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JPS5911096B2 - 樹脂凸版用感光性組成物 - Google Patents

樹脂凸版用感光性組成物

Info

Publication number
JPS5911096B2
JPS5911096B2 JP49025492A JP2549274A JPS5911096B2 JP S5911096 B2 JPS5911096 B2 JP S5911096B2 JP 49025492 A JP49025492 A JP 49025492A JP 2549274 A JP2549274 A JP 2549274A JP S5911096 B2 JPS5911096 B2 JP S5911096B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
photosensitive composition
group
general formula
copolymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP49025492A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS50122301A (ja
Inventor
信行 喜多
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP49025492A priority Critical patent/JPS5911096B2/ja
Priority to DE19752509842 priority patent/DE2509842A1/de
Publication of JPS50122301A publication Critical patent/JPS50122301A/ja
Publication of JPS5911096B2 publication Critical patent/JPS5911096B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • C08F265/06Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は樹脂凸版の製造に好適な感光性組成物、5 特
にアルカリ水溶液に可溶性のヒドロキシ基含有重合体と
ウレタン結合を有する光重合性アクリル酸またはメタク
リル酸誘導体及び光重合開始剤からなる樹脂凸版用感光
性組成物に関する。
ヒドロキシ基含有重合体と二重結合を有する光10重性
単量体及び光重合開始剤からなる感光性組成物としては
、例えば特開昭48−32001号及び特開昭48−3
3904号の各公報に2−ヒドロキシエチルメタアクリ
レート重合体または共重合体に二重結合を有する光重合
性単量体並びに光15重合開始剤からなる感光性組成物
の記載がある。
この場合2−ヒドロキシエチルメタアクリレート重合体
または共重合体に光重合性単量体として通常のジアクリ
レートを使用しているが相溶性に欠ける面がある。この
欠点を改良するために2−ヒ20ドロキシエチルメタク
リレートを光重合性単量体として加えることが記載され
ているが、この様な1官能の光重合性単量体を加えると
、画像露光後のレリーフ像の鋭さが欠けるという欠点を
有している。また上記の組成物では画像露光後、未露光
25部分を溶出(以下単に現像と呼ぷ。)させるのに水
−アルコール系の有機溶媒を使用しなければならないと
いう欠点を有している。この他アルカリ水溶液に可溶性
のヒドロキシ基含有共重合体とウレタン結合を有する光
重合性アクリル酸またはメ30タクリル酸誘導体並びに
光重合開始剤からなる感光性組成物が、例えば特開昭4
9−997901号明細書中に記載されているが、この
場合前記一般式(I)で示される構造単位として2−ヒ
ドロキシエチルメタアクリレート共重合体が挙げられて
い35るが、その含有量としては50重量%以下で使用
されている。この様に一般式I)で示される構造単位が
50重量%以下の共重合体を使用するという例は他にも
見受けられるが、これらのほとんどは樹脂凸版用組成物
としてではなく、感光膜厚のきわめてうすい平版印刷版
用あるいはフオトレジスト用感光組成物として利用され
ている。本発明は (a)酸価10〜200を有し、かつ下記一般式(1)
で示される構造単位を少なくとも50重量%含む重合体
95〜40重量部、(式中、R1は水素原子またはメチ
ル基を示し、R2は水素原子、メチル基、エチル基また
はクロルメチル基を示し、nは1〜10の整数を示す。
)(b)ウレタン結合を有する光重合性アクリル酸また
はメタクリル酸誘導体5〜60重量%及び(c)光重合
開始剤からなる樹脂凸版用感光性組成物である。
アルカリ水溶液に可溶性のヒドロキシ基含有重合体とウ
レタン結合を有する光重合性アクリル酸またはメタクリ
ル酸誘導体とは相溶性に富んでいる上、一般的にウレタ
ン結合を有する光重合性アクリル酸またはメタクリル酸
誘導体は酸素に対する重合抑制が小さく、そのため本発
明の感光性組成物は画像露光前に感光板を不活性ガス中
で保存しなければならないという様なことはなく、その
上弱アルカリ水によつて容易に現像できるという利点を
有している。
本発明に使用される酸価10〜200を有し、かつ前記
一般式(1)で示される構造単位を少なくとも50重量
%含む共重合体は下記一般式(11)で示される化合物
とα・β一不飽和カルボン酸および必要とするならば他
の付加重合性不飽和化合物との共重合体、(式中、R1
、R2およびnは一般式(1)の場合と同義)および、
前記一般式(3)で示される化合物の単独重合体あるい
は他の付加重合性不飽和化合物との共重合体に環状酸無
水物を半エステル化によつて反応せしめた共重合体を包
含する。
α・β一不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等
を代表例としてあげることができる。
また上記付加重合性不飽和化合物としては例えばアクリ
ル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エス
テル類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエ
ーテル類、ビニルエステル類、N−ビニル化合物、スチ
レン類、クロトン酸エステル類、アクロニトリル、メタ
クロニトリルなどがある。具体的には、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル
酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、
アクリルアミド、メタクリルアミド、N・N−ジエチル
アクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン、酢酸ビニ
ル等をあげることができる。しかしこれらのものに限定
されないが、常温で水酸基や、カルボン酸基と反応する
様な官能基を有する付加重合性不飽和化合物は、不適当
である。これら以外の前記一般式(11)で示される化
合物と前記のα・β一不飽和カルボン酸と共重合する付
加重合性不飽和化合物であればよい。前記一般式(1)
で示される構造単位を有する単独重合体あるいは他の付
加重合性不飽和化合物との共重合体に半エステル化させ
る環状酸無水物としては、無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3・6−エ
ンドメチレン−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、無水
マレイン酸、無水コ・・ク酸、n−ドデシル無水コハク
酸、クロル無水マレイン酸、3・6−エンドオキシ−Δ
4−テトラヒドロ無水クタル酸、テトラクロル無水フタ
ル酸等がある。
これらのアルカリ水可溶性のヒドロキシ含有共重合体の
酸価は、10〜200でより好ましくは20〜100で
ある。酸価10以下では弱アルカリ水によつて未露光部
の現像は不良となり、好ましくなく、また酸価200以
上では、光硬化したレリーフ像の感脂性が低下し、印刷
時における印刷インキの転移性が悪い。共重合体中にお
ける一般式(1)の構造単位の含有量は50重量%以上
で、50重量%未満では樹脂凸版として望まれる物性を
得ることができない。多分これは共重合体の水素結合に
より二次架橋が減少するためと考えられる。本発明のウ
レタン結合を有する光重合性アクリル酸またはメタクリ
ル酸誘導体としては、たとえば特開昭48−27801
号明細書に記載される次の一般式で示される化合物を包
含する。
(式中、Rは水素原子またはメチル基、Aは炭素数2〜
6のアルキレン基、2・4−もしくは、2・16−トリ
レン基、メタ一もしくは、パラーキシリレン基、または
、メチレンビスフエニル基を表わす。
)具体的化合物例としては、次のものをあげることがで
きる。
2即ち、ジ
(1−アクリロキシエチル)トリメチレンジウレタン、
ジ一(2!−メタクリロキシエチル)ヘキサメチレンジ
ウレタン、ジ一(2′−アクリキシエチル)−2・4−
トリレンジウレタンジ一(2!−アクリロキシエチル)
−メターキシリ 〉レンジウレタン、ジ一(2!−アク
リロキシエチル)メチレンビスフエニルジウレタン、ジ
一(i−メタクリロキシエチル)リジンジウレタン等。
その他特願昭48−119.04号明細書に記載される
1分子に2個以上のイソシアネート基を有.するポリイ
ソシアネート化合物に、水酸基を1個含有する重合性ビ
ニル単量体を付加せしめた1分子に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物をも包含する。
具体的には、ポリエチレングリコール(分子量400)
1モルにトルエンジイソシアネート2モルを反応せしめ
た後、2−ヒドロキシエチルアクリレート2モルを反応
させたピニルウレタン化合物等をあげることができる。
これらのウレタン基を有する光重合性アクリル酸または
、メタクリル酸誘導体の含有量は、5〜60重量%で、
好ましくは20〜50重量%である。
5重量%未満では、感光性が不充分でまた60重量%以
上では、感光層の粘着性が著しく実用的でない。
これらのウレタン基を有する光重合性アクリル酸または
メタクリル酸またはメタクリル酸誘導体は、前記一般式
(1)で示される構造単位を含む重合体並びに、光重合
開始剤とともに、混合され、光照射によつて、硬化する
訳であるのが、この際単に硬化するだけでは、印刷用の
レリーフ像としては、不十分である。
硬化したレリーフ像の物性が良好でなければならない。
たとえば光硬化による体積収縮をできるだけ少ない方が
望ましく、また、硬化物性はガラス状のもろいものでは
いけない。これらのことを、考慮してウレタン基を有す
る光重合性アクリル酸または、メタクリル酸誘導体の種
類及び前記一般式(4)で示される構造単位を含む共重
合体が適当に選択される。また、必要に応じて上記のレ
リーフ像の物性をあげるために可塑剤、他の光重合性ビ
ニル単量体や有機高分子重合体を添加できる。
具体的には、可塑剤としては、トリエチレングリコール
ジカプリレート、トリスジクロロプロピルホスヘエート
等を代表として、あげることが出来る。他の光重合性ビ
ニル単量体としては、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエ
チレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジメタアクリレート、ポリプロピレングリコールジ
アクリレート、2−ヒドロキシエチルメタアクリレート
、2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2−ヒド
ロキシエチルアクリレート、N−NI−メチレンヒスア
クリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミドとポリエチレングりコールとの縮
合物、エポキシ樹脂とアクリル酸又はメタクリル酸との
付加物等を上げることができる。有機高分子重合体とし
ては、ポリエチレングリコールやアルコール可溶性ナイ
ロンを代表例としてあげることができる。
この他必要に応じて本発明の組成物に染料や顔料を少量
添加してもよい。
たとえば本発明の組成物に0.05重量%程度のメチレ
ンブルーを加えると露光によつて光の当つた部分は退色
して、美しい画像を与える。そして退色の程度によつて
、硬化度を知ることが可能である。また弱アルカリ水に
よる現像後、加熱乾燥することによつて退色した色素は
発色して、見やすいレリーフ像を与える。本発明におい
て用いられる光重合開始剤は、光により、ラジカルを発
生させる物質、例えば、ベンジル、ジアセチル、ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾイン−イソプロピルエーテル、アンスラ
キノン、2−t−ブチルアンスラキノン、1−クロルア
ンスラキノン、2−クロルアンスラキノン ベンゾフエ
ノン等がある。光重合開始剤は単量体に対して0.01
〜5重量%程度の量で使用される。
本発明の感光性組成物を用いて印刷版を製造する方法を
次に説明する。
1つは感光性組成物を適当な溶剤に溶解し、その溶液を
適当な支持体、例えばプラスチツクフイルム、金属板等
に塗布、乾燥して0.2〜1.0mm程度の厚さの皮膜
を形成する方法である。
もう1つは、混合物100〜180℃程度に加熱して溶
融し、これを支持体上に圧延する方法である。
このような製造工程において、ウンタン結合を有する光
重合性アクリル酸または、メタクリル酸誘導体の熱重合
を起こす場合にはこれを防止するために適当な熱重合防
止剤を加えるのがよい。たとえば、ハイドロキノン、・
・イドロキノンモノメチルエーテル、フエノチアジン、
P−ベンゾキノン、4・4′−チオビス(3−メチル−
6−t一ブチルフエノール)等が挙げられる。このよう
にして、製造された感光性材料は常法に従つて印刷版と
することができる。
すなわち、通常の露光光源たとえばカーボンアーク灯、
キセノンランプ、水銀灯、ケイ光灯等を用いて像露光を
与え、次いで弱アルカリ水を用い、噴射または、ブラシ
により、こする方法等により、未露光部分を溶解除去し
て、レリーフ像が得られる。得られたレリーフ像は、鋭
い輪郭を持ち、硬さにおいて他に例を見ないものであり
、更に印刷時に要求されるインキの転写性及び耐刷性に
おいても優れた印刷版であつて極めて鮮明な印刷物を与
える。以下に実施例により、本発明を更に詳細に説明す
る。実施例 1 2−ヒドロキシエチルメタクリレート70y1メチルメ
タアクリレート25y、メタクリル酸57、ジオキサン
200tとベンゾインエチルエーテル0.57を300
m1三角フラスコに取り、戸外の日光光線で4日間光重
合させた。
重合物をメタノールで、希釈後、水中に投じて重合体を
沈殿させ、70℃で真空乾燥を行つた。この2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート共重合体(1)の酸価は32
であつた。次にエポキシ樹脂系プライマーを塗布した0
.3韮のブリキ板に次の感光液を塗布し、室温で2日間
、50℃の熱風で1日間乾燥させた。
乾燥膜厚は0.5muであつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (a)酸価10〜200を有し、かつ下記一般式(
    I )で示される構造単位を少なくとも50重量%含む
    重合体95〜40重量部▲数式、化学式、表等がありま
    す▼( I )(式中、R_1は水素原子またはメチル基
    を示し、R_2は水素原子、メチル基、エチル基または
    クロルメチル基を示し、nは1〜10の整数を示す。 )(b)ウレタン結合を有する光重合性アクリル酸また
    はメタクリル酸誘導体5〜60重量部及び(c)光重合
    開始剤からなる樹脂凸版用感光性組成物。
JP49025492A 1974-03-06 1974-03-06 樹脂凸版用感光性組成物 Expired JPS5911096B2 (ja)

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JP49025492A JPS5911096B2 (ja) 1974-03-06 1974-03-06 樹脂凸版用感光性組成物
DE19752509842 DE2509842A1 (de) 1974-03-06 1975-03-06 Lichtempfindliche masse

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JPS50122301A JPS50122301A (ja) 1975-09-25
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JPS50122301A (ja) 1975-09-25

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