JPH1112759A - 耐摩耗性膜付き部材 - Google Patents
耐摩耗性膜付き部材Info
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- JPH1112759A JPH1112759A JP16830597A JP16830597A JPH1112759A JP H1112759 A JPH1112759 A JP H1112759A JP 16830597 A JP16830597 A JP 16830597A JP 16830597 A JP16830597 A JP 16830597A JP H1112759 A JPH1112759 A JP H1112759A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- carbide
- thickness
- carbonitride
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 摩擦力に十分な表面粗さを有し、耐摩耗性に
優れた硬質膜付き部材を提供する。 【解決手段】 部材の少なくとも耐摩耗性を必要とする
表面に、第１層として溶射膜、第２層としてＷ、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＣｒまたはＡｌから選ば
れる少なくとも１種の金属の窒化物、炭窒化物または炭
化物よりなる膜が付された耐摩耗性膜付き部材。また、
上記構成で更に、部材の耐摩耗性膜が形成された表面粗
さがＲａで５μｍ以上、Ｒｍａｘで２０μｍ以上である
耐摩耗性膜付き部材。
優れた硬質膜付き部材を提供する。 【解決手段】 部材の少なくとも耐摩耗性を必要とする
表面に、第１層として溶射膜、第２層としてＷ、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＣｒまたはＡｌから選ば
れる少なくとも１種の金属の窒化物、炭窒化物または炭
化物よりなる膜が付された耐摩耗性膜付き部材。また、
上記構成で更に、部材の耐摩耗性膜が形成された表面粗
さがＲａで５μｍ以上、Ｒｍａｘで２０μｍ以上である
耐摩耗性膜付き部材。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐摩耗性に優れた
硬質膜付き部材に関し、特に造粒機や整粒機など硬質の
粉体を含んだスラリー状のものを加工する部材の特性改
善のために耐摩耗性を向上させて硬質膜を付与した部材
に関する。
硬質膜付き部材に関し、特に造粒機や整粒機など硬質の
粉体を含んだスラリー状のものを加工する部材の特性改
善のために耐摩耗性を向上させて硬質膜を付与した部材
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、骨材に使用される砂利の代用品と
して、ごみ焼却飛灰や下水汚泥焼却灰等にシリカなどを
添加して骨材化する技術が注目されている。ごみ焼却飛
灰や下水汚泥焼却灰等を骨材に加工するにあたっては、
硬質のシリカやケイ砂などが含まれるために、加工機械
の部品には耐摩耗性が必要になる。さらにスラリー状の
ものを移動するために、部材表面はある程度の粗さがな
ければならない。
して、ごみ焼却飛灰や下水汚泥焼却灰等にシリカなどを
添加して骨材化する技術が注目されている。ごみ焼却飛
灰や下水汚泥焼却灰等を骨材に加工するにあたっては、
硬質のシリカやケイ砂などが含まれるために、加工機械
の部品には耐摩耗性が必要になる。さらにスラリー状の
ものを移動するために、部材表面はある程度の粗さがな
ければならない。
【０００３】従来は、加工機械の部品の部材には、ホウ
化処理などの表面改質や、溶射、メッキなどのコーティ
ングを施し表面硬度を高くして耐摩耗性を向上させてい
た。
化処理などの表面改質や、溶射、メッキなどのコーティ
ングを施し表面硬度を高くして耐摩耗性を向上させてい
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記いずれの
処理でも機械特性が十分得られないため部材表面が滑ら
かになり、寿命が短かった。
処理でも機械特性が十分得られないため部材表面が滑ら
かになり、寿命が短かった。
【０００５】そこで本発明の目的は、摩擦力に十分な表
面粗さを有し、耐摩耗性に優れた硬質膜付き部材を提供
することにある。
面粗さを有し、耐摩耗性に優れた硬質膜付き部材を提供
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の耐摩耗性膜付き部材は、部材の少なくとも耐
摩耗性を必要とする表面に、第１層として溶射膜、第２
層としてＷ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ
またはＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属の窒化
物、炭窒化物または炭化物よりなる膜が付されたことを
特徴とする。
の本発明の耐摩耗性膜付き部材は、部材の少なくとも耐
摩耗性を必要とする表面に、第１層として溶射膜、第２
層としてＷ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ
またはＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属の窒化
物、炭窒化物または炭化物よりなる膜が付されたことを
特徴とする。
【０００７】また、上記構成で更に、第１層目に形成さ
れる溶射膜の膜厚が１００〜３００μｍであることを特
徴とする。
れる溶射膜の膜厚が１００〜３００μｍであることを特
徴とする。
【０００８】また、上記いずれかの構成で更に、第２層
目に形成されるＷ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、ＣｒまたはＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属
の窒化物、炭窒化物または炭化物の被膜の膜厚が１〜１
０μｍであることを特徴とする。
目に形成されるＷ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、ＣｒまたはＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属
の窒化物、炭窒化物または炭化物の被膜の膜厚が１〜１
０μｍであることを特徴とする。
【０００９】また、上記いずれかの構成で更に、部材の
耐摩耗性膜が形成された表面粗さがＲａで５μｍ以上、
Ｒｍａｘで２０μｍ以上であることを特徴とする。
耐摩耗性膜が形成された表面粗さがＲａで５μｍ以上、
Ｒｍａｘで２０μｍ以上であることを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明に用いられる部材は、機械
部品に適した鋼系金属材料を母材とすることができる。
具体的には、ステンレス鋼、構造用鋼、ばね鋼、工具
鋼、軸受鋼などがあげられる。成膜の前処理として部材
表面をブラスト処理し、表面に凹凸をつけることも望ま
しい。これにより表面積が増し、いわゆるアンカー効果
が増大するからである。
部品に適した鋼系金属材料を母材とすることができる。
具体的には、ステンレス鋼、構造用鋼、ばね鋼、工具
鋼、軸受鋼などがあげられる。成膜の前処理として部材
表面をブラスト処理し、表面に凹凸をつけることも望ま
しい。これにより表面積が増し、いわゆるアンカー効果
が増大するからである。
【００１１】第１層目の溶射膜は、フレーム溶射、爆発
溶射、アーク溶射、プラズマ溶射などの公知の溶射法で
成膜することができる。溶射材には例えばＷＣ（タング
ステンカーバイト）を用いることができ、溶射材の金属
バインダには、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒな
どから適宜選択することができる。
溶射、アーク溶射、プラズマ溶射などの公知の溶射法で
成膜することができる。溶射材には例えばＷＣ（タング
ステンカーバイト）を用いることができ、溶射材の金属
バインダには、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒな
どから適宜選択することができる。
【００１２】第１層目の膜厚は１００〜３００μｍで、
より好ましくは１５０〜２００μｍである。膜厚が１０
０μｍより薄いと基材硬度が低く、最表面に外力が加わ
ったときに基材の影響で耐摩耗性に劣る。３００μｍを
超えて厚くすると耐摩耗性は向上するが、生産性・経済
性に問題がある。
より好ましくは１５０〜２００μｍである。膜厚が１０
０μｍより薄いと基材硬度が低く、最表面に外力が加わ
ったときに基材の影響で耐摩耗性に劣る。３００μｍを
超えて厚くすると耐摩耗性は向上するが、生産性・経済
性に問題がある。
【００１３】溶射後の表面は、Ｒａで５μｍ以上、Ｒｍ
ａｘで２０μｍ以上荒れているので、摩擦力を維持する
ために特に研磨やラッピング処理は行わなくてもよい。
表面の荒れ状態が小さい場合は、ブラストなどで荒らす
方が望ましい。
ａｘで２０μｍ以上荒れているので、摩擦力を維持する
ために特に研磨やラッピング処理は行わなくてもよい。
表面の荒れ状態が小さい場合は、ブラストなどで荒らす
方が望ましい。
【００１４】第２層目を形成する前に、真空脱ガス処理
を行う方が好ましい。溶射膜は膜内に多くの気孔を含む
ために、脱脂洗浄などで使用した溶剤や、溶射加工中に
取り込んだ空気などを含んでいる。真空脱ガス処理を行
わずに第２層目を形成した場合、第２層目の膜質や密着
力に悪影響を与え、耐摩耗性が劣ることがある。真空脱
ガス処理は、１５０〜５００℃の範囲で処理することが
できる。１５０℃以下では、十分に脱ガスがされず、逆
に５００℃を超えると基材と溶射膜で熱膨張率が異なる
ため、剥離やクラックが発生する。
を行う方が好ましい。溶射膜は膜内に多くの気孔を含む
ために、脱脂洗浄などで使用した溶剤や、溶射加工中に
取り込んだ空気などを含んでいる。真空脱ガス処理を行
わずに第２層目を形成した場合、第２層目の膜質や密着
力に悪影響を与え、耐摩耗性が劣ることがある。真空脱
ガス処理は、１５０〜５００℃の範囲で処理することが
できる。１５０℃以下では、十分に脱ガスがされず、逆
に５００℃を超えると基材と溶射膜で熱膨張率が異なる
ため、剥離やクラックが発生する。
【００１５】第２層目に形成するＷ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈ
ｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＣｒまたはＡｌから選ばれる少な
くとも１種の金属の窒化物、炭窒化物または炭化物の被
膜は、ＨＣＤ法やＥＢ方式などの公知のイオンプレーテ
ィング法で作製することができる。第１層膜の表面が十
分に荒れている場合は、上記したイオンプレーティング
法でも有効であるが、ドロップレットと呼ばれる突起が
被膜表面に作製されるカソードアーク方式のイオンプレ
ーティング法が望ましい。ドロップレットは、成膜前に
行うボンバード処理時に生成した溶融粒子を起点に成長
する突起なので、健全な部分の被膜同様の組成で硬質で
耐摩耗性に優れている。
ｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＣｒまたはＡｌから選ばれる少な
くとも１種の金属の窒化物、炭窒化物または炭化物の被
膜は、ＨＣＤ法やＥＢ方式などの公知のイオンプレーテ
ィング法で作製することができる。第１層膜の表面が十
分に荒れている場合は、上記したイオンプレーティング
法でも有効であるが、ドロップレットと呼ばれる突起が
被膜表面に作製されるカソードアーク方式のイオンプレ
ーティング法が望ましい。ドロップレットは、成膜前に
行うボンバード処理時に生成した溶融粒子を起点に成長
する突起なので、健全な部分の被膜同様の組成で硬質で
耐摩耗性に優れている。
【００１６】第２層目の被膜作製には、Ｗ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＣｒまたはＡｌから選ばれ
る１種または２種以上の合金を蒸発源に用い、反応ガス
としてＮ2、ＮＨ3、炭化水素類または窒素を含んだ有機
化合物、例えば（ＣＨ3）3Ｎなどを使用する。反応ガス
の圧力は、用いるガスの種類により異なるが、一般に１
０-3〜１０1Ｔｏｒｒの範囲で適宜選択すればよい。硬
質皮膜を形成する場合、イオン化した金属を加速する電
圧は−５０〜−７００Ｖが好ましく、さらに好ましくは
−１００〜−５００Ｖである。
ｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＣｒまたはＡｌから選ばれ
る１種または２種以上の合金を蒸発源に用い、反応ガス
としてＮ2、ＮＨ3、炭化水素類または窒素を含んだ有機
化合物、例えば（ＣＨ3）3Ｎなどを使用する。反応ガス
の圧力は、用いるガスの種類により異なるが、一般に１
０-3〜１０1Ｔｏｒｒの範囲で適宜選択すればよい。硬
質皮膜を形成する場合、イオン化した金属を加速する電
圧は−５０〜−７００Ｖが好ましく、さらに好ましくは
−１００〜−５００Ｖである。
【００１７】第２層目の膜厚は１〜１０μｍが好まし
い。膜厚が１μｍより薄いと十分な膜特性が得られず、
耐摩耗性に劣る。逆に１０μｍより厚くなると被膜の内
部応力により剥離やクラックが生じ、また、生産性に劣
るからである。
い。膜厚が１μｍより薄いと十分な膜特性が得られず、
耐摩耗性に劣る。逆に１０μｍより厚くなると被膜の内
部応力により剥離やクラックが生じ、また、生産性に劣
るからである。
【００１８】第２層目の膜厚を５μｍ以上とする場合
は、メタル層と積層したり、成膜途中にボンバード処理
をすると良い。これにより被膜の内部応力が緩和され、
剥離やクラックの発生が抑制できるからである。
は、メタル層と積層したり、成膜途中にボンバード処理
をすると良い。これにより被膜の内部応力が緩和され、
剥離やクラックの発生が抑制できるからである。
【００１９】第１層目を成膜後、部材表面がＲａで５μ
ｍ以上、Ｒｍａｘで２０μｍ以上であれば、第２層目を
成膜後もほぼ同等の粗さとなる。第２層目に形成する被
膜は、下地をトレースするように成膜されるためであ
る。また、カソードイオンプレーティング法ではドロッ
プレットが生成されるために逆に荒れる場合もある。
ｍ以上、Ｒｍａｘで２０μｍ以上であれば、第２層目を
成膜後もほぼ同等の粗さとなる。第２層目に形成する被
膜は、下地をトレースするように成膜されるためであ
る。また、カソードイオンプレーティング法ではドロッ
プレットが生成されるために逆に荒れる場合もある。
【００２０】
【実施例】以下に実施例を示し、詳しくこの発明につい
て説明する。
て説明する。
【００２１】（実施例１） ・・・ φ４３０×３ｍｍ
のＳＵＳ３０４製造粒機用スクリーン・ダイをアルミナ
研磨材（粒度４２０〜３５４μｍ）でブラスト処理し、
表面を均一に荒らした。その後、研磨材を除去し、デト
ネーションガン溶射によりＷＣ−１２％Ｃｏを１８０μ
ｍ成膜した。成膜後の部材表面の硬度はＨＶ１１２０で
あった。また、表面粗さはＲａが６．３μｍ、Ｒｍａｘ
が３６．３μｍであった。
のＳＵＳ３０４製造粒機用スクリーン・ダイをアルミナ
研磨材（粒度４２０〜３５４μｍ）でブラスト処理し、
表面を均一に荒らした。その後、研磨材を除去し、デト
ネーションガン溶射によりＷＣ−１２％Ｃｏを１８０μ
ｍ成膜した。成膜後の部材表面の硬度はＨＶ１１２０で
あった。また、表面粗さはＲａが６．３μｍ、Ｒｍａｘ
が３６．３μｍであった。
【００２２】次に、カソードアークイオンプレーティン
グ装置の真空チャンバ内にセットして２×１０-5Ｔｏｒ
ｒ以下まで排気した。続いて３５０℃まで加熱して２時
間保持した。真空チャンバ内で常温まで冷却した後、部
材に−１０００Ｖのバイアス電圧を印加し、Ｃｒイオン
で３５０℃になるまで加熱した。次に窒素ガスを５０ｍ
Ｔｏｒｒまで導入し、バイアス電圧−３００ＶでＣｒＮ
膜を６０分間成膜した。得られたＣｒＮ膜は、２．３μ
ｍであった。
グ装置の真空チャンバ内にセットして２×１０-5Ｔｏｒ
ｒ以下まで排気した。続いて３５０℃まで加熱して２時
間保持した。真空チャンバ内で常温まで冷却した後、部
材に−１０００Ｖのバイアス電圧を印加し、Ｃｒイオン
で３５０℃になるまで加熱した。次に窒素ガスを５０ｍ
Ｔｏｒｒまで導入し、バイアス電圧−３００ＶでＣｒＮ
膜を６０分間成膜した。得られたＣｒＮ膜は、２．３μ
ｍであった。
【００２３】ＣｒＮ膜成膜後の部材表面での硬度はＨＶ
２３００であった。また、表面粗さはＲａが５．４３μ
ｍ、Ｒｍａｘが２６．３μｍであった。
２３００であった。また、表面粗さはＲａが５．４３μ
ｍ、Ｒｍａｘが２６．３μｍであった。
【００２４】成膜したスクリーン・ダイを造粒機にセッ
トして、造粒を行った。未コート品が２時間、ＳＵＳ３
０４に硼化処理をしたものが９時間、ＷＣ溶射のみのも
のが１５０時間で造粒できなくなったのに対し、本発明
の成膜を行ったものは１０００時間造粒でき、著しく寿
命が向上した。
トして、造粒を行った。未コート品が２時間、ＳＵＳ３
０４に硼化処理をしたものが９時間、ＷＣ溶射のみのも
のが１５０時間で造粒できなくなったのに対し、本発明
の成膜を行ったものは１０００時間造粒でき、著しく寿
命が向上した。
【００２５】（実施例２） ・・・ 第２層目にＡｌ濃
度５６ａｔ％のＴｉＡｌＮ膜を１．３μｍ成膜した以外
は、実施例１と同様の処理を行った。その結果、ＴｉＡ
ｌＮ膜成膜後の部材表面での硬度はＨＶ２８００であっ
た。また、表面粗さはＲａが５．２７μｍ、Ｒｍａｘが
３４．０μｍであった。造粒機の実機テストでは、１２
００時間造粒でき、著しく寿命が向上した。
度５６ａｔ％のＴｉＡｌＮ膜を１．３μｍ成膜した以外
は、実施例１と同様の処理を行った。その結果、ＴｉＡ
ｌＮ膜成膜後の部材表面での硬度はＨＶ２８００であっ
た。また、表面粗さはＲａが５．２７μｍ、Ｒｍａｘが
３４．０μｍであった。造粒機の実機テストでは、１２
００時間造粒でき、著しく寿命が向上した。
【００２６】（実施例３） ・・・ 第２層目にＣｒメ
タル層を１μｍ、第３層目にＴｉＮ膜を３μｍ成膜した
以外は、実施例１と同様の処理を行った。その結果、第
３層目形成後の部材表面での硬度はＨＶ２４５０であっ
た。また、表面粗さはＲａが５．６８μｍ、Ｒｍａｘが
３６．０μｍであった。造粒機の実機テストでは、１０
００時間造粒でき、著しく寿命が向上した。
タル層を１μｍ、第３層目にＴｉＮ膜を３μｍ成膜した
以外は、実施例１と同様の処理を行った。その結果、第
３層目形成後の部材表面での硬度はＨＶ２４５０であっ
た。また、表面粗さはＲａが５．６８μｍ、Ｒｍａｘが
３６．０μｍであった。造粒機の実機テストでは、１０
００時間造粒でき、著しく寿命が向上した。
【００２７】（実施例４） ・・・ 第２層目に１μｍ
おきにＣｒボンバード処理しながらＣｒＮ膜を１０μｍ
成膜した以外は、実施例１と同様の処理を行った。その
結果、ＣｒＮ膜形成後の部材表面での硬度はＨＶ２１８
０であった。また、表面粗さはＲａが５．２１μｍ、Ｒ
ｍａｘが２９．６μｍであった。造粒機の実機テストで
は、１５００時間造粒でき、著しく寿命が向上した。
おきにＣｒボンバード処理しながらＣｒＮ膜を１０μｍ
成膜した以外は、実施例１と同様の処理を行った。その
結果、ＣｒＮ膜形成後の部材表面での硬度はＨＶ２１８
０であった。また、表面粗さはＲａが５．２１μｍ、Ｒ
ｍａｘが２９．６μｍであった。造粒機の実機テストで
は、１５００時間造粒でき、著しく寿命が向上した。
【００２８】（比較例１） ・・・ 第１層目のＷＣ溶
射後に研磨処理を行い、Ｒａを０．１μｍ、Ｒｍａｘを
１２．２μｍにして第２層目に実施例１と同様のＣｒＮ
膜を形成した。その結果、ＣｒＮ膜形成後の部材表面で
の硬度はＨＶ２４１０であった。また、表面粗さはＲａ
が０．１２μｍ、Ｒｍａｘが１３．３μｍであった。造
粒機の実機テストでは、全く造粒できなかった。
射後に研磨処理を行い、Ｒａを０．１μｍ、Ｒｍａｘを
１２．２μｍにして第２層目に実施例１と同様のＣｒＮ
膜を形成した。その結果、ＣｒＮ膜形成後の部材表面で
の硬度はＨＶ２４１０であった。また、表面粗さはＲａ
が０．１２μｍ、Ｒｍａｘが１３．３μｍであった。造
粒機の実機テストでは、全く造粒できなかった。
【００２９】（比較例２） ・・・ 第２層目にＣｒを
１０μｍ形成した他は、実施例１と同様の処理を行っ
た。その結果、ＣｒＮ膜形成後の部材表面での硬度はＨ
Ｖ２３００であった。また、表面粗さはＲａが５．１２
μｍ、Ｒｍａｘが２７．４μｍであった。しかし、目視
で所々に剥離が観察された。造粒機の実機テストでは、
全く造粒できなかった。
１０μｍ形成した他は、実施例１と同様の処理を行っ
た。その結果、ＣｒＮ膜形成後の部材表面での硬度はＨ
Ｖ２３００であった。また、表面粗さはＲａが５．１２
μｍ、Ｒｍａｘが２７．４μｍであった。しかし、目視
で所々に剥離が観察された。造粒機の実機テストでは、
全く造粒できなかった。
【００３０】
【発明の効果】本発明により、摩擦力に十分な表面粗さ
を有し、耐摩耗性に優れた硬質膜付き部材が提供でき
た。
を有し、耐摩耗性に優れた硬質膜付き部材が提供でき
た。
Claims (4)
- 【請求項１】 部材の少なくとも耐摩耗性を必要とする
表面に、第１層として溶射膜、第２層としてＷ、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＣｒまたはＡｌから選ば
れる少なくとも１種の金属の窒化物、炭窒化物または炭
化物よりなる膜が付された耐摩耗性膜付き部材。 - 【請求項２】 第１層目に形成される溶射膜の膜厚が１
００〜３００μｍである請求項１に記載の耐摩耗性膜付
き部材。 - 【請求項３】 第２層目に形成されるＷ、Ｔｉ、Ｚｒ、
Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、ＣｒまたはＡｌから選ばれる少
なくとも１種の金属の窒化物、炭窒化物または炭化物の
被膜の膜厚が１〜１０μｍである請求項１または請求項
２に記載の耐摩耗性膜付き部材。 - 【請求項４】 部材の耐摩耗性膜が形成された表面粗さ
がＲａで５μｍ以上、Ｒｍａｘで２０μｍ以上である請
求項１〜請求項３いずれかに記載の耐摩耗性膜付き部
材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16830597A JPH1112759A (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | 耐摩耗性膜付き部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16830597A JPH1112759A (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | 耐摩耗性膜付き部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1112759A true JPH1112759A (ja) | 1999-01-19 |
Family
ID=15865567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16830597A Pending JPH1112759A (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | 耐摩耗性膜付き部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1112759A (ja) |
-
1997
- 1997-06-25 JP JP16830597A patent/JPH1112759A/ja active Pending
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