JPS59108460A - 固体撮像装置 - Google Patents
固体撮像装置Info
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- JPS59108460A JPS59108460A JP57217753A JP21775382A JPS59108460A JP S59108460 A JPS59108460 A JP S59108460A JP 57217753 A JP57217753 A JP 57217753A JP 21775382 A JP21775382 A JP 21775382A JP S59108460 A JPS59108460 A JP S59108460A
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Classifications
-
- H01L27/14679—
-
- H01L31/1126—
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は固体撮像装置に関するものである。 ・従来固
体撮像装置としてはOOD等の電荷転送素子を用いるも
のや、MOS)ランジスタを用いるものなどが広く用い
られている。しかし、これらの固体撮像装置は電荷転送
時に[4の洩れがあること、光検出感度が低いこと、集
積度が上から・・ないことなどの問題がある。このよう
な間類を一′挙に解決するものとして、静電誘導トラン
ジスタ(5tatiOIn6uation Trans
lstorの頭文字をとってSITと呼ばれている)を
用いたものが新たに提案されている。例えば特開昭55
−15229号 −゛公報には、マトリックス状に配列
したSITのソースを行導線に接続し、ドレインを列導
線に接続し、ゲートをクリア導線に接続した固体撮像装
置が示されている。また、このような固体撮像装置をさ
らに発展させたものとして、ゲートにコンテ“□ンサを
接続したものが考えられている。第1図AおよびBはこ
のよりなSITの構造を示す断面図および平面図である
。
体撮像装置としてはOOD等の電荷転送素子を用いるも
のや、MOS)ランジスタを用いるものなどが広く用い
られている。しかし、これらの固体撮像装置は電荷転送
時に[4の洩れがあること、光検出感度が低いこと、集
積度が上から・・ないことなどの問題がある。このよう
な間類を一′挙に解決するものとして、静電誘導トラン
ジスタ(5tatiOIn6uation Trans
lstorの頭文字をとってSITと呼ばれている)を
用いたものが新たに提案されている。例えば特開昭55
−15229号 −゛公報には、マトリックス状に配列
したSITのソースを行導線に接続し、ドレインを列導
線に接続し、ゲートをクリア導線に接続した固体撮像装
置が示されている。また、このような固体撮像装置をさ
らに発展させたものとして、ゲートにコンテ“□ンサを
接続したものが考えられている。第1図AおよびBはこ
のよりなSITの構造を示す断面図および平面図である
。
第1図AおよびBに示すように、P型基板1上にSIT
のソースを構成するn型埋込層2を形 1成すると共に
n−型エピタキシャル層8を成長させ、このエピタキシ
ャル層8の表面に熱拡散法等によりn+ドレイン領域4
お工びP+ゲート領域5を形成する。ドレイン領域4の
拡散深さは、これとソース領域2との間に形成するチャ
ンネル領域・の開閉を確実に行々うために、ゲート領域
5の拡”散深さよりも浅くする。ドレイン領域4にはド
レイン電極6を接合して設け、ゲート領域5には絶縁層
7を介してゲート電極8を設けることによりすなわちM
IS構造とすることによりゲートコンデンサを形成する
。また、隣接するSITは、それらの間にエピタキシャ
ル層8を分離するように絶縁層9を設けて相互に電気的
に分離する。
のソースを構成するn型埋込層2を形 1成すると共に
n−型エピタキシャル層8を成長させ、このエピタキシ
ャル層8の表面に熱拡散法等によりn+ドレイン領域4
お工びP+ゲート領域5を形成する。ドレイン領域4の
拡散深さは、これとソース領域2との間に形成するチャ
ンネル領域・の開閉を確実に行々うために、ゲート領域
5の拡”散深さよりも浅くする。ドレイン領域4にはド
レイン電極6を接合して設け、ゲート領域5には絶縁層
7を介してゲート電極8を設けることによりすなわちM
IS構造とすることによりゲートコンデンサを形成する
。また、隣接するSITは、それらの間にエピタキシャ
ル層8を分離するように絶縁層9を設けて相互に電気的
に分離する。
このような構成においては、光入力のない定常状態にお
いてゲート領域5をソース領域2に対しMで逆バイアス
に設定すわば、チャンネル領域は空乏化されるから、ソ
ースドレイン間が順方向にバイアスされてもソースドレ
イン間には電流が流れない。このような状態で、光入力
によって正孔−電子対が発生すると、電子はソース領域
2またはI・ドレイン領域4に向かい蓄積またははき出
さね、正孔はゲート領域5に蓄積されてMIS構造によ
るゲートコンデンサを充電し、ゲート電位をΔvGだけ
変化させる。ここで、ゲートコンデンサノ容量と、エピ
タキシャル層8に対する空乏層容址と−・・・の和を0
゜、光入力によって発生され、ゲート領1域5に蓄積さ
れた電荷量をQLとすると、ΔVo= QI、/、oと
なる。成る蓄積時間が経過した後、ゲート電極8にゲー
ト読出しパルスφGを与えると、ゲート電位はφGにΔ
voが加わったものとな。
いてゲート領域5をソース領域2に対しMで逆バイアス
に設定すわば、チャンネル領域は空乏化されるから、ソ
ースドレイン間が順方向にバイアスされてもソースドレ
イン間には電流が流れない。このような状態で、光入力
によって正孔−電子対が発生すると、電子はソース領域
2またはI・ドレイン領域4に向かい蓄積またははき出
さね、正孔はゲート領域5に蓄積されてMIS構造によ
るゲートコンデンサを充電し、ゲート電位をΔvGだけ
変化させる。ここで、ゲートコンデンサノ容量と、エピ
タキシャル層8に対する空乏層容址と−・・・の和を0
゜、光入力によって発生され、ゲート領1域5に蓄積さ
れた電荷量をQLとすると、ΔVo= QI、/、oと
なる。成る蓄積時間が経過した後、ゲート電極8にゲー
ト読出しパルスφGを与えると、ゲート電位はφGにΔ
voが加わったものとな。
す、ゲート領域5とドレイン領域4との間の電位は低下
して空乏層が減少し、ソース−ドレイン間に光入力に対
応したドレイン電流が流れる。このドレイン電流はSI
Tの増幅作用のためΔvoが増幅度倍されたものとなり
、大きなものとなる。11.。
して空乏層が減少し、ソース−ドレイン間に光入力に対
応したドレイン電流が流れる。このドレイン電流はSI
Tの増幅作用のためΔvoが増幅度倍されたものとなり
、大きなものとなる。11.。
た、SITのソースとじレインとを入れ替えても同様の
動作をするものである。
動作をするものである。
第2図人は上述したSITをマトリックス状に配列して
構成した固体撮像装置の回路構成を示すものであり、第
2図Bは同じくその動作を説明す。
構成した固体撮像装置の回路構成を示すものであり、第
2図Bは同じくその動作を説明す。
るための信号波形図である。各5ITIO−1,10−
2・・・・・・は上述した↓うにノーマリオフ形のnチ
ャネルBITで、光入力に対する出力ビデオ信号をXY
アドレス方式で読み出すようにしている。各画素を構成
するJTのソースは共通のリセット−1、線11に接続
してバイアス電圧v8を印加し、X方□向に配列された
一行のSIT群のゲートは、行ライン12−1.12−
2・・・・・・を介して垂直選択シフトレジスタ1Bに
接続する。また、Y方向に配列さねた一列のSIT群の
ドレインは列ライン14−1゜14−2・・・・・・に
接続し、とわらの列ラインはそれぞれ水平選択シフトレ
ジスター5によって選択駆動される水平選択トランジス
ター6−1.16−2・・・を介してビデオライン17
に共通に接続する。
2・・・・・・は上述した↓うにノーマリオフ形のnチ
ャネルBITで、光入力に対する出力ビデオ信号をXY
アドレス方式で読み出すようにしている。各画素を構成
するJTのソースは共通のリセット−1、線11に接続
してバイアス電圧v8を印加し、X方□向に配列された
一行のSIT群のゲートは、行ライン12−1.12−
2・・・・・・を介して垂直選択シフトレジスタ1Bに
接続する。また、Y方向に配列さねた一列のSIT群の
ドレインは列ライン14−1゜14−2・・・・・・に
接続し、とわらの列ラインはそれぞれ水平選択シフトレ
ジスター5によって選択駆動される水平選択トランジス
ター6−1.16−2・・・を介してビデオライン17
に共通に接続する。
このビデオライン17には負荷抵抗18を経て電゛−圧
V を印加する@ 今、リセット線11へのバイアス電圧vsを適切に、例
えば零ボルトに設定して、1つのSIT画素の出力が読
出される場合について考えてみる。
V を印加する@ 今、リセット線11へのバイアス電圧vsを適切に、例
えば零ボルトに設定して、1つのSIT画素の出力が読
出される場合について考えてみる。
例えば、垂直選択シフトレジスター8から行うイ□ン1
2−1に行選択パルスφG1を供給している期間に、水
平選択シフトレジスター5から水平選択トランジスター
6−IKi出しパルスφD□を印加すると、3IT10
−1が選択され、この5ITIO−1には負荷抵抗18
、ビデオライン17、水平選択パトランジスター6−1
および列ライン14−1を経1てドレイン電流が流れ、
出力端子19に出力電圧■outが発生する。上述した
ようにこのドレイン電流はゲート電圧の関数であり、こ
のゲート電圧は光入力の関数と々るから、暗時の出力電
圧からの□増加分Δvou tは光入力に対応した電圧
となる。しかも、この電圧Δ■outはSITの増幅作
用によりΔvGが増幅度倍された大きなものとなる。次
に、水平選択シフトレジスター5から水平選択トランジ
スタ16−2に読出しパルスφDz”与えてS I T
”’10−2の読出しを行ない、−桁分の読出しが終
了したら、垂直選択シフトレジスター8から次の行に行
選択パルスφG2を与えて、その行の13ITを1諏次
に読出す。
2−1に行選択パルスφG1を供給している期間に、水
平選択シフトレジスター5から水平選択トランジスター
6−IKi出しパルスφD□を印加すると、3IT10
−1が選択され、この5ITIO−1には負荷抵抗18
、ビデオライン17、水平選択パトランジスター6−1
および列ライン14−1を経1てドレイン電流が流れ、
出力端子19に出力電圧■outが発生する。上述した
ようにこのドレイン電流はゲート電圧の関数であり、こ
のゲート電圧は光入力の関数と々るから、暗時の出力電
圧からの□増加分Δvou tは光入力に対応した電圧
となる。しかも、この電圧Δ■outはSITの増幅作
用によりΔvGが増幅度倍された大きなものとなる。次
に、水平選択シフトレジスター5から水平選択トランジ
スタ16−2に読出しパルスφDz”与えてS I T
”’10−2の読出しを行ない、−桁分の読出しが終
了したら、垂直選択シフトレジスター8から次の行に行
選択パルスφG2を与えて、その行の13ITを1諏次
に読出す。
しかしながら、−上述した固体撮像装置において1は、
入射光の強度が高いとQLが非常に大きくなってΔvG
が高くなり、始めに設定した逆バイアス値Vに対し、v
G十Δ■G(ΔvG〉0)がSITの設定ソース電位v
sに対するピンチオフ電圧V、を上まわると、そのSI
Tが選択されていなくてもこれ−・・が不所望に導通し
て他の選択している行ラインか□ら流れ出次信号電流と
共に同一の列ラインを経て電、流が流れ、画素間の信号
干渉を起す不具合がある。このため、か\る固体撮像装
置は露光量に制限があり、実用上間順であった。
入射光の強度が高いとQLが非常に大きくなってΔvG
が高くなり、始めに設定した逆バイアス値Vに対し、v
G十Δ■G(ΔvG〉0)がSITの設定ソース電位v
sに対するピンチオフ電圧V、を上まわると、そのSI
Tが選択されていなくてもこれ−・・が不所望に導通し
て他の選択している行ラインか□ら流れ出次信号電流と
共に同一の列ラインを経て電、流が流れ、画素間の信号
干渉を起す不具合がある。このため、か\る固体撮像装
置は露光量に制限があり、実用上間順であった。
本発明の目的は、上述した不具合を解決し、入射光の強
度が高くても画素間の信号干渉を起すことなく、゛各画
素信号を有効に読出し得るよう適切に構成した固体撮像
装置を提供しようとするものである。
度が高くても画素間の信号干渉を起すことなく、゛各画
素信号を有効に読出し得るよう適切に構成した固体撮像
装置を提供しようとするものである。
本発明の固体撮像装置は、入射光を受光する感光用トラ
ンジスタと、この感光用トランジスタでの光電変換出力
を選択的に読出す読出し用トランジスタとを有し、それ
らの主電流通路を直列に接続して成る固体撮像素子を、
複数の行線および列l線で構成されるマトリックスの各
交点にそれぞれ設け、これら行線および列線に前記固体
撮像素子の読出し用トランジスタを接続し、その感光用
トランジスタをリセット線に接続したことを特徴とする
ものである。
ンジスタと、この感光用トランジスタでの光電変換出力
を選択的に読出す読出し用トランジスタとを有し、それ
らの主電流通路を直列に接続して成る固体撮像素子を、
複数の行線および列l線で構成されるマトリックスの各
交点にそれぞれ設け、これら行線および列線に前記固体
撮像素子の読出し用トランジスタを接続し、その感光用
トランジスタをリセット線に接続したことを特徴とする
ものである。
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。′第8図
AおよびBは本発明の固体撮像装置に用いる固体撮像素
子の一例の構成を示す断面図および平面図である。本例
では、感光用トランジスタ21および読出し用トランジ
スタ22を共にSIT構造として同−基板に形成する。
AおよびBは本発明の固体撮像装置に用いる固体撮像素
子の一例の構成を示す断面図および平面図である。本例
では、感光用トランジスタ21および読出し用トランジ
スタ22を共にSIT構造として同−基板に形成する。
すなわち、P型基板28上に感光用5IS2]のドレイ
ン領域および読出し用5IT22のソース領域を構成す
るn+埋込層24を形成すると共に、これら基板28お
よび埋込層24上にn−エピタキシャル層g5を 1パ
成長させ、このエピタキシャル層25の表面に、感光用
5IT21を構成するn ソース領域26、P+ゲート
領域27および読出し用SIT’2を構成するn+ドレ
イン領域28、P+ゲート領域29をそれぞれ熱拡散法
等により形成する。感光用 1SIT21および続出し
用5IT22は、5IT21のドレイン領域および5I
T2Bのソース領域を共通のn+埋込層24をもって構
成する以外は、とのn+埋込層24からエピタキシャル
層25の表面に亘って設けた絶縁層80によって電気的
に分離2・・することによりそれらの主電流通路を直列
に接続□し、また隣接する固体撮像素子間はP型基板2
Bからエピタキシャル層25の表面に亘って同様に絶縁
層80を設けて相互に電気的に分離する。感光用SI’
141のソース領域26にはソース電極81を接合して
設け、また読出し用SIT2gのドレイン領域28およ
びゲート領域29にu −t h。
ン領域および読出し用5IT22のソース領域を構成す
るn+埋込層24を形成すると共に、これら基板28お
よび埋込層24上にn−エピタキシャル層g5を 1パ
成長させ、このエピタキシャル層25の表面に、感光用
5IT21を構成するn ソース領域26、P+ゲート
領域27および読出し用SIT’2を構成するn+ドレ
イン領域28、P+ゲート領域29をそれぞれ熱拡散法
等により形成する。感光用 1SIT21および続出し
用5IT22は、5IT21のドレイン領域および5I
T2Bのソース領域を共通のn+埋込層24をもって構
成する以外は、とのn+埋込層24からエピタキシャル
層25の表面に亘って設けた絶縁層80によって電気的
に分離2・・することによりそれらの主電流通路を直列
に接続□し、また隣接する固体撮像素子間はP型基板2
Bからエピタキシャル層25の表面に亘って同様に絶縁
層80を設けて相互に電気的に分離する。感光用SI’
141のソース領域26にはソース電極81を接合して
設け、また読出し用SIT2gのドレイン領域28およ
びゲート領域29にu −t h。
ぞれドレイン電極82およびゲート電極8Bを接合して
設け、その他の表面は表面絶縁膜84で被覆する。すな
わち、本例では感光用SIT 21に′□はゲート電極
を設けない。したがって、ゲート電極による透過光量損
失がないから、短波長感度を向上させることができる。
設け、その他の表面は表面絶縁膜84で被覆する。すな
わち、本例では感光用SIT 21に′□はゲート電極
を設けない。したがって、ゲート電極による透過光量損
失がないから、短波長感度を向上させることができる。
また、本例のように感光用5IT21と読出し用5ET
22との分離お↓びこれら感光用SITと読出し用SI
Tとから成る −固体撮像素子間の分離を絶縁層80に
↓つて行えば、それらの電気的分離をほぼ完全にできる
から電流の制御性、増幅特性が良好となる。
22との分離お↓びこれら感光用SITと読出し用SI
Tとから成る −固体撮像素子間の分離を絶縁層80に
↓つて行えば、それらの電気的分離をほぼ完全にできる
から電流の制御性、増幅特性が良好となる。
第41凶AおよびBは本発明の固体撮像装置に用いる固
体撮像素子の他の例の構成を示す断面図お−・・よび平
面図である。本例では、感光用5IS21と゛続出し用
5ET2.2との分離およびこれら感光用BITと読出
し用SITとから成る固体撮像素子間の分離を、上述し
た絶縁層80によらず、n−エピタキシャル層25の表
面に゛P+分離ゲート領域□86を形成すると共にこの
分離ゲート領域86に分離ゲート電極87を接合して設
け、この分離ゲート電極87に所定の電圧を印加するこ
とに工り分離ゲート領域86下のエピタキシャル層z5
に空乏層を形成して行なうようにした点のみが、第1′
8図のものと異なる本のであり、第8図に示す符号と同
一符号は同一のものを表わす。この↓うに分離ゲート領
域86を形成し、これにノ(イアスを与えることにより
形成される空乏層によって素子間の分離および素子中の
感光用SIT?に1と読出し1・用5IT22との電気
的分離を行なう場合には、素子の高密度化が計りる利点
がある。
体撮像素子の他の例の構成を示す断面図お−・・よび平
面図である。本例では、感光用5IS21と゛続出し用
5ET2.2との分離およびこれら感光用BITと読出
し用SITとから成る固体撮像素子間の分離を、上述し
た絶縁層80によらず、n−エピタキシャル層25の表
面に゛P+分離ゲート領域□86を形成すると共にこの
分離ゲート領域86に分離ゲート電極87を接合して設
け、この分離ゲート電極87に所定の電圧を印加するこ
とに工り分離ゲート領域86下のエピタキシャル層z5
に空乏層を形成して行なうようにした点のみが、第1′
8図のものと異なる本のであり、第8図に示す符号と同
一符号は同一のものを表わす。この↓うに分離ゲート領
域86を形成し、これにノ(イアスを与えることにより
形成される空乏層によって素子間の分離および素子中の
感光用SIT?に1と読出し1・用5IT22との電気
的分離を行なう場合には、素子の高密度化が計りる利点
がある。
第5図は本発明の固体撮像装置の要部の一例の構成を示
す回路図である。本例では、第8図あるいは第4図に示
した固体撮像素子を同一基板に多−・・数個マトリック
ス状に形成したものを用いる。各□固体撮像素子40−
1.40−2.・・・の感光用SITのソースは共通の
リセット線41に接続してバイアス電圧Vを印加し、X
方向に配列された一行の素子群の読出し用SITのゲー
トは、行ライン42−1.42−2.・・・を介して垂
直選択シフトレジスタ4Bに接続する。また、Y方向に
配列された一列の素子群の読出し用SITのドレインは
列 ゛ライン44−1.44−2.・・・に接続し、こ
れらの列ラインはそれぞれ水平選択シフトレジスタ45
1□′によって選択駆動される水平選択トランジスタ4
6−1.46−2.・・・を介してビデオライン47に
共通に接続する。このビデオライン47には負荷、抵抗
48を経て電圧V。f:印加し、垂直選択シフトレジス
タ4B、水平選択シフトレジスタ451を第2図におい
て説明したと同様に制御して出力端子49から時系列的
な画素情報を得るようにする。
す回路図である。本例では、第8図あるいは第4図に示
した固体撮像素子を同一基板に多−・・数個マトリック
ス状に形成したものを用いる。各□固体撮像素子40−
1.40−2.・・・の感光用SITのソースは共通の
リセット線41に接続してバイアス電圧Vを印加し、X
方向に配列された一行の素子群の読出し用SITのゲー
トは、行ライン42−1.42−2.・・・を介して垂
直選択シフトレジスタ4Bに接続する。また、Y方向に
配列された一列の素子群の読出し用SITのドレインは
列 ゛ライン44−1.44−2.・・・に接続し、こ
れらの列ラインはそれぞれ水平選択シフトレジスタ45
1□′によって選択駆動される水平選択トランジスタ4
6−1.46−2.・・・を介してビデオライン47に
共通に接続する。このビデオライン47には負荷、抵抗
48を経て電圧V。f:印加し、垂直選択シフトレジス
タ4B、水平選択シフトレジスタ451を第2図におい
て説明したと同様に制御して出力端子49から時系列的
な画素情報を得るようにする。
か\る構成において、ある列ラインが選択された場合、
その列ラインに接続された一列の素子群・・の読出(7
用SITのうち、行ラインが選択されて □いる素子の
読出し用SITを除き、他の読出し用SITはこれと直
列に接続された感光用SITのゲート電位が上昇してピ
ンチオフレベル以上に達していても、読出し用SITを
介して高いドレイン電位が印加されることはないから、
電流は流れず、したがって画素間の信号干渉は起らない
。また、こ\で感光用SITのゲート電位が更に上昇し
、そのソース電位(リセット線41に印加するバイアス
電圧vs)に対して順方向にバイアスされ1°゛てゲー
ト領域に蓄積された一定鎗以上の正孔がソースを通して
はき出されても、感光用SI’l’のオン動作に結びつ
くことはない。なお、素子のリセットはリセット+IJ
41に印加するバイアス電圧v8をパルス的に引下げて
、各感光用SITのソース 1・−ドレイン間を強制的
に順方向にバイアスすることにより全素子同時に行なう
ことができる。
その列ラインに接続された一列の素子群・・の読出(7
用SITのうち、行ラインが選択されて □いる素子の
読出し用SITを除き、他の読出し用SITはこれと直
列に接続された感光用SITのゲート電位が上昇してピ
ンチオフレベル以上に達していても、読出し用SITを
介して高いドレイン電位が印加されることはないから、
電流は流れず、したがって画素間の信号干渉は起らない
。また、こ\で感光用SITのゲート電位が更に上昇し
、そのソース電位(リセット線41に印加するバイアス
電圧vs)に対して順方向にバイアスされ1°゛てゲー
ト領域に蓄積された一定鎗以上の正孔がソースを通して
はき出されても、感光用SI’l’のオン動作に結びつ
くことはない。なお、素子のリセットはリセット+IJ
41に印加するバイアス電圧v8をパルス的に引下げて
、各感光用SITのソース 1・−ドレイン間を強制的
に順方向にバイアスすることにより全素子同時に行なう
ことができる。
本例においては、入射光の強度が高く感光用SITのゲ
ート電位がピンチオフレベル以上になっても、続出用S
I’l’が選択されない限り、この−・・・読出し用S
工Tおよび感光用SITを通して電流カド流れることは
ないから、画素間の不所望な信号干渉が生じない。また
、各素子を第8図および第4図に示したように、その感
光用SITにゲート電極を設けず、これをフローティン
グにして入射光を受光するようにしたから、電極による
入射光、特に短波長成分の透過損失がなく、したがって
分光特性を向上させることができる。
ート電位がピンチオフレベル以上になっても、続出用S
I’l’が選択されない限り、この−・・・読出し用S
工Tおよび感光用SITを通して電流カド流れることは
ないから、画素間の不所望な信号干渉が生じない。また
、各素子を第8図および第4図に示したように、その感
光用SITにゲート電極を設けず、これをフローティン
グにして入射光を受光するようにしたから、電極による
入射光、特に短波長成分の透過損失がなく、したがって
分光特性を向上させることができる。
なお、本発明は上述した例にのみ限定されるものではな
く、幾多の変形または変更が可能である8・・例えば上
述した例では固体撮像素子を構成する感光用および読出
し用トランジスタをそれぞれSITをもって構成したが
、これらをそれぞれ電界効果トランジスタ(FET)を
もって構成することもできるし、一方をSIT、他方1
FETをもって構・成することもできる。また、これら
トランジスタはnチャンネル型に限らずnチャンネル型
で構成することもできる。更に、第8図および第4図で
は感光用SIT 21のドレイン領域および読出し用5
IT2 mのソース領域を共通のn埋込層24・・をも
って形成することにより、感光用5IT21お1よび読
出し用SIT 22の各主電流通路を直列に接続するよ
うにしたが、各領櫨を分離して形成してこれらを電気的
に接続する等の他の方法により接続することもできる。
く、幾多の変形または変更が可能である8・・例えば上
述した例では固体撮像素子を構成する感光用および読出
し用トランジスタをそれぞれSITをもって構成したが
、これらをそれぞれ電界効果トランジスタ(FET)を
もって構成することもできるし、一方をSIT、他方1
FETをもって構・成することもできる。また、これら
トランジスタはnチャンネル型に限らずnチャンネル型
で構成することもできる。更に、第8図および第4図で
は感光用SIT 21のドレイン領域および読出し用5
IT2 mのソース領域を共通のn埋込層24・・をも
って形成することにより、感光用5IT21お1よび読
出し用SIT 22の各主電流通路を直列に接続するよ
うにしたが、各領櫨を分離して形成してこれらを電気的
に接続する等の他の方法により接続することもできる。
更にまた、第5図においては全ての固体撮像素子40−
1.40−1.・・・の感光用SITのソースを共通の
リセット線41に接続して同時にリセットする工うにし
たが、リセット線41を行毎に分離して行毎にリセット
することもできる。
1.40−1.・・・の感光用SITのソースを共通の
リセット線41に接続して同時にリセットする工うにし
たが、リセット線41を行毎に分離して行毎にリセット
することもできる。
以上述べたように本発明によれば、入射光の強度が高く
ても画素間の信号干渉を起すことなく、各画素信号を有
効に読出すことができるから、露光量が制限されること
はない。
ても画素間の信号干渉を起すことなく、各画素信号を有
効に読出すことができるから、露光量が制限されること
はない。
第1図AおよびBはSITの構成を示す断面図および平
面図、 第2図AおよびBはSITを用いる固体メ像装置の構成
およびその動作t−説明するための回路図および信号波
形図、 第8図AおよびBは本発明の固体撮像装置に用□いる固
体撮像装置の一例の構成を示す断面図および平面図、 第4図Aお工びBは同じく他の例の構成を示す断面図お
よび平面図、 第6図は本発明の固体撮像装置の要部の一例の構成を示
す回路図である。 21・・・感光用SIT 22・・・読出し用SI
’l’2B・・・p型基板 24・・・n 埋込
層25・・・n−エピタキシャル層 26・・・n ソース領域 27.29・・・pゲート領域 28・・・n ドレイン領域 80・・・絶縁層81・
・・ソース電極 82・・・ドレイン電極8B・・
・ゲート電極 84・・・表面絶縁膜86−・・p
分離ゲート領域87・・・分離ゲート電極40−1.4
0−2・・・固体撮像装置41・・・リセット線 4
2−1.42−2・・・行ライン48・・・垂直選択シ
フトレジスタ 44−1.44−2・・・列ライン 45・・・水平選択シフトレジスタ 46−1.46−2・・・水平選択トランジスタ47・
・・ビデオライン 48・・・負荷抵抗49・・・出
力端子。 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社同 出願人
西 澤 潤 − 第1図 第2図 ψDf−ローー→→几−ヨ。 第5図 手続補正書 昭和59年 3 月8 日 、事件の表示 昭和57年 特 許 願第217753号:0発明の名
称 固体撮像装置 、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (037) オリンパス光学工業株式会社西 澤
潤 − 補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄補正の
内容(別紙の通り) 1明細書第12頁第13行の「素子J?i:r感光用5
ITJに訂正し、 向頁第15〜16行°の「ソース−ドレイン」を1ゲー
ト−ソース」に訂正する。 (2) 313−
面図、 第2図AおよびBはSITを用いる固体メ像装置の構成
およびその動作t−説明するための回路図および信号波
形図、 第8図AおよびBは本発明の固体撮像装置に用□いる固
体撮像装置の一例の構成を示す断面図および平面図、 第4図Aお工びBは同じく他の例の構成を示す断面図お
よび平面図、 第6図は本発明の固体撮像装置の要部の一例の構成を示
す回路図である。 21・・・感光用SIT 22・・・読出し用SI
’l’2B・・・p型基板 24・・・n 埋込
層25・・・n−エピタキシャル層 26・・・n ソース領域 27.29・・・pゲート領域 28・・・n ドレイン領域 80・・・絶縁層81・
・・ソース電極 82・・・ドレイン電極8B・・
・ゲート電極 84・・・表面絶縁膜86−・・p
分離ゲート領域87・・・分離ゲート電極40−1.4
0−2・・・固体撮像装置41・・・リセット線 4
2−1.42−2・・・行ライン48・・・垂直選択シ
フトレジスタ 44−1.44−2・・・列ライン 45・・・水平選択シフトレジスタ 46−1.46−2・・・水平選択トランジスタ47・
・・ビデオライン 48・・・負荷抵抗49・・・出
力端子。 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社同 出願人
西 澤 潤 − 第1図 第2図 ψDf−ローー→→几−ヨ。 第5図 手続補正書 昭和59年 3 月8 日 、事件の表示 昭和57年 特 許 願第217753号:0発明の名
称 固体撮像装置 、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (037) オリンパス光学工業株式会社西 澤
潤 − 補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄補正の
内容(別紙の通り) 1明細書第12頁第13行の「素子J?i:r感光用5
ITJに訂正し、 向頁第15〜16行°の「ソース−ドレイン」を1ゲー
ト−ソース」に訂正する。 (2) 313−
Claims (1)
- 1 入射光を受光する感光用トランジスタと、この感光
用トランジスタの光重変換出力を選択的に読出す読出し
用トランジスタとを有し、それらの主電流通路を直列に
接続して成る固体撮像素子を、複数の行線および列線で
構成されるマトリックスの各交点にそれぞれ設け、これ
ら行線および列線に前記固体撮像素子の1”続出し用ト
ランジスタを接続し、その感光用トランジスタをリセッ
ト線に接続したことを特徴とする固体撮像装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57217753A JPS59108460A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 固体撮像装置 |
DE3345147A DE3345147C2 (de) | 1982-12-14 | 1983-12-14 | Festkörper-Bildaufnahmewandler |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57217753A JPS59108460A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 固体撮像装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59108460A true JPS59108460A (ja) | 1984-06-22 |
Family
ID=16709203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57217753A Pending JPS59108460A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 固体撮像装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59108460A (ja) |
DE (1) | DE3345147C2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6058781A (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-04 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像装置 |
US4746984A (en) * | 1985-04-24 | 1988-05-24 | Olympus Optical Co., Ltd. | Solid state image sensor with lateral-type stactic induction transistors |
JPH0714042B2 (ja) * | 1986-02-26 | 1995-02-15 | 三菱電機株式会社 | 固体撮像素子 |
JPH06334920A (ja) * | 1993-03-23 | 1994-12-02 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 固体撮像素子とその駆動方法 |
DE19740612B4 (de) * | 1997-08-30 | 2005-10-13 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Anordnung von Bildsensorelementen |
EP1013076B1 (de) | 1997-09-12 | 2001-02-28 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Bildsensorelemente |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5515229A (en) | 1978-07-18 | 1980-02-02 | Semiconductor Res Found | Semiconductor photograph device |
JPS58105672A (ja) * | 1981-12-17 | 1983-06-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体撮像装置 |
JPS5930376A (ja) * | 1982-08-13 | 1984-02-17 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像装置 |
DE3236073A1 (de) * | 1982-09-29 | 1984-03-29 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Zweidimensionaler halbleiter-bildsensor mit einer anordnung zur reduzierung des ueberstrahlens |
-
1982
- 1982-12-14 JP JP57217753A patent/JPS59108460A/ja active Pending
-
1983
- 1983-12-14 DE DE3345147A patent/DE3345147C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3345147A1 (de) | 1984-06-14 |
DE3345147C2 (de) | 1986-10-02 |
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