JPS5826328B2 - リツタイキセイサレタ フアルネシルサクサン マタハ ソノエステル ノ セイゾウホウホウ - Google Patents
リツタイキセイサレタ フアルネシルサクサン マタハ ソノエステル ノ セイゾウホウホウInfo
- Publication number
- JPS5826328B2 JPS5826328B2 JP49100632A JP10063274A JPS5826328B2 JP S5826328 B2 JPS5826328 B2 JP S5826328B2 JP 49100632 A JP49100632 A JP 49100632A JP 10063274 A JP10063274 A JP 10063274A JP S5826328 B2 JPS5826328 B2 JP S5826328B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cis
- trans
- farnesyl
- group
- acetic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は立体規制されたファルネシル酢酸またはそのエ
ステル類の製造方法に関する。
ステル類の製造方法に関する。
ファルネシル酢酸エステル類は抗潰瘍性の作用をもった
医薬品として使用されている有用な化合物であると同時
に香料等としても用いられる。
医薬品として使用されている有用な化合物であると同時
に香料等としても用いられる。
E。A da m i等がMed 、 Expt l
、 、ヱ、171 (1962)およびJoMed、C
hem、、兵、457(1963)に報告しているよう
に一般式(1) で表わされるファルネシル酢酸またはそのエステルは例
えばRがエチル基、アリル基、プロパルギル基、シクロ
ヘキシル基、ゲラニル基、ファルネシル基などの場合は
抗潰瘍活性を示すが、Rがメチル基、プロピル基、ブチ
ル基、イソアミル基、ラウリル基の場合は非活性であり
、また△4一位および△8 一位の二重結合の立体構造
によっても活性が異なる。
、 、ヱ、171 (1962)およびJoMed、C
hem、、兵、457(1963)に報告しているよう
に一般式(1) で表わされるファルネシル酢酸またはそのエステルは例
えばRがエチル基、アリル基、プロパルギル基、シクロ
ヘキシル基、ゲラニル基、ファルネシル基などの場合は
抗潰瘍活性を示すが、Rがメチル基、プロピル基、ブチ
ル基、イソアミル基、ラウリル基の場合は非活性であり
、また△4一位および△8 一位の二重結合の立体構造
によっても活性が異なる。
一般式(■)で表わされるファルネシル酢酸またはその
エステルは4種類の立体異性体が存在する。
エステルは4種類の立体異性体が存在する。
すなわち、△8−シス、△4−シス体、△8−シス、△
4−トランス体、△8−トランス、△4シス体、△8−
トランス、△4−シス体の4種類である。
4−トランス体、△8−トランス、△4シス体、△8−
トランス、△4−シス体の4種類である。
実用的にはこれらの異性体は物理恒数が異なり、生理活
性も異なることから医薬品として使用する場合には純品
が好ましい。
性も異なることから医薬品として使用する場合には純品
が好ましい。
また物質の同定、その他試薬品としても単品を要求され
ることが多い。
ることが多い。
これらの異性体を純粋に得る方法としては立体特異的に
合成するか、得られた混合物から分離するかの何れかで
ある。
合成するか、得られた混合物から分離するかの何れかで
ある。
前者は非常に複雑な操作と高価な試薬を用いなげればな
らないという欠点を有し、現時点では工業的方法とはみ
なされず、従って後者の方法が研究の対象となる。
らないという欠点を有し、現時点では工業的方法とはみ
なされず、従って後者の方法が研究の対象となる。
これら異性体の分離に関してはG、Pa1a等がHe1
v 、Chim。
v 、Chim。
Actao、11.1827〜1832(1970)で
報告した、ファルネシル酢酸がゲラニオールエステルの
分離方法が知られているだけである。
報告した、ファルネシル酢酸がゲラニオールエステルの
分離方法が知られているだけである。
この報告によると、ファルネシル酢酸のゲラ0オールエ
ステルの場合、蒸留による分離あるいはガスクロマトグ
ラフィーによる分取はいずれも不可能であり、硝酸銀−
カラムクロマトグラフィーを使用しなげればならない。
ステルの場合、蒸留による分離あるいはガスクロマトグ
ラフィーによる分取はいずれも不可能であり、硝酸銀−
カラムクロマトグラフィーを使用しなげればならない。
このような方法は少量の試料の分離には適しているが、
工業的に多量の渭合物を処理する方法としては不適当で
ある。
工業的に多量の渭合物を処理する方法としては不適当で
ある。
そこで本発明者らは工業的に分離可能な方法を見出すべ
く研究を重ねた結果、本発明に到達したものである。
く研究を重ねた結果、本発明に到達したものである。
一般にcis−1trans異性体の蒸留による分離は
R,B、Bates等がJ 、 Org 、 Chem
、、η1086〜1089(1963)に報告している
ようにネロールおよびゲラニオールの混合物を分離する
場合は適しているが、更に分子量の大きなファルネソー
ル等では効率が悪いと考えられていた。
R,B、Bates等がJ 、 Org 、 Chem
、、η1086〜1089(1963)に報告している
ようにネロールおよびゲラニオールの混合物を分離する
場合は適しているが、更に分子量の大きなファルネソー
ル等では効率が悪いと考えられていた。
ましてや一般式(1)で表わされる化合物のごとき高沸
点化合物においてはさらに困難であると考えられる。
点化合物においてはさらに困難であると考えられる。
しかるに一般式(1)においてRが水素原子または炭素
数6以下の低級アルキル基、シクロアルキル基、低級ア
ルケニル基もしくはシクロアルケニル基である化合物す
なわち下記の一般式(1) 〔式中R1は水素原子または炭素数6以下の低級アルキ
ル基、シクロアルキル基、低級アルケニル基もしくはシ
クロアルケニル基を示す。
数6以下の低級アルキル基、シクロアルキル基、低級ア
ルケニル基もしくはシクロアルケニル基である化合物す
なわち下記の一般式(1) 〔式中R1は水素原子または炭素数6以下の低級アルキ
ル基、シクロアルキル基、低級アルケニル基もしくはシ
クロアルケニル基を示す。
〕で表わされる化合物の場合にかぎり、前記の4種の異
性体の混合系ではなくて、△8−シス、△4シス、トラ
ンス−混合体または△8−トランス、△4−シス、トラ
ンス混合体であれば精密蒸留により比較的容易に各異性
体を分離しうろこと、および前記2種の異性体混合物は
それぞれシス−またはトランス−ゲラニルアセトンを出
発原料として用いることにより容易に合成可能であるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。
性体の混合系ではなくて、△8−シス、△4シス、トラ
ンス−混合体または△8−トランス、△4−シス、トラ
ンス混合体であれば精密蒸留により比較的容易に各異性
体を分離しうろこと、および前記2種の異性体混合物は
それぞれシス−またはトランス−ゲラニルアセトンを出
発原料として用いることにより容易に合成可能であるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。
なお、本明細書において「精密蒸留」とは精留(分留と
もいう)を意味し、言い換えれば精留塔(分留塔ともい
う)を用いて行う蒸留を意味する。
もいう)を意味し、言い換えれば精留塔(分留塔ともい
う)を用いて行う蒸留を意味する。
ファルネシル酢酸またはそのエステルの前記異性体混合
物を合成するために使用するシス−1またはトランス−
のゲラニルアセトンは立体特異的に合成したものでもよ
いが、一般にはシスおよびトランス混合物から分離して
使用することができる。
物を合成するために使用するシス−1またはトランス−
のゲラニルアセトンは立体特異的に合成したものでもよ
いが、一般にはシスおよびトランス混合物から分離して
使用することができる。
ゲラニルアセトンのシス体の混合物の分離方法としては
Q、l5ler等が:1elv 、 Chim、 Ac
ta 、、1手、897〜904 (1956)に報告
しているセミカルバゾン−再結晶法またはO,l5le
rらがHe1v、 Chim、Acta 1.43.1
745〜1751 (1960)に報告している低温結
晶化法等が知られているが、工業的に容易に得るには本
発明者らが見出した精密蒸留法によって行なうのが最も
好ましい。
Q、l5ler等が:1elv 、 Chim、 Ac
ta 、、1手、897〜904 (1956)に報告
しているセミカルバゾン−再結晶法またはO,l5le
rらがHe1v、 Chim、Acta 1.43.1
745〜1751 (1960)に報告している低温結
晶化法等が知られているが、工業的に容易に得るには本
発明者らが見出した精密蒸留法によって行なうのが最も
好ましい。
このようにして得られるシス−1またはトランス−のゲ
ラニルアセトンから△8−cis−△4−cis 1t
rans混合または△8−trans1△4cis1t
rans混合ファルネシル酢酸あるいはそのエステル誘
導体を製造する方法は数多く存在し、例えば下言da)
〜(d)の方法などが知られている。
ラニルアセトンから△8−cis−△4−cis 1t
rans混合または△8−trans1△4cis1t
rans混合ファルネシル酢酸あるいはそのエステル誘
導体を製造する方法は数多く存在し、例えば下言da)
〜(d)の方法などが知られている。
(a)ケラニルアセトンとr−−y”ロム酪酸エステル
とをウイツチヒと反応させる方法。
とをウイツチヒと反応させる方法。
(b) G、Pa1aらがHe1v 、Chi m、
Acta 9、足1.1827〜1832(1970)
に報告しているように臭化ファルネシルとマロン酸ジエ
ステルとを縮合した後、加水分解、脱炭酸を行なわしめ
る方法。
Acta 9、足1.1827〜1832(1970)
に報告しているように臭化ファルネシルとマロン酸ジエ
ステルとを縮合した後、加水分解、脱炭酸を行なわしめ
る方法。
(c) E、AdamiらがJ 6Med 、Che
ml、 6.457 (1963)に報告しているよう
に臭イ[ファルネシルとアセト酢酸エステルを縮合した
後、アイレコール中ナトリウムアルコキサイドC存在下
加熱を行ない、更に水酸化バリウムにより脱アセチル化
反応を行なわしめる方法。
ml、 6.457 (1963)に報告しているよう
に臭イ[ファルネシルとアセト酢酸エステルを縮合した
後、アイレコール中ナトリウムアルコキサイドC存在下
加熱を行ない、更に水酸化バリウムにより脱アセチル化
反応を行なわしめる方法。
(d) 本発明者らが見出して特願昭48−7944
8i 号明細書に記載した方法。
8i 号明細書に記載した方法。
すなわち、ネロリドールとオルト酢酸エステルを酸性触
媒の存在下に加熱することにより1工程で合成する方法
。
媒の存在下に加熱することにより1工程で合成する方法
。
一般式(1a)においてR1が炭素数6以下の低級アル
キル基、シクロアルキル基、低級アルケニル基またはシ
クロアルケニル基である化合物すなわち下記の一般式(
1b) 〔式中R2は炭素数6以下の低級アルキル基、シクロア
ルキル基、低級アルケニル基またはシクロアルケニル基
を示す。
キル基、シクロアルキル基、低級アルケニル基またはシ
クロアルケニル基である化合物すなわち下記の一般式(
1b) 〔式中R2は炭素数6以下の低級アルキル基、シクロア
ルキル基、低級アルケニル基またはシクロアルケニル基
を示す。
〕で表わされるファルネシル酢酸エステルのgシス、△
4−シス、トランス混合体マタハ△8−トランス、△4
−シス、トランス混合体を工業的に大量に製造するに際
しても最も好ましい方法は次の通りである。
4−シス、トランス混合体マタハ△8−トランス、△4
−シス、トランス混合体を工業的に大量に製造するに際
しても最も好ましい方法は次の通りである。
で表わされる△5−ンスもしくは△5−トランスゲラニ
ルアセトンをビニルクリニャール試薬と反応させるかあ
るいはエチニル化後部分水素添加して式(3) で表わされるが −シスーもしくは△6−ドランスーネ
ロリドールを得、これを一般式(4)%式%)(4) 〔式中R2は一般式(1b)中のそれと同じ意味を有す
る。
ルアセトンをビニルクリニャール試薬と反応させるかあ
るいはエチニル化後部分水素添加して式(3) で表わされるが −シスーもしくは△6−ドランスーネ
ロリドールを得、これを一般式(4)%式%)(4) 〔式中R2は一般式(1b)中のそれと同じ意味を有す
る。
〕で表わされるオルト酢酸エステルと酸性触媒の存在下
に反応させて一般式(1b)で表わされる△8−シス、
△4−シス、トランス混合ファルネシル酢酸エステルも
しくは△3−トランス、△4−シス、トランス混合ファ
ルネシル酢酸エステルを製造する方法である。
に反応させて一般式(1b)で表わされる△8−シス、
△4−シス、トランス混合ファルネシル酢酸エステルも
しくは△3−トランス、△4−シス、トランス混合ファ
ルネシル酢酸エステルを製造する方法である。
本方法は工程数が少ないことおよび全収率が著しくよい
ことが大きな利点である。
ことが大きな利点である。
本発明の実施に際してはcis−またはtransゲラ
ニルアセトンのエチニル化反応は液体アンモニア中、金
属ナトリウム、金属カリウム、ナトリウムアルコキサイ
ド、カリウムアルコキサイド、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等の触媒の存在下に容易に行なうことができ
る。
ニルアセトンのエチニル化反応は液体アンモニア中、金
属ナトリウム、金属カリウム、ナトリウムアルコキサイ
ド、カリウムアルコキサイド、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等の触媒の存在下に容易に行なうことができ
る。
また部分水素添加は例えばn−へキサン等の低級炭化水
素溶媒中、リンドラ−触媒を用いて行なうことができる
。
素溶媒中、リンドラ−触媒を用いて行なうことができる
。
またビニルグリニヤール反応による方法は通常の手法、
例えばA、0fnerらがHe1v、Chim。
例えばA、0fnerらがHe1v、Chim。
ACtao、42.2577〜2584(1959)で
報告しているようにテトラヒドロフランまたはジエチル
エーテル溶媒中で行なえばよい。
報告しているようにテトラヒドロフランまたはジエチル
エーテル溶媒中で行なえばよい。
またcis−またはtrans−ネロリドールと一般式
(4)で表わされるオルト酢酸エステルとの反応は酸性
触媒、例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ン
ユウ酸、アジピン酸等の脂肪酸、フェノール、0−1m
−1p−クレゾール、0−1m、p−ニトロフェノール
、ハイドロキノン等ノフェノール類等の存在下に加熱す
ることにより行われる。
(4)で表わされるオルト酢酸エステルとの反応は酸性
触媒、例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ン
ユウ酸、アジピン酸等の脂肪酸、フェノール、0−1m
−1p−クレゾール、0−1m、p−ニトロフェノール
、ハイドロキノン等ノフェノール類等の存在下に加熱す
ることにより行われる。
反応温度は50〜200℃までが可能であるが、好まし
くは130〜180℃である。
くは130〜180℃である。
オルト酢酸エステルはネロリドールに対し、理論的には
等モル必要であるが、過剰に用いて溶媒として使用する
ことも可能である。
等モル必要であるが、過剰に用いて溶媒として使用する
ことも可能である。
しかしながら回収工程をも考えた場合、ネロリドールに
対し1〜4倍モル使用するのが好ましい。
対し1〜4倍モル使用するのが好ましい。
触媒濃度は原料アルコールに対し0.1重量%以上20
重量%までが可能であるが、反応速度および選択率の面
から1〜10重量%が好ましい。
重量%までが可能であるが、反応速度および選択率の面
から1〜10重量%が好ましい。
また反応が進行するとエステル交換反応に伴う低級アル
コールが副生じてくるため、これを系外に除去する必要
がある。
コールが副生じてくるため、これを系外に除去する必要
がある。
反応後は抽出、水洗等の処理を行なってもよいが、反応
液をそのまま真空蒸留することも可能である。
液をそのまま真空蒸留することも可能である。
本転位反応は通常、ネロリドールの転化率95%以上、
ファルネシル酢酸エステルの選択率98%以上とはg定
量的に進行する。
ファルネシル酢酸エステルの選択率98%以上とはg定
量的に進行する。
これは現在までの公知の方法、例えばHe1v 、Ch
im、 Acta 0.53.1827〜1832(1
970)に記載されている方法と比較しても明らかなよ
うに、非常に高収率かつ工程が一段階であるという利点
を有す。
im、 Acta 0.53.1827〜1832(1
970)に記載されている方法と比較しても明らかなよ
うに、非常に高収率かつ工程が一段階であるという利点
を有す。
なお転位反応に伴って移動した二重結合のcis対tr
ansの比率は約35対65である。
ansの比率は約35対65である。
本発明の方法においては一般式(1a)で表わされるフ
ァルネシル酢酸またはそのエステルの△8−シス、△4
−シス、トランス混合体または△8−トランス、△4−
シス、トランス混合体を精密蒸留に供するが、該一般式
(1a)中のR1は好ましくは炭酸数4以下のアルキル
基またはアルケニル基である。
ァルネシル酢酸またはそのエステルの△8−シス、△4
−シス、トランス混合体または△8−トランス、△4−
シス、トランス混合体を精密蒸留に供するが、該一般式
(1a)中のR1は好ましくは炭酸数4以下のアルキル
基またはアルケニル基である。
したがってまた一般式(1b)中のR2も好ましくは炭
素数4以下のアルキル基またはアルケニル基である。
素数4以下のアルキル基またはアルケニル基である。
一般式(1)中のRとして炭素数が6よりも多いアルキ
ル基、アルケニル基などを有するファルネシル酢酸エス
テルでは、沸点が著しく高くなると同時に立体異性体の
分離効率が低く、蒸留による実用的な分離(立体異性体
分離)は困難である。
ル基、アルケニル基などを有するファルネシル酢酸エス
テルでは、沸点が著しく高くなると同時に立体異性体の
分離効率が低く、蒸留による実用的な分離(立体異性体
分離)は困難である。
Rがたとえばゲラニル基、ファルネシル基などの場合に
は、G、Pa1a等がHe1v 、 Chi m、 A
cta 、、53.1827〜1832(1970)
に報告しているように蒸留による立体異性体の分離が実
用的には不可能である。
は、G、Pa1a等がHe1v 、 Chi m、 A
cta 、、53.1827〜1832(1970)
に報告しているように蒸留による立体異性体の分離が実
用的には不可能である。
このように蒸留によって立体異性体を分離することが実
用上困難ないし不可能であるファルネシル酢酸エステル
類についてそれらの立体規制された生成物を得るには、
まず、一般式(1a)または(1b)で表わされる化合
物について精密蒸留を行うことにより立体規制さ※れた
ファルネシル酢酸もしくはそのエステルを得、これを立
体保持したままエステル化もしくはエステル交換反応さ
せることにより一般式(1C)〔式中R3は式(1a)
中のR1または式(1b)中のR2とは異なり、かつア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アリール基またはプロパルギル基を示す。
用上困難ないし不可能であるファルネシル酢酸エステル
類についてそれらの立体規制された生成物を得るには、
まず、一般式(1a)または(1b)で表わされる化合
物について精密蒸留を行うことにより立体規制さ※れた
ファルネシル酢酸もしくはそのエステルを得、これを立
体保持したままエステル化もしくはエステル交換反応さ
せることにより一般式(1C)〔式中R3は式(1a)
中のR1または式(1b)中のR2とは異なり、かつア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルケニル基、アリール基またはプロパルギル基を示す。
〕で表わされる立体規制されたファルネシル酢酸エステ
ルを製造する方法を用いればよい。
ルを製造する方法を用いればよい。
以下に参考例および実施例を示し、更に詳しく説明する
。
。
参考例 1
21−三つロフラスコに液体アンモニアを入れておき、
金属ナトリウム55.2Pを加えた後アセチレンガスを
通す。
金属ナトリウム55.2Pを加えた後アセチレンガスを
通す。
反応液が紫色から白色に変化した時点をもってアセチレ
ンガスの吹込みを停止してシス−ゲラニルアセトン38
8?を加える。
ンガスの吹込みを停止してシス−ゲラニルアセトン38
8?を加える。
次に液体アンモニアを還流しながらアセチレンを4時間
吹込んで反応を停止する。
吹込んで反応を停止する。
アンモニアを除去した後塩化アンモニウム1101を加
えて中和し、反応液を水にあげてエーテル抽出する。
えて中和し、反応液を水にあげてエーテル抽出する。
油層を水洗後、ボウ硝にて乾燥し、溶媒を留去してから
真空蒸留する。
真空蒸留する。
bp133〜135℃(5關Hg )の留分よりシスー
デヒドロネロリドール372S’を収率85%で得た。
デヒドロネロリドール372S’を収率85%で得た。
このものの屈折率はn冨−1,4750でありその核磁
気共鳴スペクトルは第1図に示したとおりである。
気共鳴スペクトルは第1図に示したとおりである。
次にこのシスーデヒドロネロリドール3201のn−ヘ
キサン10100O溶液中にキノリンQ、15m1及び
0.25%pci−リンドラー触媒5.0?を加え、常
温・常圧下にて水素添加反応を行なう。
キサン10100O溶液中にキノリンQ、15m1及び
0.25%pci−リンドラー触媒5.0?を加え、常
温・常圧下にて水素添加反応を行なう。
反応経過はPEG−20M(5%)を担持したガスクロ
マトグラフィーにて解析した。
マトグラフィーにて解析した。
(カラム温度150℃)。
原料のシスーデヒドロネロリドールの消失をもって反応
終了とし、反応液をグラス・フィルターで口過する。
終了とし、反応液をグラス・フィルターで口過する。
両液の溶媒を除去した後残液を高真空蒸留するとbp9
9〜102℃(0,3mrnHg )の留分よりシスー
ネロリドール3141を得た。
9〜102℃(0,3mrnHg )の留分よりシスー
ネロリドール3141を得た。
このものの屈折率はn D= 1.4753であり、そ
の核磁気共鳴スペクトルは第2図に示した。
の核磁気共鳴スペクトルは第2図に示した。
参考例 2
参考例1と同様にトランス−ゲラニルアセトン1.36
0fを金属ナトリウム1762の存在下にエチニル化反
応を行ない、後処理をした後真空蒸留するとbpH2℃
(0,5朋Hg)の留分よりトランスーデヒドロネロリ
ドール1280?を収率83%で得た。
0fを金属ナトリウム1762の存在下にエチニル化反
応を行ない、後処理をした後真空蒸留するとbpH2℃
(0,5朋Hg)の留分よりトランスーデヒドロネロリ
ドール1280?を収率83%で得た。
このものの屈折率は1’LD−1,4771であり、そ
の核磁気共鳴スペクトルは第3図に示した。
の核磁気共鳴スペクトルは第3図に示した。
次にトランスーデヒドロネロリドール100OS’のn
−ヘキサン2000mA溶液中にキノリンo、 s m
l及び0.25%pct−リンドラー触媒15グを加え
て常温・常圧下にて水添する。
−ヘキサン2000mA溶液中にキノリンo、 s m
l及び0.25%pct−リンドラー触媒15グを加え
て常温・常圧下にて水添する。
後処理をした後高真空蒸留を行なうとbp107〜11
0°C(0,5關Hg )の留分よりトランスーネロリ
ドール980?を得た。
0°C(0,5關Hg )の留分よりトランスーネロリ
ドール980?を得た。
このものの屈折率はn碧−1,4754であり、その核
磁気共鳴スペクトルは第4図に示した。
磁気共鳴スペクトルは第4図に示した。
参考例 3
A、0fner らがHe1v 、 Chi m、Ac
ta 0.42.2577〜2584(1959)に報
告している方法によりシス−又はトランス−ゲラニルア
セトンよりそれぞれ、シス−又はトランスーネロリドー
ルを得た。
ta 0.42.2577〜2584(1959)に報
告している方法によりシス−又はトランス−ゲラニルア
セトンよりそれぞれ、シス−又はトランスーネロリドー
ルを得た。
即ち420rnlのテトラヒドロフラン中に、新しく調
整した金属マグネシウム粉12.52を入れておき60
2の臭化ビニルを水冷下に滴下してグリニヤール試薬を
形成させ、更にシス−ゲラニルアセトン又はトランス−
ゲラニルアセトン50Pを25℃にて滴下する。
整した金属マグネシウム粉12.52を入れておき60
2の臭化ビニルを水冷下に滴下してグリニヤール試薬を
形成させ、更にシス−ゲラニルアセトン又はトランス−
ゲラニルアセトン50Pを25℃にて滴下する。
反応液は塩化アンモニウム水溶液にて中和し、エーテル
抽出する。
抽出する。
ボウ硝にて乾燥後溶媒を減圧下に留去し、残分を真空蒸
留するとシス−ゲラニルアセトンよりシスネロリドール
が収率82%で得られ、トランス−ゲラニルアセトンよ
りトランスーネロリドールが収率84%で得られた。
留するとシス−ゲラニルアセトンよりシスネロリドール
が収率82%で得られ、トランス−ゲラニルアセトンよ
りトランスーネロリドールが収率84%で得られた。
生成物は参考例1.2の方法で得た標準物質により確認
した。
した。
実施例 1
オルト酢酸エチル6481及びトランスーネロリドール
440v及びイソ酪酸22♂の混合物を2J−三つロフ
ラスコに入れて150〜160℃に加熱する。
440v及びイソ酪酸22♂の混合物を2J−三つロフ
ラスコに入れて150〜160℃に加熱する。
反応は急激なエタノールの副生を伴うのでそれを常時反
応系外に留去しなげればならない。
応系外に留去しなげればならない。
反応経過はガスクロマトグラフィーにて解析し、原料ア
ルコールの消失するをもって終了とする。
ルコールの消失するをもって終了とする。
反応速度を更に速める場合はイノ酪酸を追加してやれば
よい。
よい。
反応はトランス−ネロリドールの転化率95%以上、△
8−トランス、△4−シス、トランス混合ファルネシル
酢酸エチルの選択率98%以上で進行する。
8−トランス、△4−シス、トランス混合ファルネシル
酢酸エチルの選択率98%以上で進行する。
反応後は後処理をせず、そのまま真空蒸留するとbp1
48〜152℃(0,4mmHg )の留分から目的の
生成物533グを純粋に得た。
48〜152℃(0,4mmHg )の留分から目的の
生成物533グを純粋に得た。
尚このものの△4一位のシス一対トランスの比率は40
対60であった。
対60であった。
次にこれを理論段数40段以上の精密蒸留塔を使用し、
還流比io〜20にて蒸留を行なうとbp126〜12
8℃(0,1〜間Hg )の留分より△8−トランス、
△4−シスーファルネシル酢酸エチル891を得た。
還流比io〜20にて蒸留を行なうとbp126〜12
8℃(0,1〜間Hg )の留分より△8−トランス、
△4−シスーファルネシル酢酸エチル891を得た。
このものの屈折率はrJ)=1.4708であり、その
核磁気共鳴スペクトルを第5図に示した。
核磁気共鳴スペクトルを第5図に示した。
またbp130〜132(0,1miHg )の留分か
らは△8−トランス、△4−トランスーファルネシル酢
酸エチル198zを得た。
らは△8−トランス、△4−トランスーファルネシル酢
酸エチル198zを得た。
このものの屈折率はnD=1.4708であり、その核
磁気共鳴スペクトルを第6図に示した。
磁気共鳴スペクトルを第6図に示した。
これらの化合物はいずれもマスベクトルにおいて〔M〕
モト−92を示した。
モト−92を示した。
実施例 2
実施例1と同様にオルト酢酸エチル4241及びシスー
ネロリドール314?及びイソ酪酸5.2?を150〜
160°Cに加熱してエタノールを系外に出しながら4
時間反応を行なう。
ネロリドール314?及びイソ酪酸5.2?を150〜
160°Cに加熱してエタノールを系外に出しながら4
時間反応を行なう。
触媒のイソ酪酸も反応系外に出る為、時々追加する。
原料の消失をガスクロマトグラフィーにて確認した後、
真空蒸留により△8−シス、△4−シス、トランス混合
ファルネシル酢酸エチルをbp143〜148 (0,
4mmHg ) (7)留分1344s’得た。
真空蒸留により△8−シス、△4−シス、トランス混合
ファルネシル酢酸エチルをbp143〜148 (0,
4mmHg ) (7)留分1344s’得た。
このものの△4一位のシス対トランスの比率は約40対
60であった。
60であった。
更にこれを理論段数40段以上の精密蒸留塔を用いて蒸
留するとbp142〜144°C(0,4關Hg)の留
分より△8−シス、△4−シスーファルネシル酢酸エチ
ル42?を得た。
留するとbp142〜144°C(0,4關Hg)の留
分より△8−シス、△4−シスーファルネシル酢酸エチ
ル42?を得た。
このものの屈折率はnp=1.4703であり、その核
磁気共鳴スペクトルは第7図に示した。
磁気共鳴スペクトルは第7図に示した。
またbp146〜148℃(0,4關Hg )の留分よ
り△8−シス、△4−トランス−ファルネシル酢酸エチ
ル128zを得た。
り△8−シス、△4−トランス−ファルネシル酢酸エチ
ル128zを得た。
このものの屈折率はrJ)=1.4708であり、その
核磁気共鳴スペクトルは第8図に示した。
核磁気共鳴スペクトルは第8図に示した。
これらの化合物はいずれもマススペクトルにおいて(M
)+−292を示した。
)+−292を示した。
実施例 3
実施例1と同様にオルト酢酸−n−ブチル5921及び
シスーネロリドール220?及びハイドロキノンllf
の混合物を160〜165℃に加熱して留出するn−ブ
タノールを反応系外に追出しながら6時間反応する。
シスーネロリドール220?及びハイドロキノンllf
の混合物を160〜165℃に加熱して留出するn−ブ
タノールを反応系外に追出しながら6時間反応する。
反応液をそのまま真空蒸留するとbp134〜138℃
(0,3關Hg)ノ留分ヨリ△8−シス、△4−シシス
対トランス混ファルネシル酢酸n−ブチル296zを得
た。
(0,3關Hg)ノ留分ヨリ△8−シス、△4−シシス
対トランス混ファルネシル酢酸n−ブチル296zを得
た。
次にこれを精密蒸留することによりbp133〜135
℃(0,3mmHg )の留分より△6−シス、△4−
シスーファルネシル酢酸n−7”チル上4フ1得た。
℃(0,3mmHg )の留分より△6−シス、△4−
シスーファルネシル酢酸n−7”チル上4フ1得た。
このものの屈折率はnD=1.4695であり、その核
磁気共鳴スペクトルは第9図に示した。
磁気共鳴スペクトルは第9図に示した。
またbp135〜138°c (0,2mmHg )の
留分より△8−シス、Δ4−トランス・ファルネシル酢
酸n−ブチルを141r得た。
留分より△8−シス、Δ4−トランス・ファルネシル酢
酸n−ブチルを141r得た。
このものの屈折率はnl)=1.4698であり、その
核磁気共鳴スペクトルは第10図に示した。
核磁気共鳴スペクトルは第10図に示した。
実施例 4
G、Pa1a等がHe1v 、Chi m 、 Act
a 、、53.1827〜1832(1970)に報告
している方法に従い、トランスーネロリドール6661
及びジエチルエーテル2000m1及びピリジン20m
1溶液を−5〜−10℃に冷却しておきこれに三臭化リ
ン300S’のジエチルエーテル500m1溶液を同温
度でゆっくり滴下する。
a 、、53.1827〜1832(1970)に報告
している方法に従い、トランスーネロリドール6661
及びジエチルエーテル2000m1及びピリジン20m
1溶液を−5〜−10℃に冷却しておきこれに三臭化リ
ン300S’のジエチルエーテル500m1溶液を同温
度でゆっくり滴下する。
滴下後さらに12時間同温度で攪拌して反応を終了する
。
。
反応液は水にあけて炭酸水素ナトリウムにて中和する。
エーテル層を水洗した後、ボウ硝にて乾燥する。
溶媒を室温にて減圧留去すると赤黄色の刺激臭を示す臭
化ファルネシルが76oz得られた。
化ファルネシルが76oz得られた。
このものは比較的不安定な為、更に精製することなく、
そのまま使用するか冷所に保存しておかなければならな
い。
そのまま使用するか冷所に保存しておかなければならな
い。
次に上記臭化ファルネシル5012とマロン酸ジエチル
285zを金属ナトリウム37.1Pf7)存在下に1
5001rLlのエタノール中で縮合反応を行った。
285zを金属ナトリウム37.1Pf7)存在下に1
5001rLlのエタノール中で縮合反応を行った。
反応液を水にあげてエーテル抽出しボウ硝にて乾燥後溶
媒を留去して残分を真空蒸留するとbp158〜160
℃(0,2關Hg )の留分よりファルネシルマロン酸
ジエチル378グ得た。
媒を留去して残分を真空蒸留するとbp158〜160
℃(0,2關Hg )の留分よりファルネシルマロン酸
ジエチル378グ得た。
これを更に10100Oエタノール中204S’の水酸
化カリウムを用いてケン化・脱炭酸し、塩酸水溶液にて
中和後エーテル抽出を行なう。
化カリウムを用いてケン化・脱炭酸し、塩酸水溶液にて
中和後エーテル抽出を行なう。
溶媒を除去した後、残分を真空蒸留するとbp147〜
150℃(0−2mmHg )の留分より△8−トラン
ス、△4−シス、トランス混合ファルネシル酢酸が21
82得られた。
150℃(0−2mmHg )の留分より△8−トラン
ス、△4−シス、トランス混合ファルネシル酢酸が21
82得られた。
更にこれを理論段数40段以上の精密蒸留塔により分留
するとbp146〜147℃(0,2mmHg )の留
分より△8−トランス、△4−シスファルネシル酢酸3
3 ’ft 及D”bp 147〜149℃(0,2關
Hg)の留分より△8−トランス△4−トランスファル
ネシル酢酸87グを得た。
するとbp146〜147℃(0,2mmHg )の留
分より△8−トランス、△4−シスファルネシル酢酸3
3 ’ft 及D”bp 147〜149℃(0,2關
Hg)の留分より△8−トランス△4−トランスファル
ネシル酢酸87グを得た。
実施例 5〜8
実施例1.2の方法で得られた△8−シス△4シス又は
△8−シス△4−トランス、又は△8トランス、△4−
シス又は△8−トランス、△4トランスファルネシル酢
酸エチルに対し、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム
を0.1〜10モル%加えてトルエン又はキシレン溶媒
中1.5〜2倍モルのゲラニオールと伴に加熱してエス
テル交換反応を行った。
△8−シス△4−トランス、又は△8トランス、△4−
シス又は△8−トランス、△4トランスファルネシル酢
酸エチルに対し、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム
を0.1〜10モル%加えてトルエン又はキシレン溶媒
中1.5〜2倍モルのゲラニオールと伴に加熱してエス
テル交換反応を行った。
反応後溶媒を除去して、残分を高真空蒸留することによ
り、それぞれ立体保持されたファルネシル酢酸のゲラニ
オールエステルを収率75〜85%で得た。
り、それぞれ立体保持されたファルネシル酢酸のゲラニ
オールエステルを収率75〜85%で得た。
結果は表1に示した。尚これらはG、Pa1a等がHe
1v 、Chi m、Acta 、、53.1827〜
1832 (1970)に報告している結果と一致して
いる。
1v 、Chi m、Acta 、、53.1827〜
1832 (1970)に報告している結果と一致して
いる。
第1図はシスーデヒドロネロリトールの四塩化炭素溶液
における核磁気共鳴スペクトルである。 第2図はシスーネロリトールの四塩化炭素溶液における
核磁気共鳴スペクトルである。 第3図はトランスーデヒドロネロリドールの四塩化炭素
溶液における核磁気共鳴スペクトルである。 第4図はトランスーネロリドールの四塩化炭素溶液にお
ける核磁気共鳴スペクトルである。 第5図は△8−トランス△4−7スーフアルネシル酢酸
エチルの四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペクトル
である。 第6図は△8−トランス△4−トランス・ファルネシル
酢酸エチルの四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペク
トルである。 第7図は△8シス△4−シスファルネシル酢酸エチルの
四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペクトルである。 第8図は△8−シス△4−トランス・ファルネシル酢酸
エチルの四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペクトル
である。 第9図は△8−シスー△4−シスーファルネシル酢酸n
−ブチルの四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペクト
ルである。 第10図は△8−シス△4−トランス・ファルネシル酢
酸n−ブチルの四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペ
クトルである。 第11図は△8−シス△4−シス・7アルネシル酢酸ケ
ラニオールエステルの赤外線吸収スペクトルであり、第
12図はその四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペク
トルである。 第13図は△3−ンス△4−トランス・ファルネシル酢
酸ゲラニオールエステルの赤外線吸収スペクトルであり
、第14図は、その四塩化炭素溶液における核磁気共鳴
スペクトルである。 第15図は△8−トランス△4−シス−ファルネシル酢
酸ゲラニオールエステルの赤外線吸収スペクトルであり
、第16図はその四塩化炭素溶液における核磁気共鳴ス
ペクトルである。 第17図は△−トランスΔ−トランス・ファルネシル酢
酸ゲラニオールエステルの赤外線吸収スペクトルであり
、第18図はその四塩化炭素溶液における核磁気共鳴ス
ペクトルである。
における核磁気共鳴スペクトルである。 第2図はシスーネロリトールの四塩化炭素溶液における
核磁気共鳴スペクトルである。 第3図はトランスーデヒドロネロリドールの四塩化炭素
溶液における核磁気共鳴スペクトルである。 第4図はトランスーネロリドールの四塩化炭素溶液にお
ける核磁気共鳴スペクトルである。 第5図は△8−トランス△4−7スーフアルネシル酢酸
エチルの四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペクトル
である。 第6図は△8−トランス△4−トランス・ファルネシル
酢酸エチルの四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペク
トルである。 第7図は△8シス△4−シスファルネシル酢酸エチルの
四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペクトルである。 第8図は△8−シス△4−トランス・ファルネシル酢酸
エチルの四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペクトル
である。 第9図は△8−シスー△4−シスーファルネシル酢酸n
−ブチルの四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペクト
ルである。 第10図は△8−シス△4−トランス・ファルネシル酢
酸n−ブチルの四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペ
クトルである。 第11図は△8−シス△4−シス・7アルネシル酢酸ケ
ラニオールエステルの赤外線吸収スペクトルであり、第
12図はその四塩化炭素溶液における核磁気共鳴スペク
トルである。 第13図は△3−ンス△4−トランス・ファルネシル酢
酸ゲラニオールエステルの赤外線吸収スペクトルであり
、第14図は、その四塩化炭素溶液における核磁気共鳴
スペクトルである。 第15図は△8−トランス△4−シス−ファルネシル酢
酸ゲラニオールエステルの赤外線吸収スペクトルであり
、第16図はその四塩化炭素溶液における核磁気共鳴ス
ペクトルである。 第17図は△−トランスΔ−トランス・ファルネシル酢
酸ゲラニオールエステルの赤外線吸収スペクトルであり
、第18図はその四塩化炭素溶液における核磁気共鳴ス
ペクトルである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中R1は水素原子または炭素数6以下の低級アルキ
ル基、シクロアルキル基、低級アルケニル基もしくはシ
クロアルケニル基を示す。 〕で表わされる△8−シス、△4−ンス、トランス混合
ファルネシル酢酸もしくはそのエステルまたは△8−ト
ランス、△4−シス、トランス混合ファルネシル酢酸も
しくはそのエステルを精留塔を用いて減圧下に蒸留分離
することにより△8−シス、△4−シスーおよび△8−
シス、△’、 −4ランスーフアルネンル酢酸もしく
はそのエステルまタハ△8−トランス、△4−シスーお
よび△8−トランス、△4−トランスーファルネシル酢
酸モしくはそのエステルをそれぞれ単一物質として得ル
コトヲ特徴とする、立体規制されたファルネシル酢酸ま
たはそのエステル類の製造方法。 2 一般式 〔式中R1は水素原子または炭素数6以下の低級アルキ
ル基、シクロアルキル基、低級アルケニル基もしくはシ
クロアルケニル基を示す。 〕で表ワされる△8−シス、△4−シス、トランス混合
ファルネシル酢酸もしくはそのエステルまたは△8−ト
ランス、△4−ンス、トランス混合ファルネシル酢酸も
しくはそのエステルを精留塔を用いて減圧下に蒸留分離
することにより△8−シス、△4−シスーおヨヒ△8−
シス、△’、 −トーyンスーファルネシル酢酸もし
くはそのエステルまt、=ハt! −トランス、△4
−シスーおヨヒ△8トランス、△4−トランス−ファル
ネシル酢酸もしくはそのエステルをそれぞれ単一物質と
して得、これを立体保持したままエステル化もしくはエ
ステル交換反応させることを特徴とする一般式〔式中R
3は式(1a)中のR1とは異なり、かつアルキル基、
シクロアルキル基、アルケニル基シクロアルケニル基、
アリール基またはプロパルギル基を示す。 〕で表わされる立体規制されたファルネシル酢酸エステ
ルの製造方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP49100632A JPS5826328B2 (ja) | 1974-09-02 | 1974-09-02 | リツタイキセイサレタ フアルネシルサクサン マタハ ソノエステル ノ セイゾウホウホウ |
US05/605,455 US4028385A (en) | 1974-09-02 | 1975-08-18 | Process for preparing stereospecific farnesylacetic acid and ester thereof |
GB34559/75A GB1514292A (en) | 1974-09-02 | 1975-08-20 | Process for preparing stereospecific farnesylacetic acid and ester thereof |
FR7526705A FR2302996A1 (fr) | 1974-09-02 | 1975-08-29 | Procede pour preparer des isomeres stereospecifiques de l'acide farnesylacetique, de ses esters et de leurs derives |
DE2538532A DE2538532C2 (de) | 1974-09-02 | 1975-08-29 | Verfahren zur Abtrennung von stereospezifischer Farnesylessigsäure oder deren Ester aus stereoisomeren Mischungen |
IT26780/75A IT1044026B (it) | 1974-09-02 | 1975-09-01 | Procedimento per la preparazione di acido farnesilacetico stereo specifico e sudo esteri |
US05/778,730 US4105700A (en) | 1974-09-02 | 1977-03-17 | Process for preparing stereospecific nerolidol and ester thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP49100632A JPS5826328B2 (ja) | 1974-09-02 | 1974-09-02 | リツタイキセイサレタ フアルネシルサクサン マタハ ソノエステル ノ セイゾウホウホウ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5129435A JPS5129435A (en) | 1976-03-12 |
JPS5826328B2 true JPS5826328B2 (ja) | 1983-06-02 |
Family
ID=14279199
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP49100632A Expired JPS5826328B2 (ja) | 1974-09-02 | 1974-09-02 | リツタイキセイサレタ フアルネシルサクサン マタハ ソノエステル ノ セイゾウホウホウ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5826328B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019244857A1 (ja) | 2018-06-19 | 2019-12-26 | 帝人株式会社 | 複合材料の製造方法および複合材料の目付斑の検査方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59230246A (ja) * | 1983-06-14 | 1984-12-24 | Shimadzu Corp | 四重極形質量分析装置 |
WO2014178256A1 (ja) | 2013-05-01 | 2014-11-06 | 株式会社ファルネックス | 癒着防止剤 |
-
1974
- 1974-09-02 JP JP49100632A patent/JPS5826328B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019244857A1 (ja) | 2018-06-19 | 2019-12-26 | 帝人株式会社 | 複合材料の製造方法および複合材料の目付斑の検査方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5129435A (en) | 1976-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4260830A (en) | Process for the preparation of methyl dihydrojasmonate and lower alkyl homologues | |
JPS5826331B2 (ja) | 立体規制されたファルネシル酢酸エステルの製造方法 | |
US4028385A (en) | Process for preparing stereospecific farnesylacetic acid and ester thereof | |
JP3053872B2 (ja) | (+)−(1r)−シス−3−オキソ−2−ペンチル−1−シクロペンタン酢酸の製造法 | |
EP0033604A1 (en) | Process for the preparation of methyl dihydrojasmonate and homologues | |
EP0761629A1 (de) | Offenkettige olefinisch ungesättigte Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Riechstoffe | |
JPS5826330B2 (ja) | 立体規制されたファルネシル酢酸エステルの製造方法 | |
JPS5826328B2 (ja) | リツタイキセイサレタ フアルネシルサクサン マタハ ソノエステル ノ セイゾウホウホウ | |
CN109956850B (zh) | 3,7-二甲基-7-辛烯醇和3,7-二甲基-7-辛烯基羧酸酯化合物的生产方法 | |
JPS5820948B2 (ja) | デルタ 4 ,デルタ 8− トランスフアルネシルサクサン マタハ ソノエステルルイ ノ セイゾウホウ | |
JPS5922688B2 (ja) | 不飽和炭化水素の製造方法 | |
JPH029857A (ja) | ハロスルホンの製造方法 | |
US4105700A (en) | Process for preparing stereospecific nerolidol and ester thereof | |
CN106045831A (zh) | 一种假性甲基紫罗兰酮的绿色合成方法 | |
Rojo et al. | Chemical synthesis and spectroscopic characteristics of C18 1, 2-disubstituted cyclopentyl fatty acid methyl esters | |
JP2771866B2 (ja) | 不飽和テルペン類の製造方法 | |
JPS5855129B2 (ja) | 2−置換または無置換のゲラニル酢酸エステル類の製造方法 | |
JP3254745B2 (ja) | ジオール化合物およびその製造法 | |
JPS61118359A (ja) | β−ダマスセノンの製造法 | |
JPS5822457B2 (ja) | デルタ 4 ,デルタ 8− トランスフアルネシルサクサン マタハ ソノエステルルイ ノ セイゾウホウホウ | |
JP3396097B2 (ja) | 4−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体の製法 | |
JP2002069026A (ja) | (e)−3−メチル−2−シクロペンタデセノンの製造法 | |
US4341910A (en) | Preparation of unsaturated alcohols | |
JPH0641440B2 (ja) | トランス−β−ベンゾイルアクリル酸エステルの製造法 | |
JPS6042775B2 (ja) | 1,7−オクタジエン−3−オン及びその製造方法 |