JPH11330603A - 固体レーザ装置及びそれを備えた固体レーザ増幅器 - Google Patents
固体レーザ装置及びそれを備えた固体レーザ増幅器Info
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Abstract
及びそれを備えた固体レーザ増幅器を提供する。 【解決手段】 基板2上にれ第1の端面1aに励起光が
照射されると第2の端面1bからレーザ光を発振するレ
ーザ結晶1が形成されている。また、前記励起光を発光
する励起光発光手段5が設けられており、励起光発光手
段5により発光された励起光6が入射する第1の端部を
有する導波路3が基板2上に形成されている。前記第1
の端部に入射した励起光6は導波路3を伝播し、第1の
端面1aに対向する第2の端部から出射される。
Description
用される固体レーザ装置及びそれを備えた固体レーザ増
幅器に関し、特に、小型化を図った固体レーザ装置及び
それを備えた固体レーザ増幅器に関する。
所謂半導体レーザ励起固体レーザ装置(LD励起固体レ
ーザ装置)は長寿命、高効率かつ高輝度という産業現場
で使用されるに望ましい特性を有するため、近時、活発
に研究開発されている。特に、LD励起Nd:YAGレ
ーザの出力は、市販品では10Wクラス、研究段階では
kWクラスまで開発が進められている。
ーザ結晶を使うことにより、固体レーザ装置の出力を極
めて小さい体積内に具備させることが可能であり、レー
ザヘッドサイズの小型化の研究が注目されている。この
ような固体レーザ装置として、例えば、マイクロチップ
型固体レーザ装置と呼ばれているものがある。図8は従
来のマイクロチップ型固体レーザ装置を示す模式図であ
る。従来のマイクロチップ型固体レーザ装置において
は、厚さが数100μm程度、一般的には、その吸収係
数の逆数である吸収長の1乃至2倍程度のレーザ結晶1
01の一方の端面102に全反射コーティングが施さ
れ、他方の端面103に部分反射コーティングが施され
ている。なお、全反射コーティングが施された端面10
2にレーザ結晶101の内側から入射したレーザ光は全
反射されるが、レーザ結晶101の外側から入射した励
起光は反射されずに透過する。また、部分反射コーティ
ングが施された端面103にレーザ結晶101の内側か
ら入射した光については、その一部は反射され、他の一
部は反射されずに透過する。更に、レーザ結晶101の
端面102側には、集光レンズ104及びコリメートレ
ンズ105が端面102と平行に配置されている。ま
た、集光レンズ104とコリメートレンズ105を挟む
位置に半導体レーザ106が配設されており、半導体レ
ーザ106の発光部106aから励起レーザ光107が
コリメートレンズ105に発光される。
体レーザ装置においては、半導体レーザ106の発光部
106aから発光され発散角を有する励起レーザ光10
7がコリメートレンズ105で平行光線とされる。次い
で、平行光線とされた励起レーザ光107が集光レンズ
104により屈折されて端面102上にその焦点が形成
される。そして、端面102に入射された光によりレー
ザ結晶101が励起され端面102と端面103との間
で光が反射されながら共振器内循環光107aを形成し
レーザ発振光109が端面103から出射される。
YVO4結晶、Nd:YAG結晶及びYb:YAG結
晶)の吸収係数及び吸収長を下記表1に示す。
用のレーザ結晶としてよく使用されているものは、Nd
系では格段に大きな吸収係数を有するNd:YVO4で
ある。また、準3準位エネルギー構造を有するYb:Y
AGも、マイクロチップ化することは可能である。マイ
クロチップ型構造とすることにより、固体レーザ結晶及
びそれを挟む反射鏡から構成されるレーザ共振器と固体
レーザ結晶とを一体化できるため、小型で機械振動及び
熱変動に高い耐性を有する固体レーザ装置を実現するこ
とが可能である。例えば、図8に示す構造を有しレーザ
結晶101にNd:YVO4結晶が使用された固体レー
ザ装置が「1991年 オプティクス・レターズ 第2
4巻、1955ページ(Optics Letters, vol.24, p.19
55, 1991)」に記載されている。この文献に記載された
固体レーザ装置のレーザ結晶として使用されたNd:Y
VO4結晶の厚さは500μmであり、500mW出力
の半導体レーザ(波長809nm)により励起されて、
160mWのレーザ出力(波長1064nm)が得られ
ている。なお、このとき励起光学系には、コリメートレ
ンズと集光レンズとを兼用する1枚の焦点距離4.5m
mのレンズが使用されている。また、部分反射鏡の反射
率はレーザ発振波長に対し99%である。
レーザ装置では、図8に示すように励起レーザ光107
をレーザ結晶101に導入する励起光学系に微小化に限
度がある光学素子(レンズ、ミラー及びプリズム等)を
使用する例が多い。このため、従来、マイクロチップ型
固体レーザ装置においても、レーザ結晶を薄型化できて
も、励起光学系及びLDを含むレーザヘッド全体に関し
ては、必ずしも小型とはいえない。このような、マクロ
光学素子を具備する励起光学系では、各々の光学素子を
光軸上の精確な位置に調整したのちに堅固に保持する必
要がある。また、励起光の伝播距離が大きいことと、一
体型ではないためレーザ結晶と空間的に分離しているこ
との2点から、温度変化による筐体の熱膨張及び機械的
振動等の影響により、半導体レーザの集光位置変動ひい
てはレーザ出力の変動を来すという問題点がある。
しない固体レーザ装置が「1992年 オプティクス・
レターズ 第17巻、1201ページ(Optics Letter
s, vol.17, p.1201, 1992)」に提案されている。図9
は「1992年 オプティクス・レターズ 第17巻、
1201ページ」に記載された従来の固体レーザ装置を
示す模式図である。この従来の固体レーザ装置において
は、レーザ結晶111の一方の端面に部分透過鏡112
aが配設され、他方の端面に全反射鏡113が配設され
ている。更に、部分反射鏡112aには、Qスイッチ素
子120が連結されており、Qスイッチ素子120の他
方の端面には部分透過鏡112bが配設されている。ま
た、Qスイッチ素子120には、電源電圧が印加される
電極120a及び接地される電極が設けられている。そ
して、レーザ結晶111の全反射鏡113が配設された
端面側に半導体レーザ116が配設されている。
レンズ等の励起光学系が設けられていないので、前述の
従来の固体レーザ装置より微小化は可能であるが、励起
レーザ光117の発散角が大きいため、半導体レーザ1
16とレーザ結晶111とを近接して配置する必要があ
る。従って、複数の励起用の半導体レーザを結合するの
ことは困難で高出力化が阻害される。
ン・レーザーズ・アンド・エレクトロオプティクス、1
76ページ(CLEO, p.176, paper CWC6,1995)」にマル
チモードファイバにより励起レーザ光が伝播される固体
レーザ装置が記載されている。図10は「1995年
コンファレンス・オン・レーザーズ・アンド・エレクト
ロオプティクス、176ページ(CLEO, p.176, paper C
WC6,1995)」に記載された従来の固体レーザ装置を示す
模式図である。この従来の固体レーザ装置には、上述の
半導体レーザ116の替わりにマルチモードの光ファイ
バ116aが配設されている。更に、図示されていない
が光ファイバ116aの他端には半導体レーザから励起
レーザ光が入射される。
装され、パルス動作マイクロチップレーザが実現されて
いるが、半導体レーザを含むレーザ・ヘッドは必ずしも
小型でない。
置が「1996年 コンファレンス・オン・レーザーズ
・アンド・エレクトロオプティクス、236ページ(CL
EO,p.236, paper CWA6,1996)」に記載されている。図
11は「1996年 コンファレンス・オン・レーザー
ズ・アンド・エレクトロオプティクス、236ページ
(CLEO, p.236, paper CWA6,1996)」に記載された従来
の固体レーザ装置を示す模式図である。この従来の固体
レーザ装置においては、光ファイバ135にNd:YA
G結晶からなるレーザ結晶131が連結され、レーザ結
晶131にはKTP結晶132がQスイッチ素子である
Cr:YAG結晶133を介して連結されている。更
に、KTP結晶132に第4高調波発生素子134が連
結されており、第4高調波素子134と所定の間隔をあ
けて窓136が設けられている。
ス)の開発の進展と共に、励起光学系にレンズアレイ又
はプリズムアレイを使用した例もある(「1996年
アプライド・オプティクス 第35巻 1430ページ
(Applied Optics vol.35, p.1430, 1996)」)。図1
2は「1996年 アプライド・オプティクス 第35
巻 1430ページ(Applied Optics vol.35, p.1430,
1996)」に記載された従来の固体レーザ装置を示す模
式図である。この従来の固体レーザ装置においては、両
端面に反射鏡が配設されたロッド型のレーザ結晶141
の一方の端面側に集光レンズ144、シリンドリカルレ
ンズ145、回転プリズムアレイ148、シリンドリカ
ルレンズアレイ147及び複数個の素子からなる半導体
レーザ・バー146がレーザ結晶141側から順に並設
されている。更に、レーザ結晶141の他方の端面側に
は、Qスイッチ149及び出力鏡150が集光レンズ1
44等と同一直線上に順に配設されている。
導体レーザ・バー146の素子毎に回転プリズムアレイ
148の回転プリズムが回転し、集光レンズ144によ
り励起レーザ光の焦点がNd:YAG結晶からなるレー
ザ結晶141の端面に合わせられる。そして、レーザ結
晶141が励起される。
ップス アドバンスト・ソリッド・ステート・レーザー
ズ 第10巻390頁(OSA TOPS vol.10 Advanced Sol
id-State Lasers,1997,p.390)」には、マイクロステッ
プミラーを使用した励起光学系の例が掲載されている。
図13は「1997年オー・エス・エー・トップスアド
バンスト・ソリッド・ステート・レーザーズ 第10巻
390頁(OSA TOPSvol.10 Advanced Solid-State Lase
rs,1997,p.390)」に記載された固体レーザ装置を示す
模式図である。この従来の固体レーザ装置には、レーザ
の進行方向に対して傾斜する鏡面を有する一対の鏡から
なるマイクロステップミラー151が設けられている。
このマイクロステップミラー151に照射された半導体
レーザバー・ビーム152は一方の鏡で反射されて他方
の鏡に照射される。更に、他方の鏡に照射された光はこ
の鏡により反射される。この結果、半導体レーザバー・
ビーム152から90度回転した励起光群153がマイ
クロステップミラー151から出射される。
の従来の固体レーザ装置によれば、レンズ等の光学素子
は不要となるが、損失が大きく動作の安定性は十分では
ないという問題点がある。
のであって、小型で安定性が高く高出力の固体レーザ装
置及びそれを備えた固体レーザ増幅器を提供することを
目的とする。
装置は、基板と、この基板上に形成され第1の端面に励
起光が照射されると第2の端面からレーザ光を発振する
レーザ結晶と、前記励起光を発光する励起光発光手段
と、前記励起光発光手段により発光された励起光が入射
する第1の端部及び前記第1の端面に対向し前記励起光
が出射される第2の端部を有し前記第1の端部に入射し
た励起光が伝播し前記基板上に形成された導波路とを有
することを特徴とする。
と、この基板上に形成され第1の端面に励起光が照射さ
れると第2の端面からレーザ光を発振するレーザ結晶
と、前記励起光を発光する励起光発光手段と、一方の端
部に前記励起光発光手段により発光された励起光が入射
しこの励起光が伝播する複数個の導波路と、複数個の前
記導波路の他方の各端部を結合し前記第1の端面に対向
し前記励起光が出射される端部を有する合成器とを有す
ることを特徴とする。
発光された励起光が導波路を伝播して第1の端面に出射
される。そして、レーザ結晶により第2の端面からレー
ザ光が発振される。従って、伝播中の損失が少なく、ま
た、レンズ又はプリズム等の光学素子が不要であるの
で、小型化が容易である。
記励起光に励起されたレーザ発振光を全反射する膜によ
り被覆され、前記第2の端面が前記レーザ発振光の一部
を反射する膜により被覆されていてもよい。
ザ光の波長を変換する光学結晶又は疑似位相整合素子を
有し、前記第1の端面は、前記励起光を反射せず前記励
起光に励起されたレーザ発振光を全反射する膜により被
覆されており、前記第2の端面は、前記レーザ発振光の
一部を反射する膜又は前記レーザ発振光を反射しない膜
により被覆されていてもよい。疑似位相整合素子を使用
することにより、より高出力を得ることができる。
光の吸収係数の逆数の1乃至2倍であることが望まし
い。
ンズと、この集光レンズにより集光されたレーザ光が伝
播するシングルモードファイバ又はシングルモード石英
導波路とを有することができる。
と、この基板上に形成され第1の端面に励起光が照射さ
れると第2の端面からレーザ光を発振するレーザ結晶
と、前記励起光を発光する励起光発光手段と、前記励起
光発光手段により発光された励起光が入射する第1の端
部及び前記第1の端面に対向し前記励起光が出射される
第2の端部を有し前記第1の端部に入射した励起光が伝
播し前記基板上に形成された励起光導波路と、前記レー
ザ結晶の利得域内の信号光が伝播しこの信号光が前記第
1の端面に向けて出射される端部を有し前記基板上に形
成された信号光入射導波路と、前記第2の端面から出射
されたレーザ光が入射される端部を有し前記レーザ光が
伝播し前記基板上に形成された信号光出射導波路とを有
し、前記第1の端面及び前記第2の端面は、前記レーザ
利得帯域に対して反射しない膜により被覆されているこ
とを特徴とする。
板と、この基板上に形成され第1の端面に励起光が照射
されると第2の端面からレーザ光を発振するレーザ結晶
と、前記励起光を発光する励起光発光手段と、前記励起
光発光手段により発光された励起光が入射する第1の端
部及び前記第1の端面に対向し前記励起光が出射される
第2の端部を有し前記第1の端部に入射した励起光が伝
播し前記基板上に形成された励起光導波路と、前記レー
ザ結晶の利得域内の信号光が伝播しこの信号光が前記第
2の端面に向けて出射される端部を有し前記基板上に形
成された信号光入射導波路と、前記第2の端面から出射
されたレーザ光が入射される端部を有し前記レーザ光が
伝播し前記基板上に形成された信号光出射導波路とを有
し、前記第1の端面は、前記励起光を反射せず前記レー
ザ利得帯域に対して全反射する膜により被覆されてお
り、前記第2の端面は、前記レーザ利得帯域に対して反
射しない膜により被覆されていることを特徴とする。
播しレーザ結晶の端面に出射された信号光がレーザ結晶
内で増幅され信号光出射導波路に出射される。この場合
にも、損失を少なくすると共に、レンズ等を使用する必
要がないため小型化が容易である。
レーザ装置について、添付の図面を参照して具体的に説
明する。図1は本発明の第1の実施例に係る固体レーザ
装置を示す図であって、(a)は上方から見た模式図、
(b)は側方から見た模式図である。本発明の第1の実
施例においては、基板2上に厚さが数100μm程度の
Nd:YVO4結晶からなるレーザ結晶1が配置されて
いる。基板2は、例えば、シリコン又は石英製である。
なお、基板2の材料は、光通信において励起波長及びレ
ーザ発振波長に対し低損失の導波路を形成することがで
きれば如何なるものでも構わない。そして、レーザ結晶
1の一方の端面1aは全反射多層膜(図示せず)により
被覆されている。ここで、全反射多層膜は、レーザ結晶
1を励起するために外部から照射される励起光は透過し
この励起光に励起されたレーザ光は全反射される多層膜
である。また、レーザ結晶1の他方の端面1bは部分反
射多層膜(図示せず)により被覆されている。ここで、
部分反射多層膜は、励起光に励起されたレーザ光は部分
反射される多層膜である。そして、レーザ結晶1、全反
射多層膜及び部分反射多層膜によりレーザの発振が行わ
れる。つまり、所謂マイクロチップ型固体レーザが構成
されている。
面1aを被覆する全反射多層膜に出射口が近接するマル
チモード導波路3が形成されている。マルチモード導波
路3の幅は、例えば、400乃至1000μmであり、
厚さは5乃至10μm程度である。なお、マルチモード
導波路3の幅は、後述の半導体レーザの発光エリア幅に
より調節されるものである。このマルチモード導波路3
は、例えば、イオン交換、熱拡散又はスパッタリング等
の通常の導波路形成方法により形成される。基板2が石
英製であり、マルチモード導波路3が石英導波路である
場合、屈折率nが1.46、比屈折率差Δが0.35%
であるので、導波路の入射側の開口数(NA)は、NA
=n×(2×Δ)0.5より0.12であり、受光許容角
は14度である。
3に軸方向が延びる方向が直交するシリンドリカルレン
ズ4がマルチモード導波路3の入射口から1.795m
mの間隔をあけて配置されている。シリンドリカルレン
ズ4は、例えば、焦点距離が0.5mm、直径が0.7
3mmの分布屈折率レンズである。なお、非球面レンズ
を、シリンドリカルレンズとして使用することも可能で
ある。
励起光源として基板2の側方にシリンドリカルレンズ4
から0.285mmの間隔をあけて配置されている。な
お、半導体レーザ5の発光部5aはマルチモード導波路
3が延びる方向と同一直線上にある。これにより、半導
体レーザ5とシリンドリカルレンズ4の主点との間の距
離は0.65mmとなり、半導体レーザ5とマルチモー
ド導波路3との間の距離は2.81mmとなる。半導体
レーザ5の出力は4W、一方向の発光エリア幅は500
μm、この方向の発散角は10度、その方向に直交する
方向の発光エリア幅は1μm、この方向の発散角は40
度である。
方(発光エリア幅500μm)をスロー軸、大きい方
(発光エリア幅1μm)をファースト軸という。本実施
例に使用される4W出力の半導体レーザ5の場合、スロ
ー軸のレーザ光発散角は約10度であるため、入射角度
から見れば導波させることができる。一方、ファースト
軸方向の発散角は40度であるが、シリンドリカルレン
ズ4が半導体レーザ5と導波路3との間に配置されてい
るので、ビーム発散角が抑制され高効率に導波可能であ
る。つまり、レーザ光が倍率3.3倍程度に拡大され、
発散角が1/3.3倍に縮小されて許容角内の約12度
となってマルチモード導波路3に入射される。このと
き、半導体レーザ5とマルチモード導波路3との間の距
離は2.81mmであるので、スロー軸は発光エリア幅
から400μm程拡がっているが、マルチモード導波路
3の幅を発光エリア幅と拡がり分との和から900μm
とすることにより、許容角を満たしながら高効率に導波
可能である。
レーザ装置においては、半導体レーザ5の発光部5aか
ら発光された励起レーザ光6がシリンドリカルレンズ4
に入射される。そして、シリンドリカルレンズ4により
励起レーザ光6のファースト軸方向の発散角が、上述の
ように、約12度とされてマルチモード導波路3の入射
口に照射される。次いで、励起レーザ光6はマルチモー
ド導波路3を伝播した後、導波路3の開口数NAで決ま
る発散角(14度)で出射口から出射されて自由空間を
伝播し、出射口に近接しているレーザ結晶1の端面1a
を被覆する全反射多層膜に照射される。
ば、400μmである場合、伝播中の拡がりは400×
2×tan(14/2)°=100μm程度に抑えられ
る。励起レーザ光6のπ偏光成分、σ偏光成分はシング
ルパスで夫々98%、63%吸収される。従って、レー
ザ結晶1の厚さ方向に、長軸の長さが1000μm(励
起光導波路幅+100μm)、短軸の長さが110μm
(励起光導波路厚み+100μm)程度の楕円形又は同
程度の大きさの長方形の励起領域(レーザ利得領域)7
が形成される。そして、励起されたレーザ光は端面1a
と端面1bとの間で発振されながら端面1bからレーザ
発振光8として出射される。このとき、励起密度は3.
6kW/cm2に達し、4準位Nd:YVO4で十分な高
効率動作が実現される。
に設定することにより、レーザ発振光の最低次横モード
発振も可能である。厚さ400μmのNd:YVO4マ
イクロチップ型固体レーザにおいて、出力鏡反射率を9
0%とすることにより、励起出力を4Wとしたとき、レ
ーザ発振光の出力として1.2W(波長1064nm)
が得られた。このため、高い励起密度が得られ、30%
の光効率が実現された。
としてNd:YVO4が使用されたが、本発明はこれに
限定されるものではない。Yb:YAG、Yb:LuA
G等のYb3+を活性イオンとする準3準位レーザ媒質及
びNd:YAG、Tm:YVO4等を使用することも可
能である。更に、これら以外であっても高い吸収係数を
有し、吸収長(吸収係数の逆数)が1mm程度以下にな
るものであれば、レーザ結晶の厚みを数100μm程度
にまで薄型化できるため、使用可能である。
されるものではなく、チタンサファイア・レーザ等の他
のレーザであってもよい。アレイ型半導体レーザ・バー
(出力:20W、発光エリア幅:1cm×1μm、スト
ライプ幅:50乃至200μm、ストライプ数:25乃
至50)を使用してもよい。
ザ発振光が伝播するシングルモード光ファイバ(SM
F)及び端面1bからレーザ発振光をその光ファイバへ
結合させるレンズを配設することも可能である。図2は
本発明の第1の実施例に光ファイバ及び光ファイバ用レ
ンズが組込まれた例を示す模式図である。なお、図2に
示す固体レーザ装置において、図1に示す固体レーザ装
置と同一要素には同一符号を付してその詳細な説明は省
略する。基板2上には、更に、レーザ結晶1の端面1b
を被覆する部分反射多層膜に近接する集光レンズ9が配
置されている。集光レンズ9には、例えば、分布屈折率
型レンズ(所謂GRINレンズ)又は非球面レンズ等が
使用される。更に、集光レンズ9をレーザ結晶1と挟む
ように配置されたフェレール10aが一端に設けられた
シングルモード光ファイバ10が配設されている。な
お、シングルモード光ファイバ10の他端にフェレール
10bが設けられている。
いては、端面1bから発光されたレーザ発振光が集光レ
ンズ9により集光されてフェレール10aに照射され
る。そして、フェレール10aに照射されたレーザ発振
光はシングルモード光ファイバ10中を伝播する。そし
て、フェレール10bからレーザ発振光8aが発光され
る。
わりに、シングルモード石英導波路を配置してもよい。
シングルモード石英導波路を配置した場合、更に付加的
な光制御素子を集積することができる。例えば、音響光
学効果又は電気光学効果を有する光変調導波路等を集積
することにより、単なる連続発振固体レーザ装置ではな
く、振幅又は周波数の変調を付加することが可能な高機
能な固体レーザ装置を実現可能である。
する。本実施例においては、複数個の半導体レーザが配
設されており、それに伴って半導体レーザと同数に分岐
した導波路が基板上に形成されている。図3は本発明の
第2の実施例に係る固体レーザ装置を示す模式図であ
る。なお、図3に示す第2の実施例において、図2に示
す第1の実施例と同一要素には同一符号を付してその詳
細な説明は省略する。本実施例においては、複数個の半
導体レーザ5が励起光源として基板2の側方に配置され
ている。また、レーザ結晶1の端面1aに近接してマル
チモード合成器21が形成されており、マルチモード合
成器21から半導体レーザ5と同数の導波路3aが分岐
している。そして、導波路3aの他端はシリンドリカル
レンズ4を挟んで1個の半導体レーザ5の発光部5aと
対向している。
レーザ装置においては、各半導体レーザ5から発光され
た励起レーザ光6が各導波路3aを伝播した後、マルチ
モード合成器21により合成される。そして、合成され
た励起レーザ光が、第1の実施例と同様にしてレーザ結
晶1に照射される。そして、第1の実施例と同様にして
レーザ発振光8bが発光される。
する。本実施例においては、バルク結晶からなる非線形
光学素子がレーザ結晶の発光端面側に配置されている。
図4は本発明の第3の実施例に係る固体レーザ装置を示
す模式図である。
数100μm程度のNd:YVO4結晶からなるレーザ
結晶31が配置されている。そして、レーザ結晶31の
一方の端面31aは全反射多層膜(図示せず)により被
覆されている。また、バルク結晶からなる非線形光学素
子31bがレーザ結晶31の他方の端面に張り合わされ
るか、又は近接して基板32上に配置されている。非線
形光学素子31bには、レーザ結晶31内で励起された
レーザ光をその第2高調波に変換するSHG(Second-h
armonics generation)素子又は光パラメトリック効果
を発現しシグナル光及びアイドラー光を発生させるOP
O(Optical parametric oscillator)素子等が使用さ
れる。その材料としては、例えば、高い非線形定数を有
するBaB2O4(ホウ酸バリウム)及びLiB3O5(3
ホウ酸リチウム)等が挙げられる。そして、レーザ結晶
31の端面31aと非線形光学素子31bの出射側端面
から共振器が構成される。このようにして、所謂マイク
ロチップ型固体レーザが構成されている。
する全反射多層膜に近接するマルチモード合成器33a
が形成されており、そこから2つに分岐したマルチモー
ド導波路33が形成されている。
路33の端部に軸方向が延びる方向が直交するシリンド
リカルレンズ34がマルチモード導波路33の入射口か
ら所定の間隔をあけて配置されている。
源として基板32の側方にシリンドリカルレンズ34か
ら所定の間隔をあけて配置されている。なお、半導体レ
ーザ35の発光部35aはシリンドリカルレンズ34を
介してマルチモード導波路33の各入射口と対向してい
る。
bに近接する集光レンズ39が配置されている。また、
集光レンズ39をレーザ結晶31と挟むように配置され
たフェレール40aが一端に設けられたシングルモード
光ファイバ40が配設されている。なお、シングルモー
ド光ファイバ40の他端にフェレール40bが設けられ
ている。そして、フェレール40bからレーザ発振光3
8が発振される。
レーザ装置においては、発振波長が変換可能となる。ま
た、内部共振器型波長変換が連続発振動作において採用
され高効率動作が実現される。
結晶31に3mm長程度のBaB2O 4結晶を近接配置
し、第2高調波を発生させた場合、グリーン出力(波長
532nm)として励起パワー4Wにおいて600mW
を安定に得ることができた。
ルク結晶だけではなく、周期的分極反転構造を有する疑
似位相整合型デバイスも使用可能である。図5は非線形
素子として疑似位相整合型デバイスが使用された本発明
の第4の実施例に係る固体レーザ装置を示す模式図であ
る。なお、図5に示す第4の実施例において、図4に示
す第4の実施例と同一要素には同一符号を付してその詳
細な説明は省略する。本実施例においては、非線形素子
として疑似位相整合型デバイス31cがレーザ結晶31
の出射側端面に張り合わされるか、又は近接して基板3
2上に配置されている。疑似位相整合型デバイス31c
には、例えば、所謂周期的分極反転LiNbO3等が使
用される。そして、フェレール40bからレーザ発振光
38aが発振される。
変換可能となると共に、内部共振器型波長変換が連続発
振動作において採用され高効率動作が実現される。
本発明の実施例に係る光励起型の固体レーザ増幅器につ
いて説明する。第5の実施例に係る固体レーザ増幅器に
おいては、マルチモード合成器とレーザ結晶との間に導
波路が設けられており、通常の光ファイバーアンプ等と
同様に、この導波路に増幅される信号光が伝播する信号
光入射用導波路が連結されている。図6は本発明の第5
の実施例に係る固体レーザ増幅器を示す模式図である。
なお、図6に示す第5の実施例において、図5に示す第
4の実施例と同一要素には、同一符号を付してその詳細
な説明は省略する。
て、例えば、Er:ガラスが使用される。また、非線形
素子は配設されておらず、レーザ結晶41の両端面41
a及び41bは無反射膜により被覆されている。ここ
で、無反射膜は励起波長及び信号光の双方に対して無反
射な膜である。そして、一方の端部がマルチモード導波
路33の出射口に連結され他方の端部がレーザ結晶41
に近接する導波路43bに波長多重カプラにより連結さ
れた信号光入射用導波路43aが基板42上に形成され
ている。また、端面41bを被覆する無反射膜に入射口
が近接し端面41bに直交する信号出射用導波路43c
が基板42上でレーザ発振光をうまく取り込める位置に
形成されている。なお、ホスト(図示せず)としてはガ
ラス媒質(シリカ系、リン系)以外にYAG等のガーネ
ット系材料が使用可能である。
ザ増幅器においては、信号光入射用導波路43aを伝播
してレーザ結晶41に入射するレーザ結晶41の利得域
内の信号光46aはレーザ結晶41内で増幅される。そ
して、増幅された信号光46bが信号光出射用導波路4
3cを伝播して出射される。これにより、光通信用の波
長1.55μm帯の光増幅が可能となる。
としては、980nm帯又は1.48μm帯の半導体レ
ーザ等も使用可能である。また、この材料にYb3+を添
加することにより、励起波長域を0.9乃至1.1μm
にわたって広くし、高出力の所謂マルチモード型固体半
導体レーザを励起光源とすることも可能である。
1に直接接続されていてもよい。
ーザ増幅器について説明する。本実施例においては、増
幅される信号光がレーザ結晶の出射側端面に入射され
る。図7は本発明の第6の実施例に係る固体レーザ増幅
器を示す模式図である。なお、図7に示す第6の実施例
において、図6に示す第5の実施例と同一要素には同一
符号を付してその詳細な説明は省略する。レーザ結晶5
1の励起光が入射される側の端面51aは、励起波長に
対して無反射、信号光波長に対して全反射の膜により被
覆されており、信号光が出射される側の端面51bは夫
々波長に対して無反射の膜により被覆されている。ま
た、信号光入射用導波路53bがレーザ結晶51に対し
て信号光出射用導波路53cと同じ側の基板42上に形
成されている。
ザ増幅器においては、励起レーザ光を出射する半導体レ
ーザにより形成された高利得部にレーザ結晶51の利得
域内の入射信号光56aが2度通過して出射信号光56
bが出射されるので、高い実効利得が得られる。
信号光に波長フィルタリング又はスイッチング処理を施
すような機能を有する導波路素子を集積することは可能
である。
レーザ装置よれば、励起光学系サイズを大幅に縮小する
ことが可能で、固体レーザ装置のレーザヘッドのサイズ
を小型化することができる。また、励起光学系とレーザ
結晶を同一基板上に集積して配置できるため、温度変
化、機械振動に対して出力変動の少ない信頼性の高い固
体レーザ光源を提供することができる。
調、波長フィルタ、光スイッチ等)を持たせることが可
能であるため、高機能光素子を集積化することにより、
より小型で高機能なレーザ光源を得ることができる。
れば、増幅作用を有するアクティブ素子と光制御機能を
有するパッシブ素子とを同一基板上に作製できるため、
光通信用及び光情報処理等の応用において、小型で高機
能なレーザ増幅器を提供することができる。そして、半
導体産業での一括製膜プロセス技術及び光産業における
セルフアライン技術を本発明の固体レーザ装置作製に適
用することも可能で、コストを低減することができる。
示す模式図である。
イバ用レンズが組込まれた例を示す模式図である。
示す模式図である。
示す模式図である。
用された本発明の第4の実施例に係る固体レーザ装置を
示す模式図である。
を示す模式図である。
を示す模式図である。
模式図である。
7巻、1201ページ」に記載された従来の固体レーザ
装置を示す模式図である。
ザーズ・アンド・エレクトロオプティクス、176ペー
ジ(CLEO, p.176, paper CWC6,1995)」に記載された従
来の固体レーザ装置を示す模式図である。
ザーズ・アンド・エレクトロオプティクス、236ペー
ジ(CLEO, p.236, paper CWA6,1996)」に記載された従
来の固体レーザ装置を示す模式図である。
第35巻 1430ページ(Applied Optics vol.35,
p.1430, 1996)」に記載された従来の固体レーザ装置を
示す模式図である。
アドバンスト・ソリッド・ステート・レーザーズ 第1
0巻390頁(OSA TOPS vol.10 Advanced Solid-State
Lasers,1997,p.390)」に記載された固体レーザ装置を
示す模式図である。
b;端面 2、32、42;基板 3、33、43a、43b、43c、53b、53c;
導波路 4、34;シリンドリカルレンズ 5、35;半導体レーザ 5a、35a;発光部 6;励起光 7;励起領域 8、8a、8b、38、38a;レーザ発振光 9、39;集光レンズ 10、40;シングルモード光ファイバ 10a、10b、40a、40b;フェルール 21、33a;マルチモード合成器 31b;非線形光学素子 31c;疑似位相整合デバイス 46a、46b;信号光
Claims (8)
- 【請求項1】 基板と、この基板上に形成され第1の端
面に励起光が照射されると第2の端面からレーザ光を発
振するレーザ結晶と、前記励起光を発光する励起光発光
手段と、前記励起光発光手段により発光された励起光が
入射する第1の端部及び前記第1の端面に対向し前記励
起光が出射される第2の端部を有し前記第1の端部に入
射した励起光が伝播し前記基板上に形成された導波路と
を有することを特徴とする固体レーザ装置。 - 【請求項2】 基板と、この基板上に形成され第1の端
面に励起光が照射されると第2の端面からレーザ光を発
振するレーザ結晶と、前記励起光を発光する励起光発光
手段と、一方の端部に前記励起光発光手段により発光さ
れた励起光が入射しこの励起光が伝播する複数個の導波
路と、複数個の前記導波路の他方の各端部を結合し前記
第1の端面に対向し前記励起光が出射される端部を有す
る合成器とを有することを特徴とする固体レーザ装置。 - 【請求項3】 前記第1の端面は、前記励起光を反射せ
ず前記励起光に励起されたレーザ発振光を全反射する膜
により被覆されており、前記第2の端面は、前記レーザ
発振光の一部を反射する膜により被覆されていることを
特徴とする請求項1又は2に記載の固体レーザ装置。 - 【請求項4】 前記第2の端面から発振されたレーザ光
の波長を変換する光学結晶又は疑似位相整合素子を有
し、前記第1の端面は、前記励起光を反射せず前記励起
光に励起されたレーザ発振光を全反射する膜により被覆
されており、前記第2の端面は、前記レーザ発振光の一
部を反射する膜又は前記レーザ発振光を反射しない膜に
より被覆されていることを特徴とする請求項1に記載の
固体レーザ装置。 - 【請求項5】 前記レーザ結晶の厚さは、前記励起光の
吸収係数の逆数の1乃至2倍であることを特徴とする請
求項1乃至4のいずれか1項に記載の固体レーザ装置。 - 【請求項6】 前記レーザ光を集光する集光レンズと、
この集光レンズにより集光されたレーザ光が伝播するシ
ングルモードファイバ又はシングルモード石英導波路と
を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1
項に記載の固体レーザ装置。 - 【請求項7】 基板と、この基板上に形成され第1の端
面に励起光が照射されると第2の端面からレーザ光を発
振するレーザ結晶と、前記励起光を発光する励起光発光
手段と、前記励起光発光手段により発光された励起光が
入射する第1の端部及び前記第1の端面に対向し前記励
起光が出射される第2の端部を有し前記第1の端部に入
射した励起光が伝播し前記基板上に形成された励起光導
波路と、前記レーザ結晶の利得域内の信号光が伝播しこ
の信号光が前記第1の端面に向けて出射される端部を有
し前記基板上に形成された信号光入射導波路と、前記第
2の端面から出射されたレーザ光が入射される端部を有
し前記レーザ光が伝播し前記基板上に形成された信号光
出射導波路とを有し、前記第1の端面及び前記第2の端
面は、前記レーザ利得帯域に対して反射しない膜により
被覆されていることを特徴とする固体レーザ増幅器。 - 【請求項8】 基板と、この基板上に形成され第1の端
面に励起光が照射されると第2の端面からレーザ光を発
振するレーザ結晶と、前記励起光を発光する励起光発光
手段と、前記励起光発光手段により発光された励起光が
入射する第1の端部及び前記第1の端面に対向し前記励
起光が出射される第2の端部を有し前記第1の端部に入
射した励起光が伝播し前記基板上に形成された励起光導
波路と、前記レーザ結晶の利得域内の信号光が伝播しこ
の信号光が前記第2の端面に向けて出射される端部を有
し前記基板上に形成された信号光入射導波路と、前記第
2の端面から出射されたレーザ光が入射される端部を有
し前記レーザ光が伝播し前記基板上に形成された信号光
出射導波路とを有し、前記第1の端面は、前記励起光を
反射せず前記レーザ利得帯域に対して全反射する膜によ
り被覆されており、前記第2の端面は、前記レーザ利得
帯域に対して反射しない膜により被覆されていることを
特徴とする固体レーザ増幅器。
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