JPS5928939B2 - X線発生器 - Google Patents
X線発生器Info
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- JPS5928939B2 JPS5928939B2 JP49101807A JP10180774A JPS5928939B2 JP S5928939 B2 JPS5928939 B2 JP S5928939B2 JP 49101807 A JP49101807 A JP 49101807A JP 10180774 A JP10180774 A JP 10180774A JP S5928939 B2 JPS5928939 B2 JP S5928939B2
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- rays
- ray
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H5/00—Direct voltage accelerators; Accelerators using single pulses
- H05H5/02—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/112—Non-rotating anodes
- H01J35/116—Transmissive anodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
- H05G1/08—Electrical details
- H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
- H05G1/30—Controlling
- H05G1/52—Target size or shape; Direction of electron beam, e.g. in tubes with one anode and more than one cathode
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Description
【発明の詳細な説明】
レントゲン装置では強力なX線を例えば循環器像影の場
合には人間の血管の動きによる像のぼやけを防止するた
めに例えば10分の1秒以下の比較的短い時間照射する
ことがしばしば必要である。
合には人間の血管の動きによる像のぼやけを防止するた
めに例えば10分の1秒以下の比較的短い時間照射する
ことがしばしば必要である。
人間の骨格の撮影では患者が静止していればこれより長
い時間を用いることが出来る。
い時間を用いることが出来る。
乾板上に像をつくるに必要な総合入射エネルギーは短い
照射でも長い照射でもほぼ同じであるから乾板上に高品
質の像をつくるには時間が短かければそれ程強い照射が
必要である。
照射でも長い照射でもほぼ同じであるから乾板上に高品
質の像をつくるには時間が短かければそれ程強い照射が
必要である。
ここでターゲット上の電子ビームの当る点のオーバヒー
トのためにX線管の一般的な回転アノードターゲットで
与えることの出来る照射強度には限りがあるという問題
が生じる。
トのためにX線管の一般的な回転アノードターゲットで
与えることの出来る照射強度には限りがあるという問題
が生じる。
この問題は、高分解能をもつ写真をとるにはターゲット
が一般に10m4以下の比較的小さいスポットからX線
を放出しなければならず、ターゲットの温度が上昇する
という事により倍加される。
が一般に10m4以下の比較的小さいスポットからX線
を放出しなければならず、ターゲットの温度が上昇する
という事により倍加される。
これらの問題は高エネルギー電子源と一方の側て電子照
射を受けてそれとは反対の側の表面からX線を放出する
比較的薄い透過性のターゲットとからなるX線管を有す
る本発明によるX線源すなわちX線発生器により解決さ
れると共に他の特徴が与えられる。
射を受けてそれとは反対の側の表面からX線を放出する
比較的薄い透過性のターゲットとからなるX線管を有す
る本発明によるX線源すなわちX線発生器により解決さ
れると共に他の特徴が与えられる。
本発明の一実施例ではターゲットの表面はそのターゲッ
トにより放出されるX線の総合スペクトルに対するター
ゲットにより発生する螢光X線のパーセンテージを増加
するためX線の出口窓に対して傾斜している。
トにより放出されるX線の総合スペクトルに対するター
ゲットにより発生する螢光X線のパーセンテージを増加
するためX線の出口窓に対して傾斜している。
これによりこの窓を通って出るX線に対する単色性が促
進される。
進される。
ターゲットの冷却は熱的に導体でありXaに対して透明
な基体により与えられる。
な基体により与えられる。
−f!Jとしてレントゲン撮影用にこの発生器を使用す
る場合に、ターゲットにより放出される輻射の空間的周
波数特性に対し大きなスペクトル幅を与えることが最も
望ましい。
る場合に、ターゲットにより放出される輻射の空間的周
波数特性に対し大きなスペクトル幅を与えることが最も
望ましい。
これば米国特許第3748470号に示されるようなチ
ェッカーボードパターンをもつゾーンプレートまたは軸
のずれたフレネルパターンの形のゾーンプレートを用い
て放出されたX線を空間的に変調することにより達成さ
れる。
ェッカーボードパターンをもつゾーンプレートまたは軸
のずれたフレネルパターンの形のゾーンプレートを用い
て放出されたX線を空間的に変調することにより達成さ
れる。
このX線管はX線を変調または沢波するためにゾーンプ
レー)または他の空間フィルタをそこに装着するための
装置を含んでいる。
レー)または他の空間フィルタをそこに装着するための
装置を含んでいる。
ゾーンプレートを有するX線管はレントゲンで通常使用
される標準的乾板を背後にした患者にX線を向けるよう
に位置づけられる。
される標準的乾板を背後にした患者にX線を向けるよう
に位置づけられる。
目的物の内部構造のコード化された写真はゾーンプレー
トにより与えられるコーティングの観点で得られる。
トにより与えられるコーティングの観点で得られる。
X線プレート上の写真はまずその内部構造を見るため技
師が見ることの出来る情報を含んだ像を与えるべく復号
される。
師が見ることの出来る情報を含んだ像を与えるべく復号
される。
軸ずれフレネルパターンゾーンプレートの場合には写真
の復号化すなわち像の再生は軸ずれ絞りとテレスコープ
を使用する比較的簡単々光学系により容易に行われる。
の復号化すなわち像の再生は軸ずれ絞りとテレスコープ
を使用する比較的簡単々光学系により容易に行われる。
ランダムパターンゾーンプレートも使用出来る。
また入射線に当る目的物を空間的に変調して目的物をこ
のゾーンプレート系内により正しく撮影された高い空間
周波目的物として表わすためにゾーンプレートと目的物
との間に置かれるハーフトーンスクリーンも設けられる
。
のゾーンプレート系内により正しく撮影された高い空間
周波目的物として表わすためにゾーンプレートと目的物
との間に置かれるハーフトーンスクリーンも設けられる
。
第1,2図は本発明の詳細な説明するだめのX線の発生
器22を含む装置20を示す。
器22を含む装置20を示す。
第2図だ示すように発生器22はハウジング26に囲ま
れて油28に浸けられているX線管24を含み、この油
は電源30により与えられる高圧電力からの絶縁物とし
て作用する。
れて油28に浸けられているX線管24を含み、この油
は電源30により与えられる高圧電力からの絶縁物とし
て作用する。
X線管24はそれの中に気密領域をつくるための基体3
6を含む金属ベース34&lして密閉されるガラスのエ
ンベロープ32を有する。
6を含む金属ベース34&lして密閉されるガラスのエ
ンベロープ32を有する。
薄いターゲット38が管24の全幅にまたがって伸びそ
してそれ故こればその深さよりかなり大きい幅を有する
。
してそれ故こればその深さよりかなり大きい幅を有する
。
ターゲット38はタングステンまたは金のようなX線を
放出する重い元素からなる薄い箔またはフィルムの形あ
るいはセリウムまたはモリブデンのようなX線を放出す
るもつと軽い元素からなるそのよう彦フィルムの形をも
ちX線管24の真空領域内で基体36上に付着される。
放出する重い元素からなる薄い箔またはフィルムの形あ
るいはセリウムまたはモリブデンのようなX線を放出す
るもつと軽い元素からなるそのよう彦フィルムの形をも
ちX線管24の真空領域内で基体36上に付着される。
ターゲット38はその一方の表面で発生したX線が反対
側の表面に通りうるようにするに充分に薄いものである
から透過形ターゲットとして知られる。
側の表面に通りうるようにするに充分に薄いものである
から透過形ターゲットとして知られる。
基体36//iターゲツト38を支持するために利用さ
れるが、本発明はターゲット38が箔であるときにその
周辺に取付けられるフレーム(図示せず)のような他の
支持手段を意図する。
れるが、本発明はターゲット38が箔であるときにその
周辺に取付けられるフレーム(図示せず)のような他の
支持手段を意図する。
この基体36の使用はターゲット38の冷却をたすける
点で好ましい。
点で好ましい。
カソード40はフィラメント42で加熱されるようにな
っており、そしてターゲット38の全面を照射するに充
分な大きい面積を有する。
っており、そしてターゲット38の全面を照射するに充
分な大きい面積を有する。
カソード40(/′iワイヤ44と46によりそこに接
続された電源30によりカソード40とターゲット38
の間につくられる電位差によってほぼ平行路を通り運動
する電子を放出する。
続された電源30によりカソード40とターゲット38
の間につくられる電位差によってほぼ平行路を通り運動
する電子を放出する。
ノブ47が電源30に接続してX線のエネルギーを選ぶ
ためワイヤ44と46の間の電圧を調整する。
ためワイヤ44と46の間の電圧を調整する。
シールド48はカソード40からの電子に対しシール5
0を保護するためエンベロープ32と金属ベース34の
間のシール50に隣接して配置される。
0を保護するためエンベロープ32と金属ベース34の
間のシール50に隣接して配置される。
基体36はターゲット38を保持しそしてX線管24内
の真空に対して作用する大気圧に耐えるに適した剛性を
持つ一方、ターゲット38により放出されるX線に対し
て本質的に透明であるアルミニウムあるいはベリリウム
のような軽金属で構成するとよい。
の真空に対して作用する大気圧に耐えるに適した剛性を
持つ一方、ターゲット38により放出されるX線に対し
て本質的に透明であるアルミニウムあるいはベリリウム
のような軽金属で構成するとよい。
フィラメント42はフィラメント電源52からの電流で
附勢されるのであってその附勢は電源30からのパルス
エネルギーの印加前にカソード40を加熱するため、発
生器22の動作前に行われる。
附勢されるのであってその附勢は電源30からのパルス
エネルギーの印加前にカソード40を加熱するため、発
生器22の動作前に行われる。
このエネルギーパルスは電源30の電圧、装置20によ
り撮影されるべき第1図では目的物54の厚さと組成と
によりきまる時間幅を有する。
り撮影されるべき第1図では目的物54の厚さと組成と
によりきまる時間幅を有する。
ターゲット38はその上面から出るX線がターゲット3
8を通り目的物54に通りうるようにするに充分な1/
2ミル程度の薄いものであり、しかも入射電子を停止す
るに充分な厚さとされる。
8を通り目的物54に通りうるようにするに充分な1/
2ミル程度の薄いものであり、しかも入射電子を停止す
るに充分な厚さとされる。
アルミニウムのような原子番号の小さく・材料からなる
X線に対して透明な窓68がX線管24から目的物54
への輻射線の伝播を許すと共に・・ウジフグ26内に油
28を保持するためハウジング26の一端に装着される
。
X線に対して透明な窓68がX線管24から目的物54
への輻射線の伝播を許すと共に・・ウジフグ26内に油
28を保持するためハウジング26の一端に装着される
。
ターゲット38と基体36の使用は周知の回転アノード
が不必要となるから機械的な設計が簡略になる。
が不必要となるから機械的な設計が簡略になる。
さらに、基体36の良好な熱伝導性と組合されてこのタ
ーゲット38の薄さがターゲット38の冷却効果の増大
と他の形式のX線管に対しより高い電力処理能力が与え
られる。
ーゲット38の薄さがターゲット38の冷却効果の増大
と他の形式のX線管に対しより高い電力処理能力が与え
られる。
基体36の冷却能力は第2,3図のように基体36内の
導管56に沿って油のよう々流体を循環させることによ
り増大出来る。
導管56に沿って油のよう々流体を循環させることによ
り増大出来る。
第3図は導管56を示すため第2図の3−3から見た基
体36の断面図である。
体36の断面図である。
基体36は一方が第3図の導管56を形成するように機
械加工された二つのディスクをつくりこれらを接着、溶
接あるいはボルト止めして接合することにより従来技術
を用いてつくられる。
械加工された二つのディスクをつくりこれらを接着、溶
接あるいはボルト止めして接合することにより従来技術
を用いてつくられる。
導管56の両端はそれらと合う一対のニップル62をも
つプラグ60により一対の通路を有し基体36に溜め6
6から油をポンプするポンプ64に接続したケーブル5
8に接続される。
つプラグ60により一対の通路を有し基体36に溜め6
6から油をポンプするポンプ64に接続したケーブル5
8に接続される。
第1図に示すように、第4,5図に詳細を示しているゾ
ーンプレート69とハーフトーンスクリーン70が発生
器22の軸に沿いその外側に配置される。
ーンプレート69とハーフトーンスクリーン70が発生
器22の軸に沿いその外側に配置される。
スクリーン70はゾーンプレート69と目的物54の間
に配置される。
に配置される。
比較的高い空間周波数スペクトルを有するモザイクに相
似の小さい領域に見かけ上分割されるように見える目的
物54の変更された形を入射輻射線に与えるため、スク
リーン70の位置はゾーンプレート69に対してよりも
目的物54に近い。
似の小さい領域に見かけ上分割されるように見える目的
物54の変更された形を入射輻射線に与えるため、スク
リーン70の位置はゾーンプレート69に対してよりも
目的物54に近い。
そのようなスペクトルは目的物54に関連した低い空間
周波スペクトルが与えるよりも秀れた像を与えるためゾ
ーンプレート69と有効に協力する。
周波スペクトルが与えるよりも秀れた像を与えるためゾ
ーンプレート69と有効に協力する。
ゾーンプレート69、スクリーン70および目的物54
により変調されたX線は写真板72に当りその上のホロ
グラムと同様のコード化された像を与える。
により変調されたX線は写真板72に当りその上のホロ
グラムと同様のコード化された像を与える。
装置20の使用例として血管造影が人間の部分の検査の
ために利用される場合を考えると便利であり、その場合
には目的物54(/″iその人の検査される部分となる
。
ために利用される場合を考えると便利であり、その場合
には目的物54(/″iその人の検査される部分となる
。
血管造影ではヨウ素のような造影剤がd投にX線r対し
て異った吸収性をもつ他の人体組織の影と比較して組織
または血管によりつくられる影をより良く限定するため
X線を吸収させる目的で患者に供給される。
て異った吸収性をもつ他の人体組織の影と比較して組織
または血管によりつくられる影をより良く限定するため
X線を吸収させる目的で患者に供給される。
この場合にはセリウムまたはその酸化物であるセリアが
そのX線放出スペクトルがヨウ素の吸収スペクトルと合
うためにターゲット38に使用される。
そのX線放出スペクトルがヨウ素の吸収スペクトルと合
うためにターゲット38に使用される。
セリウムの螢光放出ライン(カソード40からの電子に
よる衝撃によって生じる内殻内の空孔に、セリウム原子
の外殻の電子が落込むことによって生じる)は吸収され
るべき輻射線のエネルギー(eV)の関数としてヨウ素
のX線吸収の周知の形をもつヨウ素のX線吸収曲線のほ
ぼピークにおいて生じる。
よる衝撃によって生じる内殻内の空孔に、セリウム原子
の外殻の電子が落込むことによって生じる)は吸収され
るべき輻射線のエネルギー(eV)の関数としてヨウ素
のX線吸収の周知の形をもつヨウ素のX線吸収曲線のほ
ぼピークにおいて生じる。
このようにターゲット38にセリウムを目的物にヨウ素
を用いることによシ患者の良好に解像された像が与えら
れ、その限界は患者に入射する輻射線の単色性と患者に
入れられる造影剤の吸収スペクトルのピークにおけるエ
ネルギーまたは周波数に等しく入射輻射線のエネルギー
または周波数の選択とによりきまる。
を用いることによシ患者の良好に解像された像が与えら
れ、その限界は患者に入射する輻射線の単色性と患者に
入れられる造影剤の吸収スペクトルのピークにおけるエ
ネルギーまたは周波数に等しく入射輻射線のエネルギー
または周波数の選択とによりきまる。
第6図はこの発明の一実施例を示し、この実施例ではX
線管ば24Aで示しである。
線管ば24Aで示しである。
X線管24Aばその管軸と一致する軸をもつ環またはシ
リンダの形をした非接触グリッド74を有する。
リンダの形をした非接触グリッド74を有する。
第2図のカソード40はここでは基体36A上に付着さ
れるターゲラ)38Aを均一に照射するためグリッド7
4によりさらに容易に方向づけされる電子放出路を与え
るためにカソード40Aのごとくに変更されている。
れるターゲラ)38Aを均一に照射するためグリッド7
4によりさらに容易に方向づけされる電子放出路を与え
るためにカソード40Aのごとくに変更されている。
グリッド74の直径はそれとカソード40Aとのスペー
スにほぼ等しい。
スにほぼ等しい。
電源30がカソード40Aとターゲット38Aの間の高
電圧をパルス的にオン−オフする必要がもはやないから
、グリッド74の使用はビームの変調を良好に制御して
より鋭いパルスを与える。
電圧をパルス的にオン−オフする必要がもはやないから
、グリッド74の使用はビームの変調を良好に制御して
より鋭いパルスを与える。
グリッド・パルサー76で示す周知の回路が電子ビーム
の変調のためカソード40Aとグリッド74に電位差を
加えるために利用される。
の変調のためカソード40Aとグリッド74に電位差を
加えるために利用される。
X線管24AはX線を限定するため一般には鉛の・・ウ
ジフグ94内に置かれ、ハウジング94とfli管24
Aのガラスのエンベロープ98との間に油の絶縁層9
6が置かれる。
ジフグ94内に置かれ、ハウジング94とfli管24
Aのガラスのエンベロープ98との間に油の絶縁層9
6が置かれる。
このハウジングはゾーンプレート69の方向に放出され
た輻射線を限定するために基体36Aのベースへと伸び
る。
た輻射線を限定するために基体36Aのベースへと伸び
る。
基体36Aはエンベロープ98に対してシールされそし
てX線管24Aのベース100の一部全形成する。
てX線管24Aのベース100の一部全形成する。
ベース100は油室96をシールするために利用され、
そこでフランジ102はハウジング94に対して外方に
設けられてゾーンプレート69を囲むベゼル(beze
l) 108をベース10θに向けて押しつけるナツト
104とボルト106の助けによってゾーンプレート6
9の装着を可能とする。
そこでフランジ102はハウジング94に対して外方に
設けられてゾーンプレート69を囲むベゼル(beze
l) 108をベース10θに向けて押しつけるナツト
104とボルト106の助けによってゾーンプレート6
9の装着を可能とする。
ワイヤ44と46(ri第2図の電源30の接続に利用
されたと同様に電源30をカソード40Aとベース10
0に夫々接続する。
されたと同様に電源30をカソード40Aとベース10
0に夫々接続する。
第6図において、ワイヤ46はベース100とターゲッ
ト38Aが接地位置になるように接地される。
ト38Aが接地位置になるように接地される。
これにより患者の種々の部位の検査に必要であるようだ
オペレータが必要とするときゾーンプレート69の脱着
が可能になる。
オペレータが必要とするときゾーンプレート69の脱着
が可能になる。
電源30により与えられる電位差は150KV程度とな
るから一次巻線と二次巻線の間が150KVに耐えられ
るように充分絶縁された特殊な設計の変圧器110がフ
ライメント電源52Aをフライメント42Aに接続する
ため利用される。
るから一次巻線と二次巻線の間が150KVに耐えられ
るように充分絶縁された特殊な設計の変圧器110がフ
ライメント電源52Aをフライメント42Aに接続する
ため利用される。
変圧器110の一次巻線の中間タップは接地され、二次
巻線の中間タップはワイヤ44上の高圧に接続する。
巻線の中間タップはワイヤ44上の高圧に接続する。
ターゲラ)38Aと基体36Aの表面は管24Aの軸に
対し傾斜している。
対し傾斜している。
管24Aから外向きに出る輻射線はターゲラ)38Aの
表面からある角度をもって放出されるのであり、その角
度は表面の法線に対し80〜85°程度であるとよい。
表面からある角度をもって放出されるのであり、その角
度は表面の法線に対し80〜85°程度であるとよい。
ターゲラ)38Aのだんだん大きくなる直径のその直径
端部ば、ハウジング94によって画定され、ターゲラ)
38Aの表面から出る輻射線を通過する窓部を構成して
いる。
端部ば、ハウジング94によって画定され、ターゲラ)
38Aの表面から出る輻射線を通過する窓部を構成して
いる。
第8,9図に示すように、ターゲラ)38Aの表面から
出る輻射線のスペクトルは輻射線の出る面に対するその
輻射線の観測角により変化する。
出る輻射線のスペクトルは輻射線の出る面に対するその
輻射線の観測角により変化する。
図示のごとく、ターゲット38Aの表面の法線π対し約
80〜85°の角度で出るX線は他の角度から見た輻射
線の場合よりもその全スペクトルに対し高い螢光X線ラ
インの割合を有する。
80〜85°の角度で出るX線は他の角度から見た輻射
線の場合よりもその全スペクトルに対し高い螢光X線ラ
インの割合を有する。
またターゲラ)38A内で発生する制動輻射は管の軸に
沿ったターゲット物質の深さが大きく々るため軸方向で
減衰される。
沿ったターゲット物質の深さが大きく々るため軸方向で
減衰される。
これによりさらにゾーンプレート69に達する制動輻射
の量が減少する。
の量が減少する。
従って管24Aの軸にほぼ平行の方向で見た観測される
輻射線は前述のようにレントゲン撮影に最も有利な増進
された単色性のものとなる。
輻射線は前述のようにレントゲン撮影に最も有利な増進
された単色性のものとなる。
ターゲット38Aはタングステンのような原子番号の多
い元素よりもよりはつきりしたに放出ラインをつくるセ
リウムまたはモリブデンのような原子番号の低い元素か
らなる材料で出来た20〜40ミクロンの厚さの層であ
る。
い元素よりもよりはつきりしたに放出ラインをつくるセ
リウムまたはモリブデンのような原子番号の低い元素か
らなる材料で出来た20〜40ミクロンの厚さの層であ
る。
これにより第2図のターゲット38で得られるものより
も軟いX線でそれより高い強度をもつもの、例えば一般
に血管造影で用いられる34KeVのものがターゲット
38Aの電子衝撃に応じて直接に発生される。
も軟いX線でそれより高い強度をもつもの、例えば一般
に血管造影で用いられる34KeVのものがターゲット
38Aの電子衝撃に応じて直接に発生される。
例えばモリブデンの厚さが20ミクロンの場合にばに放
出ラインは17.5 KeVである。
出ラインは17.5 KeVである。
35〜40KeVの電子による照射では全輻射の95係
以上が14〜20KeVの光子エネルギー範囲に集中す
る。
以上が14〜20KeVの光子エネルギー範囲に集中す
る。
70KeVの電子で40ミクロンのセリウム層を照射す
るとセリウム層の表面の法線に対し80°の角度でみた
場合にその33〜40KeVの範囲にエネルギーの70
係を含むスペクトルを発生する。
るとセリウム層の表面の法線に対し80°の角度でみた
場合にその33〜40KeVの範囲にエネルギーの70
係を含むスペクトルを発生する。
このセリウムの放出スペクトルはヨウ素の最大吸収領域
に対応し、かくしてヨウ素をセリウムX線源と共に使用
するに理想的な造影剤とする。
に対応し、かくしてヨウ素をセリウムX線源と共に使用
するに理想的な造影剤とする。
この表面の傾斜は基体36Aとターゲラ)38Aを円錐
形とすることにより与えられる。
形とすることにより与えられる。
ターゲット38Aのこの傾斜した表面はカソード40A
からの電子で照射される面積を増加させるという利点を
有し、そのためX線の強度がさらに大きくなる。
からの電子で照射される面積を増加させるという利点を
有し、そのためX線の強度がさらに大きくなる。
第1図にもどると、装置20はフィルム72上のコード
化された写真またはホログラムからスクリーン(または
フィルム)118上に像を再生するに利用される光学系
116を含んでいる。
化された写真またはホログラムからスクリーン(または
フィルム)118上に像を再生するに利用される光学系
116を含んでいる。
光学系116はコヒーレント光を出すようなレーザであ
るとよい光源120と集光レンズ122を有し、レンズ
122はこの光を絞り124を通して集めそれが第二の
レンズ126に入り、レンズ126がこの光を焦点12
8に集める。
るとよい光源120と集光レンズ122を有し、レンズ
122はこの光を絞り124を通して集めそれが第二の
レンズ126に入り、レンズ126がこの光を焦点12
8に集める。
写真板72は現像され、そしてレンズ126を出た光線
が焦点128へと写真板72を通り到達するようにレン
ズ126の後に置かれる。
が焦点128へと写真板72を通り到達するようにレン
ズ126の後に置かれる。
片口レンズ132とレンズ134からなる望遠鏡130
がレンズ126の軸に対し角度をもつ軸136に沿って
配置される。
がレンズ126の軸に対し角度をもつ軸136に沿って
配置される。
望遠鏡130は軸136の方向知絞り138を通り屈折
した光を見てこの光をスクリーン118ニ結像させる。
した光を見てこの光をスクリーン118ニ結像させる。
光学系116は軸のずれたフレネルパターンの形のゾー
ンプレート69で形成される像を復号化するために利用
される。
ンプレート69で形成される像を復号化するために利用
される。
他の変調パターンを利用するゾーンプレートが装置20
で用いられるならば前記した米国特許の復号化またはフ
ィルタリングを利用出来る。
で用いられるならば前記した米国特許の復号化またはフ
ィルタリングを利用出来る。
角度のついた軸136に沿った望遠鏡130の向きは軸
ずれフレネルプレートの軸ずれ焦点と一致する。
ずれフレネルプレートの軸ずれ焦点と一致する。
焦点128に焦点をむすぶ光は紋り138の不透明部分
で阻止されてスクリーン118上の再生像には何も形成
しない。
で阻止されてスクリーン118上の再生像には何も形成
しない。
第1図から明らかなように、軸ずれフレネルパターンゾ
ーンプレートの使用は写真板72上にコード化された像
を与え、これは簡単な光学要素で復号化出来る。
ーンプレートの使用は写真板72上にコード化された像
を与え、これは簡単な光学要素で復号化出来る。
第4,5図に示すように、ゾーンプレート69とハーフ
トーンスクリーン70は基部に鉛を含む材料を付着させ
ることで形成出来る。
トーンスクリーン70は基部に鉛を含む材料を付着させ
ることで形成出来る。
第4図では付着された材料140はゾーンプレート69
の基体142で支持され、第5図では付着された材料1
44は基体146で支持される。
の基体142で支持され、第5図では付着された材料1
44は基体146で支持される。
第1図において、写真板72ばそれを現像すると共に分
解能を上げるため板72の寸法を縮少する周知の装置を
有する現像室152を通りロープ150を通るチェーン
148で運ばれる。
解能を上げるため板72の寸法を縮少する周知の装置を
有する現像室152を通りロープ150を通るチェーン
148で運ばれる。
第7図には第6図のターゲット38Aの他の実施例が示
されてセリ、ここでは軸方向の円錐の長さが軸に沿って
その頂部を内向きに折り曲げることにより短くなってお
り、そして基体とターゲットは夫々36B、38Bで示
している。
されてセリ、ここでは軸方向の円錐の長さが軸に沿って
その頂部を内向きに折り曲げることにより短くなってお
り、そして基体とターゲットは夫々36B、38Bで示
している。
この実施例ではターゲラ)38Bの表面ば第6図と同様
にターゲラ)38Bの軸に対し傾斜している。
にターゲラ)38Bの軸に対し傾斜している。
従って単色性についての利点は同じである。
この傾斜はターゲット38Bの材料が金とかタングステ
ンのような重い元素であるかどうかあるいはこれらがセ
リウムやモリブデンのような軽い元素であるかに無関係
に改善された単色性を与える。
ンのような重い元素であるかどうかあるいはこれらがセ
リウムやモリブデンのような軽い元素であるかに無関係
に改善された単色性を与える。
モリブデンおよびセリウムのスペクトル中の強い螢光ラ
インにより、これら原子番号の小さい元素を第6図のカ
ソード40Aからの電子で衝撃すると金やタングステン
のターゲットで得られるものよりもはるかに大きい単色
性が得られる。
インにより、これら原子番号の小さい元素を第6図のカ
ソード40Aからの電子で衝撃すると金やタングステン
のターゲットで得られるものよりもはるかに大きい単色
性が得られる。
X線エネルギーの主部分はモリブデンとセリウムのター
ゲットのに放出ラインで発生されることがわかった。
ゲットのに放出ラインで発生されることがわかった。
従って第6図のX線管24Aまたは第7図のそれを短く
したものは人体においてヨウ素のよう々トレーサと共に
使用するて最も適したX線源を与える。
したものは人体においてヨウ素のよう々トレーサと共に
使用するて最も適したX線源を与える。
発生器22のX線でゾーンプレート69を均一に照射す
ることにより第1図の装置20で良好な品質の像が得ら
れる。
ることにより第1図の装置20で良好な品質の像が得ら
れる。
そのような均一照射を行う一つの方法はグリッド74に
ついて第6図で説明した。
ついて第6図で説明した。
他の方法としてはグリッド74と共にあるいは単独に磁
場集束を用いるものがある。
場集束を用いるものがある。
そのための装置の一例を第2図に示してあり、ハウジン
グ26の軸の方向の磁場を発生する磁石154が利用さ
れる。
グ26の軸の方向の磁場を発生する磁石154が利用さ
れる。
磁石154はタイマ158で駆動されるコイル電源15
6からの電流により附勢されるコイルを含む。
6からの電流により附勢されるコイルを含む。
タイマ158はライン160に沿って信号を供給し、こ
れら信号がコイル電流をタイマ158がX線管24を励
起するため電源30に信号を出している時間中周期的に
変化させる。
れら信号がコイル電流をタイマ158がX線管24を励
起するため電源30に信号を出している時間中周期的に
変化させる。
磁石154のコイルにおける電流のこの周期的変化はタ
ーゲット38に入射する電子束の周期的拡大と縮少を生
じさせ、これがX線管24内の静電界による電子束の不
充分な制御またはカソードからの不均一な放出で生じる
電子束の不規則性を平衡または中和する傾向をもつ。
ーゲット38に入射する電子束の周期的拡大と縮少を生
じさせ、これがX線管24内の静電界による電子束の不
充分な制御またはカソードからの不均一な放出で生じる
電子束の不規則性を平衡または中和する傾向をもつ。
ターゲットの電子照射の制御装置の他の例は第6図の磁
石162と164である。
石162と164である。
磁石162と164はそれらの磁場を互いに直交するよ
うにそしてX線管24Aの軸に垂直な面内にするように
方向づけるよう配置される。
うにそしてX線管24Aの軸に垂直な面内にするように
方向づけるよう配置される。
これら磁石用の電流はタイマー158A(Iiそれがグ
リッドパルサ76に管24A内の電子ビームをオンにさ
せるよう信号を出している時間中磁場を周期的に変える
よってコイル電源156Aに信号を与える。
リッドパルサ76に管24A内の電子ビームをオンにさ
せるよう信号を出している時間中磁場を周期的に変える
よってコイル電源156Aに信号を与える。
コイル電源156Aは磁石162と164に変化する電
流をそれらの間にラスク走査またはらせん状走査で電子
ビームを磁気的に偏向させるに適した位相関係をもって
与える。
流をそれらの間にラスク走査またはらせん状走査で電子
ビームを磁気的に偏向させるに適した位相関係をもって
与える。
電子ビームのこの周期的偏向は電子束の不規則性を平滑
化しそしてそれによりゾーンプレート69への均一なX
線照射を与えるターゲラ)38Aの均一照射を与える。
化しそしてそれによりゾーンプレート69への均一なX
線照射を与えるターゲラ)38Aの均一照射を与える。
第8,9図は第2図のターゲット38あるいは第6図の
ターゲット38AのようなX線ターゲットからその表面
に垂直な線から傾斜して見た輻射線のその角度の関数と
して得られるX線スペクトルの純度を示すグラフである
。
ターゲット38AのようなX線ターゲットからその表面
に垂直な線から傾斜して見た輻射線のその角度の関数と
して得られるX線スペクトルの純度を示すグラフである
。
第8図はモリブデンの20ミクロン厚の層のターゲット
で得られたデータ、第9図はセリウム40ミクロンのタ
ーゲットで得られたデータである。
で得られたデータ、第9図はセリウム40ミクロンのタ
ーゲットで得られたデータである。
さらに両図に示しているのばにαラインの輻射と制動輻
射の収量である。
射の収量である。
純度を表わす曲線ばにαラインで測定される収量を制動
輻射とにαライン輻射を加えた総収量で割ったものであ
り、チ単位で示される。
輻射とにαライン輻射を加えた総収量で割ったものであ
り、チ単位で示される。
そして、両図中に記載されているX線収量はターゲット
上に1電子の衝突(第8,9図下方左側隅部の小回に記
載されたエネルギーで)の結果として1ステラジアンの
立体角へ放射される(与えられる出力角で)10”−4
KeVの単位のX線エネルギーを示す。
上に1電子の衝突(第8,9図下方左側隅部の小回に記
載されたエネルギーで)の結果として1ステラジアンの
立体角へ放射される(与えられる出力角で)10”−4
KeVの単位のX線エネルギーを示す。
そして、Kα収量と制動輻射収量ば1O−4Ke■/ス
テラジアン・電子の単位で示される。
テラジアン・電子の単位で示される。
純度曲線は約80〜85°の範囲でピークをもち、そし
て第6,7図で述べたようにこのピーク効果はターゲッ
ト38の表面をX線管の軸に対し傾斜させた理由の一つ
である。
て第6,7図で述べたようにこのピーク効果はターゲッ
ト38の表面をX線管の軸に対し傾斜させた理由の一つ
である。
かくしてこの純度曲線は放出された輻射線の単色性の目
安になる。
安になる。
軸ずれフレネルパターンを有する第1図のゾーンプレー
ト69は平均して1インチ当り約50本のラインスペー
スを利用する。
ト69は平均して1インチ当り約50本のラインスペー
スを利用する。
第1図のハーフトーンスクリーン10がゾーンプレート
69と写真板72の中間に置かれた場合にはこのスクリ
ーンは1インチ当り10本のライン密度を有する。
69と写真板72の中間に置かれた場合にはこのスクリ
ーンは1インチ当り10本のライン密度を有する。
高品質の像に適したラインスペース密度を・・−フトー
ンスクリーンに与えるためにこのスクリーンのライン密
度はゾーンプレートの平均スペース密度にゾーンプレー
ト69、スクリーン70および写真板γ2の間の相対的
スペースに関連した因子を乗算することにより得られる
のであり、この因子はゾーンプレート69からプレート
72までの距離をゾーンプレート69とスクリーン70
の間の距離で割ったものである。
ンスクリーンに与えるためにこのスクリーンのライン密
度はゾーンプレートの平均スペース密度にゾーンプレー
ト69、スクリーン70および写真板γ2の間の相対的
スペースに関連した因子を乗算することにより得られる
のであり、この因子はゾーンプレート69からプレート
72までの距離をゾーンプレート69とスクリーン70
の間の距離で割ったものである。
第、1図は本発明の広口発生器に使用するに適したX線
結像装置、第2図はこの発明の詳細な説明する参考図、
第3図は第2図のターゲット用の流体冷却される基体、
第4図は第2図の発生器に使用するフレネルゾーンプレ
ート、第5図は第2図の発生器に使用するためのハーフ
トーンスクリーン、第6図は本発明の一実施例を示す図
、第7図は他の実施例を示す図、第8,9図はモリブデ
ンとセリウムからなるターゲットの輻射収量と純度の角
度依存性を示す図、である。 22・・・・・・X線発生器、24・・・・・・X線管
、26・・・・・・ハウジング、28・・・・・・油、
30・・・・・・電源、32・・・・・・エンベロープ
、38・・・・・・ターゲット、40・・・・・・カソ
ード、42・・・・・・フィラメント、52・・・・・
・フィラメント電源、68・・・・・・窓、69・・・
・・・ゾーンプレート、TO・・・・・・ハーフトーン
スクリーン、72・・・・・・写真板。
結像装置、第2図はこの発明の詳細な説明する参考図、
第3図は第2図のターゲット用の流体冷却される基体、
第4図は第2図の発生器に使用するフレネルゾーンプレ
ート、第5図は第2図の発生器に使用するためのハーフ
トーンスクリーン、第6図は本発明の一実施例を示す図
、第7図は他の実施例を示す図、第8,9図はモリブデ
ンとセリウムからなるターゲットの輻射収量と純度の角
度依存性を示す図、である。 22・・・・・・X線発生器、24・・・・・・X線管
、26・・・・・・ハウジング、28・・・・・・油、
30・・・・・・電源、32・・・・・・エンベロープ
、38・・・・・・ターゲット、40・・・・・・カソ
ード、42・・・・・・フィラメント、52・・・・・
・フィラメント電源、68・・・・・・窓、69・・・
・・・ゾーンプレート、TO・・・・・・ハーフトーン
スクリーン、72・・・・・・写真板。
Claims (1)
- 1 厚みよりも十分大きな幅を有する透過形ターゲット
と、少なくとも一部が前記ターゲットの第1の表面とは
反対側の第2の表面から生じる前記ターゲットからのX
線輻射を励起するのに充分なエネルギーを有する電子で
前記ターゲットの第1の表面を均一に照射するように構
成された第1の表面を照射するための装置と、前記ター
ゲットの第2の表面に隣接して配置されて該ターゲット
を前記照射装置に対し離隔した関係に支持するX線に対
して透明な基体と、およびX線に対して不透明なハウジ
ングの端部により画定されたX線に対して透明な窓部と
から成り、該窓部の面と前記ターゲットの第2の表面は
約80度乃至85度の角度となる関係に配置されること
により、前記ターゲットの第2の表面の法線に対して約
80度乃至85度の範囲外の輻射X線を前記ハウジング
によって遮蔽し、該範囲外の輻射X線を前記窓部より通
過させ、輻射されるX線の全スペクトルに関し螢光X線
の割合を高めることを特徴とするX線発生器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US39377173A | 1973-09-04 | 1973-09-04 | |
US393771 | 1973-09-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5056195A JPS5056195A (ja) | 1975-05-16 |
JPS5928939B2 true JPS5928939B2 (ja) | 1984-07-17 |
Family
ID=23556181
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP49101807A Expired JPS5928939B2 (ja) | 1973-09-04 | 1974-09-04 | X線発生器 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5928939B2 (ja) |
CA (1) | CA1007767A (ja) |
CH (1) | CH586989A5 (ja) |
DE (1) | DE2441986B2 (ja) |
GB (1) | GB1478320A (ja) |
NL (1) | NL162788C (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04348395A (ja) * | 1991-01-10 | 1992-12-03 | Yamaha Corp | 電子打楽器 |
JPH0587840B2 (ja) * | 1984-12-04 | 1993-12-20 | Yamaha Corp |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2926883A1 (de) * | 1979-07-03 | 1981-01-22 | Siemens Ag | Elektronenbeschleuniger |
DE2926823A1 (de) * | 1979-07-03 | 1981-01-22 | Siemens Ag | Elektronenbeschleuniger |
RU2161843C2 (ru) | 1999-02-17 | 2001-01-10 | Кванта Вижн, Инк. | Точечный высокоинтенсивный источник рентгеновского излучения |
IT1398464B1 (it) * | 2010-02-02 | 2013-02-22 | Microtec Srl | Tubo radiogeno |
-
1974
- 1974-08-06 CA CA206,407A patent/CA1007767A/en not_active Expired
- 1974-09-02 DE DE2441986A patent/DE2441986B2/de not_active Ceased
- 1974-09-03 GB GB3853274A patent/GB1478320A/en not_active Expired
- 1974-09-04 NL NL7411736.A patent/NL162788C/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-09-04 CH CH1201074A patent/CH586989A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-09-04 JP JP49101807A patent/JPS5928939B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0587840B2 (ja) * | 1984-12-04 | 1993-12-20 | Yamaha Corp | |
JPH04348395A (ja) * | 1991-01-10 | 1992-12-03 | Yamaha Corp | 電子打楽器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1007767A (en) | 1977-03-29 |
GB1478320A (en) | 1977-06-29 |
CH586989A5 (ja) | 1977-04-15 |
NL7411736A (nl) | 1975-03-06 |
NL162788B (nl) | 1980-01-15 |
DE2441986B2 (de) | 1979-07-12 |
NL162788C (nl) | 1980-06-16 |
JPS5056195A (ja) | 1975-05-16 |
DE2441986A1 (de) | 1975-03-06 |
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