JPH11109649A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 移動するヘッド部に接続された配管の損傷お
よびパーティクルの発生を防止し、安全な運転および基
板の品質の向上を図ることができる基板処理装置を提供
する。 【解決手段】 ノズル１１を有するヘッド部１０に現像
液供給用の配管３０が接続され、ヘッド部１０が基板９
の処理に際して移動する基板処理装置１００において、
ヘッド部１０の移動に伴う配管３０の変形を案内する案
内部４０を設ける。これにより、配管３０が基板処理装
置１００内部の他の部位と干渉して損傷することを防止
することができ、また、配管３０の干渉によるパーティ
クルの発生も防止することができる。その結果、基板処
理装置１００を安全に運転することができ、基板の品質
の向上も図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体装置製造
用の半導体基板や液晶表示器等のフラットパネルディス
プレイの製造に用いられるガラス基板（以下、これらを
「基板」と総称する。）に処理を施す基板処理装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】基板に塗布、現像、洗浄等の処理を施す
基板処理装置には、薬液や純水等の液体やエアー等の気
体の流路となる配管が多数設けられている。また、処理
内容によっては温度調節用の水を供給するための配管と
いったものも設けられている。

【０００３】これらの配管の多くは基板を処理するに際
して移動する移動部に接続されており、移動部に設けら
れたノズルから基板に向けて薬液が吐出される等するこ
とにより基板に処理が施されるようになっている。すな
わち、移動部に接続されている配管は移動部の移動の影
響を受けない流体の供給路としての役割を果たしてい
る。

【０００４】また、配管と同様に移動部には電力の供給
路等としての配線も多く設けられており、移動部の移動
に伴って配線が撓んだり伸びたりすることにより、移動
部への安定した電力供給等が実現されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年の基板
の大型化に伴って基板の処理に利用される液体等の量も
増加しつつある。このような状況において従来通りの径
の配管を用いて従来通りの流量の薬液等を供給したので
は薬液等の吐出に要する時間が長くなり、基板処理装置
のスループットを低下させたり基板の品質を低下させて
しまうという問題が生じてしまう。したがって、基板処
理装置に用いられる配管の径を増大させる必要が生じて
きている。

【０００６】配管径を増大させた場合、当然に曲げに耐
えうる配管の曲率は小さくなる。特に、クリーン度や耐
薬性を考慮して基板処理装置では大きく曲げ変形させる
ことが困難なフッ素樹脂性のチューブが多く使用されて
おり、配管径が増大するとこのような配管は一層自由に
曲げることができなくなる。

【０００７】このように、配管を自由に曲げ変形させる
ことが困難であるにもかかわらず従来と同様の長さの配
管を用いたのでは、配管の根本等である装置本体への固
定部分に大きな力が加わり、パーティクルが発生したり
配管が損傷してしまうこととなる。したがって、配管径
を増大させるためには配管長も長く設計する必要が生じ
る。すなわち、基板の大型化による薬液等の使用量の増
大に伴って、基板処理装置に設けられる配管の配管径お
よび配管長を増大させる必要が生じる。

【０００８】配管径および配管長が増大すると移動部の
移動に伴う配管の運動が基板処理装置に大きな影響を与
えることとなる。すなわち、配管が基板処理装置内で他
の部材と干渉を起こして互いに損傷したり、他の部材と
強く擦れ合うことでパーティクルが発生したりするとい
った問題が生じる。

【０００９】このような問題は径の大きな１本の配管に
限られず、複数の配管が太い束となっている場合や複数
の配線が太い束となっている場合も同様である。特に、
近年の基板処理装置の複雑化・高度化に伴ってヘッド部
等の移動部に接続される配管や配線は多数存在し、束ね
られた配管や配線は自由に曲げ変形することが困難であ
ることから装置本体に固定される部分から移動部に接続
される部分までの配管や配線の長さを長く設計する必要
がある。したがって、配管や配線の束が装置内部で他の
部材と干渉を起こして損傷したり、パーティクルが発生
して基板の品質が低下してしまうという問題が生じるこ
ととなる。

【００１０】この発明は上記課題に鑑みてなされたもの
であり、移動部に接続された配管や配線の損傷を防止す
るとともにパーティクルの発生を防止することができ、
これにより装置の安全な運転、および基板の品質の向上
を図ることができる基板処理装置を提供することを目的
としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
に処理を施す基板処理装置であって、前記基板に対する
所定の処理動作に際して、所定の駆動源からの駆動力に
よって移動する移動部と、前記移動部に連結され、前記
処理動作において使用される流体を通す配管と、前記配
管の一部に規定された所定の案内部位に連結され、前記
移動部の移動によって生じる前記配管の位置変化を案内
する案内手段とを備える。

【００１２】請求項２の発明は、請求項１記載の基板処
理装置であって、前記移動部の移動方向に対してほぼ直
角方向に、前記移動部から前記配管が伸びている。

【００１３】請求項３の発明は、請求項１または２記載
の基板処理装置であって、前記流体は、前記基板の現像
処理を行うための現像液であり、前記移動部には、前記
配管を介して供給される前記現像液を前記基板上に付与
するための現像液付与部が結合されている。

【００１４】請求項４の発明は、基板に処理を施す基板
処理装置であって、前記基板に対する所定の処理動作に
際して、所定の駆動源からの駆動力によって移動する移
動部と、前記移動部に連結された配線と、前記配線の途
中に規定された所定の案内部位に連結され、前記移動部
の移動によって生じる前記配線の位置変化を案内する案
内手段とを備える。

【００１５】請求項５の発明は、請求項１ないし４のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記案内手段
が、前記案内部位を直線的に案内する手段を有する。

【００１６】請求項６の発明は、請求項１ないし４のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記案内手段
が、前記案内部位を２次元的に案内する手段を有する。

【００１７】請求項７の発明は、請求項１ないし６のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記案内手段
が、前記案内部位の回転揺動を案内する手段を有する。

【００１８】請求項８の発明は、請求項１ないし７のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記駆動源で生
成される運動を前記案内手段に伝達することにより、前
記案内手段による案内動作を生じさせる運動伝達機構を
さらに備える。

【００１９】請求項９の発明は、請求項１ないし７のい
ずれかに記載の基板処理装置であって、前記案内手段を
駆動して案内動作を生じさせる案内用駆動源と、前記移
動部の移動と同期して前記案内用駆動源を制御する制御
手段とをさらに備える。

【００２０】

【発明の実施の形態】

＜１． 第１の実施の形態＞図１はこの発明に係る第１
の実施の形態である基板処理装置１００を示す斜視図で
あり、図３および図４は図１における基板処理装置１０
０を（−Ｙ）方向から（＋Ｙ）方向を向いてみた場合の
各構成を示している。また、各図では説明に必要な構成
のみを適宜示している。

【００２１】基板処理装置１００は基板９に現像液を塗
布して現像処理を行う装置であり、現像液の塗布の際に
基板９の上方へと移動するヘッド部１０、ヘッド部１０
を図１中に示すＸ方向に移動させる駆動部２０（図３参
照）、ヘッド部１０に供給される現像液の供給路である
配管３０、および配管３０の曲げ変形に応じて配管３０
の一部を案内する案内部４０、および基板９を水平姿勢
にて支持しながら回転させる回転部５０を有している。

【００２２】ヘッド部１０は基板９に向けて現像液を吐
出するノズル１１、ノズル１１が固定されるとともにＸ
方向に移動する移動板１２、および、移動板１２に固定
されるとともにノズル１１へと現像液を送り込むヘッド
用配管１３を有している。

【００２３】ヘッド用配管１３の一端は移動板１２に固
定されるとともにノズル１１に接続されており、またも
う一端は移動板１２に固定されるとともに配管３０に接
続されるようになっている。これにより、配管３０から
供給される現像液がヘッド用配管１３を経由してノズル
１１に供給されるようになっている。

【００２４】駆動部２０は図３に示すように駆動源であ
るモータ２１、モータ２１の回転軸に取り付けられたプ
ーリ２５ａともう一つのプーリ２５ｂとに掛けられたベ
ルト２２、および、ベルト２２に取り付けられたヘッド
部支持板２３を有している。

【００２５】モータ２１の回転駆動力によるベルト２２
の運動とともにヘッド部支持板２３はガイドレール２４
に案内されるようにして図１中矢印２３Ｓにて示すＸ方
向に移動し、これにより、ヘッド部支持板２３の上部に
取り付けられたヘッド部１０もＸ方向に移動するように
なっている。

【００２６】配管３０は一端がヘッド部１０の移動板１
２に固定されており、移動板１２の移動方向であるＸ方
向に対してほぼ直角をなす方向に配管３０が伸びるよう
に固定されている。また、配管３０の当該一端は移動板
１２を介してヘッド用配管１３に接続されており、他端
は基板処理装置１００内部の現像液供給口３４に接続さ
れている。なお、現像液供給口３４からは基板処理装置
１００内部に設けられた図示しない現像液供給源から現
像液が供給されるようになっている。

【００２７】配管３０は図２に示すように内管３１と外
管３２とを有する２重構造となっており、内管３１内部
の内側領域３１ａには現像液が流れるようになってお
り、内管３１と外管３２との間の空間である外側領域３
２ａには現像液を温調するための温調水が流れるように
なっている。なお、現像液と同様にヘッド部１０へと流
れる温調水は図示しない別途設けられた配管によりヘッ
ド部１０から送り返されるようになっている。

【００２８】案内部４０はヘッド部１０の移動とともに
変形する配管３０の一部の運動を案内するものであり、
図１に示すようにＸ方向に伸びるガイドレール４１、ガ
イドレール４１に沿って矢印４２Ｓにて示すようにＸ方
向に案内されるガイドプレート４２、ガイドプレート４
２に形成されたＹ方向に伸びるガイド溝４２ａに沿って
矢印４３Ｓにて示すようにＹ方向に直線的に案内される
軸受４３（正確にはガイド溝４２ａに沿って移動するブ
ロック上に軸受４３が取り付けられている）、および、
軸受４３に取り付けられて矢印４４Ｒにて示すようにＹ
方向を向く軸を中心として回動するクランプ部４４を有
している。

【００２９】以上ような案内部４０の構成により、クラ
ンプ部４４が保持する配管３０の経路途上の一部分（以
下、「案内部位３３」という。）はＸ−Ｚ面に平行な面
に沿って２次元的に自在に案内可能とされ、かつＹ方向
を向く軸を中心として自在に回転揺動案内される状態で
クランプ部４４により保持されることとなる。

【００３０】回転部５０は基板９を保持するチャック５
１、チャック５１を回転させるモータ５２を有してお
り、チャック５１が回転することにより基板９も水平面
内にて回転するようになっている。また、回転する基板
９に向けてノズル１１から現像液が吐出されることによ
り現像処理が行われるようになっており、吐出された現
像液のうち基板９から飛散するものを受け止めるために
基板９の側方周囲を覆うカップ５３も設けられている。

【００３１】次に、基板処理装置１００における移動板
１２の移動、すなわちヘッド部１０の移動に伴う配管３
０の変形について図３および図４を用いて説明する。

【００３２】図３はヘッド部１０が（−Ｘ）方向へと移
動した状態を示す図であり、配管３０は全体的に比較的
小さい曲率で湾曲している。また、図４はヘッド部１０
が（＋Ｘ）方向へと移動した状態を示す図であり、配管
３０は中央付近で大きく湾曲し、両端部付近ではほぼ直
線状となる。

【００３３】ここで、図３および図４における案内部４
０を比較すると、配管３０の位置変化である変形に伴っ
て案内部位３３での配管３０の傾きに沿ってクランプ部
４４が回動するとともに案内部位３３の移動に伴ってク
ランプ部４４の回動の中心に位置する軸受４３がＸ−Ｚ
面に平行な面に沿って移動している。

【００３４】このように、案内部４０は配管３０の変形
に伴う案内部位３３の位置や姿勢の変位に逆らうことな
く案内部位３３をＸ−Ｚ面に平行な面内で案内すること
ができるようになっている。これにより、移動板１２が
（±Ｘ）方向に移動しても配管３０が（±Ｙ）方向に大
きく反れたり捩れたりしながら変形するということはな
い。すなわち、配管３０が移動板１２の移動に伴って変
形してもＸ−Ｚ面に平行な面内にて変形することとな
る。その結果、配管３０が基板処理装置１００内部で他
の部位と干渉して損傷することを防止することができ、
また、配管３０の干渉によりパーティクルが発生したり
することを防止することができる。これにより、基板処
理装置１００の安全な運転、および基板９の品質の向上
を図ることができる。

【００３５】特に本実施の形態では、配管３０として図
２に示すような２重構造の配管３０を用いているととも
に内管３１は現像液と化学的反応を起こしにくいフッ素
樹脂により形成されており、配管３０自体は可撓性に乏
しいものとなっている。そのため、配管３０の全長を長
くすることが不可欠となるが、このような場合において
も配管３０はＸ−Ｚ面に平行な面から反れることなく安
定して案内されることとなる。

【００３６】＜２． 第２の実施の形態＞図５および図
６はこの発明に係る第２の実施の形態である基板処理装
置１０１の構成を示す図である。なお、基板処理装置１
０１は第１の実施の形態である基板処理装置１００の駆
動部２０に他の構成が加えられたもにであり、他の点で
は第１の実施の形態と共通している。また、図５および
図６はそれぞれ図３、図４に対応しており、第１の実施
の形態と同様の構成については同符号を付している。

【００３７】第１の実施の形態では配管３０の変形する
力を利用して案内部４０の各部材が運動するようになっ
ているが、第２の実施の形態である基板処理装置１０１
の案内部４０ではガイドプレート４２が駆動源であるモ
ータ２１からの力が伝達されて移動するようになってい
る。すなわち、第１の実施の形態では案内部４０全体が
配管３０の変形に従って受動的に運動するようになって
いるが、第２の実施の形態では案内部４０の一部が能動
的に運動するようになっている。

【００３８】駆動部２０は第１の実施の形態と同様に駆
動源であるモータ２１に取り付けられたプーリ２５ａと
もう一つのプーリ２５ｂとにベルト２２が掛けられてお
り、ヘッド部支持板２３はこのベルト２２に取り付けら
れている。したがって、モータ２１の回転に従ってヘッ
ド部支持板２３がガイドレール２４に案内されながらＸ
方向に移動するようになっている。

【００３９】本実施の形態では、さらに別のプーリ２５
ｃとモータ２１側のプーリ２５ａとの間にベルト２６が
掛けられており、プーリ２５ｃの回転軸に固定されたプ
ーリ２５ｄとプーリ２５ｄのＸ方向側方に設けられたプ
ーリ２５ｅとの間にもベルト２７が掛けられている。そ
して、ベルト２７に案内部４０のガイドプレート４２が
取り付けられている。また、プーリ２５ｃの径はプーリ
２５ｄの径より大きな径となっており、ベルト２７には
モータ２１の回転運動が減速されて伝達されるようにな
っている。すなわち、４つのプーリ２５ａ、２５ｃ、２
５ｄ、２５ｅ、および２つのベルト２６、２７はモータ
２１の回転運動をガイドプレート４２へと機械的に伝達
する運動伝達機構２０Ｔを構成している。

【００４０】以上のように運動伝達機構２０Ｔを設ける
ことにより、この基板処理装置１０１ではモータ２１の
回転によるヘッド部支持板２３の移動、すなわちヘッド
部１０の移動と同期するようにしてにガイドプレート４
２もＸ方向に移動する。また、プーリ２５ｃの径がプー
リ２５ｄの径より大きいので、ガイドプレート４２の移
動量はヘッド部支持板２３の移動量に比べて小さくな
る。その結果、案内部４０のガイドプレート４２は配管
３０の変形に合わせて配管３０の案内部位３３のＸ方向
の変位を能動的に案内することとなる。

【００４１】また、このように配管３０を能動的に案内
することにより配管３０の案内を確実かつ極めて滑らか
に行うことができ、配管３０に生じる不必要な内部応力
を低減しつつ装置内部における配管３０の損傷や配管３
０の干渉によるパーティクルの発生を防止することがで
きる。これにより、基板処理装置１０１の安全な運転、
および基板９の品質の向上を図ることができる。

【００４２】＜３． 第３の実施の形態＞図７はこの発
明に係る第３の実施の形態である基板処理装置２００を
示す斜視図である。

【００４３】この基板処理装置２００は基板２０９をキ
ャリア２９１に収容された状態で載置しておくインデク
サ部２８１、基板２０９に塗布処理を行うスピンコータ
２８２、基板２０９の現像処理を行うスピンデベロッパ
２８３、基板２０９を加熱したり冷却したりする複数の
熱処理部２８４、および各種処理部や装置外部に別途設
けられたインタフェースと基板２０９の受け渡しを行う
搬送ロボット２００Ｒを有している。

【００４４】インデクサ部２８１はキャリア２９１から
基板２０９を出し入れする出入ロボット２８５を有して
おり、出入ロボット２８５から取り出された基板２０９
は搬送ロボット２００Ｒに渡された後、搬送ロボット２
００Ｒの搬送動作により適宜所要の処理部を経由して所
定の処理が施されるようになっている。そして、処理が
完了した基板２０９は出入ロボット２８５に渡されてキ
ャリア２９１に収容される。

【００４５】この基板処理装置２００における搬送ロボ
ット２００Ｒは、ハンド近傍部位が図７中矢印２００Ｓ
にて示すようにＸ方向に大きく移動するようになってい
る。また、上部に設けられた２つのハンド２１１ａ、２
１１ｂがスライド運動や回転運動を行って各種処理部等
と基板２０９の受け渡しを行うようになっている。

【００４６】図８はこの搬送ロボット２００Ｒの構造を
示す斜視図である。搬送ロボット２００Ｒはハンド台２
１２上にスライド運動を行う２つのハンド２１１ａ、２
１１ｂを有しており、ハンド台２１２はモータ２１３に
よりＺ方向を向く軸２１０Ｃを中心として回転するよう
になっている。また、モータ２１３が取り付けられてい
るブラケット２１４はモータ２１７およびボールネジ２
１６による機構によりガイドレール２１５に沿ってＺ方
向に昇降するようになっている。さらに、モータ２１７
が固定されている移動台２２３はボールネジ２２４とナ
ット部２２３ａにて連結されており、ボールネジ２２４
が回転すると移動台２２３がＸ方向に移動するようにな
っている。

【００４７】また、駆動源であるモータ２２１の回転軸
およびボールネジ２２４はそれぞれプーリ２２５ａ、２
２５ｂが取り付けられており、これらのプーリ２２５
ａ、２２５ｂにベルト２２２を掛けることによりモータ
２２１の駆動力がボールネジ２２４に伝達されるように
なっている。

【００４８】以上が搬送ロボット２００Ｒの機械的構成
であるが、搬送ロボット２００Ｒのこのような複雑な機
構の運動を実現するために、各種モータへの電流の供給
路となるケーブルや搬送ロボット２００Ｒの動作を検出
する各種センサからの信号線の束である配線２３０が移
動台２２３のナット部２２３ａから伸びている。

【００４９】この配線２３０の一部である案内部位２３
３は移動台２２３の下方に設けられた案内部２４０によ
り保持されて案内されるようになっている。すなわち、
クランプ部２４４は軸受２４３によりＹ方向を向く軸を
中心として矢印２４４Ｒにて示すように回転揺動できる
ように支持されており、軸受２４３はガイドレール２４
２に沿って矢印２４３Ｓにて示すようにＸ方向に直線的
にスライド運動可能とされており、ガイドレール２４２
は２つのガイドレール２４１に沿って矢印２４２Ｓにて
示すようにＺ方向にスライド運動可能とされている。

【００５０】以上の案内部２４０の構成により、クラン
プ部２４４はＸ−Ｚ面に平行な面内を２次元的に自在に
移動することができるとともに回動可能となる。したが
って、移動台２２３がＸ方向に移動するとこれに従って
配線２３０は位置変化、すなわち変形するが、配線２３
０の案内部位２３３は不必要な力が加えられることなく
Ｘ−Ｚ面に平行な面内を滑らかに２次元的かつ回転揺動
自在に案内されることとなる。図８に示す（−Ｙ）方向
から（＋Ｙ）方向を向いてみた場合のこの案内の様子を
図９および図１０に示す。図９では移動台２２３のナッ
ト部２２３ａが（−Ｘ）方向に移動した際の様子を示し
ており、図１０ではナット部２２３ａが（＋Ｘ）方向に
移動した際の様子を示している。

【００５１】図９および図１０に示すようにこの基板処
理装置２００では、搬送ロボット２００Ｒの移動する部
分に接続された配線２３０の経路途上の一部である案内
部位２３３が案内部２４０によりＸ−Ｚ面に平行な面に
沿って案内されるので、配線２３０の湾曲部分がＸ−Ｚ
面内から反れたり配線２３０が捩れたりすることはな
い。その結果、配線２３０が基板処理装置２００内部の
他の部位と干渉を起こして損傷したり、配線２３０の干
渉によりパーティクルが発生してしまうという問題は生
じない。これにより、基板処理装置２００の安全な運転
および基板２０９の品質の向上を図ることができる。

【００５２】＜４． 第４の実施の形態＞図１１はこの
発明に係る第４の実施の形態である基板処理装置におい
て基板の搬送に用いられる搬送ロボット３００Ｒを示す
斜視図である。搬送ロボット３００Ｒは第３の実施の形
態における搬送ロボット２００Ｒと同様に基板処理装置
内の各処理部との間において基板の受け渡しを行うもの
である。

【００５３】この搬送ロボット３００Ｒは基板を保持す
る２つのハンド３１１ａ、３１１ｂを有しており、これ
らのハンドは矢印３１１Ｓにて示すように水平方向にス
ライド運動するようになっている。ハンド３１１ａ、３
１１ｂを支持するハンド台３１２は移動台３２３に対し
て矢印３１２Ｓにて示すように昇降するようになってお
り、この昇降運動はモータ３１３ａにより駆動されるボ
ールネジ３１３ｂに取り付けられたナット部３１３ｃの
移動がパンタグラフ機構３１３ｄにより昇降運動に変換
されることにより実現されている。

【００５４】移動台３２３はナット部３２３ａにてボー
ルネジ３２４と接続されており、ボールネジ３２４が基
台３５２に取り付けられたモータ３２１により回転する
ことで移動台３２３がガイドロッド３２２に沿って矢印
３２３Ｓにて示すように昇降するようになっている。

【００５５】さらに搬送ロボット３００Ｒではモータ３
２１やガイドロッド３２２が取り付けられた基台３５２
がモータ３５１の作用を受けて矢印３５２Ｆ、３５２Ｂ
にて示すようにＺ方向を向く軸を中心として回動するよ
うになっている。

【００５６】以上のような構成により、この搬送ロボッ
ト３００Ｒは基板を昇降搬送するとともに任意の水平方
向にスライド搬送することができるようになっている。

【００５７】既述のように搬送ロボット３００Ｒでは移
動台３２３の上方に複雑な機構が設けられており、この
複雑な機構の運動を実現するために様々な駆動源へ電力
の供給路となるケーブルやセンサからの信号線が束ねら
れて配線３３０となっている。すなわち、配線３３０は
様々な役割を果たす電流の通路となっている。また、配
線３３０は移動台３２３から移動台３２３の昇降運動方
向に対してほぼ直角をなすように伸びている。

【００５８】移動台３２３は既述のように矢印３２３Ｓ
に示すように昇降し、矢印３５２Ｆ、３５２Ｂにて示す
ように回動するようになっている。したがって、移動台
３２３から伸びる配線３３０は移動台３２３の運動に伴
って変形することとなるが、この搬送ロボット３００Ｒ
では配線３３０の変形を案内するための案内部３４０が
設けられている。これにより、移動台３２３の昇降運動
や回動運動により配線３３０がボールネジ３２４に巻き
込まれて損傷してしまうことが防止されており、また、
配線３３０が弛んで他の部位と干渉を起こしてパーティ
クルが発生してしまうことも防止されている。

【００５９】図１２および図１３は配線３３０を案内す
ることにより配線３３０の位置変化である変形状態を一
定範囲内に保つ案内部３４０の動作を示す図である。な
お、これらの図は図１１において（−Ｙ）方向から（＋
Ｙ）方向を向いてみた場合を示しており、また、説明に
必要な構成の概略のみを示している。

【００６０】案内部３４０は、図１２に示すように配線
３３０の一部である案内部位３３３を保持するクランプ
部３４４、クランプ部３４４を矢印３４４Ｒにて示すよ
うにＹ方向を向く軸を中心として回転揺動自在に支持す
る軸受３４３、軸受３４３およびクランプ部３４４を矢
印３４３Ｓにて示すＺ方向にスライド運動させるガイド
レール３４２を有しており、軸受３４３およびクランプ
部３４４はモータ３４１により回転するボールネジ（図
示省略）の作用により強制的に昇降運動するようになっ
ている。なお、ガイドレール３４２は図１１に示す基台
３５２上に固定された支持板３５３に固定されるように
して設けられている。

【００６１】図１２に示すように移動台３２３を昇降さ
せるモータ３２１内部のエンコータからの信号は案内制
御手段３６０に入力されるようになっており、この案内
制御手段３６０が案内部３４０のモータ３４１の回転を
制御するようになっている。すなわち、クランプ部３４
４の昇降運動は移動台３２３の昇降運動と同期するよう
に制御され、案内部位３３３が確実かつ滑らかに案内さ
れることとなる。

【００６２】以上のような案内部３４０の構成により配
線３３０の案内部位３３３は、無理な力が作用すること
なく滑らかに直線的かつ回転揺動自在に案内されること
となる。その結果、移動台３２３の運動による配線３３
０の変形に起因する疲労破断、他の部位との干渉による
配線３３０の損傷、配線３３０の他の部位との干渉によ
るパーティクルの発生等を効果的に防止することができ
る。これにより、基板処理装置の安全な運転、および基
板の品質の向上を図ることができる。

【００６３】なお、図１２および図１３では移動台３２
３の昇降運動とのみ案内部３４０の案内運動を同期させ
ているが、図１１に示す基台３５２の回動運動は移動台
３２３の回動運動でもあることから、案内部３４０の案
内運動をモータ３５１の回転にも同期させるようにして
もよい。

【００６４】＜５． 変形例＞以上、この発明に係る実
施の形態について説明してきたが、この発明は上記実施
の形態に限定されるものではなく設計上の様々な変更が
可能である。

【００６５】例えば、上記実施の形態では基板処理装置
において移動する部分に接続された可撓性を有するライ
ンである配管や配線の一部を案内する場合について説明
したが、配管は気体、液体、流動体等の通路となるもの
であればどのようなものでもよく、エアーや処理ガス等
の通路となっているものでもよい。また、配線は電力や
信号の通路、すなわち電流の通路に限定されるものでは
なく、光信号等の通路である光ファイバであってもよ
い。特に、光ファイバは大きな曲率で変形すると光信号
の伝達効率が低下してしまうので全長を長くせざるを得
ず、この発明を有効に利用することができる。

【００６６】また、上記実施の形態では配管や配線の案
内部位を直線的、２次元的あるいは回転揺動自在に案内
するものとなっているが、曲線的、曲面的な案内であっ
てもよく、任意方向に揺動自在なヒンジによって案内さ
れるようになっていてもよい。

【００６７】また、上記実施の形態ではガイドレールと
レール上をスライド移動する部材との組合せである直動
案内機構を示したが、これらの詳細な構造はどのような
ものでもよく、例えば、ガイドレールとの間にボールを
介挿することにより滑らかにスライド運動を行うガイド
機構、ガイドレール上にローラを配置したアキュライド
機構、リニアボールブッシュを利用したガイド機構等が
挙げられる。

【００６８】また、案内部に能動的に案内動作させるた
めの機構は、ガイドと駆動系とを組み合わせたものに限
定されず、ロッドレスシリンダにようにガイドと駆動系
とが一体となったものでもよい。

【００６９】

【発明の効果】請求項１ないし９記載の発明では、移動
部に接続された配管や配線を案内部位にて案内するの
で、配管や配線が基板処理装置の他の部位と干渉して損
傷したり、干渉によるパーティクルが発生したりするこ
とを防止することができる。これにより、基板処理装置
の安全な運転、および基板の品質の向上を図ることがで
きる。

【００７０】請求項８および９記載の発明では、移動部
の移動と案内手段の案内動作とを同期させることができ
るので、案内部位の案内を確実かつ滑らかに行うことが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る第１の実施の形態である基板処
理装置を示す斜視図である。

【図２】配管の断面を示す断面図である。

【図３】図１に示す基板処理装置の内部を示す側面図で
ある。

【図４】図１に示す基板処理装置の内部を示す側面図で
ある。

【図５】この発明に係る第２の実施の形態である基板処
理装置の内部を示す側面図である。

【図６】この発明に係る第２の実施の形態である基板処
理装置の内部を示す側面図である。

【図７】この発明に係る第３の実施の形態である基板処
理装置を示す斜視図である。

【図８】図７に示す基板処理装置が有する搬送ロボット
の構成を示す斜視図である。

【図９】図８に示す搬送ロボットが有する配線の案内の
様子を示す図である。

【図１０】図８に示す搬送ロボットが有する配線の案内
の様子を示す図である。

【図１１】この発明に係る第３の実施の形態である基板
処理装置が有する搬送ロボットの構成を示す斜視図であ
る。

【図１２】図１１に示す搬送ロボットが有する配線の案
内の様子を示す図である。

【図１３】図１１に示す搬送ロボットが有する配線の案
内の様子を示す図である。

【符号の説明】

９、２０９ 基板 １０ ヘッド部 １１ ノズル １２ 移動板 ２１、２２１、３２１ モータ ２０Ｔ 運動伝達機構 ３０ 配管 ３３、２３３、３３３ 案内部位 ４０、２４０、３４０ 案内部 ４１、２４１、２４２、３４２ ガイドレール ４２ ガイドプレート ４３、２４３、３４２ 軸受 ４４、２４４、３４４ クランプ部 １００、１０１、２００ 基板処理装置 ２２３、３２３ 移動台 ２３０、３３０ 配線 ３４１ モータ ３６０ 案内制御手段

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に処理を施す基板処理装置であっ
   て、 前記基板に対する所定の処理動作に際して、所定の駆動
   源からの駆動力によって移動する移動部と、 前記移動部に連結され、前記処理動作において使用され
   る流体を通す配管と、 前記配管の一部に規定された所定の案内部位に連結さ
   れ、前記移動部の移動によって生じる前記配管の位置変
   化を案内する案内手段と、を備えることを特徴とする基
   板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の基板処理装置であって、 前記移動部の移動方向に対してほぼ直角方向に、前記移
   動部から前記配管が伸びていることを特徴とする基板処
   理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２記載の基板処理装置で
   あって、 前記流体は、前記基板の現像処理を行うための現像液で
   あり、 前記移動部には、前記配管を介して供給される前記現像
   液を前記基板上に付与するための現像液付与部が結合さ
   れていることを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 基板に処理を施す基板処理装置であっ
   て、 前記基板に対する所定の処理動作に際して、所定の駆動
   源からの駆動力によって移動する移動部と、 前記移動部に連結された配線と、 前記配線の途中に規定された所定の案内部位に連結さ
   れ、前記移動部の移動によって生じる前記配線の位置変
   化を案内する案内手段と、を備えることを特徴とする基
   板処理装置。
5. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の基
   板処理装置であって、 前記案内手段が、 前記案内部位を直線的に案内する手段、を有することを
   特徴とする基板処理装置。
6. 【請求項６】 請求項１ないし４のいずれかに記載の基
   板処理装置であって、 前記案内手段が、 前記案内部位を２次元的に案内する手段、を有すること
   を特徴とする基板処理装置。
7. 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかに記載の基
   板処理装置であって、 前記案内手段が、 前記案内部位の回転揺動を案内する手段、を有すること
   を特徴とする基板処理装置。
8. 【請求項８】 請求項１ないし７のいずれかに記載の基
   板処理装置であって、 前記駆動源で生成される運動を前記案内手段に伝達する
   ことにより、前記案内手段による案内動作を生じさせる
   運動伝達機構、をさらに備えることを特徴とする基板処
   理装置。
9. 【請求項９】 請求項１ないし７のいずれかに記載の基
   板処理装置であって、 前記案内手段を駆動して案内動作を生じさせる案内用駆
   動源と、 前記移動部の移動と同期して前記案内用駆動源を制御す
   る制御手段と、をさらに備えることを特徴とする基板処
   理装置。