JPH11145364A - 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH11145364A JPH11145364A JP9310404A JP31040497A JPH11145364A JP H11145364 A JPH11145364 A JP H11145364A JP 9310404 A JP9310404 A JP 9310404A JP 31040497 A JP31040497 A JP 31040497A JP H11145364 A JPH11145364 A JP H11145364A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat sink
- inner leads
- group
- lead frame
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/42—Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
- H01L23/433—Auxiliary members in containers characterised by their shape, e.g. pistons
- H01L23/4334—Auxiliary members in encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01019—Potassium [K]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01057—Lanthanum [La]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 インナリードとヒートシンクのショートを確
実に防止でき、且つインナリードと半導体チップ間に所
望のワイヤ接続ができる樹脂封止型半導体装置及びこれ
を製造する方法の提供。 【解決手段】 半導体チップ17を搭載するヒートシン
ク15は、一体に有するアーム部19及び20を、リー
ドフレーム21の接続片23及び24にかしめ付けるこ
とにより接続される。インナリード13b及び14bの
うち、ヒートシンクの長辺部15a及び15bと対応し
た位置に存する第1群は、それら長辺部に向かって直線
状に延びて長辺部と水平面内で所定間隔を保持した状態
で設けられ、ヒートシンクの短辺部15c及び15dと
対応した位置に存する第2群jは、フレーム本体22か
ら屈曲してアーム部に沿うようにヒートシンクの短辺部
に向かって延びて短辺部と水平面内で所定間隔を保持し
た状態で設けられる。
実に防止でき、且つインナリードと半導体チップ間に所
望のワイヤ接続ができる樹脂封止型半導体装置及びこれ
を製造する方法の提供。 【解決手段】 半導体チップ17を搭載するヒートシン
ク15は、一体に有するアーム部19及び20を、リー
ドフレーム21の接続片23及び24にかしめ付けるこ
とにより接続される。インナリード13b及び14bの
うち、ヒートシンクの長辺部15a及び15bと対応し
た位置に存する第1群は、それら長辺部に向かって直線
状に延びて長辺部と水平面内で所定間隔を保持した状態
で設けられ、ヒートシンクの短辺部15c及び15dと
対応した位置に存する第2群jは、フレーム本体22か
ら屈曲してアーム部に沿うようにヒートシンクの短辺部
に向かって延びて短辺部と水平面内で所定間隔を保持し
た状態で設けられる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ヒートシンク上に
搭載された半導体チップと、リードフレームから延びて
前記ヒートシンクと所定間隔を有して配置された複数の
インナリードとの間をワイヤ接続したものを樹脂モール
ドパッケージする構成の樹脂封止型半導体装置及びその
製造方法に関する。
搭載された半導体チップと、リードフレームから延びて
前記ヒートシンクと所定間隔を有して配置された複数の
インナリードとの間をワイヤ接続したものを樹脂モール
ドパッケージする構成の樹脂封止型半導体装置及びその
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、自動車におけるエンジン制御E
CUやABS用ECUなど用いられるドライバIC或い
は電源ICのような電力用の半導体装置にあっては、パ
ワーMOSFETを含んだ半導体チップにより構成する
ことが一般的になっている。このような半導体装置にあ
っては、半導体チップの放熱を促進するためのヒートシ
ンクを備えたパッケージ形態(特開昭54−18280
号公報、特開昭62−164950号公報、特開平6−
252315号公報など)を採用している。
CUやABS用ECUなど用いられるドライバIC或い
は電源ICのような電力用の半導体装置にあっては、パ
ワーMOSFETを含んだ半導体チップにより構成する
ことが一般的になっている。このような半導体装置にあ
っては、半導体チップの放熱を促進するためのヒートシ
ンクを備えたパッケージ形態(特開昭54−18280
号公報、特開昭62−164950号公報、特開平6−
252315号公報など)を採用している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなヒートシ
ンク付きの半導体装置においては、例えば図6及び図7
に示すようなリードフレーム構造とすることが行われて
いる。即ち、図6には、樹脂モールドパッケージにより
モールドする前の段階でのヒートシンク付きの半導体装
置の要部の平面構造が示され、図7には図6中のA−A
線に沿った断面構造が示されている。
ンク付きの半導体装置においては、例えば図6及び図7
に示すようなリードフレーム構造とすることが行われて
いる。即ち、図6には、樹脂モールドパッケージにより
モールドする前の段階でのヒートシンク付きの半導体装
置の要部の平面構造が示され、図7には図6中のA−A
線に沿った断面構造が示されている。
【0004】これら図6及び図7において、半導体チッ
プ1がダイボンディングされるヒートシンク2は、一対
の対向辺部(一方のみ図示)がリードフレーム3から突
出された連結片3aに対して、かしめ手段により連結さ
れる。上記リードフレーム3は、ヒートシンク2の両側
に位置される複数本ずつのインナリード3b、3cを備
えており、それらインナリード3b、3cは、各先端面
が、ヒートシンク2の両側面に対し所定間隙を存して対
向した状態で2列に配置されている。
プ1がダイボンディングされるヒートシンク2は、一対
の対向辺部(一方のみ図示)がリードフレーム3から突
出された連結片3aに対して、かしめ手段により連結さ
れる。上記リードフレーム3は、ヒートシンク2の両側
に位置される複数本ずつのインナリード3b、3cを備
えており、それらインナリード3b、3cは、各先端面
が、ヒートシンク2の両側面に対し所定間隙を存して対
向した状態で2列に配置されている。
【0005】上記インナリード3b、3cの各先端側位
置と前記半導体チップ1との各間は、ボンディングワイ
ヤ4により接続されるものであり、そのワイヤボンディ
ング工程時には、図8に示すように、ヒートシンク2及
びインナリード3b、3cを下側から支えるためのワイ
ヤボンディング治具5がセットされるものである。
置と前記半導体チップ1との各間は、ボンディングワイ
ヤ4により接続されるものであり、そのワイヤボンディ
ング工程時には、図8に示すように、ヒートシンク2及
びインナリード3b、3cを下側から支えるためのワイ
ヤボンディング治具5がセットされるものである。
【0006】上記従来構造のものでは、ワイヤボンディ
ング治具5を用いる関係上、ヒートシンク2とインナリ
ード3b、3cとを互いにオーバーラップした配置状態
とすることができず、当該インナリード3b、3cの各
先端部が一列状に並ぶことになる。このため、特に、端
に位置したインナリード3b、3cと半導体チップ1と
の間を繋ぐボンディングワイヤ4の寸法がその限度長を
越えることがある。
ング治具5を用いる関係上、ヒートシンク2とインナリ
ード3b、3cとを互いにオーバーラップした配置状態
とすることができず、当該インナリード3b、3cの各
先端部が一列状に並ぶことになる。このため、特に、端
に位置したインナリード3b、3cと半導体チップ1と
の間を繋ぐボンディングワイヤ4の寸法がその限度長を
越えることがある。
【0007】このような欠点に対処するために、図9及
び図10に示すように、ヒートシンクとインナリードと
を敢えてオーバーラップさせるようにしたリードフレー
ム構造が提案されている(図9は、樹脂モールドパッケ
ージによりモールドする前の段階でのヒートシンク付き
半導体装置の要部の平面構造を示し、図10は図9中の
B−B線に沿った断面構造を示す)。
び図10に示すように、ヒートシンクとインナリードと
を敢えてオーバーラップさせるようにしたリードフレー
ム構造が提案されている(図9は、樹脂モールドパッケ
ージによりモールドする前の段階でのヒートシンク付き
半導体装置の要部の平面構造を示し、図10は図9中の
B−B線に沿った断面構造を示す)。
【0008】これら図9及び図10において、半導体チ
ップ1′がダイボンディングされるヒートシンク2′
は、かしめ手段により連結される。上記リードフレーム
6は、ヒートシンク2′とオーバーラップされた状態の
複数本ずつのインナリード6b、6cを備えており、そ
れらインナリード6b、6cは、一部のものが直角状に
屈曲されることによって、各先端面が、半導体チップ
1′の4つの側面のそれぞれに対し所定間隙を存して近
接対向した状態となるように構成されている。この場
合、所望の長さのボンディングワイヤ4によってワイヤ
接続が可能になる。
ップ1′がダイボンディングされるヒートシンク2′
は、かしめ手段により連結される。上記リードフレーム
6は、ヒートシンク2′とオーバーラップされた状態の
複数本ずつのインナリード6b、6cを備えており、そ
れらインナリード6b、6cは、一部のものが直角状に
屈曲されることによって、各先端面が、半導体チップ
1′の4つの側面のそれぞれに対し所定間隙を存して近
接対向した状態となるように構成されている。この場
合、所望の長さのボンディングワイヤ4によってワイヤ
接続が可能になる。
【0009】しかしながら、このようなリードフレーム
構造のものでは、ワイヤボンディング時にインナリード
6b、6cが変形してヒートシンク2′とショートして
しまう恐れがある。そこで、安定したワイヤボンディン
グを行うために、例えば図11に示すように、ワイヤボ
ンディング工程時において、ヒートシンク2′とインナ
リード6b、6cとの間に金属製の治具7を挿入するこ
とが考えられているが、これでは、ワイヤボンディング
工程が複雑化する。
構造のものでは、ワイヤボンディング時にインナリード
6b、6cが変形してヒートシンク2′とショートして
しまう恐れがある。そこで、安定したワイヤボンディン
グを行うために、例えば図11に示すように、ワイヤボ
ンディング工程時において、ヒートシンク2′とインナ
リード6b、6cとの間に金属製の治具7を挿入するこ
とが考えられているが、これでは、ワイヤボンディング
工程が複雑化する。
【0010】また、安定してワイヤボンディングが行わ
れたとしても、その後に行われるモールド工程におい
て、モールド樹脂の注入圧によってインナリード6b、
6cが変形してヒートシンク2′にショートする恐れが
ある。
れたとしても、その後に行われるモールド工程におい
て、モールド樹脂の注入圧によってインナリード6b、
6cが変形してヒートシンク2′にショートする恐れが
ある。
【0011】本発明は上記のような事情に鑑みてなされ
たものであり、リードフレームとヒートシンクとを互い
に接続したものにおいて、インナリードとヒートシンク
のショートを確実に防止でき、且つインナリードと半導
体チップ間に所望寸法のワイヤ接続ができる樹脂封止型
半導体装置を提供することを第1の目的とする。また、
第1の目的に係る樹脂封止型半導体装置を製造するに際
して、安定したワイヤ接続を簡単に行うことができる樹
脂封止型半導体装置の製造方法を提供することを第2の
目的とする。
たものであり、リードフレームとヒートシンクとを互い
に接続したものにおいて、インナリードとヒートシンク
のショートを確実に防止でき、且つインナリードと半導
体チップ間に所望寸法のワイヤ接続ができる樹脂封止型
半導体装置を提供することを第1の目的とする。また、
第1の目的に係る樹脂封止型半導体装置を製造するに際
して、安定したワイヤ接続を簡単に行うことができる樹
脂封止型半導体装置の製造方法を提供することを第2の
目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の樹脂封止
型半導体装置によれば、ヒートシンクは、略直交する第
1の辺部と第2の辺部のうち、第2の辺部の一部から延
びるアーム部を介してリードフレームと接続される。リ
ードフレームが有するインナリードの第1群は、ヒート
シンクの第1の辺部に対し水平面内で所定間隔を保持し
た状態を呈すると共に、当該リードフレームが有するイ
ンナリードの第2群は、前記アーム部に沿うように屈曲
されてヒートシンクの第2の辺部に対し水平面内で所定
間隔を保持した状態を呈するようになる。このような状
態で、インナリードの第1群と前記ヒートシンク上に搭
載された半導体チップとの間、及び当該インナリードの
第2群と上記半導体チップとの間がワイヤ接続されるこ
とになる。
型半導体装置によれば、ヒートシンクは、略直交する第
1の辺部と第2の辺部のうち、第2の辺部の一部から延
びるアーム部を介してリードフレームと接続される。リ
ードフレームが有するインナリードの第1群は、ヒート
シンクの第1の辺部に対し水平面内で所定間隔を保持し
た状態を呈すると共に、当該リードフレームが有するイ
ンナリードの第2群は、前記アーム部に沿うように屈曲
されてヒートシンクの第2の辺部に対し水平面内で所定
間隔を保持した状態を呈するようになる。このような状
態で、インナリードの第1群と前記ヒートシンク上に搭
載された半導体チップとの間、及び当該インナリードの
第2群と上記半導体チップとの間がワイヤ接続されるこ
とになる。
【0013】上記のように、インナリードの第1群及び
第2群が、ヒートシンクの第1の辺部及び第2の辺部に
対し水平面内で所定間隔を保持した状態となる結果、そ
れらインナリードと半導体チップをワイヤ接続する際
に、インナリードを治具によって確実に支えることが可
能になる。このため、インナリードと半導体チップ間に
所望寸法のワイヤ接続が可能となり、さらにワイヤ接続
時においてインナリードが変形してヒートシンクとショ
ートする恐れがなくなる。また、その後に行われる樹脂
モールドパッケージのためのモールド工程においても、
モールド樹脂の注入圧によってインナリードが変形する
ことがなくなるから、ヒートシンクへのショートを未然
に防止できる。
第2群が、ヒートシンクの第1の辺部及び第2の辺部に
対し水平面内で所定間隔を保持した状態となる結果、そ
れらインナリードと半導体チップをワイヤ接続する際
に、インナリードを治具によって確実に支えることが可
能になる。このため、インナリードと半導体チップ間に
所望寸法のワイヤ接続が可能となり、さらにワイヤ接続
時においてインナリードが変形してヒートシンクとショ
ートする恐れがなくなる。また、その後に行われる樹脂
モールドパッケージのためのモールド工程においても、
モールド樹脂の注入圧によってインナリードが変形する
ことがなくなるから、ヒートシンクへのショートを未然
に防止できる。
【0014】請求項4記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、ヒートシンク形成工程及び接続工程の
実行に応じて、略直交する第1の辺部と第2の辺部、並
びにその第2の辺部の一部から延びるアーム部を備えた
ヒートシンクが形成されると共に、そのヒートシンクが
リードフレームに対して上記アームを介して接続され
る。さらに、リードフレーム形成工程の実行に応じて、
第1群のインナリードが、ヒートシンクの第1の辺部に
対し水平面内で所定間隔を保持した状態を呈すると共
に、第2群のインナリードが、前記アーム部に沿うよう
に屈曲されてヒートシンクの第2の辺部に対し水平面内
で所定間隔を保持された状態のリードフレームが形成さ
れることになる。
造方法によれば、ヒートシンク形成工程及び接続工程の
実行に応じて、略直交する第1の辺部と第2の辺部、並
びにその第2の辺部の一部から延びるアーム部を備えた
ヒートシンクが形成されると共に、そのヒートシンクが
リードフレームに対して上記アームを介して接続され
る。さらに、リードフレーム形成工程の実行に応じて、
第1群のインナリードが、ヒートシンクの第1の辺部に
対し水平面内で所定間隔を保持した状態を呈すると共
に、第2群のインナリードが、前記アーム部に沿うよう
に屈曲されてヒートシンクの第2の辺部に対し水平面内
で所定間隔を保持された状態のリードフレームが形成さ
れることになる。
【0015】この後、ワイヤ接続工程では、少なくとも
前記第1群のインナリードと前記第2群のインナリード
における表面のワイヤ接続領域に対向する裏面を押さえ
つつ第1群のインナリードとヒートシンク上の半導体チ
ップとの間、及び第2群のインナリードと上記半導体チ
ップとの間をワイヤ接続することになる。
前記第1群のインナリードと前記第2群のインナリード
における表面のワイヤ接続領域に対向する裏面を押さえ
つつ第1群のインナリードとヒートシンク上の半導体チ
ップとの間、及び第2群のインナリードと上記半導体チ
ップとの間をワイヤ接続することになる。
【0016】上記のようなワイヤ接続工程を実行する際
において、インナリードの第1群及び第2群が、ヒート
シンクの第1の辺部及び第2の辺部に対し水平面内で所
定間隔を保持した状態となっているため、それらインナ
リードにおける表面のワイヤ接続領域に対向する裏面を
確実に押さえることができる。このため、インナリード
と半導体チップとの間のワイヤ接続を、安定した状態
で、尚且つ簡単に行い得るようになる。
において、インナリードの第1群及び第2群が、ヒート
シンクの第1の辺部及び第2の辺部に対し水平面内で所
定間隔を保持した状態となっているため、それらインナ
リードにおける表面のワイヤ接続領域に対向する裏面を
確実に押さえることができる。このため、インナリード
と半導体チップとの間のワイヤ接続を、安定した状態
で、尚且つ簡単に行い得るようになる。
【0017】請求項7記載の発明によれば、前記接続工
程における前記リードフレームとアーム部との間の接続
を、かしめ付け手法により行う構成、つまり、リードフ
レームに対するヒートシンクの接続を、別部品が不要な
安価な手段により行う構成となっているから、製造コス
トの低減を実現できるようになる。
程における前記リードフレームとアーム部との間の接続
を、かしめ付け手法により行う構成、つまり、リードフ
レームに対するヒートシンクの接続を、別部品が不要な
安価な手段により行う構成となっているから、製造コス
トの低減を実現できるようになる。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例について
図1ないし図5を参照しながら説明する。完成状態での
縦断面構造を示す図2において、樹脂封止型半導体装置
11は、樹脂モールドパッケージ12の対向両側面から
ガルウイング形状のリード13、14を複数本(例えば
12本)ずつ引き出すように構成された24ピンのSO
P形式のもので、その内部には、ヒートシンク15及び
このヒートシンク15の上面に接合材16によりダイボ
ンディングされた半導体チップ17が収納されている。
図1ないし図5を参照しながら説明する。完成状態での
縦断面構造を示す図2において、樹脂封止型半導体装置
11は、樹脂モールドパッケージ12の対向両側面から
ガルウイング形状のリード13、14を複数本(例えば
12本)ずつ引き出すように構成された24ピンのSO
P形式のもので、その内部には、ヒートシンク15及び
このヒートシンク15の上面に接合材16によりダイボ
ンディングされた半導体チップ17が収納されている。
【0019】尚、半導体チップ17及びリード13、1
4間は、ボンディングワイヤ18によりワイヤ接続され
ている。また、上記接合材16としては、Agペースト
やはんだなどのような伝熱性が良好なものが使用され
る。さらに、ヒートシンク15は、その下面が樹脂モー
ルドパッケージ12の下面から外部に露出された形態と
なっている。
4間は、ボンディングワイヤ18によりワイヤ接続され
ている。また、上記接合材16としては、Agペースト
やはんだなどのような伝熱性が良好なものが使用され
る。さらに、ヒートシンク15は、その下面が樹脂モー
ルドパッケージ12の下面から外部に露出された形態と
なっている。
【0020】図1には、上記半導体装置11の製造途中
の状態での平面構造が示されている。この図1におい
て、前記ヒートシンク15は、銅或いはアルミニウムな
どの伝熱性金属によって全体として矩形平板状に形成さ
れている。この場合、ヒートシンク15における一対の
長辺部15a、15bが本発明でいう第1の辺部に相当
し、それら長辺部15a、15bと直交する一対の短辺
部15c、15dが本発明でいう第2の辺部に相当す
る。また、ヒートシンク15は、その短辺部15c、1
5dの一部(中央部)から延びた状態のアーム部19及
び20を一体的に有した構成となっている。
の状態での平面構造が示されている。この図1におい
て、前記ヒートシンク15は、銅或いはアルミニウムな
どの伝熱性金属によって全体として矩形平板状に形成さ
れている。この場合、ヒートシンク15における一対の
長辺部15a、15bが本発明でいう第1の辺部に相当
し、それら長辺部15a、15bと直交する一対の短辺
部15c、15dが本発明でいう第2の辺部に相当す
る。また、ヒートシンク15は、その短辺部15c、1
5dの一部(中央部)から延びた状態のアーム部19及
び20を一体的に有した構成となっている。
【0021】リードフレーム21は、そのフレーム本体
22に上記ヒートシンク15が接続される。具体的に
は、フレーム本体22側には、ヒートシンク15のアー
ム部19及び20がかしめ付けにより接続される一対の
接続片23及び24と、前記リード13及び14群のた
めのアウタリード13a及び14a並びにインナリード
13b及び14bを支持するためのタイバー25及び2
6とが一体に設けられている。
22に上記ヒートシンク15が接続される。具体的に
は、フレーム本体22側には、ヒートシンク15のアー
ム部19及び20がかしめ付けにより接続される一対の
接続片23及び24と、前記リード13及び14群のた
めのアウタリード13a及び14a並びにインナリード
13b及び14bを支持するためのタイバー25及び2
6とが一体に設けられている。
【0022】この場合、インナリード13b及び14b
のうち、ヒートシンク15の長辺部15a及び15bと
それぞれ対応した位置に存するもの(本発明でいう第1
群のインナリードに相当)は、フレーム本体22からそ
れぞれヒートシンク15の長辺部15a及び15bに向
かって直線状に延びて当該長辺部15a及び15bと水
平面内で所定間隔を保持した状態で設けられる。
のうち、ヒートシンク15の長辺部15a及び15bと
それぞれ対応した位置に存するもの(本発明でいう第1
群のインナリードに相当)は、フレーム本体22からそ
れぞれヒートシンク15の長辺部15a及び15bに向
かって直線状に延びて当該長辺部15a及び15bと水
平面内で所定間隔を保持した状態で設けられる。
【0023】また、インナリード13b及び14bのう
ち、ヒートシンク15の短辺部15c及び15dとそれ
ぞれ対応した位置に存するもの(本発明でいう第2群の
インナリードに相当:図1中に符号(j)を付して示
す)は、フレーム本体22から屈曲してそれぞれ前記ア
ーム部19及び20に沿うようにヒートシンク15の短
辺部15c及び15dに向かって延びて当該短辺部15
c及び15dと水平面内で所定間隔を保持した状態で設
けられる。尚、図1には、前記樹脂モールドパッケージ
12の外形線を二点鎖線にて示した。
ち、ヒートシンク15の短辺部15c及び15dとそれ
ぞれ対応した位置に存するもの(本発明でいう第2群の
インナリードに相当:図1中に符号(j)を付して示
す)は、フレーム本体22から屈曲してそれぞれ前記ア
ーム部19及び20に沿うようにヒートシンク15の短
辺部15c及び15dに向かって延びて当該短辺部15
c及び15dと水平面内で所定間隔を保持した状態で設
けられる。尚、図1には、前記樹脂モールドパッケージ
12の外形線を二点鎖線にて示した。
【0024】図4及び図5には、ヒートシンク形成工
程、並びにヒートシンク15をリードフレーム21に接
続するための接続工程の流れが示されており、以下これ
について説明する。
程、並びにヒートシンク15をリードフレーム21に接
続するための接続工程の流れが示されており、以下これ
について説明する。
【0025】図4には、ヒートシンク形成工程の流れが
摸式的に示されている。このヒートシンク形成工程にお
いては、まず、図4(a)に示すように、スプール形態
とされた板状のヒートシンク素材27に対して、パンチ
28及びダイ29を使用したプレス加工を施すことによ
り、同図(b)に示すような形状、つまりアーム部1
9、20を備えた形状のヒートシンク15を打ち抜く。
摸式的に示されている。このヒートシンク形成工程にお
いては、まず、図4(a)に示すように、スプール形態
とされた板状のヒートシンク素材27に対して、パンチ
28及びダイ29を使用したプレス加工を施すことによ
り、同図(b)に示すような形状、つまりアーム部1
9、20を備えた形状のヒートシンク15を打ち抜く。
【0026】次に、図4(c)、(d)に示すように、
ヒートシンク15のアーム部19及び20の先端部に対
して、パンチ30及びダイ31を使用したパンチング加
工を施すことにより、かしめ用突起19a及び20aを
形成する。
ヒートシンク15のアーム部19及び20の先端部に対
して、パンチ30及びダイ31を使用したパンチング加
工を施すことにより、かしめ用突起19a及び20aを
形成する。
【0027】この後には、上記ヒートシンク15を、リ
ードフレーム形成工程を経て図1に示した形状とされた
リードフレーム21の接続片23、24に接続するとい
う接続工程を実行する。尚、上記リードフレーム形成工
程は、一対の接続片23及び24、リードフレーム本体
22、アウタリード13a及び14a、インナリード1
3b及び14bなどを備えたリードフレーム21を、例
えばプレス加工により形成するための工程である。
ードフレーム形成工程を経て図1に示した形状とされた
リードフレーム21の接続片23、24に接続するとい
う接続工程を実行する。尚、上記リードフレーム形成工
程は、一対の接続片23及び24、リードフレーム本体
22、アウタリード13a及び14a、インナリード1
3b及び14bなどを備えたリードフレーム21を、例
えばプレス加工により形成するための工程である。
【0028】図5には、前記接続工程の流れが摸式的に
示されている。この接続工程においては、まず、図5
(a)、(b)に示すように、ヒートシンク形成工程を
経たヒートシンク15側のかしめ用突起19a及び20
aを、リードフレーム21側の接続片23及び24にそ
れぞれ形成された透孔23a及び24a(これは前記リ
ードフレーム形成工程で予め形成される)に対し挿入す
る。次いで、同図(c)に示すように、その挿入状態で
当該突起19a及び20aをパンチ32により押し潰す
というかしめ付け加工を実行し、以て同図(d)に示す
ように、ヒートシンク15をリードフレーム21に接続
した状態とする。尚、図1には、上記かしめ付け加工に
より押し潰された状態の突起を符号19a′及び20
a′を付して示した。
示されている。この接続工程においては、まず、図5
(a)、(b)に示すように、ヒートシンク形成工程を
経たヒートシンク15側のかしめ用突起19a及び20
aを、リードフレーム21側の接続片23及び24にそ
れぞれ形成された透孔23a及び24a(これは前記リ
ードフレーム形成工程で予め形成される)に対し挿入す
る。次いで、同図(c)に示すように、その挿入状態で
当該突起19a及び20aをパンチ32により押し潰す
というかしめ付け加工を実行し、以て同図(d)に示す
ように、ヒートシンク15をリードフレーム21に接続
した状態とする。尚、図1には、上記かしめ付け加工に
より押し潰された状態の突起を符号19a′及び20
a′を付して示した。
【0029】上記のような接続工程が終了した後には、
具体的には図示しないが、ヒートシンク15上に半導体
チップ17を搭載するダイボンディング工程、インナリ
ード13b及び14b群における表面のワイヤ接続領域
に対向する裏面を治具などにより押さえつつ、それらイ
ンナリード13b及び14b群と半導体チップ17との
間をボンディングワイヤ18により接続するためのワイ
ヤ接続工程、半導体チップ17及びヒートシンク15
を、少なくとも当該ヒートシンク15の裏側面(下面)
を外部に露出させた状態で樹脂モールドして樹脂モール
ドパッケージ12を形成するモールド工程、リードフレ
ーム21を所定位置(接続片23、24を樹脂モールド
パッケージ12の外側面に沿った部分で切り離す位置、
並びにタイバー25、26を除去する位置)で切断する
動作及び当該リードフレーム21のアウタリード13a
及び14aをガルウイング形状に整形する動作を行うリ
ード形成工程を順次実行することにより、図2に示すよ
うな樹脂封止型半導体装置11を完成させる。
具体的には図示しないが、ヒートシンク15上に半導体
チップ17を搭載するダイボンディング工程、インナリ
ード13b及び14b群における表面のワイヤ接続領域
に対向する裏面を治具などにより押さえつつ、それらイ
ンナリード13b及び14b群と半導体チップ17との
間をボンディングワイヤ18により接続するためのワイ
ヤ接続工程、半導体チップ17及びヒートシンク15
を、少なくとも当該ヒートシンク15の裏側面(下面)
を外部に露出させた状態で樹脂モールドして樹脂モール
ドパッケージ12を形成するモールド工程、リードフレ
ーム21を所定位置(接続片23、24を樹脂モールド
パッケージ12の外側面に沿った部分で切り離す位置、
並びにタイバー25、26を除去する位置)で切断する
動作及び当該リードフレーム21のアウタリード13a
及び14aをガルウイング形状に整形する動作を行うリ
ード形成工程を順次実行することにより、図2に示すよ
うな樹脂封止型半導体装置11を完成させる。
【0030】上記のような半導体装置11は、最終的に
は、図3に示すように、プリント配線基板33上に表面
実装されるものであるが、その実装時には、リード13
及び14をプリント配線基板33上の配線パターン(図
示せず)にはんだ33aによって接続すると共に、ヒー
トシンク15下面の露出部分をプリント配線基板33上
のランド(図示せず)にはんだ33bよって伝熱的に接
合するものである。
は、図3に示すように、プリント配線基板33上に表面
実装されるものであるが、その実装時には、リード13
及び14をプリント配線基板33上の配線パターン(図
示せず)にはんだ33aによって接続すると共に、ヒー
トシンク15下面の露出部分をプリント配線基板33上
のランド(図示せず)にはんだ33bよって伝熱的に接
合するものである。
【0031】ここで、ヒートシンク15の具体的寸法に
ついて図1ないし図3を使用しながら考察しておく。即
ち、本実施例のようなSOP形式のパッケージにおい
て、呼び寸法Lが375mil であった場合、パッケージ
幅Dが約7.5mm、パッケージ厚みEが約2.5mmの外
形寸法のものが一般的となっている(ピンピッチは約
1.27mm)。このため、ヒートシンク15の厚さ寸法
Fは、これを樹脂モールドパッケージ12の下面から露
出させる都合上、必然的にパッケージ厚みEの約半分と
なる1.25mm程度の値となる。
ついて図1ないし図3を使用しながら考察しておく。即
ち、本実施例のようなSOP形式のパッケージにおい
て、呼び寸法Lが375mil であった場合、パッケージ
幅Dが約7.5mm、パッケージ厚みEが約2.5mmの外
形寸法のものが一般的となっている(ピンピッチは約
1.27mm)。このため、ヒートシンク15の厚さ寸法
Fは、これを樹脂モールドパッケージ12の下面から露
出させる都合上、必然的にパッケージ厚みEの約半分と
なる1.25mm程度の値となる。
【0032】ヒートシンク15のアーム部19及び20
の幅寸法G(図1参照)は、当該ヒートシンク15をプ
レス加工により打ち抜き形成する関係上、捩じれや歪み
などの発生を見ることがなく、且つ形状再現性が高くな
るように考慮する必要があり、このため、目的の形状を
再現性良く得るためには、少なくとも厚さ寸法Fと同等
以上の寸法である約1.3mm程度に設定することにな
る。
の幅寸法G(図1参照)は、当該ヒートシンク15をプ
レス加工により打ち抜き形成する関係上、捩じれや歪み
などの発生を見ることがなく、且つ形状再現性が高くな
るように考慮する必要があり、このため、目的の形状を
再現性良く得るためには、少なくとも厚さ寸法Fと同等
以上の寸法である約1.3mm程度に設定することにな
る。
【0033】また、ヒートシンク15の幅寸法Hについ
ては、以下のようになる。つまり、インナリード13b
及び14bのうち、樹脂モールドパッケージ12への埋
め込み寸法が最も短くなるものの引き抜き強度と、ワイ
ヤボンディング工程におけるセカンドボンディング部
(インナリード13b及び14b側のワイヤボンディン
グ箇所)からパッケージ外形端までの距離(耐湿性を確
保するための距離)を考慮した場合、上記埋め込み寸法
が最も短くなるインナリード13b及び14bの先端面
とパッケージ外形端との間の距離Jは、経験的に1mm前
後が妥当な寸法となる。この場合、ヒートシンク15と
インナリード13b及び14bとの間のクリアランスK
を0.3mmとすると、ヒートシンク15の幅寸法Hは、
パッケージ幅D(=7.5mm)から、上記距離J(=1
mm)及びクリアランスK(=0.3mm)の合計値の2倍
を差し引いた値となる。即ち、 H=7.5−(1+0.3)×2=4.9mm となる。
ては、以下のようになる。つまり、インナリード13b
及び14bのうち、樹脂モールドパッケージ12への埋
め込み寸法が最も短くなるものの引き抜き強度と、ワイ
ヤボンディング工程におけるセカンドボンディング部
(インナリード13b及び14b側のワイヤボンディン
グ箇所)からパッケージ外形端までの距離(耐湿性を確
保するための距離)を考慮した場合、上記埋め込み寸法
が最も短くなるインナリード13b及び14bの先端面
とパッケージ外形端との間の距離Jは、経験的に1mm前
後が妥当な寸法となる。この場合、ヒートシンク15と
インナリード13b及び14bとの間のクリアランスK
を0.3mmとすると、ヒートシンク15の幅寸法Hは、
パッケージ幅D(=7.5mm)から、上記距離J(=1
mm)及びクリアランスK(=0.3mm)の合計値の2倍
を差し引いた値となる。即ち、 H=7.5−(1+0.3)×2=4.9mm となる。
【0034】従って、アーム部19及び20の指向方向
に沿うように屈曲された形状のインナリード13b及び
14b(図1中に符号(j)を付して示す)を引き回し
可能となる各領域の幅寸法L(図1参照)は、上記ヒー
トシンク15の幅寸法H(=4.9mm)からアーム部1
9及び20の幅寸法G(=1.3mm)を差し引いた値の
半分になる。即ち、 L=(4.9−1.3)÷2=1.8mm となる。従って、図1に示したように、上記各領域に
は、リードピッチ(ピンッチ)が0.9mm程度以下であ
れば、2本ずつのインナリード13b及び14bを余裕
を持って引き回し得るようになる。
に沿うように屈曲された形状のインナリード13b及び
14b(図1中に符号(j)を付して示す)を引き回し
可能となる各領域の幅寸法L(図1参照)は、上記ヒー
トシンク15の幅寸法H(=4.9mm)からアーム部1
9及び20の幅寸法G(=1.3mm)を差し引いた値の
半分になる。即ち、 L=(4.9−1.3)÷2=1.8mm となる。従って、図1に示したように、上記各領域に
は、リードピッチ(ピンッチ)が0.9mm程度以下であ
れば、2本ずつのインナリード13b及び14bを余裕
を持って引き回し得るようになる。
【0035】次に、アーム部19及び20の長さ寸法に
ついては、パッケージのリードピン数(リード13及び
14の合計数、本実施例の場合24本)、つまり樹脂モ
ールドパッケージ12の長さ方向の寸法と半導体チップ
17のチップサイズに応じて変えることができる。リー
ドピン数が同じパッケージにおいては、チップサイズが
小さくなるのに応じて上記長さ寸法が長くなるように設
定する。このようにアーム部19及び20の長さ寸法を
変更することによって、種々のチップサイズに対応でき
ることになり、当該チップサイズについての自由度を高
めることができる。
ついては、パッケージのリードピン数(リード13及び
14の合計数、本実施例の場合24本)、つまり樹脂モ
ールドパッケージ12の長さ方向の寸法と半導体チップ
17のチップサイズに応じて変えることができる。リー
ドピン数が同じパッケージにおいては、チップサイズが
小さくなるのに応じて上記長さ寸法が長くなるように設
定する。このようにアーム部19及び20の長さ寸法を
変更することによって、種々のチップサイズに対応でき
ることになり、当該チップサイズについての自由度を高
めることができる。
【0036】次に、ヒートシンク15の寸法を上記のよ
うに設定した場合、放熱性にどのような影響が及ぶかを
考察する。本実施例による樹脂封止型半導体装置11
は、図6〜図11に示した従来構造のものに比べて、ヒ
ートシンク15の大きさが小さくなっている。つまり、
ヒートシンク15は、図9〜図13のものと比べた場
合、インナーリード13及び14とオーバーラップでき
ない分だけ小さくなり、また、図6〜図8のものと比べ
た場合、インナーリード13b及び14bを引き回すス
ペースを設けた分だけ小さくなっているが、このことに
よる放熱性の低下は、以下に述べるように問題とならな
い。
うに設定した場合、放熱性にどのような影響が及ぶかを
考察する。本実施例による樹脂封止型半導体装置11
は、図6〜図11に示した従来構造のものに比べて、ヒ
ートシンク15の大きさが小さくなっている。つまり、
ヒートシンク15は、図9〜図13のものと比べた場
合、インナーリード13及び14とオーバーラップでき
ない分だけ小さくなり、また、図6〜図8のものと比べ
た場合、インナーリード13b及び14bを引き回すス
ペースを設けた分だけ小さくなっているが、このことに
よる放熱性の低下は、以下に述べるように問題とならな
い。
【0037】つまり、前述したように、本実施例による
樹脂封止型半導体装置11は、そのヒートシンク15を
プリント配線基板33上のランドに伝熱的にはんだ付け
して用いるものであるが、この構成とした場合の熱抵抗
θja(チップのジャンクシヨンから雰囲気中への熱抵
抗)は、図3に示したように、 θja=θjc+θs十θp+θpa 但し、θjc:ジャンクシヨン・パッケージ間の熱抵抗 θs:はんだ付け部分の熱抵抗 θp:プリント配線基板33の熱抵抗 θpa: プリント配線基板33・雰囲気間の熱抵抗 となる。ここで、実装するプリント配線基板33の基板
サイズ、材料、層数、銅箔配線パターンの密度などを同
一とすれば、パッケージに関係なく、θp、θpaは同じ
値となる。
樹脂封止型半導体装置11は、そのヒートシンク15を
プリント配線基板33上のランドに伝熱的にはんだ付け
して用いるものであるが、この構成とした場合の熱抵抗
θja(チップのジャンクシヨンから雰囲気中への熱抵
抗)は、図3に示したように、 θja=θjc+θs十θp+θpa 但し、θjc:ジャンクシヨン・パッケージ間の熱抵抗 θs:はんだ付け部分の熱抵抗 θp:プリント配線基板33の熱抵抗 θpa: プリント配線基板33・雰囲気間の熱抵抗 となる。ここで、実装するプリント配線基板33の基板
サイズ、材料、層数、銅箔配線パターンの密度などを同
一とすれば、パッケージに関係なく、θp、θpaは同じ
値となる。
【0038】パッケージによって異なるのは、θjcとθ
sの二つとなるが、θjcについては、半導体チップ17
を、ヒートシンク15に対し伝熱性が良好な接合材16
を介して直接ダイボンディングしていることより、その
半導体チップ17から発熱した熱は、その接合材16を
通つて、熱伝導性が良好なヒートシンク15に直接逃げ
るため、その熱抵抗としての値は1〜2℃/Wと、もと
もと非常に小さい。この場合、ヒートシンク15の大き
さによる影響は、ヒートシンク15を本実施例のように
銅或いはアルミニウムなどの伝熱性金属によって形成し
たときには、十分に小さくなるため、そのサイズを多少
縮小しても非常に少なく、問題とならない。同様に、θ
sについても、半導体チップ17の接合材料として金属
であるはんだ30bを用いているため、もともと熱抵抗
の値は小さく、接合面積の影響はほとんど受けない。
sの二つとなるが、θjcについては、半導体チップ17
を、ヒートシンク15に対し伝熱性が良好な接合材16
を介して直接ダイボンディングしていることより、その
半導体チップ17から発熱した熱は、その接合材16を
通つて、熱伝導性が良好なヒートシンク15に直接逃げ
るため、その熱抵抗としての値は1〜2℃/Wと、もと
もと非常に小さい。この場合、ヒートシンク15の大き
さによる影響は、ヒートシンク15を本実施例のように
銅或いはアルミニウムなどの伝熱性金属によって形成し
たときには、十分に小さくなるため、そのサイズを多少
縮小しても非常に少なく、問題とならない。同様に、θ
sについても、半導体チップ17の接合材料として金属
であるはんだ30bを用いているため、もともと熱抵抗
の値は小さく、接合面積の影響はほとんど受けない。
【0039】即ち、本実施例のようなパッケージ構造に
おいて、ヒートシンク15をプリント配線基板33には
んだ付けする場合においては、ヒートシンク15のサイ
ズを多少小さくしても、熱抵抗値は大きくならず放熱性
の低下は生じないことが分かる。
おいて、ヒートシンク15をプリント配線基板33には
んだ付けする場合においては、ヒートシンク15のサイ
ズを多少小さくしても、熱抵抗値は大きくならず放熱性
の低下は生じないことが分かる。
【0040】尚、ここでは、呼び寸法Lが375mil の
SOPを例にして説明したが、他のサイズのものにも同
様に適用できる。例えば、呼び寸法Lが225mil の8
〜10ピンSOP、300mil の10〜16ピンSO
P、450mil の24〜28ピンSOP、525mil の
28〜36ピンSOPなどにも適用できる。
SOPを例にして説明したが、他のサイズのものにも同
様に適用できる。例えば、呼び寸法Lが225mil の8
〜10ピンSOP、300mil の10〜16ピンSO
P、450mil の24〜28ピンSOP、525mil の
28〜36ピンSOPなどにも適用できる。
【0041】しかして、上記した本実施例によれば、以
下に述べるような効果を奏するものである。樹脂封止型
半導体装置11にあっては、ヒートシンク15とインナ
リード13b及び14bの先端部とがオーバーラップし
ない形態となっているから、ヒートシンク15上に搭載
された半導体チップ17とインナリード13b及び14
bとの間をボンディングワイヤ18により接続するワイ
ヤボンディング工程において、インナリード13b及び
14bにおける表面のワイヤ接続領域に対向する裏面を
下側から確実に押さえつつ、その接続を行い得るように
なる。
下に述べるような効果を奏するものである。樹脂封止型
半導体装置11にあっては、ヒートシンク15とインナ
リード13b及び14bの先端部とがオーバーラップし
ない形態となっているから、ヒートシンク15上に搭載
された半導体チップ17とインナリード13b及び14
bとの間をボンディングワイヤ18により接続するワイ
ヤボンディング工程において、インナリード13b及び
14bにおける表面のワイヤ接続領域に対向する裏面を
下側から確実に押さえつつ、その接続を行い得るように
なる。
【0042】この結果、インナリード13b及び14b
に対するボンディングワイヤ18のボンディング状態を
安定させることができて、その接合信頼性が向上するこ
とになり、また、ワイヤボンディング時においてインナ
リード13b及び14bが変形してヒートシンク15と
ショートするというような事態を引き起こす恐れがなく
なる。また、その後に行われる樹脂モールドパッケージ
12のためのモールド工程においても、モールド樹脂の
注入圧によってインナリード13b及び14bが変形す
ることがなくなるから、ヒートシンク15へのショート
を未然に防止できる。しかも、従来のように、ワイヤボ
ンディング工程時において、ヒートシンクとインナリー
ドとの間に金属製の治具(図11参照)を挿入する作業
が不必要になるから、ワイヤボンディング工程が複雑化
する恐れがなくなる。
に対するボンディングワイヤ18のボンディング状態を
安定させることができて、その接合信頼性が向上するこ
とになり、また、ワイヤボンディング時においてインナ
リード13b及び14bが変形してヒートシンク15と
ショートするというような事態を引き起こす恐れがなく
なる。また、その後に行われる樹脂モールドパッケージ
12のためのモールド工程においても、モールド樹脂の
注入圧によってインナリード13b及び14bが変形す
ることがなくなるから、ヒートシンク15へのショート
を未然に防止できる。しかも、従来のように、ワイヤボ
ンディング工程時において、ヒートシンクとインナリー
ドとの間に金属製の治具(図11参照)を挿入する作業
が不必要になるから、ワイヤボンディング工程が複雑化
する恐れがなくなる。
【0043】また、ヒートシンク15上に搭載された半
導体チップ17のチップサイズが相対的に小さい場合で
あっても、各インナリード13b及び14bの先端部を
当該半導体チップ17に近接させた状態とすることがで
きるから、インナリード13b及び14bと半導体チッ
プ17との間を接続するためのボンディングワイヤ18
について長さの制約を受ける恐れがなくなり、搭載する
半導体チップ17のチップサイズについての自由度が高
くなる。しかも、前述したように、アーム部19及び2
0の長さ寸法を変更することによっても、半導体チップ
17のチップサイズについての自由度を高めることがで
きる。この結果、搭載する半導体チップ17として最適
チップサイズのものを利用できるようになる。
導体チップ17のチップサイズが相対的に小さい場合で
あっても、各インナリード13b及び14bの先端部を
当該半導体チップ17に近接させた状態とすることがで
きるから、インナリード13b及び14bと半導体チッ
プ17との間を接続するためのボンディングワイヤ18
について長さの制約を受ける恐れがなくなり、搭載する
半導体チップ17のチップサイズについての自由度が高
くなる。しかも、前述したように、アーム部19及び2
0の長さ寸法を変更することによっても、半導体チップ
17のチップサイズについての自由度を高めることがで
きる。この結果、搭載する半導体チップ17として最適
チップサイズのものを利用できるようになる。
【0044】さらに、ヒートシンク15とフレーム本体
22との接続を、当該ヒートシンク15のアーム部19
及び20にパンチング加工により形成したかしめ用突起
19a及び20aと、フレーム本体22側に形成された
透孔23a及び24aとを利用したかしめ付けにより行
う構成となっているから、その接続に別部品が不要とな
って安価になし得る。
22との接続を、当該ヒートシンク15のアーム部19
及び20にパンチング加工により形成したかしめ用突起
19a及び20aと、フレーム本体22側に形成された
透孔23a及び24aとを利用したかしめ付けにより行
う構成となっているから、その接続に別部品が不要とな
って安価になし得る。
【0045】また、上記のような効果を奏する樹脂封止
型半導体装置11を製造するに際して、ヒートシンク1
5と一対のアーム部19及び20とを一体的に備えた形
状のヒートシンク15を形成するヒートシンク形成工
程、ヒートシンク15の各アーム部19、20が接続さ
れる一対の接続片23、24及びアウタリード13a、
14a並びに図1に示すように屈曲された形状のものを
含むインナリード13b、14bを備えたリードフレー
ム21を形成するリードフレーム形成工程、ヒートシン
ク15が有する一対のアーム部19、20を、リードフ
レーム21が有する一対の接続片23、24に接続する
接続工程を行った後に、通常のダイボンディング工程、
ワイヤボンディング工程、モールド工程、リード形成工
程を順次実行するという一般的な手順により、樹脂封止
型半導体装置11を完成できるものであり、その製造の
ための工程が複雑化する恐れがなくなるものである。
型半導体装置11を製造するに際して、ヒートシンク1
5と一対のアーム部19及び20とを一体的に備えた形
状のヒートシンク15を形成するヒートシンク形成工
程、ヒートシンク15の各アーム部19、20が接続さ
れる一対の接続片23、24及びアウタリード13a、
14a並びに図1に示すように屈曲された形状のものを
含むインナリード13b、14bを備えたリードフレー
ム21を形成するリードフレーム形成工程、ヒートシン
ク15が有する一対のアーム部19、20を、リードフ
レーム21が有する一対の接続片23、24に接続する
接続工程を行った後に、通常のダイボンディング工程、
ワイヤボンディング工程、モールド工程、リード形成工
程を順次実行するという一般的な手順により、樹脂封止
型半導体装置11を完成できるものであり、その製造の
ための工程が複雑化する恐れがなくなるものである。
【0046】尚、本発明は上記した実施例に限定される
ものではなく、次のような変形または拡張が可能であ
る。上記実施例では、樹脂モールドパッケージ12の下
面から露出させたヒートシンク15をプリント配線基板
33上のランドにはんだ付けする構成としたが、放熱性
の要求レベルが低い場合には、ヒートシンクを樹脂モー
ルドパッケージの上面に露出させる構成としても良い。
表面実装型のパッケージであるSOPを例にして説明し
たが、DIP(Dual In-line Package)のようなピン挿
入型のパッケージを備えた樹脂封止型半導体装置に適用
しても良い。
ものではなく、次のような変形または拡張が可能であ
る。上記実施例では、樹脂モールドパッケージ12の下
面から露出させたヒートシンク15をプリント配線基板
33上のランドにはんだ付けする構成としたが、放熱性
の要求レベルが低い場合には、ヒートシンクを樹脂モー
ルドパッケージの上面に露出させる構成としても良い。
表面実装型のパッケージであるSOPを例にして説明し
たが、DIP(Dual In-line Package)のようなピン挿
入型のパッケージを備えた樹脂封止型半導体装置に適用
しても良い。
【0047】ヒートシンク15の形状は、矩形状に限ら
ないものであり、例えば円形状或いはこれに類似した形
状であっても良い。ヒートシンク15をフレーム本体2
2の接続片23及び24に接続するために、上記実施例
のようなかしめ手段(かしめ用突起19a及び20a、
透孔23a及び24a)に代えて溶接やはんだ付けなど
の他の接続手段を採用することもできる。
ないものであり、例えば円形状或いはこれに類似した形
状であっても良い。ヒートシンク15をフレーム本体2
2の接続片23及び24に接続するために、上記実施例
のようなかしめ手段(かしめ用突起19a及び20a、
透孔23a及び24a)に代えて溶接やはんだ付けなど
の他の接続手段を採用することもできる。
【0048】ヒートシンク15は、リードフレーム21
に対し、一対のアーム部19及び20を介して両持ち状
に支持する構成としたが、リードフレーム21に対し片
持ち状に支持する構成を採用することも可能である。
に対し、一対のアーム部19及び20を介して両持ち状
に支持する構成としたが、リードフレーム21に対し片
持ち状に支持する構成を採用することも可能である。
【図1】本発明の第1実施例を示す製造途中での平面図
【図2】完成状態での縦断面図
【図3】実装状態での放熱性や寸法関係を説明するため
の摸式的縦断面図
の摸式的縦断面図
【図4】ヒートシンク製造工程の流れを摸式的に示す工
程図
程図
【図5】接続工程の流れを摸式的に示す工程図
【図6】第1の従来例を説明するための要部の平面図
【図7】図6中のA−A線に沿った断面図
【図8】ワイヤボンディング治具の配置を説明するため
の要部の縦断面図
の要部の縦断面図
【図9】第2の従来例を説明するための要部の平面図
【図10】図9中のB−B線に沿った断面図
【図11】ワイヤボンディング治具の配置を説明するた
めの要部の縦断面図
めの要部の縦断面図
11は樹脂封止型半導体装置、12は樹脂モールドパッ
ケージ、13はリード、13a、14aはアウタリー
ド、13b、14bはインナリード、15はヒートシン
ク、15a、15bは長辺部(第1の辺部)、15c、
15dは短辺部(第2の辺部)、17は半導体チップ、
18はボンディングワイヤ、19、20はアーム部、1
9a、20aはかしめ用突起、21はリードフレーム、
23、24は接続片、23a、24aは透孔、33はプ
リント配線基板を示す。
ケージ、13はリード、13a、14aはアウタリー
ド、13b、14bはインナリード、15はヒートシン
ク、15a、15bは長辺部(第1の辺部)、15c、
15dは短辺部(第2の辺部)、17は半導体チップ、
18はボンディングワイヤ、19、20はアーム部、1
9a、20aはかしめ用突起、21はリードフレーム、
23、24は接続片、23a、24aは透孔、33はプ
リント配線基板を示す。
Claims (7)
- 【請求項1】 ヒートシンク上に搭載された半導体チッ
プと、リードフレームから延びて前記ヒートシンクと所
定間隔を有して配置された複数のインナリードとの間を
ワイヤ接続したものを樹脂モールドパッケージしてなる
樹脂封止型半導体装置において、 前記ヒートシンクは略直交する第1の辺部と第2の辺部
を有すると共に前記第2の辺部の一部から延びて前記リ
ードフレームと接続されるアーム部を有し、 前記インナリードの第1群が前記リードフレームから前
記第1の辺部に向かって延びて前記第1の辺部と水平面
内で所定間隔を保持して設けられ、 前記インナリードの第2群が前記リードフレームから屈
曲して前記アーム部に沿うように前記第2の辺部に向か
って延びて前記第2の辺部に水平面内で所定間隔を保持
して設けられ、 前記インナリードの第1群と前記半導体チップとの間、
及び前記インナリードの第2群と前記半導体チップとの
間がワイヤ接続されてなることを特徴とする樹脂封止型
半導体装置。 - 【請求項2】 前記第1の辺部及び前記第2の辺部は各
々対向する2辺からなり、 前記ヒートシンクは前記第1の辺部及び前記第2の辺部
によって矩形に形成されていることを特徴とする請求項
1に記載の樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項3】 前記アーム部は前記2つの第2の辺部よ
り各々延びて形成されて、それぞれのアーム部が前記リ
ードフレームに接続されていることを特徴とする請求項
2に記載の樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項4】 ヒートシンク上に搭載された半導体チッ
プと、リードフレームから延びて前記ヒートシンクと所
定間隔を有して配置された複数のインナリードとの間を
ワイヤ接続したものを樹脂モールドパッケージしてなる
樹脂封止型半導体装置の製造方法において、 前記ヒートシンクに対して第1の辺部とこの第1の辺部
に略直交する第2の辺部を形成すると共に、この第2の
辺部の一部から延びるアーム部を形成するヒートシンク
形成工程と、 前記リードフレームを前記ヒートシンクの前記アーム部
に接続する接続工程と、 この接続工程によって、第1群のインナリードが前記第
1の辺部に向かって前記リードフレームから延びて前記
第1の辺部と水平面内で所定間隔を保持し、且つ第2群
のインナリードが屈曲して前記アーム部に沿うように前
記第2の辺部に向かって前記リードフレームから延びて
前記第2の辺部と水平面内で所定間隔を保持するよう
に、前記第1群のインナリードと前記第2群のインナリ
ードとを前記接続工程前に形成するリードフレーム形成
工程と、 少なくとも前記第1群のインナリードと前記第2群のイ
ンナリードにおける表面のワイヤ接続領域に対向する裏
面を押さえつつ、前記第1群のインナリードと前記ヒー
トシンク上の前記半導体チップとの間、及び前記第2群
のインナリードと前記ヒートシンク上の前記半導体チッ
プとの間をワイヤ接続するワイヤ接続工程と、を含むこ
とを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。 - 【請求項5】 前記ワイヤ接続工程では、ヒートシンク
と前記第1群及び第2群のインナリードを前記ワイヤが
接続される側と反対側から支持する支持手段を用いてワ
イヤ接続を行うことを特徴とする請求項4に記載の脂封
止型半導体装置の製造方法。 - 【請求項6】前記ヒートシンク形成工程では、前記第1
の辺部及び前記第2の辺部を各々対向する2辺として形
成し、それぞれの第2の辺部に前記アーム部を形成する
ことを特徴とする請求項4または5に記載の樹脂封止型
半導体装置の製造方法。 - 【請求項7】前記接続工程における前記リードフレーム
と前記アーム部の接続はかしめ付け手法にて行われる請
求項4ないし6の何れかに記載の樹脂封止型半導体装置
の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9310404A JPH11145364A (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
US09/166,900 US6117709A (en) | 1997-11-12 | 1998-10-06 | Resin sealing type semiconductor device and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9310404A JPH11145364A (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11145364A true JPH11145364A (ja) | 1999-05-28 |
Family
ID=18004854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9310404A Pending JPH11145364A (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6117709A (ja) |
JP (1) | JPH11145364A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007184643A (ja) * | 2007-03-28 | 2007-07-19 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 光半導体パッケージ |
JP2010287914A (ja) * | 2010-09-14 | 2010-12-24 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 光半導体パッケージ |
JP2012129392A (ja) * | 2010-12-16 | 2012-07-05 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | フレーム組立体、半導体装置及びその製造方法 |
JP2012199436A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2014042079A (ja) * | 2013-12-02 | 2014-03-06 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 光半導体パッケージ |
JP6373545B1 (ja) * | 2017-12-27 | 2018-08-15 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
US11837530B2 (en) | 2020-12-02 | 2023-12-05 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Lead frame with a support portion having a through hole over a heat dissipation plate, semiconductor device, and manufacturing method of lead frame |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100350046B1 (ko) * | 1999-04-14 | 2002-08-24 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 리드프레임 및 이를 이용한 방열판이 부착된 반도체패키지 |
JP2001007268A (ja) * | 1999-06-24 | 2001-01-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
US6500699B1 (en) * | 2000-07-11 | 2002-12-31 | Advanced Micro Devices, Inc. | Test fixture for future integration |
JP2005019554A (ja) * | 2003-06-24 | 2005-01-20 | Renesas Technology Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
US8502362B2 (en) * | 2011-08-16 | 2013-08-06 | Advanced Analogic Technologies, Incorporated | Semiconductor package containing silicon-on-insulator die mounted in bump-on-leadframe manner to provide low thermal resistance |
DE102011088969A1 (de) * | 2011-12-19 | 2013-06-20 | Robert Bosch Gmbh | Getriebesteuermodul |
US8995933B2 (en) | 2013-06-21 | 2015-03-31 | Motorola Solutions, Inc. | Radio frequency transistor and matching circuit grounding and thermal management apparatus |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5418280A (en) * | 1977-07-11 | 1979-02-10 | Mitsubishi Electric Corp | Resin sealed semiconductor device |
JPS5556649A (en) * | 1978-10-20 | 1980-04-25 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
US4331831A (en) * | 1980-11-28 | 1982-05-25 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Package for semiconductor integrated circuits |
JPS58173248A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-12 | 鐘淵化学工業株式会社 | 屋上外断熱工法 |
JPH0635101B2 (ja) * | 1986-10-02 | 1994-05-11 | キヤノン株式会社 | 3面同時加工方法及び該方法に用いる装置 |
JPH0733928B2 (ja) * | 1988-07-18 | 1995-04-12 | 三洋電機株式会社 | 給湯装置の制御方法 |
JPH02306639A (ja) * | 1989-05-22 | 1990-12-20 | Toshiba Corp | 半導体装置の樹脂封入方法 |
JPH0797649B2 (ja) * | 1990-03-07 | 1995-10-18 | 三菱電機株式会社 | 半導体圧力センサ装置およびその製造方法 |
IT1247649B (it) * | 1990-10-31 | 1994-12-28 | Sgs Thomson Microelectronics | Procedimento di incapsulamento in resina di un dispositivo a semiconduttore di potenza montato su dissipatore allontanando i reofori dal dissipatore mediante l'azione del controstampo in fase di chiusura dello stampo |
IT1252136B (it) * | 1991-11-29 | 1995-06-05 | St Microelectronics Srl | Struttura di dispositivo a semiconduttore con dissipatore metallico e corpo in plastica, con mezzi per una connessione elettrica al dissipatore di alta affidabilita' |
JPH06252315A (ja) * | 1993-03-01 | 1994-09-09 | Hitachi Cable Ltd | 半導体装置 |
JP2844316B2 (ja) * | 1994-10-28 | 1999-01-06 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置およびその実装構造 |
DE69620564T2 (de) * | 1996-01-25 | 2003-01-30 | Stmicroelectronics S.R.L., Agrate Brianza | Kunststoffkörper eines Leitungshalbleiters zur Oberflächenmontage mit optimierten charakteristischen Abmessungen zur Benutzung von Standard-Transport- und Testhaltern |
JP3870301B2 (ja) * | 1996-06-11 | 2007-01-17 | ヤマハ株式会社 | 半導体装置の組立法、半導体装置及び半導体装置の連続組立システム |
-
1997
- 1997-11-12 JP JP9310404A patent/JPH11145364A/ja active Pending
-
1998
- 1998-10-06 US US09/166,900 patent/US6117709A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007184643A (ja) * | 2007-03-28 | 2007-07-19 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 光半導体パッケージ |
JP2010287914A (ja) * | 2010-09-14 | 2010-12-24 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 光半導体パッケージ |
JP2012129392A (ja) * | 2010-12-16 | 2012-07-05 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | フレーム組立体、半導体装置及びその製造方法 |
JP2012199436A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2014042079A (ja) * | 2013-12-02 | 2014-03-06 | Toshiba Electronic Engineering Corp | 光半導体パッケージ |
JP6373545B1 (ja) * | 2017-12-27 | 2018-08-15 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2019130474A1 (ja) * | 2017-12-27 | 2019-07-04 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
KR20200087200A (ko) * | 2017-12-27 | 2020-07-20 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 반도체 장치 |
US11335619B2 (en) | 2017-12-27 | 2022-05-17 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
US11837530B2 (en) | 2020-12-02 | 2023-12-05 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Lead frame with a support portion having a through hole over a heat dissipation plate, semiconductor device, and manufacturing method of lead frame |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6117709A (en) | 2000-09-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9905497B2 (en) | Resin sealing type semiconductor device and method of manufacturing the same, and lead frame | |
KR101388328B1 (ko) | 통합 tht 히트 스프레더 핀을 구비한 리드 프레임 기반 오버-몰딩 반도체 패키지와 그 제조 방법 | |
US8502360B2 (en) | Resin sealing type semiconductor device and method of manufacturing the same, and resin sealing type electronic device | |
US5747779A (en) | Method of fusing and programming fuse frame | |
JPH11145364A (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
US6780679B2 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
KR950000205B1 (ko) | 리이드 프레임 및 이를 사용한 반도체 장치 | |
US6238953B1 (en) | Lead frame, resin-encapsulated semiconductor device and fabrication process for the device | |
US20210265214A1 (en) | Methods and apparatus for an improved integrated circuit package | |
JP2001035985A (ja) | 樹脂封止半導体装置 | |
JP5145596B2 (ja) | 半導体装置 | |
CN219497790U (zh) | 封装元件 | |
WO2024166846A1 (ja) | 半導体装置 | |
JP2001135767A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2001267484A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP3566109B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPH11145369A (ja) | リードフレームおよびそれを用いた半導体装置ならびにその製造方法 | |
JP3019000B2 (ja) | 樹脂封止形半導体装置の製造方法 | |
JP3287327B2 (ja) | 半導体樹脂封止パッケージの製造方法 | |
KR101016715B1 (ko) | 반도체장치 | |
JP2803333B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH10340919A (ja) | 樹脂パッケージ型半導体装置 | |
JPH08204104A (ja) | 半導体装置 | |
JPH04206761A (ja) | 半導体装置 | |
JP2002343906A (ja) | 樹脂封止型半導体部品及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040809 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060418 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060822 |