JPS5834488B2 - ヒカリジユウゴウセイソセイブツ - Google Patents
ヒカリジユウゴウセイソセイブツInfo
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- JPS5834488B2 JPS5834488B2 JP48014805A JP1480573A JPS5834488B2 JP S5834488 B2 JPS5834488 B2 JP S5834488B2 JP 48014805 A JP48014805 A JP 48014805A JP 1480573 A JP1480573 A JP 1480573A JP S5834488 B2 JPS5834488 B2 JP S5834488B2
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- urethane compound
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/20—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は印刷レリーフ用あるいはフォトレジスト用光重
合性組成物に関するものである。
合性組成物に関するものである。
光増感剤の存在下に活性光線を作用させ、付加重合可能
なエチレン性不飽和化合物を硬化させ、三次元不溶化さ
せることによって印刷用あるいはフォトレジスト用レリ
ーフ像を得ることはよく知られている。
なエチレン性不飽和化合物を硬化させ、三次元不溶化さ
せることによって印刷用あるいはフォトレジスト用レリ
ーフ像を得ることはよく知られている。
これらは通常付加重合可能なエチレン性不飽和化合物と
有機線状高分子重合体からなり、室温で固形状あるいは
ゲル状として適当な支持体の上に塗布されている。
有機線状高分子重合体からなり、室温で固形状あるいは
ゲル状として適当な支持体の上に塗布されている。
本発明は付加重合可能なエチレン性不飽和化合物として
一般式 （ただし、Ｒ１ｔ Ｒ２ｔ Ｒ３は水素あるいはメチル
基を表わす。
一般式 （ただし、Ｒ１ｔ Ｒ２ｔ Ｒ３は水素あるいはメチル
基を表わす。
ｎは１，２あるいは３を表わす。Ａは炭素数４から１０
の環状酸無水物の残基を表わす。
の環状酸無水物の残基を表わす。
Ｂは−Ｒ４−あルイは−Ｒ４ＮＨＣＯＯＲ５ＣＯＣＮＨ
Ｒ，−を表わし、Ｒ４は炭素数４から１３のアルキレン
基、シクロアルキレン基あるいはアリーレン基を、Ｒ６
は炭素数２から８のアルキレン基あるいは炭素数２から
４のオキシアルキレン基の重合体を表わす。
Ｒ，−を表わし、Ｒ４は炭素数４から１３のアルキレン
基、シクロアルキレン基あるいはアリーレン基を、Ｒ６
は炭素数２から８のアルキレン基あるいは炭素数２から
４のオキシアルキレン基の重合体を表わす。
）で表わされるジビニルウレタン化合物（ｎ＝１゜２．
３のものを各々単独で用いてもよいし、それらの混合物
を用いてもよい）を使用することを特徴とする光重合性
組成物に関するものである。
３のものを各々単独で用いてもよいし、それらの混合物
を用いてもよい）を使用することを特徴とする光重合性
組成物に関するものである。
本発明は該ジビニルウレタン化合物と側鎖に酸価３０以
上のカルボン酸基を有する有機高分子重合体と、それに
少量の光増感剤からなる室温で固体状あるいはゲル状の
光重合性組成物で、主としてレリーフ高さ０．２ ｍｍ
以上の凸版用印刷板の製造に適するものであるが、この
他しリーフ高さ１μから１０μのフォトレジスト用感光
層としても有用である。
上のカルボン酸基を有する有機高分子重合体と、それに
少量の光増感剤からなる室温で固体状あるいはゲル状の
光重合性組成物で、主としてレリーフ高さ０．２ ｍｍ
以上の凸版用印刷板の製造に適するものであるが、この
他しリーフ高さ１μから１０μのフォトレジスト用感光
層としても有用である。
これらの場合、側鎖に酸価３０以上のカルボン酸基を有
する有機高分子重合体は未露光部を弱アルカリ水あるい
は水に可溶である有機溶媒を含む弱アルカリ水で溶出さ
せる（以下単に現像とよぶ。
する有機高分子重合体は未露光部を弱アルカリ水あるい
は水に可溶である有機溶媒を含む弱アルカリ水で溶出さ
せる（以下単に現像とよぶ。
）ために使用するのであって、通常のごとく結合剤とし
て用いるのではないので、該ジビニルウレタン化合物よ
り少ない量で用いられる。
て用いるのではないので、該ジビニルウレタン化合物よ
り少ない量で用いられる。
この様に硬化剤である該ジビニルウレタン化合物＊本を
大量に使用できるのは、該ジビニルウレタン化合物が室
温で粘稠な液体あるいは固体であるためで、硬化剤を大
量に用いることによって、今まで長時間の現像によって
硬化部分が現像液によって膨潤溶出するという欠点をな
くすことが出来、その上再現性に富んだ鋭いレリーフ像
を得ることが出来る。
大量に使用できるのは、該ジビニルウレタン化合物が室
温で粘稠な液体あるいは固体であるためで、硬化剤を大
量に用いることによって、今まで長時間の現像によって
硬化部分が現像液によって膨潤溶出するという欠点をな
くすことが出来、その上再現性に富んだ鋭いレリーフ像
を得ることが出来る。
該ジビニルウレタン化合物の含有量が全体の固形分の８
０重重量板上になると、弱アルカリ水による現像は難か
しくなる。
０重重量板上になると、弱アルカリ水による現像は難か
しくなる。
一方該ジビニルウレタン化合物の含有量が全体の固形分
の５０重重量風下になると、感光速度は著しく低下し、
また長時間の現像によって、硬化した画線部が膨潤溶出
してくる。
の５０重重量風下になると、感光速度は著しく低下し、
また長時間の現像によって、硬化した画線部が膨潤溶出
してくる。
該ジビニルウレタン化合物の一般式中、Ａは炭素数４か
ら１０の環状酸無水物の残基を表わし、この様な環状酸
無水物の代表例としては無水フタル酸、無水テトラヒド
ロフタル酸、無水へキサヒドロフタル酸、無水コハク酸
、無水マレイン酸等があり、Ｒ４としてはジイソシアネ
ート化合物ノ残基を表わし、この様なものにたとえば、
等で表わされる構造式のものがあり、Ｒ５としては、た
とえば−ＣＨ２ＣＨ２−、（−ＣＨ２＋４゜（−ＣＨ２
＋６．−ＣＨ２ＣＨ２（−ＯＣＨ，ＯＨ２＋ｌ。
ら１０の環状酸無水物の残基を表わし、この様な環状酸
無水物の代表例としては無水フタル酸、無水テトラヒド
ロフタル酸、無水へキサヒドロフタル酸、無水コハク酸
、無水マレイン酸等があり、Ｒ４としてはジイソシアネ
ート化合物ノ残基を表わし、この様なものにたとえば、
等で表わされる構造式のものがあり、Ｒ５としては、た
とえば−ＣＨ２ＣＨ２−、（−ＣＨ２＋４゜（−ＣＨ２
＋６．−ＣＨ２ＣＨ２（−ＯＣＨ，ＯＨ２＋ｌ。
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２て０ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ
Ｈ２＋。
Ｈ２＋。
等で表わされる構造式のものがある。
ただしｌ２本１ｍおよびｎはすべて１から１０を表わす
。
。
該ジビニルウレタン化合物は、一般式
（ただしＲ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎおよびＡは前記と同じ）
で表わされるモノヒドロキシ化合物と１分子に２個のイ
ソシアネート基を有するジイソシアネート化合物を、必
要とするならば適当な触媒の存在下に反応させて得るこ
とが出来る。
で表わされるモノヒドロキシ化合物と１分子に２個のイ
ソシアネート基を有するジイソシアネート化合物を、必
要とするならば適当な触媒の存在下に反応させて得るこ
とが出来る。
ただし該ジビニルウレタン化合物において、Ｒ４として
隣接するウレタン基に直接芳香族環が直結したジビニル
ウレタン化合物、特に１個の芳香族環に２個のウレタン
基が直結したジビニルウレタン化合物は、このもの自身
が光重合開始剤の感光領域である紫外部に吸収を有し、
このものを使用した感光板では感光層の下層部が硬化不
足となり、サイドエツチングが起るため、レリーフ高さ
１μ〜１０μのフォトレジスト用として使用する場合に
はさしつかえないが、レリーフ高さ０．２ ｍｍ以上の
凸版用印刷板の製造に用いる場合には、Ｒ４が隣接する
ウレタン基と共鳴構造をとらないものから製造したジビ
ニルウレタン化合物を用いることが好ましく、このもの
は、感光性に優れ、サイドエツチングのない良好なレリ
ーフ像を得ることが出来る。
隣接するウレタン基に直接芳香族環が直結したジビニル
ウレタン化合物、特に１個の芳香族環に２個のウレタン
基が直結したジビニルウレタン化合物は、このもの自身
が光重合開始剤の感光領域である紫外部に吸収を有し、
このものを使用した感光板では感光層の下層部が硬化不
足となり、サイドエツチングが起るため、レリーフ高さ
１μ〜１０μのフォトレジスト用として使用する場合に
はさしつかえないが、レリーフ高さ０．２ ｍｍ以上の
凸版用印刷板の製造に用いる場合には、Ｒ４が隣接する
ウレタン基と共鳴構造をとらないものから製造したジビ
ニルウレタン化合物を用いることが好ましく、このもの
は、感光性に優れ、サイドエツチングのない良好なレリ
ーフ像を得ることが出来る。
本発明に使用する該ジビニルウレタン化合物と相溶性が
あり、かつ側鎖に酸価３０以上のカルボン酸基を有する
有機高分子重合体としては、セルロースアセテートフタ
レート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレー
ト、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートへ
キサヒドロフタレート等の側鎖にカルボン酸基を有する
酸性セルロース誘導体、ポリビニルアルコール誘導体に
環状酸無水物を反応させた側鎖にカルボン酸基を有する
酸性ポリビニルアルコール誘導体、アクリル酸共重合体
、メタクリル酸共重合体、イタコン＊＊上の凸版用印刷
板の製造に適したものとしては、特に酸価１００以上の
カルボン酸基を有するものが、現像時における現像性を
容易にさせるので好ましい。
あり、かつ側鎖に酸価３０以上のカルボン酸基を有する
有機高分子重合体としては、セルロースアセテートフタ
レート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレー
ト、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートへ
キサヒドロフタレート等の側鎖にカルボン酸基を有する
酸性セルロース誘導体、ポリビニルアルコール誘導体に
環状酸無水物を反応させた側鎖にカルボン酸基を有する
酸性ポリビニルアルコール誘導体、アクリル酸共重合体
、メタクリル酸共重合体、イタコン＊＊上の凸版用印刷
板の製造に適したものとしては、特に酸価１００以上の
カルボン酸基を有するものが、現像時における現像性を
容易にさせるので好ましい。
また本発明に使用する増感剤としては公知のものはすべ
て含まれるが、特に熱的に安定なものが選ばれる。
て含まれるが、特に熱的に安定なものが選ばれる。
たとえばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル等のペンツインアルキルエーテル
、２−エチルアンスラキノン、２−ｔ−ブチルアンスラ
キノン等のアンスラキノン誘導体、ベンジル、４．４’
−オキシジベンジル、パイアセチル等のバイカルボニル
化合物、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、キサントン
、２−クロルキサントン、トリアセチルベンゼン、アン
スロン等のカルボニル化合物やその他９フェニルアクリ
ジン、３−メチル−２−ベンゾイルメチレンナフト（１
，２−α〕チアゾール等がある。
ゾインエチルエーテル等のペンツインアルキルエーテル
、２−エチルアンスラキノン、２−ｔ−ブチルアンスラ
キノン等のアンスラキノン誘導体、ベンジル、４．４’
−オキシジベンジル、パイアセチル等のバイカルボニル
化合物、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、キサントン
、２−クロルキサントン、トリアセチルベンゼン、アン
スロン等のカルボニル化合物やその他９フェニルアクリ
ジン、３−メチル−２−ベンゾイルメチレンナフト（１
，２−α〕チアゾール等がある。
これらの光増感剤は感光層の膜厚によって選択され、１
種あるいは２種以上の組合せで使用される。
種あるいは２種以上の組合せで使用される。
また該光重合性組成物の現像液としては２〜０．１重量
部の水酸化ナトリウム、水酸化カリ、モノエタノールア
ミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、ア
ンモニア水等のアルカリ水溶液が使用されるが、このも
の単独では現像性は余り良好ではないので、これらのも
のに０．１〜１０重量多の水に可溶な有機溶媒や界面活
性剤を加えることによって現像性を高めることが出来る
。
部の水酸化ナトリウム、水酸化カリ、モノエタノールア
ミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、ア
ンモニア水等のアルカリ水溶液が使用されるが、このも
の単独では現像性は余り良好ではないので、これらのも
のに０．１〜１０重量多の水に可溶な有機溶媒や界面活
性剤を加えることによって現像性を高めることが出来る
。
本発明を更に詳細に説明するため、以下実施例をもって
説明する。
説明する。
実施例中における部および優はすべて重量部および重量
φを表わす。
φを表わす。
酸共重合体、クロトン酸共重合体や低級アルコールで部
分エステル化した無水マレイン酸共重合体等がある。
分エステル化した無水マレイン酸共重合体等がある。
これらの中でもレリーフ高さ０．２ ｍｍ以実施例 １
構造式
（ｎ二１が６０優とｎ−２が４０係の混合物で、平均重
合度ｎ １．４である） で表わされるヒドロキシエチル・フタリル・メタクリレ
ート（ＯＨ価１４１．平均分子量３９８）３９８ｇ（１
，０モル）、キシリレンジイソシアネ−）９４ｇ（０，
５モル）、触媒として安息香酸１．５ｇと重合禁止剤と
して２，６−ジーｔ−ブチルクレゾール０．２５ｇを加
えて８０℃、７時間、空気吹込下反応させ残存イソシア
ネート価５．２のジビニルウレタン化合物（Ｉ）を得た
。
合度ｎ １．４である） で表わされるヒドロキシエチル・フタリル・メタクリレ
ート（ＯＨ価１４１．平均分子量３９８）３９８ｇ（１
，０モル）、キシリレンジイソシアネ−）９４ｇ（０，
５モル）、触媒として安息香酸１．５ｇと重合禁止剤と
して２，６−ジーｔ−ブチルクレゾール０．２５ｇを加
えて８０℃、７時間、空気吹込下反応させ残存イソシア
ネート価５．２のジビニルウレタン化合物（Ｉ）を得た
。
このジビニルウレタン化合物（■）６０部に、ヒドロキ
シプロピルメチルセルロース水素フタレートであるＨＰ
−５５（商品名：信越化学工業隙製、酸価１２７）３０
部、低級アルコールで部分エステル化したスチレン−無
水マレイン酸共重合体であるスチライトＣＭ−２Ｌ（商
品名二大同工業は製）１０部、増感剤としてベンゾイン
エチルエーテル１部、熱重合防止剤として４，４′−チ
オビス（３−メｆルー６−１−ブチルフェノール）傘＊
０．０５部と溶媒としてアセトン４０部とメタノール１
７部を加えて溶解後、４０℃、■昼夜放置して脱泡した
。
シプロピルメチルセルロース水素フタレートであるＨＰ
−５５（商品名：信越化学工業隙製、酸価１２７）３０
部、低級アルコールで部分エステル化したスチレン−無
水マレイン酸共重合体であるスチライトＣＭ−２Ｌ（商
品名二大同工業は製）１０部、増感剤としてベンゾイン
エチルエーテル１部、熱重合防止剤として４，４′−チ
オビス（３−メｆルー６−１−ブチルフェノール）傘＊
０．０５部と溶媒としてアセトン４０部とメタノール１
７部を加えて溶解後、４０℃、■昼夜放置して脱泡した
。
脱泡した感光液をナイフコーターを用いて１００μのポ
リエステルフィルム上に乾燥膜厚０．６ｍｒｎとなるよ
う塗布し、室温１日間、５０℃熱風１日間乾燥させた。
リエステルフィルム上に乾燥膜厚０．６ｍｒｎとなるよ
う塗布し、室温１日間、５０℃熱風１日間乾燥させた。
乾燥したシートを０．３山の厚さの砂目立てしたアルミ
板に８０℃でラミネートした。
板に８０℃でラミネートした。
ラミネートした感光板から１００μのポリエステルフィ
ルムを取り除いた後、文字を有する写真ネガフィルムを
密着させ、２０ＷのケミカルランプＦＬ−２０ＢＬ（東
芝製）を６６ｒＩ１間隔に並べである真空プリンターで
１０分間露光した。
ルムを取り除いた後、文字を有する写真ネガフィルムを
密着させ、２０ＷのケミカルランプＦＬ−２０ＢＬ（東
芝製）を６６ｒＩ１間隔に並べである真空プリンターで
１０分間露光した。
露光後０．５優のイソプロピルアルコールと０．２係の
水酸化ナトリウムを含む弱アルカリ水で未露光部を溶出
させ鮮明なレリーフ像を得た。
水酸化ナトリウムを含む弱アルカリ水で未露光部を溶出
させ鮮明なレリーフ像を得た。
実施例 ２
構造式
（ｎ＝１が６０％とｎ ＝ ２が４０％の混合物で、平
均重合度ｎ＝１．４である） で表わされるヒドロキシエチル・フタリル・アクリレー
ト（ＯＨ価１４７、平均分子量３８４）３８４．９（１
，０モル）、キシリレンジイソシアネート９４ｇ（０，
５モル）、と重合禁止剤とじて２゜６−ジーｔ−ブチル
クレゾール０．２５ｇを加えて８０°Ｃ，８時間、空気
吹込み下反応させ残存イソシアネート価４．７のジビニ
ルウレタン化合物（ＩＩ）を得た。
均重合度ｎ＝１．４である） で表わされるヒドロキシエチル・フタリル・アクリレー
ト（ＯＨ価１４７、平均分子量３８４）３８４．９（１
，０モル）、キシリレンジイソシアネート９４ｇ（０，
５モル）、と重合禁止剤とじて２゜６−ジーｔ−ブチル
クレゾール０．２５ｇを加えて８０°Ｃ，８時間、空気
吹込み下反応させ残存イソシアネート価４．７のジビニ
ルウレタン化合物（ＩＩ）を得た。
このジビニルウレタン化合物（ＩＩ）６０部に、実施例
１のヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート４
０部、ベンツインエチルエーテル１部、４．４′−チオ
ビス（３−メチル−６−１−ブチルフェノール）０．０
５部とアセトン４０部および＊＊メタノール２５部を加
えて溶解後、４０℃１昼夜放置して脱泡した。
１のヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート４
０部、ベンツインエチルエーテル１部、４．４′−チオ
ビス（３−メチル−６−１−ブチルフェノール）０．０
５部とアセトン４０部および＊＊メタノール２５部を加
えて溶解後、４０℃１昼夜放置して脱泡した。
脱泡した感光液を実施例１と同様にして感光層の膜厚が
０．６ ｍｍである感光板を得た。
０．６ ｍｍである感光板を得た。
感光板から１００μのポリエステルフィルムを取り除い
た後、文字を有する写真ネガフィルムを密着させ、２０
ＷのケミカルランプＦＬ−２０８Ｌ（東芝製商品名）を
６Ｃ１ｒＬ間隔で並べである真空プリンターで、７分間
露光した。
た後、文字を有する写真ネガフィルムを密着させ、２０
ＷのケミカルランプＦＬ−２０８Ｌ（東芝製商品名）を
６Ｃ１ｒＬ間隔で並べである真空プリンターで、７分間
露光した。
露光後０．５饅ベンジルアルコールと０．５％水酸化ナ
トリウムを含む弱アルカリ水現像液で現像して、鮮明な
レリーフ像を得た。
トリウムを含む弱アルカリ水現像液で現像して、鮮明な
レリーフ像を得た。
実施例 ３
ジエチレンクリコール５３ｇ（０，５モル）にキシリレ
ンジイソシアネート１９７ｇ（１，０５モル）を加えて
８０℃、２時間反応後、構造式 （ｎ−１が６０係とｎ＝２が４０係の混合物で、平均重
合度ｎ＝１．４である） で表わされるヒドロキシエチル・テトラヒドロフタリル
・アクリレート（ＯＨ価１４６．平均分子量３９０）３
９０ｇ（１，０モル）と重合禁七剤として２，６−ジー
ｔ−ブチルクレゾール０．３ＣＢ？を加えて８０℃、８
時間空気吹込下反応させ、残存インシアネート価４．８
のジビニルウレタン化合物（ＩＩＩ）を得た。
ンジイソシアネート１９７ｇ（１，０５モル）を加えて
８０℃、２時間反応後、構造式 （ｎ−１が６０係とｎ＝２が４０係の混合物で、平均重
合度ｎ＝１．４である） で表わされるヒドロキシエチル・テトラヒドロフタリル
・アクリレート（ＯＨ価１４６．平均分子量３９０）３
９０ｇ（１，０モル）と重合禁七剤として２，６−ジー
ｔ−ブチルクレゾール０．３ＣＢ？を加えて８０℃、８
時間空気吹込下反応させ、残存インシアネート価４．８
のジビニルウレタン化合物（ＩＩＩ）を得た。
このジビニルウレタン化合物（ＩＩＤ６０部にセルロー
ス・アセテート・水素・ツクレートであるＣＡＰ（商品
名：和光純薬焦製、フタル酸含有量３２重量％ ） ４
０音医増感剤としてベンゾインエチルエーテル１部、熱
重合防止剤として４，４′−チオビス（３−メチル−６
−１−ブチルフェノール）０．０５部、画像着色剤とし
てメチレンプル＝０．０２５部と溶媒としてアセトン４
０部とメタ＊＊ノール３０部を加えて溶解後、４０℃、
■昼夜放置して脱泡した。
ス・アセテート・水素・ツクレートであるＣＡＰ（商品
名：和光純薬焦製、フタル酸含有量３２重量％ ） ４
０音医増感剤としてベンゾインエチルエーテル１部、熱
重合防止剤として４，４′−チオビス（３−メチル−６
−１−ブチルフェノール）０．０５部、画像着色剤とし
てメチレンプル＝０．０２５部と溶媒としてアセトン４
０部とメタ＊＊ノール３０部を加えて溶解後、４０℃、
■昼夜放置して脱泡した。
脱泡した溶液を実施例１と同様ニＬ、 テ０．３ ｍｍ
の厚さの砂目立てしたアルミ板ニ感光層の膜厚が０．６
ａｍになる様感光板を作製した。
の厚さの砂目立てしたアルミ板ニ感光層の膜厚が０．６
ａｍになる様感光板を作製した。
この感光板を実施例１と同様の露光装置を用いて７分間
露光し、その後０．５俤のトリエタノールアミン水溶液
で現像した。
露光し、その後０．５俤のトリエタノールアミン水溶液
で現像した。
硬化した画線部は硬くてしかもフレキシプリティに富ん
でいた。
でいた。
実施例 ４
構造式
（ｎ−１が６０優とｎ二２が４０係の混合物で、平均重
合度ｎ＝１．４である） で表わされるヒドロキシエチル・フタリル・アクリレー
ト（ＯＨ価１４７、平均分子量３８４）３８４ｇ（１，
０モル）、トルエンジイソシアネート８７ｇ（０，５モ
ル）と重合禁止剤として２，６−ジーｔ−ブチルクレゾ
ール０．２５ｇを加えて８０℃、２時間空気吹込下反応
させた後、触媒としてトリエチルアミン１．５ｇを加え
て６時間そのまま反応を続は残在イソシアネート価３，
６のジビニルウレタン化合物（ＩＶ）を得た。
合度ｎ＝１．４である） で表わされるヒドロキシエチル・フタリル・アクリレー
ト（ＯＨ価１４７、平均分子量３８４）３８４ｇ（１，
０モル）、トルエンジイソシアネート８７ｇ（０，５モ
ル）と重合禁止剤として２，６−ジーｔ−ブチルクレゾ
ール０．２５ｇを加えて８０℃、２時間空気吹込下反応
させた後、触媒としてトリエチルアミン１．５ｇを加え
て６時間そのまま反応を続は残在イソシアネート価３，
６のジビニルウレタン化合物（ＩＶ）を得た。
このジビニルウレタン化合物（ＩＶ）７ｇ、ポリ（メタ
クリル酸メチル／メククリル酸＝９／１重量）共重合体
（極限粘度０．１１５ 、３０℃、メチルエチルケトン
溶媒）３ｇ、増感剤として３−メチル−２−ベンゾイル
メチレンナフト〔１，２−α〕チアゾー／ｌ／ ０．１
ｇ（！： 溶媒としてメチルセロソルブアセテート９
０ｇを加えて感光液を調合した。
クリル酸メチル／メククリル酸＝９／１重量）共重合体
（極限粘度０．１１５ 、３０℃、メチルエチルケトン
溶媒）３ｇ、増感剤として３−メチル−２−ベンゾイル
メチレンナフト〔１，２−α〕チアゾー／ｌ／ ０．１
ｇ（！： 溶媒としてメチルセロソルブアセテート９
０ｇを加えて感光液を調合した。
この感光液を０．３ ｉｎの厚さの砂目立した後、シリ
ケート処理したアルミ板に塗布し、１０００Ｃ，２分間
乾燥させ、一方平米当り２．５２ｇの塗布重量を有する
平版印刷用感光板を得た。
ケート処理したアルミ板に塗布し、１０００Ｃ，２分間
乾燥させ、一方平米当り２．５２ｇの塗布重量を有する
平版印刷用感光板を得た。
この感光板に文字を有すルネカフィルムを密着させ、１
ｏｏＶ、３Ａのカーボンアーク灯、７０ｃＩｒＬの距離
から３分間露光した。
ｏｏＶ、３Ａのカーボンアーク灯、７０ｃＩｒＬの距離
から３分間露光した。
露光後０．５ ％のベンジルアルコール、１％（７）ケ
イ酸ソーダと１係の活面活性剤であるモノゲンＹ−１０
０（第一工業薬品は製商品名）を含む弱アルカリ水で現
像して再現性に富んだ平版印刷板を得た。
イ酸ソーダと１係の活面活性剤であるモノゲンＹ−１０
０（第一工業薬品は製商品名）を含む弱アルカリ水で現
像して再現性に富んだ平版印刷板を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ イ）一般式 （ただし、Ｒ１ｙ Ｒ２ｖ Ｒ３は水素あるいはメチル
基を表わす。 ｎは１，２あるいは３を表わす。Ａは炭素数４から１０
の環状酸無水物の残基を表わす。 Ｂは−Ｒ４−あるいは−Ｒ，ＮＨＣＯＯＲ５００ＣＮＨ
Ｒ４−を表わし、Ｒ４は炭素数４から１３のアルキレン
基、シクロアルキレン基あるいはアリーレン基を、Ｒ５
は炭素数２から８のアルキレン基あるいは炭素数２から
４のオキシアルキレン基の重合体を表わす。 ）で表わされるジビニルウレタン化合物（ｎ ＝ ｉ
。 ２．３のものの各々単独、または混合物）８０〜５ｏ重
量％、口）該ジビニルウレタン化合物と相溶性があり、
かつ側鎖に酸価３０以上のカルボン酸基を有する有機高
分子重合体２０〜５０重量多と、ノ＼）活性光線により
エチレン性不飽和化合物＊＊の光重合を開始する光増感
剤０．０１−１０重量幅からなる光重合性組成物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP48014805A JPS5834488B2 (ja) | 1973-02-07 | 1973-02-07 | ヒカリジユウゴウセイソセイブツ |
| DE19742405714 DE2405714A1 (de) | 1973-02-07 | 1974-02-06 | Photopolymerisierbare massen |
| GB577674A GB1447315A (en) | 1973-02-07 | 1974-02-07 | Photopolymerizable composition and light-sensitive elements containing this composition |
| US440609A US3907574A (en) | 1973-02-07 | 1974-02-07 | Photopolymerizable composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP48014805A JPS5834488B2 (ja) | 1973-02-07 | 1973-02-07 | ヒカリジユウゴウセイソセイブツ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS49105847A JPS49105847A (ja) | 1974-10-07 |
| JPS5834488B2 true JPS5834488B2 (ja) | 1983-07-27 |
Family
ID=11871245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP48014805A Expired JPS5834488B2 (ja) | 1973-02-07 | 1973-02-07 | ヒカリジユウゴウセイソセイブツ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3907574A (ja) |
| JP (1) | JPS5834488B2 (ja) |
| DE (1) | DE2405714A1 (ja) |
| GB (1) | GB1447315A (ja) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49121829A (ja) * | 1973-03-26 | 1974-11-21 | ||
| US4174218A (en) * | 1975-11-05 | 1979-11-13 | Hercules Incorporated | Relief plates from polymer with terminal unsaturation |
| AU507014B2 (en) * | 1975-11-05 | 1980-01-31 | Hercules Inc. | Photopolymer compositions |
| US4171979A (en) * | 1976-11-01 | 1979-10-23 | Eastman Kodak Company | Method of treating scratched or abraded photographic elements with radiation-curable compositions comprising an acrylated urethane, an aliphatic ethylenically-unsaturated carboxylic acid and a multifunctional acrylate |
| US4092173A (en) * | 1976-11-01 | 1978-05-30 | Eastman Kodak Company | Photographic elements coated with protective overcoats |
| US4135007A (en) * | 1977-12-29 | 1979-01-16 | Gaf Corporation | Radiation curable coating composition comprising an acryl urethane oligomer, and an ultra-violet absorber |
| DE2823914A1 (de) * | 1978-05-04 | 1979-11-15 | Eastman Kodak Co | Verwendung einer beschichtungsmasse zur beseitigung von kratzspuren auf photographischen materialien |
| DE2822190A1 (de) * | 1978-05-20 | 1979-11-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
| US4296196A (en) * | 1978-05-20 | 1981-10-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture in a transfer element |
| IT1120621B (it) * | 1978-11-02 | 1986-03-26 | Minnesota Mining & Mfg | Perfezionamento nelle etichette in materiale plastico e procedimento per la loro produzione |
| US4228232A (en) * | 1979-02-27 | 1980-10-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable composition containing ethylenically unsaturated oligomers |
| CA1156795A (en) * | 1979-04-11 | 1983-11-08 | Richard G. Newell | Curable fluorocarbon substituted polyetherurethaneacrylates |
| US4248958A (en) * | 1979-05-23 | 1981-02-03 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture containing polyurethanes |
| US4245030A (en) * | 1979-05-23 | 1981-01-13 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture containing improved plasticizer |
| DE2933827A1 (de) * | 1979-08-21 | 1981-03-12 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung hochwaermebestaendiger reliefstrukturen und deren verwendung. |
| US4985473A (en) * | 1980-05-20 | 1991-01-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Compositions for providing abherent coatings |
| US4322490A (en) * | 1980-11-17 | 1982-03-30 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable compositions featuring improved monomers |
| US5436112A (en) * | 1994-04-01 | 1995-07-25 | Hoechst Celanese Corporation | Method for producing a negative image with color proofing element containing a urethane monomer |
| JP3641116B2 (ja) * | 1997-10-14 | 2005-04-20 | 東京応化工業株式会社 | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
| JP2000066391A (ja) * | 1998-08-17 | 2000-03-03 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
| US6244274B1 (en) | 1999-07-30 | 2001-06-12 | Opi Products, Inc. | Thixotropic polymerizable nail sculpting compositions |
| US6841336B2 (en) | 2000-10-16 | 2005-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plate-making method of lithographic printing plate |
| CN104496853B (zh) * | 2015-01-10 | 2017-03-29 | 中山市博海精细化工有限公司 | 一种uv固化可剥胶树脂及其制备方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3677920A (en) * | 1968-07-06 | 1972-07-18 | Asahi Chemical Ind | Photopolymerizable diisocyanate modified unsaturated polyester containing acrylic monomers |
| JPS5034964B1 (ja) * | 1970-03-30 | 1975-11-12 | ||
| DE2035848A1 (de) * | 1970-07-18 | 1972-01-27 | Badische Anilin- & Soda-Fabrik Ag, 6700 Ludwigshafen | Photosensible Gemische zur Herstellung von Druckplatten |
-
1973
- 1973-02-07 JP JP48014805A patent/JPS5834488B2/ja not_active Expired
-
1974
- 1974-02-06 DE DE19742405714 patent/DE2405714A1/de active Pending
- 1974-02-07 US US440609A patent/US3907574A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-02-07 GB GB577674A patent/GB1447315A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1447315A (en) | 1976-08-25 |
| JPS49105847A (ja) | 1974-10-07 |
| DE2405714A1 (de) | 1974-08-08 |
| US3907574A (en) | 1975-09-23 |
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