温下
に反応させることによって本発明化合物（１）を製造す
ることができる。
原料化合物（ＩＶ）を遊離の状態で使用する場合には２
反応はＮ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド、
Ｎ、Ｎ’−カルボニルイミダゾール等の縮合剤を用い
て、ピリジン、 Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の塩基
の存在下に行うのが好ましい。この場合、縮合剤と共に
Ｎ−ヒドロキシベンツトリアゾールを使用してもよ見・
。
反応はＮ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド、
Ｎ、Ｎ’−カルボニルイミダゾール等の縮合剤を用い
て、ピリジン、 Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等の塩基
の存在下に行うのが好ましい。この場合、縮合剤と共に
Ｎ−ヒドロキシベンツトリアゾールを使用してもよ見・
。
これらの反応に用いられる溶媒としては例えばアセトン
、テトラヒドロ７ラン２ ジクロルメタ／、クロロホル
ム、ピリジノ、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラノあるいはジクロルメタノとピリジンとの混合液等の
有機溶媒が有利である。
、テトラヒドロ７ラン２ ジクロルメタ／、クロロホル
ム、ピリジノ、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラノあるいはジクロルメタノとピリジンとの混合液等の
有機溶媒が有利である。
このようにして２種々の方法によって製造された本発明
化合物（Ｉ）はそのままあるいはその塩として、その理
化学的性状や反応条件等を考慮して、Ｐ取、溶媒による
抽出、再結晶、各種クロマトグラフィー等当分野におし
・て任意慣用の手段を適用して、単離・精製される。
化合物（Ｉ）はそのままあるいはその塩として、その理
化学的性状や反応条件等を考慮して、Ｐ取、溶媒による
抽出、再結晶、各種クロマトグラフィー等当分野におし
・て任意慣用の手段を適用して、単離・精製される。
以下に実施例を掲記し２本発明を更に詳細に説明する。
なお２本発明の原料化合物（ＩＩ）及び（ＩＶ）は前記
特願昭５４−１０６４３８号や９本出願人の出願に係る
特願昭５６−２０８６０９号に記載された方法により製
造される。
特願昭５４−１０６４３８号や９本出願人の出願に係る
特願昭５６−２０８６０９号に記載された方法により製
造される。
実施例 １゜
２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）イミダゾ［２゜１−ｂ
］ベンゾチアゾール１０ｇ、コハク酸モノエチルエステ
ル９ｇをピリジン１００ｍ１Ｋ溶解した溶液に、ジシク
ロへキシルカルボジイミドｌ１ｇをピリジン１０ｍ１Ｋ
溶解した溶液をかきまぜながら１５〜２５Ｃで加え、３
時間２０〜２５Ｃでかきまぜる。析出した尿素を；戸別
し、Ｐ液を減圧濃縮する。残留物をトルエン１００ｍ乙
に溶解し、水１００ ｍｌで２回洗った後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。アメ状残留物を
シリカゲル力ラムクロマトグンフィーに付しベンゼン−
酢酸エチル（容量比９：１）で溶出し、２−〔ｍ−（３
−エトキ１３− ジカルボニルプロピオニルオキシ）フェニル〕イミダゾ
［２，１−ｂ〕ベンゾチアゾール８．９ｇを得た。
］ベンゾチアゾール１０ｇ、コハク酸モノエチルエステ
ル９ｇをピリジン１００ｍ１Ｋ溶解した溶液に、ジシク
ロへキシルカルボジイミドｌ１ｇをピリジン１０ｍ１Ｋ
溶解した溶液をかきまぜながら１５〜２５Ｃで加え、３
時間２０〜２５Ｃでかきまぜる。析出した尿素を；戸別
し、Ｐ液を減圧濃縮する。残留物をトルエン１００ｍ乙
に溶解し、水１００ ｍｌで２回洗った後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。アメ状残留物を
シリカゲル力ラムクロマトグンフィーに付しベンゼン−
酢酸エチル（容量比９：１）で溶出し、２−〔ｍ−（３
−エトキ１３− ジカルボニルプロピオニルオキシ）フェニル〕イミダゾ
［２，１−ｂ〕ベンゾチアゾール８．９ｇを得た。
融点 ７０〜７４Ｃ（塩酸塩１５５〜１ｓ９Ｃ）元素
分析値（Ｃ２，Ｈ，、Ｎ、Ｏ，Ｓとして）Ｃ（チ）
Ｈ（チ）Ｎ（チｌ Ｓ（チ）理論値 ６３．９
５ ４，６０ ７，１０ ８．１３実験値 ６４，０
３ ４．４３ ７．１６ ８．１１実施例 ２゜ ２− （ｍ−ヒドロキシフェニル）イミダゾ〔２゜１−
ｂ〕ベノゾチアゾール３．２ｇおよびアジピノ酸モノエ
チルエステル３．２ｇを用℃・実施例１と同様に処理し
て、２−（ｍ−（５−エトキシカルボニルペンタノイル
オキシ）フェニル〕イミダゾ［２，１−ｂ］ベノゾチア
ゾール１８ｇを得た。
分析値（Ｃ２，Ｈ，、Ｎ、Ｏ，Ｓとして）Ｃ（チ）
Ｈ（チ）Ｎ（チｌ Ｓ（チ）理論値 ６３．９
５ ４，６０ ７，１０ ８．１３実験値 ６４，０
３ ４．４３ ７．１６ ８．１１実施例 ２゜ ２− （ｍ−ヒドロキシフェニル）イミダゾ〔２゜１−
ｂ〕ベノゾチアゾール３．２ｇおよびアジピノ酸モノエ
チルエステル３．２ｇを用℃・実施例１と同様に処理し
て、２−（ｍ−（５−エトキシカルボニルペンタノイル
オキシ）フェニル〕イミダゾ［２，１−ｂ］ベノゾチア
ゾール１８ｇを得た。
融点 ９０〜９２Ｄ
元素分析値（Ｃ２３Ｈ２２Ｎ２０４ Ｓとして）１４−
Ｃ（嗟） Ｈｆチ） Ｎ（チ） Ｓ（チ
）理論１直 ６５．３９ ５，２５ ６，６３ ７．
５９実験値 ６５．５７ ５，３２ ６，７２ ７．
４１実施例 ３゜ ２− （ｍ−ヒドロキシフェニル）イミダゾ〔２゜１−
ｂ〕ベンゾチアゾール１０ｇおよびマレイン酸モノエチ
ルエステル８．３ ｇを用（・実施例１と同様に処理し
て、 ２−（ｍ （ｃｉｓ−３−エトキシカルボニ
ルプロペノイルオキシ）フェニル〕イミタソ［２，１−
ｂ］ベンゾチアゾール７．２ｇを得た。
）理論１直 ６５．３９ ５，２５ ６，６３ ７．
５９実験値 ６５．５７ ５，３２ ６，７２ ７．
４１実施例 ３゜ ２− （ｍ−ヒドロキシフェニル）イミダゾ〔２゜１−
ｂ〕ベンゾチアゾール１０ｇおよびマレイン酸モノエチ
ルエステル８．３ ｇを用（・実施例１と同様に処理し
て、 ２−（ｍ （ｃｉｓ−３−エトキシカルボニ
ルプロペノイルオキシ）フェニル〕イミタソ［２，１−
ｂ］ベンゾチアゾール７．２ｇを得た。
融点 １２６〜１２８Ｃ
元素分析値（Ｃ２１Ｈｆａ Ｎ２０４ Ｓとして）Ｃ（
チ） Ｈ（チ） Ｎ（チ） Ｓｆチ）理論値
６４，２７ ４，１１ ７，１４ ８．１７実験値
６４．３４ ３．８１ ７．２３ ７．９９２− （
ｍ−ヒドロキシフェニル）イミダゾ〔２゜１−ｂ］ベン
ゾチアゾール４ｇ、トリエチルアミン１．５２ｇおよび
テトラヒドロフラン５０ ｍｌの混液にエトキサリルク
ロライド２．１ ｇ 、テトラヒドロフラン１０ｍ１の
混液を一１０Ｃ以下で加える。滴下終了後２反応液を室
温で一夜攪拌したのち減圧濃縮する。残留物をトルエン
２０９ｍ１に溶解する。トルエン溶液を水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮する。残留物をカラム
クロマトグラフィー（シリカゲル８０ｎ＋Ｚ、溶出液：
トルエン：酢酸エチル＝９：１）に付し、２−（ｍ−エ
トキサリルオキシフェニル）イミダゾ［２，１−ｂ］ベ
ンゾチアゾール２．７５ｇを得た。
チ） Ｈ（チ） Ｎ（チ） Ｓｆチ）理論値
６４，２７ ４，１１ ７，１４ ８．１７実験値
６４．３４ ３．８１ ７．２３ ７．９９２− （
ｍ−ヒドロキシフェニル）イミダゾ〔２゜１−ｂ］ベン
ゾチアゾール４ｇ、トリエチルアミン１．５２ｇおよび
テトラヒドロフラン５０ ｍｌの混液にエトキサリルク
ロライド２．１ ｇ 、テトラヒドロフラン１０ｍ１の
混液を一１０Ｃ以下で加える。滴下終了後２反応液を室
温で一夜攪拌したのち減圧濃縮する。残留物をトルエン
２０９ｍ１に溶解する。トルエン溶液を水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮する。残留物をカラム
クロマトグラフィー（シリカゲル８０ｎ＋Ｚ、溶出液：
トルエン：酢酸エチル＝９：１）に付し、２−（ｍ−エ
トキサリルオキシフェニル）イミダゾ［２，１−ｂ］ベ
ンゾチアゾール２．７５ｇを得た。
融点 １２０〜１２１Ｃ
元素分析値（Ｃ，、Ｔ−１，、Ｎ２０．Ｓとして）Ｃ（
チｌ Ｈ（チ） Ｎ（チ） Ｓ（チ）理
論値 ６２，２９ ３．８５ ７．６５ ８．７５実験
値 ６２．４８ ３．７６ ７，５０ ８．７４実施例
５゜ ２−（ｍ−カルボキシアセトキシフェニル）イミダゾ［
２，１−ｂ］ベンゾチアゾール４ｇ、エタノール０５２
ｇおよびテトラヒドロフラン５０ ｍｌの混液に。
チｌ Ｈ（チ） Ｎ（チ） Ｓ（チ）理
論値 ６２，２９ ３．８５ ７．６５ ８．７５実験
値 ６２．４８ ３．７６ ７，５０ ８．７４実施例
５゜ ２−（ｍ−カルボキシアセトキシフェニル）イミダゾ［
２，１−ｂ］ベンゾチアゾール４ｇ、エタノール０５２
ｇおよびテトラヒドロフラン５０ ｍｌの混液に。
ジシクロへキシルカルボジイミド２．３ｇ、 テトラ
ヒドロフラフ１０ｍｔの混液を１０Ｃ以下で加える。滴
下終了後、室温で一夜攪拌し、生じたジシクロヘキシル
尿素を沢去し、母液を減圧濃縮する。残留物をカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル８０ｍ１゜溶出液：トル
エン：酢酸エチル−９：１）に付し油状の２−（ｍ−エ
トキシカルボニルアセトキシフェニル）イミダゾ［２，
１−ｂ］ベノゾチアゾー１７− ル２．０ ｇを得た。
ヒドロフラフ１０ｍｔの混液を１０Ｃ以下で加える。滴
下終了後、室温で一夜攪拌し、生じたジシクロヘキシル
尿素を沢去し、母液を減圧濃縮する。残留物をカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル８０ｍ１゜溶出液：トル
エン：酢酸エチル−９：１）に付し油状の２−（ｍ−エ
トキシカルボニルアセトキシフェニル）イミダゾ［２，
１−ｂ］ベノゾチアゾー１７− ル２．０ ｇを得た。
核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣｌ５）
δ（ｐｐｍ） ： １．３３ （ｔ、 ３Ｈ，−ＣＨ２
Ｃｕｌ）３．６１ （Ｓ、 ２Ｈ，ｃｏｃ３ｃｏ ）実
施例 ６ ２− （ｍ−ヒドロキシフェニル）イミダゾ〔２゜１−
ｂ〕ベンゾチアゾール１１．５ｇ、およびフマール酸モ
ノエチルエステル９．２ｇを用いて、実施例１と同様に
処理して、 ２− （ｍ −（ｔｒａｎｓ −３−エ
トキシカルボニルプロペノイルオキシ）フェニル〕イミ
ダゾ［２，１−ｂ〕ベンゾチアゾール７．３ｇを得た。
Ｃｕｌ）３．６１ （Ｓ、 ２Ｈ，ｃｏｃ３ｃｏ ）実
施例 ６ ２− （ｍ−ヒドロキシフェニル）イミダゾ〔２゜１−
ｂ〕ベンゾチアゾール１１．５ｇ、およびフマール酸モ
ノエチルエステル９．２ｇを用いて、実施例１と同様に
処理して、 ２− （ｍ −（ｔｒａｎｓ −３−エ
トキシカルボニルプロペノイルオキシ）フェニル〕イミ
ダゾ［２，１−ｂ〕ベンゾチアゾール７．３ｇを得た。
融点 １３０〜１３０．５ｔｌ？
１８−
元素分析値（Ｃ２１ＨＩ３ Ｎ２０４ Ｓとして）Ｃ（
係） Ｈ（チ） Ｎ（チ） Ｓ（チ）理論値
６４，２７ ４，１１ ７，１４ ８．１７実験値 ６
４，３８ ３．９５ ７，１９ ８．２１特許出願人
山之内製薬株式会社 代理人 佐々木晃− −１９＝
係） Ｈ（チ） Ｎ（チ） Ｓ（チ）理論値
６４，２７ ４，１１ ７，１４ ８．１７実験値 ６
４，３８ ３．９５ ７，１９ ８．２１特許出願人
山之内製薬株式会社 代理人 佐々木晃− −１９＝
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １一般式 （式中、Ａは低級アルキレン基又は低級アルケニレン基
を、ｎは０又は１を、Ｒは低級アルキル基を意味する） で示される２−フェニルイミダゾ［２，１−ｂ〕ベンゾ
チアゾールの新規誘導体又はその塩。 ２式 で示される２−ヒドロキシフェニルイミダゾ［：２，１
−ｂ〕ベンゾチアゾールと、一般式％式％ （式中、Ａは低級アルキレン基又は低級アルケニレン基
を、ｎはＯ又は１を、Ｒは低級アルキル基を意味する。 以下同様） ゛で示されるモノエステル化ジカル
ボン酸又はその反応性誘導体とを反応させることを特徴
とする一般式 で示される２−フェニルイミダゾ［２，１−ｂ〕ベンゾ
チアゾールの新規誘導体又はその塩の製造法。 ３、一般式 （式中、Ａは低級アルキレン基又は低級アルケニレン基
を、ｎはＯ又は１を意味する。 以下同様） で示されるカルボン酸化合物又はその反応性誘導体と一
般式 ％式％ （Ｒは低級アルキル基を意味する。以下同様）で示され
る低級アルコールとを反応させることを特徴とする一般
式 で示される２−フェニルイミダゾ［２，１，−ｂ〕ベン
ゾチアゾールの新規誘導体又はその塩の製造法。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57188866A JPS5978194A (ja) | 1982-10-27 | 1982-10-27 | ２−フエニルイミダゾ〔２，１−ｂ〕ベンゾチアゾ−ルの新規誘導体およびその製造法 |
| US06/449,759 US4464384A (en) | 1981-12-23 | 1982-12-14 | 2-Phenylimidazo[2,1-b]benzothiazole compounds, salts thereof, process of producing them, and pharmaceutical compositions containing them |
| DE8282306804T DE3276580D1 (en) | 1981-12-23 | 1982-12-20 | 2-phenylimidazo(2,1-b)benzothiazole compounds, salts thereof, process for producing them, and pharmaceutical compositions containing them |
| AT82306804T ATE27819T1 (de) | 1981-12-23 | 1982-12-20 | 2-phenylimidazo (2,1-b)benzothiazol-verbindungen, deren salze, verfahren zu deren herstellung und diese enthaltende pharmazeutische zusammensetzungen. |
| EP82306804A EP0082712B1 (en) | 1981-12-23 | 1982-12-20 | 2-phenylimidazo(2,1-b)benzothiazole compounds, salts thereof, process for producing them, and pharmaceutical compositions containing them |
| CA000418482A CA1190231A (en) | 1981-12-23 | 1982-12-21 | Process for preparing 2-phenylimidazo 2,1-b benzothiazole compounds and salts thereof |
| ES518488A ES8406495A1 (es) | 1981-12-23 | 1982-12-22 | Un procedimiento para la produccion de nuevos compuestos de 2-fenilimidazo 2,1-b)benzotiazol |
| DK567482A DK567482A (da) | 1981-12-23 | 1982-12-22 | Fremgangsmaade til fremstilling af 2-phenylimidazo(2,1-b)benzothiazolforbindelser |
| NO824331A NO824331L (no) | 1981-12-23 | 1982-12-22 | Fremgangsmaate ved fremstilling av 2-fenylimidazo(2,1-b)benzothiazolforbindelser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57188866A JPS5978194A (ja) | 1982-10-27 | 1982-10-27 | ２−フエニルイミダゾ〔２，１−ｂ〕ベンゾチアゾ−ルの新規誘導体およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5978194A true JPS5978194A (ja) | 1984-05-04 |
Family
ID=16231234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57188866A Pending JPS5978194A (ja) | 1981-12-23 | 1982-10-27 | ２−フエニルイミダゾ〔２，１−ｂ〕ベンゾチアゾ−ルの新規誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5978194A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4968708A (en) * | 1988-06-22 | 1990-11-06 | Nikken Chemicals Co., Ltd. | Imidazo[2,1-B]benzothiazole compounds and antiulcer compositions containing the same |
| JP2009530300A (ja) * | 2006-03-17 | 2009-08-27 | アムビト ビオスシエンセス コルポラチオン | 疾患を治療するためのイミダゾロチアゾール化合物 |
-
1982
- 1982-10-27 JP JP57188866A patent/JPS5978194A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4968708A (en) * | 1988-06-22 | 1990-11-06 | Nikken Chemicals Co., Ltd. | Imidazo[2,1-B]benzothiazole compounds and antiulcer compositions containing the same |
| JP2009530300A (ja) * | 2006-03-17 | 2009-08-27 | アムビト ビオスシエンセス コルポラチオン | 疾患を治療するためのイミダゾロチアゾール化合物 |
| JP2011037858A (ja) * | 2006-03-17 | 2011-02-24 | Ambit Biosciences Corp | 疾患を治療するためのイミダゾロチアゾール化合物 |
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