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JPH11214825A - Method of treating surface of circuit board for inner layers - Google Patents

Method of treating surface of circuit board for inner layers

Info

Publication number
JPH11214825A
JPH11214825A JP1455398A JP1455398A JPH11214825A JP H11214825 A JPH11214825 A JP H11214825A JP 1455398 A JP1455398 A JP 1455398A JP 1455398 A JP1455398 A JP 1455398A JP H11214825 A JPH11214825 A JP H11214825A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit board
inner layer
layer circuit
copper
aqueous solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1455398A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuji Kitagawa
修次 北川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP1455398A priority Critical patent/JPH11214825A/en
Publication of JPH11214825A publication Critical patent/JPH11214825A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a good appearance and improve productivity, by feeding a treating liq. to a circuit on the surface of a long inner layer circuit board being conveyed. SOLUTION: An inner layer circuit board 1 is guided from an unwinder 10 to a surface treating machine 11 which then treats circuits on the surface of the inner layer circuit board 11, and the inner layer circuit board 11 is guided to a winder 12. The unwinder 10 has an unwinding shaft 13 having a brake such as powder brake and tension controller 14 which moves up and down like a dancer roll to apply to the inner layer circuit board 11. A part nearest to the unwinder 10 in the surface treating machine 11 is formed as an entrance 18. Next to an acid treating part 21, a dripping part 23 is formed, next to the dripping part, a first water washing part 24 is formed, and using a treating liq. contg. carboxylic acid, Cu ion and chelating agent of Cu ion, the Cu-made circuit surface is dissolved and roughened.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多層プリント配線
板の内層として用いられる内層用回路板の表面処理方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for treating a surface of an inner layer circuit board used as an inner layer of a multilayer printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、一枚の内層用回路板あるいは
複数枚の内層用回路板を接着して積層して内層を形成
し、この内層に外層となる銅箔や外層用回路板等を接着
して積層して多層プリント配線板を形成することが行な
われているが、内層用回路板同士の接着強度及び内層回
路板と銅箔や外層用回路板等の接着強度を高めるため
に、内層用回路板の表面の回路に表面処理を施すように
している。表面処理とは回路の表面を酸化したり回路の
表面を粗面化する処理であるが、従来、これらの処理は
バッチ式あるいは連続式で行なわれている。
2. Description of the Related Art Conventionally, one inner layer circuit board or a plurality of inner layer circuit boards is bonded and laminated to form an inner layer, and a copper foil or an outer layer circuit board or the like serving as an outer layer is formed on the inner layer. It is performed to form a multilayer printed wiring board by bonding and laminating, but in order to increase the adhesive strength between the inner layer circuit boards and the adhesive strength between the inner layer circuit board and the copper foil or the outer layer circuit board, Circuits on the surface of the inner layer circuit board are subjected to surface treatment. The surface treatment is a treatment for oxidizing the surface of the circuit or roughening the surface of the circuit. Conventionally, these treatments are performed in a batch system or a continuous system.

【0003】表面処理をバッチ式で行なうにあたって
は、まず、絶縁層(樹脂含浸基材)の表面に金属箔を積
層して形成される多層材料(金属箔張り積層板)を、所
定の大きさ(300mm×300mm〜1000mm×
1000mm程度)に切断して短尺のシート状にし、次
に、金属箔にエッチング処理等を施して基板の表面に回
路を形成することによって内層用回路板を作成し、この
後、多数枚の内層用回路板を一度に処理液に浸漬するこ
とによって、処理液で回路を酸化したり粗面化したりす
るようにしている。また表面処理を連続式で行なうにあ
たっては、上記バッチ式と同様にして内層用回路板を形
成し、この後、多数枚の内層用回路板をベルトコンベア
等の搬送装置を用いて連続的に送りながら、処理液をス
プレー等で内層用回路板に噴射することによって、処理
液で回路を酸化したり粗面化したりするようにしてい
る。
In performing the surface treatment in a batch system, first, a multilayer material (metal foil-clad laminate) formed by laminating a metal foil on the surface of an insulating layer (resin-impregnated base material) is sized. (300 mm x 300 mm to 1000 mm x
(About 1000 mm) to form a short sheet, and then perform an etching process or the like on the metal foil to form a circuit on the surface of the substrate to form a circuit board for an inner layer. By immersing the circuit board for use in the processing liquid at a time, the circuit is oxidized or roughened with the processing liquid. When performing the surface treatment in a continuous manner, an inner circuit board is formed in the same manner as in the batch method, and thereafter, a large number of inner circuit boards are continuously fed using a conveyor such as a belt conveyor. Meanwhile, the circuit is oxidized or roughened with the processing liquid by spraying the processing liquid onto the inner layer circuit board by spraying or the like.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしバッチ式で表面
処理を行なう場合は、一度に一定の枚数の内層用回路板
しか処理することができず、生産性が低いという問題が
あり、また特に絶縁層が0.1mm以下の極薄の内層用
回路板にあっては、内層用回路板が撓んだり位置ずれを
起こしたりして他の内層用回路板に接触することがあ
り、この接触により回路に処理液が充分に作用しない部
分ができて、均一な外観を有する内層用回路板(すなわ
ち均一な表面処理が行なわれた内層用回路板)を得るこ
とが難しいという問題があった。
However, when the surface treatment is carried out in a batch system, only a certain number of circuit boards for the inner layer can be treated at a time, and there is a problem that the productivity is low. In the case of an ultra-thin circuit board for an inner layer having a thickness of 0.1 mm or less, the circuit board for an inner layer may be deflected or displaced and come into contact with another circuit board for an inner layer. There is a problem that a portion where the treatment liquid does not sufficiently act on the circuit is formed, and it is difficult to obtain an inner layer circuit board having a uniform appearance (that is, an inner layer circuit board having a uniform surface treatment).

【0005】また連続式で表面処理を行なう場合におい
ても、極薄の内層用回路板にあっては搬送装置に引っ掛
かりやすく、この引っ掛かりにより生産性が低下したり
内層用回路板が破損して外観が損なわれるという問題が
あった。本発明は上記の点に鑑みてなされたものであ
り、生産性が高く、均一で良好な外観を有する内層用回
路板を得ることができる内層用回路板の表面処理方法を
提供することを目的とするものである。
[0005] Even when the surface treatment is performed in a continuous manner, an extremely thin circuit board for the inner layer is easily caught by the transfer device, and the clogging causes a decrease in productivity or damage to the circuit board for the inner layer. There was a problem that was damaged. The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a surface treatment method for an inner layer circuit board capable of obtaining an inner layer circuit board having high productivity and a uniform and good appearance. It is assumed that.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の内層用回路板の表面処理方法は、長尺の内層用回路板
1を搬送しつつ、内層用回路板1の表面の回路に処理液
を供給することを特徴とするものである。また本発明の
請求項2に記載の内層用回路板の表面処理方法は、請求
項1の構成に加えて、内層用回路板1にかかる張力を1
〜50kgfに調整しながら内層用回路板1を搬送する
ことを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for treating a surface of an inner layer circuit board, the method comprising: transporting a long inner layer circuit board; The process liquid is supplied to the apparatus. According to the surface treatment method for an inner layer circuit board according to the second aspect of the present invention, in addition to the configuration of the first aspect, the tension applied to the inner layer circuit board 1 is reduced by one.
It is characterized in that the inner layer circuit board 1 is transported while being adjusted to 50 kgf.

【0007】また本発明の請求項3に記載の内層用回路
板の表面処理方法は、請求項1又は2の構成に加えて、
処理液として、カルボン酸と銅イオンと銅イオンのキレ
ート剤を含有する酸性水溶液を用いることを特徴とする
ものである。また本発明の請求項4に記載の内層用回路
板の表面処理方法は、請求項1乃至3のいずれかの構成
に加えて、内層用回路板1を搬送するための搬送ロール
2を内層用回路板1の搬送方向に40〜500mmの間
隔で設けることを特徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for treating a surface of an inner layer circuit board, wherein
An acidic aqueous solution containing a carboxylic acid, copper ions and a chelating agent for copper ions is used as the treatment liquid. The surface treatment method for an inner layer circuit board according to claim 4 of the present invention, in addition to the configuration according to any one of claims 1 to 3, further comprises a transport roll 2 for transporting the inner layer circuit board 1 for the inner layer. The circuit board 1 is provided at intervals of 40 to 500 mm in the transport direction.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。内層用回路板1は絶縁層の表面に回路を設けて長
尺のシート状に形成されるものであって、絶縁層の厚み
が0.04〜0.1mmの極薄に形成されている。この
ような内層用回路板1は、例えば、長尺のガラス布・ガ
ラス不織布基材銅張積層板あるいは長尺のガラス布基材
銅張積層板にエッチング処理を施して銅箔を回路にして
形成される。またこの内層用回路板1は、ロール状に巻
かれた状態で表面処理装置に供給される。
Embodiments of the present invention will be described below. The inner layer circuit board 1 is formed in a long sheet shape by providing a circuit on the surface of the insulating layer, and the insulating layer is formed to be extremely thin with a thickness of 0.04 to 0.1 mm. Such an inner layer circuit board 1 is formed, for example, by performing an etching process on a long glass cloth / glass non-woven fabric base copper-clad laminate or a long glass cloth base copper-clad laminate to form a copper foil into a circuit. It is formed. The inner layer circuit board 1 is supplied to a surface treatment device in a state of being wound in a roll shape.

【0009】図1に本発明で用いる表面処理装置を示
す。この表面処理装置は、巻き出し機10から表面処理
機11に内層用回路板1を導出し、表面処理機11で内
層用回路板1の表面の回路を処理した後、内層用回路板
1を巻き取り機12に導入するように構成されている。
巻き出し機10にはパウダーブレーキ等のブレーキ装置
を備えた巻き出し軸13が設けられている。また巻き出
し機10には段差ロールのような上下動することにより
内層用回路板1にかかるテンションを調整するテンショ
ンコントローラー14が設けられている。
FIG. 1 shows a surface treatment apparatus used in the present invention. This surface treatment device derives the inner layer circuit board 1 from the unwinder 10 to the surface treatment machine 11, processes the circuit on the surface of the inner layer circuit board 1 with the surface treatment machine 11, and then removes the inner layer circuit board 1. It is configured to be introduced into the winder 12.
The unwinding machine 10 is provided with an unwinding shaft 13 provided with a brake device such as a powder brake. The unwinding machine 10 is provided with a tension controller 14 that adjusts the tension applied to the inner layer circuit board 1 by moving up and down like a step roll.

【0010】表面処理機11の巻き出し機10側の端部
には導入口15が設けられていると共に、表面処理機1
1の巻き取り機12側の端部には導出口16が形成され
ており、表面処理機11の内部には導入口15から導出
口16に向かって多数個の搬送ロール2が略水平に並設
されている。また一部の搬送ロール2の上側にはガイド
ロール17が設けられている。そしてこの表面処理機1
1の内部は導入口15から導出口16に向かって複数個
の部分に分かれている。
At the end of the surface treatment machine 11 on the unwinder 10 side, an inlet 15 is provided.
An outlet 16 is formed at the end on the side of the first winder 12, and a number of transport rolls 2 are arranged substantially horizontally from the inlet 15 toward the outlet 16 inside the surface treatment machine 11. Has been established. A guide roll 17 is provided above some of the transport rolls 2. And this surface treatment machine 1
The inside of 1 is divided into a plurality of portions from the inlet 15 to the outlet 16.

【0011】表面処理機11の内部の巻き出し機10側
に最も近い部分は導入部18として形成されており、こ
の導入部18にはスターホイル等のホイル19が搬送ロ
ール2と並設されていると共に搬送ロール2の下部には
搬送ロール2を回転駆動するためのインダクションモー
ター等のモーター20が設けられている。この導入部1
8の隣は酸性処理部21として形成されており、この酸
性処理部21のガイドロール17の上方及び搬送ロール
2の下方には、酸性水溶液を処理液として噴射する複数
個のスプレーノズル22が内層用回路板1の搬送方向に
沿って並設されている。
A portion closest to the unwinding machine 10 inside the surface treatment machine 11 is formed as an introduction portion 18, and a foil 19 such as a star wheel is arranged in parallel with the transport roll 2 in the introduction portion 18. In addition, a motor 20 such as an induction motor for rotating and driving the transport roll 2 is provided below the transport roll 2. This introduction 1
8 is formed as an acid treatment section 21. Above the guide roll 17 and below the transport roll 2 of the acid treatment section 21, a plurality of spray nozzles 22 for spraying an acidic aqueous solution as a treatment liquid are provided. Are arranged side by side along the transport direction of the circuit board 1.

【0012】酸性処理部21の隣は液切り部23として
形成されていると共に、液切り部23の隣は第一水洗部
24として形成されており、第一水洗部24にはガイド
ロール17よりも上側において、水を噴射するスプレー
ノズル25が設けられている。第一水洗部24の隣は酸
洗部26として形成されており、酸洗部26のガイドロ
ール17の上方及び搬送ロール2の下方には、酸性洗浄
液を噴射する複数個のスプレーノズル27が設けられて
いる。
The acid treatment section 21 is formed as a draining section 23, and the adjoining section is formed as a first washing section 24. The first washing section 24 is provided with a guide roll 17 from the guide roll 17. On the upper side, a spray nozzle 25 for injecting water is provided. A pickling unit 26 is formed adjacent to the first water washing unit 24, and a plurality of spray nozzles 27 for spraying an acidic cleaning liquid are provided above the guide roll 17 and below the transport roll 2 of the pickling unit 26. Have been.

【0013】酸洗部26の隣は第二水洗部28として形
成されており、第二水洗部28のガイドロール17の上
方及び搬送ロール2の下方には、複数個のスプレーノズ
ル29が設けられている。第二水洗部28の隣は第三水
洗部30として形成されており、第三水洗部30のガイ
ドロール17の上方及び搬送ロール2の下方には、複数
個のスプレーノズル31が設けられている。
A second washing section 28 is formed adjacent to the pickling section 26. A plurality of spray nozzles 29 are provided above the guide roll 17 and below the transport roll 2 of the second washing section 28. ing. The third washing section 30 is formed adjacent to the second washing section 28, and a plurality of spray nozzles 31 are provided above the guide roll 17 and below the transport roll 2 of the third washing section 30. .

【0014】第三水洗部30の隣は水切り部32として
形成されており、この水切り部32には、ガイドロール
17及び搬送ロール2と並べてスポンジロール33が設
けられている。水切り部32の隣はエアーカーテンやエ
アーブローなどの水切りスリット部34として形成され
ていると共に、水切りスリット部34の下部には搬送ロ
ール2を駆動するためのインダクションモーター等のモ
ーター20が設けられている。水切りスリット部34の
隣は乾燥部35として形成されていると共に、乾燥部3
5の隣は導出口16が設けられた搬出部36として形成
されている。
A draining portion 32 is formed adjacent to the third washing portion 30, and a sponge roll 33 is provided in the draining portion 32 alongside the guide roll 17 and the transport roll 2. Adjacent to the draining part 32 is formed as a draining slit part 34 such as an air curtain or an air blow, and a motor 20 such as an induction motor for driving the transport roll 2 is provided below the draining slit part 34. I have. The drying section 35 is formed next to the draining slit section 34, and the drying section 3 is formed.
Next to 5 is formed as a carry-out portion 36 provided with the outlet 16.

【0015】巻き取り機12には導出口16と対向する
位置に入口37が形成されており、入口37の近傍にお
いて巻き取り機12の外側には内層用回路板1の有無を
検知する検知器38が設けられている。また入口37の
近傍において巻き取り機12の内部にはサーボモータと
接続されるピンチロール39が設けられている。さらに
巻き取り機12の内部には、内層用回路板1を巻き取る
ための巻き取り軸40が駆動装置にて回転駆動自在に設
けられていると共に、ピンチロール39と巻き取り軸4
0の間にはエッジポジションコントローラー(EPC)
41が設けられている。
The winder 12 has an inlet 37 formed at a position facing the outlet 16, and a detector for detecting the presence or absence of the inner layer circuit board 1 outside the winder 12 near the inlet 37. 38 are provided. A pinch roll 39 connected to a servomotor is provided inside the winder 12 near the entrance 37. Further, inside the winding machine 12, a winding shaft 40 for winding the inner layer circuit board 1 is rotatably driven by a driving device, and a pinch roll 39 and a winding shaft 4 are provided.
Edge position controller (EPC) between 0
41 are provided.

【0016】上記酸性処理部21で用いられる処理液
は、カルボン酸と銅イオンと銅イオンのキレート剤を含
有する酸性水溶液であり、銅で形成される回路の表面を
溶解して粗面化するものである。このように銅イオンと
銅イオンのキレート剤を含有する酸性水溶液では二価の
銅イオンとキレート剤が錯体を形成しており、この処理
液に銅を反応させると、下記式(a)の反応が起こって
銅が溶解すると考えられている。尚、この式(a)の反
応で生じた一価の銅イオンとキレート剤の錯体は、二価
の銅イオンとキレート剤の錯体と比較して不安定な錯体
のため、下記式(b)のように、空気中の酸素を吸収し
て反応し、二価の銅イオンとキレート剤の錯体となると
考えられる。そして、これらの反応は、一且反応が開始
した部分は急激に反応が進むため、回路の位置により溶
解量に差が生じ、その差によって表面に凹凸が形成され
て粗面化すると考えられている。
The treating solution used in the acidic treating section 21 is an acidic aqueous solution containing a carboxylic acid, copper ions and a chelating agent for copper ions, and dissolves the surface of a circuit formed of copper to roughen the surface. Things. As described above, in an acidic aqueous solution containing a copper ion and a chelating agent of copper ions, a divalent copper ion and a chelating agent form a complex, and when copper is reacted with this treatment solution, a reaction represented by the following formula (a) is obtained. Is believed to occur and the copper dissolves. The complex of the monovalent copper ion and the chelating agent generated by the reaction of the formula (a) is an unstable complex as compared with the complex of the divalent copper ion and the chelating agent. It is thought that oxygen in the air is absorbed and reacts to form a complex of a divalent copper ion and a chelating agent, as shown in FIG. In these reactions, since the reaction proceeds rapidly at the part where the reaction has begun, the amount of dissolution may differ depending on the position of the circuit, and the difference may cause irregularities on the surface to roughen the surface. I have.

【0017】[0017]

【化1】 Embedded image

【0018】上記銅イオンのキレート剤としては、例え
ばエチレンジアミン四酢酸、シクロヘキサンジアミン四
酢酸、1,10−フェナントロリン、8−ヒドロキシキ
ノリン等が挙げられる。尚、この酸性水溶液に、ギ酸や
酢酸等の炭素数1〜5のカルボン酸を含有すると、粗化
する反応性が優れるため、処理する時間を短くすること
ができて好ましい。また、この酸性水溶液には、湿潤剤
や防錆剤等を含有させてもよい。
Examples of the above chelating agent for copper ion include ethylenediaminetetraacetic acid, cyclohexanediaminetetraacetic acid, 1,10-phenanthroline, 8-hydroxyquinoline and the like. In addition, it is preferable that the acidic aqueous solution contains a carboxylic acid having 1 to 5 carbon atoms such as formic acid or acetic acid, because the reactivity for roughening is excellent, and the treatment time can be shortened. The acidic aqueous solution may contain a wetting agent, a rust preventive, and the like.

【0019】酸性水溶液中の銅イオンや銅イオンのキレ
ート剤等の含有量としては、カルボン酸、銅イオン及び
銅イオンのキレート剤を含有する酸性水溶液を用いて銅
の回路の表面を粗化する場合、カルボン酸の濃度は一般
には10〜100グラム/リットルであることが好まし
く、銅イオンの濃度は15〜25グラム/リットルであ
ることが好ましく、銅イオンのキレート剤の濃度は、
0.1〜10グラム/リットルであることが好ましい。
また、pHは1〜4であることが好ましく、処理時の液
温は、30〜45℃が好ましい。
The content of the copper ion or the copper ion chelating agent in the acidic aqueous solution is determined by roughening the surface of the copper circuit using an acidic aqueous solution containing a carboxylic acid, copper ion and a copper ion chelating agent. In this case, the concentration of the carboxylic acid is generally preferably 10 to 100 g / l, the concentration of the copper ion is preferably 15 to 25 g / l, and the concentration of the chelating agent for the copper ion is
Preferably it is 0.1 to 10 grams / liter.
Further, the pH is preferably from 1 to 4, and the liquid temperature during the treatment is preferably from 30 to 45 ° C.

【0020】そして内層用回路板1の回路の表面処理は
次のようにして行なわれる。まず、巻き出し機10の巻
き出し軸13に取り付けられた内層用回路板1が導入口
15から表面処理機12の導入部18に導入される。次
に、内層用回路板1はガイドロール17にガイドされな
がら搬送ロール2の回転駆動によって導出口16側に搬
送され、酸性処理部21に導入される。ここで内層用回
路板1に上下のスプレーノズル22から上記処理液が噴
射されて供給され、上述のような処理液の作用にて回路
の表面が粗面化される。
The surface treatment of the circuit of the inner layer circuit board 1 is performed as follows. First, the inner layer circuit board 1 attached to the unwinding shaft 13 of the unwinding machine 10 is introduced from the introduction port 15 into the introduction section 18 of the surface treatment machine 12. Next, the inner layer circuit board 1 is conveyed to the outlet 16 side by the rotation of the conveying roll 2 while being guided by the guide roll 17, and is introduced into the acid processing section 21. Here, the processing liquid is sprayed and supplied to the inner layer circuit board 1 from the upper and lower spray nozzles 22, and the surface of the circuit is roughened by the action of the processing liquid as described above.

【0021】この後、内層用回路板1は液切り部23に
導入され、ここで内層用回路板1に付着した処理液が自
然に落とされる。次に内層用回路板1は第一水洗部24
に導入され、ここで内層用回路板1にスプレーノズル2
5から水が噴射されて水洗される。次に内層用回路板1
は酸洗浄部26に導入され、ここで内層用回路板1にス
プレーノズル27から塩酸などの酸性洗浄液が噴射され
て洗浄される。次に内層用回路板1は第二水洗部28に
導入され、ここで内層用回路板1にスプレーノズル29
から上記第一水洗部24よりも大きな水圧で水が噴射さ
れて水洗される。次に内層用回路板1は第三水洗部30
に導入され、ここで内層用回路板1にスプレーノズル3
1から純水が噴射されて水洗される。
Thereafter, the inner layer circuit board 1 is introduced into the liquid draining section 23, where the processing liquid adhering to the inner layer circuit board 1 is naturally dropped. Next, the inner layer circuit board 1 is
Where the spray nozzle 2 is attached to the inner layer circuit board 1.
Water is sprayed from 5 and washed. Next, the inner layer circuit board 1
Is introduced into an acid washing section 26, where an acidic washing liquid such as hydrochloric acid is sprayed from a spray nozzle 27 onto the inner layer circuit board 1 to be washed. Next, the inner layer circuit board 1 is introduced into the second washing section 28, where the spray nozzle 29 is applied to the inner layer circuit board 1.
Then, water is sprayed at a higher water pressure than that of the first water washing section 24 to be washed. Next, the inner layer circuit board 1 is
Where the spray nozzle 3
Pure water is sprayed from 1 and washed.

【0022】この後、内層用回路板1は水切り部32に
導入され、ここで内層用回路板1にスポンジロール33
を押しつけることにより、付着した水が除去される。次
に、内層用回路板1は水切りスリット部34に導入さ
れ、ここで内層用回路板1に空気が吹き付けられてさら
に水の除去が行なわれる。次に、内層用回路板1は乾燥
部35に導入され、ここで内層用回路板1に熱を供給す
るなどして乾燥させる。この後、内層用回路板1は搬出
部36を通って導出口16から表面処理機11の外に導
出される。
Thereafter, the inner layer circuit board 1 is introduced into the draining section 32, where the sponge roll 33 is attached to the inner layer circuit board 1.
By pressing, the adhered water is removed. Next, the inner layer circuit board 1 is introduced into the draining slit portion 34, where air is blown to the inner layer circuit board 1 to further remove water. Next, the inner layer circuit board 1 is introduced into the drying unit 35, and is dried by supplying heat to the inner layer circuit board 1 or the like. Thereafter, the inner layer circuit board 1 is led out of the surface treatment machine 11 from the outlet 16 through the carry-out part 36.

【0023】次に、表面処理された内層用回路板1は、
入口37から巻き取り機12内に導入されて巻き取り軸
40にてロール状に巻き取られる。また内層用回路板1
の上面にはピンチロール39が当接されており、これに
より内層用回路板1の姿勢や位置などが調整されてい
る。またエッジポジションコントローラー41にて内層
用回路板1の幅方向の巻き取り位置が調整される。そし
てロール状に巻かれた長尺の内層用回路板1を解きなが
ら表面処理機11に順次搬送していくことによって、連
続的に内層用回路板1の回路の表面処理を行なうことが
できる。この後、この長尺の表面処理済の内層用回路板
1を所定の大きさに裁断することによって、多層プリン
ト配線板の内層を形成する回路板として使用されるので
ある。
Next, the surface treated inner layer circuit board 1 is
It is introduced into the winder 12 from the inlet 37 and wound up in a roll shape by a windup shaft 40. Circuit board for inner layer 1
A pinch roll 39 is in contact with the upper surface of the substrate 1 to adjust the position and the position of the inner layer circuit board 1. The winding position of the inner layer circuit board 1 in the width direction is adjusted by the edge position controller 41. Then, the surface of the circuit of the inner-layer circuit board 1 can be continuously processed by unwinding and transporting the long inner-layer circuit board 1 sequentially to the surface treatment machine 11 while unwinding. Thereafter, the long surface-treated inner layer circuit board 1 is cut into a predetermined size to be used as a circuit board for forming an inner layer of a multilayer printed wiring board.

【0024】上記のように本発明では、長尺の内層用回
路板を搬送しつつ、内層用回路板の表面の回路に処理液
を供給するので、長尺の内層用回路板の回路を連続的に
粗面化することができ、バッチ式に比べて生産性を高く
することができる。また内層用回路板1の撓みや位置ず
れを少なくして他の部位に接触しないようにすることが
できると共に内層用回路板1の引っ掛かりも少なくする
ことができ、均一で良好な外観を有する内層用回路板を
得ることができるものである。
As described above, in the present invention, the processing liquid is supplied to the circuit on the surface of the inner circuit board while the long inner circuit board is being conveyed. The surface can be roughened, and the productivity can be increased as compared with the batch type. In addition, the inner layer circuit board 1 can be prevented from contacting other parts by reducing the bending and displacement of the inner layer circuit board 1 and the inner layer circuit board 1 can be prevented from being caught. The circuit board for use can be obtained.

【0025】尚、酸性水溶液を用いて回路を処理する時
間は、酸性水溶液に含有する銅イオンの濃度の変動に応
じて、回路と酸性水溶液が接触する時間を調整して処理
するのが好ましい。酸性水溶液に含有する銅イオンの濃
度の変動に応じて、回路と酸性水溶液が接触する時間を
調整しない場合、銅の溶解量のばらつきが生じ、得られ
る積層板間に接着強度のばらつきが発生しやすくなる。
尚、「回路と酸性水溶液が接触する時間」とは、回路に
酸性水溶液をスプレーして、回路に酸性水溶液が接触し
ている時間を表すものである。
The time for treating the circuit using the acidic aqueous solution is preferably adjusted by adjusting the contact time between the circuit and the acidic aqueous solution according to the change in the concentration of copper ions contained in the acidic aqueous solution. If the time of contact between the circuit and the acidic aqueous solution is not adjusted according to the variation in the concentration of copper ions contained in the acidic aqueous solution, the amount of copper dissolved will vary, and the adhesive strength will vary between the resulting laminates. It will be easier.
The "time of contact between the circuit and the acidic aqueous solution" indicates the time during which the acidic aqueous solution is sprayed on the circuit and the acidic aqueous solution is in contact with the circuit.

【0026】この酸性水溶液に含有する銅イオンの濃度
の変動に応じて、回路と酸性水溶液が接触する時間を調
整して処理する方法としては、銅イオンの濃度が上昇し
た場合に、スプレーからの酸性水溶液の噴射量を少なく
するなどして回路と酸性水溶液が接触する時間を短縮
し、銅イオンの濃度が低下した場合に、回路と酸性水溶
液が接触する時間を延長して処理を行う。
As a method of adjusting the contact time between the circuit and the acidic aqueous solution in accordance with the fluctuation of the concentration of the copper ion contained in the acidic aqueous solution, the treatment may be carried out as follows. The time during which the circuit is in contact with the acidic aqueous solution is reduced by, for example, decreasing the injection amount of the acidic aqueous solution, and when the concentration of copper ions is reduced, the time during which the circuit is in contact with the acidic aqueous solution is extended.

【0027】これは、酸性水溶液中の銅イオンは、ほと
んどが一価の銅イオンより安定な二価の銅イオンとして
存在しているため、酸性水溶液中の銅イオンの濃度が上
昇した場合、二価の銅イオンの濃度が主に上昇すると考
えられる。そして、この二価の銅イオンの濃度が上昇し
た場合、化学平衡を保つために上記式(a)の反応が促
進され、銅の溶解速度が上昇する。そのため、回路と酸
性水溶液が接触する時間を短縮することにより、銅の溶
解量を抑えると、その短縮した時間内の銅の溶解量と、
銅イオンの濃度が上昇する前の銅の溶解量を、ほぼ同じ
程度にすることが可能となる。
This is because most of the copper ions in the acidic aqueous solution are present as divalent copper ions that are more stable than the monovalent copper ions. It is believed that the concentration of multivalent copper ions increases mainly. When the concentration of the divalent copper ion increases, the reaction of the above formula (a) is promoted to maintain chemical equilibrium, and the dissolution rate of copper increases. Therefore, by reducing the amount of copper dissolved by reducing the time that the circuit and the acidic aqueous solution contact, the amount of copper dissolved within the shortened time,
It is possible to make the amount of copper dissolved before the concentration of copper ions increase approximately the same.

【0028】逆に、酸性水溶液中の銅イオンの濃度が低
下した場合、上記式(a)の反応が進行しにくくなり、
銅の溶解速度が低下する。そのため、スプレーからの酸
性水溶液の噴射量を多くするなどして回路と酸性水溶液
が接触する時間を延長することにより、銅の溶解量を増
加させると、その延長した時間内の銅の溶解量と、銅イ
オンの濃度が低下する前の銅の溶解量を、ほぼ同じ程度
にすることが可能となる。そして、このようにして銅の
溶解量を安定させると、銅が溶解することによって形成
される、回路の表面の凹凸の大きさも安定し、接着強度
のばらつきが小さい積層板を得ることが可能となる。
Conversely, when the concentration of copper ions in the acidic aqueous solution decreases, the reaction of the above formula (a) becomes difficult to proceed,
The dissolution rate of copper decreases. Therefore, if the amount of copper dissolved in the extended time is increased by increasing the amount of acidic aqueous solution sprayed from the spray and extending the contact time between the circuit and the acidic aqueous solution, the amount of copper dissolved within the extended time In addition, the amount of copper dissolved before the concentration of copper ions decreases can be made substantially the same. When the amount of copper dissolved is stabilized in this way, the size of the unevenness on the surface of the circuit formed by the dissolution of copper is also stabilized, and it is possible to obtain a laminated board with a small variation in adhesive strength. Become.

【0029】また、酸性水溶液を用いて回路を処理する
時間は、酸性水溶液で処理した部分の回路の表面粗度
が、2〜6μmとなる条件の範囲内で時間を調整すると
好ましい。2μm未満の場合、接着強度のばらつきは小
さいが、接着強度は全体に低くなる場合があり、6μm
を越える場合、回路の厚みが薄くなって電気信頼性が低
下する場合がある。
The time for treating the circuit with the acidic aqueous solution is preferably adjusted within the range where the surface roughness of the portion of the circuit treated with the acidic aqueous solution is 2 to 6 μm. When the thickness is less than 2 μm, the variation in the bonding strength is small, but the bonding strength may be low as a whole.
When the value exceeds, the thickness of the circuit may be reduced and the electrical reliability may be reduced.

【0030】また回路に酸性水溶液をスプレーして処理
を行う場合、浸漬等の他の方法よりも処理時間を短縮す
ることが可能となり好ましい。尚、必要に応じて、酸性
水溶液で処理する前に、回路の表面を機械的な研磨また
は過硫酸アンモニウムもしくは塩化銅のような化学的な
研磨を行い、洗浄した後、酸性水溶液で処理を行っても
よい。
Further, when the treatment is carried out by spraying an acidic aqueous solution onto the circuit, the treatment time can be shortened more than other methods such as immersion, which is preferable. If necessary, before the treatment with an acidic aqueous solution, the surface of the circuit is mechanically polished or chemically polished such as ammonium persulfate or copper chloride, washed, and then treated with an acidic aqueous solution. Is also good.

【0031】また搬送される内層用回路板1にかかるテ
ンション(張力)は1〜50kgfであることが好まし
い。テンションはテンションコントローラー14の上下
移動及び巻き取り軸40を回転駆動する駆動装置の駆動
力で調整することができ、1kgf未満であれば、内層
用回路板1に撓みが生じ、搬送性が低下して生産性が低
くなる恐れがあり、また内層用回路板1に充分に処理液
が供給されない部分ができて外観が低下する恐れがあ
る。またテンションが50kgfを超えると、内層用回
路板1にかかる力が大き過ぎてちぎれたり破損したり
し、生産性及び外観がともに低下する恐れがある。
The tension applied to the conveyed inner layer circuit board 1 is preferably 1 to 50 kgf. The tension can be adjusted by the vertical movement of the tension controller 14 and the driving force of a driving device that rotationally drives the winding shaft 40. When the tension is less than 1 kgf, the inner layer circuit board 1 bends and the transportability is reduced. Therefore, there is a possibility that the productivity may be lowered, and a portion where the processing liquid is not sufficiently supplied to the inner layer circuit board 1 may be formed, and the appearance may be deteriorated. On the other hand, when the tension exceeds 50 kgf, the force applied to the inner layer circuit board 1 is too large, and the inner layer circuit board 1 may be torn or damaged, and both productivity and appearance may be reduced.

【0032】さらに上記搬送ロール2のピッチ(間隔)
は40〜500mmであることが好ましい。このピッチ
が40mm未満であれば、搬送ロール2の間隔が狭過ぎ
て内層用回路板1に充分に処理液が供給されない部分が
できて外観が低下する恐れがある。またピッチが500
mmを超えると、搬送性が低下して生産性が低くなる恐
れがある。
Further, the pitch (interval) of the transport roll 2
Is preferably 40 to 500 mm. If the pitch is less than 40 mm, the interval between the transport rolls 2 is too small, and there is a possibility that a portion where the processing liquid is not sufficiently supplied to the inner layer circuit board 1 is formed, and the appearance may be deteriorated. The pitch is 500
If it exceeds mm, there is a possibility that the transportability is reduced and the productivity is reduced.

【0033】[0033]

【実施例】以下、本発明を実施例によって詳述する。 (実施例1乃至9)大きさ0.5×80mで銅箔を除く
絶縁層の厚みが0.07mmのガラス布・ガラス不織布
基材エポキシ樹脂銅張積層板(松下電工株式会社製、商
品名R5766)にエッチングを施して、30×100
mmの銅箔が残るパターン(回路)を四隅付近に形成す
ると共に直径1.5mmのランドパターンを複数形成
し、これを内層用回路板1とした。
The present invention will be described below in detail with reference to examples. (Examples 1 to 9) A glass cloth / glass nonwoven base epoxy resin copper-clad laminate having a size of 0.5 × 80 m and a thickness of an insulating layer excluding copper foil of 0.07 mm (trade name, manufactured by Matsushita Electric Works, Ltd.) R5766) is etched to 30 × 100
A pattern (circuit) in which a copper foil of mm was left was formed near the four corners, and a plurality of land patterns having a diameter of 1.5 mm were formed.

【0034】処理液としては、カルボン酸と銅イオンと
銅イオンのキレート剤を含むメック株式会社製処理液
(商品名CZ8100)に、水酸化銅を溶解させること
に銅イオンの濃度が15グラム/リットル、pHが3.
5に調製された酸性水溶液を用いた。そして上記長尺の
内層用回路板1をロール状に巻いて図1に示す表面処理
装置に供給し、銅箔の回路の表面処理を行なった。この
時のテンションの大きさ、搬送ロール2のピッチを表
1、2に示す。また処理液の温度は38℃に制御し、ス
プレーした後、水洗することにより、回路と処理液の接
触時間を165秒となるようにした。また乾燥は80
℃、30分の条件で行なった。
As a treatment liquid, a copper hydroxide concentration of 15 g / g was dissolved in a treatment liquid (trade name: CZ8100, manufactured by Mec Co., Ltd.) containing a carboxylic acid, copper ions and a chelating agent for copper ions. Liter, pH 3.
The acidic aqueous solution prepared in 5 was used. The long inner layer circuit board 1 was wound into a roll and supplied to the surface treatment apparatus shown in FIG. 1 to perform the surface treatment of the copper foil circuit. Tables 1 and 2 show the magnitude of the tension and the pitch of the transport roll 2 at this time. The temperature of the processing solution was controlled at 38 ° C., and after spraying, washing was carried out with water so that the contact time between the circuit and the processing solution was 165 seconds. Drying is 80
C., at 30 minutes.

【0035】(比較例)実施例1の長尺の内層用回路板
1を300×300mmの大きさに裁断し、シート状の
短尺の内層用回路板1を形成し、これを実施例と同様に
図1に示す表面処理装置を用いて銅箔の回路の表面処理
を行なった。そして実施例1乃至9及び比較例におい
て、処理後の内層用回路板1の歩留りを測定した。歩留
りは、処理を行なった内層用回路板1の全量に対して、
処理が良好に行なわれた内層用回路板1の量で表される
ものであって、100%に近いほど歩留りが良いという
ことである。また内層用回路板1の搬送性を目視で確認
した。さらに処理後の内層用回路板1の回路の外観を評
価した。尚、表1、2の外観の欄のかっこ内の数字は、
外観が不良であった回路の割合を示す。
COMPARATIVE EXAMPLE The long internal circuit board 1 of Example 1 was cut into a size of 300 × 300 mm to form a short internal circuit board 1 in the form of a sheet. The surface treatment of the copper foil circuit was performed using the surface treatment apparatus shown in FIG. Then, in Examples 1 to 9 and Comparative Example, the yield of the processed inner layer circuit board 1 was measured. The yield is based on the total amount of the processed inner layer circuit board 1.
It is expressed by the amount of the inner-layer circuit board 1 that has been satisfactorily processed. The closer to 100%, the better the yield. The transportability of the inner layer circuit board 1 was visually checked. Further, the appearance of the circuit of the inner layer circuit board 1 after the treatment was evaluated. The numbers in parentheses in the appearance column of Tables 1 and 2 are as follows:
The percentage of circuits with poor appearance is shown.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【表2】 [Table 2]

【0038】表1、2から明らかなように、テンション
の条件、搬送ロールのピッチが所定の範囲にある実施例
1乃至5では、歩留り、搬送性、外観が全て良好であっ
た。またテンションの条件や搬送ロールのピッチの一部
が所定の範囲から外れる実施例6乃至9では若干の問題
が生じるが、比較例よりは総合評価は高くなった。尚、
上記実施例1乃至9の内層用回路板1の両面に、厚み
0.06mm、樹脂量50%のガラス基材エポキシ樹脂
プリプレグ(松下電工株式会社製、商品名R−166
1)を一枚ずつ重ねて積層し、さらにその両方の外側に
厚み12μmの銅箔を積層し、この積層物を温度170
℃、圧力2.9MPa、時間60分の条件で加熱加圧成
形し、積層板を作成したところ、内層用回路板1からな
る内層と、その外側の外層(銅箔)の接着強度が高く、
剥離などの問題が生じなかった。
As is clear from Tables 1 and 2, in Examples 1 to 5 in which the tension conditions and the transport roll pitch were within the predetermined ranges, the yield, transportability, and appearance were all good. Further, in Examples 6 to 9 in which the tension condition and a part of the pitch of the transport roll were out of the predetermined range, some problems occurred, but the overall evaluation was higher than the comparative example. still,
A glass substrate epoxy resin prepreg having a thickness of 0.06 mm and a resin amount of 50% (trade name: R-166, manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd.)
1) were laminated one by one, and a copper foil having a thickness of 12 μm was further laminated on both outer sides thereof.
When a laminate was prepared by heating and pressing under the conditions of ° C., a pressure of 2.9 MPa and a time of 60 minutes, the adhesive strength between the inner layer made of the inner layer circuit board 1 and the outer layer (copper foil) outside the inner layer was high.
No problems such as peeling occurred.

【0039】[0039]

【発明の効果】上記のように本発明の請求項1に記載の
発明は、長尺の内層用回路板を搬送しつつ、内層用回路
板の表面の回路に処理液を供給するので、長尺の内層用
回路板の回路を連続的に粗面化することができ、バッチ
式に比べて生産性を高くすることができる。また内層用
回路板の撓みや位置ずれを少なくして他の部位に接触し
ないようにすることができると共に内層用回路板の引っ
掛かりも少なくすることができ、均一で良好な外観を有
する内層用回路板を得ることができるものである。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the treatment liquid is supplied to the circuit on the surface of the inner layer circuit board while the long inner circuit board is being conveyed. The circuit of the circuit board for the inner layer of the shaku can be continuously roughened, and the productivity can be increased as compared with the batch type. In addition, it is possible to reduce the deflection and displacement of the inner layer circuit board so that the inner layer circuit board does not come into contact with other parts and to reduce the possibility of the inner layer circuit board being caught. A plate can be obtained.

【0040】また本発明の請求項2に記載の発明は、内
層用回路板にかかる張力を1〜50kgfに調整しなが
ら内層用回路板を搬送するので、内層用回路板に破損を
生じることなく、また生産性を低下させることなく表面
処理を行なうことができるものである。また本発明の請
求項3に記載の発明は、処理液として、カルボン酸と銅
イオンと銅イオンのキレート剤を含有する酸性水溶液を
用いるので、銅イオンと銅イオンのキレート剤の両方を
含有する処理液を用いることによって、回路の粗面化を
進みやすくすることができるものである。
According to the second aspect of the present invention, since the inner layer circuit board is transported while adjusting the tension applied to the inner layer circuit board to 1 to 50 kgf, the inner layer circuit board is not damaged. In addition, surface treatment can be performed without lowering productivity. Further, the invention according to claim 3 of the present invention uses an acidic aqueous solution containing a carboxylic acid, a copper ion and a copper ion chelating agent as a treatment liquid, and therefore contains both a copper ion and a copper ion chelating agent. By using the processing liquid, the surface of the circuit can be easily roughened.

【0041】また本発明の請求項4に記載の発明は、内
層用回路板を搬送するための搬送ロールを内層用回路板
の搬送方向に40〜500mmの間隔で設けるので、内
層用回路板を撓みなく、また処理液が充分に供給される
状態で搬送することができ、均一で良好な外観を有する
内層用回路板を得ることができるものである。
In the invention according to claim 4 of the present invention, the transport rolls for transporting the inner layer circuit board are provided at intervals of 40 to 500 mm in the transport direction of the inner layer circuit board. The circuit board can be conveyed without bending and in a state in which the processing liquid is sufficiently supplied, and an inner layer circuit board having a uniform and good appearance can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態の一例を示す概略図であ
る。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 内層用回路板 2 搬送ロール 1 inner layer circuit board 2 transport roll

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 長尺の内層用回路板を搬送しつつ、内層
用回路板の表面の回路に処理液を供給することを特徴と
する内層用回路板の表面処理方法。
1. A method for treating a surface of an inner layer circuit board, comprising supplying a treatment liquid to a circuit on the surface of the inner layer circuit board while transporting a long inner layer circuit board.
【請求項2】 内層用回路板にかかる張力を1〜50k
gfに調整しながら内層用回路板を搬送することを特徴
とする請求項1に記載の内層用回路板の表面処理方法。
2. The tension applied to the inner layer circuit board is 1 to 50 k.
The surface treatment method for an inner layer circuit board according to claim 1, wherein the inner layer circuit board is transported while adjusting to gf.
【請求項3】 処理液として、カルボン酸と銅イオンと
銅イオンのキレート剤を含有する酸性水溶液を用いるこ
とを特徴とする請求項1又は2に記載の内層用回路板の
表面処理方法。
3. The surface treatment method for an inner layer circuit board according to claim 1, wherein an acidic aqueous solution containing a carboxylic acid, copper ions and a chelating agent for copper ions is used as the treatment liquid.
【請求項4】 内層用回路板を搬送するための搬送ロー
ルを内層用回路板の搬送方向に40〜500mmの間隔
で設けることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに
記載の内層用回路板の表面処理方法。
4. The inner layer circuit according to claim 1, wherein transport rolls for transporting the inner layer circuit board are provided at intervals of 40 to 500 mm in the transport direction of the inner layer circuit board. Surface treatment method for circuit boards.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001237524A (en) * 2000-02-21 2001-08-31 Nippon Circuit Kogyo Kk Method of manufacturing printed wiring board
JP2006104510A (en) * 2004-10-04 2006-04-20 Toppan Printing Co Ltd Blackening device
JP2006124726A (en) * 2004-10-26 2006-05-18 Toppan Printing Co Ltd Blackening device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001237524A (en) * 2000-02-21 2001-08-31 Nippon Circuit Kogyo Kk Method of manufacturing printed wiring board
JP2006104510A (en) * 2004-10-04 2006-04-20 Toppan Printing Co Ltd Blackening device
JP2006124726A (en) * 2004-10-26 2006-05-18 Toppan Printing Co Ltd Blackening device

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