JPS588586B2 - 半導体装置の封止方法 - Google Patents
半導体装置の封止方法Info
- Publication number
- JPS588586B2 JPS588586B2 JP7522577A JP7522577A JPS588586B2 JP S588586 B2 JPS588586 B2 JP S588586B2 JP 7522577 A JP7522577 A JP 7522577A JP 7522577 A JP7522577 A JP 7522577A JP S588586 B2 JPS588586 B2 JP S588586B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead frame
- sealing
- glass
- semiconductor device
- semiconductor devices
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は半導体装置の封止方法に係り、特にそのガラ
ス封正方法の改良に関するものである。
ス封正方法の改良に関するものである。
現在広く用いられているフラットパッケージ形もしくは
デュアルインライン形のガラス封止半導体装置では、ア
ルミナ磁器などのセラミックス外囲器とリードフレーム
とを各種のガラスで封止し内部に形成した中空部に半導
体ペレットを装着して形成されている。
デュアルインライン形のガラス封止半導体装置では、ア
ルミナ磁器などのセラミックス外囲器とリードフレーム
とを各種のガラスで封止し内部に形成した中空部に半導
体ペレットを装着して形成されている。
第1図はこのような半導体装置に用いられるリードフレ
ームの一例を示す平面図、第2図は悌来のデュアルイン
ライン形のガラス封止半導体装置の一例を示す縦断面図
である。
ームの一例を示す平面図、第2図は悌来のデュアルイン
ライン形のガラス封止半導体装置の一例を示す縦断面図
である。
図において、1はリードフレーム、2はリードフレーム
1上にアルミニュウムを蒸着もしくは圧着によってとり
つけたボンデイング部である。
1上にアルミニュウムを蒸着もしくは圧着によってとり
つけたボンデイング部である。
以下第2図について組立ての手順に従って説明する。
絶縁性ガラス3をあらかじめ塗布した絶縁性セラミック
基板4の上にリードフレーム1を載せ、加熱してリード
フレーム1を固着させる。
基板4の上にリードフレーム1を載せ、加熱してリード
フレーム1を固着させる。
半導体素子5のダイボンデイング、および金属細線6に
よる半導体素子5とリードフレーム1上のボンデイング
2との接続を周知の方法で行った後に、封止用ガラス7
をあらかじめ塗布した絶縁性セラミック蓋8を載せ加熱
して固着させて封止組立は完了する。
よる半導体素子5とリードフレーム1上のボンデイング
2との接続を周知の方法で行った後に、封止用ガラス7
をあらかじめ塗布した絶縁性セラミック蓋8を載せ加熱
して固着させて封止組立は完了する。
ところで、以上従来の方法による半導体装置においては
リードフレーム1はボンデイング部2のみが、金もしく
はアルミニウムなどの金属薄膜が形成されているのみで
、他は通称42アロイと呼ばれるフレーム素材のまま使
用されている。
リードフレーム1はボンデイング部2のみが、金もしく
はアルミニウムなどの金属薄膜が形成されているのみで
、他は通称42アロイと呼ばれるフレーム素材のまま使
用されている。
すなわち、従来の装置ではガラスによる封着工程にいた
るまでの各種工程において、リードフレーム1の素材表
面が酸化されることを利用して絶縁性ガラス3および7
との密着性を得ていた。
るまでの各種工程において、リードフレーム1の素材表
面が酸化されることを利用して絶縁性ガラス3および7
との密着性を得ていた。
しかし、この途中工程において受ける酸化のばらつきに
よって、リードフレーム1と絶縁性ガラス3,7との密
着性にもばらつきを生じ、気密性を悪くしたり、はなは
だしいものはリードフレーム1のリードが脱離するなど
の不都合を生じている。
よって、リードフレーム1と絶縁性ガラス3,7との密
着性にもばらつきを生じ、気密性を悪くしたり、はなは
だしいものはリードフレーム1のリードが脱離するなど
の不都合を生じている。
この発明は以上の点に鑑みてなされたもので、リードフ
レームの封着部表面の酸化を確実にし、封止用絶縁性ガ
ラスとリードフレームとの密着の良好な半導体装置の封
止方法を提供せんとするものである。
レームの封着部表面の酸化を確実にし、封止用絶縁性ガ
ラスとリードフレームとの密着の良好な半導体装置の封
止方法を提供せんとするものである。
第3図はこの発明によって製作されたガラス封止半導体
装置の一例を示す縦断面図である。
装置の一例を示す縦断面図である。
この発明の方法は、リードフレーム1に酸化を容易にす
る前処理を施す以外は、第2図について説明した従来の
方法と略同一であるので、前処理の部分のみを説明する
。
る前処理を施す以外は、第2図について説明した従来の
方法と略同一であるので、前処理の部分のみを説明する
。
リードフレーム1の封止用絶縁性ガラス3,7に固着す
る部分にアルミニウム、鉄、銅、ニッケル、銀など比較
的低温で容易に緻密な酸化膜を作る金属薄膜9を蒸着も
しくは圧着によって形成したものを用いる。
る部分にアルミニウム、鉄、銅、ニッケル、銀など比較
的低温で容易に緻密な酸化膜を作る金属薄膜9を蒸着も
しくは圧着によって形成したものを用いる。
その他は第2図について述べたと同様の工程によって封
止を行うのであるが、絶縁性ガラス3,7の固着の際の
400℃〜550℃の加熱によって上記金属薄膜9は容
易に緻密な酸化膜10を形成し、この酸化膜10はガラ
スとの化学的な結合性が強いので、リードフレーム1と
絶縁性ガラス3,7とは強く固着され、従来のような欠
陥の発生は防止できる。
止を行うのであるが、絶縁性ガラス3,7の固着の際の
400℃〜550℃の加熱によって上記金属薄膜9は容
易に緻密な酸化膜10を形成し、この酸化膜10はガラ
スとの化学的な結合性が強いので、リードフレーム1と
絶縁性ガラス3,7とは強く固着され、従来のような欠
陥の発生は防止できる。
上述の説明ではリードフレーム1のボンデイング部2の
アルミニウム薄膜と封止部の金属薄膜9とを別個に設け
るように述べたが、ボンデイング部2のアルミニウム薄
膜を封止部まで延長して、これを金属薄膜9として用い
てもよい。
アルミニウム薄膜と封止部の金属薄膜9とを別個に設け
るように述べたが、ボンデイング部2のアルミニウム薄
膜を封止部まで延長して、これを金属薄膜9として用い
てもよい。
以上詳述したように、この発明では封止されるリードフ
レームの封止ガラスに接する部分の表面に予め低温で緻
密な酸化膜を形成する金属薄膜を被着することによって
、カラス封止時の加熱によって生ずる上記酸化膜が封止
カラスと良く固着し、ガラス封止を完全ならしめること
ができる。
レームの封止ガラスに接する部分の表面に予め低温で緻
密な酸化膜を形成する金属薄膜を被着することによって
、カラス封止時の加熱によって生ずる上記酸化膜が封止
カラスと良く固着し、ガラス封止を完全ならしめること
ができる。
第1図はこの発明に用いられるリードフレームの一例を
示す平面図、第2図は従来のデュアルインライン形のガ
ラス封止半導体装置の一例を示す縦断面図、第3図はこ
の発明によって製作されたガラス封止半導体装置の一例
を示す縦断面図である。 図において、1はリードフレーム、2はボンデイング部
、3および7は封止用カラス、4および8はセラミック
ス外囲器、5は半導体素子、6は金属細線、9は金属薄
膜、10は酸化膜である。 なお、図中同一符号は同一もしくは相当部分を示す。
示す平面図、第2図は従来のデュアルインライン形のガ
ラス封止半導体装置の一例を示す縦断面図、第3図はこ
の発明によって製作されたガラス封止半導体装置の一例
を示す縦断面図である。 図において、1はリードフレーム、2はボンデイング部
、3および7は封止用カラス、4および8はセラミック
ス外囲器、5は半導体素子、6は金属細線、9は金属薄
膜、10は酸化膜である。 なお、図中同一符号は同一もしくは相当部分を示す。
Claims (1)
- 1 リードフレームに設けられた複数本のリード線のそ
れぞれのボンデイング部を半導体素子に金属細線を介し
て接続した後に、上記半導体素子と金属細線とリード線
のボンデイング部とを所定外囲器内にガラス封止する方
法において、少なくとも上記封止ガラスに接する部分の
表面に低温で緻密な酸化膜を形成するような金属薄膜を
被着したリードフレームを用いることを特徴とする半導
体装置の封止方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7522577A JPS588586B2 (ja) | 1977-06-23 | 1977-06-23 | 半導体装置の封止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7522577A JPS588586B2 (ja) | 1977-06-23 | 1977-06-23 | 半導体装置の封止方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS549582A JPS549582A (en) | 1979-01-24 |
JPS588586B2 true JPS588586B2 (ja) | 1983-02-16 |
Family
ID=13570059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7522577A Expired JPS588586B2 (ja) | 1977-06-23 | 1977-06-23 | 半導体装置の封止方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS588586B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58170046A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-06 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
JPS58190048A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | Hitachi Ltd | プラスチツク封止電子部品のパツケ−ジ |
JPH0342194A (ja) * | 1989-07-10 | 1991-02-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 舶用プロペラ |
US5877042A (en) * | 1996-08-28 | 1999-03-02 | Motorola, Inc. | Glass/Metal package and method for producing the same |
-
1977
- 1977-06-23 JP JP7522577A patent/JPS588586B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS549582A (en) | 1979-01-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4572924A (en) | Electronic enclosures having metal parts | |
US4640436A (en) | Hermetic sealing cover and a method of producing the same | |
JPH065699B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH0249021B2 (ja) | ||
JPH0263300B2 (ja) | ||
JPS598358Y2 (ja) | 半導体素子パツケ−ジ | |
US4590672A (en) | Package for electronic device and method for producing same | |
US4065588A (en) | Method of making gold-cobalt contact for silicon devices | |
JPS588586B2 (ja) | 半導体装置の封止方法 | |
IE54534B1 (en) | Semiconductor device package | |
JPS584955A (ja) | 金めつきされた電子部品パツケ−ジ | |
JPS6060742A (ja) | リ−ドフレ−ム | |
JPS6032774Y2 (ja) | 半導体装置用ステム | |
JP2522165B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPS635238Y2 (ja) | ||
JPS5842764A (ja) | メツキ方法 | |
KR830002575B1 (ko) | 기밀단자(氣密端子)의 제조방법 | |
JPS59213165A (ja) | 半導体装置 | |
JPS592355A (ja) | 半導体パツケ−ジ用リ−ドフレ−ム及びそれを用いた半導体装置 | |
JPS6057219B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH0158663B2 (ja) | ||
KR800001154Y1 (ko) | 압입형 스템 | |
JPH01238129A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPS5823451A (ja) | 半導体装置 | |
JPS634711B2 (ja) |